JP2001284047A - Manufacturing method of an organic electroluminescence display device - Google Patents

Manufacturing method of an organic electroluminescence display device

Info

Publication number
JP2001284047A
JP2001284047A JP2000101376A JP2000101376A JP2001284047A JP 2001284047 A JP2001284047 A JP 2001284047A JP 2000101376 A JP2000101376 A JP 2000101376A JP 2000101376 A JP2000101376 A JP 2000101376A JP 2001284047 A JP2001284047 A JP 2001284047A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
image recognition
pixel
organic
organic material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000101376A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Kono
昭彦 河野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2000101376A priority Critical patent/JP2001284047A/en
Publication of JP2001284047A publication Critical patent/JP2001284047A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an organic electroluminescence display device which can produce the organic electroluminescence display device that is simply and easily capable to display high quality color images. SOLUTION: In the case of forming an organic layer by ejecting out the organic material of liquid phase on a substrate by an ink-jet method, this method is constituted from that (a) the image recognition pattern is formed beforehand on the substrate, (b) an information about a position either of a substrate or of a picture element by recognizing the image recognition pattern using an image recognition device, and that (c) based on this substrate or information about the position of picture element, a positioning of an ink-jet head and substrate or the picture element as well as to control a timing when the liquid of organic material is to be ejected are regulated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス(EL)表示装置の製造方法に関し、より
詳細には、液相の有機材料を用いて、インクジェット法
により有機層を形成することからなる有機EL表示装置
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an organic electroluminescence (EL) display device, and more particularly, to an organic method comprising forming an organic layer by an ink-jet method using a liquid-phase organic material. The present invention relates to a method for manufacturing an EL display device.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来か
ら、有機EL素子における発光層を作製するために、電
極上の全面にスピンコート法、ディップ法、ロールコー
ト法、ドクターブレード等の湿式成膜法、各種印刷法、
電着法等種々の方法が採用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to form a light emitting layer in an organic EL device, a wet coating method such as a spin coating method, a dipping method, a roll coating method, a doctor blade, etc. has been applied to the entire surface of an electrode. Membrane method, various printing methods,
Various methods such as an electrodeposition method have been adopted.

【0003】しかし、湿式法では、有機EL素子の発光
層となる有機層を、カラー表示用の有機EL素子とする
ために異なる色ごとにパターニングすることは困難であ
る。
However, in the wet method, it is difficult to pattern an organic layer serving as a light emitting layer of an organic EL element for each different color in order to form an organic EL element for color display.

【0004】これらを解決する方法の一つとして、有機
EL素子の発光層をインクジェット法によってパターニ
ングする技術が提案されている(特開平10−1237
7号公報、Appl. Phys. Lett. 72, 519, 1998)。
As one method for solving these problems, there has been proposed a technique of patterning a light emitting layer of an organic EL device by an ink jet method (Japanese Patent Laid-Open No. 10-1237).
No. 7, Appl. Phys. Lett. 72, 519, 1998).

【0005】この方法によれば、発光層を、液相の有機
材料を用いて薄膜状に形成することが可能である。
According to this method, the light emitting layer can be formed into a thin film using a liquid phase organic material.

【0006】しかし、インクジェットヘッドと基板との
間にギャップが必要なので、インクジェットヘッドのノ
ズルから液相の有機材料を吐出させたとき、そのドット
の着弾した位置が、目標位置に対してずれる飛行曲がり
が生じる。また、ノズルから吐出する有機材料のドット
径を高精度に制御することは困難である。さらに、有機
EL表示装置の作製においては、可動式XYテーブルを
用いて基板の位置を機械的に制御するが、この可動式X
Yテーブルでは機械的な位置合わせ誤差、例えば、約数
十μm程度の位置合わせ誤差が生じる。よって、インク
ジェット法による有機材料の塗布は、有機材料のドット
径の変動、飛行曲がり、機械的な位置合わせずれが重な
り、所定の位置に精度よく発光層を形成することが困難
であるという課題がある。
However, since a gap is required between the ink jet head and the substrate, when the liquid organic material is ejected from the nozzle of the ink jet head, the landing position of the dot is deviated from the target position. Occurs. Further, it is difficult to control the dot diameter of the organic material discharged from the nozzle with high accuracy. Further, in manufacturing an organic EL display device, the position of a substrate is mechanically controlled using a movable XY table.
In the Y table, a mechanical positioning error, for example, a positioning error of about several tens μm occurs. Therefore, the application of the organic material by the ink-jet method has a problem that it is difficult to form a light emitting layer at a predetermined position with high accuracy due to the variation of the dot diameter of the organic material, the bending of the flight, and the mechanical misalignment. is there.

【0007】そこで、各画素を撥水撥油性のバンクで囲
む方法が提案されている(特開平11−87062号公
報)。この方法は、透明基板上に形成された陽極をパタ
ーニングして陽極群を形成した後、陽極群間にバンクを
形成し、バンク間に電荷注入輸送層及び/又は発光層を
液相にて形成し、その上に陰極を形成する方法である
が、バンクは、撥水撥油性、つまり、その表面が液相の
臨界表面張力よりも小さいため、バンク間に液相を形成
する際に、必ず液相が画素内に収まり、隣接する画素を
汚染することがない。また、液相が画素間にまたがるこ
とがないので、画素間における漏電を防止できる。よっ
て、各画素は用いた有機蛍光物質の発光色を忠実に発光
することができ、極めて鮮やかなカラー表示が可能とな
る。
Therefore, a method of surrounding each pixel with a water- and oil-repellent bank has been proposed (JP-A-11-87062). In this method, after patterning an anode formed on a transparent substrate to form an anode group, a bank is formed between the anode groups, and a charge injection transport layer and / or a light emitting layer is formed between the banks in a liquid phase. In this method, the cathode is formed on the surface.However, since the bank is water- and oil-repellent, that is, its surface is smaller than the critical surface tension of the liquid phase, when forming the liquid phase between the banks, The liquid phase falls within the pixel and does not contaminate adjacent pixels. Further, since the liquid phase does not straddle between the pixels, it is possible to prevent electric leakage between the pixels. Therefore, each pixel can emit light of the color of the organic fluorescent substance used faithfully, and extremely vivid color display can be achieved.

【0008】しかし、この方法によっても、有機EL表
示装置が大型化すれば、基板位置の機械的ずれが大きく
なり、画素間における液相の分離は困難になる。さら
に、有機EL表示装置の高精細、高開口率化が必要にな
れば、陽極間にバンクを形成するためのスペースがなく
なるという問題が生じる。
However, even with this method, if the size of the organic EL display device is increased, the mechanical displacement of the substrate position becomes large, and it becomes difficult to separate the liquid phase between pixels. Further, if it is necessary to increase the definition and aperture ratio of the organic EL display device, there arises a problem that there is no space for forming a bank between the anodes.

【0009】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであり、高品質のカラー画像を表示すること
ができる有機EL表示装置を簡便に製造することができ
る有機EL表示装置の製造方法を提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and is intended to manufacture an organic EL display device capable of easily producing an organic EL display device capable of displaying a high-quality color image. The aim is to provide a method.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基板上
の画素に、インクジェット法により液相の有機材料を吐
出して有機層を形成するに際して、(a)あらかじめ基
板上に画像認識パターンを形成し、(b)該画像認識パ
ターンを画像認識装置によって認識することにより基板
又は画素の位置情報を得、(c)該基板又は画素の位置
情報に基づいて、インクジェットヘッド及び基板又は画
素の位置合わせと、液相の有機材料を吐出するタイミン
グとを制御することからなる有機エレクトロルミネッセ
ンス表示装置の製造方法が提供される。
According to the present invention, when an organic layer is formed by discharging a liquid organic material onto a pixel on a substrate by an ink-jet method, (a) an image recognition pattern is previously formed on the substrate. And (b) position information of the substrate or the pixel is obtained by recognizing the image recognition pattern by an image recognition device. (C) Based on the position information of the substrate or the pixel, the ink jet head and the substrate or the pixel are obtained. There is provided a method for manufacturing an organic electroluminescent display device, comprising controlling alignment and timing for discharging a liquid phase organic material.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明は、基板上の画素に、イン
クジェット法によって有機層を形成する方法である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention is a method for forming an organic layer on a pixel on a substrate by an ink-jet method.

