JP2001249315A - Optical device for correction of aberration - Google Patents

Optical device for correction of aberration

Info

Publication number
JP2001249315A
JP2001249315A JP2000061451A JP2000061451A JP2001249315A JP 2001249315 A JP2001249315 A JP 2001249315A JP 2000061451 A JP2000061451 A JP 2000061451A JP 2000061451 A JP2000061451 A JP 2000061451A JP 2001249315 A JP2001249315 A JP 2001249315A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal element
aberration
optical
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000061451A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3885921B2 (en
Inventor
Masayuki Iwasaki
正之 岩崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pioneer Electronic Corp filed Critical Pioneer Electronic Corp
Priority to JP2000061451A priority Critical patent/JP3885921B2/en
Priority to US09/739,452 priority patent/US6909686B2/en
Publication of JP2001249315A publication Critical patent/JP2001249315A/en
Priority to US11/120,956 priority patent/US20050207290A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3885921B2 publication Critical patent/JP3885921B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Head (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-performance optical device for correction of aberrations which can correct aberration with high accuracy and to provide a pickup device. SOLUTION: The device has a liquid crystal device, which generates phase change for the transmitting light by applying a voltage, electrode layers facing other to apply a voltage on the liquid crystal device, and an insulating layer disposed between the liquid crystal device and the electrode layer. At least one electrode layer, of the electrode layers facing each other, consists of a plurality of divided electrodes electrically separated from one another by a gap in one plane. A part of the insulating layer, held between at least one electrode layer and the liquid crystal device, has sufficient layer thickness to produce a higher electric field strength than the specified strength in the part of the liquid crystal device facing the gap, when a prescribed voltage is applied on the liquid crystal element.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクなどの
情報記録媒体に対して情報記録又は情報再生を行う際に
収差補正を行う収差補正光学素子、及びこの収差補正光
学素子を備えたピックアップ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aberration correction optical element for correcting aberration when information is recorded or reproduced on an information recording medium such as an optical disk, and a pickup device provided with the aberration correction optical element. .

【0002】[0002]

【従来の技術】光学的に情報記録又は情報再生が行われ
る情報記録媒体として、CD(Compact disk)、DVD
(Digital Video Disk 又は Digital Versatile Disk)
等の光ディスクが知られており、再生専用の光ディス
ク、情報を追記録することが可能な追記型光ディスク、
情報の消去及び再記録が可能な書き換え型光ディスク
等、種類の異なる光ディスクが開発されている。
2. Description of the Related Art CDs (Compact disks) and DVDs are used as information recording media for optically recording or reproducing information.
(Digital Video Disk or Digital Versatile Disk)
Optical disks such as a read-only optical disk, a write-once optical disk capable of additionally recording information,
Different types of optical disks, such as rewritable optical disks capable of erasing and re-recording information, have been developed.

【0003】また、光ディスクの高密度化と、その高密
度化に対応するピックアップ装置と情報記録再生装置の
研究開発が進められると共に、種類の異なる光ディスク
を利用することが可能ないわゆる互換性を有したピック
アップ装置と情報記録再生装置の研究開発も進められて
いる。この光ディスクの高密度化に対応するため、ピッ
クアップ装置に備えられている対物レンズの開口数(nu
merical aperture :NA)を大きくすることにより、照
射径の小さな光ビームを光ディスクに照射することが考
えられている。また、短波長の光ビームを用いること
で、高密度化に対応することが考えられている。
[0003] Further, research and development of higher density optical discs and pickup devices and information recording / reproducing apparatuses corresponding to the higher densities have been promoted, and there is a so-called compatibility in which different types of optical discs can be used. Research and development of the pickup device and the information recording / reproducing device are also progressing. In order to cope with the high density of the optical disc, the numerical aperture (nu) of the objective lens provided in the pickup device is set.
It is considered that the optical disk is irradiated with a light beam having a small irradiation diameter by increasing the merical aperture (NA). In addition, it has been considered that the use of a short-wavelength light beam corresponds to high density.

【0004】ところが、対物レンズの開口数NAを大き
くしたり、短波長の光ビームを用いると、光ディスクに
よる光ビームへの収差の影響が大きくなり、情報記録及
び情報再生の精度を向上させることが困難になるという
問題が生じる。例えば、対物レンズの開口数NAを大き
くすると、光ディスクに対する光ビームの入射角度範囲
が広くなるため、入射角度に依存した量である複屈折量
の光ディスク瞳面での分布幅も大きくなる。このため、
この複屈折に起因する球面収差の影響が大きくなるとい
う問題を生じる。また、対物レンズの開口数NAを大き
くして短波長の光ビームを用いると、情報記録又は情報
再生の際に光ディスクが傾いて、光ディスクの法線方向
に対する光ビームの入射角度(チルト角)が傾いた場合
に、コマ収差の影響が無視できなくなる。更に、2波長
レーザ等の複数の光源を設けたピックアップ装置では、
これらの光ビームの光路の僅かな違いから非点収差が生
じる。
However, if the numerical aperture NA of the objective lens is increased or a short-wavelength light beam is used, the influence of aberration on the light beam by the optical disk increases, and the accuracy of information recording and information reproduction can be improved. The problem that it becomes difficult arises. For example, when the numerical aperture NA of the objective lens is increased, the range of the incident angle of the light beam to the optical disk is widened, so that the distribution width of the amount of birefringence on the pupil plane of the optical disk, which is an amount dependent on the incident angle, is also increased. For this reason,
There is a problem that the influence of the spherical aberration caused by the birefringence increases. Also, if the numerical aperture NA of the objective lens is increased and a short-wavelength light beam is used, the optical disk tilts during information recording or information reproduction, and the incident angle (tilt angle) of the light beam with respect to the normal direction of the optical disk is reduced. When tilted, the influence of coma cannot be ignored. Further, in a pickup device provided with a plurality of light sources such as a two-wavelength laser,
Slight differences in the optical paths of these light beams cause astigmatism.

