JP2001231839A - 足温浴器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ヒータによって水が効率良く温められ、感電
も防止される足温浴器を提供する。 【解決手段】 足Ｆを入れる浴槽１と、浴槽１内に溜め
られる水を温めるヒータ２と、を備えた足温浴器におい
て、浴槽１とは分離した貯水槽３を設けて、貯水槽３内
に溜められる水中にヒータ２を設け、ヒータ２で加熱さ
れた温水を貯水槽３内と浴槽１内との間で循環させる循
環手段４を設けることにより、浴槽１内に溜められる水
がヒータ２で温められるようになした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、足を入れる浴槽
と、該浴槽内に溜められる水を温めるヒータと、を備
え、同浴槽内に足を入れて温める足温浴器に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】従来から、足を入れる浴槽と、該浴槽内
に溜められる水を温めるヒータと、を備えた足温浴器は
一般に知られており、該足温浴器においては、同浴槽内
に足を入れて温めることができる。この種の足温浴器に
おいて、浴槽内に溜められる水を温めるヒータは、該浴
槽の内部に設置されたり、同浴槽の外部でその外側壁面
に貼着されたりしている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術においては、次のような問題があった。すなわ
ち、上記前者のように、ヒータが浴槽の内部に設置され
て水中に存在するものにあっては、該ヒータの電気絶縁
が破壊された場合に、これによる電気は同浴槽内に溜め
られた水に直ちに伝わって、感電する恐れがあった。
又、上記後者のように、ヒータが浴槽の外部でその外側
壁面に貼着されたものにあっては、該浴槽内に溜められ
る水と同ヒータとの間に同浴槽の壁が介在し、該ヒータ
の熱は同浴槽内に溜められる水へと直接に伝わらず熱の
ロスが大きくて、該水は同ヒータによって効率良く温め
られないものであった。

【０００４】本発明は、上記従来の技術における問題を
悉く解決するために発明されたもので、その課題は、ヒ
ータによって水が効率良く温められ、感電も防止される
足温浴器を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
足温浴器は、足を入れる浴槽と、該浴槽内に溜められる
水を温めるヒータと、を備えたものであって、浴槽とは
分離した貯水槽を設けて、該貯水槽内に溜められる水中
にヒータを設け、該ヒータで加熱された温水を同貯水槽
内と前記浴槽内との間で循環させる循環手段を設けるこ
とにより、該浴槽内に溜められる水が同ヒータで温めら
れるようになしたものである。

【０００６】したがって、この場合、貯水槽内に溜めら
れる水がその中に設けられるヒータによって直接的に小
さな熱ロスで温められ、該温められた温水は循環手段に
よって浴槽内へと循環され、該浴槽内には同ヒータで効
率良く温められて適切な湯温となった温水が溜められる
ことになる。しかも、貯水槽が浴槽とは分離されてい
て、ヒータの電気絶縁が破壊されたときでも、同浴槽内
に溜められる温水に電気は伝わらず、使用者の感電が防
止される。そのため、浴槽内に溜まる温水に足を入れ
て、効率良く且つ安全に温めることができる。

【０００７】本発明の請求項２記載の足温浴器は、上記
請求項１記載の足温浴器において、循環手段が、浴槽か
ら貯水槽へと流水させる返水管と、貯水槽から浴槽へと
流水させる送水管と、を備え、該送水管の流出口を同浴
槽における水面の上側に位置させたことを特徴とするも
のである。

【０００８】したがって、この場合は特に、循環手段の
送水管で貯水槽から浴槽へと流水され、同循環手段の返
水管で浴槽から貯水槽へと流水されて、ヒータで加熱或
いは保温される温水が確実に循環される。しかも、その
際、送水管の流出口が浴槽における水面の上側に位置し
ているため、貯水槽で温められた温水は水圧の抵抗を受
けることなくスムーズに同浴槽内へと送水される。

【０００９】本発明の請求項３記載の足温浴器は、上記
請求項２記載の足温浴器において、送水管の流出口と浴
槽の水面との間に温水受け具を設け、該温水受け具を介
し案内されて、同流水口から流下する温水が同浴槽の内
壁面に沿って流下されるようになしたことを特徴とする
ものである。