【0012】本発明において使用することができる基板
としては、通常EL表示装置等に用いられているもので
あれば特に限定されるものではなく、例えば、石英、ガ
ラス等の無機材料からなる基板、ポリエステル、ポリメ
タクリレート、ポリカーボネート、ポリサルホン等のプ
ラスチックからなるフィルム状又はシート状の基板等が
挙げられる。基板は、後述するように、基板を通して画
像認識パターン及び又はインクジェットヘッド等の位置
を認識することができるように、透明又は半透明である
ことが好ましい。なお、基板上には、あらかじめ又は有
機EL表示装置の製造工程中あるいは製造工程後に、電
極、絶縁層、種々の素子、回路等を形成してもよい。
The substrate that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is generally used for an EL display device or the like. For example, a substrate made of an inorganic material such as quartz or glass, A film or sheet substrate made of a plastic such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, and polysulfone may be used. The substrate is preferably transparent or translucent so that an image recognition pattern and / or the position of an inkjet head or the like can be recognized through the substrate, as described later. Note that electrodes, insulating layers, various elements, circuits, and the like may be formed in advance on the substrate or during or after the manufacturing process of the organic EL display device.

【0013】本発明の製造方法におけるインクジェット
法は、一般に、インクジェット記録技術を用いて、基板
の所定位置に液相の有機材料を吐出させる方法を意味
し、通常、インクジェット印刷機、インクジェット描画
装置、インクジェット機等とよばれている装置を用いて
行うことができる。インクジェット法を行う装置は、電
荷制御方式、発散方式、電気機械変換方式、電気熱変換
方式、静電吸引方式等の種々のものが含まれる。また、
インクジェット法を行う装置は、少なくともインク(液
相の有機材料)を吐出するインクジェットヘッドを備え
ており、任意に、インクジェットヘッドノズル、インク
ジェットヘッド位置制御手段、インクジェットタイミン
グ制御手段、基板支持台、基板位置制御手段等を備えて
いることが好ましい。
The ink-jet method in the production method of the present invention generally means a method of discharging a liquid-phase organic material to a predetermined position on a substrate using an ink-jet recording technique, and usually includes an ink-jet printing machine, an ink-jet drawing apparatus, It can be performed using an apparatus called an ink jet machine or the like. Apparatuses for performing the inkjet method include various types such as a charge control system, a divergence system, an electromechanical conversion system, an electrothermal conversion system, and an electrostatic suction system. Also,
The apparatus for performing the inkjet method includes an inkjet head that discharges at least ink (liquid-phase organic material), and optionally includes an inkjet head nozzle, inkjet head position control means, inkjet timing control means, a substrate support, and a substrate position. It is preferable to provide control means and the like.

【0014】また、このインクジェット機には、画像認
識装置が別途又はその一部として備えられていることが
好ましい。画像認識装置としては、例えばCCDカメラ
等のような光学的な読み取り装置が挙げられ、この画像
認識装置によって、インクジェット機により、基板上に
吐出されたインク(液相の有機材料)等を画像認識する
ことができる。この画像認識装置は、認識した情報、具
体的には、後述するような画像認識パターンによる基板
又は画素の位置情報を、デジタル信号又はアナログ信号
によって出力することができるものであることが好まし
い。なお、画像認識装置は、基板の上方から基板上を画
像認識できるように配置されていてもよいし、基板が透
明又は半透明である場合は、基板の下方から基板を通し
て基板上を画像認識できるように配置されていてもよ
い。また、画像認識装置が画像認識し得る領域は、基板
の全体であってもよいし、基板の一部、例えば、画素に
より形成される画面、1又は2以上の画素のみであって
もよい。さらに、画像認識装置によって画像認識し得る
領域は、その画像認識によって液相の有機材料が吐出さ
れる画素を含む領域であることが好ましい。
Further, it is preferable that the ink jet machine is provided with an image recognition device separately or as a part thereof. Examples of the image recognition device include an optical reading device such as a CCD camera. The image recognition device performs image recognition of ink (liquid-phase organic material) ejected onto a substrate by an ink jet machine. can do. It is preferable that the image recognition apparatus can output recognized information, specifically, positional information of a substrate or a pixel based on an image recognition pattern as described later, using a digital signal or an analog signal. Note that the image recognition device may be arranged so that the image on the substrate can be recognized from above the substrate, or when the substrate is transparent or translucent, the image can be recognized on the substrate from below the substrate through the substrate. May be arranged as follows. The area in which the image recognition device can recognize an image may be the entire substrate, or may be a part of the substrate, for example, only a screen formed by pixels, or one or more pixels. Further, it is preferable that the region in which the image can be recognized by the image recognition device is a region including pixels from which the liquid organic material is discharged by the image recognition.

【0015】本発明において使用する液相の有機材料と
は、インクジェット法により基板上に塗布することがで
きるように、有機材料をクロロホルム、ジクロロメタ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、キシレン、アル
コール類等の適切な溶媒に溶解または分散させた塗液を
意味する。
The liquid-phase organic material used in the present invention refers to an organic material which can be coated on a substrate by an ink-jet method by using an appropriate solvent such as chloroform, dichloromethane, tetrahydrofuran, dioxane, xylene, alcohols or the like. Means a coating solution dissolved or dispersed in

【0016】有機材料とは、例えば、有機発光材料、有
機発光材料に正孔輸送材料、電子輸送材料及び/又はド
ーパント等を組み合わせた材料、有機発光材料又は組み
合わせた材料が高分子材料又は無機材料中に分散される
ように、有機発光材料又は組み合わせた材料にさらに高
分子材料又は無機材料が添加された材料等をいう。なか
でも、ウェットプロセスにより成膜するため、有機発光
材料又は組み合わせた材料にさらに高分子材料が添加さ
れた材料であることが好ましい。
The organic material is, for example, an organic light-emitting material, a material obtained by combining a hole transport material, an electron transport material, and / or a dopant with the organic light-emitting material; A material in which a polymer material or an inorganic material is further added to an organic light emitting material or a combined material so as to be dispersed therein. In particular, since a film is formed by a wet process, a material in which a polymer material is further added to an organic light emitting material or a combined material is preferable.

【0017】ここで、有機発光材料としては、通常、有
機EL素子の発光材料として用いられるものであれば特
に限定されるものではなく、例えば、金属オキシノイド
化合物(8−ヒドロキシキノリン金属錯体)、ナフタレ
ン誘導体、アントラセン誘導体、ジフェニルエチレン誘
導体、ビニルアセトン誘導体、トリフェニルアミン誘導
体、ブタジエン誘導体、クマリン誘導体、ベンズオキサ
ゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサゾール
誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、チアジアゾール誘
導体、ベンズチアゾール誘導体、スチリル誘導体、スチ
リルアミン誘導体、ビススチリルベンゼン誘導体、トリ
ススチリルベンゼン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン
誘導体、アミノピレン誘導体、ピリジン誘導体、ローダ
ミン誘導体、アクイジン誘導体、フェノキサゾン、キナ
クリドン誘導体、ルブレン等の低分子材料、ポリ−p−
フェニレンビニレン、ポリシラン等の高分子材料が挙げ
られる。
The organic light-emitting material is not particularly limited as long as it is generally used as a light-emitting material of an organic EL device. For example, a metal oxinoid compound (8-hydroxyquinoline metal complex), naphthalene Derivative, anthracene derivative, diphenylethylene derivative, vinylacetone derivative, triphenylamine derivative, butadiene derivative, coumarin derivative, benzoxazole derivative, oxadiazole derivative, oxazole derivative, benzimidazole derivative, thiadiazole derivative, benzothiazole derivative, styryl derivative, Styrylamine derivatives, bisstyrylbenzene derivatives, tristyrylbenzene derivatives, perylene derivatives, perinone derivatives, aminopyrene derivatives, pyridine derivatives, rhodamine derivatives, Derivative, phenoxazone, quinacridone derivatives, low molecular materials such as rubrene, poly -p-
Polymer materials such as phenylenevinylene and polysilane are exemplified.

【0018】正孔輸送材料としては、従来から光導電材
料において正孔の電荷輸送材料として用いられているも
の、有機EL素子の正孔輸送材料に用いられているもの
であれば特に限定されることなく、例えば、ポルフィリ
ン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン
誘導体等の低分子材料;ポリビニルカルバゾール、ポリ
−p−フェニレンビニレン、ポリシラン等の高分子材
料;トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イ
ミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラ
ゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン
誘導体、アリールアミン誘導体、アミン置換カルコン誘
導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導
体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベ
ン誘導体;水素化アモルファスシリコン、水素化アモル
ファス炭化シリコン、硫化亜鉛、セレン化亜鉛等の無機
化合物等が挙げられる。
The hole transporting material is not particularly limited as long as it has been conventionally used as a charge transporting material for holes in a photoconductive material or a material used as a hole transporting material in an organic EL device. Without, for example, low-molecular-weight materials such as porphyrin derivatives, aromatic tertiary amine compounds, and styrylamine derivatives; high-molecular-weight materials such as polyvinylcarbazole, poly-p-phenylenevinylene, and polysilane; triazole derivatives, oxadiazole derivatives, Imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amine-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives; Rufasu silicon, hydrogenated amorphous silicon carbide, zinc sulfide, inorganic compounds such as zinc selenide.

