JP2001236788A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JP2001236788A
JP2001236788A JP2000047051A JP2000047051A JP2001236788A JP 2001236788 A JP2001236788 A JP 2001236788A JP 2000047051 A JP2000047051 A JP 2000047051A JP 2000047051 A JP2000047051 A JP 2000047051A JP 2001236788 A JP2001236788 A JP 2001236788A
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signal
bit line
circuit
word line
precharge
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JP2000047051A
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Japanese (ja)
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Osamu Hirabayashi
修 平林
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To miniaturize the constitution and to achieve low power consumption of a semiconductor memory in which word lines are made a hierarchical state and a block state, and a load circuit of bit lines is arranged at a reverse side to a write-in/read-out of bit lines. SOLUTION: This device is constituted so that a pre-charge control signal of a bit line load circuit 3 is generated by a bit line load control circuit 4 from a word line selecting signal arranged parallel to the bit lines and a pre-charge clock signal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、階層化されたワ
ード線の選択信号がパルス信号となる半導体記憶装置に
関し、特にSRAM(スタティック・ランダム・アクセ
ス・メモリ)におけるビット線の負荷回路を制御する技
術を改善した半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device in which a word line selection signal is a pulse signal, and more particularly to a bit line load circuit in an SRAM (static random access memory). The present invention relates to a semiconductor memory device having improved technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】データの読み出し/書き込みが高速で行
えることからキャッシュメモリとして多用され、かつワ
ード線が階層化された半導体記憶装置、例えばSRAM
の従来構成としては、例えば図9に示すようなものがあ
る。図9において、SRAMは、多数のメインワード線
MWL(0、1…)のそれぞれのメインワード線、例え
ばメインワード線MWL0に対して4つのワード線WL
0〜WL3が階層化され、ワード線WL0〜WL3はメ
インワード線MWL0の選択信号ならびにそれぞれ対応
したワード線選択信号(SD0〜SD3)との論理積信
号にしたがって選択制御されている。高速での読み出し
/書き込み動作を可能とするため、ビット線(BL、/
BL)のプリチャージを行うビット線負荷回路101
は、メモリセル102のアレイに対してビット線の書き
込み/読み出し回路103とは逆側(以下、ビット線の
上部側と表記し、書き込み/読み出し回路側をビット線
の下部側と表記する)の位置にレイアウトされてそれぞ
れのビット線対に対応して設けられ、メモリセル102
の読み出し/書き込み終了後に、装置のメインクロック
信号(CK)と同期したプリチャージ制御用のプリチャ
ージクロック信号(/PCLK)を入力するビット線負
荷制御回路104の出力となるプリチャージ制御信号
(/PC)にしたがって活性化され、ビット線の充電と
イコライズを行っている。図10に図9の動作タイミン
グチャートを示す。
2. Description of the Related Art A semiconductor memory device which is frequently used as a cache memory because data can be read / written at a high speed and in which word lines are hierarchized, such as an SRAM.
For example, there is a conventional configuration shown in FIG. In FIG. 9, the SRAM has four word lines WL for each main word line of a large number of main word lines MWL (0, 1,...), For example, main word line MWL0.
0 to WL3 are hierarchized, and the word lines WL0 to WL3 are selected and controlled in accordance with the selection signal of the main word line MWL0 and the logical product signal of the corresponding word line selection signals (SD0 to SD3). To enable high-speed read / write operations, bit lines (BL, /
Bit line load circuit 101 for precharging BL)
Is on the side opposite to the bit line write / read circuit 103 with respect to the array of memory cells 102 (hereinafter referred to as the upper side of the bit line and the write / read circuit side as the lower side of the bit line). The memory cell 102 is laid out at a position and provided corresponding to each bit line pair.
After the end of reading / writing of data, a precharge control signal (/) which is an output of the bit line load control circuit 104 that inputs a precharge clock signal (/ PCLK) for precharge control synchronized with the main clock signal (CK) of the device. PC) to charge and equalize the bit lines. FIG. 10 shows an operation timing chart of FIG.