【００１０】したがって、この場合は特に、上記送水管
の流出口と浴槽の水面との間に設けられる温水受け具を
介し案内されて、同流水口から流下する温水が同浴槽の
内壁面に沿って流下されるので、ヒータで加熱された温
水が同浴槽内に入れられた足の上には直接にあたらず、
使用者の火傷を防ぐことができる。

【００１１】本発明の請求項４記載の足温浴器は、上記
請求項３記載の足温浴器において、温水受け具を略平板
状に形成してその上面で温水が受けられるようになし、
該上面を浴槽の内壁面に沿った同温水受け具の周縁へ向
かって下方へ傾斜するように形成したことを特徴とする
ものである。

【００１２】したがって、この場合は特に、上記温水受
け具の上面で受けられた温水がその周縁へ向かって流
れ、同温水受け具の周縁から浴槽の広域にわたる内壁面
に沿って流下され、該浴槽内の温水は均一に安定した湯
温となるよう拡散される。

【００１３】本発明の請求項５記載の足温浴器は、上記
請求項２〜４のいずれか一つに記載の足温浴器におい
て、返水管の流入口を浴槽の内底面近傍に位置させたこ
とを特徴とするものである。

【００１４】したがって、この場合は特に、浴槽の内底
面近傍に上記返水管の流入口が位置し、該流入口からは
同浴槽内の内底面近傍に溜まる低温水が汲み出されて、
該浴槽内では温水が水面側から下方へとスムーズに循環
され、同浴槽内では均一に安定した湯温となるよう効率
良く温水が溜められる。

【００１５】本発明の請求項６記載の足温浴器は、上記
請求項２〜５のいずれか一つに記載の足温浴器におい
て、循環手段による循環動作が間欠的に行われるように
なしたことを特徴とするものである。

【００１６】したがって、この場合は特に、浴槽内と貯
水槽内との間における水の循環動作が間欠的に行われる
ことで、循環手段の途中に水の連続しない部分を生じて
該部分により電気絶縁は確保され、使用者の感電がより
確実に防止される。

【００１７】本発明の請求項７記載の足温浴器は、上記
請求項１記載の足温浴器において、循環手段が、浴槽か
ら貯水槽へと流水させる返水管と、貯水槽から浴槽へと
流水させる送水管と、を備え、該両送水管と返水管とを
同浴槽の内底面近傍で連続させて配管したこと特徴とす
るものである。

【００１８】したがって、この場合は特に、循環手段の
送水管で貯水槽から浴槽へと流水され、同循環手段の返
水管で浴槽から貯水槽へと流水されて、ヒータで加熱或
いは保温される温水が確実に循環される。しかも、ここ
では、送水管と返水管とが浴槽の内底面近傍で連続して
配管されているため、該配管を介して同浴槽内に溜めら
れる水には熱が伝えられることになり、該浴槽内の水と
循環される温水とは混合されず、両者間の電気絶縁が図
られている。

【００１９】本発明の請求項８記載の足温浴器は、上記
請求項１〜７のいずれか一つに記載の足温浴器におい
て、浴槽の水位が所定以上となった際に、該浴槽から貯
水槽へと案内溢水させるオーバーフロー路を両者の間に
連通介設したことを特徴とするものである。

【００２０】したがって、この場合は特に、浴槽の水位
が所定以上となった際、オーバーフロー路によって同浴
槽から貯水槽へと水は無駄なく案内溢水され、該浴槽内
の水量が増え過ぎても自動的にその上縁からの溢水は防
止される。

【００２１】本発明の請求項９記載の足温浴器は、上記
請求項１〜８のいずれか一つに記載の足温浴器におい
て、一つの貯水槽と複数の浴槽との間に循環手段を配設
したことを特徴とするものである。

【００２２】したがって、この場合は特に、循環手段が
一つの貯水槽と複数の浴槽との間に配設されていて、該
一つの貯水槽内でヒータによって温められた温水は、同
循環手段を介して各浴槽内へと循環され、該各浴槽内に
溜められた水を同ヒータで一括して効率良く温度制御し
て温めることができる。

【００２３】本発明の請求項１０記載の足温浴器は、上
記請求項１〜９のいずれか一つに記載の足温浴器におい
て、浴槽内に気泡発生手段を備えたとこを特徴とするも
のである。