【0019】電子輸送材料としては、従来から光導電材
料において電子の電荷輸送材料として用いられているも
の、有機EL素子の電子輸送材料に用いられているもの
であれば特に限定されることなく、例えば、オキサジア
ゾール誘導体、トリアゾール誘導体、チオピラジンオキ
シド誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導
体、アントラキノン誘導体、アントラキノジメタン誘導
体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体、フレ
オレニリデンメタン誘導体、ニトロ置換フルオレノン化
合物、シロール化合物等の低分子材料が挙げられる。
The electron transporting material is not particularly limited as long as it has been conventionally used as a charge transporting material for electrons in a photoconductive material or a material used as an electron transporting material for an organic EL device. For example, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, thiopyrazine oxide derivatives, benzoquinone derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenoquinone derivatives, fluorenone derivatives, fluorenylidenemethane derivatives, nitro-substituted fluorenone compounds, silole compounds, etc. Low molecular weight materials.

【0020】ドーパントとしては、クマリン系色素、ピ
リジン系色素、ローダミン系色素、アクイジン系色素、
フェノキザゾン、DCM、キナクリドン、ルブレン等の
蛍光性色素;Au、Pt、Br、I、7,7,8,8−
テトラシアノキノジメタン、トリニトロフルオレノン、
ブロマニル等のアクセプター;アルカリ金属、アルカリ
土類金属、希土類元素、トリフェニルアミン誘導体、縮
合多環化合物等のドナー等が挙げられる。
As the dopant, coumarin dyes, pyridine dyes, rhodamine dyes, aquidine dyes,
Fluorescent dyes such as phenoxazone, DCM, quinacridone, rubrene; Au, Pt, Br, I, 7, 7, 8, 8-
Tetracyanoquinodimethane, trinitrofluorenone,
Acceptors such as bromanyl; donors such as alkali metals, alkaline earth metals, rare earth elements, triphenylamine derivatives, and condensed polycyclic compounds.

【0021】高分子材料としては、従来から当該分野に
おいて使用されている高分子材料であれば特に限定され
るものではなく、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポ
リカーボネート、ポリメチルメタクリレート等が挙げら
れる。
The polymer material is not particularly limited as long as it is a polymer material conventionally used in the field, and examples thereof include polyvinyl carbazole, polycarbonate, and polymethyl methacrylate.

【0022】無機材料としては、従来から当該分野にお
いて使用されている無機材料であれば特に限定されるも
のではなく、例えば、SiO、SiO2、MgO等が挙
げられる。
The inorganic material is not particularly limited as long as it is an inorganic material conventionally used in the field, and examples thereof include SiO, SiO 2 , and MgO.

【0023】有機層は、通常、上記の液相の有機材料を
基板上に塗布した後、硬化させることにより形成するこ
とができる。硬化方法としては、焼成等の熱処理が挙げ
られる。熱処理条件としては、例えば、窒素等の不活性
なガス雰囲気下、65〜350℃程度の温度範囲、20
〜120分間程度の処理時間等が挙げられる。なお、有
機層の膜厚は、例えば、5〜5000nm程度が挙げら
れる。
The organic layer can be usually formed by applying the above-mentioned liquid-phase organic material on a substrate and then curing the applied organic material. Examples of the curing method include a heat treatment such as baking. The heat treatment conditions include, for example, a temperature range of about 65 to 350 ° C. in an inert gas atmosphere such as nitrogen,
For example, a processing time of about 120 minutes. The thickness of the organic layer is, for example, about 5 to 5000 nm.

【0024】本発明の製造方法においては、まず、工程
(a)において、あらかじめ基板上に画像認識パターン
を形成する。
In the manufacturing method of the present invention, first, in step (a), an image recognition pattern is previously formed on a substrate.

【0025】画像認識パターンは、一般的な画像認識装
置により認識し得るものであればその材料、形状及び膜
厚、位置及び数等は特に限定されない。
The material, shape, film thickness, position and number of the image recognition pattern are not particularly limited as long as they can be recognized by a general image recognition device.

【0026】例えば、画像認識パターンは、電極材料、
有機材料、絶縁材料等のいずれの材料によって形成する
ことができる。
For example, the image recognition pattern includes an electrode material,
It can be formed of any material such as an organic material and an insulating material.

【0027】電極材料としては、有機EL表示装置の下
部電極や上部電極として使用し得るもの、具体的には、
アルミニウム、バナジウム、コバルト、ニッケル、タン
グステン、銀、金、カルシウム、チタニウム、イットリ
ウム、ナトリウム、ルテニウム、マンガン、インジウ
ム、マグネシウム、リチウム、イツテルビウム、LiF
等の金属;マグネシウム/銅、マグネシウム/銀、ナト
リウム/カリウム、At/AtO2 、チリウム/アルミ
ニウム、チリウム/カルシウム/アルミニウム、LiF
/カルシウム/アルミニウム等の合金;CuI、Sn
O、ZnO、ITO等の透明導電性材料;等の単層又は
積層層等が挙げられる。また、画像認識パターンは、こ
れらの材料をくりぬいたパターンとして形成されていて
もよい。有機材料としては、上述した有機材料等が挙げ
られる。絶縁材料としては、ポリイミド、ポリエチレン
テレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、感光性
レジスト等が挙げられる。
As an electrode material, a material that can be used as a lower electrode or an upper electrode of an organic EL display device, specifically,
Aluminum, vanadium, cobalt, nickel, tungsten, silver, gold, calcium, titanium, yttrium, sodium, ruthenium, manganese, indium, magnesium, lithium, ytterbium, LiF
Metals such as magnesium / copper, magnesium / silver, sodium / potassium, At / AtO 2 , thiium / aluminum, thiium / calcium / aluminum, LiF
/ Alloys such as calcium / aluminum; CuI, Sn
A transparent conductive material such as O, ZnO, ITO, etc .; Further, the image recognition pattern may be formed as a pattern obtained by hollowing out these materials. Examples of the organic material include the above-described organic materials and the like. Examples of the insulating material include polyimide, polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, and a photosensitive resist.

【0028】画像認識パターンの形状は、例えば、図5
に示したように、円形;正方形、長方形、台形、平行四
辺形等の四角形;多角形;これらの組み合わせ形状;こ
れらのくりぬき形状等が挙げられる。膜厚は、0.1μ
m〜10μm程度が挙げられる。なお、くりぬいたパタ
ーンとして形成される場合のパターンの高さも同程度が
挙げられる。
The shape of the image recognition pattern is, for example, as shown in FIG.
As shown in the above, a circle; a square such as a square, a rectangle, a trapezoid, and a parallelogram; a polygon; a combination thereof; a hollowed shape thereof; The film thickness is 0.1μ
m to about 10 μm. It should be noted that the height of the pattern when formed as a hollow pattern may be similar.

【0029】画像認識パターンが形成される位置は、基
板上の画素内の任意の領域、画素間、基板上の画素によ
り形成される画面の外周領域等のいずれの位置であって
もよい。数は、例えば、基板上の画素内に形成される場
合には、各画素に1個あるいは複数の画素に1個であっ
てもよい。画素間に形成される場合には1個以上であれ
ばよい。画面の外周領域に形成される場合には2個以上
であればよい。また、基板上の画素内に1個以上かつ画
素間又は画面の外周領域に1個以上形成されていてもよ
い。なかでも少なくとも1個が画素内に形成されている
ことが好ましい。
The position where the image recognition pattern is formed may be any position such as an arbitrary region within a pixel on the substrate, between pixels, an outer peripheral region of a screen formed by the pixels on the substrate, or the like. The number may be, for example, one for each pixel or one for a plurality of pixels when formed in pixels on the substrate. When it is formed between the pixels, one or more may be sufficient. If it is formed in the outer peripheral area of the screen, it suffices if it is two or more. Further, one or more pixels may be formed in the pixel on the substrate and one or more may be formed between the pixels or in the outer peripheral area of the screen. Among them, it is preferable that at least one is formed in a pixel.

【0030】なお、画像認識パターンが基板上に2個以
上形成されている場合には、2個以上の画像認識パター
ンを相互に結ぶすべての直線を直径として仮想的に作画
される円のうち少なくとも1つの円内に、液相の有機材
料が吐出されるすべての画素が含まれることが好まし
い。
In the case where two or more image recognition patterns are formed on the substrate, at least one of the circles virtually created with all the straight lines connecting the two or more image recognition patterns as diameters. It is preferable that all the pixels from which the liquid organic material is discharged are included in one circle.