【0003】このようなビット線の負荷制御は、消費電
力を抑えるためにメモリセル102のアレイを適当な単
位に分割したブロック毎に分割制御するのが望ましい。
そこで、このようなビット線の負荷制御には、上記ブロ
ックの選択/非選択を示すブロック選択信号(SEL)
が必要になる。このブロック選択信号は、通常ビット線
の書き込み/読み出し回路等の制御回路側で生成され供
給されていた。このため、従来の半導体記憶装置では、
ビット線上部側のビット線負荷回路101を制御するた
めには、ビット線上部側に設けられたビット線負荷制御
回路104に上記ブロック選択信号を与える必要があっ
た。したがって、ビット線の下部側にあるブロック選択
信号をビット線上部のビット線負荷回路104に配線し
なければならず、ブロック選択信号をメモリセル102
のアレイを縦断させる必要があった。このため、記憶容
量がメガビットレベルの記憶装置では、メモリセルアレ
イの分割数は百以上となるため、上記ブロック選択信号
の配線スペースは極めて大きなものとなり、チップ面積
が増大していた。さらに、ブロック選択信号の配線はメ
モリセルアレイを縦断して長くなるため、ブロック選択
信号の駆動力も大きくしなければならず、消費電力が増
加していた。
It is desirable to control the load of such bit lines by dividing the array of the memory cells 102 into appropriate blocks in order to reduce power consumption.
Therefore, for such bit line load control, a block selection signal (SEL) indicating selection / non-selection of the block is used.
Is required. This block selection signal is usually generated and supplied by a control circuit such as a bit line write / read circuit. For this reason, in a conventional semiconductor memory device,
In order to control the bit line load circuit 101 on the upper side of the bit line, it is necessary to supply the block selection signal to the bit line load control circuit 104 provided on the upper side of the bit line. Therefore, the block selection signal on the lower side of the bit line must be wired to the bit line load circuit 104 on the upper side of the bit line, and the block selection signal is transmitted to the memory cell 102.
Array had to be traversed. For this reason, in a storage device having a storage capacity of a megabit level, the number of divisions of the memory cell array is 100 or more, so that the wiring space for the block selection signal is extremely large, and the chip area is increased. Further, the wiring of the block selection signal becomes longer in the longitudinal direction of the memory cell array, so that the driving power of the block selection signal must be increased, and the power consumption has increased.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
ビット線上部側にビット線負荷回路が設けられた従来の
半導体記憶装置において、分割されたメモリセルアレイ
のブロック毎にそれぞれのブロックに対応した上記ビッ
ト線負荷回路を分割制御する場合は、分割制御の制御信
号としてブロック選択信号をメモリセルアレイを縦断さ
せる必要があった。これにより、ブロック選択信号の配
線スペースがメモリセルアレイの領域内に必要となり、
チップ面積が増大するといった不具合を招いていた。さ
らに、ブロック選択信号を高速に駆動するために、大き
な駆動力が必要となり、消費電力が増加するといった不
具合も招いていた。
As described above,
In a conventional semiconductor memory device in which a bit line load circuit is provided on the upper side of a bit line, when the above-mentioned bit line load circuit corresponding to each block of the divided memory cell array is divided and controlled, the division control is performed. It was necessary to cause a block selection signal as a control signal to traverse the memory cell array. As a result, a wiring space for the block selection signal is required in the area of the memory cell array,
This causes a problem that the chip area increases. Further, a large driving force is required to drive the block selection signal at a high speed, which causes a problem that power consumption increases.

【0005】そこで、この発明は、上記に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、ワード線が階
層化、ブロック化され、メモリセルアレイに対してビッ
ト線の負荷回路がビット線の書き込み/読み出し回路と
は逆側に配置された半導体記憶装置における構成の小型
化、低消費電力化を達成し得る半導体記憶装置を提供す
ることにある。
The present invention has been made in view of the above, and it is an object of the present invention to provide a structure in which word lines are hierarchized and blocked, and a load circuit for bit lines is provided for a memory cell array. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which can achieve a reduction in size and a reduction in power consumption of a semiconductor memory device arranged on the side opposite to a write / read circuit.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、課題を解決する第1の手段は、ワード線は階層化さ
れ、メモリセルを選択するワード線のワード線選択信号
はパルス化され、前記ワード線選択信号はメモリセルア
レイのビット線と並行に配線され、前記メモリセルは前
記ビット線を介して書き込み/読み出し回路によりアク
セスされ、前記ビット線はパルス化されたプリチャージ
制御信号に基づいてビット線負荷回路によりブロック単
位でプリチャージ動作が分割制御され、前記ビット線負
荷回路はビット線負荷制御回路から与えられるプリチャ
ージ制御信号に基づいて制御されてなる半導体記憶装置
において、前記ビット線負荷回路ならびに前記ビット線
負荷制御回路は、前記メモリセルアレイを挟んで前記書
き込み/読み出し回路が配置された位置とは逆側に配置
され、前記ビット線負荷制御回路は、前記ワード線の選
択信号を遅延した遅延信号とプリチャージクロック信号
とに基づいてプリチャージ制御信号を生成してなること
を特徴とする。
In order to achieve the above object, a first means for solving the problems is that word lines are hierarchized, and a word line selection signal of a word line for selecting a memory cell is pulsed. The word line selection signal is wired in parallel with a bit line of a memory cell array, the memory cell is accessed by a write / read circuit via the bit line, and the bit line is controlled based on a pulsed precharge control signal. In a semiconductor memory device, a precharge operation is divided and controlled in block units by a bit line load circuit, and the bit line load circuit is controlled based on a precharge control signal supplied from the bit line load control circuit. The load circuit and the bit line load control circuit are configured to perform the write / read with the memory cell array interposed therebetween. The bit line load control circuit generates a precharge control signal based on a delay signal obtained by delaying the word line selection signal and a precharge clock signal. It is characterized by becoming.