【００２４】したがって、この場合は特に、気泡発生手
段を作動させて、浴槽内に溜められる温水中で気泡を発
生させることにより、該浴槽内の温水が均一に安定した
湯温となるよう攪拌され、しかも、同浴槽内では気泡に
よりマッサージ効果が得られて快適な足温浴となる。

【００２５】本発明の請求項１１記載の足温浴器は、上
記請求項１〜１０のいずれか一つに記載の足温浴器にお
いて、浴槽内に攪拌手段を備えたとこを特徴とするもの
である。

【００２６】したがって、この場合は特に、攪拌手段を
浴槽内に溜められる温水中で作動させることにより、該
浴槽内の温水が均一に安定した湯温となるよう攪拌さ
れ、しかも、同浴槽内では攪拌される温水により足が洗
浄される。

【００２７】

【発明の実施の形態】図１、２は、本発明の請求項１〜
６に対応する一実施形態を示しており、該実施形態の足
温浴器は、足Ｆを入れる浴槽１と、該浴槽１内に溜めら
れる水を温めるヒータ２と、を備えたものである。この
場合に、浴槽１とは分離した貯水槽３を設けて、該貯水
槽３内に溜められる水中にヒータ２を設け、該ヒータ２
で加熱された温水を同貯水槽３内と前記浴槽１内との間
で循環させる循環手段４を設けることにより、該浴槽１
内に溜められる水が同ヒータ２で温められるようになし
ている。

【００２８】該実施形態の足温浴器では、循環手段４
が、浴槽１から貯水槽３へと流水させる返水管５と、貯
水槽３から浴槽１へと流水させる送水管６と、を備え、
該送水管６の流出口７を同浴槽１における水面８の上側
に位置させている。ここで、循環手段４の返水管５及び
送水管６にはポンプ（図示せず）が配設され、該ポンプ
の作動によって循環動作は行われる。これにより、浴槽
１内には温水が溜められることになり、該温水は適切な
温度に加熱されたり保温されたりして温度制御される。

【００２９】そして、前記送水管６の流出口７と浴槽１
の水面８との間には温水受け具９を設け、該温水受け具
９を介し案内されて、同流水口７から流下する温水が同
浴槽１の内壁面10に沿って流下されるようになしてい
る。この場合に、図２に示す如く、温水受け具９を略平
板状に形成して、その上面11で流水口７から流下する温
水が受けられるようになし、該上面11を浴槽１の内壁面
10に沿った同温水受け具９の周縁12へ向かって下方へ傾
斜するように形成してもいる。

【００３０】又、温水受け具９は、加熱されたお湯が足
Ｆに直接あたらないようにする防護壁となるもので、そ
の一辺が浴槽１の内壁面10に枢支されて、該温水受け具
９は上下方向に回動し得るものとなっている。それ故、
浴槽１内から足Ｆを出し入れする際に、温水受け具９を
上方へ回動させて浴槽１の内壁面10に沿うよう納めるこ
とで、同足Ｆの出し入れに障害とならないようにするこ
とができ、必要に応じて、同温水受け具９を下方へ回動
させて使用状態に停止させることもできる。

【００３１】又、温水受け具９の前記一辺に対向する反
対側の辺の略中央には、上方へ開口した凹部18が形成さ
れており、該凹部18は流水口７から流下する温水を直接
に受けるものである。そして、凹部18で一旦受けられた
温水は、該凹部18が形成された辺以外の三辺となる周縁
12へと、前記温水受け具９の傾斜した上面11に沿って拡
散するように流れ、同温水受け具９の三辺となる周縁12
から浴槽１の内壁面10に伝って流下する。

【００３２】又、実施形態の足温浴器では、返水管５の
流入口13を浴槽１の内底面14近傍に位置させており、該
浴槽１の内底面14近傍に溜まる低温水が同流入口13から
返水管５へと汲み上げられる。そして、返水管５の流出
口が貯水槽３の水面よりも上側に位置されると共に、前
記の如く、送水管６の流出口７が浴槽１の水面８よりも
上側に位置されていることで、同浴槽１内と貯水槽３内
との間における電気絶縁が図られている。しかも、この
場合、前記循環手段４による循環動作は間欠的に行われ
るようになっていて、水が循環している最中でも、浴槽
１内と貯水槽３内との間における電気絶縁は確保され
る。