【0031】次いで、工程(b)において、画像認識パ
ターンを画像認識装置によって認識する。これによっ
て、基板又は画素の位置情報を得ることができる。な
お、インクジェット装置のインクジェトヘッドが固定さ
れているか、あるいはあらかじめインクジェットヘッド
の位置情報を得ることができる場合には、これらの情報
を比較することにより、インクジェットヘッドに対する
基板又は画素の位置情報を得ることができる。また、あ
らかじめインクジェットヘッドの位置情報が得られない
場合でも、画像認識装置による画像認識パターンの認識
の際に、このパターンの上方からあるいは下方から基板
を通して、このパターンの認識と同時にインクジェット
ヘッドを認識して位置情報を得、これらの情報を比較す
ることにより、インクジェットヘッドに対する基板又は
画素の位置情報を得ることができる。
Next, in step (b), the image recognition pattern is recognized by the image recognition device. Thereby, the position information of the substrate or the pixel can be obtained. If the ink jet head of the ink jet device is fixed or the position information of the ink jet head can be obtained in advance, the position information of the substrate or the pixel with respect to the ink jet head can be obtained by comparing these information. Can be. Even when the position information of the ink jet head is not obtained in advance, when the image recognition device recognizes the image recognition pattern, the ink jet head is recognized at the same time as the recognition of the pattern through the substrate from above or below the pattern. By obtaining the position information and comparing these information, the position information of the substrate or the pixel with respect to the ink jet head can be obtained.

【0032】続いて、工程(c)において、上記で得ら
れた基板又は画素の位置情報に基づいて、インクジェッ
トヘッド及び基板又は画素の位置合わせと、液相の有機
材料を吐出するタイミングとを制御する。
Subsequently, in step (c), based on the positional information of the substrate or the pixel obtained above, the alignment of the ink jet head and the substrate or the pixel and the timing of discharging the liquid organic material are controlled. I do.

【0033】具体的には、図1(a)に示したように、
工程(b)において得られた基板又は画素の位置情報に
基づいて、基板位置制御手段により基板を移動させるこ
とにより、インクジェットヘッドに対して基板又は画素
を最適な位置、例えば、位置ずれが±数μ程度以下、好
ましくは±5μm程度以下、より好ましくは±3μm程
度以下となる位置に合わせるとともに、基板又は画素を
最適な位置に合わせた瞬間に、インクジェットタイミン
グ制御手段によりインクジェットヘッドから有機材料を
吐出させるように制御することが好ましい。なお、この
ような制御は、図1(b)に示したように、基板を移動
させる代わりに、基板を固定し、インクジェットヘッド
を移動させることによって行ってもよいし、図1(c)
に示したように、基板及びインクジェットヘッドの双方
を移動させることによって行ってもよい。
Specifically, as shown in FIG.
By moving the substrate by the substrate position control means based on the position information of the substrate or the pixel obtained in the step (b), the optimal position of the substrate or the pixel with respect to the ink jet head, for example, a positional deviation of ± The organic material is ejected from the inkjet head by the inkjet timing control means at the moment when the substrate or the pixel is adjusted to the optimal position while the position is adjusted to the position of about μ or less, preferably ± 5 μm or less, more preferably ± 3 μm or less. It is preferable to perform control so as to perform the control. Note that such control may be performed by fixing the substrate and moving the inkjet head instead of moving the substrate, as shown in FIG. 1B, or FIG. 1C.
As shown in (2), this may be performed by moving both the substrate and the inkjet head.

【0034】例えば、画像認識パターンが基板上に2個
以上形成され、液相の有機材料が吐出される画素が、こ
の2個以上の画像認識パターンを相互に結ぶすべての直
線を直径として仮想的に作画される円のうちの少なくと
も1つの円内にある場合、この2個以上の画像認識パタ
ーンをそれぞれ画像認識して、インクジェットヘッドの
位置に対して数μm以下の位置ずれ精度で、基板(画
素)の位置の情報を含む制御データが得られたときに、
インクジェットヘッドから有機材料を吐出することによ
り、ヘッドと吐出される画素の位置ずれを、ドットの飛
行曲がりによる塗布位置ずれに対して十分小さく抑える
ことができる。すなわち、ドット塗布位置ずれが、液相
の有機材料のドット径とドットの飛行曲がりのみに抑え
られることになるため、液相の有機材料を所望の画素内
に確実に吐出することができる。
For example, two or more image recognition patterns are formed on a substrate, and a pixel from which a liquid-phase organic material is ejected is assumed to have a virtual diameter with all the straight lines connecting these two or more image recognition patterns mutually. If at least one of the circles to be drawn is located within the circle, the two or more image recognition patterns are image-recognized, and the substrate ( When the control data including the information on the position of the pixel) is obtained,
By discharging the organic material from the inkjet head, the positional deviation between the head and the discharged pixels can be sufficiently suppressed with respect to the application positional deviation due to the curved flight of the dots. That is, the displacement of the dot application position can be suppressed only to the dot diameter of the liquid phase organic material and the flight bending of the dots, so that the liquid phase organic material can be reliably discharged into desired pixels.

【0035】本発明においては、上記の製造方法におけ
る各工程の前、中又は後に、基板上に下部電極を、有機
層上に上部電極を形成することが好ましい。下部及び上
部電極は、通常、それぞれ陽極又は陰極として機能させ
るものであるため、上記電極材料の中から最適な材料を
選択して形成することが好ましい。なお、基板上に下部
電極を形成する際に、同じ材料で、同じ工程により、上
記工程(a)における画像認識パターンを形成すること
が好ましい。
In the present invention, it is preferable to form a lower electrode on a substrate and an upper electrode on an organic layer before, during, or after each step in the above-mentioned manufacturing method. Since the lower electrode and the upper electrode generally function as an anode or a cathode, respectively, it is preferable to select and form an optimum material from the above-mentioned electrode materials. When forming the lower electrode on the substrate, it is preferable to form the image recognition pattern in the above step (a) using the same material and the same step.

【0036】また、本発明においては、液相の有機材料
を基板上に塗布する前に、あらかじめ画素が形成される
領域の間に隔壁層が形成されていることが好ましい。具
体的には、基板上に単位画素に対応する下部電極を複数
個形成した後、下部電極間に配置するように隔壁層を形
成することが好ましいが、下部電極を形成する前に所定
のパターンで隔壁層を形成し、隔壁層が形成されていな
い基板上の領域に下部電極を形成してもよい。隔壁層
は、例えば、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリフェニレンサルファイド、感光性レジスト等の
絶縁材料によって形成することができる。隔壁層の膜厚
は特に限定されるものではないが、後工程で形成される
有機層よりも厚膜に形成することが好ましく、具体的に
は、1μm〜50μm程度が挙げられる。隔壁層の形状
は特に限定されるものではないが、例えば、通常の有機
EL表示装置における単位画素がマトリクス状に配置さ
せることができるように、単位画素の周辺を囲む形状、
具体的には、格子状の形状に形成することが適当であ
る。なお、隔壁層の幅、縦横ピッチ等は、任意に設定す
ることができる。このような隔壁層の存在により、隔壁
層で囲まれた領域における基板上のみに液相の有機材料
を塗布することができる。
In the present invention, it is preferable that a partition layer is formed between regions where pixels are to be formed before applying the liquid organic material onto the substrate. Specifically, after forming a plurality of lower electrodes corresponding to the unit pixels on the substrate, it is preferable to form a partition layer so as to be arranged between the lower electrodes. To form a partition layer, and a lower electrode may be formed in a region on the substrate where the partition layer is not formed. The partition layer can be formed of an insulating material such as polyimide, polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, and photosensitive resist. The thickness of the partition layer is not particularly limited, but is preferably formed to be thicker than an organic layer formed in a later step, and specifically, about 1 μm to 50 μm. Although the shape of the partition layer is not particularly limited, for example, a shape surrounding the unit pixel so that unit pixels in a normal organic EL display device can be arranged in a matrix,
Specifically, it is appropriate to form a lattice shape. The width, vertical and horizontal pitch, and the like of the partition layer can be arbitrarily set. Due to the presence of such a partition layer, a liquid organic material can be applied only on the substrate in a region surrounded by the partition layer.

【0037】なお、本発明においては、上述したような
基板上への有機層の形成を、1回のみ行ってもよいが、
複数回繰り返して行ってもよい。これにより、異なる材
料、異なる膜厚、異なる積層構造の有機層を、各単位画
素に対応して形成することができるとともに、カラー表
示に対応する異なる色を有する有機層を複数形成するこ
とが可能となる。また、有機層が、2層以上の積層層に
より構成される場合には、そのうちの少なくとも1層
が、上記の方法により、液相の有機材料から形成するも
のであれば、他の層はウェットプロセスにより形成して
もよいし、ドライプロセス(例えば、真空蒸着法、CV
D法、プラズマCVD法、スパッタ法等の乾式成膜法)
により形成してもよい。
In the present invention, the formation of the organic layer on the substrate as described above may be performed only once.
It may be repeated several times. Accordingly, organic layers having different materials, different thicknesses, and different laminated structures can be formed corresponding to each unit pixel, and a plurality of organic layers having different colors corresponding to color display can be formed. Becomes When the organic layer is composed of two or more laminated layers, if at least one of the layers is formed from a liquid-phase organic material by the above method, the other layers are wet. It may be formed by a process or a dry process (for example, a vacuum deposition method, CV
D method, plasma CVD method, dry film forming method such as sputtering method)
May be formed.

