JP2001252600A - Device and method for producing thin film - Google Patents
Device and method for producing thin filmInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜製造装置及び薄膜
の製造方法に関する。さらに詳しくは、光技術やオプト
エレクトロニクス技術等の分野で有用な各種薄膜を、高
品質、高効率かつ安価に製造することが可能な薄膜製造
装置及び薄膜の効率的な製造方法に関する。The present invention relates to a thin film manufacturing apparatus and a thin film manufacturing method. More specifically, the present invention relates to a thin film manufacturing apparatus and an efficient thin film manufacturing method capable of manufacturing various thin films useful in fields such as optical technology and optoelectronic technology with high quality, high efficiency, and low cost.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年の光技術やオプトエレクトロニクス
技術に関する発展は目覚しく、各種の高機能薄膜が開発
されている。例えば、電子技術に関しては、ＧａＡｓ系
に代表される半導体薄膜が、光学用としては、光の吸収
又は干渉を利用した波長選択透過や反射機能を利用した
薄膜が一般的に用いられている。2. Description of the Related Art Recent developments in optical technology and optoelectronic technology have been remarkable, and various high-performance thin films have been developed. For example, a semiconductor thin film represented by a GaAs system is generally used in electronic technology, and a thin film using a wavelength selective transmission or reflection function using light absorption or interference is generally used for optical use.
【０００３】このような新しい高機能薄膜を製造するた
めの素材として、各種の超微粒子、各種の有機系高分子
化合物等が注目されている。これらの材料を用いて薄膜
を製造する方法としては、無機化合物については、真空
蒸着法、イオンビーム法、スパッタリング法等がある。
一方、有機化合物については、（１）溶液、分散液又は
展開液を用いる湿式塗布法、（２）プレートコート法、
ロールコート法、スピンコート法、ディッピング法、ス
プレー法等の塗工法、（３）平版、凸版、凹版、スクリ
ーン、転写等の印刷法、（４）電着法、電解重合法、ミ
セル電解法等の電気化学的手法及びラングミア・ブロジ
ェット法、（５）モノマーの重合を利用した、プラズマ
重合法、光重合法等がある。[0003] As materials for producing such new high-performance thin films, various ultrafine particles, various organic polymer compounds, and the like have been attracting attention. As a method of manufacturing a thin film using these materials, for an inorganic compound, there are a vacuum evaporation method, an ion beam method, a sputtering method and the like.
On the other hand, for organic compounds, (1) a wet coating method using a solution, a dispersion liquid or a developing liquid, (2) a plate coating method,
Coating methods such as roll coating, spin coating, dipping, and spraying, (3) printing methods such as lithography, letterpress, intaglio, screen, and transfer, (4) electrodeposition, electropolymerization, and micellar electrolysis. And the Langmuir-Blodgett method, and (5) a plasma polymerization method and a photopolymerization method utilizing polymerization of a monomer.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】有機系高分子化合物の
薄膜の製造方法としては、スピンコート法がよく用いら
れている。この方法は、ポリマー溶液を平らな基板上に
置き、基板を高速で回転させることによって（典型的な
速度は５００〜２０００回転／分）、回転中に溶媒の素
早い蒸発を生起させることができるため、均一なポリマ
ー薄膜を形成する方法としては優れたものであるが、ポ
リマー溶液の無駄が多いという問題がある。As a method for producing a thin film of an organic polymer compound, a spin coating method is often used. This method can cause a rapid evaporation of the solvent during rotation by placing the polymer solution on a flat substrate and spinning the substrate at high speed (typical speeds of 500-2000 revolutions / minute). Although this method is excellent as a method for forming a uniform polymer thin film, there is a problem that a large amount of polymer solution is wasted.
【０００５】また、スピンコート法では、厚膜を形成す
るため何度も重ね塗りをすることが困難であるという問
題がある。これは、一層目を塗った後で二層目をスピン
コート法で一層目の上に塗布すると、二層目の溶媒が一
層目の塗膜を溶解するため、一層目の塗膜の均一性を損
なうことによる。[0005] In addition, the spin coating method has a problem that it is difficult to perform recoating many times because a thick film is formed. This is because if the second layer is applied over the first layer by spin coating after the first layer is applied, the solvent of the second layer dissolves the first layer, so the uniformity of the first layer By impairing.
