JP2001247609A - Method for producing addition polymerization catalyst and addition polymer - Google Patents

Method for producing addition polymerization catalyst and addition polymer

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JP2001247609A
JP2001247609A JP2000398546A JP2000398546A JP2001247609A JP 2001247609 A JP2001247609 A JP 2001247609A JP 2000398546 A JP2000398546 A JP 2000398546A JP 2000398546 A JP2000398546 A JP 2000398546A JP 2001247609 A JP2001247609 A JP 2001247609A
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oxide
iii
chloride
bromide
iodide
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JP2000398546A
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Wataru Hirahata
亘 平畠
Yoshinori Seki
吉伯 関
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for efficiently producing an addition polymerization catalyst high in polymerization activity and an addition polymer. SOLUTION: The addition polymerization catalyst is produced by bringing (A), (B), and (C) into contact with each other, and the addition polymer is produced by using the said polymerization catalyst. In this method, (A) is an organic aluminum compound; (B) is one or more boron compounds selected from the group consisting of (B1) a boron compound described by the general formula: BQ1Q2Q3, (B2) a boron compound described by the general formula: G+(BQ1Q2Q3Q4)-, and (B3) a boron compound described by the general formula: (L-H)+(BQ1Q2Q3Q4)-, (wherein B is a boron atom; Q1 to Q4 are halogen atoms, hydrocarbon groups, hydrocarbon group halides, heterocyclic ring groups, substituent silyl groups, alkoxy groups, or 2-substituted amino groups, which may be the same as or different from each other; G+ is an inorganic, organic, or organometallic cation; L is a neutral Lewis base, and (L-H)+ is a Broensted acid), and (C) is a solid inorganic compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は付加重合用触媒およ
び付加重合体の製造方法に関する。
The present invention relates to an addition polymerization catalyst and a method for producing an addition polymer.

【0002】[0002]

【従来の技術】メタロセン系および非メタロセン系の遷
移金属錯体を触媒成分とし、これに有機アルミニウム化
合物等の活性化剤(助触媒成分)を接触させることによ
り得られる触媒による付加重合性単量体の重合方法はよ
く知られている。しかし、これら触媒の触媒成分である
遷移金属錯体は合成が難しく高価であり、安価で容易に
合成可能な触媒の出現が望まれる。
2. Description of the Related Art An addition polymerizable monomer by a catalyst obtained by contacting a metallocene-based or non-metallocene-based transition metal complex as a catalyst component with an activator (promoter component) such as an organoaluminum compound. Polymerization methods are well known. However, transition metal complexes, which are the catalyst components of these catalysts, are difficult and expensive to synthesize, and it is desired to develop a catalyst that is inexpensive and can be easily synthesized.

【0003】一方、助触媒として用いられていたアルキ
ルアルミニウム自身をエチレンと接触させることにより
ポリエチレンが得られることは古くから知られてる。例
えば、Angew. Chem., 第64巻、323ページ(195
2年)、Makromol. Chem.,第193巻、1283ページ
(1992年)が知られている。最近では、アルキルア
ルミニウムと特定のホウ素化合物を組合わせた触媒によ
るエチレンおよびプロピレンの重合がACS Polymer Prep
rints, 第39巻、2号、510ページ(1998年)
に報告されている。
On the other hand, it has long been known that polyethylene can be obtained by bringing alkylaluminum itself used as a cocatalyst into contact with ethylene. For example, Angew. Chem., Vol. 64, p. 323 (195)
2), Makromol. Chem., 193, 1283 (1992). Recently, the polymerization of ethylene and propylene with a catalyst combining alkylaluminum and a specific boron compound has been promoted by ACS Polymer Prep.
rints, Vol. 39, No. 2, 510 pages (1998)
Has been reported to.

【0004】また、アミジネート配位子やピリジノジイ
ミン配位子を有するアルミニウム錯体と特定のホウ素化
合物を組合わせた触媒によるエチレン付加重合に関する
報告としては、例えば、J. Am. Chem. Soc., 第119
巻、8125ページ(1997年)、J. Am. Chem. So
c., 第120巻、8277ページ(1998年)、Che
m. Commun.,2523ページ(1998年)、国際特許
出願WO98/40421号公開明細書、米国特許第5
777120号明細書、米国特許第5973088号明
細書が知られている。
A report on ethylene addition polymerization using a catalyst obtained by combining an aluminum complex having an amidinate ligand or a pyridinodiimine ligand with a specific boron compound is disclosed in, for example, J. Am. Chem. Soc., No. 119.
Volume, 8125 (1997), J. Am. Chem. So
c., Volume 120, 8277 (1998), Che.
m. Commun., p. 2523 (1998), International Patent Application WO 98/40421, U.S. Pat.
No. 777120 and U.S. Pat. No. 5,973,088 are known.

【0005】有機アルミニウム化合物を担体に担持した
触媒による付加重合性単量体の重合も知られている。例
えば、酢酸金属に担持した例としては、特開昭52−2
890号公報、塩化金属に担持した例としてはPolymer
Preprints, Japan, 第46巻216ページ(1997
年)、Polymer Preprints, Japan, 第46巻1215ペ
ージ(1997年)が知られている。
[0005] It is also known to polymerize addition polymerizable monomers with a catalyst having an organic aluminum compound supported on a carrier. For example, as an example of supporting on metal acetate, see JP-A-52-2.
No. 890, as an example supported on metal chloride, Polymer
Preprints, Japan, Vol. 46, p. 216 (1997)
), Polymer Preprints, Japan, Vol. 46, p. 1215 (1997).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の付加重合用触媒においては、重合活性という観点から
必ずしも満足のいくものではなかった。上記の状況に鑑
み、本発明が解決しようとする課題、即ち本発明の目的
は、高い重合活性を示す付加重合用触媒、および付加重
合体を効率よく製造する方法を提供することにある。
However, these addition polymerization catalysts have not always been satisfactory from the viewpoint of polymerization activity. In view of the above situation, an object of the present invention, that is, an object of the present invention, is to provide a catalyst for addition polymerization having high polymerization activity and a method for efficiently producing an addition polymer.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、下記(A)、
(B)および(C)を接触させてなる付加重合用触媒、
および該付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方法
にかかるものである。 (A)有機アルミニウム化合物 (B)下記(B1)〜(B3)から選ばれる一種以上の
ホウ素化合物 (B1)一般式 BQ123 で表されるホウ素化合
物 (B2)一般式 G+ (BQ1234-で表さ
れるホウ素化合物 (B3)一般式 (L−H)+ (BQ1234
- で表されるホウ素化合物 (但し、Bはホウ素原子であり、Q1 〜Q4 はハロゲン
原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、複素環基、
置換シリル基、アルコキシ基または2置換アミノ基であ
り、それらは同じであっても異なっていてもよい。G+
は無機、有機または有機金属のカチオンである。Lは中
性ルイス塩基であり、(L−H)+ はブレンステッド酸
である。) (C)固体の無機化合物 以下、本発明について詳しく説明する。
The present invention provides the following (A):
A catalyst for addition polymerization obtained by contacting (B) and (C),
And a method for producing an addition polymer using the addition polymerization catalyst. (A) an organic aluminum compound (B) below (B1) ~ one or more boron compounds selected from (B3) (B1) general formula BQ 1 Q 2 Q 3 boron compound represented by (B2) formula G + ( BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - in the boron compound represented by (B3) formula (L-H) + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4)
- the boron compound represented (where, B is a boron atom, Q 1 to Q 4 are a halogen atom, a hydrocarbon group, halogenated hydrocarbon group, a heterocyclic group,
A substituted silyl group, an alkoxy group or a disubstituted amino group, which may be the same or different. G +
Is an inorganic, organic or organometallic cation. L is a neutral Lewis base and (LH) + is a Bronsted acid. (C) Solid Inorganic Compound Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】(A)有機アルミニウム化合物 本発明で使用する有機アルミニウム化合物とは、Al−
C結合を有するアルミニウム化合物であり種々の化合物
が使用可能であるが、下記(A1)〜(A4)から選ば
れる一種以上のアルミニウム化合物が好ましい。 (A1)一般式 Rr Al(OR)op1 qで表され
る有機アルミニウム化合物 (A2)一般式 M1 AlR4 で表される有機アルミニ
ウム化合物 (A3)一般式 {−Al(R)−O−}j で表される
構造を有する環状のアルミノキサン (A4)一般式 R{−Al(R)−O−}k AlR2
で表される構造を有する線状のアルミノキサン (但し、Rはそれぞれ独立に炭素原子数1〜20の炭化
水素基を表し、X1 はそれぞれ独立にハロゲン原子を表
し、M1 はアルカリ金属原子を表す。rは0<r≦3を
満足する数を表し、oは0≦o<3を満足する数を表
し、pは0≦p<3を満足する数を表し、qは0≦q<
3を満足する数を表し、かつr+o+p+q=3であ
る。jは2以上の整数を表し、kは1以上の整数を表
す。)
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (A) Organoaluminum Compound The organoaluminum compound used in the present invention is Al-
Although it is an aluminum compound having a C bond and various compounds can be used, one or more aluminum compounds selected from the following (A1) to (A4) are preferable. (A1) the general formula R r Al (OR) o H p X 1 organoaluminum compound represented by q (A2) an organoaluminum compound represented by the general formula M 1 AlR 4 (A3) formula {-Al (R A) a cyclic aluminoxane having a structure represented by -O-} j (A4) a general formula R {-Al (R) -O-} k AlR 2
Linear aluminoxane having a structure represented by the following formula (where R represents each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, X 1 each independently represents a halogen atom, and M 1 represents an alkali metal atom. R represents a number satisfying 0 <r ≦ 3, o represents a number satisfying 0 ≦ o <3, p represents a number satisfying 0 ≦ p <3, and q represents 0 ≦ q <.
Represents a number satisfying 3, and r + o + p + q = 3. j represents an integer of 2 or more, and k represents an integer of 1 or more. )

【0009】有機アルミニウム化合物(A1)として
は、次のような化合物などが例示できる。 一般式 Rr Al(OR)3-r で表される有機アルミ
ニウム化合物(式中、Rはそれぞれ独立に炭素原子数1
〜20、好ましくは1〜15、より好ましくは1〜8の
炭化水素基を表す。rは0<r≦3、好ましくは1≦r
≦3を満足する数を表す。) 一般式 Rr AlX1 3-rで表される有機アルミニウム
化合物(式中、Rはそれぞれ独立に炭素原子数1〜2
0、好ましくは1〜15、より好ましくは1〜8の炭化
水素基を表し、X1 はそれぞれ独立にハロゲン原子を表
す。rは0<r≦3、好ましくは0<r<3を満足する
数を表す。) 一般式 Rr AlH3-r で表される有機アルミニウム
化合物(式中、Rはそれぞれ独立に炭素原子数1〜2
0、好ましくは1〜15、より好ましくは1〜8の炭化
水素基を表す。rは0<r≦3、好ましくは2≦r<3
を満足する数を表す。) 一般式 Rr Al(OR)o1 qで表される有機アル
ミニウム化合物(式中、Rはそれぞれ独立に炭素原子数
1〜20、好ましくは1〜15、より好ましくは1〜8
の炭化水素基を表し、X1 はそれぞれ独立にハロゲン原
子を表す。rは0<r≦3を満足する数を表し、oは0
≦o<3を満足する数を表し、qは0≦q<3を満足す
る数を表し、かつr+o+q=3である。) 上記〜の有機アルミニウム化合物を表す一般式にお
けるRとして好ましくはそれぞれ独立にアルキル基また
はアリール基であり、X1 として好ましくはそれぞれ独
立に塩素原子または臭素原子である。
As the organoaluminum compound (A1), the following compounds can be exemplified. Formula R r Al (OR) 3- r organic aluminum compound represented by (wherein, the carbon atoms R are each independently 1
-20, preferably 1-15, more preferably 1-8 hydrocarbon groups. r is 0 <r ≦ 3, preferably 1 ≦ r
Represents a number satisfying ≦ 3. ) General formula R r AlX 1 organoaluminum compound represented by the 3-r (wherein, R carbon atoms are each independently 1-2
It represents 0, preferably 1 to 15, more preferably 1 to 8 hydrocarbon groups, and X 1 each independently represents a halogen atom. r represents a number satisfying 0 <r ≦ 3, preferably 0 <r <3. ) An organoaluminum compound represented by the general formula R r AlH 3-r (wherein, R independently represents 1 to 2 carbon atoms)
0, preferably 1 to 15, more preferably 1 to 8 hydrocarbon groups. r is 0 <r ≦ 3, preferably 2 ≦ r <3
Represents a number that satisfies ) General formula R r Al (OR) o X 1 organoaluminum compound represented by q (where, 1 to 20 carbon atoms each R is independently, preferably 1 to 15, more preferably 1 to 8
And X 1 each independently represents a halogen atom. r is a number satisfying 0 <r ≦ 3, and o is 0
Represents a number satisfying ≦ o <3, q represents a number satisfying 0 ≦ q <3, and r + o + q = 3. In the general formulas representing the above organoaluminum compounds, R is preferably each independently an alkyl group or an aryl group, and X 1 is preferably each independently a chlorine atom or a bromine atom.

【0010】前記の有機アルミニウム化合物の具体例
としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミ
ニウム、トリ−n−ブチルアルミニウム、トリヘキシル
アルミニウム、トリオクチルアルミニウムなどのトリ−
n−アルキルアルミニウム;トリイソプロピルアルミニ
ウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−sec−ブ
チルアルミニウム、トリ−tert−ブチルアルミニウ
ム、トリ−2−メチルブチルアルミニウム、トリ−3−
メチルブチルアルミニウム、トリ−2−メチルペンチル
アルミニウム、トリ−3−メチルペンチルアルミニウ
ム、トリ−4−メチルペンチルアルミニウム、トリ−2
−メチルへキシルアルミニウム、トリ−3−メチルへキ
シルアルミニウム、トリ−2−エチルへキシルアルミニ
ウムなどのトリ分岐鎖アルキルアルミニウム;トリシク
ロへキシルアルミニウムなどのトリシクロアルキルアル
ミニウム;トリフェニルアルミニウム、トリトリルアル
ミニウムなどのトリアリールアルミニウム;トリイソプ
レニルアルミニウムなどのトリアルケニルアルミニウ
ム;イソブチルアルミニウムジメトキシド、イソブチル
アルミニウムジエトキシド、イソブチルアルミニウムジ
イソプロポキシドなどのアルキルアルミニウムジアルコ
キシド;ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチルア
ルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウムア
ルコキシド;エチルアルミニウムセスキブトキシド、ブ
チルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルアル
ミニウムセスキアルコキシド;メチルアルミニウムビス
(2,6−ジ−tert−ブチル4−メチルフェノキシ
ド)、エチルアルミニウムビス(2,6−ジ−tert
−ブチル−4−メチルフェノキシド)などの部分的にア
リールオキシ化されたアルキルアルミニウム;前記の
有機アルミニウム化合物を表す一般式におけるrが2.
5である平均組成を有する部分的にアルコキシ化された
アルキルアルミニウム等が挙げられる。
Specific examples of the above-mentioned organoaluminum compounds include trimethylaluminum, triethylaluminum, tri-n-butylaluminum, trihexylaluminum, trioctylaluminum and the like.
n-alkylaluminum; triisopropylaluminum, triisobutylaluminum, tri-sec-butylaluminum, tri-tert-butylaluminum, tri-2-methylbutylaluminum, tri-3-
Methylbutylaluminum, tri-2-methylpentylaluminum, tri-3-methylpentylaluminum, tri-4-methylpentylaluminum, tri-2
Tri-branched alkyl aluminum such as -methylhexyl aluminum, tri-3-methylhexyl aluminum and tri-2-ethylhexyl aluminum; tricycloalkyl aluminum such as tricyclohexyl aluminum; triphenyl aluminum and tolyl aluminum Trialkenyl aluminum such as triisoprenyl aluminum; alkyl aluminum dialkoxide such as isobutyl aluminum dimethoxide, isobutyl aluminum diethoxide and isobutyl aluminum diisopropoxide; dialkyl such as diethyl aluminum ethoxide and dibutyl aluminum butoxide Aluminum alkoxide; ethyl aluminum sesquibutoxide, butyl aluminum sesquibutoxide Alkyl sesquichloride alkoxides such Kibutokishido; methyl aluminum bis (2,6-di -tert- butyl 4-methyl phenoxide), ethylaluminum bis (2,6-di -tert
-Butyl-4-methylphenoxide) or the like; a partially aryloxylated alkylaluminum such as the above-mentioned organoaluminum compound;
A partially alkoxylated alkylaluminum having an average composition of 5.