【0038】以下に、本発明の有機EL表示装置の製造
方法を詳細に説明する。 実施例1 まず、図2(a)及び(b)に示したように、厚み1.
1mmの透明なガラス基板10上に、スパッタリング法
により、膜厚150nmの透明なインジウム錫酸化物
(以下、ITOと略す)膜1を形成し、パターンピッチ
50μm、パターン幅38μmの複数のストライプ形状
の陽極にパターニングした。同時に、ITO膜1の各画
素の中心付近に、画像認識パターン2として、直径8μ
mの円形の抜きパターンを形成した。
Hereinafter, the method for manufacturing the organic EL display device of the present invention will be described in detail. Example 1 First, as shown in FIGS.
A transparent indium tin oxide (hereinafter abbreviated as ITO) film 1 having a thickness of 150 nm is formed on a 1 mm transparent glass substrate 10 by a sputtering method, and a plurality of stripes having a pattern pitch of 50 μm and a pattern width of 38 μm are formed. Patterning was performed on the anode. At the same time, an image recognition pattern 2 having a diameter of 8 μm was formed near the center of each pixel of the ITO film 1.
An m-shaped circular punch pattern was formed.

【0039】次いで、得られたガラス基板10上に感光
性ポリイミド膜を形成し、パターニングされたITO膜
1間に、フォトリソグラフィ及びエッチング工程により
パターンピッチ50μm、パターン幅15μm、高さ1
5μm程度の隔壁層3を形成した。隔壁層3は、ITO
膜1に対して垂直方向において、パターンピッチ150
μm、パターン幅25μmとした。これにより、各画素
(35μm×125μm)は、隔壁層3で囲まれること
となった。なお、画素の中心付近に画像認識パターン2
が存在しているが、この面積は、画素面積に対して1.
5%にすぎず、有機EL素子の発光機能を損なうもので
はない。
Next, a photosensitive polyimide film is formed on the obtained glass substrate 10, and a pattern pitch of 50 μm, a pattern width of 15 μm, and a height of 1 μm are formed between the patterned ITO films 1 by a photolithography and etching process.
A partition layer 3 of about 5 μm was formed. The partition layer 3 is made of ITO
In a direction perpendicular to the film 1, a pattern pitch of 150
μm and a pattern width of 25 μm. As a result, each pixel (35 μm × 125 μm) was surrounded by the partition layer 3. The image recognition pattern 2 is located near the center of the pixel.
Is present, but this area is 1.1 to the pixel area.
It is only 5% and does not impair the light emitting function of the organic EL element.

【0040】得られたガラス基板10上のITO膜1表
面をUVオゾン洗浄した。
The surface of the ITO film 1 on the obtained glass substrate 10 was washed with UV ozone.

【0041】その後、図3に示したように、固定された
インクジェットヘッド12のノズルの下方であって、可
動式の透明なXYテーブル上に、ITO膜1を上にして
ガラス基板10を載置した。
Thereafter, as shown in FIG. 3, the glass substrate 10 is placed with the ITO film 1 upward on a movable transparent XY table below the nozzles of the fixed inkjet head 12. did.

【0042】続いて、画像認識装置として高倍率CCD
(charge coupled device)カメラ11により、ガラス基
板10の下側から画素内の画像認識パターン2を認識す
ることにより、吐出される画素及びこの画素を含むガラ
ス基板10の位置情報を得た。
Subsequently, a high magnification CCD is used as an image recognition device.
(Charge coupled device) By recognizing the image recognition pattern 2 in the pixel from the lower side of the glass substrate 10 by the camera 11, the ejected pixel and the positional information of the glass substrate 10 including this pixel were obtained.

【0043】次いで、この情報を、XYテーブルとイン
クジェット機にデジタル信号で出力する。これにより、
XYテーブルを稼動させて、固定されたインクジェット
ヘッド12のノズルと、有機材料が吐出される画素との
位置ずれを±3μm以内の精度で制御するとともに、ノ
ズルと吐出される画素との位置ずれが制御された瞬間
に、ノズルから赤色発光層形成用の有機材料13を、隔
壁層3で囲まれた各画素内に吐出させることができる。
有機材料13は、0.3wt%のポリフェニレンビニレ
ン(PPV)前駆体に、PPVに対して赤色蛍光色素で
あるローダミン101を0.02wt%混合して赤色発
光層形成用の有機材料として調製したものを使用した。
その後、窒素雰囲気中において150℃で塗膜を硬化
し、膜厚50nmの赤色発光層4を形成し、赤色画素を
形成した。
Next, this information is output as a digital signal to the XY table and the ink jet machine. This allows
By operating the XY table, the positional deviation between the nozzle of the fixed inkjet head 12 and the pixel from which the organic material is discharged is controlled with an accuracy of ± 3 μm or less, and the positional deviation between the nozzle and the pixel to be discharged is reduced. At the moment of the control, the organic material 13 for forming the red light emitting layer can be discharged from the nozzle into each pixel surrounded by the partition layer 3.
The organic material 13 is prepared by mixing 0.3% by weight of a polyphenylenevinylene (PPV) precursor with 0.02% by weight of rhodamine 101, which is a red fluorescent dye, with respect to PPV to prepare an organic material for forming a red light emitting layer. It was used.
Thereafter, the coating film was cured at 150 ° C. in a nitrogen atmosphere to form a red light emitting layer 4 having a thickness of 50 nm, thereby forming a red pixel.

【0044】次に、別の液相の有機材料を、隔壁層3間
のガラス基板10上に、上記と同様に、インクジェット
法により塗布した。有機材料は、0.3wt%のポリフ
ェニレンビニレン(PPV)前駆体を緑色発光層形成用
の有機材料として調製したものを用いた。その後、窒素
雰囲気中において150℃で塗膜を硬化し、膜厚50n
mの緑色発光層5を形成し、緑色画素を形成した。
Next, another liquid-phase organic material was applied to the glass substrate 10 between the partition layers 3 by an ink-jet method in the same manner as described above. As the organic material, a material prepared by preparing a 0.3 wt% polyphenylenevinylene (PPV) precursor as an organic material for forming a green light-emitting layer was used. Thereafter, the coating film is cured at 150 ° C. in a nitrogen atmosphere, and a film thickness of 50 n
m green light emitting layer 5 was formed, and a green pixel was formed.

【0045】さらに、0.5wt%のポリジオクチルフ
ルオレンを電子輸送層及び青色発光層形成用の有機材料
として調製し、この有機材料を、隔壁層3間のガラス基
板10上全面にスピンコート法により塗布した。その
後、窒素雰囲気中において150℃で塗膜を硬化し、膜
厚50nmの電子輸送層及び青色発光層6を形成し、青
色画素を形成した。
Further, 0.5 wt% of polydioctylfluorene is prepared as an organic material for forming an electron transport layer and a blue light emitting layer, and this organic material is applied to the entire surface of the glass substrate 10 between the partition layers 3 by spin coating. Applied. Thereafter, the coating film was cured at 150 ° C. in a nitrogen atmosphere to form an electron transport layer and a blue light emitting layer 6 having a thickness of 50 nm, thereby forming a blue pixel.

【0046】続いて、抵抗加熱真空蒸着装置のチャンバ
ー内に、得られたガラス基板10をセットし、同時に、
昇華材料用Moボートに1層目の陰極材料であるCa
と、2層目の陰極材料であるAlとを別々に載置し、1
-6Torr程度に真空引きをして、得られたガラス基板1
0上に真空蒸着によって陰極を形成した。陰極は、1層
目のCa層7を、得られたガラス基板10上に膜厚10
0nm程度で蒸着し、2層目のAl層8を、その上に膜
厚200nm程度で蒸着した。
Subsequently, the obtained glass substrate 10 was set in a chamber of a resistance heating vacuum evaporation apparatus, and at the same time,
The first layer cathode material, Ca, is used for the sublimation material Mo boat.
And Al as the cathode material of the second layer are separately placed,
The glass substrate 1 obtained by evacuating to about 0 -6 Torr was obtained.
On cathode 0, a cathode was formed by vacuum evaporation. The cathode was formed by depositing a first Ca layer 7 on the obtained glass substrate 10 with a film thickness of 10
Evaporation was performed at about 0 nm, and a second Al layer 8 was evaporated thereon with a thickness of about 200 nm.