【0007】第2の手段は、ワード線は階層化され、メ
モリセルを選択するワード線のワード線選択信号はパル
ス化され、前記ワード線選択信号はメモリセルアレイの
ビット線と並行に配線され、前記メモリセルは前記ビッ
ト線を介して書き込み/読み出し回路によりアクセスさ
れ、前記ビット線はパルス化されたプリチャージ制御信
号に基づいてビット線負荷回路によりブロック単位でプ
リチャージ動作が分割制御され、前記ビット線負荷回路
はビット線負荷制御回路から与えられるプリチャージ制
御信号に基づいて制御されてなる半導体記憶装置におい
て、前記ビット線負荷回路ならびに前記ビット線負荷制
御回路は、前記メモリセルアレイを挟んで前記書き込み
/読み出し回路が配置された位置とは逆側に配置され、
前記ビット線負荷制御回路は、一方の入力を前記ワード
線選択信号とし、他方の入力をプリチャージクロック信
号とし、前記プリチャージ制御信号を生成する信号を出
力するフリップフロップ回路を備えてなることを特徴と
する。
The second means is that a word line is hierarchized, a word line selection signal of a word line for selecting a memory cell is pulsed, and the word line selection signal is wired in parallel with a bit line of a memory cell array. The memory cell is accessed by a write / read circuit via the bit line, and the bit line is divided and controlled in a block unit by a bit line load circuit based on a pulsed precharge control signal. In a semiconductor memory device in which a bit line load circuit is controlled based on a precharge control signal given from a bit line load control circuit, the bit line load circuit and the bit line load control circuit are arranged so that the bit line load circuit sandwiches the memory cell array. It is arranged on the side opposite to the position where the write / read circuit is arranged,
The bit line load control circuit may include a flip-flop circuit that has one input as the word line selection signal, the other input as a precharge clock signal, and outputs a signal for generating the precharge control signal. Features.

【0008】第3の手段は、前記第2の手段において、
前記フリップフロップ回路は、前記ワード線選択信号に
よりセットされ、前記プリチャージクロック信号の立ち
上がりによりリセットされ、前記プリチャージ制御信号
は、前記フリップフロップ回路の出力信号と前記プリチ
ャージクロック信号の論理演算により生成されてなるこ
とを特徴とする。
[0008] The third means is the second means,
The flip-flop circuit is set by the word line selection signal and reset by a rise of the precharge clock signal, and the precharge control signal is obtained by a logical operation of the output signal of the flip-flop circuit and the precharge clock signal. It is characterized by being generated.

【0009】第4の手段は、前記第1の手段において、
前記ビット線負荷制御回路は、前記ワード線選択信号を
遅延する遅延回路と、前記遅延回路の遅延出力を受け
て、遅延された前記ワード線選択信号をパルス化した第
1のパルス信号を発生する第1のパルス発生回路と、プ
リチャージクロック信号を受けて、前記プリチャージク
ロック信号をパルス化した第2のパルス信号を発生する
第2のパルス発生回路と、一方の入力に前記第1のパル
ス信号が与えられ、他方の入力に前記第2のパルス信号
が与えられ、前記プリチャージ制御信号を生成する信号
を出力するフリップフロップ回路とを備えたことを特徴
とする。
The fourth means is the first means,
The bit line load control circuit receives a delay output of the delay circuit for delaying the word line selection signal and generates a first pulse signal obtained by pulsing the delayed word line selection signal. A first pulse generation circuit, a second pulse generation circuit that receives a precharge clock signal and generates a second pulse signal obtained by pulsing the precharge clock signal, and the first pulse is applied to one input. And a flip-flop circuit to which a signal is supplied and the second pulse signal is supplied to the other input, and which outputs a signal for generating the precharge control signal.

