JP2001257072A - Manufacturing method of organic el display device - Google Patents

Manufacturing method of organic el display device

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JP2001257072A
JP2001257072A JP2000070217A JP2000070217A JP2001257072A JP 2001257072 A JP2001257072 A JP 2001257072A JP 2000070217 A JP2000070217 A JP 2000070217A JP 2000070217 A JP2000070217 A JP 2000070217A JP 2001257072 A JP2001257072 A JP 2001257072A
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layer
transparent substrate
substrate
light emitting
organic
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JP2000070217A
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Takanori Ito
貴則 伊藤
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Sumitomo Wiring Systems Ltd
AutoNetworks Technologies Ltd
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Wiring Systems Ltd
AutoNetworks Technologies Ltd
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of organic electroluminescence display device that enables to reduce time of manufacturing process and manufacturing cost. SOLUTION: The manufacturing method of this organic EL display device comprises formation of a transparent electrode layer 3 and a positive hole transporting layer 5 on a transparent substrate 1, and further comprises a first layer forming process S1 to form in plane a luminous layer 7 on a layer formed substrate 21 separate from the transparent substrate 1, a heat transfer process S2 to heat-transfer the luminous layer 7 formed on the layer formed substrate 21 partially to the transparent substrate 1 in accordance with the pattern shape of the luminous layer 7 formed on the transparent substrate 1, and a second layer forming process S3 to form an electron transporting layer 9 and a rear face electrode layer 11 on the transparent substrate 1 formed with the luminous layer 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機EL(エレク
トロルミネッセント)表示装置の製造方法に関するもの
である。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL (electroluminescent) display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図8は、本発明の背景技術である有機E
L表示装置の構成を模式的に示す図である。有機EL表
示装置は、図8に示すように、ガラス基板等の透明基板
1と、その透明基板1上に、少なくとも透明電極層3、
正孔輸送層5、発光層7、電子輸送層9および裏面電極
層11等をそれぞれ構成するように積層される複数の層
とを備えている。その透明電極層3、正孔輸送層5、発
光層7、電子輸送層9および裏面電極層11は、この記
載の順番で、透明基板1上に形成される。
2. Description of the Related Art FIG. 8 shows an organic E which is a background art of the present invention.
It is a figure which shows the structure of L display apparatus typically. As shown in FIG. 8, the organic EL display device includes a transparent substrate 1 such as a glass substrate, and at least a transparent electrode layer 3 on the transparent substrate 1.
A plurality of layers are stacked so as to constitute the hole transport layer 5, the light emitting layer 7, the electron transport layer 9, the back electrode layer 11, and the like. The transparent electrode layer 3, the hole transport layer 5, the light emitting layer 7, the electron transport layer 9, and the back electrode layer 11 are formed on the transparent substrate 1 in the order described.

【0003】ここで、透明電極層3は、インジウム錫酸
化物(ITO)等の透明導電材料によって形成され、正
孔輸送層5は、アミン系化合物等によって形成され、発
光層7は、アルミキノール錯体等の有機化合物によって
形成され、電子輸送層9は、亜鉛複核錯体等によって形
成され、裏面電極層11は、アルミ等の金属によって形
成される。そして、透明基板1上の前記複数の層が積層
形成された部分が、防湿等のために金属ケーシング13
により封止されて有機EL表示装置が構成される。
Here, the transparent electrode layer 3 is formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), the hole transport layer 5 is formed of an amine compound or the like, and the light emitting layer 7 is formed of aluminum quinol. The electron transport layer 9 is formed of an organic compound such as a complex, the electron transport layer 9 is formed of a zinc dinuclear complex or the like, and the back electrode layer 11 is formed of a metal such as aluminum. The portion of the transparent substrate 1 where the plurality of layers are laminated is formed by a metal casing 13 for moisture prevention or the like.
To form an organic EL display device.

【0004】そして、透明電極層3を正極、裏面電極層
11を陰極として、有機EL表示装置に電圧印加する
と、透明電極層3から正孔輸送層5を介して発光層7に
注入された正孔と、裏面電極層11から電子輸送層9を
介して発光層7に注入された電子とが発光層7中で再結
合し、これによって励起された有機分子が基底状態に遷
移する際に所定波長の光15を発光するようになってい
る。
When a voltage is applied to the organic EL display device using the transparent electrode layer 3 as a positive electrode and the back electrode layer 11 as a cathode, the positive electrode injected into the light emitting layer 7 from the transparent electrode layer 3 via the hole transport layer 5. The holes and the electrons injected into the light emitting layer 7 from the back electrode layer 11 via the electron transport layer 9 are recombined in the light emitting layer 7, and when the organic molecules excited by the electrons transit to the ground state, Light 15 having a wavelength is emitted.

