JP2001235370A - Device for measuring reflection property - Google Patents

Device for measuring reflection property

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JP2001235370A
JP2001235370A JP2000046364A JP2000046364A JP2001235370A JP 2001235370 A JP2001235370 A JP 2001235370A JP 2000046364 A JP2000046364 A JP 2000046364A JP 2000046364 A JP2000046364 A JP 2000046364A JP 2001235370 A JP2001235370 A JP 2001235370A
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Japan
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light
opening
measurement
sample
reflection characteristic
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Application number
JP2000046364A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshimasa Takigami
善雅 瀧上
Kenji Imura
健二 井村
Toshio Miyashita
利夫 宮下
Norio Ishikawa
典夫 石川
Isao Nishimoto
功 西本
Shinsuke Fukuchi
伸輔 福地
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Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the cost by simplifying the structure of a device. SOLUTION: A reference plate 5 is placed near a measuring opening 3 where a measuring sample 4 is mutually opposingly placed, and a sample beam reflected on the sample 4 and a reference beam reflected on the reference plate 5 are introduced into a first incident slit and a second incident slit of a masking plate 24, respectively, by an optical means consisting of a plain reflecting mirror 21 and image forming lenses 22, 23. Each of the sample beam and the reference beam passing through the first incident slit and the second incident slit, respectively, is spectroscopically divided by a spectroscopical part 30, and each electrical signal corresponding to light intensity of divided beam is outputted by a detecting part 40 every wavelength. The spectroscopic reflection property of the sample 4 is calculated by a processing part 50 using each electrical signal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、分光測色計など、
試料の分光反射特性を測定する反射特性測定装置に関す
るものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a spectrophotometer,
The present invention relates to a reflection characteristic measuring device for measuring a spectral reflection characteristic of a sample.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、試料の反射特性の測定は、照明
系と受光系の光学的条件(ジオメトリ)によって大きい
影響を受ける。従って、分光測色計等の反射特性測定装
置の多くは、CIE(国際照明委員会)が推奨する45/
0(45°照明、垂直受光)、0/45(垂直照明、45°受
光)や、d/0(拡散照明、垂直受光)、0/d(垂直照
明、拡散受光)の光学的条件(ジオメトリ)のいずれか
を採用している。
2. Description of the Related Art Generally, the measurement of the reflection characteristics of a sample is greatly affected by the optical conditions (geometry) of an illumination system and a light receiving system. Therefore, many reflection characteristic measuring devices such as spectrophotometers are recommended by the CIE (International Commission on Illumination).
Optical conditions (geometry: 0 (45 ° illumination, vertical reception), 0/45 (vertical illumination, 45 ° reception), d / 0 (diffuse illumination, vertical reception), 0 / d (vertical illumination, diffusion reception) ) Is adopted.

【0003】このような反射特性測定装置では、一般
に、白色校正板を試料として測定を行った結果を校正デ
ータとして記憶しておき、この校正データを用いて試料
の反射特性を算出するようにしている。ここで、校正時
と測定時とで光源の発光強度が変動すると測定に誤差が
生じるので、校正や測定の際には、光源から出力された
光の一部を参照光として取り込み、試料からの反射光で
ある試料光の出力値に基づき反射特性を算出する際に、
参照光の出力値を用いて補正することにより、光源の発
光強度が変動しても測定値に誤差が生じないようにして
いる。例えば特許第2747915号公報には、測定面
上の有効面からの反射光の一部を分光計に接続された光
導波管に送り込むとともに、光源からの照明光の一部を
参照光導波管により取り込むようにした構成の測定ヘッ
ドが記載されている。
[0003] In such a reflection characteristic measuring apparatus, generally, a result of measurement using a white calibration plate as a sample is stored as calibration data, and the reflection characteristic of the sample is calculated using the calibration data. I have. Here, if the emission intensity of the light source fluctuates between calibration and measurement, an error will occur in the measurement.Therefore, during calibration or measurement, a part of the light output from the light source is taken in as reference light, and When calculating the reflection characteristics based on the output value of the reflected sample light,
Correction is performed using the output value of the reference light so that no error occurs in the measured value even if the light emission intensity of the light source fluctuates. For example, Japanese Patent No. 2747915 discloses that a part of reflected light from an effective surface on a measurement surface is sent to an optical waveguide connected to a spectrometer, and a part of illumination light from a light source is transmitted by a reference optical waveguide. A measuring head having a configuration adapted to capture is described.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
特許第2747915号公報記載の測定ヘッドでは、測
定面からの反射光を分光計に導く光導波管とは別に、光
源からの照明光を導く参照光導波管を備えているので、
装置構成が複雑になるとともに、その分だけコストが上
昇してしまうという問題があった。
However, in the measuring head described in the above-mentioned conventional Japanese Patent No. 2747915, illumination light from a light source is guided separately from an optical waveguide for guiding reflected light from a measuring surface to a spectrometer. Since it has a reference light waveguide,
There has been a problem that the device configuration becomes complicated and the cost increases accordingly.

【0005】本発明は、上記問題を解決するもので、試
料光を分光手段に導く光学手段を参照光を導くのに共用
することにより、装置構成を簡素化してコストを低減で
きる反射特性測定装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problem, and a reflection characteristic measuring apparatus which can simplify the apparatus configuration and reduce the cost by sharing the optical means for guiding the sample light to the spectroscopic means for guiding the reference light. The purpose is to provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、測定
試料が対向配置される測定用開口と、この測定用開口の
近傍に配置された参照板と、上記測定用開口および上記
参照板を含む範囲を照明する照明手段と、この照明手段
からの照明光が上記測定試料で反射された試料光および
上記参照板で反射された参照光が導かれる領域に配置さ
れ、上記試料光および上記参照光をそれぞれ分光する分
光手段と、この分光手段の入射光側に配置され、上記試
料光を通過させる第1開口および上記参照光を通過させ
る第2開口を有するマスク板と、このマスク板の入射光
側に配置され、上記試料光および上記参照光をそれぞれ
上記マスク板の上記第1開口および上記第2開口に導く
光学手段と、分光された上記試料光の光強度に応じた電
気信号を波長ごとに出力するとともに、分光された上記
参照光の光強度に応じた電気信号を波長ごとに出力する
検出手段と、上記検出手段から出力された各電気信号を
用いて上記測定試料の分光反射特性を算出する信号処理
手段とを備えたことを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a measurement opening in which a measurement sample is disposed to face, a reference plate disposed near the measurement opening, the measurement opening and the reference plate. Illuminating means for illuminating a range including, and illumination light from the illuminating means is arranged in a region where the sample light reflected by the measurement sample and the reference light reflected by the reference plate are guided, and the sample light and the A spectroscopic means for dispersing the reference light, a mask plate disposed on the incident light side of the spectroscopic means and having a first opening through which the sample light passes and a second opening through which the reference light passes; An optical unit that is disposed on the incident light side and guides the sample light and the reference light to the first opening and the second opening of the mask plate, respectively, and outputs an electric signal corresponding to the light intensity of the split sample light. For each wavelength Detecting means for outputting an electric signal corresponding to the light intensity of the dispersed reference light for each wavelength, and calculating a spectral reflection characteristic of the measurement sample using each electric signal output from the detecting means. Signal processing means.

【0007】この構成によれば、測定試料が対向配置さ
れる測定用開口の近傍に参照板が配置されており、この
測定用開口および参照板を含む範囲が照明手段により照
明される。そして、光学手段により、測定試料で反射し
た試料光および参照板で反射した参照光がそれぞれマス
ク板の第1開口および第2開口に導かれ、第1開口を通
過した試料光および第2開口を通過した参照光が、それ
ぞれ、分光手段により分光される。さらに、分光された
試料光の光強度に応じた電気信号および分光された参照
光の光強度に応じた電気信号が、検出手段によりそれぞ
れ波長ごとに出力され、検出手段から出力された各電気
信号を用いて、測定試料の分光反射特性が算出される。
[0007] According to this configuration, the reference plate is arranged near the measurement opening in which the measurement sample is opposed, and the area including the measurement opening and the reference plate is illuminated by the illumination means. The sample light reflected by the measurement sample and the reference light reflected by the reference plate are guided to the first opening and the second opening of the mask plate by the optical means, respectively. Each of the passed reference lights is split by the splitting means. Further, an electric signal corresponding to the light intensity of the separated sample light and an electric signal corresponding to the light intensity of the separated reference light are output for each wavelength by the detecting means, and each electric signal output from the detecting means is output. Is used to calculate the spectral reflection characteristics of the measurement sample.

【0008】このように、測定試料で反射した試料光お
よび参照板で反射した参照光が、共通の光学手段により
マスク板の第1開口および第2開口に導かれることか
ら、光学手段が共用化されるので、装置構成が簡素化さ
れる。
As described above, the sample light reflected by the measurement sample and the reference light reflected by the reference plate are guided to the first opening and the second opening of the mask plate by the common optical means. Therefore, the device configuration is simplified.

【0009】また、請求項2の発明は、請求項1記載の
反射特性測定装置において、上記測定用開口および上記
第1開口は上記光学手段に関して互いに共役な位置に配
置され、上記参照板および上記第2開口は上記光学手段
に関して互いにほぼ共役な位置に配置されていることを
特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, in the reflection characteristic measuring apparatus according to the first aspect, the measurement opening and the first opening are arranged at positions conjugate to each other with respect to the optical means, and The second opening is characterized in that it is arranged at a position substantially conjugate to each other with respect to the optical means.