【0010】第5の手段は、前記第4の手段において、
前記第1のパルス信号と前記第2のパルス信号とは、前
記遅延回路によりサイクルタイムの半分程度の間隔のタ
イミングが設定されてなることを特徴とする。
The fifth means is the fourth means,
The first pulse signal and the second pulse signal are set at timings at intervals of about half the cycle time by the delay circuit.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いてこの発明の実
施形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1はこの発明の一実施形態に係る半導体
記憶装置の構成を示す図であり、図2ならびに図3は図
1に示す装置の動作タイミングチャートである。図1に
おいて、この実施形態の半導体記憶装置は、多数のメモ
リセル1が行列状に配置されてメモリセルアレイが構成
され、メモリセルアレイは適当な大きさのブロックに分
割され、ワード線は階層化されかつメモリセルアレイに
対応して適当な大きさのブロックに分割され、多数のメ
インワード線MWL(0、1、…)のそれぞれのメイン
ワード線に対して4本のワード線WLが階層化され、そ
れぞれのワード線WLはメインワード線MWLの選択と
それぞれ対応したワード線の選択信号の論理積に基づい
て択一的に選択され、例えばメインワード線MWL0に
対応したそれぞれのワード線WL(0〜3)はメインク
ロック信号(CK)に同期して選択されるメインワード
線MWL0の選択と、それぞれ対応したワード線WL
(0〜3)の選択信号(SD0〜SD3)とを入力する
ANDゲート5の出力にしたがって択一的に選択制御さ
れる。以下、メインワード線MWLを図1に示すメイン
ワード線MWL0に代表し、メインワード線MWLに対
応して階層化されたワード線WLを図1に示すワード線
WL0〜WL3に代表して説明する。メインワード線M
WL0の選択ならびにそれぞれのワード線WL0の選択
信号(SD0〜SD3)は、図2に示すように高速な読
み出し/書き込みを行うためにパルス信号化され、メイ
ンワード線MWL0ならびにワード線WL0はビット線
(BL、/BL)と直交するようにメモリセル1のアレ
イを横断して配線され、ワード線WL0の選択信号(S
D0〜SD3)は、ビット線(BL、/BL)と並行し
てメモリセル1のアレイを縦断して配線されている。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. FIGS. 2 and 3 are operation timing charts of the device shown in FIG. In FIG. 1, a semiconductor memory device of this embodiment has a memory cell array in which a large number of memory cells 1 are arranged in rows and columns, the memory cell array is divided into blocks of an appropriate size, and word lines are hierarchized. In addition, the main word lines are divided into blocks of an appropriate size corresponding to the memory cell array, and four word lines WL are hierarchized for each of the main word lines MWL (0, 1,...), Each of the word lines WL is alternatively selected based on the logical product of the selection of the main word line MWL and the corresponding word line selection signal. For example, each of the word lines WL (0 to 0) corresponding to the main word line MWL0 is selected. 3) The selection of the main word line MWL0 selected in synchronization with the main clock signal (CK) and the corresponding word line WL
Selection control is alternatively performed according to the output of the AND gate 5 which receives the selection signals (SD0 to SD3) of (0 to 3). Hereinafter, the main word line MWL will be described as representative of the main word line MWL0 shown in FIG. 1, and the word lines WL hierarchized corresponding to the main word line MWL will be described as representative of the word lines WL0 to WL3 shown in FIG. . Main word line M
The selection signal (SD0 to SD3) for selecting WL0 and for each word line WL0 is converted into a pulse signal for performing high-speed reading / writing as shown in FIG. 2, and the main word line MWL0 and the word line WL0 are connected to the bit line. (BL, / BL), which are wired across the array of memory cells 1 so as to be orthogonal to (BL, / BL).
D0 to SD3) are laid in the memory cell 1 array in parallel with the bit lines (BL, / BL).

【0013】それぞれのビット線(BL、/BL)対に
は、メモリセルアレイに対して書き込み/読み出し回路
2が配置された下部側とは逆側のメモリセルアレイの上
部側にビット線負荷回路3が接続配置されている。ビッ
ト線負荷回路3は、メモリセル1のアクセスが終了して
ワード線が非選択状態となった後、図2に示すように、
所定の期間(プリチャージ制御信号(/PC)がロウレ
ベルの期間、ワード線が非選択状態になった後次のアク
セスが開始されるまでの期間すべてではなく、ワード線
が非選択状態になった後少なくともビット線のプリチャ
ージが可能な限定された期間)活性化されてビット線の
プリチャージを行う。ビット線負荷回路3は、ビット線
負荷制御回路4によって活性化制御されている。ビット
線負荷制御回路4は、ビット線負荷回路3と同様にメモ
リセルアレイの上部側に配置され、ワード線の分割単位
毎に設けられている。ビット線負荷制御回路4は、ワー
ド線WL0〜WL3の選択信号(SD0〜SD3)とプ
リチャージ制御用のプリチャージクロック信号(/PC
LK)を入力して、ビット線負荷回路3を活性化制御す
るプリチャージ制御信号(/PC)を生成出力する。ビ
ット線負荷制御回路4は、ワード線WL0〜WL3のワ
ード線選択信号(SD0〜SD1)を入力とするNOR
ゲート41と、NORゲート41の出力を受けて所定の
時間(d2)遅延する遅延回路42と、遅延回路42の
出力となるセレクト信号(SEL)とプリチャージクロ
ック信号(/PCLK)を入力してプリチャージ制御信
号(/PC)を出力するNANDゲート43を備えて構
成される。プリチャージクロック信号(/PCLK)
は、メインクロック信号(CK)に同期して装置内部で
生成される。
Each bit line (BL, / BL) pair is provided with a bit line load circuit 3 on the upper side of the memory cell array opposite to the lower side on which the write / read circuit 2 is arranged for the memory cell array. Connected and arranged. After the access to the memory cell 1 is completed and the word line is in the non-selected state, the bit line load circuit 3, as shown in FIG.
During a predetermined period (a period in which the precharge control signal (/ PC) is at a low level, not all periods until the next access starts after the word line is deselected, but the word line is deselected) Thereafter, the bit line is activated (at least for a limited period during which the precharging of the bit line is possible) to precharge the bit line. Activation of the bit line load circuit 3 is controlled by a bit line load control circuit 4. The bit line load control circuit 4 is arranged on the upper side of the memory cell array similarly to the bit line load circuit 3, and is provided for each word line division unit. The bit line load control circuit 4 includes selection signals (SD0 to SD3) for the word lines WL0 to WL3 and a precharge clock signal (/ PC) for precharge control.
LK) to generate and output a precharge control signal (/ PC) for controlling the activation of the bit line load circuit 3. The bit line load control circuit 4 receives the word line selection signals (SD0 to SD1) of the word lines WL0 to WL3 as NORs.
A gate 41, a delay circuit 42 for delaying a predetermined time (d 2) by receiving an output of the NOR gate 41, and a select signal (SEL) and a precharge clock signal (/ PCLK) which are outputs of the delay circuit 42 are inputted. A NAND gate 43 for outputting a precharge control signal (/ PC) is provided. Precharge clock signal (/ PCLK)
Is generated inside the device in synchronization with the main clock signal (CK).