【０００６】比較的低分子の有機化合物の薄膜の製造方
法としては、真空蒸着法もよく用いられている。この方
法では、真空室内の容器に有機化合物を入れ、高真空に
して容器を加熱することによって容器から真空室内に有
機化合物を気化させ、真空室内に設置した基板の表面に
薄膜を堆積させる。しかし、この方法は、高分子量の化
合物、特にポリマー等には適用が困難であるばかりでは
なく、加熱により有機化合物が分解することがあり、適
用範囲が限定されるという問題がある。As a method for producing a thin film of a relatively low molecular organic compound, a vacuum deposition method is often used. In this method, an organic compound is put into a container in a vacuum chamber, the organic compound is vaporized from the container into the vacuum chamber by heating the container under a high vacuum, and a thin film is deposited on the surface of a substrate installed in the vacuum chamber. However, this method is not only difficult to apply to a high molecular weight compound, particularly a polymer and the like, but also has a problem that an organic compound may be decomposed by heating, and the application range is limited.
【０００７】本発明は、上述の問題に鑑みなされたもの
であり、薄膜材料の熱分解をもたらすことなく、より低
温度において、しかもより高機能な薄膜を、高品質、高
効率かつ安価に製造することが可能であるとともに、低
濃度の溶液や難容性化合物の分散液からでも効率よく薄
膜を製造することが可能な薄膜製造装置及び薄膜の製造
方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and provides a thin film having a higher function and a lower temperature at a lower temperature without causing thermal decomposition of the thin film material. It is an object of the present invention to provide a thin film manufacturing apparatus and a thin film manufacturing method capable of efficiently manufacturing a thin film even from a low-concentration solution or a dispersion of a poorly-tolerable compound.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上述の課題
を解決するべく鋭意研究した結果、薄膜材料の溶液又は
分散液等を、例えば、ノズルによって高真空室内に周期
的に噴霧し、高真空室内に設置した基板上に堆積させて
薄膜を形成させることにより、上記目的を達成すること
ができることを知見し、本発明を完成させた。すなわ
ち、本発明は、以下の薄膜製造装置及び薄膜の製造方法
を提供するものである。The present inventor has conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, periodically sprayed a solution or dispersion of a thin film material into a high vacuum chamber by, for example, a nozzle. The inventors have found that the above object can be achieved by depositing a thin film on a substrate placed in a high vacuum chamber, thereby completing the present invention. That is, the present invention provides the following thin film manufacturing apparatus and thin film manufacturing method.
【０００９】［１］高真空室と、その内部に設置した基
板と、前記高真空室に隣接して設置した周期的噴霧が可
能なノズルとを備えてなり、薄膜材料の溶液又は分散液
を、前記ノズルによって周期的に前記高真空室内に噴霧
し、前記基板上に堆積させて薄膜を形成させ得ることを
特徴とする薄膜製造装置。[1] A high vacuum chamber, a substrate installed therein, and a nozzle capable of periodic spraying installed adjacent to the high vacuum chamber are provided. A thin film forming apparatus capable of forming a thin film by periodically spraying the high vacuum chamber by the nozzle and depositing the thin film on the substrate.
【００１０】［２］薄膜材料の溶液又は分散液を調製
し、得られた溶液又は分散液を、周期的噴霧が可能なノ
ズルによって高真空室内に周期的に噴霧し、前記真空室
内に設置した基板上に堆積させて薄膜を形成させること
を特徴とする薄膜の製造方法。[2] A solution or dispersion of a thin film material is prepared, and the obtained solution or dispersion is periodically sprayed into a high vacuum chamber by a nozzle capable of periodically spraying and placed in the vacuum chamber. A method for manufacturing a thin film, comprising forming a thin film by depositing the thin film on a substrate.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明の薄膜製造装置の実
施の形態を、図面を参照しつつ具体的に説明する。図１
は、本発明の薄膜製造装置の一の実施の形態を模式的に
示す説明図である。図２は、本発明の薄膜製造装置の一
の実施の形態におけるノズルの動作原理を模式的に示す
説明図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG.
FIG. 1 is an explanatory view schematically showing one embodiment of a thin film manufacturing apparatus of the present invention. FIG. 2 is an explanatory view schematically showing the operation principle of the nozzle in one embodiment of the thin film manufacturing apparatus of the present invention.
【００１２】図１に示すように、本発明の薄膜製造装置
は、高真空室１と、その内部に設置した基板２と、前記
高真空室１に隣接して設置した周期的噴霧が可能なノズ
ル３とを備えてなり、薄膜材料の溶液又は分散液４を、
前記ノズル３によって周期的に前記高真空室１内に噴霧
して、前記基板２上に堆積させて薄膜５を形成させ得る
ことを特徴とする。As shown in FIG. 1, the thin film manufacturing apparatus according to the present invention is capable of performing a high vacuum chamber 1, a substrate 2 installed therein, and a periodic spray installed adjacent to the high vacuum chamber 1. And a solution or dispersion liquid 4 of a thin film material.