【0011】前記の有機アルミニウム化合物の具体例
としては、エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチル
アルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセス
キブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライ
ド;ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミ
ニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライ
ド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシル
アルミニウムクロライド、ブチルアルミニウムブロミド
等のジアルキルアルミニウムハライド;メチルアルミニ
ウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、
プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミ
ニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライ
ド、オクチルアルミニウムジクロライド、ブチルアルミ
ニウムジブロミド等のアルキルアルミニウムジハライド
等が挙げられる。
Specific examples of the organoaluminum compound include alkyl aluminum sesquihalides such as ethyl aluminum sesquichloride, butyl aluminum sesquichloride, and ethyl aluminum sesquibromide; dimethyl aluminum chloride, diethyl aluminum chloride, dipropyl aluminum chloride, diisobutyl aluminum Dialkylaluminum halides such as chloride, dihexylaluminum chloride and butylaluminum bromide; methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride,
Examples thereof include alkyl aluminum dihalides such as propyl aluminum dichloride, isobutyl aluminum dichloride, hexyl aluminum dichloride, octyl aluminum dichloride, and butyl aluminum dibromide.

【0012】前記の有機アルミニウム化合物の具体例
としては、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジブチルア
ルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウムヒドリ
ドなどのジアルキルアルミニウムヒドリド;エチルアル
ミニウムジヒドリド、プロピルアルミニウムジヒドリド
などのアルキルアルミニウムジヒドリドなどその他の部
分的に水素化されたアルキルアルミニウムが挙げられ
る。
Specific examples of the organoaluminum compound include dialkylaluminum hydrides such as diethylaluminum hydride, dibutylaluminum hydride and diisobutylaluminum hydride; and other parts such as alkylaluminum dihydrides such as ethylaluminum dihydride and propylaluminum dihydride. Alkylaluminium which has been hydrogenated.

【0013】前記の有機アルミニウム化合物の具体例
としては、エチルアルミニウムエトキシクロリド、ブチ
ルアルミニウムブトキシクロリド、エチルアルミニウム
エトキシプロミドなどの部分的にアルコキシ化およびハ
ロゲン化されたアルキルアルミニウム等を挙げられる。
Specific examples of the above-mentioned organoaluminum compound include partially aluminum-alkoxylated and halogenated alkylaluminums such as ethylaluminum ethoxycyclolide, butylaluminum butoxycyclolide and ethylaluminum ethoxypromide.

【0014】前記有機アルミニウム化合物(A2)は一
般式 M1 AlR4 で表される有機アルミニウム化合物
である。ここで、M1 はアルカリ金属原子を表す。かか
るアルカリ金属原子として好ましくはリチウム原子、ナ
トリウム原子またはカリウム原子であり、特に好ましく
はリチウム原子である。有機アルミニウム化合物(A
2)として特に好ましくは、LiAl(C254
たはLiAl(C7154 である。
The organoaluminum compound (A2) is an organoaluminum compound represented by the general formula M 1 AlR 4 . Here, M 1 represents an alkali metal atom. Such an alkali metal atom is preferably a lithium atom, a sodium atom or a potassium atom, and particularly preferably a lithium atom. Organoaluminum compound (A
Particularly preferred as 2) is LiAl (C 2 H 5 ) 4 or LiAl (C 7 H 15 ) 4 .

【0015】一般式 {−Al(R)−O−}j で表さ
れる構造を有する環状のアルミノキサン(A3)、一般
式 R{−Al(R)−O−}k AlR2 で表される構
造を有する線状のアルミノキサン(A4)におけるRの
具体例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピ
ル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル
基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル
基を例示することができる。jは2以上の整数であり、
kは1以上の整数である。好ましくはRはメチル基また
はイソブチル基であり、jは2〜40、kは1〜40で
ある。
[0015] formula {-Al (R) -O-} cyclic aluminoxane having a structure represented by j (A3), represented by the general formula R {-Al (R) -O-} k AlR 2 Specific examples of R in the linear aluminoxane having a structure (A4) include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, normal propyl group, isopropyl group, normal butyl group, isobutyl group, normal pentyl group, and neopentyl group. can do. j is an integer of 2 or more;
k is an integer of 1 or more. Preferably, R is a methyl group or an isobutyl group, j is 2 to 40, and k is 1 to 40.

【0016】上記のアルミノキサンは各種の方法で作ら
れる。その方法については特に制限はなく、公知の方法
に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウ
ム(例えば、トリメチルアルミニウムなど)を適当な有
機溶剤(ベンゼンなどの奉公族炭化水素、ヘキサンなど
の脂肪族炭化水素など)に溶かした溶液を水と接触させ
て作る。また、トリアルキルアルミニウム(例えば、ト
リメチルアルミニウムなど)と結晶水を含んでいる金属
塩(例えば、硫酸銅水和物など)に接触させて作る方法
が例示できる。このようにして得られるアルミノキサン
は通常(A3)と(A4)との混合物になっていると考
えられている。
The above aluminoxane is made by various methods. The method is not particularly limited, and may be made according to a known method. For example, a solution prepared by dissolving a trialkylaluminum (for example, trimethylaluminum or the like) in a suitable organic solvent (such as a hydrocarbon such as benzene or an aliphatic hydrocarbon such as hexane) is prepared by contacting with water. Further, a method in which a trialkylaluminum (for example, trimethylaluminum or the like) is brought into contact with a metal salt (for example, copper sulfate hydrate or the like) containing water of crystallization can be exemplified. It is believed that the aluminoxane thus obtained is usually a mixture of (A3) and (A4).

【0017】本発明で使用する有機アルミニウム化合物
として好ましくは、上記の有機アルミニウム化合物(A
1)であり、さらに好ましくは上記の有機アルミニウム
化合物であり、中でもトリアルキルアルミニウムが特
に好ましく、最も好ましくは、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、トリ−n−ヘキシルアルミニウム、またはトリ−
n−オクチルアルミニウムである。
As the organoaluminum compound used in the present invention, the above-mentioned organoaluminum compound (A
1), more preferably the above-mentioned organoaluminum compound, and among them, trialkylaluminum is particularly preferred, and most preferably trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n-hexylaluminum, or tri-aluminum
n-octyl aluminum.

【0018】(B)ホウ素化合物 本発明においてホウ素化合物(B)としては、(B1)
一般式 BQ12 3 で表されるホウ素化合物、(B
2)一般式 G+ (BQ1234 で表される
ホウ素化合物、(B3)一般式 (L−H)+ (BQ1
234 で表されるホウ素化合物から選ばれる
一種以上のホウ素化合物を用いる。
(B) Boron Compound In the present invention, the boron compound (B) includes (B1)
General formula BQ1 QTwo Q Three A boron compound represented by the formula (B
2) General formula G+ (BQ1 QTwo QThree QFour ) Represented by
Boron compound, (B3) General formula (LH)+ (BQ1 
QTwo QThree QFour )  Selected from boron compounds represented by
One or more boron compounds are used.

【0019】一般式 BQ123 で表されるホウ素
化合物(B1)において、Bは3価の原子価状態のホウ
素原子であり、Q1 〜Q3 はハロゲン原子、炭化水素
基、ハロゲン化炭化水素基、複素環基、置換シリル基、
アルコキシ基または2置換アミノ基であり、それらは同
じであっても異なっていても良い。Q1 〜Q3 は好まし
くは、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素原子数1〜2
0の炭化水素基、炭素原子数1〜20のハロゲン化炭化
水素基、炭素原子数1〜20の複素環基、炭素原子数1
〜20の置換シリル基、炭素原子数1〜20のアルコキ
シ基または炭素原子数2〜20の2置換アミノ基であ
り、より好ましいQ1 〜Q3 はそれぞれ独立にハロゲン
原子、炭素原子数1〜20の炭化水素基、炭素原子数1
〜20のハロゲン化炭化水素基、または炭素原子数1〜
20の複素環基である。さらに好ましくはQ1 〜Q3
は、それぞれ独立に少なくとも1個のフッ素原子を含む
炭素原子数1〜20のフッ素化炭化水素基であり、特に
好ましくはQ1 〜Q3 は、それぞれ独立に少なくとも1
個のフッ素原子を含む炭素原子数6〜20のフッ素化ア
リール基である。
In the boron compound (B1) represented by the general formula BQ 1 Q 2 Q 3 , B is a trivalent boron atom, and Q 1 to Q 3 are a halogen atom, a hydrocarbon group or a halogen atom. Hydrocarbon group, heterocyclic group, substituted silyl group,
An alkoxy group or a disubstituted amino group, which may be the same or different. Q 1 to Q 3 are preferably each independently a halogen atom, having 1 to 2 carbon atoms.
0 hydrocarbon group, halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, heterocyclic group having 1 to 20 carbon atoms, 1 carbon atom
To 20 substituted silyl groups, alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms or disubstituted amino groups having 2 to 20 carbon atoms, and more preferably Q 1 to Q 3 are each independently a halogen atom or a carbon atom having 1 to 20 carbon atoms. 20 hydrocarbon groups, 1 carbon atom
To 20 halogenated hydrocarbon groups, or 1 to 1 carbon atoms
20 heterocyclic groups. More preferably, Q 1 to Q 3
Is each independently a fluorinated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms containing at least one fluorine atom, and particularly preferably Q 1 to Q 3 are each independently at least 1
It is a fluorinated aryl group having 6 to 20 carbon atoms including two fluorine atoms.

【0020】化合物(B1)の具体例としては、トリス
(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,
5,6−テトラフルオロフェニル)ボラン、トリス
(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ボラン、
トリス(3,4,5−トリフルオロフェニル)ボラン、
トリス(2,3,4−トリフルオロフェニル)ボラン、
フェニルビス(ペンタフルオロフェニル)ボラン等が挙
げられるが、最も好ましくは、トリス(ペンタフルオロ
フェニル)ボランである。
Specific examples of the compound (B1) include tris (pentafluorophenyl) borane, tris (2,3,
5,6-tetrafluorophenyl) borane, tris (2,3,4,5-tetrafluorophenyl) borane,
Tris (3,4,5-trifluorophenyl) borane,
Tris (2,3,4-trifluorophenyl) borane,
Phenylbis (pentafluorophenyl) borane and the like can be mentioned, and most preferred is tris (pentafluorophenyl) borane.

【0021】一般式 G+ (BQ1234-
表されるホウ素化合物(B2)において、G+ は無機、
有機または有機金属のカチオンであり、Bは3価の原子
価状態のホウ素原子であり、Q1 〜Q4 は上記の(B
1)におけるQ1 〜Q3 と同様である。
In the boron compound (B2) represented by the general formula G + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - , G + is an inorganic compound;
An organic or organometallic cation, B is a boron atom in a trivalent valence state, and Q 1 to Q 4 are (B)
Is the same as Q 1 to Q 3 in 1).

【0022】一般式 G+ (BQ1234-
表される化合物におけるG+ の具体例としては、無機の
カチオンではリチウムカチオン、ナトリウムカチオン、
カリウムカチオン、銀カチオンなどが、有機金属のカチ
オンではフェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロ
セニウムカチオンなどが、有機のカチオンではテトラア
ルキルホスホニウムカチオン、テトラアリールホスホニ
ウムカチオン、テトラアルキルアンモニウム、トリアル
キルスルホニウムカチオン、ジアリールヨードニウムカ
チオン、トリアルキルカルベニウムカチオン、トリアリ
ールカルベニウムカチオンなどが挙げられる。G+ とし
て好ましくはカルベニウムカチオンであり、特に好まし
くはトリフェニルカルベニウムカチオンである。(BQ
12 34- としては、テトラキス(ペンタフル
オロフェニル)ボレート、テトラキス(2,3,5,6
−テトラフルオロフェニル)ボレート、テトラキス
(2,3,4,5−テトラフルオロフェニル)ボレー
ト、テトラキス(3,4,5−トリフルオロフェニル)
ボレート、テトラキス(2,3,4−トリフルオロフェ
ニル)ボレート、フェニルトリス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレ−ト、テトラキス(3,5−ビストリフルオ
ロメチルフェニル)ボレートなどが挙げられる。
General formula G+ (BQ1 QTwo QThree QFour )- so
G in the compound represented+ Specific examples of the inorganic
Lithium cation, sodium cation,
Potassium cation, silver cation, etc.
On: ferrocenium cation, alkyl-substituted ferro
Cerium cations and the like
Rukyphosphonium cation, tetraarylphosphoni
Cation, tetraalkylammonium, trial
Killsulfonium cation, diaryliodonium cation
Thion, trialkylcarbenium cation, triary
Alkenyl cation. G+ age
And preferably a carbenium cation, particularly preferred
Is a triphenylcarbenium cation. (BQ
1 QTwo Q Three QFour )- As the tetrakis (pentaflu
Orophenyl) borate, tetrakis (2,3,5,6)
-Tetrafluorophenyl) borate, tetrakis
(2,3,4,5-tetrafluorophenyl) volley
G, tetrakis (3,4,5-trifluorophenyl)
Borate, tetrakis (2,3,4-trifluorophen)
Nyl) borate, phenyl tris (pentafluorophene)
Nyl) borate, tetrakis (3,5-bistrifluoro)
Romethylphenyl) borate and the like.