【0005】なお、透明基板1上に形成される層には、
図8では図示を省略しているが、発光層7の所定の発光
パターンに対応した部分以外に正孔および電子が注入さ
れて発光が生じてしまうのを防止するための絶遠層が含
まれている。この絶遠層は、透明電極層3と裏面電極層
11との間のいずれかの部分に介装される。
[0005] The layers formed on the transparent substrate 1 include:
Although not shown in FIG. 8, a far layer for preventing injection of holes and electrons to generate light is included in a portion of the light emitting layer 7 other than a portion corresponding to a predetermined light emitting pattern. ing. This far layer is interposed in any part between the transparent electrode layer 3 and the back electrode layer 11.

【0006】このような有機EL表示装置の従来の製造
方法では、透明基板1上に形成される各層は、透明電極
層3から順に蒸着により形成されるようになっている。
また、透明電極層3、裏面電極層11および発光層7
は、発光部のパターン形状や発光部の駆動方式等に応じ
てパターン形成されるのであるが、従来の製造方法で
は、蒸着の際にマスクを用いてパターン形成するか、あ
るいはエッチング法を用いてパターン形成している。
In the conventional manufacturing method of such an organic EL display device, each layer formed on the transparent substrate 1 is formed by vapor deposition in order from the transparent electrode layer 3.
Also, the transparent electrode layer 3, the back electrode layer 11, and the light emitting layer 7
Is formed in accordance with the pattern shape of the light emitting portion, the driving method of the light emitting portion, and the like.In the conventional manufacturing method, the pattern is formed using a mask at the time of vapor deposition, or by using an etching method. The pattern is formed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来の製造方法では、透明基板1上に形成する各層を透
明電極層3から順に透明基板1上に形成するようになっ
ているたため、所定の層を形成する際、その層よりも透
明基板1側の層をすべて透明基板1上に形成してからで
ないとその層を形成することができず、すべての層を透
明基板1上に形成するまでに時間を要し、製造工程の高
コスト化を招いているという問題がある。
However, in the above-described conventional manufacturing method, each layer formed on the transparent substrate 1 is formed on the transparent substrate 1 in order from the transparent electrode layer 3, so that a predetermined number of layers are formed. When forming a layer, the layer cannot be formed unless all layers on the transparent substrate 1 side than the layer are formed on the transparent substrate 1, and all the layers are formed on the transparent substrate 1. However, there is a problem that it takes a long time to increase the cost of the manufacturing process.

【0008】特に、有機EL表示装置が複数の発光色で
表示を行うものである場合には、発光層7を所定のパタ
ーン形状の複数の部分発光領域に分割し、その各部分発
光領域をその発光色に応じた色の光を発光する有機材料
から形成する必要がある。これに対し、上述の従来の製
造方法では、透明基板1上に有機材料を蒸着することに
より発光層7を形成するため、各発光色に対応する部分
発光領域を有する発光層7を形成するためには、パター
ニングを行いつつ各発光色に対応する有機材料を透明基
板1上に各発光色ごとに順番に蒸着していく必要があ
り、発光層7の形成に長時間を要している。
In particular, when the organic EL display device performs display with a plurality of emission colors, the light emitting layer 7 is divided into a plurality of partial emission regions having a predetermined pattern shape, and each of the partial emission regions is divided into a plurality of partial emission regions. It is necessary to be formed from an organic material that emits light of a color corresponding to the emission color. On the other hand, in the above-mentioned conventional manufacturing method, since the light emitting layer 7 is formed by evaporating an organic material on the transparent substrate 1, the light emitting layer 7 having the partial light emitting region corresponding to each emission color is formed. In this case, it is necessary to sequentially deposit an organic material corresponding to each light emission color on the transparent substrate 1 for each light emission color while performing patterning, and it takes a long time to form the light emitting layer 7.