【0010】この構成によれば、測定用開口および第1
開口は光学手段に関して互いに共役な位置に配置されて
いるので、試料光の測定範囲は照明手段により照明され
る範囲のうちの第1開口に対する光学手段の倍率によっ
て決まる範囲になる。また、参照板および第2開口は光
学手段に関して互いにほぼ共役な位置に配置されている
ので、参照光の測定範囲は照明手段により照明される範
囲のうちの第2開口に対する光学手段の倍率によって決
まる範囲になる。また、このような配置により、試料光
および参照光の測定範囲の像が好適に分光手段に導かれ
ることとなる。
According to this configuration, the measurement opening and the first
Since the apertures are arranged at positions conjugate to each other with respect to the optical means, the measurement range of the sample light is a range determined by the magnification of the optical means with respect to the first aperture in the range illuminated by the illumination means. Further, since the reference plate and the second aperture are arranged at positions substantially conjugate to each other with respect to the optical means, the measurement range of the reference light is determined by the magnification of the optical means with respect to the second aperture in the range illuminated by the illumination means. Range. Further, with such an arrangement, an image in the measurement range of the sample light and the reference light is suitably guided to the spectroscopic means.

【0011】また、請求項3の発明は、請求項1または
2記載の反射特性測定装置において、上記照明手段は、
上記測定用開口の法線に対して45°傾斜した角度から上
記範囲を照明するもので、上記光学手段は、上記測定試
料で反射した光のうちで上記測定用開口の法線に沿った
成分を上記第1開口に導くものであることを特徴として
いる。
According to a third aspect of the present invention, in the reflection characteristic measuring device according to the first or second aspect, the illuminating means comprises:
The above-mentioned range is illuminated from an angle inclined by 45 ° with respect to the normal line of the measurement opening, and the optical means is a component of the light reflected by the measurement sample along the normal line of the measurement opening. Is guided to the first opening.

【0012】この構成によれば、照明手段により測定用
開口の法線に対して45°傾斜した角度から上記範囲が照
明され、測定試料で反射した光のうちで測定用開口の法
線に沿った成分が光学手段により第1開口に導かれるこ
とにより、簡素な構成で、CIEにおいて規定される45
°照明、垂直受光のジオメトリの装置が実現される。
According to this configuration, the above-described range is illuminated by the illuminating means from an angle inclined by 45 ° with respect to the normal line of the measurement opening, and the light reflected along the normal line of the measurement opening among the light reflected by the measurement sample. The guided component is guided to the first aperture by the optical means, so that a simple configuration is used and the component defined by the CIE is used.
° Illumination, vertical light receiving geometry device is realized.

【0013】また、請求項4の発明は、請求項3記載の
反射特性測定装置において、上記参照板は、上記照明手
段からの照明光の正反射光が上記光学手段に向かうよう
に上記測定用開口の開口面に対して傾斜して配置されて
いることを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the reflection characteristic measuring apparatus according to the third aspect, the reference plate is provided for measuring the reflection characteristic so that specular reflection light of illumination light from the illumination means is directed to the optical means. It is characterized by being arranged obliquely with respect to the opening surface of the opening.

【0014】この構成によれば、参照板は、照明手段か
らの照明光の正反射光が光学手段に向かうように測定用
開口の開口面に対して傾斜して配置されているので、参
照板で反射した参照光の光強度が増大する。従って、検
出手段から出力される参照光の光強度に応じた電気信号
のS/Nが増大するので、測定の再現性が向上すること
となる。
According to this configuration, the reference plate is disposed inclined with respect to the opening surface of the measurement opening so that the specular reflection light of the illumination light from the illumination means is directed to the optical means. The light intensity of the reference light reflected by the light source increases. Therefore, the S / N of the electric signal corresponding to the light intensity of the reference light output from the detecting means increases, and the reproducibility of the measurement is improved.

【0015】また、請求項5の発明は、請求項1または
2記載の反射特性測定装置において、上記第2開口のサ
イズは、上記第1開口のサイズより大きいことを特徴と
している。
According to a fifth aspect of the present invention, in the reflection characteristic measuring device according to the first or second aspect, the size of the second opening is larger than the size of the first opening.

【0016】この構成によれば、第2開口のサイズは、
第1開口のサイズより大きいことから、検出手段に到達
する参照光の光強度が増大し、これによって検出手段か
ら出力される参照光の光強度に応じた電気信号のS/N
が増大するので、測定の再現性が向上することとなる。
この構成は、特に、光源の分光輝度特性が輝線を含まな
い場合に有効である。
According to this configuration, the size of the second opening is
Since the size is larger than the size of the first opening, the light intensity of the reference light reaching the detection means increases, and thereby the S / N of the electric signal corresponding to the light intensity of the reference light output from the detection means is increased.
Is increased, so that the reproducibility of the measurement is improved.
This configuration is particularly effective when the spectral luminance characteristic of the light source does not include a bright line.

【0017】また、請求項6の発明は、請求項1記載の
反射特性測定装置において、上記照明手段および上記光
学手段と上記測定用開口との間に、赤外域の波長の光を
吸収する赤外カットフィルタを介設したことを特徴とし
ている。
According to a sixth aspect of the present invention, in the reflection characteristic measuring apparatus according to the first aspect, a red light absorbing infrared light having a wavelength in an infrared region is provided between the illumination means and the optical means and the measurement aperture. It is characterized in that an outer cut filter is provided.

【0018】この構成によれば、赤外カットフィルタが
照明手段および光学手段と測定用開口との間に介設され
ているので、赤外域の波長の光が測定試料に照射されな
い。従って、同一の測定試料に対して繰り返し測定を行
っても、測定試料の温度上昇が抑えられ、これによって
一定の測定精度が維持される。
According to this configuration, since the infrared cut filter is interposed between the illumination means and the optical means and the measurement aperture, light having a wavelength in the infrared region is not irradiated on the measurement sample. Therefore, even if the same measurement sample is repeatedly measured, a rise in the temperature of the measurement sample is suppressed, and a constant measurement accuracy is maintained.

【0019】また、請求項7の発明は、請求項6記載の
反射特性測定装置において、上記測定用開口は、上記赤
外カットフィルタにより閉塞されていることを特徴とし
ている。
According to a seventh aspect of the present invention, in the reflection characteristic measuring apparatus according to the sixth aspect, the measurement opening is closed by the infrared cut filter.

【0020】この構成によれば、赤外カットフィルタに
より測定用開口から装置内部に塵埃が侵入するのが阻止
され、防塵効果が得られる。
According to this configuration, the infrared cut filter prevents dust from entering the inside of the apparatus through the measurement opening, and a dustproof effect can be obtained.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】まず、図1〜図7を用いて、本発
明に係る反射特性測定装置の一実施形態としての分光測
色計の構成について説明する。図1は同分光測色計の断
面図、図2は同分光測色計の平面図である。図3は制限
枠の正面図、図4はマスク板の正面図、図5(a)
(b)は照明範囲および測定範囲を示す部分平面図であ
る。図6は検出部を示す図で、(a)は側面図、(b)
は正面図である。図7は同分光測色計の電気的構成を示
すブロック図である。なお、説明の便宜上、図2では光
源、検出部および処理部の図示を省略し、図5では光源
および受光部の図示を省略している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, the configuration of a spectrophotometer as an embodiment of a reflection characteristic measuring apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a sectional view of the spectrophotometer, and FIG. 2 is a plan view of the spectrophotometer. FIG. 3 is a front view of the limit frame, FIG. 4 is a front view of the mask plate, and FIG.
(B) is a partial plan view showing an illumination range and a measurement range. 6A and 6B are views showing a detection unit, FIG. 6A is a side view, and FIG.
Is a front view. FIG. 7 is a block diagram showing an electrical configuration of the spectrocolorimeter. Note that, for convenience of description, the light source, the detection unit, and the processing unit are not illustrated in FIG. 2, and the light source and the light receiving unit are not illustrated in FIG. 5.

【0022】図1に示すように、この分光測色計1は、
上面に操作表示部2、底面に測定用開口3を備え、この
測定用開口3を測定試料4に当接させた状態で当該測定
試料4の測色を行うもので、内部に照明部10、受光部
20、分光部30、検出部40、処理部50などを備え
ている。
As shown in FIG. 1, this spectrophotometer 1
An operation display unit 2 is provided on the upper surface, and a measurement opening 3 is provided on the bottom surface. The color of the measurement sample 4 is measured while the measurement opening 3 is in contact with the measurement sample 4. It includes a light receiving section 20, a spectroscopic section 30, a detecting section 40, a processing section 50, and the like.

【0023】操作表示部2は、使用者により操作される
操作スイッチ、例えば測定開始を指示するための測定ス
イッチや校正開始を指示するための校正スイッチなどを
備えるとともに、測定結果などを表示するためのLCD
を備えている。
The operation display unit 2 includes operation switches operated by a user, for example, a measurement switch for instructing the start of measurement, a calibration switch for instructing the start of calibration, and the like, and for displaying measurement results and the like. LCD
It has.

【0024】測定用開口3の近傍には参照板5が配設さ
れている。この参照板5は、例えば白色またはライトグ
レーに塗装された板で、校正時と測定時とで照明部10
からの照明光強度の変動による影響を補正するために、
照明光の光強度を得るためのもので、照明部10からの
照明光を測定試料4を介さずに受光部20に向けて反射
する。参照板5は、照明部10からの照明光の正反射光
が受光部20に向かうように、測定用開口3の開口面に
対して傾斜して配置されている。なお、参照板5は、白
色またはライトグレーに塗装された板に限られない。例
えば、白色またはライトグレーに印刷された板や、セラ
ミックなどの白色の材料からなる板を用いてもよい。
A reference plate 5 is provided near the measurement opening 3. The reference plate 5 is, for example, a plate painted white or light gray, and has an illumination unit 10 for calibration and measurement.
To compensate for the effects of variations in illumination light intensity from
This is for obtaining the light intensity of the illumination light, and reflects the illumination light from the illumination unit 10 toward the light receiving unit 20 without passing through the measurement sample 4. The reference plate 5 is arranged to be inclined with respect to the opening surface of the measurement opening 3 so that the regular reflection light of the illumination light from the illumination unit 10 goes to the light receiving unit 20. The reference plate 5 is not limited to a plate painted white or light gray. For example, a plate printed in white or light gray or a plate made of a white material such as ceramic may be used.