【0023】これらの具体的な組み合わせとしては、リ
チウムテトラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフ
ェニル)ボレート、ナトリウムテトラキス(3,5−ビ
ストリフルオロメチルフェニル)ボレート、カリウムテ
トラキス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)
ボレート、銀テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボ
レート、フェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)ボレート、1,1’−ジメチルフェロセニウム
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テト
ラブチルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラメチル
アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボ
レート、トリメチルスルホニウムテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレート、ジフェニルヨードニウムテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフ
ェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、トリフェニルカルベニウムテトラキス
(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレート
などを挙げることができるが、最も好ましくは、トリフ
ェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレートである。
Specific examples of these combinations include lithium tetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate, sodium tetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate and potassium tetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl). Phenyl)
Borate, silver tetrakis (pentafluorophenyl) borate, ferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 1,1′-dimethylferrocenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tetrabutylphosphonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, Tetraphenylphosphonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tetramethylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, trimethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylcarbenium tetrakis (pentafluoro) Phenyl) borate, triphenylcarbeniumtetrakis (3,5-bistrif) (Fluoromethylphenyl) borate and the like, and most preferably, triphenylcarbeniumtetrakis (pentafluorophenyl) borate.

【0024】また、一般式(L−H)+ (BQ12
34- で表されるホウ素化合物(B3)において
は、Lは中性ルイス塩基であり、(L−H)+ はブレン
ステッド酸であり、Bは3価の原子価状態のホウ素原子
であり、Q1 〜Q4 は上記の化合物(B1)におけるQ
1 〜Q3 と同様である。
The formula (LH) + (BQ 1 Q 2 Q
3 Q 4) - In the boron compound (B3) represented by, L is a neutral Lewis base, (L-H) + is a Bronsted acid, B is a trivalent valence state boron atom And Q 1 to Q 4 represent Q in the compound (B1) described above.
Is the same as that of the 1 ~Q 3.

【0025】一般式(L−H)+ (BQ123
4- で表される化合物におけるブレンステッド酸であ
る(L−H)+ の具体例としては、トリアルキル置換ア
ンモニウム、N,N−ジアルキルアニリニウム、ジアル
キルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙
げられ、(BQ1234- としては、前述と同
様のものが挙げられる。
The general formula (LH) + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q
4) - Examples of Bronsted acid (L-H) + of the compound represented by trialkyl, N, N-dialkyl anilinium, dialkyl ammonium, triarylphosphonium and the like, Examples of (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) include the same as described above.

【0026】これらの具体的な組み合わせとしては、ト
リエチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス
(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(n−ブチ
ル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラ
キス(3,5−ビストリフルオロメチルフェニル)ボレ
ート、N,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ボレート、N,N−ジエチルアニ
リニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレー
ト、N,N−2,4,6−ペンタメチルアニリニウムテ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N
−ジメチルアニリニウムテトラキス(3,5−ビストリ
フルオロメチルフェニル)ボレート、ジイソプロピルア
ンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレ
ート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルホスホニ
ウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、
トリ(メチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペン
タフルオロフェニル)ボレート、トリ(ジメチルフェニ
ル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレートなどを挙げることができるが、最も好まし
くは、トリ(n−ブチル)アンモニウムテトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)ボレート、またはN,N−ジメ
チルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニ
ル)ボレートである。
Specific examples of these combinations include triethylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tripropylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and tri ( n-butyl) ammonium tetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate, N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-diethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N N-2,4,6-pentamethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N
-Dimethylanilinium tetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate, diisopropylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, dicyclohexylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylphosphonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate,
Tri (methylphenyl) phosphonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tri (dimethylphenyl) phosphonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate and the like can be mentioned. Most preferably, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (pentafluoro) is used. Phenyl) borate or N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate.

【0027】本発明で使用するホウ素化合物として好ま
しくは(B2)または(B3)であり、特に好ましくは
トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)ボレート、トリ(n−ブチル)アンモニウム
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、また
はN,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレートである。
The boron compound used in the present invention is preferably (B2) or (B3), particularly preferably triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) ) Borate or N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate.

【0028】(C)固体の無機化合物 本発明で使用する固体の無機化合物は、常温常圧下で固
体である無機化合物であり、下記(C1)〜(C3)か
ら選ばれる1種以上の固体の無機化合物が好ましい。 (C1)元素の周期律表の第1〜16族から選ばれる金
属のブレンステッド酸塩 (C2)元素の周期律表の第1〜16族から選ばれる金
属またはケイ素の酸化物 (C3)層状ケイ酸塩化合物
(C) Solid Inorganic Compound The solid inorganic compound used in the present invention is an inorganic compound which is solid at normal temperature and normal pressure, and is at least one solid selected from the following (C1) to (C3). Inorganic compounds are preferred. (C1) Bronsted acid salt of a metal selected from Groups 1 to 16 of the Periodic Table of the Elements (C2) oxide of a metal or silicon selected from Groups 1 to 16 of the Periodic Table of the Elements (C3) layered Silicate compounds

【0029】かかる金属のブレンステッド酸塩(C1)
に用いる金属の具体例としてはリチウム、ベリリウム、
ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、カリウム、
カルシウム、スカンジウム、チタニウム、バナジウム、
クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜
鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ルビジウム、ストロンチ
ウム、イットリウム、ジルコニウム、ニオビウム、モリ
ブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、カド
ニウム、インジウム、鈴、アンチモン、セシウム、バリ
ウム、ランタニウム、ハフニウム、タンタル、タングス
テン、レニウム、オスニウム、イリジウム、白金、金、
水銀、タリウム、鉛、ビスマス、セリウム、プラセオジ
ウム、ネオジウム、サマリウム、ユウロピウム、ガドリ
ニウム、テルビニウム、ジスプロシウム、ホルミウム、
エルビウム、ツリウム、イッテリビウム、ルテチウム、
トリウム等が挙げられ、好ましくは元素の周期律表の第
1〜3族および第6〜16族から選ばれる金属であり、
より好ましくはナトリウム、マグネシウム、マンガン、
鉄、コバルトまたはニッケルである。
The Bronsted acid salt of such a metal (C1)
Specific examples of the metal used for lithium, beryllium,
Sodium, magnesium, aluminum, potassium,
Calcium, scandium, titanium, vanadium,
Chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, gallium, germanium, rubidium, strontium, yttrium, zirconium, niobium, molybdenum, ruthenium, rhodium, palladium, silver, cadmium, indium, bell, antimony, cesium, barium, Lanthanum, hafnium, tantalum, tungsten, rhenium, osnium, iridium, platinum, gold,
Mercury, thallium, lead, bismuth, cerium, praseodymium, neodymium, samarium, europium, gadolinium, terbinium, dysprosium, holmium,
Erbium, thulium, ytterbium, lutetium,
Thorium and the like, preferably a metal selected from Groups 1 to 3 and 6 to 16 of the periodic table of the element,
More preferably sodium, magnesium, manganese,
Iron, cobalt or nickel.

【0030】また前記ブレンステッド酸としては、ふっ
化水素酸、塩化水素酸、臭化水素酸、よう化水素酸等が
挙げられる。
Examples of the Brönsted acid include hydrofluoric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid and the like.

【0031】前記金属のブレンステッド酸塩(C1)と
してより好ましくは、ハロゲン化金属化合物であり、さ
らに好ましくは下記一般式(1)で表されるハロゲン化
金属化合物である。 M2 m2 n (1) (式中、M2 は元素の周期律表の第1〜16族から選ば
れる金属原子を表し、X 2 はハロゲン原子を表す。mは
1以上の数を表し、nは金属原子の原子価数とmとの積
を表す。)
The Bronsted acid salt of the metal (C1)
And more preferably a metal halide compound,
More preferably, halogenation represented by the following general formula (1)
It is a metal compound. MTwo mXTwo n (1) (where MTwo Is selected from Groups 1 to 16 of the Periodic Table of the Elements
X represents a metal atom represented by Two Represents a halogen atom. m is
Represents a number of 1 or more, and n is a product of valence number of metal atom and m.
Represents )

【0032】上記一般式(1)におけるM2 は元素の周
期律表の第1〜16族から選ばれる金属原子を表し、好
ましくは第1〜3族および第6〜16族から選ばれる金
属原子である。具体例としては、リチウム原子、ベリリ
ウム原子、ナトリウム原子、マグネシウム原子、アルミ
ニウム原子、カリウム原子、カルシウム原子、スカンジ
ウム原子、クロム原子、マンガン原子、鉄原子、コバル
ト原子、ニッケル原子、銅原子、亜鉛原子、ガリウム原
子、ゲルマニウム原子、ルビジウム原子、ストロンチウ
ム原子、イットリウム原子、モリブデン原子、テクネチ
ウム原子、ルテニウム原子、ロジウム原子、パラジウム
原子、銀原子、カドニウム原子、インジウム原子、鈴原
子、アンチモン原子、セシウム原子、バリウム原子、ラ
ンタン原子、タングステン原子、レニウム原子、オスニ
ウム原子、イリジウム原子、白金原子、金原子、水銀原
子、タリウム原子、鉛原子、ビスマス原子、ポロニウム
原子、フランシウム原子、ラジウム原子、アクチウム原
子、セリウム原子、プラセオジウム原子、ネオジウム原
子、プロメチウム原子、サマリウム原子、ユウロピウム
原子、ガドリニウム原子、テルビニウム原子、ジスプロ
シウム原子、ホルミウム原子、エルビウム原子、ツリウ
ム原子、イッテリビウム原子、ルテチウム原子、トリウ
ム原子、プロトアクチウム原子、ウラン原子、ネプツニ
ウム等が挙げられ、より好ましくはナトリウム原子、マ
グネシウム原子、マンガン原子、鉄原子、コバルト原子
またはニッケル原子である。
M 2 in the general formula (1) represents a metal atom selected from Groups 1 to 16 of the Periodic Table of the Elements, preferably a metal atom selected from Groups 1 to 3 and 6 to 16 It is. Specific examples include lithium, beryllium, sodium, magnesium, aluminum, potassium, calcium, scandium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, Gallium, germanium, rubidium, strontium, yttrium, molybdenum, technetium, ruthenium, rhodium, palladium, silver, cadmium, indium, bell, antimony, cesium, barium , Lanthanum, tungsten, rhenium, osnium, iridium, platinum, gold, mercury, thallium, lead, bismuth, polonium, francium, radium Atom, actium, cerium, praseodymium, neodymium, promethium, samarium, europium, gadolinium, terbinium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium, lutetium, thorium, Examples include a protactium atom, a uranium atom, a neptunium and the like, and more preferably a sodium atom, a magnesium atom, a manganese atom, an iron atom, a cobalt atom or a nickel atom.

【0033】上記一般式(1)におけるX2 はハロゲン
原子を表し、具体例としてはフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、好ましくは塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子である。
X 2 in the above formula (1) represents a halogen atom, and specific examples thereof include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, preferably a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. .

【0034】上記一般式(1)で表されるハロゲン化金
属の具体例としては、フッ化亜鉛(II)、フッ化アルミ
ニウム、フッ化アンチモン(III)、フッ化アンチモン
(V)、フッ化イットリウム、フッ化イリジウム
(I)、フッ化イリジウム(II)、フッ化イリジウム
(III)、フッ化イリジウム(IV)、フッ化イリジウム
(V)、フッ化イリジウム(VI)、フッ化インジウム
(III)、フッ化オスミウム(IV)、フッ化オスミウム
(V)、フッ化オスミウム(VI)、フッ化カドミウム、
フッ化ガドリニウム(III)、フッ化カリウム、フッ化
ガリウム(III)、フッ化カルシウム、フッ化金(II
I)、フッ化銀(I)、フッ化銀(II)、フッ化クロム
(II)、フッ化クロム(III)、フッ化クロム(IV)、
フッ化クロム(V)、フッ化クロム(VI)、フッ化コバ
ルト(II)、フッ化コバルト(III)、フッ化サマリウ
ム(II)、フッ化サマリウム(III)、フッ化水銀
(I)、フッ化水銀(II)、フッ化スカンジウム、フッ
化スズ(II)、フッ化スズ(IV)、フッ化ストロンチウ
ム、フッ化セシウム、フッ化セリウム(III)、フッ化
セリウム(IV)、フッ化タリウム(I)、フッ化タリウ
ム(III)、フッ化タングステン(IV)、フッ化タング
ステン(V)、フッ化タングステン(VI)、フッ化タン
タル(III)、フッ化タンタル(IV)、フッ化タンタル
(V)、フッ化ツリウム(III)、フッ化鉄(II)、フ
ッ化鉄(III)、五フッ化二鉄、フッ化銅(I)、フッ
化銅(II)、フッ化トリウム(IV)、フッ化ナトリウ
ム、フッ化鉛(II)、フッ化鉛(IV)、フッ化ニオブ
(IV)、フッ化ニオブ(V)、フッ化ニッケル(II)、
フッ化ネプツニウム(III)、フッ化ネプツニウム(I
V)、フッ化白金(IV)、フッ化白金(V)、フッ化白
金(VI)、フッ化パラジウム(II)、フッ化パラジウム
(IV)、フッ化バリウム、フッ化ビスマス(III)、フ
ッ化プルトニウム(III)、フッ化ベリリウム、フッ化
ホルミウム(III)、フッ化マグネシウム、フッ化マン
ガン(II)、フッ化マンガン(III)、フッ化マンガン
(IV)、フッ化モリブデン(II)、フッ化モリブデン
(III)、フッ化モリブデン(IV)、フッ化ユウロピウ
ム(II)、フッ化ユウロピウム(III)、フッ化ランタ
ン、フッ化リチウム、フッ化ルテニウム(II)、フッ化
ルテニウム(III)、フッ化ルビジウム、フッ化レニウ
ム(IV)、フッ化レニウム(V)、フッ化レニウム(V
I)、フッ化レニウム(VII)、フッ化ロジウム(II
I)、フッ化ロジウム(IV)、フッ化ロジウム(V)、
フッ化ロジウム(VI)等の金属のフッ化物;
Specific examples of the metal halide represented by the general formula (1) include zinc (II) fluoride, aluminum fluoride, antimony (III) fluoride, antimony (V) fluoride, and yttrium fluoride. , Iridium (I) fluoride, iridium (II) fluoride, iridium (III) fluoride, iridium (IV), iridium (V), iridium (VI), indium (III), Osmium (IV) fluoride, osmium (V) fluoride, osmium (VI) fluoride, cadmium fluoride,
Gadolinium (III) fluoride, potassium fluoride, gallium (III) fluoride, calcium fluoride, gold (II)
I), silver (I) fluoride, silver (II) fluoride, chromium (II) fluoride, chromium (III) fluoride, chromium (IV) fluoride,
Chromium (V), Chromium (VI), Cobalt (II), Cobalt (III), Samarium (II), Samarium (III), Mercury (I), Fluoride Mercury (II) fluoride, scandium fluoride, tin (II) fluoride, tin (IV), strontium fluoride, cesium fluoride, cerium (III), cerium (IV), thallium ( I), thallium (III) fluoride, tungsten (IV), tungsten (V), tungsten (VI), tantalum (III), tantalum (IV), tantalum (V) ), Thulium (III) fluoride, iron (II) fluoride, iron (III) fluoride, diiron pentafluoride, copper (I) fluoride, copper (II) fluoride, thorium (IV) fluoride, Sodium fluoride, lead (II) fluoride, lead (IV) fluoride, niofluoride (IV), niobium fluoride (V), nickel fluoride (II),
Neptunium fluoride (III), Neptunium fluoride (I
V), platinum fluoride (IV), platinum fluoride (V), platinum fluoride (VI), palladium fluoride (II), palladium fluoride (IV), barium fluoride, bismuth fluoride (III), fluorine fluoride Plutonium (III) fluoride, beryllium fluoride, holmium (III) fluoride, magnesium fluoride, manganese (II) fluoride, manganese (III) fluoride, manganese (IV) fluoride, molybdenum (II) fluoride, fluorine Molybdenum (III) fluoride, molybdenum (IV) fluoride, europium (II) fluoride, europium (III) fluoride, lanthanum fluoride, lithium fluoride, ruthenium (II) fluoride, ruthenium (III), fluorine Rubidium fluoride, rhenium fluoride (IV), rhenium fluoride (V), rhenium fluoride (V
I), rhenium fluoride (VII), rhodium fluoride (II
I), rhodium (IV) fluoride, rhodium (V) fluoride,
Metal fluorides such as rhodium (VI) fluoride;