【0009】そこで、本発明は前記問題点に鑑み、製造
工程の短時間化および低コスト化が図れる有機EL表示
装置の製造方法を提供することを目的とする。
In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing an organic EL display device which can shorten the manufacturing process and reduce the cost.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の技術的手段は、透明基板上に、少なくとも透明電極
層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および裏面電極層
をそれぞれ構成する複数の層が積層された有機EL表示
装置の製造方法であって、前記透明基板上に前記各層を
前記透明基板側の層から順に形成する一方、前記複数の
層のうちの前記透明電極層以外の少なくともいずれか1
つの層を前記透明基板以外の被成膜基材上に形成し、そ
の被成膜基材上に形成した前記層を前記透明基板上に転
写することにより、前記透明基板上に前記複数の層を積
層することを特徴とする。
The technical means for achieving the above object is to form at least a transparent electrode layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a back electrode layer on a transparent substrate. A method for manufacturing an organic EL display device in which a plurality of layers are stacked, wherein each of the layers is formed on the transparent substrate in order from a layer on a side of the transparent substrate, and other than the transparent electrode layer of the plurality of layers. At least one of
Forming one layer on a film-forming substrate other than the transparent substrate, and transferring the layer formed on the film-forming substrate onto the transparent substrate, thereby forming the plurality of layers on the transparent substrate. Are laminated.

【0011】好ましくは、前記被成膜基材上に形成され
る前記層は、前記発光層であり、前記発光層は、前記被
成膜基材上に平面的に形成されており、前記発光層の前
記透明基板上への転写は、前記被成膜基材上の平面的に
形成された発光層の一部分を、前記透明基板上に形成す
る発光層のパターン形状に対応させて前記透明基板上に
部分的に転写することにより行われるのがよい。
Preferably, the layer formed on the substrate on which the film is to be formed is the light emitting layer, and the light emitting layer is formed planarly on the substrate on which the film is to be formed. The transfer of the layer onto the transparent substrate is performed by causing a part of the planarly formed light emitting layer on the substrate on which the film is to be formed to correspond to the pattern shape of the light emitting layer formed on the transparent substrate. This is preferably done by partial transfer onto the top.

【0012】また、好ましくは、前記被成膜基材上に形
成された前記層の前記透明基板上への転写は、前記被成
膜基材上に形成された前記層を加熱して前記透明基材上
に転写する熱転写により行われるのがよい。
Preferably, the transfer of the layer formed on the substrate on which the film is formed onto the transparent substrate is performed by heating the layer formed on the substrate on which the film is formed. It is preferable that the heat transfer is performed by transferring the image onto a substrate.

【0013】さらに、好ましくは、前記有機EL表示装
置に備えられる前記発光層には、互いに異なる色の光を
発光する所定のパターン形状を有する複数の部分発光領
域が備えられており、前記各部分発光領域は、発光色ご
とに互いに異なる前記被成膜基材上に平面的に形成され
たものから前記所定のパターン形状に対応する部分が部
分的に前記透明基板上に転写されたものであるのがよ
い。
Further, preferably, the light emitting layer provided in the organic EL display device has a plurality of partial light emitting regions having a predetermined pattern shape for emitting light of different colors from each other. The light-emitting region is a portion in which a portion corresponding to the predetermined pattern shape is partially transferred onto the transparent substrate from a surface formed on the film-forming substrate different from each other for each light-emitting color. Is good.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施形態に係
る有機EL表示装置の製造方法が適用された有機EL表
示装置の製造工程を示すフローチャートである。なお、
この製造方法が適用される有機EL表示装置は、図8に
示す有機EL表示装置と製造方法が異なるのみで構成は
実質的に同一であり、対応する部分には同一の参照符号
を付して構成等の説明は省略する。
FIG. 1 is a flowchart showing a process of manufacturing an organic EL display device to which a method of manufacturing an organic EL display device according to an embodiment of the present invention is applied. In addition,
The organic EL display device to which this manufacturing method is applied is substantially the same in configuration as the organic EL display device shown in FIG. 8 except for the manufacturing method, and the corresponding parts are denoted by the same reference numerals. The description of the configuration and the like is omitted.

【0015】この製造方法による製造工程は、図1に示
されるように、第1成膜構成S1と、熱転写工程S2
と、第2成膜工程S3とを備えている。
As shown in FIG. 1, the manufacturing process according to this manufacturing method includes a first film forming structure S1 and a thermal transfer process S2.
And a second film forming step S3.