【0014】このような構成において、メインワード線
MWL0と例えばワード線WL0が選択(選択信号SD
0がハイレベル)され、選択されたメモリセル1のアク
セスが終了すると、図2に示すように、ワード線WL0
が選択された後ビット線負荷制御回路4の遅延回路42
により遅延された所定の時間d2後にセレクト信号(S
EL)が出力され、これによりプリチャージ制御信号
(/PC)がロウレベルとなり、ビット線負荷回路3に
よりビット線のプリチャージが行われ、ビット線の充
電、等電位化がなされる。
In such a configuration, the main word line MWL0 and, for example, the word line WL0 are selected (selection signal SD0).
0 is set to the high level) and when the access of the selected memory cell 1 is completed, as shown in FIG.
Is selected, the delay circuit 42 of the bit line load control circuit 4
After a predetermined time d2 delayed by the selection signal (S
EL) is output, whereby the precharge control signal (/ PC) goes low, the bit line load circuit 3 precharges the bit line, and charges and equalizes the bit line.

【0015】このように、上記実施形態によれば、ビッ
ト線と並行して配線されているワード線選択信号を利用
して、メモリセルアレイの上部側に配置されたビット線
負荷回路3によるビット線のプリチャージを制御するよ
うにしているので、メモリセルアレイの下部側で生成供
給されて分割制御されるビット線のブロックを選択する
ブロック選択信号を、メモリセルアレイの下部側からメ
モリセルアレイの中を縦断してメモリセルアレイの上部
側に配線する必要はなく、配線領域が不要となり、チッ
プ面積を縮小することが可能となる。さらに、長い配線
のブロック選択信号を高速に駆動する必要もなくなり、
消費電力を低減することができる。またアクセスの高速
化のため、ワード線WLの選択信号SDが図2に示すよ
うにパルス化されているような場合に、図2に示すよう
に、ワード線の選択信号SDを遅延させたセレクト信号
(SEL)によりメモリセルアレイの上部側に配置され
たビット線負荷回路3を制御することが可能となる。
As described above, according to the above embodiment, the bit line load circuit 3 arranged on the upper side of the memory cell array utilizes the word line selection signal wired in parallel with the bit line. The block selection signal for selecting the bit line block generated and supplied and divided and controlled at the lower side of the memory cell array is passed through the memory cell array from the lower side of the memory cell array. In addition, it is not necessary to provide wiring on the upper side of the memory cell array, a wiring area is not required, and the chip area can be reduced. Furthermore, it is not necessary to drive the block selection signal of a long wiring at high speed,
Power consumption can be reduced. In order to speed up the access, when the selection signal SD of the word line WL is pulsed as shown in FIG. 2, the selection signal SD of the word line WL is delayed as shown in FIG. The bit line load circuit 3 arranged on the upper side of the memory cell array can be controlled by the signal (SEL).

【0016】一方、このような構成において、ビット線
負荷が活性化されている期間、すなわちリカバリタイム
は、セレクト信号による制限のため、メインクロック信
号(CK)の周波数を下げた場合には、リカバリタイム
は何ら緩和されない。図3は図1に示す構成の装置にお
いて、クロック周波数を図2に示すものよりも低下させ
た場合の動作タイミングチャートを示す図である。図3
に示すように、ワード線WLの選択信号SDを遅延させ
たセレクト信号(SEL)は、図2に示すと同等の期間
しか生成されないことになる。そこで、メインクロック
信号の周波数を低下させた場合であっても、クロック周
波数に応じて最適なリカバリタイムが得られるようにし
た実施形態を、この発明の他の実施形態として次に説明
する。
On the other hand, in such a configuration, the period during which the bit line load is activated, that is, the recovery time is limited by the select signal, so that when the frequency of the main clock signal (CK) is lowered, the recovery time is reduced. Time is not relaxed at all. FIG. 3 is a diagram showing an operation timing chart when the clock frequency is lower than that shown in FIG. 2 in the device having the configuration shown in FIG. FIG.
As shown in FIG. 2, the select signal (SEL) obtained by delaying the selection signal SD of the word line WL is generated only for a period equivalent to that shown in FIG. Therefore, an embodiment in which an optimum recovery time can be obtained according to the clock frequency even when the frequency of the main clock signal is reduced will be described as another embodiment of the present invention.