【0035】塩化亜鉛(I)、塩化亜鉛(II)、塩化ア
ルミニウム、塩化アンチモン(III)、塩化アンチモン
(IV)、塩化イットリウム(III)、塩化イリジウム
(I)、塩化イリジウム(II)、塩化イリジウム(II
I)、塩化イリジウム(IV)、塩化インジウム(I)、
塩化インジウム(II)、塩化インジウム(III)、塩化
オスミウム(III)、塩化オスミウム(IV)、塩化オス
ミウム(V)、塩化カドミウム(II)、塩化カリウム、
塩化ガリウム(I)、塩化ガリウム(II)、塩化ガリウ
ム(III)、塩化カルシウム、塩化金(I)、塩化金(I
II)、二塩化金、塩化銀、塩化クロム(II)、塩化クロ
ム(III)、塩化クロム(IV)、塩化コバルト(II)、
塩化水銀(I)、塩化水銀(II)、塩化スカンジウム、
塩化スズ(II)、塩化スズ(IV)、塩化ストロンチウ
ム、塩化セリウム(III)、塩化セリウム(IV)、塩化
タリウム(I)、塩化タリウム(III)、二塩化タリウ
ム、三塩化タリウム、塩化タングステン(II)、塩化タ
ングステン(III)、塩化タングステン(IV)、塩化タ
ングステン(V)、塩化タングステン(VI)、塩化タン
タル(III)、塩化タンタル(IV)、塩化タンタル
(V)、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)、塩化銅
(I)、塩化銅(II)、塩化トリウム(IV)、塩化ナト
リウム、塩化鉛(II)、塩化鉛(IV)、塩化ニオブ(II
I)、塩化ニオブ(IV)、塩化ニオブ(V)、塩化ニッ
ケル(II)、塩化ネオジム(II)、塩化ネオジム(II
I)、塩化白金(II)、塩化白金(IV)、三塩化白金、
塩化パラジウム(II)、塩化ビスマス(III)、塩化プ
ラセオジム(III)、塩化プルトニウム(III)、塩化プ
ルトニウム(IV)、塩化ベリリウム、塩化マグネシウ
ム、塩化マンガン(II)、塩化モリブデン(II)、塩化
モリブデン(III)、塩化モリブデン(IV)、塩化モリ
ブデン(V)、塩化ユウロピウム(II)、塩化ユウロピ
ウム(III)、塩化ランタン、塩化リチウム、塩化ルテ
ニウム(III)、塩化ルビジウム、塩化レニウム(II
I)、塩化レニウム(IV)、塩化レニウム(V)、塩化
レニウム(VI)、塩化ロジウム(I)、塩化ロジウム
(II)、塩化ロジウム(III)等の塩化金属;
Zinc chloride (I), zinc chloride (II), aluminum chloride, antimony chloride (III), antimony chloride (IV), yttrium chloride (III), iridium chloride (I), iridium chloride (II), iridium chloride (II
I), iridium (IV) chloride, indium (I) chloride,
Indium (II) chloride, indium (III) chloride, osmium (III) chloride, osmium (IV) chloride, osmium (V) chloride, cadmium (II) chloride, potassium chloride,
Gallium chloride (I), gallium chloride (II), gallium chloride (III), calcium chloride, gold chloride (I), gold chloride (I
II), gold dichloride, silver chloride, chromium (II) chloride, chromium (III) chloride, chromium (IV) chloride, cobalt (II) chloride,
Mercury (I) chloride, mercury (II) chloride, scandium chloride,
Tin (II) chloride, tin (IV) chloride, strontium chloride, cerium (III) chloride, cerium (IV) chloride, thallium (I), thallium (III) chloride, thallium dichloride, thallium trichloride, tungsten chloride ( II), tungsten (III) chloride, tungsten (IV) chloride, tungsten (V) chloride, tungsten (VI), tantalum (III) chloride, tantalum (IV) chloride, tantalum (V) chloride, iron (II) chloride , Iron (III) chloride, copper (I) chloride, copper (II) chloride, thorium (IV) chloride, sodium chloride, lead (II) chloride, lead (IV) chloride, niobium (II) chloride
I), niobium (IV) chloride, niobium (V) chloride, nickel (II) chloride, neodymium (II) chloride, neodymium (II) chloride
I), platinum (II) chloride, platinum (IV) chloride, platinum trichloride,
Palladium (II) chloride, bismuth (III) chloride, praseodymium (III) chloride, plutonium (III) chloride, plutonium (IV) chloride, beryllium chloride, magnesium chloride, manganese (II) chloride, molybdenum (II) chloride, molybdenum chloride (III), molybdenum (IV) chloride, molybdenum (V) chloride, europium (II) chloride, europium (III) chloride, lanthanum chloride, lithium chloride, ruthenium (III) chloride, rubidium chloride, rhenium chloride (II)
Metal chlorides such as I), rhenium (IV) chloride, rhenium (V), rhenium (VI), rhodium (I) chloride, rhodium (II) chloride and rhodium (III) chloride;

【0036】臭化亜鉛(II)、臭化アルミニウム、臭化
アンチモン、臭化イットリウム、臭化イリジウム
(I)、臭化イリジウム(II)、臭化イリジウム(II
I)、臭化イリジウム(IV)、臭化インジウム(I)、
二臭化インジウム、臭化インジウム(III)、臭化オス
ミウム(III)、臭化オスミウム(IV)、臭化カドミウ
ム、臭化カリウム、臭化ガリウム(I)、二臭化ガリウ
ム、臭化ガリウム(III)、臭化カルシウム、臭化金
(I)、臭化金(III)、臭化銀、臭化クロム(II)、
臭化クロム(III)、臭化コバルト(II)、臭化水銀
(I)、臭化水銀(II)、臭化スカンジウム、臭化スズ
(II)、臭化スズ(IV)、臭化ストロンチウム、臭化セ
シウム、臭化セリウム(III)、臭化タリウム(I)、
臭化タリウム(III)、臭化タングステン(II)、臭化
タングステン(III)、臭化タングステン(IV)、臭化
タングステン(V)、臭化タングステン(VI)、臭化タ
ンタル(III)、臭化タンタル(IV)、臭化タンタル
(V)、臭化鉄(II)、臭化鉄(III)、八臭化三鉄、
臭化銅(I)、臭化銅(II)、臭化トリウム(IV)、臭
化ナトリウム、臭化鉛(II)、臭化ニオブ(III)、臭
化ニオブ(IV)、臭化ニオブ(V)、臭化ニッケル(I
I)、臭化白金(II)、臭化白金(IV)、三臭化白金、
臭化パラジウム(II)、臭化バリウム、臭化ビスマス、
臭化プルトニウム(III)、臭化ベリリウム、臭化マグ
ネシウム、臭化マンガン(II)、臭化モリブデン(I
I)、臭化モリブデン(III)、臭化モリブデン(IV)、
臭化ユウロピウム(II)、臭化ユウロピウム(III)、
臭化ランタン、臭化リチウム、臭化ルテニウム(II)、
臭化ルテニウム(III)、臭化ルビジウム、臭化レニウ
ム(III)、臭化レニウム(IV)、臭化レニウム
(V)、臭化ロジウム(II)、臭化ロジウム(III)等
の臭化金属;
Zinc (II) bromide, aluminum bromide, antimony bromide, yttrium bromide, iridium (I) bromide, iridium (II) bromide, iridium (II) bromide
I), iridium (IV) bromide, indium (I) bromide,
Indium dibromide, indium (III) bromide, osmium (III) bromide, osmium (IV) bromide, cadmium bromide, potassium bromide, gallium bromide (I), gallium dibromide, gallium bromide ( III), calcium bromide, gold (I) bromide, gold (III) bromide, silver bromide, chromium (II) bromide,
Chromium (III) bromide, cobalt (II) bromide, mercury (I) bromide, mercury (II) bromide, scandium bromide, tin (II) bromide, tin (IV) bromide, strontium bromide, Cesium bromide, cerium (III) bromide, thallium (I) bromide,
Thallium (III) bromide, tungsten (II) bromide, tungsten (III) bromide, tungsten (IV) bromide (IV), tungsten (V) bromide, tungsten (VI) bromide, tantalum (III) bromide, odor Tantalum (IV) bromide, tantalum bromide (V), iron (II) bromide, iron (III) bromide, ferrous bromobromide,
Copper (I) bromide, copper (II) bromide, thorium (IV) bromide, sodium bromide, lead (II) bromide, niobium (III) bromide, niobium (IV) bromide, niobium bromide ( V), nickel bromide (I
I), platinum (II) bromide, platinum (IV) bromide, platinum tribromide,
Palladium (II) bromide, barium bromide, bismuth bromide,
Plutonium (III) bromide, beryllium bromide, magnesium bromide, manganese (II) bromide, molybdenum bromide (I
I), molybdenum (III) bromide, molybdenum (IV) bromide,
Europium (II) bromide, Europium (III) bromide,
Lanthanum bromide, lithium bromide, ruthenium (II) bromide,
Metal bromides such as ruthenium (III) bromide, rubidium bromide, rhenium (III) bromide, rhenium (IV) bromide, rhenium (V), rhodium (II) bromide and rhodium (III) bromide ;

【0037】ヨウ化亜鉛(II)、ヨウ化アルミニウム、
四ヨウ化二アンチモン、ヨウ化アンチモン(III)、ヨ
ウ化イットリウム、ヨウ化イリジウム(I)、ヨウ化イ
リジウム(II)、ヨウ化イリジウム(III)、ヨウ化イ
リジウム(IV)、ヨウ化インジウム(I)、ヨウ化イン
ジウム(III)、ヨウ化ウラン(III)、ヨウ化ウラン
(IV)、ヨウ化オスミウム(I)、ヨウ化オスミウム
(II)、ヨウ化オスミウム(III)、ヨウ化カドミウ
ム、ヨウ化カリウム、ヨウ化ガリウム(I)、ヨウ化ガ
リウム(III)、ヨウ化カルシウム、ヨウ化金(I)、
ヨウ化金(III)、ヨウ化銀、ヨウ化クロム(II)、ヨ
ウ化クロム(III)、ヨウ化コバルト(I)、ヨウ化コ
バルト(III)、ヨウ化水銀(I)、ヨウ化水銀(I
I)、ヨウ化スカンジウム、ヨウ化スズ(II)、ヨウ化
スズ(IV)、ヨウ化ストロンチウム、ヨウ化セシウム、
ヨウ化セリウム(II)、ヨウ化セリウム(III)、ヨウ
化タリウム(I)、ヨウ化タリウム(III)、ヨウ化タ
ングステン(II)、ヨウ化タングステン(III)、ヨウ
化タングステン(IV)、ヨウ化タングステン(V)、ヨ
ウ化タングステン(VI)、ヨウ化タンタル(IV)、ヨウ
化タンタル(V)、ヨウ化鉄(II)、ヨウ化鉄(II
I)、八ヨウ化三鉄、ヨウ化銅(I)、ヨウ化銅(I
I)、ヨウ化トリウム(IV)、ヨウ化ナトリウム、ヨウ
化鉛(II)、ヨウ化ニオブ(III)、ヨウ化ニオブ
(V)、ヨウ化ニッケル(II)、ヨウ化ネプツニウム
(III)、ヨウ化ネプツニウム(IV)、ヨウ化白金(I
I)、ヨウ化白金(IV)、三ヨウ化白金、ヨウ化パラジ
ウム(II)、ヨウ化バリウム、ヨウ化ビスマス(II
I)、ヨウ化プルトニウム(III)、ヨウ化ベリリウム、
ヨウ化マグネシウム、ヨウ化マンガン(II)、ヨウ化モ
リブデン(II)、ヨウ化モリブデン(III)、ヨウ化モ
リブデン(IV)、ヨウ化ユウロピウム(II)、ヨウ化ユ
ウロピウム(III)、ヨウ化ランタン、ヨウ化リチウ
ム、ヨウ化ルテニウム(II)、ヨウ化ルテニウム(II
I)、ヨウ化ルビジウム、ヨウ化レニウム(III)、ヨウ
化レニウム(IV)、ヨウ化レニウム(V)、ヨウ化ロジ
ウム(II)、ヨウ化ロジウム(III)等のヨウ化金属を
例示することができる。前記金属のブレンステッド酸塩
(C1)として特に好ましくは、塩化ナトリウム、ヨウ
化ナトリウム、塩化マグネシウム、塩化マンガン(I
I)、塩化鉄(II)、または臭化ニッケル(II)であ
る。
Zinc (II) iodide, aluminum iodide,
Antimony tetraiodide, antimony iodide (III), yttrium iodide, iridium iodide (I), iridium iodide (II), iridium iodide (III), iridium iodide (IV), indium iodide (I ), Indium (III) iodide, uranium (III) iodide, uranium (IV) iodide, osmium (I) iodide, osmium (II) iodide, osmium (III) iodide, cadmium iodide, iodide Potassium, gallium (I) iodide, gallium (III) iodide, calcium iodide, gold (I) iodide,
Gold (III) iodide, silver iodide, chromium (II) iodide, chromium (III) iodide, cobalt (I) iodide, cobalt (III) iodide, mercury iodide (I), mercury iodide ( I
I), scandium iodide, tin (II) iodide, tin (IV) iodide, strontium iodide, cesium iodide,
Cerium (II) iodide, cerium (III) iodide, thallium (I) iodide, thallium (III) iodide, tungsten (II) iodide, tungsten (III) iodide, tungsten (IV) iodide, iodine Tungsten (V), tungsten (VI), tantalum (IV), tantalum (V), iron (II), iron (II)
I), ferric octiodide, copper (I) iodide, copper iodide (I
I), thorium (IV) iodide, sodium iodide, lead (II) iodide, niobium (III) iodide, niobium (IV) iodide, nickel (II) iodide, neptunium (III) iodide, iodine Neptunium (IV), platinum iodide (I
I), platinum (IV) iodide, platinum triiodide, palladium (II) iodide, barium iodide, bismuth iodide (II
I), plutonium (III) iodide, beryllium iodide,
Magnesium iodide, manganese iodide (II), molybdenum iodide (II), molybdenum iodide (III), molybdenum iodide (IV), europium iodide (II), europium iodide (III), lanthanum iodide, Lithium iodide, ruthenium (II) iodide, ruthenium iodide (II
Examples of metal iodides include I), rubidium iodide, rhenium (III) iodide, rhenium (IV) iodide, rhenium iodide (V), rhodium (II) iodide, and rhodium (III) iodide. Can be. Particularly preferred as the Bronsted acid salt of the metal (C1) is sodium chloride, sodium iodide, magnesium chloride, manganese chloride (I
I), iron (II) chloride, or nickel (II) bromide.

