JP2001248146A - 地盤改良工法 - Google Patents

地盤改良工法

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JP2001248146A
JP2001248146A JP2000061454A JP2000061454A JP2001248146A JP 2001248146 A JP2001248146 A JP 2001248146A JP 2000061454 A JP2000061454 A JP 2000061454A JP 2000061454 A JP2000061454 A JP 2000061454A JP 2001248146 A JP2001248146 A JP 2001248146A
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JP
Japan
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ground
ground improvement
injection
pipe
guide pipe
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JP2000061454A
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Sunao Yoshida
直 吉田
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Obayashi Corp
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Obayashi Corp
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  • Consolidation Of Soil By Introduction Of Solidifying Substances Into Soil (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 施工期間の短縮と、工費の低減。 【解決手段】 既設構造物10を中央に配置し、その両
側に所定のの距離を隔てた地表地点に、発進地点Aと到
達地点Bとが想定される。発進地点Aから推進機16を
駆動させることにより、小口径ガイドパイプ14が地盤
12中に推進貫入される。パイプ14の設置が終了する
と、発進および到達地点A,Bには、地盤改良機18が
設置され、注入管20がガイドパイプ14と置換えるよ
うにして設置される。注入管20の置換が進行し、その
先端が地盤改良すべき深度まで到達すると、注入プラン
ト24から地盤改良材Cを注入管20に供給する。供給
された地盤改良材Cは、注入管20の先端側に設けられ
た注入孔22から地盤12中に噴射される。このとき、
注入管20ないしはガイドパイプ14は、その両端に設
置されている地盤改良機18の同期駆動により、回転お
よび揺動移動させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、地盤改良工法に
関し、特に、既設構造物の直下地盤を改良する工法に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】軟弱地盤の改良工法には、振動締固め,
脱水および高圧噴射など各種の工法が提案されている。
これらの工法は、構造物の構築前に、地盤を改良するも
のがその殆どを占めている。
【0003】ところで、既設構造物の下方地盤を改良す
る場合には、構造物との干渉を避けるために、構造物か
ら所定距離離間した位置に、立坑を構築し、立坑内に改
良機を据え付け、改良機から水平に軸を既設構造物の下
方地盤に貫入し、削孔,排泥,固化材の注入噴射,攪拌を
行い、既設構造物の下方に改良体を造成していた。
【0004】しかしながら、このような従来の地盤改良
工法には、以下に説明する技術的な課題があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】すなわち、立坑を構築
する既設構造物の下方地盤の改良工法では、立坑の構築
作業に時間ががり、工期が長くなって、工費も嵩むとい
う問題があった。特に、既設構造物の面積が大きくなる
と、必要な立坑の数も増加し、より一層、工期が長期化
し、工費も増加することになる。
【0006】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたものであって、その目的とするところは、工
期の短縮と、工費の低減が図れる地盤改良工法を提供す
ることにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、既設構造物を中央に配置し、前記既設構
造物から所定の距離だけ離間した地上位置に発進地点と
到達地点とを想定し、前記発進地点から前記既設構造物
の直下地盤を通過して前記到達地点に達するようにガイ
ドパイプを設置し、前記ガイドパイプの前記発進ないし
は到達地点側のいずれか一方側を、注入孔が設けられた
注入管と置換し、前記注入管を軸方向に沿って揺動移動
させつつ回転させながら地盤改良材を供給し、供給され
た地盤改良材を前記注入孔から地盤中に注入して、前記
地盤改良材を固化させることにより、前記既設構造物の
直下に地盤改良体を造成するようにした。このように構
成した地盤改良工法によれば、立坑を構築することなく
既設構造物の直下に地盤改良体を造成することができる