【0017】図4はこの発明の他の実施形態に係る半導
体記憶装置の構成を示す図であり、図5ならびに図6は
図4に示す装置の動作タイミングチャートを示す図であ
る。図4において、この実施形態の特徴とするところ
は、図1に示す実施形態の構成に比べて、ビット線負荷
制御回路4の構成が異なり、他は図1に示すものと同様
である。この実施形態のビット線負荷制御回路4は、ワ
ード線WLの選択信号(SD0〜SD3)を入力するO
Rゲート44と、ORゲート44の出力をセット端子
(S)で受け、メインクロック信号に同期したプリチャ
ージクロック信号(PCLK)をリセット端子(R)で
受け、出力(/Q)としてセレクト信号(/SEL)を
与えるフリップフロップ(F/F)45と、セレクト信
号とプリチャージクロック信号を入力するORゲート4
6を備えて構成される。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention, and FIGS. 5 and 6 are diagrams showing operation timing charts of the device shown in FIG. In FIG. 4, the feature of this embodiment is that the configuration of the bit line load control circuit 4 is different from the configuration of the embodiment shown in FIG. 1, and the rest is the same as that shown in FIG. The bit line load control circuit 4 according to the present embodiment receives an input of a selection signal (SD0 to SD3) for the word line WL.
The output of the R gate 44 and the output of the OR gate 44 are received at a set terminal (S), the precharge clock signal (PCLK) synchronized with the main clock signal is received at a reset terminal (R), and the select signal (/ Q) is output (/ Q). / SEL), and an OR gate 4 for inputting a select signal and a precharge clock signal.
6 is provided.

【0018】このような構成において、F/F45はワ
ード線WLの選択信号(SD0〜SD3)の何れかが選
択されるとセットされ、プリチャージクロック信号の立
ち上がりでリセットされる動作を繰り返し、ワード線W
Lの選択信号に対応したブロックのワード線の選択/非
選択の情報を保持する。F/F45の出力のセレクト信
号(/SEL)とプリチャージクロック信号によりプリ
チャージ制御信号(/PC)が生成され、プリチャージ
制御信号がロウレベルの期間、選択されたブロックのビ
ット線負荷回路3が活性化され、対応するビット線がプ
リチャージされる。このような動作において、図2と同
様にメインクロック信号が比較的高い周波数で装置を動
作させた場合には、図5に示すように図2と同様にメイ
ンクロック信号の周波数に応じて最適なリカバリタイム
が確保できる。一方、図3に示すと同様にメインクロッ
ク信号が比較的低い周波数で動作させた場合には、ワー
ド線の選択/非選択をF/F45で保持することによ
り、セレクト信号のロウレベルの期間が延長され、リカ
バリタイムは図3に示す高速動作時に比べて延長され、
図6に示すようにメインクロック信号の動作周波数に応
じて最適なリカバリタイムを得ることができる。
In such a configuration, the F / F 45 is set when any of the selection signals (SD0 to SD3) of the word line WL is selected, and is repeatedly reset at the rising edge of the precharge clock signal. Line W
The word line selection / non-selection information of the block corresponding to the L selection signal is held. A precharge control signal (/ PC) is generated by the select signal (/ SEL) of the output of the F / F 45 and the precharge clock signal, and the bit line load circuit 3 of the selected block is turned on while the precharge control signal is at a low level. Activated, the corresponding bit line is precharged. In such an operation, when the device is operated at a relatively high frequency of the main clock signal as in FIG. 2, the optimum operation is performed according to the frequency of the main clock signal as in FIG. Recovery time can be secured. On the other hand, when the main clock signal is operated at a relatively low frequency as shown in FIG. 3, the selection / non-selection of the word line is held by the F / F 45 to extend the low level period of the select signal. The recovery time is extended compared to the high-speed operation shown in FIG.
As shown in FIG. 6, an optimum recovery time can be obtained according to the operating frequency of the main clock signal.

【0019】このような実施形態においては、上記実施
形態と同様な効果が得られるとともに、メインクロック
信号の動作周波数に応じて最適なリカバリタイムを確保
することができる。
In such an embodiment, the same effects as those of the above embodiment can be obtained, and an optimum recovery time can be secured according to the operating frequency of the main clock signal.

【0020】図7はビット線負荷制御回路4の他の構成
を示す図であり、図8は図7の構成を採用した記憶装置
の動作タイミングチャートである。図7において、ビッ
ト線負荷制御回路4は、図5に示すビット線負荷制御回
路4と同様にワード線WLの選択/非選択を保持するよ
うにしたものであり、ワード線WL0の選択信号(SD
0〜SD3)を入力するNORゲート51と、NORゲ
ート51の出力を受けて所定の時間(d1)遅延する遅
延回路52と、遅延回路52の出力を受けてパルス信号
を出力するパルス発生回路53と、プリチャージクロッ
ク信号(PCLK)を受けてパルス信号を発生するパル
ス発生回路54と、パルス発生回路53の出力をセット
信号(/S)としパルス発生回路54の出力をリセット
信号(/R)とするF/F55と、F/F55の出力の
セレクト信号(SEL)とプリチャージクロック信号の
反転信号を入力してプリチャージ制御信号(/PC)を
出力するNANDゲート56を備えて構成される。
FIG. 7 is a diagram showing another configuration of the bit line load control circuit 4, and FIG. 8 is an operation timing chart of the storage device employing the configuration of FIG. In FIG. 7, the bit line load control circuit 4 holds the selection / non-selection of the word line WL similarly to the bit line load control circuit 4 shown in FIG. SD
0 to SD3), a delay circuit 52 that receives the output of the NOR gate 51 and delays it by a predetermined time (d1), and a pulse generation circuit 53 that receives the output of the delay circuit 52 and outputs a pulse signal. And a pulse generation circuit 54 that receives the precharge clock signal (PCLK) to generate a pulse signal, and sets the output of the pulse generation circuit 53 to a set signal (/ S) and sets the output of the pulse generation circuit 54 to a reset signal (/ R). And a NAND gate 56 that inputs a select signal (SEL) of the output of the F / F 55 and an inverted signal of the precharge clock signal and outputs a precharge control signal (/ PC). .