【0038】前記金属またはケイ素の酸化物(C2)に
おける元素の周期律表の第1〜16族から選ばれる金属
としては、上記(C1)において説明したものと同様で
ある。前記金属またはケイ素の酸化物(C2)における
金属の酸化物の具体例としては、酸化亜鉛、酸化アルミ
ニウム、酸化アンチモン(III)、四酸化二アンチモ
ン、酸化アンチモン(V)、酸化イッテルビウム(I
I)、酸化イッテルビウム(III)、酸化イットリウム、
酸化イットリウムアルミニウム、酸化イットリウム鉄、
酸化イリジウム(III)、酸化イリジウム(IV)、酸化
インジウム(I)、酸化インジウム(II)、酸化インジ
ウム(III)、酸化エルビニウム(III)、酸化オスミウ
ム(IV)、酸化オスミウム(VIII)、酸化カドミウム
(II)、酸化ガドリミニウム(III)、酸化カリウム、
酸化ガリウム(I)、酸化ガリウム(III)、酸化カル
シウム、酸化金、酸化金(III)、酸化銀(I)、一酸
化銀、酸化銀(III)、一酸化三銀、酸化クロム(I
I)、酸化クロム(III)、酸化クロム(IV)、酸化クロ
ム(V)、酸化クロム(VI)、酸化コバルト(II)、酸
化コバルト(III)、酸化コバルト(IV)、四酸化三コ
バルト、酸化コバルト(III)コバルト(II)、酸化サ
マリウム(III)、酸化ジルコニム(II)、酸化ジルコ
ニウム(IV)、酸化水銀(I)、酸化水銀(II)、酸化
スカンジウム、酸化スズ(II)、酸化スズ(IV)、酸化
ストロンチウム、酸化セシウム、酸化セリウム(II
I)、酸化セリウム(IV)、酸化タリウム(I)、酸化
タリウム(III)、三酸化四タリウム、酸化タングステ
ン(IV)、酸化タングステン(VI)、酸化タンタル(I
I)、酸化タンタル(IV)、酸化タンタル(V)、酸化
チタン(II)、酸化チタン(III)、酸化チタン(I
V)、酸化鉄(II)、酸化鉄(III)、四酸化三鉄、酸化
鉄(IV)、酸化テルビニウム(III)、酸化テルビニウ
ム(IV)、酸化銅(I)、酸化銅(II)、酸化トリウム
(IV)、酸化ナトリウム、酸化鉛(II)、酸化鉛(I
V)、四酸化三鉛、三酸化二鉛、酸化ニオブ(II)、酸
化ニオブ(IV)、酸化ニオブ(V)、酸化ニッケル(I
I)、酸化二マンガン(III)マンガン(II)、酸化ネオ
ジウム(III)、酸化白金(II)、酸化白金(IV)、四
酸化三白金、酸化バナジウム(II)、酸化バナジウム
(III)、酸化バナジウム(IV)、酸化バナジウム
(V)、酸化ハフニウム(IV)、酸化パラジウム(I
I)、酸化パラジウム(IV)、三酸化二パラジウム、酸
化バリウム、酸化ビスマス(III)、酸化ビスマス(I
V)、酸化ビスマス(V)、酸化砒素、酸化ベリリウ
ム、酸化ホウ素、酸化マグネシウム、酸化マンガン(I
I)、酸化マンガン(III)、酸化マンガン(IV)、酸化
マンガン(VII)、四酸化三マンガン、八酸化五マンガ
ン、酸化マンガン(IV)バリウム、酸化モリブデン(I
I)、酸化モリブデン(III)、酸化モリブデン(IV)、
酸化モリブデン(V)、酸化モリブデン(VI)、酸化ユ
ウロピウム(II)、酸化ユウロピウム(III)、四酸化
三ユウロピウム、酸化ランタン、酸化リチウム、酸化ル
テチウム(III)、酸化ルテニウム(IV)、酸化ルテニ
ウム(VIII)、酸化ルビジウム、酸化レニウム(II
I)、酸化レニウム(IV)、酸化レニウム(VI)、酸化
レニウム(VII)、酸化ロジウム(III)、酸化ロジウム
(IV)、二酸化カルシウムアルミニウム、二酸化カリウ
ム鉄(III)、シリカ、二酸化ゲルマニウム、二酸化セ
レン、二酸化タリウム(III)カリウム、二酸化タリウ
ム(III)リチウム、二酸化テルル、二酸化ナトリウム
アルミニウム、二酸化ナトリウムインジウム(III)、
二酸化ナトリウム鉄(III)、二酸化二カリウム鉛(I
I)、二酸化二ナトリウム鉛(II)、二酸化リチウムア
ルミニウム、二酸化リチウムインジウム(III)、二酸
化リチウムガリウム(III)、二酸化リチウム鉄(II
I)、三酸化インジウム(III)ガリウム(III)、三酸
化カリウムニオブ(V)、三酸化銀アンチモン(V)、
三酸化三リチウムインジウム、三酸化スズ(IV)カルシ
ウム、三酸化スズ(IV)二カリウム、四酸化カルシウム
二アルミニウム、四酸化コバルト(II)二アルミニウ
ム、四酸化三ナトリウムビスマス(V)、四酸化スズ
(IV)二カルシウム、四酸化ストロンチウム二アルミニ
ウム、四酸化ストロンチウム二インジウム(III)、四
酸化チタン(IV)四ナトリウム、四酸化チタン(IV)二
鉄(II)、四酸化チタン(IV)二バリウム、四酸化鉄二
アルミニウム、四酸化銅(II)二ビスマス(III)、四
酸化鉛(IV)二カルシウム、四酸化鉛(II)二鉄(II
I)、四酸化鉛(IV)二バリウム、四酸化二ガリウム(I
II)カルシウム、四酸化二ガリウム(III)バリウム、
四酸化二鉄(III)バリウム、四酸化バリウム二アルミ
ニウム、四酸化ベリリウム二アルミニウム、四酸化マグ
ネシウム二アルミニウム、四酸化マグネシウム二ガリウ
ム(III)、四酸化マグネシウム二鉄(III)、五酸化チ
タン(IV)二鉄(III)、五酸化二セレン、五酸化二チ
タン(IV)二カリウム、五酸化二テルル、五酸化二砒
素、六酸化三カルシウム二アルミニウム、六酸化八リチ
ウム鉛(IV)、八ホウ酸カリウム、八ホウ酸ナトリウム
等の酸化物を例示することができる。
The metals selected from Groups 1 to 16 of the periodic table of the elements in the metal or silicon oxide (C2) are the same as those described in the above (C1). Specific examples of the metal oxide in the metal or silicon oxide (C2) include zinc oxide, aluminum oxide, antimony (III) oxide, diantimony tetroxide, antimony (V) oxide, and ytterbium oxide (I
I), ytterbium (III) oxide, yttrium oxide,
Yttrium aluminum oxide, yttrium iron oxide,
Iridium (III) oxide, Iridium (IV) oxide, Indium (I) oxide, Indium (II) oxide, Indium (III) oxide, Erbium (III) oxide, Osmium (IV) oxide, Osmium (VIII), Cadmium oxide (II), gadolinium (III) oxide, potassium oxide,
Gallium (I) oxide, gallium (III) oxide, calcium oxide, gold oxide, gold (III) oxide, silver (I) oxide, silver monoxide, silver (III) oxide, trisilver monoxide, chromium oxide (I
I), chromium (III) oxide, chromium (IV) oxide, chromium (V) oxide, chromium (VI) oxide, cobalt (II) oxide, cobalt (III) oxide, cobalt (IV) oxide, tricobalt tetroxide, Cobalt (III) oxide Cobalt (II), samarium (III) oxide, zirconium (II) oxide, zirconium (IV) oxide, mercury (I), mercury (II) oxide, scandium oxide, tin (II) oxide, oxidation Tin (IV), strontium oxide, cesium oxide, cerium oxide (II
I), cerium oxide (IV), thallium oxide (I), thallium oxide (III), tetrathallium trioxide, tungsten oxide (IV), tungsten oxide (VI), tantalum oxide (I
I), tantalum oxide (IV), tantalum oxide (V), titanium oxide (II), titanium oxide (III), titanium oxide (I
V), iron (II) oxide, iron (III) oxide, triiron tetroxide, iron (IV) oxide, terbinium (III) oxide, terbinium (IV) oxide, copper (I) oxide, copper (II) oxide, Thorium (IV) oxide, sodium oxide, lead (II) oxide, lead oxide (I
V), trilead tetroxide, dilead trioxide, niobium oxide (II), niobium oxide (IV), niobium oxide (V), nickel oxide (I
I), dimanganese (III) manganese (II), neodymium (III), platinum (II) oxide, platinum (IV) oxide, triplatinum tetroxide, vanadium (II) oxide, vanadium (III) oxide, oxidation Vanadium (IV), vanadium (V) oxide, hafnium (IV) oxide, palladium oxide (I
I), palladium (IV) oxide, dipalladium trioxide, barium oxide, bismuth (III) oxide, bismuth oxide (I
V), bismuth oxide (V), arsenic oxide, beryllium oxide, boron oxide, magnesium oxide, manganese oxide (I
I), manganese oxide (III), manganese oxide (IV), manganese oxide (VII), trimanganese tetroxide, pentamanganese pentoxide, manganese (IV) oxide barium, molybdenum oxide (I
I), molybdenum (III) oxide, molybdenum (IV) oxide,
Molybdenum (V) oxide, molybdenum (VI) oxide, europium (II) oxide, europium (III) oxide, trieuropium tetroxide, lanthanum oxide, lithium oxide, lutetium (III) oxide, ruthenium oxide (IV), ruthenium oxide ( VIII), rubidium oxide, rhenium oxide (II
I), rhenium (IV) oxide, rhenium (VI), rhenium (VII), rhodium (III), rhodium (IV), calcium aluminum dioxide, potassium iron (III) dioxide, silica, germanium dioxide, dioxide Selenium, potassium thallium (III) dioxide, lithium thallium (III) dioxide, tellurium dioxide, sodium aluminum dioxide, sodium indium (III) dioxide,
Sodium iron (III) dioxide, dipotassium lead (I
I), disodium lead (II), lithium aluminum dioxide, lithium indium (III), lithium gallium (III), lithium iron dioxide (II)
I), indium (III) gallium (III), potassium niobium trioxide (V), silver antimony trioxide (V),
Indium trilithium trioxide, calcium tritin (IV) oxide, dipotassium tin (IV) oxide, calcium aluminum tetroxide, calcium aluminum (II) tetroxide, trisodium bismuth tetroxide (V), tin tetroxide (IV) dicalcium, strontium diammoxide, strontium diindium (III) tetroxide, tetrasodium titanium tetroxide (IV), diiron (II) titanium tetroxide (IV), dibarium titanium tetroxide (IV) , Dialuminum iron tetroxide, copper (II) tetroxide, bismuth (III), lead tetroxide (IV) dicalcium, lead tetroxide (II) diiron (II)
I), dibarium lead (IV) oxide, digallium tetroxide (I
II) calcium, barium dioxide (III) barium,
Barium diiron (III) tetroxide, barium tetroxide, beryllium tetroxide, magnesium tetroxide, magnesium tetroxide (III), magnesium tetroxide (III), titanium pentoxide (IV ) Diiron (III), diselenium pentoxide, dititanium pentoxide (dipotassium), ditellurium pentoxide, diarsenic pentoxide, tricalcium dialuminum pentaoxide, octalithium pentoxide (IV), octahedral Oxides such as potassium acid and sodium octaborate can be exemplified.

【0039】前記酸化物(C2)として好ましくは、酸
化マグネシウム、酸化アルミニウム、シリカ、四酸化三
鉄、酸化チタン(IV)、酸化ジルコニウム(IV)、また
は酸化マンガンであり、特に好ましくはシリカまたは四
酸化三鉄である。
The oxide (C2) is preferably magnesium oxide, aluminum oxide, silica, triiron tetroxide, titanium (IV) oxide, zirconium (IV) oxide or manganese oxide, particularly preferably silica or quaternary oxide. It is ferric oxide.

【0040】かかる酸化物(C2)は単一の酸化物のみ
を用いても、または酸化物を含む複合物または混合物と
しても用いることができる。また、表面に水酸基がつい
ていてもよい。このような複合物または混合物として
は、天然または合成ゼオライト、シリカ−酸化マンガ
ン、シリカ−酸化アルミニウム、シリカ−酸化チタニウ
ム、シリカ−酸化バナジウム、シリカ−酸化チタニウム
−酸化マグネシウム等が挙げられる。
The oxide (C2) may be used alone or as a composite or a mixture containing the oxide. Moreover, a hydroxyl group may be attached to the surface. Such composites or mixtures include natural or synthetic zeolites, silica-manganese oxide, silica-aluminum oxide, silica-titanium oxide, silica-vanadium oxide, silica-titanium oxide-magnesium oxide, and the like.

【0041】前記層状珪酸塩化合物(C3)とは一般に
SiO4 四面体が3つの頂点で繋がって2次元のシート
状となり、これとほかのイオン(アルミニウム、マグネ
シウム、鉄などのイオン)が組み合わさって重なり、層
状構造の結晶となったもので、フィロ珪酸塩に属する一
般的に粘土鉱物と言われるものである。
In general, the layered silicate compound (C3) is composed of SiO 4 tetrahedrons connected at three vertices to form a two-dimensional sheet, which is combined with other ions (ions of aluminum, magnesium, iron, etc.). It overlaps and becomes a crystal having a layered structure, and is generally called a clay mineral belonging to phyllosilicate.

【0042】層状珪酸塩化合物としては、具体的にはカ
オリナイト、ナクライト、ディッカイト、メタハロイサ
イト、ハロイサイト、などのカオリン鉱物;アンチゴラ
イト、クリソタイル、アメサイト、クロンステダイト、
シャモサイトなどの蛇紋石鉱物;モンモリロナイト、バ
イデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライ
トなどのスメクタイト類;白雲母、パラゴナイト、セリ
サイト、背ラドナイト、海緑石、金雲母、弗化金雲母、
黒雲母、鱗雲母などの雲母粘土鉱物;パイロフィライ
ト、タルク;バーミキュライト;ペンニン、クッケアイ
ト、スドー石などの緑泥石;コレンサイト;トスダイト
などが挙げられ、これらは天然のものであっても、合成
されたものであっても良い。これらの中でもスメクタイ
ト類、雲母粘土鉱物またはタルクなどがより好ましい。
Specific examples of the layered silicate compound include kaolin minerals such as kaolinite, naclite, dickite, metahaloisite, halloysite, etc .; antigolite, chrysotile, amesite, clonsteadite,
Serpentine minerals such as chamosite; smectites such as montmorillonite, beidellite, nontronite, saponite, hectorite; muscovite, paragonite, sericite, dorsaldonite, sea chlorite, phlogopite, fluorphlogopite,
Mica clay minerals such as biotite and scale mica; pyrophyllite, talc; vermiculite; chlorite such as pennin, cocoaite, and sudolite; colensite; tosdite; It may be done. Among these, smectites, mica clay minerals and talc are more preferred.