【0047】これにより、XYマトリクスで、大きさ7
5×75mm、画面サイズ36mm×27mm、表示ド
ット数240(80×RGB)×180、単位画素ピッ
チ150μm(50μm×RGB)×150μm、各画
素サイズ35μm×125μmの基本設計値を有する有
機エレクトロルミネッセンス表示装置を形成した。
Thus, an XY matrix having a size of 7
5 × 75 mm, screen size 36 mm × 27 mm, number of display dots 240 (80 × RGB) × 180, unit pixel pitch 150 μm (50 μm × RGB) × 150 μm, organic electroluminescence display having basic design values of each pixel size 35 μm × 125 μm The device was formed.

【0048】この有機エレクトロルミネッセンス表示装
置のRGBの素子構造は、赤色素子がITO(陽極)/
PPV+ローダミン101(赤色発光層)/ポリジオク
チルフルオレン/Ca/Al(陰極)であり、緑色素子
がITO/PPV(緑色発光層)/ポリジオクチルフル
オレン/Ca/Alであり、青色素子がITO/ポリジ
オクチルフルオレン(青色発光層)/Ca/Alであ
り、インクジェット法により、各発光材料を確実に塗布
されるべき画素内に塗布することができ、各画素がその
RGBの発光色を忠実に発光するものであった。
The RGB element structure of this organic electroluminescence display device is such that the red element is ITO (anode) /
PPV + rhodamine 101 (red light emitting layer) / polydioctylfluorene / Ca / Al (cathode), green element is ITO / PPV (green light emitting layer) / polydioctylfluorene / Ca / Al, blue element is ITO / poly Dioctylfluorene (blue light-emitting layer) / Ca / Al, each light-emitting material can be reliably applied to a pixel to be applied by an ink-jet method, and each pixel emits light of its RGB emission color faithfully. Was something.

【0049】実施例2 まず、図4に示したように、厚み1.1mmの透明なガ
ラス基板20上に、スパッタリング法により、膜厚15
0nmのITO膜を形成し、パターンピッチ50μm、
パターン幅38μmの複数のストライプ形状の陽極にパ
ターニングした。同時に、画像認識パターン22を、表
示画面21の対角位置の2ヶ所にITOパターンで形成
した。なお、画像認識パターン22は、2つの画像認識
パターン22を結ぶ直線を直径として仮想的に作画され
る円23内に、有機材料が吐出されるすべての画素が含
まれる位置に形成した。
Example 2 First, as shown in FIG. 4, a transparent glass substrate 20 having a thickness of 1.1 mm was sputtered to a thickness of 15 mm.
A 0 nm ITO film is formed, and the pattern pitch is 50 μm.
Patterning was performed on a plurality of stripe-shaped anodes having a pattern width of 38 μm. At the same time, the image recognition patterns 22 were formed at two diagonal positions on the display screen 21 with ITO patterns. Note that the image recognition pattern 22 is formed at a position including all the pixels from which the organic material is discharged, within a circle 23 virtually drawn with a straight line connecting the two image recognition patterns 22 as the diameter.

【0050】次いで、得られたガラス基板上に感光性ポ
リイミド膜を形成し、パターニングされたITO膜間
に、フォトリソグラフィ及びエッチング工程によりパタ
ーンピッチ50μm、パターン幅15μm、高さ15μ
m程度の隔壁層を形成した。隔壁層は、ITO膜に対し
て垂直方向において、パターンピッチ150μm、パタ
ーン幅25μmとした。これにより、各画素(35μm
×125μm)は、隔壁層で囲まれることとなった。
Next, a photosensitive polyimide film is formed on the obtained glass substrate, and a pattern pitch of 50 μm, a pattern width of 15 μm, and a height of 15 μm are formed between the patterned ITO films by a photolithography and etching process.
About m partition walls were formed. The partition layer had a pattern pitch of 150 μm and a pattern width of 25 μm in a direction perpendicular to the ITO film. Thereby, each pixel (35 μm
× 125 μm) was surrounded by the partition layer.

【0051】得られたガラス基板のITO膜表面をUV
オゾン洗浄した後、固定されたインクジェットヘッドの
ノズルの下方であって、可動式の透明なXYテーブル上
に、ITO膜を上にしてガラス基板を載置し、高倍率C
CDカメラ11により、ガラス基板10の下側から画素
内の画像認識パターン22を認識することにより、吐出
される画素及びこの画素を含むガラス基板の位置情報を
得、固定されたインクジェットヘッドのノズルと有機材
料が吐出される画素との位置ずれ及び有機材料の吐出タ
イミングを制御し、赤色発光層、緑色発光層及び青色発
光層を形成した。
The surface of the ITO film of the obtained glass substrate was subjected to UV irradiation.
After ozone cleaning, a glass substrate is placed on the movable transparent XY table below the nozzles of the fixed inkjet head, with the ITO film facing upward, and a high magnification C
By recognizing the image recognition pattern 22 in the pixel from the lower side of the glass substrate 10 by the CD camera 11, the position information of the ejected pixel and the glass substrate including this pixel is obtained, and the nozzle of the fixed inkjet head is By controlling the displacement from the pixel from which the organic material was discharged and the timing of discharging the organic material, a red light emitting layer, a green light emitting layer, and a blue light emitting layer were formed.

【0052】続いて、実施例1と同様に、膜厚100n
m程度のCa層と、膜厚300nm程度のAl層とから
なる陰極を形成し、XYマトリクスで、大きさ75×7
5mm、画面サイズ36mm×27mm、表示ドット数
240(80×RGB)×180、単位画素ピッチ15
0μm(50μm×RGBピッチ)×150μm、各画
素サイズ35μm×125μmの基本設計値を有する有
機エレクトロルミネッセンス表示装置を形成した。
Subsequently, in the same manner as in the first embodiment,
A cathode composed of a Ca layer having a thickness of about m and an Al layer having a thickness of about 300 nm is formed.
5 mm, screen size 36 mm x 27 mm, number of display dots 240 (80 x RGB) x 180, unit pixel pitch 15
An organic electroluminescent display device having basic design values of 0 μm (50 μm × RGB pitch) × 150 μm and each pixel size of 35 μm × 125 μm was formed.

【0053】この有機エレクトロルミネッセンス表示装
置のRGBの素子構造は、赤色素子がITO(陽極)/
PPV+ローダミン101(赤色発光層)/ポリジオク
チルフルオレン/Ca/Al(陰極)であり、緑色素子
がITO/PPV(緑色発光層)/ポリジオクチルフル
オレン/Ca/Alであり、青色素子がITO/ポリジ
オクチルフルオレン(青色発光層)/Ca/Alであ
り、インクジェット法により、各発光材料を確実に塗布
されるべき画素内に塗布することができ、各画素がその
RGBの発光色を忠実に発光するものであった。
The RGB element structure of this organic electroluminescent display device is such that the red element is ITO (anode) /
PPV + rhodamine 101 (red light emitting layer) / polydioctylfluorene / Ca / Al (cathode), green element is ITO / PPV (green light emitting layer) / polydioctylfluorene / Ca / Al, blue element is ITO / poly Dioctylfluorene (blue light-emitting layer) / Ca / Al, each light-emitting material can be reliably applied to a pixel to be applied by an ink-jet method, and each pixel emits light of its RGB emission color faithfully. Was something.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明によれば、画像認識パターン及び
装置による基板又は画素の位置情報を得、この情報に基
づいてインクジェットヘッド及び基板又は画素の位置合
わせと、液相の有機材料の吐出タイミングとを制御する
ことにより、インクジェットヘッドと吐出される領域と
の位置ずれを、ドットの飛行曲がりによる塗布位置ずれ
に対して十分小さく抑えることができ、液相の有機材料
を、確実に吐出させるべき領域に塗布することができ
る。これにより、高品質なカラー画像表示が可能である
有機EL表示装置を製造することが可能となる。
According to the present invention, the position information of the substrate or the pixel by the image recognition pattern and the apparatus is obtained, and based on this information, the positioning of the ink jet head and the substrate or the pixel, and the timing of discharging the liquid organic material. By controlling the position, the positional deviation between the inkjet head and the region to be discharged can be sufficiently suppressed with respect to the positional deviation of the application due to the curved flight of the dots, and the liquid organic material should be discharged reliably. Can be applied to the area. This makes it possible to manufacture an organic EL display device capable of displaying a high-quality color image.