【0021】このような構成において、F/F55の2
つの入力は、図8に示すようにパルス発生回路53、5
4によりパルス化されており、またこれらのセット信号
とリセット信号は、遅延回路52によりメインクロック
信号(サイクルタイム)のほぼ半サイクルの間隔が設定
されている。これにより、F/F55の動作マージンを
十分に大きく確保することが可能となり、広いメモリセ
ルアレイの何処においても、F/F55が誤動作するこ
とはなくなる。したがって、メモリセルアレイの何処の
ビット線においても安定したリカバリタイムを得ること
ができる。
In such a configuration, the F / F 55 2
The two inputs are pulse generating circuits 53, 5 as shown in FIG.
4, the set signal and the reset signal are set at intervals of approximately half a cycle of the main clock signal (cycle time) by the delay circuit 52. As a result, it is possible to secure a sufficiently large operation margin of the F / F 55, so that the F / F 55 does not malfunction at any place in a wide memory cell array. Therefore, a stable recovery time can be obtained at any bit line of the memory cell array.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、階層化ワード線の選択信号とプリチャージクロック
信号とによりビット線負荷回路を制御するようにしたの
で、ブロック選択信号をメモリセルアレイ中を縦断させ
る必要がなくなり、チップ面積の縮小化、低消費電力化
を達成することができる。また、動作周波数が変化して
も動作周波数に応じた最適なリカバリタイムを確保する
ことが可能となる。
As described above, according to the present invention, the bit line load circuit is controlled by the hierarchical word line selection signal and the precharge clock signal. It is no longer necessary to traverse the chip, and a reduction in chip area and power consumption can be achieved. Further, even if the operating frequency changes, it is possible to secure an optimal recovery time according to the operating frequency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施形態に係る半導体記憶装置の
構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す装置の動作タイミングチャートを示
す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an operation timing chart of the device shown in FIG. 1;

【図3】図1に示す装置の動作タイミングチャートを示
す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an operation timing chart of the device shown in FIG. 1;

【図4】この発明の他の実施形態に係る半導体記憶装置
の構成を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.

【図5】図4に示す装置の動作タイミングチャートを示
す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an operation timing chart of the device shown in FIG. 4;

【図6】図4に示す装置の動作タイミングチャートを示
す図である。
6 is a diagram showing an operation timing chart of the device shown in FIG.

【図7】図4に示すビット線負荷制御回路の構成を示す
図である。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a bit line load control circuit shown in FIG. 4;

【図8】図7に示す構成を採用した図4に示す装置の動
作タイミングチャートを示す図である。
8 is a diagram showing an operation timing chart of the device shown in FIG. 4 employing the configuration shown in FIG. 7;

【図9】従来の半導体記憶装置の構成を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a conventional semiconductor memory device.

【図10】図9に示す装置の動作タイミングチャートを
示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing an operation timing chart of the device shown in FIG. 9;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセル 2 書き込み/読み出し回路 3 ビット線負荷回路 4 ビット線負荷制御回路 41,51 NORゲート 42,52 遅延回路 43,56 NANDゲート 44,46 ORゲート 45,55 フリップフロップ回路 53,54 パルス発生回路 MWL メインワード線 WL ワード線 BL,/BL ビット線 Reference Signs List 1 memory cell 2 write / read circuit 3 bit line load circuit 4 bit line load control circuit 41, 51 NOR gate 42, 52 delay circuit 43, 56 NAND gate 44, 46 OR gate 45, 55 flip-flop circuit 53, 54 pulse generation Circuit MWL Main word line WL Word line BL, / BL Bit line