【0043】かかる層状珪酸塩化合物には、化学処理を
施してもよい。化学処理としては、表面に付着している
不純物を除去する表面処理、層間に嵩高いゲスト化合物
を導入し層間を拡大する処理を施すこともできる。例え
ば、ヘキサン、ヘプタンなどのような脂肪族炭化水素溶
媒やトルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒など
の有機溶媒中で分散および/または膨潤しやすいように
親油化処理を行ってもよい。親油化処理とは一般的に層
状珪酸塩化合物の層間に存在する交換性陽イオンを、有
機陽イオンなどでイオン交換する処理のことである。有
機陽イオンとしてはたとえば有機アンモニウムイオンや
有機錯体陽イオンなどが挙げられ、中でも特に4級アン
モニウムイオンがよく用いられる。
The layered silicate compound may be subjected to a chemical treatment. As the chemical treatment, a surface treatment for removing impurities adhering to the surface, or a treatment for introducing a bulky guest compound between the layers and expanding the layers may be performed. For example, the lipophilic treatment may be performed so as to be easily dispersed and / or swelled in an organic solvent such as an aliphatic hydrocarbon solvent such as hexane or heptane or an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene or xylene. The lipophilic treatment is generally a treatment of exchanging exchangeable cations existing between layers of the layered silicate compound with organic cations or the like. Examples of the organic cation include an organic ammonium ion and an organic complex cation. Among them, a quaternary ammonium ion is particularly often used.

【0044】本発明で用いられる固体の無機化合物とし
て特に好ましくは、塩化ナトリウム、ヨウ化ナトリウ
ム、塩化マグネシウム、塩化マンガン(II)、塩化鉄
(II)、臭化ニッケル(II)、シリカ、四酸化三鉄、モ
ンモリロナイトまたは合成サポナイトである。
Particularly preferred as solid inorganic compounds used in the present invention are sodium chloride, sodium iodide, magnesium chloride, manganese (II) chloride, iron (II) chloride, nickel (II) bromide, silica, tetroxide. Three iron, montmorillonite or synthetic saponite.

【0045】本発明で用いられる固体の無機化合物はそ
のまま用いても、ボールミルやメノウ乳鉢等による粉砕
(摩砕)、ふるい分けなどの処理を施すこともできる。
さらに、単独で用いても、2種類以上を組み合わせても
よい。
The solid inorganic compound used in the present invention may be used as it is, or may be subjected to a treatment such as pulverization (grinding) using a ball mill or agate mortar, or sieving.
Further, they may be used alone or in combination of two or more.

【0046】本発明の付加重合用触媒の使用に際して有
機アルミニウム化合物(A)の使用量は、重合系内の有
機アルミニウム化合物(A)の濃度を通常10-6〜10
mol/lのごとく広範囲に選ぶ事ができる。好ましく
は10-5〜1mol/lの範囲である。
In using the catalyst for addition polymerization of the present invention, the amount of the organoaluminum compound (A) used is usually from 10 -6 to 10 in terms of the concentration of the organoaluminum compound (A) in the polymerization system.
It can be selected over a wide range such as mol / l. Preferably it is in the range of 10 -5 to 1 mol / l.

【0047】ホウ素化合物(B)の使用量は、有機アル
ミニウム化合物(A)とのモル比[(A)/(B)]が
通常0.1〜10000の範囲、好ましくは0.5〜5
000の範囲となるような量で用いられる。
The amount of the boron compound (B) used is such that the molar ratio [(A) / (B)] to the organoaluminum compound (A) is usually in the range of 0.1 to 10,000, preferably 0.5 to 5
000 is used.

【0048】固体の無機化合物(C)の使用量は、重合
系内の固体の無機化合物(C)の濃度を通常0.001
mg/l〜1000g/lのごとく広範囲に選ぶ事がで
きる。好ましくは0.01mg/l〜100g/lの範
囲である。
The amount of the solid inorganic compound (C) used is such that the concentration of the solid inorganic compound (C) in the polymerization system is usually 0.001.
It can be selected over a wide range such as from mg / l to 1000 g / l. Preferably it is in the range of 0.01 mg / l to 100 g / l.

【0049】各成分を重合槽に供給する方法としては、
例えば窒素、アルゴン等の不活性ガス中で水分のない状
態で供給する。触媒成分(A)、(B)および(C)は
個別に供給してもよいし、予め接触させて供給してもよ
い。
As a method of supplying each component to the polymerization tank,
For example, it is supplied in an inert gas such as nitrogen or argon without moisture. The catalyst components (A), (B) and (C) may be supplied individually or may be supplied in contact with each other in advance.

【0050】重合温度は、通常−80〜300℃までに
わたって実施されるが、好ましくは−40〜280℃、
より好ましくは20〜250℃である。重合圧力は特に
制限はないが、工業的かつ経済的であるという点で常圧
〜150気圧程度が好ましい。重合時間は一般的に目的
とするポリマーの種類、反応装置により適宜決定される
が通常1分から40時間の範囲を取り得る。
The polymerization temperature is usually from -80 to 300 ° C, preferably from -40 to 280 ° C.
More preferably, it is 20 to 250 ° C. The polymerization pressure is not particularly limited, but is preferably about normal pressure to about 150 atm from the viewpoint of industrial and economical use. The polymerization time is generally appropriately determined depending on the kind of the target polymer and the reaction apparatus, but can usually range from 1 minute to 40 hours.

【0051】重合プロセスは、連続式でもバッチ式でも
いずれも可能である。またプロパン、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレンのような
炭化水素溶媒またはクロロベンゼン、o−ジクロロベン
ゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素溶媒を用いるスラ
リー重合もしくは溶媒重合、無溶媒による液相重合また
は気相重合もできる。
The polymerization process may be either a continuous type or a batch type. Slurry polymerization or solvent polymerization using a hydrocarbon solvent such as propane, pentane, hexane, heptane, octane, toluene, xylene or a halogenated aromatic hydrocarbon solvent such as chlorobenzene or o-dichlorobenzene, or liquid phase polymerization without solvent Alternatively, gas phase polymerization is also possible.

【0052】さらに、本発明において、通常チグラー−
ナッタ触媒系で用いられる第3成分である電子供与体も
用いることができる。
Furthermore, in the present invention, the usual Ziggler
An electron donor, which is the third component used in the Natta catalyst system, can also be used.

【0053】本発明の付加重合体の製造方法は、上述の
付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方法であり、
好ましくは上述の付加重合用触媒を使用して、付加重合
性単量体を単独重合あるいは付加重合性単量体と他の付
加重合性単量体とを共重合させる付加重合体の製造方法
である。
The method for producing an addition polymer of the present invention is a method for producing an addition polymer using the above-mentioned catalyst for addition polymerization.
Preferably, using the above-described addition polymerization catalyst, an addition polymerizable monomer is homopolymerized or an addition polymer production method in which an addition polymerizable monomer is copolymerized with another addition polymerizable monomer. is there.

【0054】本発明の付加重合体の製造方法において用
いられる付加重合性単量体としてはオレフィン類、ビニ
ルエステル類、エチレン性不飽和カルボン酸類またはそ
のエステル類、およびアルケニル芳香族炭化水素から選
ばれる化合物が挙げられ、特にオレフィン類が好まし
い。
The addition polymerizable monomer used in the production method of the addition polymer of the present invention is selected from olefins, vinyl esters, ethylenically unsaturated carboxylic acids or their esters, and alkenyl aromatic hydrocarbons. And olefins are particularly preferred.

【0055】前記オレフィン類としては、炭素原子数2
〜20個からなるオレフィン類、特にエチレン、炭素原
子数3〜20のα−オレフィン、炭素原子数4〜20の
ジオレフィン類等を用いることができ、同時に2種類以
上のモノマーを用いることもできる。オレフィン類の具
体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1
−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテ
ン、1−ノネン、1−デセン等の直鎖状オレフィン類、
3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、
4−メチル−1−ペンテン等の分岐オレフィン類、ビニ
ルシクロヘキサン等が例示されるが、本発明は上記化合
物に限定されるべきものではない。
The olefins may have 2 carbon atoms.
Up to 20 olefins, particularly ethylene, α-olefins having 3 to 20 carbon atoms, diolefins having 4 to 20 carbon atoms, and the like, and two or more monomers can be used at the same time. . Specific examples of olefins include ethylene, propylene, 1-butene, 1
-Linear olefins such as pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene,
3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene,
Examples include branched olefins such as 4-methyl-1-pentene and vinylcyclohexane, but the present invention is not limited to the above compounds.

【0056】前記ビニルエステル類としては酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニルなどが挙げら
れる。
The vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate and the like.

【0057】前記エチレン性不飽和カルボン酸類または
そのエステル類としてはアクリル酸エステル化合物また
はメタクリル酸エステル化合物が好ましい。アクリル酸
エステル化合物の具体例としては、アクリル酸メチル
や、そのメチルをエチル、ノルマルプロピル、イソプロ
ピル、ノルマルブチル、イソブチル、tert−ブチル
に変更した化合物等を例示することができ、またメタク
リル酸エステル化合物の具体例としては、メタクリル酸
メチルや、そのメチルをエチル、ノルマルプロピル、イ
ソプロピル、ノルマルブチル、イソブチル、tert−
ブチルに変更した化合物等を例示することができる。
The ethylenically unsaturated carboxylic acids or esters thereof are preferably acrylate or methacrylate compounds. Specific examples of the acrylate compound include methyl acrylate, and compounds in which the methyl is changed to ethyl, normal propyl, isopropyl, normal butyl, isobutyl, tert-butyl, and the like, and a methacrylic acid ester compound As a specific example of methyl methacrylate or methyl methacrylate, ethyl, normal propyl, isopropyl, normal butyl, isobutyl, tert-
Compounds changed to butyl can be exemplified.

【0058】前記アルケニル芳香族炭化水素としては、
炭素原子数6〜25の芳香族炭化水素基を有するアルケ
ニル化合物が好ましい。炭素原子数6〜25の芳香族炭
化水素基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キ
シリル基、第3級ブチルフェニル基、ビニルフェニル
基、ナフチル基、フェナントリル基、アントラセニル基
等を挙げることができる。好ましくは、フェニル基、ト
リル基、キシリル基、第3級ブチルフェニル基、ビニル
フェニル基、ナフチル基である。かかるアルケニル芳香
族炭化水素の具体例としては、スチレン、2−フェニル
プロピレン、2−フェニルブテン等のアルケニルベンゼ
ン;p−メチルスチレン、m−メチルスチレン、o−メ
チルスチレン、p−エチルスチレン、m−エチルスチレ
ン、o−エチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、
2,5−ジメチルスチレン、3,4−ジメチルスチレ
ン、3,5−ジメチルスチレン、3−メチル−5−エチ
ルスチレン、p−第3級ブチルスチレン、p−第2級ブ
チルスチレンなどのアルキルスチレン;1−ビニルナフ
タレン等のビニルナフタレン;p−字ビニルベンゼン等
のジビニルベンゼン等を例示することができる。
The alkenyl aromatic hydrocarbon includes
Alkenyl compounds having an aromatic hydrocarbon group having 6 to 25 carbon atoms are preferred. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 25 carbon atoms include phenyl, tolyl, xylyl, tertiary butylphenyl, vinylphenyl, naphthyl, phenanthryl, and anthracenyl groups. Can be. Preferred are a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a tertiary butylphenyl group, a vinylphenyl group, and a naphthyl group. Specific examples of such alkenyl aromatic hydrocarbons include alkenylbenzenes such as styrene, 2-phenylpropylene, and 2-phenylbutene; p-methylstyrene, m-methylstyrene, o-methylstyrene, p-ethylstyrene, and m-methylstyrene. Ethyl styrene, o-ethyl styrene, 2,4-dimethyl styrene,
Alkylstyrenes such as 2,5-dimethylstyrene, 3,4-dimethylstyrene, 3,5-dimethylstyrene, 3-methyl-5-ethylstyrene, p-tertiary butylstyrene, and p-secondary butylstyrene; Examples thereof include vinyl naphthalene such as 1-vinyl naphthalene; divinyl benzene such as p-shaped vinyl benzene;

【0059】前記付加重合性単量体としてより好ましく
は、エチレンまたは炭素原子数3〜20のα−オレフィ
ン、あるいは、炭素原子数3〜20のα−オレフィンお
よびエチレンから選ばれる2種以上の混合物である。
More preferably, the addition polymerizable monomer is ethylene or an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, or a mixture of two or more selected from α-olefins having 3 to 20 carbon atoms and ethylene. It is.

【0060】本発明の付加重合用触媒はオレフィン重合
用触媒として用いることが好適であり、本発明の付加重
合体の製造方法はオレフィン重合体の製造に好適であ
る。本発明の付加重合体の製造方法で製造する共重合体
として好ましくはエチレンとα−オレフィンとの共重合
体(中でも直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)が
好ましい)であり、共重合体を構成するモノマーの組み
合わせの具体例としては、エチレンとプロピレン、エチ
レンと1−ブテン、エチレンと1−ヘキセン、エチレン
と1−オクテン等が例示されるが、本発明はこれらの組
み合わせに限定されるべきものではない。
The addition polymerization catalyst of the present invention is preferably used as an olefin polymerization catalyst, and the method for producing an addition polymer of the present invention is suitable for producing an olefin polymer. The copolymer produced by the production method of the addition polymer of the present invention is preferably a copolymer of ethylene and an α-olefin (in particular, a linear low-density polyethylene (LLDPE) is preferable), and constitutes the copolymer. Specific examples of the combination of the monomers include ethylene and propylene, ethylene and 1-butene, ethylene and 1-hexene, ethylene and 1-octene, and the like. However, the present invention should not be limited to these combinations. is not.

【0061】また、本発明の付加重合体の分子量を調整
するために、水素やシラン化合物等の連鎖移動剤を添加
することもできる。
Further, in order to adjust the molecular weight of the addition polymer of the present invention, a chain transfer agent such as hydrogen or a silane compound may be added.

【0062】[0062]

【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
するが本発明の範囲は実施例のみに限定されるものでは
ない。なお、実施例中の各項目の測定値は、下記の方法
で測定した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to Examples. In addition, the measurement value of each item in an Example was measured by the following method.

【0063】(1)極限粘度([η]:dl/g) ウベローデ型粘度計を用い、テトラリン中、135℃で
測定した。
(1) Intrinsic viscosity ([η]: dl / g) Measured at 135 ° C. in tetralin using an Ubbelohde viscometer.