【0055】また、画像認識装置によって認識し得る領
域が画素内であり、画像認識パターンが画素内に形成さ
れる場合、あるいは画像認識パターンが基板上に2個以
上形成されており、該2個以上の画像認識パターンを相
互に結ぶすべての直線を直径として仮想的に作画される
円のうち少なくとも1つの円内に、液相の有機材料が吐
出される画素が含まれる場合には、インクジェットヘッ
ドと吐出される領域との位置ずれを、ドットの飛行曲が
りによる塗布位置ずれに対して最小限に抑えることがで
き、液相の有機材料を、より確実に吐出させるべき領域
に塗布することができる。
In the case where the area recognizable by the image recognition device is within the pixel and the image recognition pattern is formed in the pixel, or when two or more image recognition patterns are formed on the substrate, the two When at least one of the circles virtually created with all the straight lines connecting the above image recognition patterns as diameters includes a pixel from which a liquid-phase organic material is discharged, the inkjet head is used. Position deviation from the area to be ejected can be minimized with respect to the application position shift due to the flight deflection of the dot, and the liquid organic material can be applied to the area to be ejected more reliably. .

【0056】さらに、少なくとも1個の画像認識パター
ンが、液相の有機材料が吐出される画素内に形成されて
なる場合には、液相の有機材料を、さらに確実に吐出さ
せるべき領域に塗布することができる。
Further, when at least one image recognition pattern is formed in a pixel from which the liquid organic material is discharged, the liquid organic material is applied to a region to be discharged more reliably. can do.

【0057】また、画像認識パターンが、基板上に形成
された電極材料、有機材料及び/又は絶縁材料により形
成されてなる場合には、画像認識パターンを、有機EL表
示装置における素子を構成する電極、有機層等と同時に
形成することが可能となり、工程数の増加を招くことな
く、製造コストの低下を図ることができる。
In the case where the image recognition pattern is formed of an electrode material, an organic material, and / or an insulating material formed on a substrate, the image recognition pattern may be formed of an electrode constituting an element in an organic EL display device. It can be formed simultaneously with the organic layer and the like, and the manufacturing cost can be reduced without increasing the number of steps.

【0058】さらに、基板が透明又は半透明であり、画
像認識装置が基板を通して画像認識パターンを認識する
か、あるいは基板が透明又は半透明であり、画像認識装
置が基板を通して画像認識パターンを認識するとともに
インクジェットヘッドの位置をも認識する場合には、ま
た、あらかじめ基板上の画素間に、有機層よりも厚膜の
隔壁層を形成し、該隔壁層で囲まれた領域内に有機材料
を吐出する場合には、その隔壁層の構成材料表面の状態
を、非常に特殊な状態に、例えば、有機材料でぬれた状
態に調整して隔壁層を形成する必要がなく、また、隔壁
層の存在によって、基板上の領域を単位画素ごとに区切
ることができるため、細管を用いた有機材料の吸引除去
を確実又は厳密に制御しながら行うことが可能となり、
均一かつ高精度に有機層を製造することが可能となり、
高品質の有機EL表示装置の製造を実現することができ
る。
Further, the substrate is transparent or translucent, and the image recognition device recognizes the image recognition pattern through the substrate, or the substrate is transparent or translucent, and the image recognition device recognizes the image recognition pattern through the substrate. In addition, if the position of the ink jet head is also recognized, a barrier layer thicker than the organic layer is formed in advance between the pixels on the substrate, and the organic material is discharged into a region surrounded by the barrier layer. In this case, it is not necessary to adjust the surface of the constituent material surface of the partition layer to a very special state, for example, to adjust the state to a wet state with an organic material to form the partition layer. Thereby, since the region on the substrate can be divided for each unit pixel, it becomes possible to perform the suction removal of the organic material using the thin tube while reliably or strictly controlling the organic material.
It is possible to manufacture the organic layer uniformly and with high precision,
Production of a high-quality organic EL display device can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の有機EL表示装置の製造方法における
インクジェットヘッド及び基板又は画素の位置合わせと
液相の有機材料を吐出するタイミングとの制御を説明す
るためのブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram for explaining control of alignment of an inkjet head and a substrate or a pixel and timing of discharging a liquid organic material in a method of manufacturing an organic EL display device of the present invention.

【図2】本発明の有機EL表示装置の製造方法の実施例
を説明するための有機EL表示装置の要部の概略平面図
及び断面図である。
FIGS. 2A and 2B are a schematic plan view and a sectional view of a main part of an organic EL display device for describing an example of a method for manufacturing an organic EL display device of the present invention.

【図3】本発明の有機EL表示装置の製造方法の実施例
を説明するための概略工程図である。
FIG. 3 is a schematic process diagram for explaining an embodiment of a method for manufacturing an organic EL display device of the present invention.

【図4】本発明の有機EL表示装置の製造方法の別の実
施例を説明するための有機EL表示装置の要部の概略平
面図である。
FIG. 4 is a schematic plan view of a main part of an organic EL display device for explaining another embodiment of the method for manufacturing an organic EL display device of the present invention.

【図5】本発明の有機EL表示装置の製造方法に使用す
る画像認識パターンの形状を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing the shape of an image recognition pattern used in the method for manufacturing an organic EL display device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ITO膜 2、22 画像認識パターン 3 隔壁層 4 赤色発光層 5 緑色発光層 6 電子輸送層及び青色発光層 7 Ca層 8 Al層 10、20 ガラス基板(基板) 11 高倍率CCDカメラ(画像認識装置) 12 インクジェットヘッド 13 有機材料 21 表示画面 23 2つの画像認識パターンを結ぶ直線を直径として
仮想的に作画される円
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ITO film 2, 22 Image recognition pattern 3 Partition layer 4 Red light emitting layer 5 Green light emitting layer 6 Electron transport layer and blue light emitting layer 7 Ca layer 8 Al layer 10, 20 Glass substrate (substrate) 11 High magnification CCD camera (Image recognition 12) Inkjet head 13 Organic material 21 Display screen 23 Circle virtually created with the diameter of a straight line connecting two image recognition patterns

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上の画素に、インクジェット法によ
り液相の有機材料を吐出して有機層を形成するに際し
て、 (a)あらかじめ基板上に画像認識パターンを形成し、 (b)該画像認識パターンを画像認識装置によって認識
することにより基板又は画素の位置情報を得、 (c)該基板又は画素の位置情報に基づいて、インクジ
ェットヘッド及び基板又は画素の位置合わせと、液相の
有機材料を吐出するタイミングとを制御することからな
る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
When an organic layer is formed by discharging a liquid-phase organic material onto pixels on a substrate by an ink-jet method, (a) an image recognition pattern is formed on the substrate in advance, and (b) the image recognition is performed. The position information of the substrate or the pixel is obtained by recognizing the pattern by the image recognition device. (C) Based on the position information of the substrate or the pixel, the ink jet head and the substrate or the pixel are aligned and the liquid organic material is removed. A method for manufacturing an organic electroluminescent display device, comprising controlling discharge timing.
【請求項2】 画像認識装置によって認識し得る領域が
画素内であり、画像認識パターンが画素内に形成される
請求項1に記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the area recognizable by the image recognition device is in a pixel, and the image recognition pattern is formed in the pixel.
【請求項3】 画像認識パターンが基板上に2個以上形
成されており、該2個以上の画像認識パターンを相互に
結ぶすべての直線を直径として仮想的に作画される円の
うち少なくとも1つの円内に、液相の有機材料が吐出さ
れる画素が含まれる請求項1に記載の方法。
3. A method according to claim 1, wherein two or more image recognition patterns are formed on the substrate, and at least one of circles virtually created with all the straight lines connecting the two or more image recognition patterns as diameters. 2. The method according to claim 1, wherein the circle includes pixels from which liquid-phase organic material is discharged.
【請求項4】 少なくとも1個の画像認識パターンが、
液相の有機材料が吐出される画素内に形成されてなる請
求項3に記載の記載の方法。
4. The at least one image recognition pattern,
4. The method according to claim 3, wherein the liquid organic material is formed in the pixel to be discharged.
【請求項5】 画像認識パターンが、基板上に形成され
た電極材料、有機材料及び/又は絶縁材料により形成さ
れてなる請求項1〜4のいずれか1つに記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein the image recognition pattern is formed of an electrode material, an organic material, and / or an insulating material formed on the substrate.
【請求項6】 基板が透明又は半透明であり、画像認識
装置が基板を通して画像認識パターンを認識する請求項
1〜5のいずれか1つに記載の方法。
6. The method according to claim 1, wherein the substrate is transparent or translucent, and the image recognition device recognizes the image recognition pattern through the substrate.
【請求項7】 基板が透明又は半透明であり、画像認識
装置が基板を通して画像認識パターンを認識するととも
にインクジェットヘッドの位置をも認識する請求項1〜
5のいずれか1つに記載の方法。
7. The apparatus according to claim 1, wherein the substrate is transparent or translucent, and the image recognition device recognizes the image recognition pattern through the substrate and also recognizes the position of the ink jet head.
A method according to any one of the preceding claims.
【請求項8】 液相の有機材料が、高分子材料を含有す
る塗液である請求項1〜6のいずれか1つに記載の方
法。
8. The method according to claim 1, wherein the liquid organic material is a coating liquid containing a polymer material.
【請求項9】 あらかじめ基板上の画素間に、有機層よ
りも厚膜の隔壁層を形成し、該隔壁層で囲まれた領域内
に有機材料を吐出することからなる請求項1〜8のいず
れか1つに記載の方法。
9. The method according to claim 1, further comprising forming a partition layer thicker than the organic layer between pixels on the substrate in advance, and discharging an organic material into a region surrounded by the partition layer. A method according to any one of the preceding claims.
JP2000101376A 2000-04-03 2000-04-03 Manufacturing method of an organic electroluminescence display device Pending JP2001284047A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000101376A JP2001284047A (en) 2000-04-03 2000-04-03 Manufacturing method of an organic electroluminescence display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000101376A JP2001284047A (en) 2000-04-03 2000-04-03 Manufacturing method of an organic electroluminescence display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001284047A true JP2001284047A (en) 2001-10-12