【0005】上記したように、光ディスクは、CDとD
VDのように種類によって構造と記録密度が異なるた
め、球面収差、コマ収差又は非点収差などの収差の影響
が光ディスクの種類に応じて異なることになり、互換性
を有するピックアップ装置と情報記録再生装置の開発が
困難になる。こうした収差の影響を低減するため、従
来、収差補正用の液晶ユニットを備えたピックアップ装
置が提案されている。(特開平10−20263号公
報)。
[0005] As described above, an optical disk is composed of a CD and a D.
Since the structure and the recording density are different depending on the type such as VD, the effects of aberrations such as spherical aberration, coma and astigmatism are different depending on the type of the optical disk. Equipment development becomes difficult. In order to reduce the influence of such aberrations, conventionally, a pickup device having a liquid crystal unit for aberration correction has been proposed. (JP-A-10-20263).

【0006】この液晶ユニットは、図1に模式的に示す
ように、互いに対向する透明電極A、B間に液晶素子C
を挟んだ構造を有し、透明電極A、B間の印加電圧を調
節することで液晶素子Cの配向状態を変化させ、一方の
透明電極A(又はB)側に入射する光が液晶素子C中を
通る際に、その光に対して配向状態に応じた複屈折変化
を与えて他方の透明電極B(又はA)側に射出するよう
になっている。
As shown schematically in FIG. 1, this liquid crystal unit has a liquid crystal element C between transparent electrodes A and B facing each other.
The orientation of the liquid crystal element C is changed by adjusting the applied voltage between the transparent electrodes A and B, and light incident on one transparent electrode A (or B) side is When passing through the inside, the light undergoes a change in birefringence according to the orientation state, and is emitted to the other transparent electrode B (or A) side.

【0007】更に、透明電極A、Bの少なくとも一方
は、例えば、複数の透明電極a1、a2、a3とb1、
b2、b3に分割して形成され、また透明電極a1、a
2、a3同士が電気的に分離されると共に、透明電極b
1、b2、b3も互いに電気的に分離されている。この
ため、互いに正対関係にある透明電極間、例えば透明電
極a1、b1間と、透明電極a2、b2間と、透明電極
a3、b3間に、それぞれ異なった電圧を印加すると、
液晶素子Cに複数の異なった配向状態に調節することが
でき、入射する光に対してそれぞれの配向状態に応じた
複屈折変化を同時に与えるようになっている。
Further, at least one of the transparent electrodes A and B is, for example, a plurality of transparent electrodes a1, a2, a3 and b1,
b2, b3, and the transparent electrodes a1, a
2 and a3 are electrically separated from each other and the transparent electrode b
1, b2 and b3 are also electrically isolated from each other. For this reason, when different voltages are respectively applied between the transparent electrodes facing each other, for example, between the transparent electrodes a1 and b1, between the transparent electrodes a2 and b2, and between the transparent electrodes a3 and b3,
The liquid crystal element C can be adjusted to a plurality of different alignment states, and simultaneously changes the birefringence according to the respective alignment states for incident light.

【0008】そして、この液晶ユニットは、レーザ光を
射出する光源と対物レンズ間の光路中に配置されてい
る。光源からレーザ光が射出されると、液晶ユニットが
そのレーザ光に上記の複数の配向状態に応じた複屈折変
化を与えて対物レンズ側へ透過し、透過したレーザ光を
対物レンズが収束することで光ビームを生成して光ディ
スクに照射するようになっている。また、光ディスクへ
の上記光ビームの照射によって生じる反射光が対物レン
ズを介して液晶ユニットに入射すると、その反射光に上
記の複数の配向状態に応じた複屈折変化を与えて透過
し、その透過した反射光を光検出器によって検出させる
ようになっている。そして、液晶ユニットの上記複数の
配向状態を適宜に調節することで、球面収差やコマ収差
などの収差の影響を低減するようにしている。
[0008] The liquid crystal unit is arranged in an optical path between a light source for emitting laser light and an objective lens. When the laser light is emitted from the light source, the liquid crystal unit gives the laser light a birefringence change corresponding to the plurality of alignment states described above and transmits the laser light to the objective lens side, and the objective lens converges the transmitted laser light. To generate a light beam to irradiate the optical disk. When the reflected light generated by the light beam irradiation on the optical disk enters the liquid crystal unit via the objective lens, the reflected light is transmitted by giving a birefringence change corresponding to the plurality of alignment states. The reflected light is detected by a photodetector. By properly adjusting the plurality of alignment states of the liquid crystal unit, the influence of aberrations such as spherical aberration and coma is reduced.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の液晶ユニットは、上記複数の透明電極a1、a
2、a3とb1、b2、b3をそれぞれ電気的に分離す
るために、図1に示すように、それぞれの透明電極の間
には電気的絶縁のための間隙SPが設けられている。つ
まり、透明電極a1、a2、a3のそれぞれの境界部分
に沿って間隙SPが設けられると共に、透明電極b1,
b2、b3のそれぞれの境界部分に沿って間隙SPが設
けられている。
However, the above-mentioned conventional liquid crystal unit has a problem that the plurality of transparent electrodes a1, a
In order to electrically separate 2, a3 and b1, b2, b3 from each other, a gap SP for electrical insulation is provided between the respective transparent electrodes as shown in FIG. That is, the gap SP is provided along the boundary between the transparent electrodes a1, a2, and a3, and the transparent electrodes b1,
A gap SP is provided along each boundary between b2 and b3.

【0010】このため、これらの間隙SPには電圧が印
加されず、したがって、液晶素子C中のこれらの間隙S
Pに対応する部分には電界が印加されないので、液晶素
子C中の配向に急峻な不連続が生じていた。すなわち、
透明電極a1、a2、a3とb1、b2、b3を通る光
ビーム或いは反射光に対しては収差補正を行うことがで
きるのに対し、間隙SP分を通る光ビーム或いは反射光
に対しては収差補正を行うことができず、このため、光
ビーム或いは反射光に対して全体的に精度の良い収差補
正を施すことができないという問題があった。
Therefore, no voltage is applied to these gaps SP, and therefore, these gaps S in the liquid crystal element C are not applied.
Since no electric field was applied to the portion corresponding to P, sharp discontinuity occurred in the alignment in the liquid crystal element C. That is,
Aberration correction can be performed on a light beam or reflected light passing through the transparent electrodes a1, a2, a3 and b1, b2, b3, whereas aberration can be corrected on a light beam or reflected light passing through the gap SP. Correction cannot be performed, and therefore, there has been a problem that it is not possible to perform highly accurate aberration correction on the light beam or the reflected light as a whole.