【0025】照明部10は、光源11、制限枠12、ト
ロイダルミラー13、赤外カットフィルタ14を備え、
測定用開口3および参照板5を含む範囲を照明するもの
である。光源11は、短寸法のフィラメントを有するタ
ングステンランプからなり、フィラメントが測定用開口
3の法線3n上に一致するように配置されている。制限
枠12は、開口12aを有し、所望の照明領域以外の光
線を遮光し、有害な光が受光部20に入射しないように
するためのもので、中心が測定用開口3の法線3nに一
致するように配置されている。開口12aは、図3に示
すように、C字形状部12bと、その左側の扇形状部1
2cとが合わさった形状になっている。
The illumination unit 10 includes a light source 11, a limit frame 12, a toroidal mirror 13, and an infrared cut filter 14,
This illuminates the area including the measurement opening 3 and the reference plate 5. The light source 11 is composed of a tungsten lamp having a short-dimension filament, and is arranged so that the filament coincides with the normal 3n of the measurement opening 3. The restriction frame 12 has an opening 12a, blocks light outside the desired illumination area, and prevents harmful light from entering the light receiving unit 20. The center of the restriction frame 12 is the normal 3n of the measurement opening 3. Are arranged to match. As shown in FIG. 3, the opening 12a has a C-shaped portion 12b and a fan-shaped portion 1 on the left side thereof.
2c.

【0026】トロイダルミラー13は、軸の周りに曲線
が回転して形成される非球面を有するもので、図2に示
すように、受光部20の部分を除いて測定用開口3を囲
むように平面視C字形状のものが採用されており、内面
は、例えばアルミニウムなどの金属が真空蒸着されて鏡
面になっている。このトロイダルミラー13は、光源1
1(本実施形態ではタングステンランプのフィラメント
の位置)に焦点が一致するように配置されており、トロ
イダルミラー13で反射した光源11からの光は、ほぼ
平行光にされる。なお、トロイダルミラー13に代え
て、軸の周りに円弧が回転して形成される球面鏡を用い
てもよい。
The toroidal mirror 13 has an aspherical surface formed by rotating a curve around an axis. As shown in FIG. 2, the toroidal mirror 13 surrounds the measurement opening 3 except for the light receiving section 20. A C-shape in plan view is employed, and the inner surface is a mirror surface formed by vacuum-depositing a metal such as aluminum. This toroidal mirror 13 is
1 (in this embodiment, the position of the filament of the tungsten lamp) is arranged so that the focal point coincides therewith, and the light from the light source 11 reflected by the toroidal mirror 13 is made substantially parallel light. Instead of the toroidal mirror 13, a spherical mirror formed by rotating an arc around an axis may be used.

【0027】赤外カットフィルタ14は、測定用開口3
の直ぐ内側に配設され、赤外波長成分の光を吸収し、そ
れ以下の波長成分を透過するもので、この赤外カットフ
ィルタ14により測定用開口3は閉塞されている。
The infrared cut filter 14 is used for the measurement aperture 3.
, Which absorbs infrared wavelength component light and transmits wavelength components smaller than the infrared wavelength component. The infrared cut filter 14 closes the measurement opening 3.

【0028】受光部20は、平面反射鏡21、結像レン
ズ22,23、マスク板24およびフィールドレンズ2
5を備え、照明部10からの照明光が測定試料4で反射
された試料光を分光部30に導くとともに、参照板5で
反射された参照光を分光部30に導くものである。
The light receiving section 20 includes a plane reflecting mirror 21, image forming lenses 22, 23, a mask plate 24, and a field lens 2.
The illumination light from the illumination unit 10 guides the sample light reflected by the measurement sample 4 to the spectroscopy unit 30 and the reference light reflected by the reference plate 5 to the spectroscopy unit 30.

【0029】マスク板24は、図4に示すように、第1
入射スリット241と、第2入射スリット242とを備
え、照明部10からの照明光による照明範囲のうちで、
分光部30に導く測定領域をスリット241,242に
より限定するためのものである。第1入射スリット24
1は、中心より多少上方に穿設され、第2入射スリット
242は、その下方に穿設されており、スリットの図
中、横方向の寸法は、第1入射スリット241より第2
入射スリット242の方が大きくなっている。
As shown in FIG. 4, the mask plate 24
It includes an entrance slit 241 and a second entrance slit 242, and includes an illumination range of illumination light from the illumination unit 10,
This is for limiting the measurement region guided to the spectroscopic unit 30 by the slits 241 and 242. First entrance slit 24
1 is drilled slightly above the center, the second entrance slit 242 is drilled below it, and the horizontal dimension of the slit in the drawing is the second dimension from the first entrance slit 241.
The entrance slit 242 is larger.

【0030】第1入射スリット241と測定用開口3と
は、平面反射鏡21および結像レンズ22,23からな
る光学手段に関して互いに共役な位置に配置され、第2
入射スリット242と参照板5とは、平面反射鏡21お
よび結像レンズ22,23からなる光学手段に関して互
いにほぼ共役な位置に配置されている。
The first entrance slit 241 and the measurement aperture 3 are arranged at positions conjugate with each other with respect to the optical means comprising the plane reflecting mirror 21 and the imaging lenses 22 and 23, and
The entrance slit 242 and the reference plate 5 are arranged at positions substantially conjugate to each other with respect to the optical means including the plane reflecting mirror 21 and the imaging lenses 22 and 23.

【0031】フィールドレンズ25は、図2に示すよう
に、結像レンズ22,23の光軸L1に対して多少傾斜
して配置されており、マスク板24の第1、第2入射ス
リット241,242を通過した光を平行光として分光
部30に導くとともに、分光部30で分光されて反射さ
れた光を平面反射鏡31を介して検出部40上に結像す
るように配置されている。
As shown in FIG. 2, the field lens 25 is disposed slightly inclined with respect to the optical axis L1 of the imaging lenses 22 and 23, and the first and second entrance slits 241 and 241 of the mask plate 24. The light passing through 242 is guided as parallel light to the light splitting unit 30, and the light separated and reflected by the light splitting unit 30 is imaged on the detection unit 40 via the plane reflecting mirror 31.

【0032】図1に戻り、分光部30は、縦方向(図2
では紙面奥行き方向)の溝が例えば600本/mmのピッチ
で横方向に並んで形成された回折格子からなり、第1入
射スリット241を通過した測定試料4からの試料光お
よび第2入射スリット242を通過した参照板5からの
参照光をそれぞれ波長ごとに分光して、図2中、多少上
向きに平面反射鏡31に向けて反射するものである。
Returning to FIG. 1, the spectroscopic unit 30 is arranged in the vertical direction (FIG. 2).
In the drawing, grooves in the depth direction of the drawing) are formed of diffraction gratings formed side by side at a pitch of, for example, 600 lines / mm. The sample light from the measurement sample 4 passing through the first entrance slit 241 and the second entrance slit 242 are formed. The reference light from the reference plate 5 that has passed through is divided into wavelengths, and the light is reflected toward the plane reflecting mirror 31 slightly upward in FIG.

【0033】このような構成により、光源11から射出
された光は、制限枠12によって通過する光が制限さ
れ、トロイダルミラー13で反射された後、平行光とな
って、CIEまたはJISで規定された、測定用開口3
の法線3nに対して(45±8)°を満足する照明角度で測
定用開口3およびその近傍を照明する。
With such a configuration, the light emitted from the light source 11 is restricted by the restricting frame 12, is reflected by the toroidal mirror 13, becomes parallel light, and is defined by CIE or JIS. The opening for measurement 3
The measurement aperture 3 and its vicinity are illuminated at an illumination angle that satisfies (45 ± 8) ° with respect to the normal 3n.

【0034】図5(a)に示すように、照明部10によ
る照明範囲15は、測定用開口3の全体を含む円形形状
部と、参照板5の大部分を含む矩形形状部とが合わさっ
た形状になっている。測定用開口3の全体は、制限枠1
2の開口12aのC字形状部12bを通過した光によっ
てほぼ全方位から照明され、参照板5の大部分は、制限
枠12の開口12aの扇形状部12cを通過した光によ
ってほぼ一方向から照明される。
As shown in FIG. 5A, the illumination range 15 of the illumination unit 10 is a combination of a circular portion including the entire measurement opening 3 and a rectangular portion including most of the reference plate 5. It has a shape. The entirety of the measurement opening 3 is
The reference plate 5 is illuminated from almost all directions by light passing through the C-shaped portion 12b of the second opening 12a, and most of the reference plate 5 is irradiated from almost one direction by light passing through the fan-shaped portion 12c of the opening 12a of the restriction frame 12. Illuminated.

【0035】図1に戻り、測定試料4および参照板5に
よって拡散反射した試料光および参照光は、いずれも、
平面反射鏡21によって反射され、結像レンズ22,2
3によって集束され、それぞれ、第1入射スリット24
1および第2入射スリット242を通過する。
Returning to FIG. 1, the sample light and the reference light diffusely reflected by the measurement sample 4 and the reference plate 5 are both
The light is reflected by the plane reflecting mirror 21 to form the imaging lenses 22 and 2.
3 are focused by the first entrance slits 24, respectively.
It passes through the first and second entrance slits 242.

【0036】上述したように、第1入射スリット241
と測定用開口3とは、平面反射鏡21および結像レンズ
22,23からなる光学手段に関して互いに共役な位置
に配置されているので、図5(b)に示すように、第1
入射スリット241を通過する範囲、すなわち測定用開
口3に当接して配置された測定試料4の測定範囲16
は、第1入射スリット241の形状が結像レンズ22,
23による倍率で投影された範囲となる。
As described above, the first entrance slit 241
The measurement aperture 3 and the measurement aperture 3 are arranged at positions conjugate to each other with respect to the optical means including the plane reflecting mirror 21 and the imaging lenses 22 and 23, and therefore, as shown in FIG.
A range passing through the entrance slit 241, that is, the measurement range 16 of the measurement sample 4 arranged in contact with the measurement opening 3.
Means that the shape of the first entrance slit 241 is
The range is projected at a magnification of 23.