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワード線は階層化され、メモリセルを選
択するワード線のワード線選択信号はパルス化され、前
記ワード線選択信号はメモリセルアレイのビット線と並
行に配線され、前記メモリセルは前記ビット線を介して
書き込み/読み出し回路によりアクセスされ、前記ビッ
ト線はパルス化されたプリチャージ制御信号に基づいて
ビット線負荷回路によりブロック単位でプリチャージ動
作が分割制御され、前記ビット線負荷回路はビット線負
荷制御回路から与えられるプリチャージ制御信号に基づ
いて制御されてなる半導体記憶装置において、 前記ビット線負荷回路ならびに前記ビット線負荷制御回
路は、前記メモリセルアレイを挟んで前記書き込み/読
み出し回路が配置された位置とは逆側に配置され、 前記ビット線負荷制御回路は、前記ワード線の選択信号
を遅延した遅延信号とプリチャージクロック信号とに基
づいてプリチャージ制御信号を生成してなることを特徴
とする半導体記憶装置。
1. A word line is hierarchized, a word line selection signal of a word line for selecting a memory cell is pulsed, and the word line selection signal is wired in parallel with a bit line of a memory cell array. The bit line is accessed by a write / read circuit via the bit line, and the bit line is divided and controlled by a bit line load circuit in block units based on a pulsed precharge control signal. Is a semiconductor memory device controlled based on a precharge control signal given from a bit line load control circuit, wherein the bit line load circuit and the bit line load control circuit are connected to the write / read circuit with the memory cell array interposed therebetween. The bit line load control circuit is disposed on the side opposite to the position where The semiconductor memory device characterized by comprising generates a precharge control signal based on the selection signal of the serial word lines and the delayed signal and the precharge clock signal delayed.
【請求項2】 ワード線は階層化され、メモリセルを選
択するワード線のワード線選択信号はパルス化され、前
記ワード線選択信号はメモリセルアレイのビット線と並
行に配線され、前記メモリセルは前記ビット線を介して
書き込み/読み出し回路によりアクセスされ、前記ビッ
ト線はパルス化されたプリチャージ制御信号に基づいて
ビット線負荷回路によりブロック単位でプリチャージ動
作が分割制御され、前記ビット線負荷回路はビット線負
荷制御回路から与えられるプリチャージ制御信号に基づ
いて制御されてなる半導体記憶装置において、 前記ビット線負荷回路ならびに前記ビット線負荷制御回
路は、前記メモリセルアレイを挟んで前記書き込み/読
み出し回路が配置された位置とは逆側に配置され、 前記ビット線負荷制御回路は、一方の入力を前記ワード
線選択信号とし、他方の入力をプリチャージクロック信
号とし、前記プリチャージ制御信号を生成する信号を出
力するフリップフロップ回路を備えてなることを特徴と
する半導体記憶装置。
2. A word line is hierarchized, a word line selection signal of a word line for selecting a memory cell is pulsed, and the word line selection signal is wired in parallel with a bit line of a memory cell array. The bit line is accessed by a write / read circuit via the bit line, and the bit line is divided and controlled by a bit line load circuit in block units based on a pulsed precharge control signal. Is a semiconductor memory device controlled based on a precharge control signal given from a bit line load control circuit, wherein the bit line load circuit and the bit line load control circuit are connected to the write / read circuit with the memory cell array interposed therebetween. The bit line load control circuit is disposed on the side opposite to the position where Square Input the as the word line selection signal, the semiconductor memory device characterized by comprising comprises a flip-flop circuit and the other input and the precharge clock signal, and outputs a signal for generating the precharge control signal.
【請求項3】 前記フリップフロップ回路は、前記ワー
ド線選択信号によりセットされ、前記プリチャージクロ
ック信号の立ち上がりによりリセットされ、 前記プリチャージ制御信号は、前記フリップフロップ回
路の出力信号と前記プリチャージクロック信号の論理演
算により生成されてなることを特徴とする請求項2記載
の半導体記憶装置。
3. The flip-flop circuit is set by the word line selection signal and reset by a rise of the precharge clock signal, and the precharge control signal includes an output signal of the flip-flop circuit and the precharge clock. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the semiconductor memory device is generated by a logical operation of a signal.
【請求項4】 前記ビット線負荷制御回路は、 前記ワード線選択信号を遅延する遅延回路と、 前記遅延回路の遅延出力を受けて、遅延された前記ワー
ド線選択信号をパルス化した第1のパルス信号を発生す
る第1のパルス発生回路と、 プリチャージクロック信号を受けて、前記プリチャージ
クロック信号をパルス化した第2のパルス信号を発生す
る第2のパルス発生回路と、 一方の入力に前記第1のパルス信号が与えられ、他方の
入力に前記第2のパルス信号が与えられ、前記プリチャ
ージ制御信号を生成する信号を出力するフリップフロッ
プ回路とを備えたことを特徴とする請求項1記載の半導
体記憶装置。
4. A bit line load control circuit, comprising: a delay circuit for delaying the word line selection signal; and a first pulse receiving the delayed output of the delay circuit and pulsating the delayed word line selection signal. A first pulse generation circuit for generating a pulse signal; a second pulse generation circuit for receiving a precharge clock signal and generating a second pulse signal obtained by pulsing the precharge clock signal; And a flip-flop circuit to which the first pulse signal is supplied and the other input is supplied with the second pulse signal, and which outputs a signal for generating the precharge control signal. 2. The semiconductor memory device according to 1.
【請求項5】 前記第1のパルス信号と前記第2のパル
ス信号とは、前記遅延回路によりサイクルタイムの半分
程度の間隔のタイミングが設定されてなることを特徴と
する請求項4記載の半導体記憶装置。
5. The semiconductor according to claim 4, wherein the first pulse signal and the second pulse signal are set at timings of about half the cycle time by the delay circuit. Storage device.
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