【0011】本発明は、こうした従来技術の課題を克服
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、光路中において生じる収差の影響を精度よく補正す
ることが可能で高性能な収差補正光学素子、及びピック
アップ装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to overcome such problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a high-performance aberration correction device capable of accurately correcting the effects of aberrations occurring in an optical path. A correction optical element and a pickup device are provided.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明による収差補正光
学装置は、光源から射出された光ビームを記録媒体に照
射し、記録媒体によって反射された反射光ビームを導く
光学系の光路中に配置され、光路中において生じた収差
を補正する収差補正光学装置であって、電圧の印加によ
り通過する光に対して位相変化を生じせしめる液晶素子
と、液晶素子に電圧を印加するための互いに対向する電
極層と、液晶素子及び電極層の間に配された絶縁層と、
を有し、上記互いに対向する電極層のうち少なくとも1
の電極層は、同一平面内において間隙部によって互いに
電気的に分離された複数の分割電極からなり、絶縁層の
うち少なくとも1の電極層及び液晶素子に挟まれた部分
は、液晶素子への所定電圧印加時に、液晶素子の間隙部
に対向する部分において所定強度より大なる電界を生じ
せしめる層厚を有することを特徴としている。
An aberration correcting optical device according to the present invention is arranged in an optical path of an optical system for irradiating a recording medium with a light beam emitted from a light source and guiding a reflected light beam reflected by the recording medium. An optical system for correcting an aberration generated in an optical path, wherein the liquid crystal element causes a phase change with respect to light passing therethrough by applying a voltage, and the liquid crystal element faces each other for applying a voltage to the liquid crystal element. An electrode layer, an insulating layer disposed between the liquid crystal element and the electrode layer,
And at least one of the electrode layers facing each other
Is composed of a plurality of divided electrodes that are electrically separated from each other by gaps in the same plane, and a portion of the insulating layer sandwiched between at least one electrode layer and the liquid crystal element is a predetermined part of the liquid crystal element. It is characterized in that it has a layer thickness that generates an electric field larger than a predetermined intensity in a portion facing the gap of the liquid crystal element when a voltage is applied.

【0013】また、本発明による光学ピックアップ装置
は、上記の収差補正光学装置を含む光学ピックアップ装
置であって、光ビームを射出する光源と、光源から射出
された光ビームを記録媒体に照射し、記録媒体によって
反射された反射光ビームを導く光学系と、反射光ビーム
を検出する光検出器と、を有することを特徴としてい
る。
An optical pickup device according to the present invention is an optical pickup device including the above-described aberration correcting optical device, wherein the light source emits a light beam and the recording medium is irradiated with the light beam emitted from the light source. It is characterized by having an optical system for guiding a light beam reflected by the recording medium and a photodetector for detecting the reflected light beam.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の実施例を図面を参照しつ
つ詳細に説明する。図2は、情報記録再生装置に設けら
れたピックアップ装置の構成を模式的に示す図である。
図2において、本ピックアップ装置PUは、レーザ光H
1を射出する光源1と、偏光ビームスプリッタ3、収差
補正光学素子4、対物レンズ5、集光レンズ6、光検出
器7を備えて構成され、これらの構成要素1〜7は光軸
OAに沿って配置されている。また、収差補正光学素子
4を制御するための制御回路8が、本ピックアップ装置
PU又は情報記録再生装置内に設けられている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 2 is a diagram schematically illustrating a configuration of a pickup device provided in the information recording / reproducing device.
In FIG. 2, the present pickup device PU includes a laser beam H
1, a polarizing beam splitter 3, an aberration correcting optical element 4, an objective lens 5, a condensing lens 6, and a photodetector 7. These components 1 to 7 are arranged on the optical axis OA. Are arranged along. Further, a control circuit 8 for controlling the aberration correcting optical element 4 is provided in the present pickup device PU or the information recording / reproducing device.

【0015】収差補正光学素子4は、電界によって電気
光学効果(electro-optical effect)を生じる電気光学
素子を有している。より具体的には、制御回路8によっ
て印加される制御電圧Viの大きさに応じて複屈折変化
をもたらす液晶光学素子を有している。すなわち、この
光学素子4は、図3に模式的に示すように、2枚の透明
なガラス基板等の絶縁基板10、11で挟まれた間に液
晶(liquid crystal)素子14が封入された構成を有
し、互いに対向するガラス基板10、11の対向面に
は、電極部12、13、絶縁層23、24、及び液晶配
向膜21、22が形成されている。
The aberration correcting optical element 4 has an electro-optical element that generates an electro-optical effect by an electric field. More specifically, it has a liquid crystal optical element that changes the birefringence according to the magnitude of the control voltage Vi applied by the control circuit 8. That is, as shown schematically in FIG. 3, the optical element 4 has a structure in which a liquid crystal (liquid crystal) element 14 is sealed between insulating substrates 10 and 11 such as two transparent glass substrates. The electrode portions 12 and 13, insulating layers 23 and 24, and liquid crystal alignment films 21 and 22 are formed on opposing surfaces of the glass substrates 10 and 11 that oppose each other.

【0016】電極部12、13の間に制御電圧Viが印
加されると、その制御電圧Viによって生じる電界Ei
に応じて液晶素子14内の液晶分子の配向が変化する。
その結果、液晶素子14中を通る光は、液晶素子14の
複屈折を受けて位相が変化する。すなわち、その偏光状
態(位相)は、液晶素子14に印加される制御電圧Vi
によって制御することができる。
When a control voltage Vi is applied between the electrode portions 12 and 13, an electric field Ei generated by the control voltage Vi is generated.
Accordingly, the alignment of the liquid crystal molecules in the liquid crystal element 14 changes.
As a result, the phase of light passing through the liquid crystal element 14 changes due to birefringence of the liquid crystal element 14. That is, the polarization state (phase) is controlled by the control voltage Vi applied to the liquid crystal element 14.
Can be controlled by