【0037】また、第2入射スリット242と参照板5
とは、平面反射鏡21および結像レンズ22,23から
なる光学手段に関して互いにほぼ共役な位置に配置され
ているので、図5(b)に示すように、第2入射スリッ
ト242を通過する範囲、すなわち参照板5の測定範囲
17は、第2入射スリット242の形状が結像レンズ2
2,23による倍率で投影された範囲となる。
The second entrance slit 242 and the reference plate 5
Means that the optical means composed of the plane reflecting mirror 21 and the imaging lenses 22 and 23 are arranged at positions substantially conjugate with each other, and as shown in FIG. 5B, the area passing through the second entrance slit 242. That is, the measurement range 17 of the reference plate 5 is such that the shape of the second entrance slit 242 is
The area is projected at a magnification of 2, 23.

【0038】図5(b)に示すように、試料光の測定範
囲16および参照光の測定範囲17は、いずれも照明範
囲15に含まれている。
As shown in FIG. 5B, the measurement range 16 of the sample light and the measurement range 17 of the reference light are both included in the illumination range 15.

【0039】図1に戻り、第1、第2入射スリット24
1,242を通過した試料光および参照光は、それぞ
れ、フィールドレンズ25により平行光にされ、分光部
30に入射して波長ごとに分光されて反射される。分光
部30で反射された光は、再びフィールドレンズ25を
通過して、平面反射鏡31により図中、上向きに反射さ
れ、検出部40の光電変換素子上に結像する。
Returning to FIG. 1, the first and second entrance slits 24
The sample light and the reference light that have passed through the light sources 1 and 242 are respectively converted into parallel light by the field lens 25, are incident on the spectroscopic unit 30, are separated for each wavelength, and are reflected. The light reflected by the spectroscopy unit 30 passes through the field lens 25 again, is reflected upward by a plane reflecting mirror 31 in the figure, and forms an image on the photoelectric conversion element of the detection unit 40.

【0040】検出部40は、図6に示すように2列の検
出列41,42を備え、センサ基板401上に設けられ
ている。この検出列41,42は、1チップのシリコン
ウェハ上に分光波長域(本実施形態では、例えば400nm
〜700nm)に亘って、分光波長ピッチ(本実施形態で
は、例えば10nm)に対応して複数の光電変換素子43が
それぞれ配設されて形成されている。検出列41には第
1入射スリット241を通過した試料光が入射し、検出
列42には第2入射スリット242を通過した参照光が
入射する。光電変換素子43は、例えばフォトダイオー
ドからなり、光強度に応じた電気信号(フォトダイオー
ドであれば電流信号)を出力するもので、上方の光電変
換素子43から順に、各波長ごとの光強度に応じた電気
信号が得られる。なお、検出列41,42において、並
んだ位置の光電変換素子43には、それぞれ同一波長の
光が入射する。
As shown in FIG. 6, the detection section 40 has two detection rows 41 and 42 and is provided on a sensor substrate 401. The detection rows 41 and 42 are arranged on a one-chip silicon wafer in a spectral wavelength range (for example, 400 nm in this embodiment).
A plurality of photoelectric conversion elements 43 are arranged and formed corresponding to the spectral wavelength pitch (for example, 10 nm in the present embodiment) over the wavelength range of about 700 nm. The sample light that has passed through the first incident slit 241 is incident on the detection row 41, and the reference light that has passed through the second incident slit 242 is incident on the detection row 42. The photoelectric conversion element 43 is composed of, for example, a photodiode and outputs an electric signal (a current signal in the case of a photodiode) according to the light intensity. A corresponding electric signal is obtained. In the detection rows 41 and 42, light having the same wavelength is incident on the photoelectric conversion elements 43 arranged side by side.

【0041】処理部50は、図7に示すように、種々の
電子部品からなる回路ブロック51〜60を備え、これ
らの回路ブロック51〜60は、処理回路基板501上
に配設されている。
As shown in FIG. 7, the processing section 50 includes circuit blocks 51 to 60 made up of various electronic components, and these circuit blocks 51 to 60 are disposed on a processing circuit board 501.

【0042】検出部40の検出列41,42の各光電変
換素子43から出力される電流信号は、電流電圧変換回
路51により、それぞれ電圧信号に変換され、マルチプ
レクサ52により切り替えられて、それぞれ順次増幅回
路53により増幅され、A/D変換部54によりディジ
タル値に変換されて、CPU55に入力される。
The current signals output from the photoelectric conversion elements 43 of the detection columns 41 and 42 of the detection unit 40 are converted into voltage signals by a current-voltage conversion circuit 51, and are switched by a multiplexer 52 to be sequentially amplified. The signal is amplified by the circuit 53, converted into a digital value by the A / D converter 54, and input to the CPU 55.

【0043】CPU55は、この分光測色計1の各部の
動作を制御するものである。すなわち、操作表示部2の
測定スイッチが押され、その操作信号が入出力IC59
を介して入力されると、発光回路56を制御して光源1
1を発光させる。EEPROM57には、光源11を発
光させずに測定して得られる暗時のオフセットや、測定
試料4として分光反射率が既知の白色校正板を測定した
ときの白色校正データを格納しておく。RAM58に
は、A/D変換部54から入力される測定値を一時的に
格納する。
The CPU 55 controls the operation of each section of the spectrocolorimeter 1. That is, the measurement switch of the operation display section 2 is pressed, and the operation signal is transmitted to the input / output IC 59.
When input through the light source 1, the light emitting circuit 56 is controlled to control the light source 1
1 is caused to emit light. The EEPROM 57 stores a dark offset obtained by measuring without emitting light from the light source 11 and white calibration data when a white calibration plate having a known spectral reflectance is measured as the measurement sample 4. The RAM 58 temporarily stores the measurement value input from the A / D converter 54.

【0044】そして、EEPROM57に格納されてい
るオフセットや白色校正データおよびRAM58に格納
されている測定値を用いて、測定試料4の分光反射特性
を算出する。このとき、白色校正を行ったときの参照光
の出力値をM1、測定時の参照光の出力値をM2、測定
時の試料光の出力値をR1とすると、 R2=R1×(M2/M1) によって補正される補正値R2を測定試料4の分光反射
特性とする。これによって校正時と測定時での光源11
の発光強度の変動による誤差を補正している。
Then, the spectral reflection characteristics of the measurement sample 4 are calculated using the offset and white calibration data stored in the EEPROM 57 and the measured values stored in the RAM 58. At this time, if the output value of the reference light at the time of performing white calibration is M1, the output value of the reference light at the time of measurement is M2, and the output value of the sample light at the time of measurement is R1, R2 = R1 × (M2 / M1 The correction value R2 corrected by the above is set as the spectral reflection characteristic of the measurement sample 4. Thereby, the light source 11 at the time of calibration and at the time of measurement is obtained.
The error due to the variation of the light emission intensity is corrected.

【0045】算出した分光反射特性は、入出力IC59
を介して操作表示部2のLCDに表示し、インターフェ
ースIC60を介して外部装置に出力する。
The calculated spectral reflection characteristics are stored in the input / output IC 59
Via the interface IC 60 and output to an external device via the interface IC 60.

【0046】このように、本実施形態によれば、測定試
料4が対向配置される測定用開口3の近傍に参照板5を
配置し、平面反射鏡21および結像レンズ22,23か
らなる光学手段により、測定試料4からの試料光をマス
ク板24の第1入射スリット241に導き、参照板5か
らの参照光をマスク板24の第2入射スリット242に
導くようにして、光学手段を共用しているので、参照光
を導くために別途光学手段を必要とすることがなく、装
置構成を簡素化するとともに、コスト低減を図ることが
できる。
As described above, according to the present embodiment, the reference plate 5 is arranged near the measurement opening 3 where the measurement sample 4 is arranged to face, and the optical system including the plane reflecting mirror 21 and the imaging lenses 22 and 23 is provided. By means, the sample light from the measurement sample 4 is guided to the first entrance slit 241 of the mask plate 24, and the reference light from the reference plate 5 is guided to the second entrance slit 242 of the mask plate 24. Therefore, there is no need for an additional optical unit for guiding the reference light, so that the apparatus configuration can be simplified and the cost can be reduced.

【0047】また、本実施形態では、参照板5に対する
照明部10からの照明光の正反射光が平面反射鏡21に
向かうように、測定用開口3の開口面に対して参照板5
を傾斜して配置するようにしている。ここで、参照板5
を測定用開口3の開口面に対して平行に配置した場合を
考える。測定試料4は、開口12b(図3)を通過した
光により45°の入射角度でほぼ全方位から照明されるの
に対して、参照板5は、開口12c(図3)を通過した
光により45°の入射角度で一方向のみから照明されるた
め、参照板5上における照度は測定試料4上の照度より
低くなる。参照板5としては、通常、分光反射率の高い
平滑な板が用いられるが、照度が低く、しかも45°入射
であるために、開口面に垂直な平面反射鏡21の方向へ
の反射光量が少なくなってしまう。また、参照板5とし
て分光反射率の高い平滑な板を用いると、正反射成分が
入射方向と反対の方向へ逃げてしまうために、迷光が増
大してしまうこととなる。
Further, in the present embodiment, the reference plate 5 is placed on the opening surface of the measurement opening 3 so that the specular reflection light of the illumination light from the illumination unit 10 with respect to the reference plate 5 is directed to the plane reflecting mirror 21.
Are arranged at an angle. Here, the reference plate 5
Is arranged parallel to the opening surface of the measurement opening 3. The measurement sample 4 is illuminated from almost all directions at an incident angle of 45 ° by the light passing through the opening 12b (FIG. 3), while the reference plate 5 is illuminated by the light passing through the opening 12c (FIG. 3). Since illumination is performed from only one direction at an incident angle of 45 °, the illuminance on the reference plate 5 is lower than the illuminance on the measurement sample 4. As the reference plate 5, a smooth plate having a high spectral reflectance is usually used. However, since the illuminance is low and the light is incident at 45 °, the amount of reflected light in the direction of the plane reflecting mirror 21 perpendicular to the opening surface is small. It will be less. Further, if a smooth plate having a high spectral reflectance is used as the reference plate 5, the specular reflection component escapes in the direction opposite to the incident direction, so that stray light increases.