It is characterized in that the thin film 5 can be formed by periodically spraying the high vacuum chamber 1 with the nozzle 3 and depositing the thin film 5 on the substrate 2.
【００１３】本発明に用いられる薄膜材料の溶液又は分
散液４としては特に制限はなく、揮発性を有する溶媒に
溶解して溶液とするか、又は分散媒に分散させて分散液
とすることができるものであれば、有機化合物、無機化
合物を問わず、任意の種類のものを用いることができ
る。The solution or dispersion 4 of the thin film material used in the present invention is not particularly limited, and may be dissolved in a volatile solvent to form a solution or dispersed in a dispersion medium to form a dispersion. As long as it can be used, any type of organic compound or inorganic compound can be used.
【００１４】本発明においては、周期的な噴霧が可能な
ノズル（例えば、後述するノズル）を２本以上設置する
ことも可能であり、このようにすることによって２種以
上のポリマーを組み合わせた薄膜やポリマーと低分子化
合物とを組み合わせた薄膜等を製造することもできる。In the present invention, it is also possible to install two or more nozzles (for example, nozzles to be described later) capable of periodic spraying, and by doing so, a thin film combining two or more polymers. Also, a thin film or the like in which a polymer and a low molecular compound are combined can be produced.
【００１５】すなわち、本発明においては、薄膜材料の
溶液又は分散液として、２成分以上の無機化合物又は有
機化合物の溶液又は分散液を、各成分毎に設けた複数の
周期的噴霧が可能なノズルから高真空室内に周期的に噴
霧することにより、基板上に高機能薄膜を効率的に形成
することができる。この場合、各成分毎に最適な溶媒又
は分散媒を選択して用いることが好ましく、また、薄膜
材料の溶液又は分散液の濃度を各成分毎に最適に設定す
ることが好ましい。That is, in the present invention, as a solution or dispersion of a thin film material, a plurality of periodic spraying nozzles each provided with a solution or dispersion of two or more components of an inorganic compound or an organic compound are provided for each component. , A high-performance thin film can be efficiently formed on a substrate by periodically spraying into a high vacuum chamber. In this case, it is preferable to select and use the optimum solvent or dispersion medium for each component, and it is preferable to set the concentration of the solution or dispersion of the thin film material optimally for each component.
【００１６】本発明に用いられるノズル３としては、薄
膜材料の溶液又は分散液４を周期的に噴霧することが可
能なものであれば特に制限はないが、例えば、その後部
に連通して配設した薄膜材料の溶液又は分散液４を貯留
する容器６と、その先端に配設したポペット８及びオリ
フィス９とを有し、ポペット８の周期的移動により、先
端が短い周期で開閉することを可能にしたノズルを好適
例として挙げることができる。この場合、薄膜材料の溶
液又は分散液４は、まず供給手段１２に入れ、次いで、
ノズルの容器６に貯留して、周期的に噴霧することが好
ましい。The nozzle 3 used in the present invention is not particularly limited as long as it can periodically spray the solution or dispersion 4 of the thin film material. It has a container 6 for storing a solution or dispersion 4 of the thin film material provided therein, and a poppet 8 and an orifice 9 disposed at the tip thereof. The periodic movement of the poppet 8 allows the tip to open and close in a short cycle. A nozzle that has been enabled can be mentioned as a preferred example. In this case, the solution or dispersion 4 of the thin film material is first put into the supply means 12 and then
It is preferable that the liquid is stored in the nozzle container 6 and sprayed periodically.