【0016】第1成膜工程S1では、図2に示されるよ
うに、透明基板1上に透明電極層3および正孔輸送層5
が、透明電極層3および正孔輸送層5の順に抵抗加熱法
等を用いた蒸着法によって形成される。
In a first film forming step S1, as shown in FIG. 2, a transparent electrode layer 3 and a hole transport layer 5 are formed on a transparent substrate 1.
Is formed in the order of the transparent electrode layer 3 and the hole transport layer 5 by an evaporation method using a resistance heating method or the like.

【0017】また、この第1成膜工程S1では、図2に
示す成膜工程と同時並行的に、あるいは図2の成膜工程
に先立って、図3に示すように、透明基板1以外の1ま
たは複数のシート状の被成膜基材21上に、所定の有機
材料が平面的に塗布または蒸着されることにより発光層
7が平面的に形成される。塗布による場合は、所定の溶
媒に前記有機材料を溶解させて被成膜基材21上にスピ
ンコートや噴霧等の方法により塗布し、その後、溶媒を
気化させることにより発光層7が被成膜基材21上に形
成される。
In the first film forming step S1, as shown in FIG. 3, other than the transparent substrate 1 as shown in FIG. A predetermined organic material is planarly applied or vapor-deposited on one or a plurality of sheet-like base materials 21 to form the light-emitting layer 7 in a planar manner. In the case of coating, the organic material is dissolved in a predetermined solvent, and the solution is applied to the film-forming substrate 21 by a method such as spin coating or spraying, and then the solvent is evaporated to form the light-emitting layer 7. It is formed on the substrate 21.

【0018】被成膜基材21には、次の熱転写工程S2
で発光層7の熱転写を行うため、耐熱性を備えたものを
用いる必要がある。また、塗布により被成膜基材21上
に発光層7を形成する場合には、被成膜基材21は、使
用する溶媒等に対する耐薬品性を有している必要があ
る。なお、本実施形態では、フッ素樹脂から構成される
シート部材が被成膜基材21として使用されている。
The next thermal transfer step S2
In order to perform the thermal transfer of the light emitting layer 7, it is necessary to use a material having heat resistance. Further, when the light emitting layer 7 is formed on the film-forming substrate 21 by coating, the film-forming substrate 21 needs to have chemical resistance to a solvent or the like to be used. In the present embodiment, a sheet member made of a fluororesin is used as the substrate 21 on which the film is to be formed.

【0019】また、この製造方法が適用される有機EL
表示装置が複数の発光色で表示を行うものである場合に
は、第1成膜工程S1では、互いに異なる発光色で発光
する発光層7が、互いに異なる被成膜基材21上に平面
的に形成され、これによって、発光色の異なる発光層7
が形成された被成膜基材21が必要な発光色の数だけ作
成される。
Further, an organic EL to which this manufacturing method is applied
When the display device performs display with a plurality of emission colors, in the first film-forming step S1, the light-emitting layers 7 that emit light of different emission colors are planarly arranged on the different deposition base materials 21. The light-emitting layers 7 having different emission colors
Are formed in the number of required emission colors.

【0020】続く熱転写工程S3では、図4に示される
ように、被成膜基材21上に形成された発光層7が、透
明電極層3および正孔輸送層5が形成された透明基板1
上に重ね合わされて、熱転写機23により透明基板1上
に熱転写される。
In the subsequent thermal transfer step S3, as shown in FIG. 4, the light-emitting layer 7 formed on the base material 21 is replaced with the transparent substrate 1 on which the transparent electrode layer 3 and the hole transport layer 5 are formed.
It is superimposed on top and thermally transferred onto the transparent substrate 1 by the thermal transfer machine 23.