【0048】これに対して、本実施形態では、参照板5
を測定用開口3の開口面に対して傾斜させ、正反射成分
が平面反射鏡21の方向に向かうように配置しているの
で、参照光の出力信号を増大することができるととも
に、迷光の増大を抑制することができる。これによって
処理部50でのS/Nを向上することができる。この場
合において、参照板5を、多少拡散性の低い、すなわち
入射光を多少正反射する材質で形成することにより、参
照光の出力レベルをさらに増大することができる。
On the other hand, in the present embodiment, the reference plate 5
Is inclined with respect to the opening surface of the measurement opening 3 so that the specular reflection component is directed toward the plane reflecting mirror 21, so that the output signal of the reference light can be increased and the stray light can be increased. Can be suppressed. Thereby, the S / N in the processing unit 50 can be improved. In this case, the output level of the reference light can be further increased by forming the reference plate 5 from a material having a somewhat low diffusivity, that is, a material that reflects the incident light somewhat specularly.

【0049】また、本実施形態では、マスク板24の第
2入射スリット242の幅(図4中、横方向寸法)を第
1入射スリット241の幅より大きくしている。第1入
射スリット241は、測定試料4からの試料光が通過す
るものであり、その大きさ(幅)は、分光測色計1の仕
様として設計される測定波長ピッチに基づき決定され
る。一方、参照板5からの参照光が通過する第2入射ス
リット242は、光源がキセノンランプのように輝線を
含む場合には、試料光と参照光とで輝線を含む度合いを
一致させる必要があるので、第1入射スリット241の
幅と正確に一致させる必要がある。
In the present embodiment, the width (the horizontal dimension in FIG. 4) of the second entrance slit 242 of the mask plate 24 is larger than the width of the first entrance slit 241. The first entrance slit 241 allows the sample light from the measurement sample 4 to pass therethrough, and its size (width) is determined based on the measurement wavelength pitch designed as the specification of the spectrophotometer 1. On the other hand, in the case where the light source includes a bright line like a xenon lamp, the second incident slit 242 through which the reference light from the reference plate 5 passes needs to match the degree of including the bright line between the sample light and the reference light. Therefore, it is necessary to exactly match the width of the first entrance slit 241.

【0050】しかし、光源11として輝線が含まれない
連続スペクトルを有するタングステンランプを使用して
いる本実施形態では、第2入射スリット242の幅を第
1入射スリット241の幅に一致させる必要はない。ま
た、参照板5で反射した参照光を測定するのは、上述し
たように、校正時と測定時での光源11の光量変動によ
る影響を防止するために光源11の光量をモニタするこ
とを目的としているので、波長純度は試料光に比べて低
くてもよいため、第2入射スリット242の幅を大きく
することができる。
However, in the present embodiment using a tungsten lamp having a continuous spectrum that does not include a bright line as the light source 11, it is not necessary to make the width of the second entrance slit 242 coincide with the width of the first entrance slit 241. . The purpose of measuring the reference light reflected by the reference plate 5 is to monitor the light amount of the light source 11 in order to prevent the influence of the light amount fluctuation of the light source 11 during calibration and measurement, as described above. Since the wavelength purity may be lower than that of the sample light, the width of the second entrance slit 242 can be increased.

【0051】そこで、本実施形態では、第2入射スリッ
ト242の幅を第1入射スリット241の幅の2倍程度
にしており、これによって、参照光による検出列42の
出力信号を増大することができ、処理部50のS/Nを
さらに向上することができる。その結果、分光測色計1
の繰り返し性能、すなわち測定の再現性を向上すること
ができる。
Therefore, in the present embodiment, the width of the second entrance slit 242 is set to about twice the width of the first entrance slit 241, thereby increasing the output signal of the detection array 42 due to the reference light. As a result, the S / N of the processing unit 50 can be further improved. As a result, the spectrophotometer 1
, That is, the reproducibility of measurement can be improved.

【0052】また、本実施形態では、光源11としてタ
ングステンランプが用いられているが、タングステンラ
ンプの放射エネルギーは赤外波長成分を多く含んでいる
ので、そのままでは測定試料4を加熱してしまうことに
なる。一方、物質は、温度に応じて反射率が変化すると
いう特性(サーモクロミズム)を有するため、測定試料
4の温度が変化すると正確な測色が困難になる。例え
ば、色の基準によく用いられるBCRAタイルの赤で
は、1℃の温度変化でΔE*ab≒0.1の色差が発生し
てしまう。
In this embodiment, a tungsten lamp is used as the light source 11. However, since the radiant energy of the tungsten lamp contains many infrared wavelength components, the measurement sample 4 may be heated as it is. become. On the other hand, since the substance has a characteristic (thermochromism) that the reflectance changes according to the temperature, it is difficult to accurately measure the color when the temperature of the measurement sample 4 changes. For example, in a red color of a BCRA tile often used as a color standard, a color change of ΔE * ab ≒ 0.1 occurs at a temperature change of 1 ° C.

【0053】そこで、本実施形態によれば、測定用開口
3の直ぐ内側に赤外カットフィルタ14を配設したので
赤外波長成分は遮断されるため、光源11からの照明光
により測定試料4が加熱されるのを防止することがで
き、これによって測定精度の低下を防止することができ
る。
Therefore, according to the present embodiment, since the infrared cut filter 14 is disposed immediately inside the measurement opening 3, the infrared wavelength component is cut off. Can be prevented from being heated, whereby a decrease in measurement accuracy can be prevented.

【0054】また、赤外カットフィルタ14により測定
用開口3を閉塞しているので、測定用開口3から内部に
塵埃などの侵入を防ぐことができ、赤外カットフィルタ
14は防塵ガラスとしての機能も併せ持つこととなる。
Further, since the measurement opening 3 is closed by the infrared cut filter 14, it is possible to prevent dust or the like from entering the inside from the measurement opening 3, and the infrared cut filter 14 functions as a dust-proof glass. Will also have.

【0055】また、光源11からの光がトロイダルミラ
ー13で反射されるとほぼ平行光となるように光源11
およびトロイダルミラー13を配置したので、測定用開
口3と測定試料4との距離が多少変動しても、照度分布
の変化やその強度の変化が少ない照明を行うことができ
る。すなわち、測定試料4に照射される光線をトロイダ
ルミラー13の軸を通る断面で評価したとき、試料面の
位置が変動しても光線は発散も集束もしないことから、
照明の強度変化は少ないといえる。これによって、測定
試料4の位置変動により測定結果が変化するのを低減
し、常に一定の測定精度で測色を行うことができる。
When the light from the light source 11 is reflected by the toroidal mirror 13, the light from the light source 11 becomes substantially parallel.
In addition, since the toroidal mirror 13 is disposed, even if the distance between the measurement opening 3 and the measurement sample 4 slightly changes, illumination with a small change in the illuminance distribution and a small change in the intensity can be performed. That is, when the light beam applied to the measurement sample 4 is evaluated in a cross section passing through the axis of the toroidal mirror 13, the light beam does not diverge or converge even if the position of the sample surface changes.
It can be said that the change in illumination intensity is small. As a result, a change in the measurement result due to a position change of the measurement sample 4 is reduced, and the colorimetry can always be performed with a constant measurement accuracy.

【0056】次に、図8〜図10を用いて検出部40の
位置調整について説明する。図8は検出部の位置調整を
説明するための図で、(a)は分光測色計1の内部の平
面図、(b)は同側面図である。また、図9は光電変換
素子の分光応答度を示す図、図10は分光部30と検出
部40の従来の位置調整を説明する図である。
Next, the position adjustment of the detection unit 40 will be described with reference to FIGS. FIGS. 8A and 8B are diagrams for explaining the position adjustment of the detection unit. FIG. 8A is a plan view of the inside of the spectrophotometer 1, and FIG. FIG. 9 is a diagram illustrating the spectral responsivity of the photoelectric conversion element, and FIG. 10 is a diagram illustrating a conventional position adjustment of the spectral unit 30 and the detecting unit 40.

【0057】図6に示す検出列41,42が配設された
センサ基板401は、図8(b)に示すように、処理回
路基板501に実装されている。センサ基板401は、
分光部30の部品誤差および配置誤差に起因する検出列
41,42上の分光結像位置のずれを補正するために、
分光部30に対する位置が2次元方向に調整可能に構成
されている。
The sensor board 401 provided with the detection rows 41 and 42 shown in FIG. 6 is mounted on a processing circuit board 501 as shown in FIG. 8B. The sensor board 401
In order to correct the shift of the spectral imaging position on the detection rows 41 and 42 due to the component error and the arrangement error of the spectral unit 30,
The position with respect to the spectroscopy unit 30 is configured to be adjustable in a two-dimensional direction.

【0058】図8に示すように、受光部20や分光部3
0などが固定された光学台101は長方形の板状で、そ
の4隅には、例えば円柱形状のベース板取付部102,
103,104,105が立設されている。ベース板取
付部102の上端に雌ねじ106が設けられ、ベース板
110の対応する位置には図中、矢印X方向に長い長孔
111が穿設されており、ベース板取付部103〜10
5も、ベース板取付部102と同一構造になっている。
そして、このX方向にベース板110の位置を調整した
後に、固定ねじ112などによって固定される。
As shown in FIG. 8, the light receiving section 20 and the spectral section 3
The optical table 101 to which 0 and the like are fixed has a rectangular plate shape, and at its four corners, for example, a cylindrical base plate mounting portion 102,
103, 104 and 105 are erected. A female screw 106 is provided at the upper end of the base plate mounting portion 102, and a long hole 111 is formed in a corresponding position of the base plate 110 in a direction indicated by an arrow X in FIG.
5 also has the same structure as the base plate mounting portion 102.
Then, after adjusting the position of the base plate 110 in the X direction, the base plate 110 is fixed by the fixing screw 112 or the like.