【００３３】したがって、該実施形態の足温浴器におい
ては、貯水槽３内に溜められる水がその中に設けられる
ヒータ２によって直接的に小さな熱ロスで温められ、該
温められた温水は循環手段４によって浴槽１内へと循環
され、該浴槽１内には同ヒータ２で効率良く温められて
適切な湯温となった温水が溜められることになる。しか
も、貯水槽３が浴槽１とは分離されていて、ヒータ２の
電気絶縁が破壊されたときでも、同浴槽１内に溜められ
る温水に電気は伝わらず、使用者の感電が防止される。
そのため、浴槽１内に溜められる温水に足Ｆを入れて、
効率良く且つ安全に温めることができる。

【００３４】又、該実施形態の足温浴器においては、循
環手段４の送水管６で貯水槽３から浴槽１へと流水さ
れ、同循環手段４の返水管５で浴槽１から貯水槽３へと
流水されて、ヒータ２で加熱或いは保温される温水が確
実に循環される。しかも、その際、送水管６の流出口７
が浴槽１における水面８の上側に位置しているため、貯
水槽３で温められた温水は水圧の抵抗を受けることなく
スムーズに同浴槽１内へと送水される。又、返水管５の
流出口が貯水槽３における水面の上側に位置しているた
め、浴槽１から同貯水槽３内へも水圧の抵抗を受けるこ
となくスムーズに返水される。このように、循環動作は
スムーズに行われる。

【００３５】又、該実施形態の足温浴器においては、前
記送水管６の流出口７と浴槽１の水面８との間に設けら
れる温水受け具９を介し案内されて、同流水口７から流
下する温水が同浴槽１の内壁面10に沿って流下されるの
で、ヒータ２で加熱された温水が同浴槽１内に入れられ
た足Ｆの上には直接にあたらず、使用者の火傷を防ぐこ
とができる。しかも、この場合、温水受け具９の上面11
で受けられた温水がその周縁12へ向かって流れ、同温水
受け具９の周縁12から浴槽１の広域にわたる内壁面10に
沿って流下されるので、該浴槽１内の温水は均一に安定
した湯温となるよう拡散される。

【００３６】又、該実施形態の足温浴器においては、浴
槽１の内底面14近傍に前記返水管５の流入口13が位置
し、該流入口13からは同浴槽１内の内底面14近傍に溜ま
る低温水が汲み出されて、該浴槽１内では温水が水面８
側から下方へとスムーズに循環され、同浴槽１内では均
一に安定した湯温となるよう効率良く温水が溜められる
ことになる。更には、浴槽１内と貯水槽３内との間にお
ける水の循環動作が間欠的に行われることにより、循環
手段４の途中に水の連続しない部分を生じて、該部分で
電気絶縁は確保され、使用者の感電がより確実に防止さ
れる。

【００３７】更に、実施形態の足温浴器においては、浴
槽１内の水量が基準水位を越えたことを検知する水位セ
ンサーを設けることによって、水量制御は容易に行われ
るようになる。又、貯水槽３の水量が基準水位より下が
った際には、これを検知してヒータ２がＯＦＦ状態とな
るようにしておくことによって、同貯水槽３での空焚き
は確実に防止されるようになる。又、浴槽１と貯水槽３
とが着脱分離可能であれば、分解組立も可能となって、
持ち運びは容易なものとなる。

【００３８】図３は、本発明の請求項１、７に対応する
別の実施形態を示しており、該実施形態の足温浴器にお
いては、循環手段４が、浴槽１から貯水槽３へと流水さ
せる返水管５と、貯水槽３から浴槽１へと流水させる送
水管６と、を備え、該両送水管６と返水管５とを同浴槽
１の内底面14近傍で連続させて配管している。この場
合、送水管６の流出口７と返水管５の流入口13とが、略
Ｕ字状に屈曲した連結管19を介して接続され、該連結管
19の外側には、浴槽１内に溜められた水との間で電気絶
縁を確保するために電気絶縁物20が介設されている。

【００３９】したがって、該実施形態の足温浴器におい
ては、循環手段４の送水管６で貯水槽３から浴槽１へと
流水され、同循環手段４の返水管５で浴槽１から貯水槽
３へと流水されて、ヒータ２で加熱或いは保温される温
水が確実に循環される。しかも、送水管６と返水管５と
が浴槽１の内底面14近傍で、連結管19により接続して配
管されているため、該連結管19を介して同浴槽１内に溜
められる水には熱が伝えられることになって、該浴槽１
内の水と循環される温水とは混合されず、両者間の電気
絶縁が図られている。又、この場合に、連結管19の外側
が電気絶縁物20で覆われて、電気絶縁は確保される。な
お、それ以外は、上記図１、２に示した実施形態と同様
に構成されており、請求項２〜６に係る以外の作用効果
が同上記実施形態におけると同様に奏される。

【００４０】図４は、本発明の請求項１〜８に対応する
更に別の実施形態を示しており、該実施形態の足温浴器
においては、浴槽の水位が所定以上となった際に、該浴
槽１から貯水槽３へと案内溢水させるオーバーフロー路
15を両者の間に連通介設している。この場合、オーバー
フロー路15はパイプ状部材でなり、浴槽１の側壁部と貯
水槽３の側壁部との間に架設状に連結接続されている。

【００４１】したがって、該実施形態の足温浴器におい
ては、浴槽１の水位が所定以上となった際、オーバーフ
ロー路15によって同浴槽１から貯水槽３へと水は無駄な
く案内溢水され、該浴槽１内の水量が増え過ぎても自動
的にその上縁からの溢水は防止される。なお、それ以外
は、上記図１、２に示した実施形態又は上記図３に示し
た実施形態と同様に構成されており、同上記いずれかの
実施形態におけると同様の作用効果が奏される。

【００４２】図５は、本発明の請求項１〜９に対応する
更に別の実施形態を示しており、該実施形態の足温浴器
においては、一つの貯水槽３と複数の浴槽１との間各々
に循環手段４を配設している。この場合、一つの貯水槽
３と二つの浴槽１との間に配設される循環手段４が各
々、送水管６と返水管５とを備えている。

【００４３】したがって、該実施形態の足温浴器におい
ては、循環手段４が一つの貯水槽３と複数の浴槽１との
間に配設されていて、該一つの貯水槽３内でヒータ２に
よって温められた温水は、同各循環手段４を介して各浴
槽１内へと循環され、該各浴槽１内に溜められた水を同
ヒータ２で一括して効率良く温度制御して温めることが
できる。なお、それ以外は、上記図４に示した実施形態
と同様に構成されており、同上記実施形態におけると同
様の作用効果が奏される。

【００４４】図６は、本発明の請求項１〜１０に対応す
る更に別の実施形態を示しており、該実施形態の足温浴
器においては、浴槽１内に気泡発生手段16を備えてい
る。この場合、浴槽１は中空状に形成され、気泡発生手
段16としての気泡噴出管21が同浴槽１の内底面14上に設
置されている。そして、浴槽１の底部における中空スペ
ースＳ内に、モータ22と、該モータ22で回転されるファ
ン23と、該ファン23を収容するファンケース24とが内蔵
され、該ファンケース24と前記気泡噴出管21とは通気管
25を介して接続されている。ここで、モータ22を作動さ
せるとファン23が回転し、該ファン23によりファンケー
ス24から通気管25を通して気泡噴出管21へと送風され、
該気泡噴出管21から噴出される空気は浴槽１内に溜めら
れた温水中で気泡となって散気される。

【００４５】したがって、該実施形態の足温浴器におい
ては、モータ22を作動させて気泡発生手段16となる気泡
噴出管21より、浴槽１内に溜められる温水中で気泡を発
生散気させることによって、該浴槽１内の温水が均一な
温度分布で安定した湯温となるよう攪拌され、しかも、
同浴槽１内では気泡によりマッサージ効果が得られて快
適な足温浴となる。なお、それ以外は、上記図５に示し
た実施形態と同様に構成されており、同上記実施形態に
おけると同様の作用効果が奏される。