【0021】熱転写機23は、被成膜基材21への当接
面(下面)に凸状に熱転写パターン23a(図5参照)
が形成された押圧部23bと、その押圧部23bを加熱
するヒータ部23cとを備えて構成されており、ヒータ
部23cによって加熱された押圧部23bを透明基板1
上に重ね合わされた被成膜基材21上に押し付ける(圧
着する)ことにより、熱転写を行うようになっている。
押圧部23bの熱転写パターン23aは、熱転写により
透明基板1上に形成すべき発光層7のパターン形状に対
応して形成される。
The thermal transfer machine 23 has a thermal transfer pattern 23a (see FIG. 5) having a convex surface on the contact surface (lower surface) with the substrate 21 to be formed.
And a heater 23c for heating the pressing portion 23b. The pressing portion 23b heated by the heater 23c is
Thermal transfer is performed by pressing (pressing) the film-forming base material 21 superposed thereon.
The thermal transfer pattern 23a of the pressing portion 23b is formed corresponding to the pattern shape of the light emitting layer 7 to be formed on the transparent substrate 1 by thermal transfer.

【0022】加熱された押圧部23bが被成膜基材21
に押し付けられると、被成膜基材21ごしに発光層7の
熱転写パターン23aに対応した部分が部分的に加熱、
軟化(あるいは溶融)されて透明基板1上に付着し(転
写され)、その後、被成膜基材21を透明基板1上から
引き離すと、図6に示すように、押圧部23bの熱転写
パターン23aに対応したパターン形状の発光層7が透
明基板1上に形成される。転写された発光層7は、冷却
により硬化して透明基板1上に固着する。
The heated pressing portion 23b is
Is pressed, the portion corresponding to the thermal transfer pattern 23a of the light emitting layer 7 is partially heated over the deposition target substrate 21,
After being softened (or melted) and adhered (transferred) onto the transparent substrate 1 and then separating the substrate 21 from the transparent substrate 1, as shown in FIG. 6, the thermal transfer pattern 23a of the pressing portion 23b is formed. Is formed on the transparent substrate 1 in a pattern shape corresponding to. The transferred light emitting layer 7 is cured by cooling and fixed on the transparent substrate 1.

【0023】ここで、この製造方法が適用される有機E
L表示装置が複数の発光色で表示を行うものである場合
には、有機EL表示装置の発光層7には、互いに異なる
色の光を発光する所定のパターン形状を有する複数の部
分発光領域を設ける必要がある。このため、この場合に
は、この熱転写工程S2では、押圧部23bを各発光色
の部分発光領域のパターン形状に対応した熱転写パター
ン23aを有する押圧部23bに取り換えるとともに、
被成膜基材21を所定の各発光色に対応する発光層7が
形成された被成膜基材21に取り換えつつ、必要とされ
る各発光色ごとに1色ずつ熱転写を行って、各発光色に
対応する各部分発光領域を透明基板1上に形成する必要
がある。
Here, the organic E to which this production method is applied
When the L display device performs display with a plurality of emission colors, the emission layer 7 of the organic EL display device includes a plurality of partial emission regions having a predetermined pattern shape that emit light of different colors. Must be provided. For this reason, in this case, in this thermal transfer step S2, the pressing portion 23b is replaced with a pressing portion 23b having a thermal transfer pattern 23a corresponding to the pattern shape of the partial light emitting region of each emission color,
While replacing the film-forming substrate 21 with the film-forming substrate 21 on which the light-emitting layers 7 corresponding to the predetermined luminescent colors are formed, thermal transfer is performed one by one for each required luminescent color. It is necessary to form each partial light emitting region corresponding to a light emission color on the transparent substrate 1.

【0024】続く第2成膜工程では、発光層7が形成さ
れた透明基板1上に、電子輸送層9および裏面電極層1
1が、電子輸送層9および裏面電極層11の順に抵抗加
熱法等を用いた蒸着法により形成される。そして、必要
に応じて、透明基板1上の上述の複数の層3,5,7,
9,11が積層形成された部分が、図8に示されるよう
に、防湿等のために金属ケーシング13により封止され
て有機EL表示装置が構成される。
In the subsequent second film forming step, the electron transport layer 9 and the back electrode layer 1 are formed on the transparent substrate 1 on which the light emitting layer 7 is formed.
1 is formed in the order of the electron transport layer 9 and the back electrode layer 11 by an evaporation method using a resistance heating method or the like. Then, if necessary, the plurality of layers 3, 5, 7, and
As shown in FIG. 8, the portion where the layers 9 and 11 are formed is sealed with a metal casing 13 for moisture proof and the like to constitute an organic EL display device.