【0059】さらに、ベース板110の適所にガイド軸
113,114が突設され、スライド板120のそれら
に対応する2箇所には、それぞれ、図中、矢印Y方向に
長い長孔121,122が穿設されている。また、ベー
ス板110の適所に雌ねじ116,117が設けられ、
スライド板120のそれらに対応する2箇所には、それ
ぞれ、図中、矢印Y方向に長い長孔124,123が穿
設されている。そして、スライド板120の位置を矢印
Y方向に調整した後に、固定ねじ126,125により
スライド板120がベース板110に固定される。
Further, guide shafts 113 and 114 are protruded at appropriate positions on the base plate 110, and elongated holes 121 and 122 which are long in the direction of arrow Y in the figure are respectively provided at two corresponding positions on the slide plate 120. Has been drilled. Further, female screws 116 and 117 are provided at appropriate places on the base plate 110,
Elongated holes 124 and 123, which are long in the arrow Y direction in the figure, are formed at two locations corresponding to those of the slide plate 120, respectively. After adjusting the position of the slide plate 120 in the direction of the arrow Y, the slide plate 120 is fixed to the base plate 110 by the fixing screws 126 and 125.

【0060】スライド板120には、さらに、位置決め
軸131,132が突設され、これらの軸131,13
2には雌ねじ(図示省略)が設けられており、処理回路
基板501の対応する位置には孔が穿設され、固定ねじ
502,503によりスライド板120に固定されてい
る。また、ベース板110とスライド板120との位置
関係の微調整用に、ベース板110に小孔118が穿設
され、スライド板120に長孔127が穿設されてい
る。
The slide plate 120 is further provided with protruding positioning shafts 131, 132, and these shafts 131, 13
2, a female screw (not shown) is provided. A hole is formed in a corresponding position of the processing circuit board 501, and the processing circuit board 501 is fixed to the slide plate 120 by fixing screws 502 and 503. Further, for fine adjustment of the positional relationship between the base plate 110 and the slide plate 120, a small hole 118 is formed in the base plate 110, and a long hole 127 is formed in the slide plate 120.

【0061】このように、センサ基板401は処理回路
基板501に固定され、処理回路基板501は位置決め
軸131,132を介してスライド板120に固定され
ており、一方、分光部30は光学台101に固定されて
いる。従って、光学台101に対してベース板110を
X方向に調整し、ベース板110に対してスライド板1
20をY方向に調整すると、センサ基板401を分光部
30に対してX,Y方向に調整することとなる。
As described above, the sensor substrate 401 is fixed to the processing circuit substrate 501, and the processing circuit substrate 501 is fixed to the slide plate 120 via the positioning shafts 131 and 132, while the spectroscopic unit 30 is fixed to the optical table 101. It is fixed to. Accordingly, the base plate 110 is adjusted in the X direction with respect to the optical table 101, and the slide plate 1 is adjusted with respect to the base plate 110.
When the sensor 20 is adjusted in the Y direction, the sensor substrate 401 is adjusted in the X and Y directions with respect to the spectral unit 30.

【0062】図8において、矢印X方向の調整は、試料
光の像を検出列41上に結像させ、参照光の像を検出列
42上に結像させるための調整で、矢印Y方向の調整
は、波長分散方向の調整で、分光された光の所定波長と
光電変換素子43(図6)の位置とを合致させるための
調整である。
In FIG. 8, the adjustment in the direction of the arrow X is an adjustment for forming an image of the sample light on the detection row 41 and an image of the reference light on the detection row 42, and is an adjustment in the direction of the arrow Y. The adjustment is an adjustment for adjusting the direction of the wavelength dispersion to match the predetermined wavelength of the split light with the position of the photoelectric conversion element 43 (FIG. 6).

【0063】矢印X方向の調整は、センサ領域を表示し
たスクリーンが設けられた調整用治具(図示省略)を予
め処理回路基板501に代えて取り付けておき、測定用
開口3から特定波長の光を入射させ、調整用治具に投影
して、像の位置を観察することによって行う。
In the adjustment in the direction of the arrow X, an adjustment jig (not shown) provided with a screen displaying the sensor area is attached in place of the processing circuit board 501 in advance, and light of a specific wavelength is passed through the measurement opening 3. And projecting it on an adjustment jig to observe the position of the image.

【0064】次いで、矢印Y方向の調整について説明す
る。上記調整用治具を取り外して処理回路基板501を
取り付けた状態で測定用開口3から特定波長の光を入射
すると、図9に示すように、一の光電変換素子43から
出力信号αが得られ、隣接する光電変換素子43から出
力信号βが得られる。そして、比β/αが所定の値にな
るように、スライド板120を調整して固定する。
Next, the adjustment in the arrow Y direction will be described. When light of a specific wavelength is incident from the measurement opening 3 with the adjustment jig removed and the processing circuit board 501 attached, an output signal α is obtained from one photoelectric conversion element 43 as shown in FIG. , An output signal β is obtained from the adjacent photoelectric conversion element 43. Then, the slide plate 120 is adjusted and fixed so that the ratio β / α becomes a predetermined value.

【0065】スライド板120の微調整には、調整工具
133を使用する。この調整工具133は、先端の偏心
位置に突起部133aが設けられている。そして、調整
工具133の突起部133aをベース板120の小孔1
18に挿入し、スライド板120の長孔127に工具本
体を当接させて回転することにより、ベース板110と
スライド板120との位置関係を微調整することができ
る。
For fine adjustment of the slide plate 120, an adjustment tool 133 is used. The adjusting tool 133 has a projection 133a at an eccentric position at the tip. Then, the protrusion 133a of the adjustment tool 133 is inserted into the small hole 1 of the base plate 120.
By inserting the tool body into the elongated hole 127 of the slide plate 120 and rotating the tool body, the positional relationship between the base plate 110 and the slide plate 120 can be finely adjusted.

【0066】この本実施形態による調整方法を従来の調
整方法と比較する。比較を行う光学的条件は、本実施形
態において、フィールドレンズ25の焦点距離が47.5m
m、回折格子30の溝本数が600本/mmとする。
The adjustment method according to the present embodiment will be compared with a conventional adjustment method. The optical condition for comparison is that the focal length of the field lens 25 is 47.5 m in the present embodiment.
m, the number of grooves in the diffraction grating 30 is 600 / mm.

【0067】従来は、図10に示すように、分光部とし
ての回折格子30を矢印Z方向に回転することにより、
波長分散方向(矢印Y方向)の調整を行っていた。上記
光学的条件において、回折格子30の回転により調整精
度1nmを達成しようとすると、回折格子30の回転角度
で約1分の角度調整精度が必要である。仮に回転中心か
ら10mmの位置で回折格子30を保持するホルダをねじ止
め固定すると、1分の回転角度変化は、ねじ止め固定箇
所で約0.003mm変化することに相当する。
Conventionally, as shown in FIG. 10, by rotating a diffraction grating 30 as a beam splitting unit in the direction of arrow Z,
Adjustment of the wavelength dispersion direction (arrow Y direction) was performed. Under the above optical conditions, if an attempt is made to achieve an adjustment accuracy of 1 nm by rotating the diffraction grating 30, an angle adjustment accuracy of about 1 minute is required for the rotation angle of the diffraction grating 30. If the holder holding the diffraction grating 30 is fixed by screwing at a position 10 mm from the center of rotation, a one-minute rotation angle change corresponds to a change of about 0.003 mm at the screw-fixed part.

【0068】一方、上記実施形態により調整精度1nmを
達成しようとすると、処理回路基板501の移動量は0.
03mmとなり、ねじ止め位置の誤差感度を両者で比較する
と、上記実施形態の方法は上記従来の方法に比べて約10
倍鈍くなっており、本実施形態の方法によれば、ねじ止
め時に固定位置が変化してしまうという問題を軽減する
ことができる。
On the other hand, if it is attempted to achieve an adjustment accuracy of 1 nm according to the above embodiment, the movement amount of the processing circuit board 501 will be 0.
03 mm, and comparing the error sensitivity of the screwing position between the two, the method of the above embodiment is about 10 times smaller than the conventional method.
According to the method of the present embodiment, it is possible to reduce the problem that the fixing position changes at the time of screwing.

【0069】また、図11は別の調整方法を示す図で、
(a)は側面図、(b)は(a)のB−B線断面図であ
る。なお、図8と同一物には同一符号を付す。ベース板
110には、ねじ保持部141が設けられ、このねじ保
持部141は嵌合孔142を有している。スライド板1
20には、ねじ受け部143が設けられ、このねじ受け
部143には雌ねじ144が設けられている。そして、
調整ねじ145が嵌合孔142に嵌合するとともに、雌
ねじ144と螺合しており、調整ねじ145のねじ部に
は圧縮スプリング146が配設され、この圧縮スプリン
グ146によりスライド板120は付勢されている。
FIG. 11 is a diagram showing another adjustment method.
(A) is a side view, (b) is a BB line sectional view of (a). The same components as those in FIG. 8 are denoted by the same reference numerals. A screw holding portion 141 is provided on the base plate 110, and the screw holding portion 141 has a fitting hole 142. Slide plate 1
20 is provided with a screw receiving portion 143, and the screw receiving portion 143 is provided with a female screw 144. And
The adjusting screw 145 is fitted in the fitting hole 142 and is screwed with the female screw 144. A compression spring 146 is disposed on the screw portion of the adjusting screw 145, and the slide plate 120 is biased by the compression spring 146. Have been.

【0070】図11の構成によれば、図8のように調整
工具133を用いることなく、調整ねじ145を回転さ
せるだけで、ベース板110とスライド板120との位
置関係を図11中、矢印Y方向に調整することができ
る。
According to the configuration of FIG. 11, the positional relationship between the base plate 110 and the slide plate 120 can be changed by simply turning the adjustment screw 145 without using the adjustment tool 133 as shown in FIG. It can be adjusted in the Y direction.