【００４６】図７は、本発明の請求項１〜１１に対応す
る更に別の実施形態を示しており、該実施形態の足温浴
器においては、浴槽１内に攪拌手段17を備えている。こ
の場合、攪拌手段17として浴槽１の内底面14上にスクリ
ュー26が設置され、該スクリュー26を回転させるモータ
22は同浴槽１の底部における中空スペースＳ内に収容設
置されている。ここで、モータ22を作動させるとスクリ
ュー26が回転し、該スクリュー26によって、浴槽１内に
溜められた温水は攪拌される。

【００４７】したがって、該実施形態の足温浴器におい
ては、モータ22を作動させて攪拌手段17となるスクリュ
ー26を、浴槽１内に溜められる温水中で回転させること
によって、該浴槽１内の温水が均一に安定した湯温とな
るよう攪拌され、しかも、同浴槽１内では攪拌される温
水により足Ｆが洗浄される。なお、それ以外は、上記図
６に示した実施形態と同様に構成されており、同上記実
施形態におけると同様の作用効果が奏される。

【００４８】図８、９は、本発明の請求項１〜１１に対
応する更に別の実施形態を示しており、該実施形態の足
温浴器においては、貯水槽３内に簡易な攪拌手段17を備
えている。この場合、攪拌手段17はヒータ２の外周にフ
ィン27を突設してなり、該フィン27をヒータ２と共に貯
水槽３内に溜められる温水中で回動させることによっ
て、該貯水槽３内の温水が均一に安定した湯温となるよ
う攪拌される。なお、それ以外は、上記図７に示した実
施形態と同様に構成されており、同上記実施形態におけ
ると同様の作用効果が奏される。

【００４９】

【発明の効果】上述の如く、本発明の請求項１記載の足
温浴器においては、ヒータによって直接的に温められた
温水が浴槽内へと循環され、該浴槽内には効率良く温め
られた温水が溜められ、同ヒータの電気絶縁破壊によっ
ても、同浴槽内に溜められる温水に電気は伝わらず、使
用者の感電が防止され、そのため、浴槽内に溜まる温水
に足を入れて、効率良く且つ安全に温めることができ
る。

【００５０】又、本発明の請求項２記載の足温浴器にお
いては、特に、ヒータで加熱或いは保温される温水が確
実に循環され、その際、貯水槽で温められた温水は、浴
槽における水面の上側に位置した送水管の流出口から、
水圧の抵抗を受けることなくスムーズに同浴槽内へと送
水される。

【００５１】又、本発明の請求項３記載の足温浴器にお
いては、特に、流水口から流下する温水が温水受け具を
介し案内されて、浴槽の内壁面に沿って流下され、該浴
槽内に入れられた足の上には直接にあたらず、使用者の
火傷を防ぐことができる。

【００５２】又、本発明の請求項４記載の足温浴器にお
いては、特に、温水受け具の上面で受けられた温水が、
その周縁から浴槽の広域にわたって流下され、該浴槽内
の温水は均一に安定した湯温となるよう拡散される。

【００５３】又、本発明の請求項５記載の足温浴器にお
いては、特に、返水管の流入口から浴槽内の内底面近傍
に溜まる低温水が汲み出され、該浴槽内では温水が水面
側から下方へとスムーズに循環され、同浴槽内では均一
に安定した湯温となるよう効率良く温水が溜められる。

【００５４】又、本発明の請求項６記載の足温浴器にお
いては、特に、循環動作が間欠的に行われることによっ
て、循環手段の途中での電気絶縁は確保され、使用者の
感電がより確実に防止される。

【００５５】又、本発明の請求項７記載の足温浴器にお
いては、特に、ヒータで加熱或いは保温される温水が確
実に循環され、ここでは、送水管と返水管とが浴槽の内
底面近傍で連続して配管され、該配管を介して熱は伝え
られることになり、同浴槽内の水と循環される温水との
間の電気絶縁が図られている。

【００５６】又、本発明の請求項８記載の足温浴器にお
いては、特に、浴槽の水位が所定以上となった際、オー
バーフロー路によって貯水槽へと水は無駄なく案内溢水
されて、自動的にその上縁からの溢水が防止される。

【００５７】又、本発明の請求項９記載の足温浴器にお
いては、特に、一つの貯水槽内でヒータにより温められ
た温水が複数の浴槽内へと循環され、該各浴槽内に溜め
られた水は同ヒータで効率良く温められる。