【００１７】このノズル３の動作原理を図２に基づいて
具体的に説明する。図２（ａ）に示すように、ポペット
８は初めノズルの右端にあり、オリフィス９を閉じてい
る。これに電気パルスが送られると、図２（ｂ）に示す
ように、ポペット８が左に動き、薄膜材料（溶液又は分
散液）４は高真空室に向かってオリフィス９から射出さ
れる。次いで、図２（ｃ）に示すように、ポペット８は
左端まで動き、そこで停止する。電気パルスが終了する
と、図２（ｄ）及び図２（ｅ）に示すように、ポペット
８は右端に戻り、オリフィス９が閉まり、薄膜材料４の
射出も停止する。ここで、高真空室１中の射出された溶
媒又は分散媒の気化したガスを排気したのち、初めの図
２（ａ）に戻って薄膜材料４の射出を繰り返す。The principle of operation of the nozzle 3 will be specifically described with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, the poppet 8 is initially at the right end of the nozzle and closes the orifice 9. When an electric pulse is sent to this, as shown in FIG. 2B, the poppet 8 moves to the left, and the thin film material (solution or dispersion) 4 is ejected from the orifice 9 toward the high vacuum chamber. Next, as shown in FIG. 2C, the poppet 8 moves to the left end and stops there. When the electric pulse ends, as shown in FIGS. 2D and 2E, the poppet 8 returns to the right end, the orifice 9 closes, and the injection of the thin film material 4 also stops. Here, after evacuation of the gas of the solvent or dispersion medium injected into the high vacuum chamber 1, the injection of the thin film material 4 is repeated by returning to FIG.
【００１８】このようなノズルとして、例えば、射出し
た気体又は液体の薄膜材料に、これと同期した可変波長
レーザーパルスを照射することによって高分解能スペク
トルを測定するために従来から用いられているノズルを
用いることができる。As such a nozzle, for example, a nozzle conventionally used for measuring a high-resolution spectrum by irradiating an emitted gas or liquid thin film material with a variable wavelength laser pulse synchronized with the thin film material is used. Can be used.
【００１９】本発明の薄膜製造装置は、高真空室１内で
揮発した溶媒等の蒸気を迅速に排気し、高真空室１内の
圧力を高真空（例えば、１×１０-4Ｐａ以下）に保つ真
空排気手段として、例えば、圧力測定手段（真空ゲー
ジ）１０や真空ポンプ１１を備えていることが好まし
い。In the thin film manufacturing apparatus of the present invention, the vapor of the solvent or the like volatilized in the high vacuum chamber 1 is quickly exhausted, and the pressure in the high vacuum chamber 1 is increased to a high vacuum (for example, 1 × 10 −4 Pa or less). It is preferable to provide, for example, a pressure measuring means (vacuum gauge) 10 and a vacuum pump 11 as vacuum evacuation means for maintaining the pressure.
【００２０】また、高真空室１内に設置した基板２は、
加熱手段や温度測定手段（図示せず）を備えていること
が好ましい。The substrate 2 installed in the high vacuum chamber 1
It is preferable to include a heating unit and a temperature measuring unit (not shown).
【００２１】さらに、高真空室１と真空排気手段［圧力
測定手段（真空ゲージ）１０及び真空ポンプ１１］との
間には排気捕捉手段（図示せず）を設けることが好まし
い。この排気捕捉手段としては、高真空室１内で揮発し
た溶媒等の蒸気を確実に捕捉し、排気の妨げにならず、
かつ短時間の間に簡単に再生可能なものであれば特に制
限はなく、任意の手段を用いることができる。例えば、
液体窒素による冷却、冷凍機からの冷媒循環又は活性炭
の使用等を挙げることができ、いずれの場合も捕捉溶媒
等を昇温脱離により除去する再生装置を設けることが好
ましい。排気捕捉手段として複数の系統を設置してお
き、切替え弁により交互に切替えて使用することによ
り、連続して薄膜を製造することができる。Further, it is preferable to provide an exhaust catching means (not shown) between the high vacuum chamber 1 and the vacuum exhaust means [pressure measuring means (vacuum gauge) 10 and vacuum pump 11]. The exhaust trapping means surely traps vapor such as a solvent volatilized in the high vacuum chamber 1 and does not hinder the exhaust.
There is no particular limitation as long as it can be easily reproduced in a short time, and any means can be used. For example,
Examples of the method include cooling with liquid nitrogen, circulating a refrigerant from a refrigerator, and using activated carbon. In any case, it is preferable to provide a regenerating device that removes the trapped solvent and the like by temperature desorption. By installing a plurality of systems as exhaust capturing means and using them alternately with a switching valve, thin films can be manufactured continuously.
【００２２】また、ノズル３からの、薄膜材料（溶液又
は分散体）４の噴射の回数をコントロールすることによ
り、基板２上に形成する薄膜５の厚さを容易にコントロ
ールすることができる。例えば、溶媒に難容性のため、
濃度の薄い溶液しか調製することができない化合物の場
合であっても、繰返し噴射することにより、厚い薄膜を
容易に形成させることができる。The thickness of the thin film 5 formed on the substrate 2 can be easily controlled by controlling the number of times of spraying the thin film material (solution or dispersion) 4 from the nozzle 3. For example, because of the intolerability of the solvent,
Even in the case of a compound that can be prepared only with a solution having a low concentration, a thick thin film can be easily formed by repeatedly jetting.
【００２３】この場合には、噴射された溶液の溶媒は短
時間に気化するため、既に基板上に形成された薄膜を溶
解することなく何度でも繰り返し塗膜の厚塗りが可能と
なり、スピンコート法の欠点をカバーすることができ
る。In this case, since the solvent of the jetted solution evaporates in a short time, it is possible to repeatedly apply the coating film many times without dissolving the thin film already formed on the substrate. The disadvantages of the law can be covered.
【００２４】また、パルスの繰返し周期は、溶液の濃度
と形成しようとする膜の厚さで、適宜調節することが可
能であり、比較的短い時間で容易に薄膜を形成すること
ができる。The repetition period of the pulse can be appropriately adjusted by the concentration of the solution and the thickness of the film to be formed, and a thin film can be easily formed in a relatively short time.
【００２５】以下、本発明の薄膜の製造方法の一の実施
の形態について図１に示す装置を参照しつつ具体的に説
明する。本発明の薄膜の製造方法は、薄膜材料の溶液又
は分散液４を調製し、得られた溶液又は分散液４を、周
期的噴霧が可能なノズル３によって高真空室１内に周期
的に噴霧し、高真空室１内に設置した基板２上に堆積さ
せて薄膜５を形成させることを特徴とする。例えば、図
１に示す装置を用いることによって高機能な薄膜を高品
質、高効率かつ安価に製造することができる。この場
合、薄膜材料（例えば、低分子化合物又は高分子化合物
等の溶液又は分散液）４を、まず、供給手段１２に入
れ、この供給手段１２から薄膜材料４を、容器６を経由
して、高真空室１にフランジ７を介して連結した周期的
噴霧が可能なノズル３に供給することが好ましい。ノズ
ル３としては、前述のように、容器６とポペット８とオ
リフィス９とを有するノズルが好ましい。ノズル３のポ
ペット８をノズル内で周期的に移動させることにより真
空室１内に薄膜材料４をオリフィス９から周期的に噴射
し、基板２上に堆積させて薄膜５を形成することが好ま
しい。このようにすることによって、高真空室１内に噴
射した薄膜材料４中の溶媒や分散媒を直ちに気化させる
ことができるため、基板２上に円滑かつ迅速に薄膜材料
４を堆積させて薄膜５を形成することができる。その他
の手段等については、装置において説明した場合と同様
である。Hereinafter, one embodiment of the method for producing a thin film of the present invention will be specifically described with reference to the apparatus shown in FIG. In the method for producing a thin film of the present invention, a solution or dispersion 4 of a thin film material is prepared, and the obtained solution or dispersion 4 is periodically sprayed into the high vacuum chamber 1 by a nozzle 3 capable of periodically spraying. Then, the thin film 5 is formed by depositing on the substrate 2 installed in the high vacuum chamber 1. For example, by using the apparatus shown in FIG. 1, a high-performance thin film can be manufactured with high quality, high efficiency, and low cost. In this case, the thin film material (for example, a solution or dispersion of a low molecular compound or a high molecular compound) 4 is first put into the supply means 12, and the thin film material 4 is supplied from the supply means 12 via the container 6. It is preferable to supply the nozzle 3 connected to the high vacuum chamber 1 via a flange 7 and capable of periodic spraying. As described above, the nozzle 3 is preferably a nozzle having the container 6, the poppet 8, and the orifice 9. It is preferable that the thin film 5 is formed by periodically moving the poppet 8 of the nozzle 3 in the nozzle to jet the thin film material 4 from the orifice 9 into the vacuum chamber 1 and depositing the thin film material 4 on the substrate 2. By doing so, the solvent and the dispersion medium in the thin film material 4 injected into the high vacuum chamber 1 can be immediately vaporized, so that the thin film material 4 can be deposited on the substrate 2 smoothly and quickly, and the thin film 5 Can be formed. Other means and the like are the same as those described in the apparatus.
【００２６】[0026]
【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら制
限を受けるものではない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited by these Examples.
【００２７】実施例１ 図１に示す装置を用いて薄膜を製造した。ノズル３とし
て、Ｐａｒｋｅｒ Ｈａｎｎｉｆｉｎ ＣＯ社製 商品
名：ＩＯＴＡ １ Ｐｏｗｅｒ ＳＵＰＰＬＹのＳｅｒ
ｉｅｓ９ ＮＯＺＺＬＥを用いた。薄膜材料４として、
ポリ（３―ｎ―ドデシルチオフェン）のトルエン飽和溶
液を用い、高真空室の圧力を１×１０-4Ｐａにして、室
温にて、１０回のパルス噴射を行い、ノズル３の先端部
のオリフィス９から１２ｃｍの距離に設置したガラス製
の基板２上に薄膜５を形成した。得られた薄膜５の厚さ
は、１００ｎｍであった。Example 1 A thin film was manufactured using the apparatus shown in FIG. Nozzle 3 manufactured by Parker Hannifin CO, Ltd. Product name: IOTA 1 Power SUPLY Ser
ies9 NOZZLE was used. As the thin film material 4,
Using a saturated solution of poly (3-n-dodecylthiophene) in toluene, the pressure in the high vacuum chamber was set to 1 × 10 −4 Pa, and 10 pulse injections were performed at room temperature, and the orifice at the tip of the nozzle 3 A thin film 5 was formed on a glass substrate 2 placed at a distance of 9 to 12 cm. The thickness of the obtained thin film 5 was 100 nm.
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によって、
薄膜材料の熱分解をもたらすことなく、より低温度で、
しかもより高機能な薄膜を、高品質、高効率かつ安価に
製造することが可能であるとともに、低濃度の溶液や難
容性化合物の分散液からでも効率よく薄膜を製造するこ
とが可能な薄膜製造装置及び薄膜の製造方法を提供する
ことができる。As described above, according to the present invention,
At lower temperatures without causing thermal decomposition of the thin film material,
In addition, thin films that can produce more sophisticated thin films with high quality, high efficiency, and low cost, and that can efficiently produce thin films from low-concentration solutions and dispersions of intolerable compounds A manufacturing apparatus and a method for manufacturing a thin film can be provided.
【００２９】[0029]
【図１】本発明の薄膜製造装置の一の実施の形態を模式
的に示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view schematically showing one embodiment of a thin film manufacturing apparatus of the present invention.
【図２】本発明の薄膜製造装置の一の実施の形態におけ
るノズルの動作原理を模式的に示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory view schematically showing an operation principle of a nozzle in one embodiment of the thin film manufacturing apparatus of the present invention.
１：高真空室 ２：基板 ３：周期的噴霧が可能なノズル（ノズル） ４：薄膜材料（溶液又は分散液） ５：薄膜 ６：容器 ７：フランジ ８：ポペット ９：オリフィス １０：圧力測定手段（真空ゲージ） １１：真空ポンプ １２：供給手段 1: High vacuum chamber 2: Substrate 3: Nozzle capable of periodic spraying (nozzle) 4: Thin film material (solution or dispersion) 5: Thin film 6: Container 7: Flange 8: Poppet 9: Orifice 10: Pressure measuring means (Vacuum gauge) 11: Vacuum pump 12: Supply means
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D075 AA04 AA76 BB56X BB56Y DA06 DB13 DC21 EA07 4F035 AA04 BA01 4K044 AA12 BA11 BA21 BB02 BC14 CA53 CA71 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4D075 AA04 AA76 BB56X BB56Y DA06 DB13 DC21 EA07 4F035 AA04 BA01 4K044 AA12 BA11 BA21 BB02 BC14 CA53 CA71
Claims (2)
前記高真空室に隣接して設置した周期的噴霧が可能なノ
ズルとを備えてなり、 薄膜材料の溶液又は分散液を、前記ノズルによって周期
的に前記高真空室内に噴霧し、前記基板上に堆積させて
薄膜を形成させ得ることを特徴とする薄膜製造装置。1. A high vacuum chamber, and a substrate installed in the high vacuum chamber.
A nozzle capable of periodic spraying installed adjacent to the high vacuum chamber, wherein a solution or dispersion of a thin film material is periodically sprayed into the high vacuum chamber by the nozzle, and A thin film manufacturing apparatus characterized in that a thin film can be formed by depositing.
によって高真空室内に周期的に噴霧し、前記真空室内に
設置した基板上に堆積させて薄膜を形成させることを特
徴とする薄膜の製造方法。2. A solution or dispersion of a thin film material is prepared, and the obtained solution or dispersion is periodically sprayed into a high vacuum chamber by a nozzle capable of periodically spraying, and a substrate placed in the vacuum chamber is provided. A method for producing a thin film, comprising forming a thin film by depositing the thin film on the thin film.
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