【0071】なお、本発明は、上記実施形態に限られ
ず、以下の変形形態を採用することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can adopt the following modified embodiments.

【0072】(1)上記実施形態では、光源11として
タングステンランプを用いているが、これに限られず、
例えばキセノンランプなどの他のランプを用いてもよ
い。この場合において、キセノンランプのように輝線を
含む光源を用いる場合には、第2入射スリット242の
サイズを第1入射スリット241のサイズと同一にして
おけばよい。
(1) In the above embodiment, a tungsten lamp is used as the light source 11, but the invention is not limited to this.
For example, another lamp such as a xenon lamp may be used. In this case, when a light source including a bright line such as a xenon lamp is used, the size of the second entrance slit 242 may be the same as the size of the first entrance slit 241.

【0073】(2)図12に示すように、参照板5を測
定用開口3に対して平行に配置するようにしてもよい。
この場合には、参照板5として、拡散性の良好なものを
採用すればよい。
(2) As shown in FIG. 12, the reference plate 5 may be arranged in parallel with the measurement opening 3.
In this case, what is necessary is just to employ | adopt the thing with favorable diffusivity as the reference plate 5. FIG.

【0074】(3)上記実施形態では、測定試料4はほ
ぼ全方向から照明されるが、これに限られず、トロイダ
ルミラー13を分割して配置することにより、1または
複数の方向から照明するようにしてもよい。また、トロ
イダルミラー13を透明材料により製作し、裏面の全反
射を利用するようにしてもよい。この場合には、反射の
ための金属などの真空蒸着を省略することができる。
(3) In the above embodiment, the measurement sample 4 is illuminated from almost all directions. However, the invention is not limited to this. By arranging the toroidal mirror 13 in a divided manner, it can be illuminated from one or more directions. It may be. Further, the toroidal mirror 13 may be made of a transparent material, and the total reflection on the back surface may be used. In this case, vacuum deposition of metal or the like for reflection can be omitted.

【0075】(4)照明部10の構成は、上記実施形態
に限られない。例えば図13に示すように、光源11お
よび投射レンズ151を備え、測定試料4を一方向から
照明するようにしてもよい。また、トロイダルミラー1
3に代えて集束レンズおよび平面反射鏡を備え、光源1
1からの光を平行光にして45°方向から照明するように
してもよい。
(4) The configuration of the illumination unit 10 is not limited to the above embodiment. For example, as shown in FIG. 13, a light source 11 and a projection lens 151 may be provided to illuminate the measurement sample 4 from one direction. Also, toroidal mirror 1
3 is provided with a focusing lens and a flat reflecting mirror in place of the light source 1
The light from 1 may be made into parallel light and illuminated from a 45 ° direction.

【0076】また、上記実施形態の45/0ジオメトリに
代えて、d/0,0/dジオメトリを用いてもよい。図14
は、d/0ジオメトリの一種であるd/8ジオメトリの例を
示す図で、光源11として積分球160を用いている。
Further, instead of the 45/0 geometry in the above embodiment, d / 0, 0 / d geometry may be used. FIG.
Is a diagram showing an example of a d / 8 geometry, which is a type of d / 0 geometry, in which an integrating sphere 160 is used as the light source 11.

【0077】図14において、積分球160は、光源用
開口161、測定用開口162、受光用開口163を備
え、この受光用開口163は、測定用開口162の法線
162nに対して8°傾斜した方向に設けられている。
積分球160の内壁160aにはBaSO4などの高反射
率、高拡散性の白色塗料が塗装されている。
In FIG. 14, the integrating sphere 160 has a light source opening 161, a measurement opening 162, and a light receiving opening 163. The light receiving opening 163 is inclined by 8 ° with respect to a normal 162 n of the measurement opening 162. It is provided in the direction which was set.
High reflectivity of the inner wall 160a such BaSO 4 of the integrating sphere 160, the high diffusivity of white paint is painted.

【0078】そして、光源用開口161に配置されたラ
ンプ164が発光すると、内壁160aで多重反射して
測定用開口162に対向配置された測定試料4が拡散照
明され、その反射光のうちで法線162nに対して8°
方向の成分が受光部20により分光部30に導かれる。
When the lamp 164 arranged in the light source opening 161 emits light, the sample 4 arranged opposite to the measurement opening 162 is diffusely illuminated due to multiple reflections on the inner wall 160a, and the reflected light is subjected to a method. 8 ° to line 162n
The component in the direction is guided to the spectral unit 30 by the light receiving unit 20.

【0079】このとき、積分球160の内壁160aの
うちで、測定用開口162の近傍であって受光用開口1
63と反対側(図中、測定用開口162の左側)の所定
領域5aからの反射光は、受光部20により分光部30
に導かれ、参照光として用いられる。すなわち、この所
定領域5aは、上記実施形態における参照板としての機
能を果たす。
At this time, in the inner wall 160a of the integrating sphere 160, in the vicinity of the measuring aperture 162 and the light receiving aperture 1
The light reflected from the predetermined area 5 a on the opposite side to the side 63 (the left side of the measurement opening 162 in the figure) is split
And used as reference light. That is, the predetermined region 5a functions as the reference plate in the above embodiment.

【0080】この形態によれば、所定領域5aからの反
射光を参照光としているので、参照板を別途備える必要
がなく、部品点数を削減することができる。また、所定
領域5aは積分球160の内壁160aの一部であるの
で、受光用開口163に向けて多少傾斜しており、参照
光として所定の光強度を確保することができる。
According to this embodiment, since the reflected light from the predetermined area 5a is used as the reference light, it is not necessary to separately provide a reference plate, and the number of components can be reduced. Further, since the predetermined region 5a is a part of the inner wall 160a of the integrating sphere 160, it is slightly inclined toward the light receiving opening 163, and a predetermined light intensity can be secured as the reference light.

【0081】[0081]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、測定試料が対向配置される測定用開口の近傍に
参照板を配置し、測定試料で反射した試料光および参照
板で反射した参照光を光学手段によりそれぞれ第1開口
および第2開口に導くようにしたので、光学手段を共用
化することにより装置構成を簡素化することができ、そ
の結果、コストを低減することができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the reference plate is arranged near the measurement opening where the measurement sample is opposed to the sample plate, and the reference light is reflected by the sample light reflected by the measurement sample and the reference plate. Since the reflected reference light is guided to the first opening and the second opening, respectively, by the optical means, the configuration of the apparatus can be simplified by sharing the optical means, and as a result, the cost can be reduced. it can.

【0082】また、請求項2の発明によれば、測定用開
口および第1開口を上記光学手段に関して互いに共役な
位置に配置し、参照板および第2開口を上記光学手段に
関して互いにほぼ共役な位置に配置するようにしたの
で、試料光および参照光の測定範囲の像を好適に分光手
段に導くことができる。
According to the second aspect of the present invention, the measurement opening and the first opening are disposed at positions conjugate with each other with respect to the optical means, and the reference plate and the second opening are positioned at positions substantially conjugate with each other with respect to the optical means. The image in the measurement range of the sample light and the reference light can be suitably guided to the spectroscopic means.

【0083】また、請求項3の発明によれば、照明手段
により、測定用開口の法線に対して45°傾斜した角度か
ら測定用開口および参照板を含む範囲を照明し、光学手
段により測定試料で反射した光のうちで測定用開口の法
線に沿った成分を第1開口に導くようにしたので、簡素
な構成で、CIEにおいて規定される45°照明、垂直受
光のジオメトリの装置を実現することができる。
According to the third aspect of the present invention, the range including the measurement aperture and the reference plate is illuminated by the illumination means from an angle inclined by 45 ° with respect to the normal line of the measurement aperture, and the measurement is performed by the optical means. Since the component of the light reflected by the sample along the normal line of the measurement aperture is guided to the first aperture, a simple configuration can be used to provide a 45 ° illumination and vertical light reception geometry device specified by the CIE. Can be realized.

【0084】また、請求項4の発明によれば、参照板を
照明手段からの照明光の正反射光が光学手段に向かうよ
うに測定用開口の開口面に対して傾斜して配置するよう
にしたので、参照板で反射した参照光の光強度が増大す
ることから、検出手段から出力される参照光の光強度に
応じた電気信号のS/Nが増大し、これによって測定の
再現性を向上することができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the reference plate is arranged so as to be inclined with respect to the opening surface of the measurement opening so that the regular reflection light of the illumination light from the illumination means is directed to the optical means. Therefore, since the light intensity of the reference light reflected by the reference plate increases, the S / N of the electric signal corresponding to the light intensity of the reference light output from the detecting means increases, thereby increasing the reproducibility of the measurement. Can be improved.

【0085】また、請求項5の発明によれば、第2開口
のサイズは、第1開口のサイズより大きいので、検出手
段に到達する参照光の光強度が増大し、これによって検
出手段から出力される参照光の光強度に応じた電気信号
のS/Nが増大するので、測定の再現性を向上すること
ができる。
According to the fifth aspect of the present invention, since the size of the second opening is larger than the size of the first opening, the light intensity of the reference light reaching the detecting means increases, whereby the output from the detecting means is increased. Since the S / N of the electric signal according to the light intensity of the reference light increases, the reproducibility of the measurement can be improved.

【0086】また、請求項6の発明によれば、照明手段
および光学手段と測定用開口との間に、赤外域の波長の
光を吸収する赤外カットフィルタを介設したので、赤外
域の波長の光が測定試料に照射されないことから、同一
の測定試料に対して繰り返し測定を行っても測定試料の
温度上昇を抑えることができ、これによって一定の測定
精度を維持することができる。
According to the sixth aspect of the present invention, an infrared cut filter for absorbing light having a wavelength in the infrared region is interposed between the illumination means and the optical means and the measurement aperture. Since the light of the wavelength is not irradiated on the measurement sample, the temperature rise of the measurement sample can be suppressed even if the same measurement sample is repeatedly measured, whereby a certain measurement accuracy can be maintained.