【0017】また、この収差補正光学素子4は、双方向
の光透過性を有しており、絶縁基板10、11のどちら
側を対物レンズ5側に向けて配置してもよいようになっ
ている。また、収差補正光学素子4を光軸OA側から見
ると、図4の平面図に示すように、光ディスク9で生じ
る収差の分布に対応付けて決められた複数の収差補正領
域AR1、AR2〜ARiに区画されており、これらの
収差補正領域AR1,AR2〜ARiは、電極部12、
13に形成されている透明電極(ITO:インジウム錫
酸化物)層によって実現されている。尚、図4は、光デ
ィスク9によって生じる球面収差を補正するための収差
補正領域AR1、AR2〜ARiの典型例を示してお
り、実際には、光ディスク9の収差の分布に対応付け
て、様々な形状に区画されている。例えば、情報記録又
は情報再生の際に光ディスク9が傾くことによって生じ
るコマ収差を補正する場合には、図5に示すような形状
の収差補正領域BR1〜BRiが設けられる。また、こ
れら収差補正領域の区画数も光ディスク9の収差の分布
に対応付けて決められている。
Further, the aberration correcting optical element 4 has bidirectional optical transparency, so that either side of the insulating substrates 10 and 11 may be arranged to face the objective lens 5 side. I have. When the aberration correction optical element 4 is viewed from the optical axis OA side, as shown in the plan view of FIG. 4, a plurality of aberration correction areas AR1, AR2 to ARi determined in association with the distribution of aberrations generated in the optical disk 9. These aberration correction areas AR1, AR2 to ARi are divided into electrode sections 12,
13 is realized by a transparent electrode (ITO: indium tin oxide) layer. FIG. 4 shows a typical example of the aberration correction areas AR1, AR2 to ARi for correcting the spherical aberration caused by the optical disk 9. Actually, various types of aberration correction areas AR1, AR2 to ARi are provided in association with the aberration distribution of the optical disk 9. It is divided into shapes. For example, when correcting coma caused by tilting the optical disk 9 during information recording or information reproduction, aberration correction regions BR1 to BRi having the shape as shown in FIG. 5 are provided. Further, the number of sections of these aberration correction areas is also determined in association with the distribution of aberration of the optical disc 9.

【0018】以下に、図4に示すような同心円状の収差
補正領域AR1〜ARiを設けた収差補正光学素子4の
場合を例に説明する。図6は、図4の線X−Xに沿った
断面構造を示す断面図である。図に示されるように、電
極部12は、互いに電気的に分離して形成された透明電
極層A1〜Aiと、各透明電極層A1〜Ai間に複数存
在する間隙W1〜Wiからなる構造を有している。
An example of the aberration correcting optical element 4 provided with concentric aberration correcting areas AR1 to ARi as shown in FIG. 4 will be described below. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure along line XX in FIG. As shown in the drawing, the electrode portion 12 has a structure including transparent electrode layers A1 to Ai formed electrically separated from each other and a plurality of gaps W1 to Wi existing between the transparent electrode layers A1 to Ai. Have.

【0019】尚、透明電極層A1は、収差補正領域AR
1に合わせた形状(図4の場合では、円形状)に形成さ
れ、透明電極層A2は、収差補正領域AR2に合わせた
形状(図4の場合では、円環状)に形成され、残りの透
明電極層A3〜Aiも同様に、収差補正領域AR3〜A
Riに合わせた形状に形成されている。また、透明電極
層A1〜Aiを分離している間隙W1〜Wiは、円環状
に形成されている。
The transparent electrode layer A1 has an aberration correction area AR
The transparent electrode layer A2 is formed in a shape (circular in the case of FIG. 4) corresponding to the aberration correction region AR2, and the remaining transparent electrode layer A2 is formed in a shape (circular in the case of FIG. 4). Similarly, the electrode layers A3 to Ai also include aberration correction areas AR3 to AR3.
It is formed in a shape conforming to Ri. The gaps W1 to Wi separating the transparent electrode layers A1 to Ai are formed in an annular shape.

【0020】一方、電極部13も同様に、互いに電気的
に分離して形成された透明電極層C1〜Ciと、各透明
電極層C1〜Ci間に複数存在する間隙W1〜Wiから
なる構造を有している。尚、一方の電極部12が分離さ
れた電極層として形成されていれば、電極部13は分離
されている必要はない。例えば、全面電極としてもよ
く、あるいは補正すべき収差の特徴に応じて必要な形状
に形成、又は必要な数に分離して形成してもよい。
On the other hand, the electrode portion 13 also has a structure including transparent electrode layers C1 to Ci formed electrically separated from each other and a plurality of gaps W1 to Wi between the transparent electrode layers C1 to Ci. Have. Note that if one electrode portion 12 is formed as a separated electrode layer, the electrode portion 13 does not need to be separated. For example, the electrodes may be formed over the entire surface, or may be formed in a required shape according to the characteristic of the aberration to be corrected, or may be formed separately in a required number.

【0021】また、特開平10−289465号公報に
は、球面収差及びコマ収差を一つの液晶ユニットで補正
することが記載されている。すなわち、本発明において
は、上部電極を球面収差を補正するための電極形状と
し、下部電極をコマ収差を補正するための電極形状とす
ることによって球面収差及びコマ収差を一つの液晶ユニ
ットで補正することが可能である。尚、この際、上部電
極及び液晶素子間の絶縁層と、下部電極電極及び液晶素
子間の絶縁層とは、各々の収差を補正可能な厚さを有し
ていればよい。
Japanese Patent Laid-Open No. 10-289465 describes that spherical aberration and coma are corrected by one liquid crystal unit. That is, in the present invention, spherical aberration and coma are corrected by one liquid crystal unit by forming the upper electrode in an electrode shape for correcting spherical aberration and the lower electrode in an electrode shape for correcting coma. It is possible. At this time, the insulating layer between the upper electrode and the liquid crystal element and the insulating layer between the lower electrode electrode and the liquid crystal element only need to have a thickness capable of correcting each aberration.