【００５８】又、本発明の請求項１０記載の足温浴器に
おいては、特に、気泡発生手段により発生する気泡によ
って、浴槽内の温水が均一に安定した湯温となるよう攪
拌され、同気泡によりマッサージ効果も得られて快適な
足温浴となる。

【００５９】又、本発明の請求項１１記載の足温浴器に
おいては、特に、攪拌手段で浴槽内の温水が均一に安定
した湯温となるよう攪拌され、同浴槽内では攪拌される
温水により足も洗浄される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態である足温浴器を示す縦断
面図。

【図２】同足温浴器における温水受け具を示す斜視図。

【図３】別の実施形態である足温浴器の要部を示す縦断
面図。

【図４】更に別の実施形態である足温浴器の要部を示す
縦断面図。

【図５】更に別の実施形態である足温浴器を示す概略斜
視図。

【図６】更に別の実施形態である足温浴器における浴槽
を示す縦断面図。

【図７】更に別の実施形態である足温浴器における浴槽
を示す縦断面図。

【図８】更に別の実施形態である足温浴器における貯水
槽を示す縦断面図。

【図９】同足温浴器におけるヒータを示す斜視図。

【符号の説明】

１ 浴槽 ２ ヒータ ３ 貯水槽 ４ 循環手段 ５ 返水管 ６ 送水管 ７ 流出口 ８ 水面 ９ 温水受け具 10 内壁面 11 上面 12 周縁 13 流入口 14 内底面 15 オーバーフロー路 16 気泡発生手段 17 攪拌手段

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 足を入れる浴槽と、該浴槽内に溜められ
   る水を温めるヒータと、を備えた足温浴器であって、浴
   槽とは分離した貯水槽を設けて、該貯水槽内に溜められ
   る水中にヒータを設け、該ヒータで加熱された温水を同
   貯水槽内と前記浴槽内との間で循環させる循環手段を設
   けることにより、該浴槽内に溜められる水が同ヒータで
   温められるようになした足温浴器。
2. 【請求項２】 循環手段が、浴槽から貯水槽へと流水さ
   せる返水管と、貯水槽から浴槽へと流水させる送水管
   と、を備え、該送水管の流出口を同浴槽における水面の
   上側に位置させたことを特徴とする請求項１記載の足温
   浴器。
3. 【請求項３】 送水管の流出口と浴槽の水面との間に温
   水受け具を設け、該温水受け具を介し案内されて、同流
   水口から流下する温水が同浴槽の内壁面に沿って流下さ
   れるようになしたことを特徴とする請求項２記載の足温
   浴器。
4. 【請求項４】 温水受け具を略平板状に形成してその上
   面で温水が受けられるようになし、該上面を浴槽の内壁
   面に沿った同温水受け具の周縁へ向かって下方へ傾斜す
   るように形成したことを特徴とする請求項３記載の足温
   浴器。
5. 【請求項５】 返水管の流入口を浴槽の内底面近傍に位
   置させたことを特徴とする請求項２〜４のいずれか一つ
   に記載の足温浴器。
6. 【請求項６】 循環手段による循環動作が間欠的に行わ
   れるようになしたことを特徴とする請求項２〜５のいず
   れか一つに記載の足温浴器。
7. 【請求項７】 循環手段が、浴槽から貯水槽へと流水さ
   せる返水管と、貯水槽から浴槽へと流水させる送水管
   と、を備え、該両送水管と返水管とを同浴槽の内底面近
   傍で連続させて配管したこと特徴とする請求項１記載の
   足温浴器。
8. 【請求項８】 浴槽の水位が所定以上となった際に、該
   浴槽から貯水槽へと案内溢水させるオーバーフロー路を
   両者の間に連通介設したことを特徴とする請求項１〜７
   のいずれか一つに記載の足温浴器。
9. 【請求項９】 一つの貯水槽と複数の浴槽との間に循環
   手段を配設したことを特徴とする請求項１〜８のいずれ
   か一つに記載の足温浴器。
10. 【請求項１０】 浴槽内に気泡発生手段を備えたとこを
    特徴とする請求項１〜９のいずれか一つに記載の足温浴
    器。
11. 【請求項１１】 浴槽内に攪拌手段を備えたとこを特徴
    とする請求項１〜１０のいずれか一つに記載の足温浴
    器。