Family

ID=18615438

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000101376A Pending JP2001284047A (en) 2000-04-03 2000-04-03 Manufacturing method of an organic electroluminescence display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001284047A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003133068A (en) * 2001-10-25 2003-05-09 Nec Corp Method for manufacturing luminescent display device and device for manufacturing luminescent display device by applying it
NL1020312C2 (en) * 2002-04-05 2003-10-07 Otb Groep B V Method and device for manufacturing a display, such as for example a polymeric OLED display, a display and a substrate for use in the method.
WO2004030417A1 (en) * 2002-09-24 2004-04-08 Sharp Kabushiki Kaisha Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active-matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate
WO2005123856A1 (en) * 2004-06-17 2005-12-29 Sharp Kabushiki Kaisha Coating fluid, process for formation of films, processes for production of functional devices, and functional devices
JP2007111914A (en) * 2005-10-18 2007-05-10 Ulvac Japan Ltd Ink applicator, method for inspecting delivery nozzle and ink applying method
JP2007199568A (en) * 2006-01-30 2007-08-09 Toppan Printing Co Ltd Method for manufacturing printed matter
JP2008243817A (en) * 2002-03-27 2008-10-09 Cambridge Display Technol Ltd Method of preparation of organic optoelectronic and electronic devices and devices thereby obtained
KR100907737B1 (en) * 2006-08-11 2009-07-14 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Dispensing method of liquid body, manufacturing method of wiring board, manufacturing method of color filter, manufacturing method of organic EL light emitting element
KR100907738B1 (en) * 2006-08-11 2009-07-14 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Liquid material disposing method, manufacturing method of color filter and manufacturing method of organic el display device
US7628464B2 (en) 2004-03-17 2009-12-08 Panasonic Corporation Liquid drop placing apparatus and liquid drop placing method
WO2012173075A1 (en) * 2011-06-17 2012-12-20 シャープ株式会社 Film substrate and method for testing film substrate

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003133068A (en) * 2001-10-25 2003-05-09 Nec Corp Method for manufacturing luminescent display device and device for manufacturing luminescent display device by applying it
US7393554B2 (en) 2001-10-25 2008-07-01 Samsung Sdi Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing flexible-type luminescent device
JP2008243817A (en) * 2002-03-27 2008-10-09 Cambridge Display Technol Ltd Method of preparation of organic optoelectronic and electronic devices and devices thereby obtained
NL1020312C2 (en) * 2002-04-05 2003-10-07 Otb Groep B V Method and device for manufacturing a display, such as for example a polymeric OLED display, a display and a substrate for use in the method.
EP1351325A1 (en) * 2002-04-05 2003-10-08 OTB Group B.V. Method and apparatus for manufacturing a display, such as, for instance, a polymer OLED display, a display and a substrate for use in the method
CN100438086C (en) * 2002-04-05 2008-11-26 皮克斯德罗有限公司 Method and apparatus for mfg display, substrate and display for use in the method
JP2004249276A (en) * 2002-04-05 2004-09-09 Otb Group Bv Apparatus and method for manufacturing display such as, for instance, polymer oled display etc. and display and substrate used in this method
SG113456A1 (en) * 2002-04-05 2005-08-29 Otb Group Bv Method and apparatus for manufacturing a display, such as, for instance, a polymer oled display, a display and a substrate for use in the method
US7591906B2 (en) 2002-04-05 2009-09-22 Pixdro Ltd. Method and apparatus for manufacturing a display, such as, for instance, a polymer OLED display, a display and a substrate for use in the method
US7695754B2 (en) 2002-04-05 2010-04-13 Pixdro Ltd. Method and apparatus for manufacturing a display, such as, for instance, a polymer OLED display, a display and a substrate for use in the method
US8932666B2 (en) 2002-09-24 2015-01-13 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate
KR100710760B1 (en) * 2002-09-24 2007-04-24 샤프 가부시키가이샤 Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active-matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate
WO2004030417A1 (en) * 2002-09-24 2004-04-08 Sharp Kabushiki Kaisha Method and apparatus for manufacturing active-matrix organic el display, active-matrix organic el display, method for manufacturing liquid crystal array, liquid crystal array, method and apparatus for manufacturing color filter substrate, and color filter substrate
US7628464B2 (en) 2004-03-17 2009-12-08 Panasonic Corporation Liquid drop placing apparatus and liquid drop placing method
JPWO2005123856A1 (en) * 2004-06-17 2008-04-10 シャープ株式会社 Coating liquid, film manufacturing method, functional element manufacturing method, and functional element
US7807741B2 (en) 2004-06-17 2010-10-05 Sharp Kabushiki Kaisha Coating liquid, film production method, production method of functional device, and functional device
JP4707658B2 (en) * 2004-06-17 2011-06-22 シャープ株式会社 Coating liquid, film manufacturing method, functional element manufacturing method, organic electroluminescence element manufacturing method, organic electroluminescence display device manufacturing method, color filter substrate manufacturing method, liquid crystal display device manufacturing method, and wiring Substrate manufacturing method
WO2005123856A1 (en) * 2004-06-17 2005-12-29 Sharp Kabushiki Kaisha Coating fluid, process for formation of films, processes for production of functional devices, and functional devices
JP2007111914A (en) * 2005-10-18 2007-05-10 Ulvac Japan Ltd Ink applicator, method for inspecting delivery nozzle and ink applying method
JP2007199568A (en) * 2006-01-30 2007-08-09 Toppan Printing Co Ltd Method for manufacturing printed matter
KR100907738B1 (en) * 2006-08-11 2009-07-14 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Liquid material disposing method, manufacturing method of color filter and manufacturing method of organic el display device
KR100907737B1 (en) * 2006-08-11 2009-07-14 세이코 엡슨 가부시키가이샤 Dispensing method of liquid body, manufacturing method of wiring board, manufacturing method of color filter, manufacturing method of organic EL light emitting element
WO2012173075A1 (en) * 2011-06-17 2012-12-20 シャープ株式会社 Film substrate and method for testing film substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4732861B2 (en) Organic light-emitting display device and method for manufacturing the same
US20120025182A1 (en) Donor substrate, process for production of transfer film, and process for production of organic electroluminescent element
JP2003264083A (en) Organic led element and production process thereof
KR20130030773A (en) Evaporation mask, and production method and production apparatus for organic el element using evaporation mask
JP2004247279A (en) Manufacturing method of organic el device, and electronic equipment
JP2001284047A (en) Manufacturing method of an organic electroluminescence display device
JP3839276B2 (en) Method for manufacturing electroluminescent device
WO2018232793A1 (en) Ink-jet printing technology-based pixel structure and manufacturing method thereof
WO2011105329A1 (en) Manufacturing method for light-emitting devices
Chen et al. High definition digital fabrication of active organic devices by molecular jet printing
JP5899531B2 (en) Manufacturing method of organic EL element
CN110656310B (en) Film forming apparatus, apparatus for manufacturing organic device, and method for manufacturing organic device
JP2006244828A (en) Manufacturing method of substrate for organic thin film patterning and organic el device using the same
WO2011118654A1 (en) Method for manufacturing light-emitting device
JP2001230074A (en) Organic electroluminescence display device and its manufacturing method
JP4743577B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
JP3705242B2 (en) Organic EL device manufacturing system
JP2010160945A (en) Method for manufacturing organic electroluminescence device
JP2009129567A (en) Method of manufacturing organic electroluminescent element and organic electroluminescent element
JP2008243649A (en) Organic electroluminescent device, and its manufacturing method
US11508907B2 (en) Functional layer forming ink and self-luminous element manufacturing method
WO2017082173A1 (en) Method for manufacturing organic el device, and organic el device
JP2010205528A (en) Manufacturing method of organic electroluminescent device
JP2012038617A (en) Organic el element and method of manufacturing the same
JP2003347054A (en) Film for thin film transfer, its manufacturing method, and organic el element using same