【0022】図7を参照しつつ、各透明電極に電圧を印
加した場合の収差補正について説明する。尚、説明の便
宜上、図7は液晶素子の中心から半径方向の素子断面に
ついて示している。この図において模式的に示すよう
に、制御回路8からの制御電圧Viによって、互いに正
対関係にある収差補正領域AR1〜ARkの各透明電極
間(A1、C1)〜(Ak、Ck)のそれぞれに異なっ
た所定の電圧V1〜Vkが印加されると、液晶素子14
中にそれらの印加電圧V1〜Vkによる電界(E1〜E
k)に応じた複数の配向状態が発生する。尚、印加電圧
V1〜Vkはそれぞれの収差補正領域AR1〜ARkに
おける液晶素子14の配向状態が光ディスク9によって
生じる収差の特性とは逆の特性となるように、すなわち
補正するように決められる。
With reference to FIG. 7, a description will be given of aberration correction when a voltage is applied to each transparent electrode. For convenience of explanation, FIG. 7 shows an element cross section in the radial direction from the center of the liquid crystal element. As schematically shown in this figure, each of the transparent electrodes (A1, C1) to (Ak, Ck) of the aberration correction regions AR1 to ARk, which are directly opposite each other, is controlled by the control voltage Vi from the control circuit 8. When different predetermined voltages V1 to Vk are applied to the
The electric fields (E1 to E1) caused by the applied voltages V1 to Vk
A plurality of alignment states according to k) occur. The applied voltages V1 to Vk are determined so that the alignment state of the liquid crystal element 14 in each of the aberration correction areas AR1 to ARk has a characteristic opposite to the characteristic of the aberration generated by the optical disc 9, that is, is corrected.

【0023】しかしながら、各透明電極間の間隙W1〜
Wkに対向する液晶素子部に生じる電界(EW1〜EW
k)は絶縁層23、24の層厚に応じて変化する。図8
は、各電極(ここでは、A1〜A6)に電圧を印加した
場合において、絶縁層及び液晶素子部の界面における電
界強度を絶縁層の層厚(THi)をパラメータとして示
したものである。この図において、液晶素子の層厚は5
マイクロメータ(μm)、間隙W1〜Wkの幅は5μm
と仮定し、3つの絶縁層厚THi=1,6,15μmに
対して示している。また、各電極には、A1=10
(V),A2=12(V),・・・,A6=20(V)と2V
のステップで電圧を印加した場合を示している。
However, the gaps W1 to W1 between the transparent electrodes
Electric fields (EW1 to EW) generated in the liquid crystal element portion facing Wk
k) changes according to the thickness of the insulating layers 23 and 24. FIG.
Shows the electric field strength at the interface between the insulating layer and the liquid crystal element portion when the voltage is applied to each electrode (here, A1 to A6), using the layer thickness (THi) of the insulating layer as a parameter. In this figure, the layer thickness of the liquid crystal element is 5
Micrometer (μm), width of gaps W1 to Wk is 5 μm
It is assumed that three insulating layer thicknesses THi = 1, 6, 15 μm. Also, each electrode has A1 = 10
(V), A2 = 12 (V),..., A6 = 20 (V) and 2V
The case where the voltage is applied in the step of FIG.

【0024】図8に示されるように、絶縁層厚THiが
小さい場合(THi=1μm)では、間隙部に対向する
液晶素子部において電界が急峻に低下している。従っ
て、この部分では液晶の配向を十分に変化させることが
できない。すなわち、通過する光に位相差を生じさせる
ことができず、収差を補正することが困難である。一
方、絶縁層厚THi=6μmの場合では電界の低下は小
さく、またTHi=15μmの場合ではほぼ平坦に近い
電界強度プロファイルとなり、間隙部においても液晶素
子による十分な収差補正が可能である。
As shown in FIG. 8, when the thickness THi of the insulating layer is small (THi = 1 μm), the electric field drops sharply in the liquid crystal element portion facing the gap. Therefore, in this portion, the orientation of the liquid crystal cannot be changed sufficiently. That is, a phase difference cannot be generated in the passing light, and it is difficult to correct the aberration. On the other hand, when the thickness of the insulating layer is THi = 6 μm, the decrease in the electric field is small, and when the thickness is THi = 15 μm, the electric field intensity profile becomes almost flat, and the aberration can be sufficiently corrected by the liquid crystal element even in the gap.

【0025】図9は、光ディスク9によって生じた波面
収差(球面収差)の1例を示す図である。液晶素子14
の光入射面内の位相差量(nm)を液晶素子14の中心
における値を基準として半径方向に対してプロットして
いる。すなわち、液晶素子14に入射する光ビームは液
晶素子14の半径方向に対して図9に示すプロファイル
の位相差を有しており、この位相差を打ち消すように液
晶素子14に所定の電圧を印加して入射光に面内位相変
化を生じせしめることによって収差を補正することがで
きる。
FIG. 9 is a view showing an example of the wavefront aberration (spherical aberration) caused by the optical disk 9. In FIG. Liquid crystal element 14
Are plotted in the radial direction with reference to the value at the center of the liquid crystal element 14 in the light incident plane (nm). That is, the light beam incident on the liquid crystal element 14 has a phase difference of the profile shown in FIG. 9 in the radial direction of the liquid crystal element 14, and a predetermined voltage is applied to the liquid crystal element 14 so as to cancel this phase difference. By causing an in-plane phase change in the incident light, the aberration can be corrected.

【0026】図10は、液晶素子14及び間隙部を有す
る電極層12に挟まれた絶縁層23が液晶素子14の厚
さに比べて小さい場合(例えば、液晶素子14の厚さ5
μmに対して、絶縁層23の厚さが約1μm以下)にお
いて、各電極(A1〜Ak,C1〜Ck)への当該所定
の電圧印加によって液晶素子14を通過する光に生じる
位相差(nm)を示している。尚、位相差は間隙部にお
ける値を基準としてプロットしている。各電極に対応す
る液晶素子14の収差補正領域(AR1〜ARk)では
電圧印加によって所望の位相差が得られる。一方、間隙
W1〜Wkに対応する液晶素子14の領域では電界強度
が小さいために位相変化が殆ど生じない。従って、位相
差の急峻な不連続が生じ、これによって収差の補正が著
しく阻害される。
FIG. 10 shows a case where the insulating layer 23 sandwiched between the liquid crystal element 14 and the electrode layer 12 having a gap is smaller than the thickness of the liquid crystal element 14 (for example, the thickness 5 of the liquid crystal element 14).
When the thickness of the insulating layer 23 is about 1 μm or less with respect to μm, the phase difference (nm) generated in the light passing through the liquid crystal element 14 by applying the predetermined voltage to each of the electrodes (A1 to Ak, C1 to Ck). ). The phase difference is plotted on the basis of the value in the gap. In the aberration correction area (AR1 to ARk) of the liquid crystal element 14 corresponding to each electrode, a desired phase difference can be obtained by applying a voltage. On the other hand, in the region of the liquid crystal element 14 corresponding to the gaps W1 to Wk, the electric field intensity is small, so that there is almost no phase change. Therefore, a steep discontinuity in the phase difference occurs, which significantly hinders the correction of aberration.