【0025】以上のように、実施形態によれば、発光層
7を透明基板1とは別の被成膜基材21上に形成してお
き、その発光層7を被成膜基材21から透明基板1上に
熱転写するようになっているため、透明基板1上に透明
電極層3および正孔輸送層5を形成する成膜工程と、被
成膜基材21上に発光層7を形成する成膜工程とを同時
並行的に行うことができ、製造工程の短時間化および低
コスト化が図れる。
As described above, according to the embodiment, the light-emitting layer 7 is formed on the film-forming substrate 21 different from the transparent substrate 1, and the light-emitting layer 7 is separated from the film-forming substrate 21. Since the thermal transfer is performed on the transparent substrate 1, a film forming step of forming the transparent electrode layer 3 and the hole transport layer 5 on the transparent substrate 1 and a light emitting layer 7 is formed on the substrate 21 on which the film is to be formed Can be performed simultaneously and in parallel, and the manufacturing process can be shortened and cost can be reduced.

【0026】また、被成膜基材21上に形成された発光
層7の透明基板1上への転写は、被成膜基材21上の平
面的に形成された発光層7の一部分を、透明基板1上に
形成する発光層7のパターン形状に対応させて透明基板
1上に部分的に転写することにより行われるため、従来
のマスク蒸着法やエッチング法に比して簡単かつ短時間
で発光層7のパターン形成を行うことができる。
The transfer of the light emitting layer 7 formed on the substrate 21 on the transparent substrate 1 is performed by transferring a part of the light emitting layer 7 formed on the substrate 21 on a plane. Since the transfer is performed by partially transferring the light emitting layer 7 on the transparent substrate 1 in accordance with the pattern shape of the light emitting layer 7 formed on the transparent substrate 1, it is easier and faster than the conventional mask evaporation method or etching method. The pattern formation of the light emitting layer 7 can be performed.

【0027】さらに、被成膜基材21上に形成された発
光層7の透明基板1上への転写が熱転写によって行われ
るため、容易に転写を行うことができる。
Further, since the transfer of the light emitting layer 7 formed on the substrate 21 on which the film is to be formed onto the transparent substrate 1 is performed by thermal transfer, the transfer can be easily performed.

【0028】また、この製造方法が適用される有機EL
表示装置が複数の発光色で表示を行うものである場合に
は、各発光色に対応する発光層7を各被成膜基材21上
に予め形成しておき、その各被成膜基材21上に形成さ
れた各発光色の発光層をパターン形状に応じて部分的に
透明基板1上に転写するだけで発光層7の各発光色に対
応する部分発光領域が形成されるようになっているた
め、従来のように、透明基板1上で発光層7の各部分発
光領域の成膜工程を発光色の数だけ行うのに比して、大
幅に製造工程の短時間化および低コスト化が図れる。
An organic EL to which this manufacturing method is applied
When the display device performs display with a plurality of luminescent colors, the luminescent layer 7 corresponding to each luminescent color is formed in advance on each of the deposition base materials 21, and each of the deposition base materials is formed. By merely partially transferring the light emitting layers of each light emitting color formed on 21 onto the transparent substrate 1 according to the pattern shape, the partial light emitting areas corresponding to each light emitting color of the light emitting layer 7 can be formed. Therefore, as compared with the conventional case in which the film forming process of each partial light emitting region of the light emitting layer 7 is performed on the transparent substrate 1 by the number of luminescent colors, the manufacturing process is significantly shortened and the cost is reduced. Can be achieved.

【0029】なお、本実施形態では、発光層7のみに、
透明基板1とは異なる被成膜基材21上に形成してから
透明基板1上に転写する形成方法を適用したが、透明基
材1上に形成され得る複数の層3,5,7,9,11
(絶縁層も含む)のうちの透明電極層3以外の任意の層
に転写による形成方法を適用してもよい。この転写によ
る形成方法が適用可能な層のうち、熱転写による転写が
適しているのは、発光層7と正孔輸送層5と絶縁層とで
あると思われる。
In this embodiment, only the light emitting layer 7 is provided.
The method of forming on the film-forming base material 21 which is different from the transparent substrate 1 and then transferring it onto the transparent substrate 1 is applied, but a plurality of layers 3, 5, 7, and 9,11
A transfer forming method may be applied to an arbitrary layer (including the insulating layer) other than the transparent electrode layer 3. It is considered that, among the layers to which the formation method by transfer can be applied, the transfer by thermal transfer is suitable for the light emitting layer 7, the hole transport layer 5, and the insulating layer.

【0030】[0030]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、透明基
板上に透明基板側の層から順に形成する一方、複数の層
のうちの透明電極層以外の少なくともいずれか1つの層
を透明基板以外の被成膜基板上に形成し、その被成膜基
板上に形成した層を透明基板上に転写するようになって
いるため、一般に時間のかかりやすい各層の成膜工程を
透明基板上と、透明基板以外の被成膜基板上とで同時並
行的に行うことができ、製造工程の短時間化および低コ
スト化が図れる。
According to the first aspect of the present invention, at least one layer other than the transparent electrode layer among the plurality of layers is formed on the transparent substrate in order from the layer on the transparent substrate side. Since it is formed on a deposition target substrate other than the substrate, and the layer formed on the deposition target substrate is transferred onto a transparent substrate, the process of forming each layer, which is generally time-consuming, is generally performed on the transparent substrate. And on a deposition target substrate other than the transparent substrate at the same time, and the manufacturing process can be shortened and cost can be reduced.

【0031】請求項2に記載の発明によれば、被成膜基
材上に形成された発光層の透明基板上への転写は、被成
膜基材上の平面的に形成された発光層の一部分を、透明
基板上に形成する発光層のパターン形状に対応させて透
明基板上に部分的に転写することにより行われるため、
従来のマスク蒸着法やエッチング法に比して簡単かつ短
時間で発光層のパターン形成を行うことができる。
According to the second aspect of the present invention, the transfer of the light emitting layer formed on the substrate on which the film is to be formed onto the transparent substrate is performed on the light emitting layer formed on the substrate on which the film is to be formed. Is partially transferred onto the transparent substrate in accordance with the pattern shape of the light emitting layer formed on the transparent substrate.
The pattern formation of the light emitting layer can be performed easily and in a short time as compared with the conventional mask evaporation method and etching method.

【0032】請求項3に記載の発明によれば、被成膜基
材上に形成された層の透明基板上への転写が熱転写によ
って行われるため、容易に転写を行うことができる。
According to the third aspect of the present invention, the layer formed on the substrate on which the film is to be formed is transferred onto the transparent substrate by thermal transfer, so that the transfer can be easily performed.

【0033】請求項4に記載の発明によれば、各発光色
に対応する発光層を各被成膜基材上に予め形成してお
き、その各被成膜基材上に形成された各発光色の発光層
をパターン形状に応じて部分的に透明基板上に転写する
だけで発光層の各発光色に対応する部分発光領域が形成
されるようになっているため、従来のように、透明基板
上で発光層の各部分発光領域の成膜工程を発光色の数だ
け行うのに比して、大幅に製造工程の短時間化および低
コスト化が図れる。
According to the fourth aspect of the present invention, a luminescent layer corresponding to each luminescent color is previously formed on each film-forming substrate, and each luminescent layer formed on each film-forming substrate is formed. Since the light emitting layer of the light emitting color is only partially transferred onto the transparent substrate according to the pattern shape, the partial light emitting region corresponding to each light emitting color of the light emitting layer is formed, as in the related art, Compared to performing the film forming process of each partial light emitting region of the light emitting layer on the transparent substrate by the number of emission colors, the manufacturing process can be significantly shortened and cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る有機EL表示装置の
製造方法が適用された有機EL表示装置の製造工程を示
すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing a manufacturing process of an organic EL display device to which an organic EL display device manufacturing method according to an embodiment of the present invention is applied.

【図2】図1の製造工程の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of the manufacturing process of FIG.

【図3】図1の製造工程の説明図である。FIG. 3 is an explanatory view of the manufacturing process of FIG. 1;

【図4】図1の製造工程の説明図である。FIG. 4 is an explanatory view of the manufacturing process of FIG. 1;

【図5】図1の製造工程の説明図である。FIG. 5 is an explanatory view of the manufacturing process of FIG. 1;

【図6】図1の製造工程の説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of the manufacturing process of FIG. 1;

【図7】図1の製造工程の説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of the manufacturing process in FIG. 1;

【図8】本発明の背景技術である有機EL表示装置の構
成を模式的に示す図である。
FIG. 8 is a diagram schematically showing a configuration of an organic EL display device as a background art of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基板 3 透明電極層 5 正孔輸送層 7 発光層 9 電子輸送層 11 裏面電極層 21 被成膜基材 23 熱転写機 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 3 Transparent electrode layer 5 Hole transport layer 7 Light emitting layer 9 Electron transport layer 11 Back electrode layer 21 Deposition base material 23 Thermal transfer machine

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 貴則 愛知県名古屋市南区菊住1丁目7番10号 株式会社ハーネス総合技術研究所内 Fターム(参考) 3K007 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5C058 AA12 BA35  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takanori Ito 1-7-10 Kikuzumi, Minami-ku, Nagoya-shi, Aichi F-term in Harness Research Institute, Inc. (reference) 3K007 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5C058 AA12 BA35

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板上に、少なくとも透明電極層、
正孔輸送層、発光層、電子輸送層および裏面電極層をそ
れぞれ構成する複数の層が積層された有機EL表示装置
の製造方法であって、 前記透明基板上に前記各層を前記透明基板側の層から順
に形成する一方、前記複数の層のうちの前記透明電極層
以外の少なくともいずれか1つの層を前記透明基板以外
の被成膜基材上に形成し、その被成膜基材上に形成した
前記層を前記透明基板上に転写することにより、前記透
明基板上に前記複数の層を積層することを特徴とする有
機EL表示装置の製造方法。
A transparent electrode layer on a transparent substrate;
A method for manufacturing an organic EL display device in which a plurality of layers each constituting a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and a back electrode layer are stacked, wherein each layer is formed on the transparent substrate on the transparent substrate side. While forming in order from the layer, at least one layer other than the transparent electrode layer of the plurality of layers is formed on a deposition target substrate other than the transparent substrate, and on the deposition target substrate. A method for manufacturing an organic EL display device, wherein the plurality of layers are stacked on the transparent substrate by transferring the formed layer onto the transparent substrate.
【請求項2】 前記被成膜基材上に形成される前記層
は、前記発光層であり、 前記発光層は、前記被成膜基材上に平面的に形成されて
おり、 前記発光層の前記透明基板上への転写は、前記被成膜基
材上の平面的に形成された発光層の一部分を、前記透明
基板上に形成する発光層のパターン形状に対応させて前
記透明基板上に部分的に転写することにより行われるこ
とを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置の製
造方法。
2. The layer formed on the substrate on which the film is to be formed is the light emitting layer; the light emitting layer is formed planarly on the substrate on which the film is to be formed; Is transferred onto the transparent substrate, a part of the planarly formed light emitting layer on the substrate on which the film is formed is formed on the transparent substrate in accordance with the pattern shape of the light emitting layer formed on the transparent substrate. 2. The method for manufacturing an organic EL display device according to claim 1, wherein the method is performed by partially transferring the organic EL display device.
【請求項3】 前記被成膜基材上に形成された前記層の
前記透明基板上への転写は、前記被成膜基材上に形成さ
れた前記層を加熱して前記透明基材上に転写する熱転写
により行われることを特徴とする請求項1または2に記
載の有機EL表示装置の製造方法。
3. The transfer of the layer formed on the substrate on which the film is to be formed onto the transparent substrate includes heating the layer formed on the substrate on which the film is to be formed and heating the layer on the transparent substrate. 3. The method for manufacturing an organic EL display device according to claim 1, wherein the method is performed by thermal transfer for transferring to an organic EL display.
【請求項4】 前記有機EL表示装置に備えられる前記
発光層には、互いに異なる色の光を発光する所定のパタ
ーン形状を有する複数の部分発光領域が備えられてお
り、 前記各部分発光領域は、発光色ごとに互いに異なる前記
被成膜基材上に平面的に形成されたものから前記所定の
パターン形状に対応する部分が部分的に前記透明基板上
に転写されたものであることを特徴とする請求項2に記
載の有機EL表示装置の製造方法。
4. The light emitting layer provided in the organic EL display device includes a plurality of partial light emitting regions having a predetermined pattern shape for emitting light of different colors, and each of the partial light emitting regions is Wherein a portion corresponding to the predetermined pattern shape is partially transferred onto the transparent substrate from those formed two-dimensionally on the film-forming base material, which are different from each other for each emission color. The method for manufacturing an organic EL display device according to claim 2.
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