【0064】(2)重量平均分子量(Mw)、数平均分
子量(Mn)、分子量分布(Mw/Mn) ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)に
より、下記の条件で測定した。また、検量線は標準ポリ
スチレンを用いて作成した。分子量分布は重量平均分子
量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/M
n)で評価した。 機種 ミリポアウオーターズ社製 150CV型 カラム Shodex M/S 80 測定温度 145℃、溶媒 オルトジクロロベンゼン、 サンプル濃度 5mg/8ml
(2) Weight average molecular weight (Mw), number average molecular weight (Mn), molecular weight distribution (Mw / Mn) Measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions. The calibration curve was prepared using standard polystyrene. The molecular weight distribution is expressed by the ratio (Mw / M) between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn).
n). Model Millipore Waters 150CV type Column Shodex M / S 80 Measurement temperature 145 ° C, solvent orthodichlorobenzene, sample concentration 5mg / 8ml

【0065】(3)融点(Tm:℃) 服部セイコー社製 SSC−5200 を用いて、以下
の条件で測定した。 昇温: 40℃から150℃(10℃/分)、 5分保
持 冷却:150℃から 40℃( 5℃/分)、10分保
持 測定: 40℃から160℃( 5℃/分で昇温)
(3) Melting point (Tm: ° C.) It was measured under the following conditions using SSC-5200 manufactured by Hattori Seiko. Heating: 40 ° C to 150 ° C (10 ° C / min), hold for 5 minutes Cooling: 150 ° C to 40 ° C (5 ° C / min), hold for 10 minutes Measurement: 40 ° C to 160 ° C (5 ° C / min. )

【0066】(4)コポリマー中のコモノマーユニット
組成 ブルカー社製 AM400またはAC250を用いて、
13C−NMRを以下の条件で測定し、J. C. Randall,
J. Macro. Sci. - Rev. Macromol. Chem. Phys.,C29
(2&3)巻、201ページ(1989年)に掲載され
ている計算方法により求めた。 溶媒:o−ジクロルベンゼン/重ベンゼン=4/1(体
積比) 濃度:200mg/3ml 温度:135℃
(4) Composition of Comonomer Unit in Copolymer Using AM400 or AC250 manufactured by Bruker,
13 C-NMR was measured under the following conditions, and JC Randall,
J. Macro. Sci.-Rev. Macromol. Chem. Phys., C29
(2 & 3), page 201 (1989). Solvent: o-dichlorobenzene / heavy benzene = 4/1 (volume ratio) Concentration: 200 mg / 3 ml Temperature: 135 ° C.

【0067】下記の実施例において重合時に使用した各
試剤は以下の通りである。 ・トリイソブチルアルミニウム:東ソー・アクゾ(株)
製市販品、トリイソブチルアルミニウムをトルエンで希
釈し1Mの溶液として使用した。 ・トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボレート:東ソー・アクゾ(株)製市販
品、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフル
オロフェニル)ボレートをトルエンで希釈し0.005
Mの溶液として使用した。 ・塩化マンガン(II)(Aldrich社製市販品、純度9
9.999%)、塩化鉄(II)(関東化学(株)製市販
品、鹿特級)、塩化マグネシウム(純正化学(株)製市
販品、純度99.99%)、臭化ニッケル(II)(Stre
m Chemicals社製市販品、純度99%)、塩化ナトリウ
ム(関東化学(株)製市販品、鹿特級)、およびヨウ化
ナトリウム(Aldrich社製市販品、純度99.999
%)は窒素雰囲気下にてメノウ製乳鉢を用いて粉砕した
ものを使用した。シリカ(デビソン社製市販品、SMR
49−2903 平均粒径50μm)、モンモリロナイ
ト(クニミネ工業社製市販品、クニピア−F)、合成サ
ポナイト(クニミネ工業社製市販品、スメクトン−S
A)は窒素雰囲気下にてメノウ製乳鉢を用いて粉砕した
ものを使用した。酸化鉄(II, III)(Aldrich社製市販
品、純度98%)は市販品をそのまま使用した。
In the following examples, each reagent used at the time of polymerization is as follows.・ Triisobutyl aluminum: Tosoh Akzo Co., Ltd.
A commercially available product, triisobutylaluminum, was diluted with toluene and used as a 1M solution. -Triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate: A commercially available product manufactured by Tosoh Akzo Co., Ltd., which is obtained by diluting triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate with toluene to 0.005.
M used as a solution.・ Manganese (II) chloride (commercially available from Aldrich, purity 9)
9.999%), iron (II) chloride (commercially available from Kanto Chemical Co., Ltd., deer special grade), magnesium chloride (commercially available from Junsei Chemical Co., Ltd., purity 99.99%), nickel (II) bromide (Stre
m Chemicals commercial product, purity 99%), sodium chloride (Kanto Chemical Co., Ltd. commercial, deer special grade), and sodium iodide (Aldrich commercial product, purity 99.999)
%) Used what was ground using an agate mortar under a nitrogen atmosphere. Silica (commercially available from Devison, SMR
49-2903, average particle size 50 μm), montmorillonite (commercially available from Kunimine Industries, Kunipia-F), synthetic saponite (commercially available from Kunimine Industries, Smecton-S)
A) used what was ground using the agate mortar under nitrogen atmosphere. Commercially available iron oxide (II, III) (commercially available from Aldrich, purity 98%) was used as it was.

【0068】[実施例1]400mlの掻き混ぜ式ステ
ンレス製オートクレーブをアルゴン置換し、精製したト
ルエン200mlを仕込み、オートクレーブ内を35℃
に調節した。トリイソブチルアルミニウム1ml(1m
mol)と塩化マンガン(II)14mgを加えた。35
℃で3分間攪拌後、トリフェニルカルベニウムテトラキ
ス(ペンタフルオロフェニル)ボレート1ml(5μm
ol)を加え攪拌した。このときのアルミニウム原子と
ホウ素原子とのモル比[Al]/[B]は200であっ
た。1.0MPaのエチレンガスをフィードし、40℃
で60分重合した。この間、系内の圧力が一定になるよ
うにエチレンガスをフィードし続けた。その後、エタノ
ール10mlを圧入することで重合を停止した。未反応
エチレンガスをパージし、オートクレーブ内容物を3N
塩酸20mlが加えられたエタノール400mlに投
入し、析出した重合体を濾別して80℃で約4時間乾燥
を行った。その結果、7.0gのポリエチレンが得られ
た。得られたポリエチレンの極限粘度([η])は1.
39dl/gであり、重量平均分子量(Mw)は756
00、分子量分布(Mw/Mn)は2.0、融点(T
m)は136℃であった。
Example 1 400 ml of a stirring stainless steel autoclave was replaced with argon, 200 ml of purified toluene was charged, and the inside of the autoclave was heated to 35 ° C.
Was adjusted to Triisobutylaluminum 1ml (1m
mol) and 14 mg of manganese (II) chloride. 35
After stirring at 3 ° C. for 3 minutes, 1 ml of triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate (5 μm
ol) and stirred. At this time, the molar ratio [Al] / [B] between the aluminum atom and the boron atom was 200. Feed ethylene gas of 1.0MPa, 40 ℃
For 60 minutes. During this time, ethylene gas was continuously fed so that the pressure in the system became constant. Thereafter, 10 ml of ethanol was injected under pressure to terminate the polymerization. Unreacted ethylene gas is purged and the contents of the autoclave are reduced to 3N.
The solution was poured into 400 ml of ethanol to which 20 ml of hydrochloric acid had been added, and the precipitated polymer was separated by filtration and dried at 80 ° C. for about 4 hours. As a result, 7.0 g of polyethylene was obtained. The intrinsic viscosity ([η]) of the obtained polyethylene was 1.
39 dl / g and a weight average molecular weight (Mw) of 756
00, molecular weight distribution (Mw / Mn) 2.0, melting point (T
m) was 136 ° C.

【0069】[実施例2]実施例1において、塩化マン
ガン(II)を塩化鉄(II)9.5mgに変更した以外
は、実施例1と同一の装置および同じ手順で行った。そ
の結果、2.07gのポリエチレンが得られた。得られ
たポリエチレンの重量平均分子量(Mw)は7540
0、分子量分布(Mw/Mn)は1.6、融点(Tm)
は136℃であった。
Example 2 Example 1 was repeated, except that the amount of manganese (II) chloride was changed to 9.5 mg of iron (II) chloride. As a result, 2.07 g of polyethylene was obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyethylene was 7,540.
0, molecular weight distribution (Mw / Mn) is 1.6, melting point (Tm)
Was 136 ° C.

【0070】[実施例3]実施例1において、塩化マン
ガン(II)を塩化マグネシウム11.7mgに変更した
以外は、実施例1と同一の装置および同じ手順で行っ
た。その結果、5.24gのポリエチレンが得られた。
得られたポリエチレンの重量平均分子量(Mw)は75
800、分子量分布(Mw/Mn)は1.7、融点(T
m)は136℃であった。
Example 3 Example 1 was repeated, except that manganese (II) chloride was changed to 11.7 mg of magnesium chloride. As a result, 5.24 g of polyethylene was obtained.
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyethylene is 75.
800, molecular weight distribution (Mw / Mn) 1.7, melting point (T
m) was 136 ° C.

【0071】[実施例4]実施例1において、塩化マン
ガン(II)を臭化ニッケル(II)16.1mgに変更し
た以外は、実施例1と同一の装置および同じ手順で行っ
た。その結果、1.75gのポリエチレンが得られた。
得られたポリエチレンの重量平均分子量(Mw)は78
500、分子量分布(Mw/Mn)は1.6、融点(T
m)は136℃であった。
[Example 4] The procedure was carried out in the same manner as in Example 1, except that manganese (II) chloride was changed to 16.1 mg of nickel (II) bromide. As a result, 1.75 g of polyethylene was obtained.
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyethylene was 78.
500, molecular weight distribution (Mw / Mn) 1.6, melting point (T
m) was 136 ° C.

【0072】[実施例5]実施例1において、塩化マン
ガン(II)を塩化ナトリウム11.8mgに変更した以
外は、実施例1と同一の装置および同じ手順で行った。
その結果、0.48gのポリエチレンが得られた。得ら
れたポリエチレンの重量平均分子量(Mw)は1340
00、分子量分布(Mw/Mn)は2.6、融点(T
m)は136℃であった。
Example 5 The procedure was performed in the same manner as in Example 1, except that manganese (II) chloride was changed to 11.8 mg of sodium chloride.
As a result, 0.48 g of polyethylene was obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyethylene was 1340.
00, molecular weight distribution (Mw / Mn) 2.6, melting point (T
m) was 136 ° C.

【0073】[実施例6]実施例1において、塩化マン
ガン(II)をヨウ化ナトリウム13.5mgに変更した
以外は、実施例1と同一の装置および同じ手順で行っ
た。その結果、0.63gのポリエチレンが得られた。
得られたポリエチレンの重量平均分子量(Mw)は74
300、分子量分布(Mw/Mn)は1.6、融点(T
m)は136℃であった。
Example 6 Example 1 was repeated except that manganese (II) chloride was changed to 13.5 mg of sodium iodide. As a result, 0.63 g of polyethylene was obtained.
The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyethylene was 74.
300, molecular weight distribution (Mw / Mn) 1.6, melting point (T
m) was 136 ° C.

【0074】[実施例7]400mlの掻き混ぜ式ステ
ンレス製オートクレーブをアルゴン置換し、精製したト
ルエン200mlを仕込み、オートクレーブ内を25℃
に調節した。トリイソブチルアルミニウム1ml(1m
mol)とシリカ12mgを加えた。35℃で3分間攪
拌後、トリフェニルカルベニウムテトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボレート1ml(5μmol)を加え
攪拌した。このときのアルミニウム原子とホウ素原子と
のモル比[Al]/[B]は200であった。30分
後、1.0MPaのエチレンガスをフィードし、40℃
で60分重合した。この間、系内の圧力が一定になるよ
うにエチレンガスをフィードし続けた。その後、エタノ
ール10mlを圧入することで重合を停止した。未反応
エチレンガスをパージし、オートクレーブ内容物を3N
塩酸20mlが加えられたエタノール400mlに投
入し、析出した重合体を濾別して80℃で約4時間乾燥
を行った。その結果、8.39gのポリエチレンが得ら
れた。得られたポリエチレンの極限粘度([η])は
1.32dl/gであり、重量平均分子量(Mw)は7
4900、分子量分布(Mw/Mn)は1.9、融点
(Tm)は136℃であった。
Example 7 400 ml of a stirring stainless steel autoclave was replaced with argon, 200 ml of purified toluene was charged, and the inside of the autoclave was heated to 25 ° C.
Was adjusted to Triisobutylaluminum 1ml (1m
mol) and 12 mg of silica. After stirring at 35 ° C. for 3 minutes, 1 ml (5 μmol) of triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate was added and stirred. At this time, the molar ratio [Al] / [B] between the aluminum atom and the boron atom was 200. After 30 minutes, ethylene gas of 1.0 MPa was fed, and 40 ° C.
For 60 minutes. During this time, ethylene gas was continuously fed so that the pressure in the system became constant. Thereafter, 10 ml of ethanol was injected under pressure to terminate the polymerization. Unreacted ethylene gas is purged and the contents of the autoclave are reduced to 3N.
The solution was poured into 400 ml of ethanol to which 20 ml of hydrochloric acid had been added, and the precipitated polymer was separated by filtration and dried at 80 ° C. for about 4 hours. As a result, 8.39 g of polyethylene was obtained. The intrinsic viscosity ([η]) of the obtained polyethylene is 1.32 dl / g, and the weight average molecular weight (Mw) is 7
4900, molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.9, and melting point (Tm) was 136 ° C.

【0075】[実施例8]実施例7において、シリカを
酸化鉄13mgに変更した以外は、実施例1と同一の装
置および同じ手順で行った。その結果、1.87gのポ
リエチレンが得られた。得られたポリエチレンの重量平
均分子量(Mw)は82250、分子量分布(Mw/M
n)は2.1、融点(Tm)は136℃であった。
Example 8 The same procedure as in Example 1 was carried out, except that the silica was changed to 13 mg of iron oxide in Example 7, and the procedure was carried out. As a result, 1.87 g of polyethylene was obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyethylene was 82250, and the molecular weight distribution (Mw / M
n) was 2.1 and the melting point (Tm) was 136 ° C.

【0076】[実施例9]実施例7において、シリカを
モンモリロナイト15mgに変更した以外は、実施例1
と同一の装置および同じ手順で行った。その結果、7.
75gのポリエチレンが得られた。得られたポリエチレ
ンの極限粘度([η])は1.39dl/gであり、重
量平均分子量(Mw)は74220、分子量分布(Mw
/Mn)は1.8、融点(Tm)は136℃であった。
Example 9 Example 1 was repeated except that the silica was changed to 15 mg of montmorillonite.
The same apparatus and the same procedure were used. As a result, 7.
75 g of polyethylene were obtained. The intrinsic viscosity ([η]) of the obtained polyethylene is 1.39 dl / g, the weight average molecular weight (Mw) is 74220, and the molecular weight distribution (Mw)
/ Mn) was 1.8 and the melting point (Tm) was 136 ° C.