【0027】図11は、液晶素子14の絶縁層23が液
晶素子14の厚さと同等以上の場合に、所定の電圧印加
によって液晶素子14を通過する光に生じる位相差を示
している。図に示すように、間隙W1〜Wkに対応する
液晶素子14の領域における位相差は隣接する2つの電
極によって生じる位相差の間の値となっており、収差の
補正が良好になされる。尚、図9に示す位相差曲線に合
致する位相差量とするのが最適である。
FIG. 11 shows a phase difference generated in light passing through the liquid crystal element 14 by applying a predetermined voltage when the insulating layer 23 of the liquid crystal element 14 is equal to or more than the thickness of the liquid crystal element 14. As shown in the figure, the phase difference in the region of the liquid crystal element 14 corresponding to the gaps W1 to Wk is a value between the phase differences generated by two adjacent electrodes, and the aberration can be corrected well. Note that it is optimal to set the phase difference amount to match the phase difference curve shown in FIG.

【0028】図12は、絶縁層23が液晶素子14の厚
さよりも小さい場合(例えば、液晶素子14の厚さ5μ
mに対して、絶縁層23の厚さが約3μm)において、
所定の電圧印加によって液晶素子14を通過する光に生
じる位相差を示している。図に示すように、間隙部領域
における位相差は、図10に示した従来の場合よりも大
きくなっている。すなわち、間隙部領域においても位相
差が得られるように改善され、従来技術において問題で
あった収差の補正が可能になっている。尚、間隙部領域
において必要とされる位相差の値は、用いられる光学系
やディスクの種類、制御回路等種々の条件やパラメータ
によって異なる。従って、これらの条件に応じて所望の
位相差が得られように絶縁層の厚さを定めればよい。す
なわち、間隙部領域に対応する液晶素子の部分に印加さ
れる電界が所定の強度以上になるように定めればよい。
FIG. 12 shows a case where the insulating layer 23 is smaller than the thickness of the liquid crystal element 14 (for example, the thickness of the liquid crystal element 14 is 5 μm).
m, the thickness of the insulating layer 23 is about 3 μm)
It shows a phase difference generated in light passing through the liquid crystal element 14 by applying a predetermined voltage. As shown in the figure, the phase difference in the gap region is larger than in the conventional case shown in FIG. That is, the phase difference is improved even in the gap region, and the aberration which has been a problem in the related art can be corrected. It should be noted that the value of the phase difference required in the gap region differs depending on various conditions and parameters such as the type of optical system used, the type of disc, and the control circuit. Therefore, the thickness of the insulating layer may be determined so that a desired phase difference is obtained according to these conditions. That is, the electric field applied to the portion of the liquid crystal element corresponding to the gap region may be determined so as to be equal to or higher than a predetermined intensity.

【0029】尚、絶縁層のうち、液晶素子14及び間隙
部を有する電極層に挟まれた少なくとも1の絶縁層が十
分厚く、例えば、液晶素子よりも厚く形成されていれば
よく、液晶素子を挟む絶縁層の両者が厚く形成されてい
る必要はない。以上説明したように、間隙部領域におい
ても十分な位相変化が得られ、光路中において生じる収
差の影響を精度よく補正することが可能となる。
It is sufficient that at least one of the insulating layers sandwiched between the liquid crystal element 14 and the electrode layer having a gap is sufficiently thick, for example, thicker than the liquid crystal element. It is not necessary that both of the sandwiched insulating layers are formed thick. As described above, a sufficient phase change can be obtained even in the gap region, and it is possible to accurately correct the influence of aberration occurring in the optical path.

【0030】上記した実施例においては、光ディスクに
よって生じる反射光の収差補正の観点から説明したが、
本発明による収差補正光学素子は、光源から光検出器に
至る光路中であればいずれの位置に設けてもよい。ま
た、本発明による収差補正光学素子は、球面収差及びコ
マ収差に限らず、非点収差などの種々の収差の補正に適
用することができる。さらに、本発明は、複数の光源、
又は複数の光路を有するピックアップ装置に適用するこ
とができる。例えば、CD及びDVDの各々の記録再生
のための異なる波長を有する2波長レーザ等の光源を備
えたピックアップ装置に適用することができる。
In the above embodiment, description has been made from the viewpoint of correcting aberration of reflected light generated by the optical disk.
The aberration correcting optical element according to the present invention may be provided at any position in the optical path from the light source to the light detector. Further, the aberration correcting optical element according to the present invention can be applied to correction of various aberrations such as astigmatism as well as spherical aberration and coma. Further, the present invention provides a plurality of light sources,
Alternatively, the present invention can be applied to a pickup device having a plurality of optical paths. For example, the present invention can be applied to a pickup device provided with a light source such as a two-wavelength laser having different wavelengths for recording and reproducing each of CD and DVD.

【0031】[0031]

【発明の効果】上記したことから明らかなように、本発
明によれば、光路中において生じる収差を精度よく補正
することが可能で高性能な収差補正光学素子、及びピッ
クアップ装置を実現できる。
As is apparent from the above, according to the present invention, it is possible to realize a high-performance aberration correcting optical element and a pickup device capable of accurately correcting aberrations occurring in an optical path.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】収差補正用液晶ユニットの構造を模式的に示す
図である。
FIG. 1 is a view schematically showing a structure of an aberration correction liquid crystal unit.

【図2】情報記録再生装置に設けられたピックアップ装
置の構成を模式的に示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram schematically illustrating a configuration of a pickup device provided in the information recording / reproducing device.

【図3】収差補正用液晶ユニットの構造及び液晶分子の
配向変化を模式的に示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view schematically showing a structure of an aberration correction liquid crystal unit and a change in alignment of liquid crystal molecules.

【図4】球面収差を補正するための収差補正光学素子の
平面図である。
FIG. 4 is a plan view of an aberration correction optical element for correcting spherical aberration.

【図5】コマ収差を補正するための収差補正光学素子の
平面図である。
FIG. 5 is a plan view of an aberration correction optical element for correcting coma aberration.

【図6】図4に示す収差補正光学素子の線X−Xに沿っ
た構造を示す断面図である。
6 is a cross-sectional view showing a structure of the aberration correction optical element shown in FIG. 4 along a line XX.