【0087】また、請求項7の発明によれば、測定用開
口を赤外カットフィルタにより閉塞するようにしたの
で、赤外カットフィルタにより測定用開口から装置内部
に塵埃が侵入するのが阻止され、防塵効果を得ることが
できる。
According to the seventh aspect of the present invention, the measurement opening is closed by the infrared cut filter, so that the infrared cut filter prevents dust from entering the inside of the apparatus from the measurement opening. , A dustproof effect can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る反射特性測定装置の一実施形態と
しての分光測色計の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a spectrophotometer as one embodiment of a reflection characteristic measuring device according to the present invention.

【図2】同分光測色計の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the spectrocolorimeter.

【図3】制限枠の正面図である。FIG. 3 is a front view of a restriction frame.

【図4】マスク板の正面図である。FIG. 4 is a front view of a mask plate.

【図5】(a)(b)は照明範囲および測定範囲を示す
部分平面図である。
FIGS. 5A and 5B are partial plan views showing an illumination range and a measurement range.

【図6】検出部を示す図で、(a)は側面図、(b)は
正面図である。
6A and 6B are diagrams showing a detection unit, wherein FIG. 6A is a side view and FIG. 6B is a front view.

【図7】分光測色計の電気的構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 7 is a block diagram illustrating an electrical configuration of the spectrophotometer.

【図8】検出部の位置調整を説明するための図で、
(a)は分光測色計の内部の平面図、(b)は同側面図
である。
FIG. 8 is a diagram for explaining position adjustment of a detection unit;
(A) is a top view inside a spectrocolorimeter, (b) is the same side view.

【図9】光電変換素子の分光応答度を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing the spectral responsivity of a photoelectric conversion element.

【図10】分光部と検出部の従来の位置調整を説明する
図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a conventional position adjustment of a spectral unit and a detecting unit.

【図11】検出部の位置調整の別の方法を説明するため
の図で、(a)は平面図、(b)は側面図である。
11A and 11B are diagrams for explaining another method of adjusting the position of the detection unit, where FIG. 11A is a plan view and FIG. 11B is a side view.

【図12】参照板の別の配置を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing another arrangement of the reference plate.

【図13】照明部の別の構成を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing another configuration of the lighting unit.

【図14】照明部の別の構成を示す図である。FIG. 14 is a diagram illustrating another configuration of the illumination unit.

【符号の説明】 1 分光測色計 3 測定用開口 4 測定試料 5 参照板 10 照明部(照明手段) 11 光源 13 トロイダルミラー 20 受光部 21 平面反射鏡(光学手段) 22,23 結像レンズ(光学手段) 24 マスク板 241 第1入射スリット(第1開口) 242 第2入射スリット(第2開口) 30 分光部(分光手段) 40 検出部(検出手段) 41,42 検出列 50 処理部(信号処理手段) 55 CPU[Description of Signs] 1 Spectrophotometer 3 Measurement aperture 4 Measurement sample 5 Reference plate 10 Illumination unit (illumination unit) 11 Light source 13 Toroidal mirror 20 Light receiving unit 21 Planar reflecting mirror (optical unit) 22, 23 Imaging lens ( Optical means) 24 mask plate 241 first entrance slit (first opening) 242 second entrance slit (second opening) 30 spectral unit (spectral unit) 40 detecting unit (detecting unit) 41, 42 detection column 50 processing unit (signal) Processing means) 55 CPU

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮下 利夫 大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 石川 典夫 大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 西本 功 大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 福地 伸輔 大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 Fターム(参考) 2G020 AA04 AA08 BA17 CB05 CB25 CB43 CB54 CC26 CC42 CD38 DA12 DA22 2G059 AA02 BB10 EE02 EE13 FF09 HH02 JJ01 JJ11 JJ13 MM12 NN05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Toshio Miyashita 2-3-13 Azuchicho, Chuo-ku, Osaka City Inside Osaka International Building Minolta Co., Ltd. (72) Inventor Norio Ishikawa 2-3-3 Azuchicho, Chuo-ku, Osaka-shi 13 Osaka International Building Minolta Co., Ltd. (72) Isao Nishimoto, Inventor 2-3-1, Azuchicho, Chuo-ku, Osaka City Osaka International Building Minolta Co., Ltd. (72) Inventor Shinsuke Fukuchi, Aichicho Chuo-ku, Osaka-shi 3-13-13 Osaka International Building Minolta Co., Ltd. F-term (reference) 2G020 AA04 AA08 BA17 CB05 CB25 CB43 CB54 CC26 CC42 CD38 DA12 DA22 2G059 AA02 BB10 EE02 EE13 FF09 HH02 JJ01 JJ11 JJ11 JJ13 MM12 NN05

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 測定試料が対向配置される測定用開口
と、 この測定用開口の近傍に配置された参照板と、 上記測定用開口および上記参照板を含む範囲を照明する
照明手段と、 この照明手段からの照明光が上記測定試料で反射された
試料光および上記参照板で反射された参照光が導かれる
領域に配置され、上記試料光および上記参照光をそれぞ
れ分光する分光手段と、 この分光手段の入射光側に配置され、上記試料光を通過
させる第1開口および上記参照光を通過させる第2開口
を有するマスク板と、 このマスク板の入射光側に配置され、上記試料光および
上記参照光をそれぞれ上記マスク板の上記第1開口およ
び上記第2開口に導く光学手段と、 分光された上記試料光の光強度に応じた電気信号を波長
ごとに出力するとともに、分光された上記参照光の光強
度に応じた電気信号を波長ごとに出力する検出手段と、 上記検出手段から出力された各電気信号を用いて上記測
定試料の分光反射特性を算出する信号処理手段とを備え
たことを特徴とする反射特性測定装置。
1. A measurement opening in which a measurement sample is opposed to a reference plate, a reference plate disposed near the measurement opening, an illuminating means for illuminating a range including the measurement opening and the reference plate, Spectroscopic means for illuminating light from the illuminating means being arranged in a region where the sample light reflected by the measurement sample and the reference light reflected by the reference plate are guided, and spectrally separating the sample light and the reference light, respectively. A mask plate disposed on the incident light side of the spectroscopic means and having a first opening through which the sample light passes and a second opening through which the reference light passes; and a mask plate disposed on the incident light side of the mask plate; Optical means for guiding the reference light to the first opening and the second opening of the mask plate, respectively, and an electric signal corresponding to the light intensity of the sampled light that has been separated is output for each wavelength, and the light is split. A detection unit that outputs an electric signal corresponding to the light intensity of the reference light for each wavelength; and a signal processing unit that calculates a spectral reflection characteristic of the measurement sample using each electric signal output from the detection unit. A reflection characteristic measuring device.
【請求項2】 請求項1記載の反射特性測定装置におい
て、上記測定用開口および上記第1開口は上記光学手段
に関して互いに共役な位置に配置され、上記参照板およ
び上記第2開口は上記光学手段に関して互いにほぼ共役
な位置に配置されていることを特徴とする反射特性測定
装置。
2. The reflection characteristic measuring apparatus according to claim 1, wherein the measurement opening and the first opening are arranged at positions conjugate with each other with respect to the optical means, and the reference plate and the second opening are arranged at the optical means. A reflection characteristic measuring device, wherein the reflection characteristic measuring device is disposed at a position substantially conjugate to each other.
【請求項3】 請求項1または2記載の反射特性測定装
置において、上記照明手段は、上記測定用開口の法線に
対して45°傾斜した角度から上記範囲を照明するもの
で、上記光学手段は、上記測定試料で反射した光のうち
で上記測定用開口の法線に沿った成分を上記第1開口に
導くものであることを特徴とする反射特性測定装置。
3. The reflection characteristic measuring apparatus according to claim 1, wherein the illuminating means illuminates the range from an angle inclined by 45 ° with respect to a normal to the measuring aperture. Is a device for guiding a component of the light reflected by the measurement sample along a normal line of the measurement opening to the first opening.
【請求項4】 請求項3記載の反射特性測定装置におい
て、上記参照板は、上記照明手段からの照明光の正反射
光が上記光学手段に向かうように上記測定用開口の開口
面に対して傾斜して配置されていることを特徴とする反
射特性測定装置。
4. The reflection characteristic measuring apparatus according to claim 3, wherein the reference plate is arranged such that specular reflection light of illumination light from the illumination means is directed to the optical means with respect to an opening surface of the measurement opening. A reflection characteristic measuring device characterized by being arranged at an inclination.
【請求項5】 請求項1または2記載の反射特性測定装
置において、上記第2開口のサイズは、上記第1開口の
サイズより大きいことを特徴とする反射特性測定装置。
5. The reflection characteristic measuring device according to claim 1, wherein the size of the second opening is larger than the size of the first opening.
【請求項6】 請求項1記載の反射特性測定装置におい
て、上記照明手段および上記光学手段と上記測定用開口
との間に、赤外域の波長の光を吸収する赤外カットフィ
ルタを介設したことを特徴とする反射特性測定装置。
6. The reflection characteristic measuring apparatus according to claim 1, wherein an infrared cut filter for absorbing light having a wavelength in an infrared region is provided between the illumination means and the optical means and the measurement aperture. A reflection characteristic measuring device, characterized in that:
【請求項7】 請求項6記載の反射特性測定装置におい
て、上記測定用開口は、上記赤外カットフィルタにより
閉塞されていることを特徴とする反射特性測定装置。
7. The reflection characteristic measuring apparatus according to claim 6, wherein the measurement opening is closed by the infrared cut filter.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007003415A (en) * 2005-06-24 2007-01-11 Konica Minolta Sensing Inc Gonio colorimeter and gonio reflection-property measuring apparatus
JP2011012970A (en) * 2009-06-30 2011-01-20 Shiro Sakai Spectrum detector

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