ので、工期の短縮と、工費の低減を図ることができる。
前記ガイドパイプは、推進工法により設置することがで
きる。また、前記注入管ないしはガイドパイプは、前記
改良材が固化する前に、水平方向に移動させることがで
きる。この構成によれば、既設構造物の直下に地盤改良
体を効率よく造成することができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について、添付図面に基づいて詳細に説明する。図1か
ら図7は、本発明にかかる地盤改良工法の第1実施例を
示している。同図に示した地盤改良工法では、既設構造
物10の直下地盤がその改良対象になっている。
【0009】既設構造物10の直下地盤を改良する際に
は、まず、図1に示すように、既設構造物10を中央に
配置し、その両側に所定の距離を隔てた地表地点に、発
進地点Aと到達地点Bとが想定される。
【0010】本実施例の場合には、発進地点Aおよび到
達地点Bは、既設構造物10を挟んだ対向する位置にあ
って、かつ、既設構造物10から同じ距離だけ離れた地
点に設定されている。なお、この発進および到達地点
A,Bは、既設構造物10の大きさや、地下の埋設長な
どに応じて適宜設定する。
【0011】発進および到達地点A,Bが想定される
と、発進地点Aに小口径ガイドパイプ14を地盤12中
に貫入推進させる推進機16が設置される。そして、推
進機16を駆動させることにより、小口径ガイドパイプ
14が地盤12中に推進貫入される。
【0012】小口径ガイドパイプ14を地盤12中に貫
入推進させる際には、地盤12を先端側で削孔しなが
ら、短尺なガイドパイプ14の継ぎ足しを繰り返して、
発進地点Aから既設構造物10の地盤12中の一方の端
縁の下方を迂回するように斜め下方に向かい、既設構造
物10の地盤12中の他方の端縁下を通過して、斜め上
方に向かって、到達地点Bに達するように行われる。
【0013】つまり、本実施例の場合には、既設構造物
10の中心軸oに対して、発進および到達地点A,Bが対
称点にあり、かつ、この地点A,Bを、中心軸oに対して
対称な放物線で結ぶようにガイドパイプ14が設置され
ている。
【0014】ガイドパイプ14の設置が終了すると、図
2に示すように、発進および到達地点A,Bには、地盤
改良機18が設置される。この地盤改良機18は、ガイ
ドパイプ14に置換する中空管状の注入管20ないしは
ガイドパイプ14に回転および軸方向への揺動移動を与
えるものである。
【0015】地盤改良機18が設置されると、図3に示
すように、発進地点A側から注入管20がガイドパイプ
14と置換えるようにして設置される。なお、この注入
管20への置換は、到達地点B側から行うこともでき
る。注入管20には、その先端側に注入孔22が開口形
成されている。
【0016】注入管20の置換が進行し、その先端が地
盤改良すべき深度まで到達すると、図4に示すように、
注入管20に地盤改良材Cの注入プラント24が接続設
置され、この注入プラント24から地盤改良材Cを注入
管20に供給する。
【0017】地盤改良材Cは、例えば、セメントミルク
や水ガラスないしはこれらの混合物であって、固化性の
ものが用いられる。注入管20に供給された地盤改良材
Cは、注入管20の先端側に設けられた注入孔22から
地盤12中に噴射される。
【0018】このとき、注入管20ないしはガイドパイ
プ14は、その両端に設置されている地盤改良機18の
同期駆動により、回転させられるとともに、軸方向に沿
って、所定のストロークだけ前後方向に揺動移動させな
がら、注入管20を到達地点B側に向けて、徐々に前進
移動させる。なお、注入管20の到達地点B側への前進
移動の終点は、図4に示した地盤改良材Cの供給位置と
対応させるようにすればよい。
【0019】このような回転および揺動が加えられた状
態で地盤12中に地盤改良材Cが供給されると、地盤改
良材Cは、注入管20の周囲の地盤12中に浸透し、そ
の結果、図5に示すように、注入管20の外周に円筒状
の地盤改良区域が形成され、時間の経過に伴なって地盤
改良材Cが固化すると、地盤改良区域に対応した形状の
地盤改良体Dが造成される。
【0020】この場合、注入管20ないしはガイドパイ
プ14の両端に設置された地盤改良機18で、同期させ
た状態で回転や揺動を制御するので、振れや捩れが少な
く、所定の位置,方向に改良体Dを造成することができ
る。
【0021】以上のようにして、所定直径の円筒状の地
盤改良区域が、既設構造物10の直下地盤を覆うように
造成されると、地盤改良材Cの固化する前に、注入管2
0およびガイドパイプ14が引抜かれる。
【0022】そして、図6に示すように、発進および到
達地点A,Bを側方に所定距離だけ移動させて、同様な
操作を行うことにより、地盤改良体Dに連なる地盤改良
体を造成し、これを複数回繰り返すことにより、図7に
示すように、既設構造物10の直下に、その全域を覆う
地盤改良体Dを造成することで、地盤改良が終了する。
【0023】さて、以上のように構成された地盤改良工
法によれば、立坑を構築することなく既設構造物10の
直下に地盤改良体Dを造成することができるので、工期
の短縮と、工費の低減を図ることができる。
【0024】図8は、本発明にかかる地盤改良工法の第
2実施例を示しており、上記実施例と同一もしくは相当
する部分には、同一符号を付してその説明を省略すると
ともに、以下にその特徴点についてのみ詳述する。
【0025】同図に示した実施例では、上記実施例と同
様に、ガイドパイプ14を推進工法により地盤12中に
貫入させた後に、発進地点A側からその一部を注入管2
0に置換し、注入孔22から地盤改良材Cを地盤12中
に噴射注入する。
【0026】このとき、ガイドパイプ14ないしは注入
管20には、地盤改良機18により回転と揺動移動とを
加えながら、徐々に到達地点B側に前進移動させられる
点は、上記実施例と同様であるが、本実施例の場合に
は、以下の点に顕著な特徴がある。
【0027】すなわち、本実施例の場合には、発進およ
び到達地点A,Bに相当する位置にそれぞれガイドレー
ル30が敷設されていて、地盤改良機18は、このガイ
ドレール30に沿って移動する架台32に搭載されてい
る。
【0028】このように構成した実施例では、最初に既
設構造物10の側方に所定直径の地盤改良体Dを造成し
た後には、ガイドパイプ14および注入管20を抜き出
すことなく、所定距離だけ側方に順次移動させて、地盤
改良体Dを連続的に造成することができる。
【0029】また、この場合、ガイドパイプ14および
注入管20を側方に水平移動させながら、回転および揺
動移動をも加えつつ地盤改良体Dを造成することもでき
る。このような構成を採用すると、既設構造物10の直
下地盤の改良をより効率的に行うことができる。
【0030】図9は、本発明にかかる地盤改良工法の第
3実施例を示しており、上記実施例と同一もしくは相当
する部分には、同一符号を付してその説明を省略すると
ともに、以下にその特徴点についてのみ詳述する。
【0031】同図に示した実施例では、上記実施例と同
様に、ガイドパイプ14を推進工法により地盤12中に
貫入させた後に、発進地点A側からその一部を注入管2
0に置換し、注入孔22から地盤改良材Cを地盤12中
に噴射注入する。
【0032】このとき、ガイドパイプ14ないしは注入
管20には、地盤改良機18により回転と揺動移動とを
加えながら、徐々に到達地点B側に前進移動させられる
点は、上記実施例と同様であるが、本実施例の場合に
は、以下の点に顕著な特徴がある。
【0033】すなわち、本実施例の場合には、地盤12
中に貫入設置されているガイドパイプ14ないしは注入
管20に、その両端に設置されている地盤改良機18か
ら、軸方向に押出す方向の力を印加する。
【0034】このように力を印加すると、ガイドパイプ
14ないしは注入管20は、図9に矢印で示すように、
地盤12の下方に移動するので、鉛直方向により大きな
径で連続する形態の地盤改良体Dを造成することができ
る。
【0035】なお、図8および図9に示した実施例は、
それぞれ独立した形態で実施することもできるが、両者
を併用することも可能であり、両者を併用した形態で実
施すると、鉛直および水平方向の3次元的に連続的に広
がる地盤改良体を効率よく造成することができる。
【0036】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
かかる地盤改良工法によれば、工期の短縮と、工費の低
減を図りつつ既設構造物の直下地盤の改良を行うことが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる地盤改良工法の初期工程の説明
図である。
【図2】図1に引き続いて行われる工程の説明図であ
る。
【図3】図2に引き続いて行われる工程の説明図であ
る。
【図4】図3に引き続いて行われる工程の説明図であ
る。
【図5】図4に引き続いて行われる工程の説明図であ
る。
【図6】図5に引き続いて行われる工程の説明図であ
る。
【図7】地盤改良工法の終了状態の説明図である。
【図8】本発明にかかる地盤改良工法の他の実施例の施
工状態の要部説明図である。
【図9】本発明にかかる地盤改良工法の他の実施例の施
工状態の要部説明図である。
【符号の説明】
10 既設構造物 12 地盤 14 ガイドパイプ 16 推進マシン 18 地盤改良機 20 注入管 22 注入孔 A 発進地点 B 到達地点 C 地盤改良材 D 地盤改良体

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 既設構造物を中央に配置し、前記既設構
    造物から所定の距離だけ離間した地上位置に発進地点と
    到達地点とを想定し、 前記発進地点から前記既設構造物の直下地盤を通過して
    前記到達地点に達するようにガイドパイプを設置し、 前記ガイドパイプの前記発進ないしは到達地点側のいず
    れか一方側を、注入孔が設けられた注入管と置換し、 前記注入管を軸方向に沿って揺動移動させつつ回転させ
    ながら地盤改良材を供給し、 供給された地盤改良材を前記注入孔から地盤中に注入し
    て、前記地盤改良材を固化させることにより、前記既設
    構造物の直下に地盤改良体を造成することを特徴とする
    地盤改良工法。
  2. 【請求項2】 前記ガイドパイプを推進工法により設置
    することを特徴とする請求項1記載の地盤改良工法。
  3. 【請求項3】 前記注入管ないしはガイドパイプは、前
    記改良材が固化する前に、水平方向に移動させることを
    特徴とする請求項1または2記載の地盤改良工法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008156995A (ja) * 2006-12-26 2008-07-10 Sekisui Chem Co Ltd 既設構造物直下の非開削土壌改良工法
JP2008214978A (ja) * 2007-03-05 2008-09-18 Sanwa Kizai Co Ltd 地盤改良薬液の注入方法

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