【図7】各透明電極に電圧を印加した場合において、収
差補正領域及び間隙領域における液晶素子の電界を説明
するための断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating an electric field of a liquid crystal element in an aberration correction region and a gap region when a voltage is applied to each transparent electrode.

【図8】各電極に電圧を印加した場合において、絶縁層
及び液晶素子部の界面における電界強度を絶縁層厚(T
Hi)をパラメータとして示す図である。
FIG. 8 shows that when a voltage is applied to each electrode, the electric field strength at the interface between the insulating layer and the liquid crystal element portion is determined by the thickness of the insulating layer (T
It is a figure which shows Hi) as a parameter.

【図9】光ディスクによって光ビームに生じた波面収差
(球面収差)の1例を示す図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of wavefront aberration (spherical aberration) generated in a light beam by an optical disc.

【図10】絶縁層の厚さが液晶素子の厚さに比べて小さ
い場合において、液晶素子への所定電圧印加時に液晶素
子を通過する光ビームに生じる位相差(nm)を示す図
である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a phase difference (nm) generated in a light beam passing through a liquid crystal element when a predetermined voltage is applied to the liquid crystal element when the thickness of the insulating layer is smaller than the thickness of the liquid crystal element.

【図11】絶縁層の厚さが液晶素子の厚さと同等以上の
場合において、液晶素子への所定電圧印加時に液晶素子
を通過する光ビームに生じる位相差(nm)を示す図で
ある。
FIG. 11 is a diagram illustrating a phase difference (nm) generated in a light beam passing through a liquid crystal element when a predetermined voltage is applied to the liquid crystal element when the thickness of the insulating layer is equal to or greater than the thickness of the liquid crystal element.

【図12】絶縁層の厚さが液晶素子の厚さより小さい他
の場合において、液晶素子を通過する光ビームに生じる
位相差(nm)を示す図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating a phase difference (nm) generated in a light beam passing through a liquid crystal element when the thickness of the insulating layer is smaller than the thickness of the liquid crystal element.

【主要部分の符号の説明】[Explanation of Signs of Main Parts]

1 光源 3 偏光ビームスプリッタ 4 収差補正光学素子 5 対物レンズ 6 集光レンズ 7 光検出器 8 制御回路 10,11 絶縁基板 12,13 電極部 14 液晶素子 21,22 液晶配向膜 23,24 絶縁層 PU ピックアップ装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Light source 3 Polarization beam splitter 4 Aberration correction optical element 5 Objective lens 6 Condensing lens 7 Photodetector 8 Control circuit 10,11 Insulating substrate 12,13 Electrode part 14 Liquid crystal element 21,22 Liquid crystal aligning film 23,24 Insulating layer PU Pickup device

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光源から射出された光ビームを記録媒体
に照射し、前記記録媒体によって反射された反射光ビー
ムを導く光学系の光路中に配置され、前記光路中におい
て生じた収差を補正する収差補正光学装置であって、 電圧の印加により通過する光に対して位相変化を生じせ
しめる液晶素子と、 前記液晶素子に電圧を印加するための互いに対向する電
極層と、 前記液晶素子及び前記電極層の間に配された絶縁層と、
を有し、 前記互いに対向する電極層のうち少なくとも1の電極層
は、同一平面内において間隙部によって互いに電気的に
分離された複数の分割電極からなり、前記絶縁層のうち
前記少なくとも1の電極層及び前記液晶素子に挟まれた
部分は、前記液晶素子への所定電圧印加時に、前記液晶
素子の前記間隙部に対向する部分において所定強度より
大なる電界を生じせしめる層厚を有することを特徴とす
る収差補正光学装置。
1. An optical system for irradiating a recording medium with a light beam emitted from a light source and arranged in an optical path of an optical system for guiding a reflected light beam reflected by the recording medium, and correcting an aberration generated in the optical path. An aberration correction optical device, comprising: a liquid crystal element that causes a phase change with respect to light passing therethrough by applying a voltage; electrode layers facing each other for applying a voltage to the liquid crystal element; the liquid crystal element and the electrode An insulating layer disposed between the layers;
At least one electrode layer among the opposing electrode layers is composed of a plurality of divided electrodes that are electrically separated from each other by a gap in the same plane, and the at least one electrode of the insulating layer is A portion sandwiched between the layer and the liquid crystal element has a layer thickness that, when a predetermined voltage is applied to the liquid crystal element, generates an electric field larger than a predetermined intensity in a portion of the liquid crystal element facing the gap. Aberration correcting optical device.
【請求項2】 前記絶縁層は、前記間隙部を通過する光
に対して、隣接する2つの分割電極によって生じる位相
変化量の間の大きさの位相変化を生じせしめる層厚を有
することを特徴とする請求項1記載の収差補正光学装
置。
2. The method according to claim 1, wherein the insulating layer has a layer thickness for causing a phase change of a magnitude between phase changes generated by two adjacent divided electrodes with respect to light passing through the gap. 2. The aberration correcting optical device according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記絶縁層は前記液晶素子の厚さより大
なる層厚を有することを特徴とする請求項1記載の収差
補正光学装置。
3. The aberration correction optical device according to claim 1, wherein the insulating layer has a layer thickness larger than a thickness of the liquid crystal element.
【請求項4】 請求項1記載の収差補正光学装置を含む
光学ピックアップ装置であって、 光ビームを射出する光源と、前記光源から射出された光
ビームを記録媒体に照射し、前記記録媒体によって反射
された反射光ビームを導く光学系と、前記反射光ビーム
を検出する光検出器と、を有することを特徴とする光学
ピックアップ装置。
4. An optical pickup device including the aberration correction optical device according to claim 1, wherein a light source for emitting a light beam, and a light beam emitted from the light source are applied to a recording medium, and the recording medium is An optical pickup device comprising: an optical system that guides a reflected light beam; and a photodetector that detects the reflected light beam.
JP2000061451A 1999-12-20 2000-03-07 Aberration correction optical device Expired - Fee Related JP3885921B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000061451A JP3885921B2 (en) 2000-03-07 2000-03-07 Aberration correction optical device
US09/739,452 US6909686B2 (en) 1999-12-20 2000-12-19 Aberration correcting optical unit, optical pickup apparatus and information recording/reproducing apparatus with single and multi-layer electrodes
US11/120,956 US20050207290A1 (en) 1999-12-20 2005-05-04 Aberration correcting optical unit, optical pickup apparatus, and information recording/reproducing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000061451A JP3885921B2 (en) 2000-03-07 2000-03-07 Aberration correction optical device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001249315A true JP2001249315A (en) 2001-09-14
JP3885921B2 JP3885921B2 (en) 2007-02-28