【0077】[実施例10]実施例7において、シリカ
を合成サポナイト 13.6mgに変更した以外は、実
施例1と同一の装置および同じ手順で行った。その結
果、2.69gのポリエチレンが得られた。得られたポ
リエチレンの重量平均分子量(Mw)は72750、分
子量分布(Mw/Mn)は1.8、融点(Tm)は13
6℃であった。
[Example 10] The procedure was performed in the same manner as in Example 1, except that the silica was changed to 13.6 mg of synthetic saponite. As a result, 2.69 g of polyethylene was obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyethylene was 72750, the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.8, and the melting point (Tm) was 13
6 ° C.

【0078】[実施例11]400mlの掻き混ぜ式ス
テンレス製オートクレーブをアルゴン置換し、精製した
トルエン100ml、1−ヘキセン100ml、エチレ
ンガス1.0MPaを仕込み、オートクレーブ内を40
℃に調節した。トリイソブチルアルミニウム1ml(1
mmol)と塩化マンガン(II)27.5mgを加え
た。40℃で3分間攪拌後、トリフェニルカルベニウム
テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート3ml
(15μmol)を加え攪拌した。このときのアルミニ
ウム原子とホウ素原子とのモル比[Al]/[B]は6
7であった。1.0MPaのエチレンガスをフィード
し、40℃で60分重合した。この間、系内の圧力が一
定になるようにエチレンガスをフィードし続けた。その
後、エタノール10mlを加え重合を停止した。未反応
エチレンガスをパージし、オートクレーブ内容物を3N
塩酸20mlが加えられたエタノール400mlに投
入し、析出した重合体を濾別して80℃で約4時間乾燥
を行った。その結果、1.36gのコポリマーが得られ
た。得られたコポリマーの極限粘度([η])は1.1
5dl/gであり、重量平均分子量(Mw)は5740
0、分子量分布(Mw/Mn)は1.7であった。コポ
リマー中の1−ヘキセンユニット組成は0.11、融点
(Tm)は69℃であった。
Example 11 A 400 ml stirred autoclave made of stainless steel was replaced with argon, and 100 ml of purified toluene, 100 ml of 1-hexene, and 1.0 MPa of ethylene gas were charged.
Adjusted to ° C. Triisobutylaluminum 1 ml (1
mmol) and 27.5 mg of manganese (II) chloride. After stirring at 40 ° C. for 3 minutes, triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate 3 ml
(15 μmol) and stirred. At this time, the molar ratio [Al] / [B] between the aluminum atom and the boron atom is 6
It was 7. A 1.0 MPa ethylene gas was fed, and polymerization was performed at 40 ° C. for 60 minutes. During this time, ethylene gas was continuously fed so that the pressure in the system became constant. Thereafter, 10 ml of ethanol was added to terminate the polymerization. Unreacted ethylene gas is purged and the contents of the autoclave are reduced to 3N.
The solution was poured into 400 ml of ethanol to which 20 ml of hydrochloric acid had been added, and the precipitated polymer was separated by filtration and dried at 80 ° C. for about 4 hours. As a result, 1.36 g of a copolymer was obtained. The intrinsic viscosity ([η]) of the obtained copolymer is 1.1.
5 dl / g and a weight average molecular weight (Mw) of 5740
0, molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.7. The 1-hexene unit composition in the copolymer was 0.11, and the melting point (Tm) was 69 ° C.

【0079】[実施例12]実施例11において、塩化
マンガン(II)をシリカ33mgに変更した以外は、実
施例11と同一の装置および同じ手順で行った。その結
果、4.10gのコポリマーが得られた。得られたコポ
リマーの極限粘度([η])は1.05dl/gであ
り、重量平均分子量(Mw)は61580、分子量分布
(Mw/Mn)は1.7であった。コポリマー中の1−
ヘキセンユニット組成は0.11、融点(Tm)は82
℃であった。
Example 12 Example 12 was repeated, except that manganese (II) chloride was changed to 33 mg of silica. As a result, 4.10 g of a copolymer was obtained. The intrinsic viscosity ([η]) of the obtained copolymer was 1.05 dl / g, the weight average molecular weight (Mw) was 61580, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.7. 1- in the copolymer
Hexene unit composition: 0.11, melting point (Tm): 82
° C.

【0080】[比較例1]400mlの掻き混ぜ式ステ
ンレス製オートクレーブをアルゴン置換し、精製したト
ルエン200mlを仕込み、オートクレーブ内を35℃
に調節した。トリイソブチルアルミニウム1ml(1m
mol)と塩化マンガン(II)13mgを加えた。1.
0MPaのエチレンガスをフィードし、40℃に60分
間保持した。その後、エタノール10mlを圧入した。
未反応エチレンガスをパージし、オートクレーブ内容物
を3N 塩酸20mlが加えられたエタノール400m
lに投入した。その結果、ポリエチレンは得られなかっ
た。
[Comparative Example 1] 400 ml of a stirring stainless steel autoclave was replaced with argon, 200 ml of purified toluene was charged, and the inside of the autoclave was heated to 35 ° C.
Was adjusted to Triisobutylaluminum 1ml (1m
mol) and 13 mg of manganese (II) chloride. 1.
An ethylene gas of 0 MPa was fed, and maintained at 40 ° C. for 60 minutes. Thereafter, 10 ml of ethanol was injected.
Unreacted ethylene gas was purged, and the contents of the autoclave were replaced with 400 ml of ethanol containing 20 ml of 3N hydrochloric acid.
l. As a result, polyethylene was not obtained.

【0081】[比較例2]400mlの掻き混ぜ式ステ
ンレス製オートクレーブをアルゴン置換し、精製したト
ルエン200mlを仕込み、オートクレーブ内を35℃
に調節した。塩化マンガン(II)10mgとトリフェニ
ルカルベニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)
ボレート1ml(5μmol)を加えた。1.0MPa
のエチレンガスをフィードし、40℃に60分間保持し
た。その後、エタノール10mlを圧入した。未反応エ
チレンガスをパージし、オートクレーブ内容物を3N
塩酸20mlが加えられたエタノール400mlに投入
した。その結果、ポリエチレンは得られなかった。
[Comparative Example 2] A 400 ml stirring type stainless steel autoclave was replaced with argon, 200 ml of purified toluene was charged, and the inside of the autoclave was heated to 35 ° C.
Was adjusted to Manganese (II) chloride 10mg and triphenylcarbenium tetrakis (pentafluorophenyl)
1 ml (5 μmol) of borate was added. 1.0MPa
Was fed and kept at 40 ° C. for 60 minutes. Thereafter, 10 ml of ethanol was injected. Unreacted ethylene gas is purged and the contents of the autoclave are reduced to 3N.
The solution was added to 400 ml of ethanol to which 20 ml of hydrochloric acid had been added. As a result, polyethylene was not obtained.

【0082】[0082]

【発明の効果】以上、詳述したように本発明によれば、
高い重合活性を示す付加重合用触媒、および付加重合体
を効率よく製造する方法が提供される。本発明によれ
ば、従来は高い重合活性を発現させるためには必須であ
ると考えられていた従来型固体触媒成分(チタン原子、
ハロゲン原子および電子供与体を必須成分とする固体触
媒成分)やメタロセン錯体等の遷移金属化合物を用いる
ことなく、高い重合活性を発現させることができ、また
より高分子量のオレフィン重合体を製造できることなど
から、本発明の価値は頗る大きい。
As described in detail above, according to the present invention,
A catalyst for addition polymerization showing high polymerization activity and a method for efficiently producing an addition polymer are provided. According to the present invention, a conventional solid catalyst component (titanium atom,
A high polymerization activity can be exhibited without using a transition metal compound such as a metallocene complex or a solid catalyst component having a halogen atom and an electron donor as essential components, and a higher molecular weight olefin polymer can be produced. Therefore, the value of the present invention is very large.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J015 DA04 DA05 4J028 AA00A AA01A AB00A AB01A AC00A AC01A AC31A AC41A AC45A AC49A AC50A BA00A BA02B BB00A BB02B BC12B BC13B BC15B BC16B BC17B BC18B BC19B BC24B BC25B BC27B EB02 EB04 EB05 EB07 EB08 EB09 EB10 EB21 EB24 EB25 EB26 EC01 EC02 GA01 GA04 GA06 GA19  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4J015 DA04 DA05 4J028 AA00A AA01A AB00A AB01A AC00A AC01A AC31A AC41A AC45A AC49A AC50A BA00A BA02B BB00A BB02B BC12B BC13B BC15B BC16B BC17B BC18 EB25 EB02 EB02 BC19 EB02 BC19 EB02 EB25 EB26 EC01 EC02 GA01 GA04 GA06 GA19

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記(A)、(B)および(C)を接触さ
せてなる付加重合用触媒。 (A)有機アルミニウム化合物 (B)下記(B1)〜(B3)から選ばれる一種以上の
ホウ素化合物 (B1)一般式 BQ123 で表されるホウ素化合
物 (B2)一般式 G+ (BQ1234-で表さ
れるホウ素化合物 (B3)一般式 (L−H)+ (BQ1234
- で表されるホウ素化合物 (但し、Bはホウ素原子であり、Q1 〜Q4 はハロゲン
原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、複素環基、
置換シリル基、アルコキシ基または2置換アミノ基であ
り、それらは同じであっても異なっていてもよい。G+
は無機、有機または有機金属のカチオンである。Lは中
性ルイス塩基であり、(L−H)+ はブレンステッド酸
である。) (C)固体の無機化合物
1. An addition polymerization catalyst comprising the following components (A), (B) and (C): (A) an organic aluminum compound (B) below (B1) ~ one or more boron compounds selected from (B3) (B1) general formula BQ 1 Q 2 Q 3 boron compound represented by (B2) formula G + ( BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - in the boron compound represented by (B3) formula (L-H) + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4)
- the boron compound represented (where, B is a boron atom, Q 1 to Q 4 are a halogen atom, a hydrocarbon group, halogenated hydrocarbon group, a heterocyclic group,
A substituted silyl group, an alkoxy group or a disubstituted amino group, which may be the same or different. G +
Is an inorganic, organic or organometallic cation. L is a neutral Lewis base and (LH) + is a Bronsted acid. (C) Solid inorganic compound
【請求項2】有機アルミニウム化合物が、下記(A1)
〜(A4)から選ばれる一種以上のアルミニウム化合物
である請求項1記載の付加重合用触媒。 (A1)一般式 Rr Al(OR)op1 qで表され
る有機アルミニウム化合物 (A2)一般式 M1 AlR4 で表される有機アルミニ
ウム化合物 (A3)一般式 {−Al(R)−O−}j で表される
構造を有する環状のアルミノキサン (A4)一般式 R{−Al(R)−O−}k AlR2
で表される構造を有する線状のアルミノキサン (但し、Rはそれぞれ独立に炭素原子数1〜20の炭化
水素基を表し、X1 はそれぞれ独立にハロゲン原子を表
し、M1 はアルカリ金属原子を表す。rは0<r≦3を
満足する数を表し、oは0≦o<3を満足する数を表
し、pは0≦p<3を満足する数を表し、qは0≦q<
3を満足する数を表し、かつr+o+p+q=3であ
る。jは2以上の整数を表し、kは1以上の整数を表
す。)
2. The method according to claim 1, wherein the organoaluminum compound has the following (A1)
The catalyst for addition polymerization according to claim 1, which is one or more aluminum compounds selected from the group consisting of (A4) to (A4). (A1) the general formula R r Al (OR) o H p X 1 organoaluminum compound represented by q (A2) an organoaluminum compound represented by the general formula M 1 AlR 4 (A3) formula {-Al (R A) a cyclic aluminoxane having a structure represented by -O-} j (A4) a general formula R {-Al (R) -O-} k AlR 2
Linear aluminoxane having a structure represented by the following formula (where R represents each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, X 1 each independently represents a halogen atom, and M 1 represents an alkali metal atom. R represents a number satisfying 0 <r ≦ 3, o represents a number satisfying 0 ≦ o <3, p represents a number satisfying 0 ≦ p <3, and q represents 0 ≦ q <.
Represents a number satisfying 3, and r + o + p + q = 3. j represents an integer of 2 or more, and k represents an integer of 1 or more. )
【請求項3】固体の無機化合物が、下記(C1)〜(C
3)から選ばれる1種以上の固体のである請求項1また
は2記載の付加重合用触媒。 (C1)元素の周期律表の第1〜16族から選ばれる金
属のブレンステッド酸塩 (C2)元素の周期律表の第1〜16族から選ばれる金
属またはケイ素の酸化物 (C3)層状ケイ酸塩化合物
3. The solid inorganic compound according to any one of the following (C1) to (C)
3. The catalyst for addition polymerization according to claim 1, which is at least one solid selected from 3). (C1) Bronsted acid salt of a metal selected from Groups 1 to 16 of the Periodic Table of the Elements (C2) oxide of a metal or silicon selected from Groups 1 to 16 of the Periodic Table of the Elements (C3) layered Silicate compounds
【請求項4】固体の無機化合物が、下記一般式(1)で
表されるハロゲン化金属である請求項1または2記載の
付加重合用触媒。 M2 m2 n (1) (式中、M2 は元素の周期律表の第1〜16族から選ば
れる金属原子を表し、X 2 はハロゲン原子を表す。mは
1以上の数を表し、nは金属原子の原子価数とmとの積
を表す。)
4. A solid inorganic compound represented by the following general formula (1):
The metal halide according to claim 1 or 2,
Catalyst for addition polymerization. MTwo mXTwo n (1) (where MTwo Is selected from Groups 1 to 16 of the Periodic Table of the Elements
X represents a metal atom represented by Two Represents a halogen atom. m is
Represents a number of 1 or more, and n is a product of valence number of metal atom and m.
Represents )
【請求項5】固体の無機化合物が、元素の周期律表の第
1〜16族から選ばれる金属またはケイ素の酸化物であ
る請求項1または2記載の付加重合用触媒。
5. The catalyst for addition polymerization according to claim 1, wherein the solid inorganic compound is an oxide of a metal or silicon selected from Groups 1 to 16 of the periodic table of the elements.
【請求項6】固体の無機化合物が、粘土鉱物である請求
項1または2記載の付加重合用触媒。
6. The catalyst for addition polymerization according to claim 1, wherein the solid inorganic compound is a clay mineral.
【請求項7】請求項1〜6のいずれかに記載の付加重合
用触媒を用いて付加重合性単量体を重合する付加重合体
の製造方法。
7. A method for producing an addition polymer, wherein an addition polymerizable monomer is polymerized using the catalyst for addition polymerization according to claim 1.
【請求項8】付加重合性単量体が、エチレンまたは炭素
原子数3〜20のα−オレフィンである請求項7記載の
付加重合体の製造方法。
8. The method for producing an addition polymer according to claim 7, wherein the addition polymerizable monomer is ethylene or an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms.
【請求項9】付加重合性単量体が、炭素原子数3〜20
のα−オレフィンおよびエチレンから選ばれる2種以上
の混合物である請求項7記載の付加重合体の製造方法。
9. An addition polymerizable monomer having 3 to 20 carbon atoms.
The method for producing an addition polymer according to claim 7, wherein the mixture is a mixture of two or more kinds selected from α-olefins and ethylene.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003026717A (en) * 2001-07-23 2003-01-29 Japan Polychem Corp Olefin polymerization catalyst and method for producing olefin polymer

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