Family

ID=18581586

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000061451A Expired - Fee Related JP3885921B2 (en) 1999-12-20 2000-03-07 Aberration correction optical device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3885921B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004152446A (en) * 2002-10-31 2004-05-27 Samsung Electro Mech Co Ltd Optical pickup device and liquid crystal element
JP2007041215A (en) * 2005-08-02 2007-02-15 Konica Minolta Holdings Inc Optical element
CN100394284C (en) * 2004-11-11 2008-06-11 三星Sdi株式会社 Liquid crystal display (LCD) device and method of manufacture thereof
US8018814B2 (en) 2004-04-28 2011-09-13 Pioneer Corporation Aberration correction device, aberration correction method and optical pickup
US9118853B2 (en) 2010-04-16 2015-08-25 Canon Kabushiki Kaisha Image pickup apparatus

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09128785A (en) * 1995-08-31 1997-05-16 Pioneer Electron Corp Optical pickup
JPH09245370A (en) * 1996-03-12 1997-09-19 Pioneer Electron Corp Optical pickup
JPH09304750A (en) * 1996-03-12 1997-11-28 Asahi Glass Co Ltd Optical modulation element and optical head device
JPH10247330A (en) * 1997-03-05 1998-09-14 Pioneer Electron Corp Aberration correcting device, and information recording medium reproducing device
JPH11259892A (en) * 1998-03-12 1999-09-24 Pioneer Electron Corp Optical pickup
JP2000003526A (en) * 1998-06-12 2000-01-07 Pioneer Electron Corp Optical information recording/reproducing device and optical pickup
JP2000235727A (en) * 1998-12-15 2000-08-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical device, optical head using same and optical recording and reproducing device
JP2001004972A (en) * 1999-06-17 2001-01-12 Sony Corp Optical element, optical pickup and optical disk device
JP2001141992A (en) * 1999-11-15 2001-05-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical element, optical head and optical recording reproducing device
JP2001318231A (en) * 2000-02-29 2001-11-16 Asahi Glass Co Ltd Polarization phase compensating element and optical head device

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09128785A (en) * 1995-08-31 1997-05-16 Pioneer Electron Corp Optical pickup
JPH09245370A (en) * 1996-03-12 1997-09-19 Pioneer Electron Corp Optical pickup
JPH09304750A (en) * 1996-03-12 1997-11-28 Asahi Glass Co Ltd Optical modulation element and optical head device
JPH10247330A (en) * 1997-03-05 1998-09-14 Pioneer Electron Corp Aberration correcting device, and information recording medium reproducing device
JPH11259892A (en) * 1998-03-12 1999-09-24 Pioneer Electron Corp Optical pickup
JP2000003526A (en) * 1998-06-12 2000-01-07 Pioneer Electron Corp Optical information recording/reproducing device and optical pickup
JP2000235727A (en) * 1998-12-15 2000-08-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical device, optical head using same and optical recording and reproducing device
JP2001004972A (en) * 1999-06-17 2001-01-12 Sony Corp Optical element, optical pickup and optical disk device
JP2001141992A (en) * 1999-11-15 2001-05-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical element, optical head and optical recording reproducing device
JP2001318231A (en) * 2000-02-29 2001-11-16 Asahi Glass Co Ltd Polarization phase compensating element and optical head device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004152446A (en) * 2002-10-31 2004-05-27 Samsung Electro Mech Co Ltd Optical pickup device and liquid crystal element
US8018814B2 (en) 2004-04-28 2011-09-13 Pioneer Corporation Aberration correction device, aberration correction method and optical pickup
CN100394284C (en) * 2004-11-11 2008-06-11 三星Sdi株式会社 Liquid crystal display (LCD) device and method of manufacture thereof
JP2007041215A (en) * 2005-08-02 2007-02-15 Konica Minolta Holdings Inc Optical element
US9118853B2 (en) 2010-04-16 2015-08-25 Canon Kabushiki Kaisha Image pickup apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP3885921B2 (en) 2007-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20050207290A1 (en) Aberration correcting optical unit, optical pickup apparatus, and information recording/reproducing apparatus
KR100278786B1 (en) Optical Recording Medium and Optical Recording/Reproducing Method and Apparatus
JP3538520B2 (en) Liquid crystal panel for aberration correction, optical pickup and information reproducing device
KR100667790B1 (en) Liquid crystal device for compensating birefringence and optical pickup and optical recording and/or reproducing apparatus employing it
JP3781262B2 (en) Aberration correction apparatus and driving method thereof
US6859429B2 (en) Aberration correcting unit, optical pickup apparatus, and recording/reproducing apparatus
JP2002237076A (en) Aberration correcting device
JP4170712B2 (en) Spherical aberration corrector
JP3841993B2 (en) Aberration correcting optical element, pickup device, information reproducing device, and information recording device
US20020181367A1 (en) Optical reading apparatus having aberration-correcting function
JP2002237077A (en) Element and unit for aberration correction
JP3885921B2 (en) Aberration correction optical device
JP4082072B2 (en) Optical head device
JP4082085B2 (en) Optical head device
JP4207550B2 (en) Optical head device
JP2000132854A (en) Optical disk device
JP4399324B2 (en) Aberration correction device, optical pickup control device, control method, and control program
JP2002015454A (en) Liquid crystal unit for correction of aberration, optical pickup device and device fo correction of aberration
EP1318510A2 (en) Optical disk and recording/reproducing apparatus
JP4085527B2 (en) Optical head device
WO2007099948A1 (en) Aberration correction element, aberration correction device and optical pickup
JP2001331964A (en) Aberration correcting unit, optical pickup device and recording/reproducing device
JP2002148581A (en) Aberration correction element and aberration correction device
KR100574827B1 (en) Method for recording/reproducing of disc
JP3965843B2 (en) Optical head device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040827

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060811

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060821

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061115

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061115

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101201

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111201

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121201

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees