JP2001230077A - Manufacturing method of electroluminescence element - Google Patents
Manufacturing method of electroluminescence elementInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は平面光源やディスプ
レイになどに使用されるＥＬ素子に関するものである。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an EL device used for a flat light source or a display.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子
は自発光の面状表示素子としての使用が注目されてい
る。その中でも、有機物質を発光材料として用いた有機
薄膜ＥＬ素子は、印加電圧が１０Ｖ弱であっても高輝度
な発光が実現するなど発光効率が高い。典型的な有機薄
膜ＥＬ素子の構成としては、陽極／正孔注入層／発光層
／陰極、および陽極／発光層／電子注入層／陰極が挙げ
られる。このような有機ＥＬ素子における有機ＥＬ層
は、通常約１０００Åと薄いものとされる。この有機Ｅ
Ｌ層の形成方法は、有機ＥＬ層が低分子材料である場合
は真空蒸着法、高分子材料である場合はスピン塗布法ま
たはインクジェット法が一般的に用いられている。特に
ＥＬ素子を用いたディスプレーにおいてフルカラー表示
を可能とするには、３原色を発光する発光層が画素毎に
配置され、発光層のパターニングが行われる。従来、こ
のような発光層のパターニング方法としては、電極パタ
ーンのマスクを介して発光層を蒸着法により形成する方
法および電極パターン上にインクジェット法により形成
する方法等が知られている。しかし、真空蒸着法では、
パターニングの精度が電極のパターンに依存せざるを得
ない点で制約があること、インクジェット法では塗布層
を塗り分けることはできても、均一な薄膜形成が困難で
あるという問題がある。2. Description of the Related Art Attention has been paid to the use of EL (electroluminescence) elements as self-luminous planar display elements. Among them, an organic thin-film EL element using an organic substance as a light-emitting material has high luminous efficiency, such as realizing high-luminance light emission even at an applied voltage of slightly less than 10 V. Typical configurations of the organic thin film EL device include an anode / a hole injection layer / a light emitting layer / a cathode and an anode / a light emitting layer / an electron injection layer / a cathode. The organic EL layer in such an organic EL element is usually as thin as about 1000 °. This organic E
As a method for forming the L layer, a vacuum evaporation method is generally used when the organic EL layer is a low molecular material, and a spin coating method or an ink jet method is generally used when the organic EL layer is a high molecular material. In particular, in order to enable full-color display in a display using an EL element, a light-emitting layer emitting three primary colors is arranged for each pixel, and the light-emitting layer is patterned. Conventionally, as a method of patterning such a light emitting layer, a method of forming a light emitting layer by a vapor deposition method via a mask of an electrode pattern, a method of forming the light emitting layer on an electrode pattern by an ink jet method, and the like are known. However, in the vacuum deposition method,
There is a problem in that the accuracy of patterning must be dependent on the pattern of the electrode, and there is a problem that it is difficult to form a uniform thin film even though the ink jet method can apply different coating layers.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
を解決しようとするものであって、本発明の目的は、発
光パターンの微細化と均一性を実現することが容易なＥ
Ｌ素子の製造方法を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an E-light emitting device which can easily realize a fine and uniform light emitting pattern.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an L element.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、電界ジェ
ット法を用いてＥＬ素子を製造することにより上記課題
が解決できることを見出し本発明を完成させた。Means for Solving the Problems The present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by manufacturing an EL element by using an electric field jet method, and have completed the present invention.
【０００５】したがって、本発明のＥＬ素子の製造方法
は、少なくとも、第１電極と、該第１電極上に形成され
たＥＬ層と、該ＥＬ層上に形成された第２電極とからな
るＥＬ素子の製造方法であって、前記ＥＬ層の少なくと
も一部を、塗布液の吐出口またはその近傍に電極を設
け、該電極に電圧を印加し、その塗布液を吐出する方法
である電界ジェット法を用いて形成することを特徴とす
る方法である。Therefore, a method of manufacturing an EL device according to the present invention comprises an EL device including at least a first electrode, an EL layer formed on the first electrode, and a second electrode formed on the EL layer. An electric field jet method comprising: a method of manufacturing an element, wherein at least a part of the EL layer is provided with an electrode at or near a discharge port of a coating liquid, a voltage is applied to the electrode, and the coating liquid is discharged. This is a method characterized by forming using.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】電界ジェット法 本発明の電界ジェット法とは、塗布液（電界ジェット法
によって基体に塗布される液体であって、ＥＬ層や障壁
層などの材料となる）の吐出口またはその近傍に電極を
設け、電圧を印加し、その塗布液を吐出する方法を意味
し、様々な態様を包含することができる。例えば、塗布
液をシリンジに充填し、このシリンジのノズルから塗布
液を吐出し基体（塗布液を付着させる対象物）に成膜す
るにあたり、このノズルに電極を設け、その電極に電圧
を印加する方法が挙げられる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Electric Field Jet Method The electric field jet method of the present invention is a discharge port of a coating liquid (a liquid applied to a substrate by an electric field jet method and serving as a material such as an EL layer and a barrier layer). Alternatively, this means a method in which an electrode is provided in the vicinity thereof, a voltage is applied, and the application liquid is discharged, and various modes can be included. For example, when a coating liquid is filled in a syringe, and the coating liquid is discharged from a nozzle of the syringe to form a film on a substrate (an object to which the coating liquid is to be attached), an electrode is provided on the nozzle, and a voltage is applied to the electrode. Method.
【０００７】（吐出）本発明の方法における塗布液の吐
出では、必要とされる吐出量や塗布液の粘度に応じて塗
布液を加圧または減圧することができる。塗布液の加圧
の程度を低めたまたは減圧した場合は、塗布液の吐出量
を減らすだけではなく、細かいパターンの形成が容易に
できる。また、塗布液を加圧した場合は、塗布液の吐出
量を容易に増やすだけではなく、太いパターンの形成が
できる。(Discharge) In the discharge of the coating liquid in the method of the present invention, the coating liquid can be pressurized or depressurized depending on the required discharge amount and the viscosity of the coating liquid. When the degree of pressurization of the coating liquid is reduced or reduced, not only the discharge amount of the coating liquid is reduced but also a fine pattern can be easily formed. When the application liquid is pressurized, not only the discharge amount of the application liquid is easily increased, but also a thick pattern can be formed.
【０００８】また、塗布液の吐出は、間欠的なものであ
っても連続的なものであってもよい。吐出のＯＮ・ＯＦ
Ｆは、例えば、塗布液の加圧と減圧および／または印加
電圧の変化によって行うことができる。[0008] The discharge of the coating liquid may be intermittent or continuous. Discharge ON / OF
F can be performed, for example, by pressurizing and depressurizing the coating liquid and / or changing the applied voltage.
【０００９】（電極の形態）電極の形態としては様々な
形態を用いることができ、例えば、ノズル自身を電極材
料で構成する、ノズルの内壁に電極を配置する、ノズル
の外側に電極を配置するなどを挙げることができる。吐
出口先端から電極までの距離は、必要な電圧の大きさと
関係するが、非常に広い範囲内で自由に配置することが
可能である。本発明者らは、十分大きな電圧を与えれ
ば、吐出速度にもよるが、電極をノズル先端から１０ｃ
ｍ以上離した場合でさえ吐出が可能であることを既に見
出している。必要な印加電圧強度の観点から、吐出口先
端から電極までの距離は１００ｍｍ以内であることが好
ましく、３０ｍｍ以内であることが更に好ましい。この
ような電極配置の自由度は吐出ヘッド設計において大き
な利点となり得るものである。電極をノズル、スリット
の外側に配置する場合には、ノズル壁又はスリット壁の
厚みは１〜１０００μｍであることが好ましい。(Electrode form) Various forms can be used as the form of the electrode. For example, the nozzle itself is made of an electrode material, the electrode is arranged on the inner wall of the nozzle, and the electrode is arranged outside the nozzle. And the like. The distance from the tip of the discharge port to the electrode depends on the required voltage, but can be freely arranged within a very wide range. If a sufficiently large voltage is applied, the present inventors can move the electrode 10c from the tip of the nozzle, depending on the ejection speed.
It has already been found that ejection is possible even when the distance is at least m. From the viewpoint of the required applied voltage strength, the distance from the tip of the discharge port to the electrode is preferably 100 mm or less, and more preferably 30 mm or less. Such freedom of electrode arrangement can be a great advantage in the design of the ejection head. When the electrodes are arranged outside the nozzle and the slit, the thickness of the nozzle wall or the slit wall is preferably 1 to 1000 μm.
【００１０】（電極の素材）電極の素材としては、特に
限定されないが、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌなど
の金属やステンレス、真鍮などの合金、ＩＴＯなどの導
電性セラミックスが好ましく用いられる。流路内部に電
極を配置する場合には、電極の変質、摩耗を防止する目
的で、電極表面にハードコートを施してもよい。(Material of Electrode) The material of the electrode is not particularly limited. For example, metals such as Au, Ag, Cu and Al, alloys such as stainless steel and brass, and conductive ceramics such as ITO are preferably used. When the electrode is disposed inside the flow channel, a hard coat may be applied to the electrode surface for the purpose of preventing the electrode from being deteriorated or worn.
【００１１】（電圧印加）本発明においては、ノズルに
設けた電極に電圧を印加する。他方は接地あるいは塗布
液を付着させる基体に接続することができる。この場合
交流、直流のいずれであってもよいが、基本的には交流
が好ましい。付着させる塗布液が、電着を起こす可能性
がある場合は、電着を防ぐ目的から特に交流が好まし
い。(Voltage Application) In the present invention, a voltage is applied to the electrodes provided on the nozzle. The other can be grounded or connected to a substrate to which the coating liquid is applied. In this case, either AC or DC may be used, but basically AC is preferred. When the coating liquid to be adhered may cause electrodeposition, alternating current is particularly preferable for the purpose of preventing electrodeposition.
【００１２】連続吐出の場合と間欠吐出（ＯＮ・ＯＦＦ
吐出）吐出の場合で好ましい電圧印加の方法が異なるの
で以下に述べる。Continuous discharge and intermittent discharge (ON / OFF)
The preferred method of applying a voltage differs in the case of (discharge) discharge, which will be described below.
【００１３】（連続吐出の場合）連続吐出の場合は、交
流又は直流で吐出可能である。好ましくは交流である。
電圧強度としては、Ｖｐ−ｐ＝１００Ｖ〜１０ｋＶであ
ることが好ましく、電圧制御や吐出の安定性の観点か
ら、１〜７ｋＶの範囲にあるのが更に好ましい。また、
波形は矩形波であることが好ましい。(In the case of continuous discharge) In the case of continuous discharge, AC or DC discharge is possible. Preferably, it is AC.
The voltage intensity is preferably Vp-p = 100 V to 10 kV, and more preferably in the range of 1 to 7 kV from the viewpoint of voltage control and ejection stability. Also,
Preferably, the waveform is a square wave.
【００１４】塗布液の粘度や材料組成にもよるが、電気
伝導率が異なると最適な印加電圧周波数も変動する。多
くの場合、電気伝導率の上昇につれて、最適な印加電圧
周波数は高くなる。周波数が低いと、電極への析出等が
発生し易く好ましくない。また、周波数が高いと、電源
の性能上制御が難しくなるという問題もある。好ましい
周波数の範囲は１Ｈｚ〜１０ｋＨｚである。吐出の連続
性と電圧制御の観点から、１００Ｈｚ〜４ｋＨｚである
ことが更に好ましい。直流の場合は±１００Ｖ〜１０ｋ
Ｖ（極性はどちらでも同様）が好ましい。連続吐出によ
って、ライン状または面状にＥＬ層や障壁層を形成でき
る。付着させる面に濡れ性の違いがある場合は連続吐出
であっても不連続例えばドット状とすることができる。Depending on the viscosity and material composition of the coating solution, the optimum applied voltage frequency varies with different electrical conductivity. In many cases, the optimum applied voltage frequency increases as the electrical conductivity increases. If the frequency is low, deposition on the electrode or the like is likely to occur, which is not preferable. Further, when the frequency is high, there is a problem that control becomes difficult due to the performance of the power supply. A preferred frequency range is 1 Hz to 10 kHz. From the viewpoints of ejection continuity and voltage control, the frequency is more preferably 100 Hz to 4 kHz. ± 100V to 10k for DC
V (the polarity is the same for both) is preferred. By continuous ejection, an EL layer or a barrier layer can be formed in a line shape or a plane shape. When there is a difference in wettability on the surface to be adhered, it can be discontinuous, for example, in the form of dots even in the case of continuous ejection.
【００１５】（間欠吐出の場合）間欠吐出（ＯＮ・ＯＦ
Ｆ吐出）の場合は、塗布液への加圧の変化、印加電圧の
絶対値がＶ１ 以上で吐出が生じることを利用する。電
圧強度で吐出量が制御できる。閾値となるＶ１ の大き
さは塗布液や電極配置にもよるが、１００Ｖ〜３ｋＶの
範囲であることが好ましい。吐出電圧は連続吐出の場合
と同様１００Ｖ〜１０ｋＶであることが好ましく、１〜
７ｋＶの範囲にあるのが更に好ましい。間欠吐出とする
ことでドット状に配置されたＥＬ層を形成することがで
きる。(In the case of intermittent ejection) Intermittent ejection (ON / OF)
For F discharge), change in the pressure of the coating solution, the absolute value of the applied voltage is utilized that the discharge in V 1 or more occurs. The discharge amount can be controlled by the voltage intensity. The magnitude of the threshold value V1 depends on the application liquid and the arrangement of the electrodes, but is preferably in the range of 100 V to 3 kV. The discharge voltage is preferably 100 V to 10 kV as in the case of continuous discharge,
More preferably, it is in the range of 7 kV. By performing intermittent ejection, an EL layer arranged in a dot shape can be formed.
【００１６】（シリンジ）電界ジェット法においては、
通常塗布液を蓄積し、必要に応じて加圧または減圧で
き、吐出口を有する容器を用いるが、このような容器を
本明細書においてシリンジという。(Syringe) In the electric field jet method,
Usually, a container that accumulates a coating liquid, can be pressurized or depressurized as needed, and has a discharge port is used. Such a container is referred to as a syringe in this specification.
【００１７】（ノズルと基体との距離）ノズル先端の吐
出口から基体までの距離は適宜設定できるが、好ましく
は５０〜１００００μｍ、より好ましくは１００〜１０
００μｍの範囲に設定する。距離が短いと安定なメニス
カスが形成できず、さらに記録媒体の微妙な凹凸に追従
できなくなるためドットが繋がったり抜けが生じたりし
て好ましくない。一方、広くなると吐出の直線性が損な
われ好ましくない。(Distance between Nozzle and Substrate) The distance from the discharge port at the tip of the nozzle to the substrate can be appropriately set, but is preferably 50 to 10,000 μm, more preferably 100 to 10 μm.
Set to the range of 00 μm. If the distance is short, a stable meniscus cannot be formed, and furthermore, it is not possible to follow delicate irregularities of the recording medium. On the other hand, if the width is wide, the linearity of ejection is impaired, which is not preferable.
【００１８】ＥＬ層 （ＥＬ層の形成）本発明のＥＬ素子に設けられるＥＬ層
の形成は、少なくとも障壁層を設けないＥＬ素子にあっ
ては電界ジェット法を用いて行うが、障壁層を有するＥ
Ｌ素子にあっては、障壁層を電界ジェット法で、ＥＬ素
子をその他の方法で形成することもできる。 EL Layer (Formation of EL Layer) The EL layer provided in the EL element of the present invention is formed by an electric field jet method at least in an EL element not provided with a barrier layer. E
In the case of the L element, the barrier layer may be formed by an electric field jet method, and the EL element may be formed by another method.
【００１９】また、ＥＬ層は異なる色（例えばＲ、Ｇ、
Ｂなど）を発色する複数の層であることができる。さら
にＥＬ層は、少なくとも発光層を含むが、その他に厚み
方向に異なる層、一般に電荷注入層、バッファー層、電
荷輸送層と呼ばれる層、およびそれらの層の機能を複合
的に兼ねた層を有することができる。ＥＬ層がこのよう
な複数の層からなる場合、本発明では、ＥＬ層を構成す
るこれらの層の１つまたはそれ以上を電界ジェット法に
よって形成できる。さらに、ＥＬ層はホスト材料を電界
ジェット法以外で全面に塗布した後、複数の発光色素を
電界ジェット法によりドープし、複数の発光層を形成す
ることも可能である。The EL layers have different colors (for example, R, G,
B). Further, the EL layer includes at least a light-emitting layer, but also includes layers that are different in the thickness direction, generally a layer called a charge injection layer, a buffer layer, and a charge transport layer, and a layer having a combined function of those layers. be able to. When the EL layer is composed of a plurality of such layers, one or more of these layers constituting the EL layer can be formed by an electric field jet method in the present invention. Further, the EL layer may be formed by applying a host material to the entire surface by a method other than the electric field jet method, and then doping a plurality of luminescent dyes by the electric field jet method to form a plurality of light emitting layers.
【００２０】（塗布液）ＥＬ層を電界ジェット法によっ
て形成する場合、塗布液の粘度が低すぎると、シリンジ
のノズルから自然に塗布液が落下することがある。例え
ば、諸条件にもよるが、塗布液の粘度が０．３ｃｐｓの
場合、シリンジのノズルから自然に塗布液が着下するこ
とにより、塗布膜の膜厚等の制御が困難であった。一
方、塗布液の粘度が高すぎると塗布液の吐出ができなく
なることがある。例えば、諸条件にもよるが塗布液の粘
度が２００，０００ｃｐｓの場合、シリンジのノズルか
ら塗布液を吐出することが困難であった。したがって、
塗布液の粘度は好ましくは０．５〜１００，０００ｃｐ
ｓとする。(Coating Liquid) When the EL layer is formed by the electric field jet method, if the viscosity of the coating liquid is too low, the coating liquid may spontaneously fall from the nozzle of the syringe. For example, depending on various conditions, when the viscosity of the coating liquid is 0.3 cps, it is difficult to control the thickness of the coating film and the like because the coating liquid falls down naturally from the nozzle of the syringe. On the other hand, if the viscosity of the application liquid is too high, the application liquid may not be discharged. For example, when the viscosity of the coating solution is 200,000 cps depending on various conditions, it is difficult to discharge the coating solution from the nozzle of the syringe. Therefore,
The viscosity of the coating solution is preferably 0.5 to 100,000 cp.
s.
【００２１】塗布液の導伝率が低すぎると、ノズルに電
界がかからないことがある。例えば諸条件によるが、導
伝率が１．０×１０−１６ｍｈｏ／ｃｍの場合、ノズル
に電界がかからず、シリンジのノズルから塗布液を吐出
することが困難であった。一方、塗布液の導伝率が高す
ぎると、ノズルと基体間で放電が起こることがある。例
えば、諸条件にもよるが導伝率が１．５×１０−３ｍｈ
ｏ／ｃｍの場合、ノズルと基体間で放電が起こることに
より、塗布液が均一に塗布することが困難であった。し
たがって、塗布液の導電率は好ましくは１×１０−１５
〜１×１０−４ｍｈｏ／ｃｍとする。If the conductivity of the coating solution is too low, an electric field may not be applied to the nozzle. For example, depending on various conditions, when the conductivity is 1.0 × 10 −16 mho / cm, no electric field is applied to the nozzle, and it is difficult to discharge the coating liquid from the nozzle of the syringe. On the other hand, if the conductivity of the coating liquid is too high, discharge may occur between the nozzle and the substrate. For example, depending on various conditions, the conductivity is 1.5 × 10 −3 mh.
In the case of o / cm, since a discharge occurs between the nozzle and the substrate, it was difficult to apply the coating liquid uniformly. Therefore, the conductivity of the coating liquid is preferably 1 × 10 −15.
１1 × 10 −4 mho / cm.
【００２２】第１電極、第２電極 本発明のＥＬ素子における第１電極は、その上にＥＬ層
が形成される電極を意味し、第２電極は、ＥＬ層上に形
成される電極を意味する。これらの電極の材料および形
成方法は通常のＥＬ素子の製造と同様でよい。 First Electrode, Second Electrode The first electrode in the EL device of the present invention means an electrode on which an EL layer is formed, and the second electrode means an electrode formed on the EL layer. I do. The materials and forming methods of these electrodes may be the same as those for manufacturing a normal EL element.
【００２３】障壁層 本発明のＥＬ素子に好適態様において設けられる障壁層
は、ＥＬ層、特に異なる色を発色する複数のＥＬ層を有
する場合に、異なるＥＬ層の間に形成される層である。
この障壁層の形成方法は特に限定されないが、好ましく
は電界ジェット法を用いて形成される。 Barrier Layer The barrier layer provided in a preferred embodiment of the EL element of the present invention is a layer formed between different EL layers, particularly when the EL element has a plurality of EL layers emitting different colors. .
The method for forming the barrier layer is not particularly limited, but is preferably formed using an electric field jet method.
【００２４】（塗布液）障壁層の形成を電界ジェット法
による塗布を用いて行う場合、塗布する塗布液の好まし
い粘度および好ましい導電率は前記のＥＬ層形成のため
の塗布液と同様である。(Coating Liquid) When the barrier layer is formed by application by the electric field jet method, the preferable viscosity and the preferable electric conductivity of the coating liquid to be applied are the same as those of the above-mentioned coating liquid for forming the EL layer.
【００２５】基体 本発明においては、基体とはその上にＥＬ層や障壁層が
形成されるものであり、基体の表面には第１電極が形成
されている。基体は電極そのものであってもよいが、通
常強度保持の支持体上に電極が形成されたものである。[0025] In the substrate present invention are those EL layer and barrier layer thereon and the substrate is formed, on the surface of the substrate is formed a first electrode. The substrate may be the electrode itself, but is usually one in which the electrode is formed on a support that maintains strength.
【００２６】（濡れ性変化層への電界ジェット）この基
体の表面は、好ましくは濡れ性の違いによるパターンを
形成して電界ジェットによる塗布液の付着を制御するこ
とができる。このようなパターンを利用することによ
り、目標とする位置および範囲に正確に均一にＥＬ層や
障壁層を形成することができる。濡れ性の違いは、例え
ば光触媒を用いて形成することができる。(Electric field jet to wettability changing layer) The surface of the substrate is preferably formed with a pattern based on the difference in wettability to control the adhesion of the coating liquid by the electric field jet. By using such a pattern, the EL layer and the barrier layer can be accurately and uniformly formed at a target position and range. The difference in wettability can be formed using, for example, a photocatalyst.
【００２７】[0027]
【実施例】実施例１ まず、以下の成分を有する塗布液を調整した。 Example 1 First, a coating solution having the following components was prepared.
【００２８】 （ＥＬ層形成用塗布液の組成） 成分 配合量 ポリビニルカルバゾール（アナン（株）製、Lot.K81127） ７０重量部 オキサジアゾール化合物（和光純薬工業（株）製） ３０重量部 クマリン６（Aldrich.Chem.Co.製） １重量部 1,2ジクロロエタン ３３６７重量部 次に２４μｍの間隔で、かつ１６２μｍの線幅にパター
ニングされたＩＴＯガラス基板を洗浄した後、上記塗布
液をシリンジに充填した後、以下の条件でＩＴＯ上に塗
布した。(Composition of EL Layer Forming Coating Solution) Ingredients Compounding amount 70 parts by weight of polyvinylcarbazole (manufactured by Anan Co., Ltd., Lot. K81127) 30 parts by weight of oxadiazole compound (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Coumarin 6 (manufactured by Aldrich. Chem. Co.) 1 part by weight 1,2 Dichloroethane 3367 parts by weight Next, the ITO glass substrate patterned at intervals of 24 μm and with a line width of 162 μm was washed, and the above coating solution was put into a syringe. After filling, it was applied on ITO under the following conditions.
【００２９】ノズル内径が２７０μｍであるＰＴＦＥ
（テフロン）製ノズルに、０．２ｋｇ／ｃｍ２の圧力
（減圧）をかけ、電極に振幅７ｋＶ、周波数１８０Ｈ
ｚ、矩形状のパルス電圧を印加した後、塗布液を基体に
付着させ、ノズルを３．５ｃｍ／ｓの速度で搬送移動さ
せることにより、均一に成膜することができた。開口部
先端と基体との間隔は５００μｍとした。また、塗布液
の粘度は１．５ｃｐｓ、導伝率は１．５×１０−９ｍｈ
ｏ／ｃｍであった。その上に陰極として、真空蒸着によ
ってＬｉＦを５Å、アルミニウムを２０００Å成膜し
た。このように作製されたＥＬ素子に、ＩＴＯ電極を陽
極、アルミニウム電極を陰極として、直流電圧を印加す
ると、明るい緑色発光が得られた。PTFE having a nozzle inner diameter of 270 μm
A pressure (reduced pressure) of 0.2 kg / cm 2 is applied to a (Teflon) nozzle, and an amplitude of 7 kV and a frequency of 180 H are applied to the electrodes.
After applying a rectangular pulse voltage in z, the coating liquid was attached to the substrate, and the nozzle was conveyed and moved at a speed of 3.5 cm / s, whereby a uniform film could be formed. The distance between the tip of the opening and the substrate was 500 μm. The viscosity of the coating solution is 1.5 cps, and the conductivity is 1.5 × 10 −9 mh.
o / cm. As a cathode, a film of LiF and a film of aluminum were formed by vacuum evaporation at 5 ° and 2000 °, respectively. When a DC voltage was applied to the EL device thus manufactured using the ITO electrode as the anode and the aluminum electrode as the cathode, bright green light was emitted.
【００３０】実施例２ 以下の成分を有する塗布液を調整した。 Example 2 A coating solution having the following components was prepared.
【００３１】 （緑色発光ＥＬ層形成用塗布液の組成） 成分 配合量 ポリビニルカルバゾール（アナン（株）製、Lot.K81127） ７０重量部 オキサジアゾール化合物（和光純薬工業（株）製） ３０重量部 クマリン６（Aldrich.Chem.Co.製） １重量部 1,2ジクロロエタン ３３６７重量部 （青色発光ＥＬ層形成用塗布液の組成） 成分 配合量 ポリビニルカルバゾール（アナン（株）製、Lot.K81127） ７０重量部 オキサジアゾール化合物（和光純薬工業（株）製） ３０重量部 ペリレン（Aldrich.Chem.Co.製） １重量部 1,2ジクロロエタン ３３６７重量部 （赤色発光ＥＬ層形成用塗布液の組成） 成分 配合量 ポリビニルカルバゾール（アナン（株）製、Lot.K81127） ７０重量部 オキサジアゾール化合物（和光純薬工業（株）製） ３０重量部 ＤＣＭ１（Aldrich.Chem.Co.製） １重量部 1,2ジクロロエタン ３３６７重量部 実施例１と同様に、緑色パターン領域に上記の緑色発光
用塗布液を、青色パターン領域に上記の青色発光用塗布
液を、赤色パターン領域に上記の赤色発光用塗布液を順
次塗布した。その後その上に陰極として、ＩＴＯ電極お
よび有機ＥＬ層のパターンと直交するようにＬｉＦを５
Å、アルミニウムを２０００Å形成した。このように作
成されたＥＬ素子にＩＴＯ電極を陽極、アルミニウム電
極を陰極として直流電圧を印加すると、単純マトリック
ス型の３原色（青・赤・緑）の発光が得られた。(Composition of the coating solution for forming a green light-emitting EL layer) Component Compounding amount 70 parts by weight of polyvinyl carbazole (Lot. K81127, manufactured by Annan Co., Ltd.) 30 parts by weight of oxadiazole compound (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Part Coumarin 6 (manufactured by Aldrich. Chem. Co.) 1 part by weight 3367 parts by weight of 1,2 dichloroethane (composition of coating solution for forming blue light-emitting EL layer) Component blending amount polyvinylcarbazole (manufactured by Anan Corporation, Lot. K81127) 70 parts by weight Oxadiazole compound (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 30 parts by weight Perylene (manufactured by Aldrich. Chem. Co.) 1 part by weight 1,2 dichloroethane 3367 parts by weight (coating solution for forming a red light emitting EL layer) composition) ingredients amounts polyvinylcarbazole (Anand Co., Lot.K81127) 70 parts by weight of an oxadiazole compound (manufactured by Wako Pure chemical Industries, Ltd.) 30 parts by weight DCM1 (Aldrich.Chem.Co. Ltd.) 1 wt 1,2 Similar to dichloroethane 3367 parts by weight Example 1, the green emitting the coating liquid for green pattern region, the blue light emitting coating liquid for a blue pattern area, coating the above-mentioned red light-emitting red pattern area The liquid was applied sequentially. Thereafter, LiF is applied thereon as a cathode so as to be orthogonal to the pattern of the ITO electrode and the organic EL layer.
{Circle around (2)}, aluminum was formed 2000 mm. When a DC voltage was applied to the EL device thus prepared using the ITO electrode as the anode and the aluminum electrode as the cathode, light emission of three primary colors (blue, red, and green) of a simple matrix type was obtained.
【００３２】実施例３ まず、ポリビニルカルバゾールをスピンコーターによ
り、ＩＴＯガラス基板上に全面に塗布した。次に実施例
１と同様にして、緑色パターン領域に緑色発光用色素と
してクマリン６を塗布した。同様にして、赤色パターン
領域に赤色発光色素としてＤＣＭ１を塗布した。その上
に陰極として、ＩＴＯ電極および有機ＥＬ層のパターン
と直交するようにＬｉｆを５Å アルミニウムを２００
０Å形成した。このように作成されたＥＬ素子にＩＴＯ
電極を陽極、アルミニウム電極を陰極として直流電圧を
印加すると単純マトリックス型の３原色（青、赤、緑）
の発光が得られた。 Example 3 First, polyvinyl carbazole was applied to the entire surface of an ITO glass substrate by a spin coater. Next, in the same manner as in Example 1, coumarin 6 was applied to the green pattern area as a dye for emitting green light. Similarly, DCM1 was applied as a red light emitting pigment to the red pattern area. On top of this, as a cathode, Lif is 5Å aluminum 200 μm so as to be orthogonal to the pattern of the ITO electrode and the organic EL layer.
0 ° was formed. The EL element thus manufactured is provided with ITO
When a DC voltage is applied with the electrode as the anode and the aluminum electrode as the cathode, three primary colors of a simple matrix type (blue, red, green)
Was obtained.
【００３３】実施例４ まず、以下の成分を有する塗布液を調整した。 Example 4 First, a coating solution having the following components was prepared.
【００３４】 （障壁層形成用塗布液の組成） 成分 配合量 ガラスフリット ４５重量部 エチルセルロース ７重量部 ブチルカルビトール １０重量部 次に２４μｍの間隔で、かつ１６２μｍの線幅にパター
ニングされたＩＴＯガラス基板を洗浄した後、上記塗布
液をＩＴＯが成膜されていない部分（間隔２４μｍ）に
障壁層として塗布した。この塗布液の粘度は１００，０
００ｃｐｓ、導伝率は２．２×１０−８ｍｈｏ／ｃｍで
あった。この後、実施例１と同様にして、ＩＴＯライン
上にＥＬ層用塗布液を塗布し、陰極として、ＬｉＦを５
Å、アルミニウムを２０００Å成膜した。このように作
製されたＥＬ素子に、ＩＴＯ電極を陽極、アルミニウム
電極を陰極として、直流電圧を印加すると、明るい緑色
発光が得られた。(Composition of Barrier Layer Forming Coating Solution) Component Compounding amount Glass frit 45 parts by weight Ethyl cellulose 7 parts by weight 10 parts by weight butyl carbitol Next, an ITO glass substrate patterned at an interval of 24 μm and a line width of 162 μm After washing, the above-mentioned coating solution was applied as a barrier layer to portions (interval: 24 μm) where ITO was not formed. The viscosity of this coating solution is 100,0
At 00 cps, the conductivity was 2.2 × 10 −8 mho / cm. Thereafter, in the same manner as in Example 1, an EL layer coating solution was applied onto the ITO line, and LiF was coated with 5
{Circle around (2)}, aluminum was deposited in a thickness of 2000%. When a DC voltage was applied to the EL device thus manufactured using the ITO electrode as the anode and the aluminum electrode as the cathode, bright green light was emitted.
【００３５】実施例５ まず、以下の成分を有する塗布液を調整した。 Example 5 First, a coating solution having the following components was prepared.
【００３６】 （障壁層形成用塗布液の組成） 成分 配合量 ガラスフリット ４５重量部 エチルセルロース ８重量部 塩化リチウム ０．３重量部 ブチルカルビトール ４６．７重量部 次に２４μｍの間隔で、かつ１６２μｍの線幅にパター
ニングされたＩＴＯガラス基板を洗浄した後、上記塗布
液をＩＴＯが成膜されていない部分（間隔２４μｍ）に
障壁層として塗布した。この塗布液の粘度は３２，００
０ｃｐｓ、導伝率は１．８×１０−５ｍｈｏ／ｃｍであ
った。この後、実施例１と同様にして、ＩＴＯ上にＥＬ
層形成用塗布液を塗布し、陰極として、ＬｉＦを５Å、
アルミニウムを２０００Å成膜した。このように作製さ
れたＥＬ素子に、ＩＴＯ電極を陽極、アルミニウム電極
を陰極として、直流電圧を印加すると、明るい緑色発光
が得られた。(Composition of barrier layer forming coating solution) Component Compounding amount Glass frit 45 parts by weight Ethyl cellulose 8 parts by weight Lithium chloride 0.3 part by weight 46.7 parts by weight butyl carbitol Next, at an interval of 24 μm and 162 μm After washing the ITO glass substrate patterned to the line width, the above-mentioned coating solution was applied as a barrier layer to a portion where no ITO was formed (interval: 24 μm). The viscosity of this coating solution was 32,000.
0 cps, and the conductivity was 1.8 × 10 −5 mho / cm. Thereafter, in the same manner as in Example 1, the EL
A coating solution for forming a layer is applied, and as a cathode, LiF is 5Å,
Aluminum was deposited in a thickness of 2000 mm. When a DC voltage was applied to the EL device thus manufactured using the ITO electrode as the anode and the aluminum electrode as the cathode, bright green light was emitted.
【００３７】実施例６ まず、以下の成分を有する塗布液を調整した。 Example 6 First, a coating solution having the following components was prepared.
【００３８】 （ＥＬ層形成用塗布液の組成） 成分 配合量 ポリビニルカルバゾール（アナン（株）製、Lot.K81127） ７０重量部 オキサジアゾール化合物（和光純薬工業（株）製） ３０重量部 クマリン６（Aldrich.Chem.Co.製） １重量部 キシレン ３３６７重量部 次に２４μｍの間隔で、かつ１６２μｍの線幅にパター
ニングされたＩＴＯガラス基板を洗浄した後、上記塗布
液を実施例１と同様にして、ＩＴＯライン上に塗布し
た。この塗布液の粘度は１．３ｃｐｓ、導伝率は４．０
×１０−１３ｍｈｏ／ｃｍであった。この後、陰極とし
て、ＬｉＦを５Å、アルミニウムを２０００Å成膜し
た。このように作製されたＥＬ素子に、ＩＴＯ電極を陽
極、アルミニウム電極を陰極として、直流電圧を印加す
ると、明るい緑色発光が得られた。(Composition of EL Layer Forming Coating Solution) Ingredients Compounding amount 70 parts by weight of polyvinylcarbazole (manufactured by Annan Co., Ltd., Lot. K81127) 30 parts by weight of oxadiazole compound (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Coumarin 6 (manufactured by Aldrich. Chem. Co.) 1 part by weight Xylene 3367 parts by weight After washing the ITO glass substrate patterned at intervals of 24 μm and with a line width of 162 μm, the coating solution was applied in the same manner as in Example 1. And applied on the ITO line. The viscosity of this coating solution is 1.3 cps, and the conductivity is 4.0.
× 10 −13 mho / cm. Thereafter, a film of LiF was formed at 5 ° and aluminum was formed at 2000 ° as a cathode. When a DC voltage was applied to the EL device thus manufactured using the ITO electrode as the anode and the aluminum electrode as the cathode, bright green light was emitted.
【００３９】実施例７ まず、以下の成分を有する塗布液を調整した。 Example 7 First, a coating solution having the following components was prepared.
【００４０】 （濡れ性変化パターニング層（光触媒層）形成用塗布液の組成） 成分 配合量 アナターゼ型チタニアゾル（石原産業（株）製 ST-K03） ２重量部 フルオロアルコキシラン （トーケムブロダクツ（株）製 MF-160E） ０．００１２重量部 塩酸 ４重量部 イソプロピルアルコール ４．５重量部 次に２４μｍの間隔で、かつ１６２μｍの線幅にパター
ニングされたＩＴＯガラス基板を洗浄した後、上記塗布
液をスピンコーターにより、全面に塗布し、１５０℃、
１０分間の乾燥を行うことにより、膜厚１００Åに形成
した。続いて、マスクを介して、水銀灯（波長３６５ｎ
ｍ）により７０ｍＷ／ｃｍ２の照度で５０秒間、ＩＴＯ
線幅上位のみパターン照射を行った。この上に実施例１
と同様にして塗布することにより、１６２μｍの線幅に
パターニングされたＩＴＯ上に塗布液がはみ出すことな
く塗布され、明るい緑色発光が得られた。(Composition of coating liquid for forming wettability changing patterning layer (photocatalyst layer)) Component Compounding amount 2 parts by weight of anatase titania sol (ST-K03 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) Fluoroalkoxylane (Tochem Products Co., Ltd.) MF-160E) 0.0012 parts by weight Hydrochloric acid 4 parts by weight Isopropyl alcohol 4.5 parts by weight After washing the ITO glass substrate patterned at intervals of 24 μm and with a line width of 162 μm, Using a spin coater, apply on the entire surface, 150 ° C,
By drying for 10 minutes, a film having a thickness of 100 ° was formed. Subsequently, a mercury lamp (wavelength 365 n) is applied through a mask.
m) at 70 mW / cm 2 for 50 seconds with ITO
Pattern irradiation was performed only on the upper line width. Example 1 on this
By coating in the same manner as described above, the coating liquid was applied without protruding onto the ITO patterned to a line width of 162 μm, and bright green light emission was obtained.
【００４１】実施例８ ノズル−基体間距離を１００００μｍにした以外は実施
例１と同様にして塗布することにより、１６２μｍの線
幅にパターニングされたＩＴＯ上に円形のドットが塗布
され、明るい緑色発光が得られた。 Example 8 By applying in the same manner as in Example 1 except that the nozzle-substrate distance was changed to 10000 μm, circular dots were applied on ITO patterned to a line width of 162 μm, and bright green light was emitted. was gotten.
【００４２】[0042]
【発明の効果】本発明によって、発光パターンの微細化
と均一性を実現することが容易なＥＬ素子の製造方法を
提供することができる。According to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing an EL element in which it is easy to realize a fine and uniform light emitting pattern.
Claims (8)
形成されたＥＬ層と、該ＥＬ層上に形成された第２電極
とからなるＥＬ素子の製造方法であって、 前記ＥＬ層の少なくとも一部を、塗布液の吐出口または
その近傍に電極を設け、該電極に電圧を印加し、その塗
布液を吐出する方法である電界ジェット法を用いて形成
することを特徴とする、ＥＬ素子の製造方法。1. A method of manufacturing an EL device comprising at least a first electrode, an EL layer formed on the first electrode, and a second electrode formed on the EL layer, wherein the EL device comprises: At least a part of the layer is formed by providing an electrode at or near a discharge port of a coating liquid, applying a voltage to the electrode, and using an electric field jet method for discharging the coating liquid. , EL element manufacturing method.
形成されたＥＬ層と、該ＥＬ層上に形成された第２電極
と、該ＥＬ層を区切る障壁層とからなるＥＬ素子の製造
方法であって、 前記ＥＬ層または前記障壁層の少なくとも一部を、塗布
液の吐出口またはその近傍に電極を設け、該電極に電圧
を印加し、その塗布液を吐出する方法である電界ジェッ
ト法を用いて形成する、ＥＬ素子の製造方法。2. An EL device comprising at least a first electrode, an EL layer formed on the first electrode, a second electrode formed on the EL layer, and a barrier layer separating the EL layer. Wherein at least a portion of the EL layer or the barrier layer is provided with an electrode at or near a coating liquid discharge port, a voltage is applied to the electrode, and the coating liquid is discharged. A method for manufacturing an EL element, which is formed using an electric field jet method.
し、かつ前記ＥＬ層の発光層が、異なる色を発色する複
数の種類のものである、請求項１または２に記載のＥＬ
素子の製造方法。3. The EL according to claim 1, wherein the EL layer is formed by an electric field jet method, and the light emitting layers of the EL layer are a plurality of types emitting different colors.
Device manufacturing method.
００ｃｐｓである、請求項１または２に記載のＥＬ素子
の製造方法。4. A coating liquid having a viscosity of 0.5 to 100,0.
The method for manufacturing an EL device according to claim 1, wherein the method is 00 cps.
０−４ｍｈｏ／ｃｍである、請求項１または２に記載の
ＥＬ素子の製造方法。5. The method according to claim 1, wherein said coating liquid has an electric conductivity of 10 −15 to 1.
The method for producing an EL device according to claim 1, wherein the EL device has a value of 0 −4 mho / cm.
が変化するパターニング層が少なくとも１層形成されて
いる、請求項１または２に記載のＥＬ素子の製造方法。6. The method for manufacturing an EL device according to claim 1, wherein at least one patterning layer whose surface wettability with respect to the laminated material changes by light irradiation is formed.
る基体までの距離が、５０〜１００００μｍである、請
求項１または２に記載のＥＬ素子の製造方法。7. The method for manufacturing an EL element according to claim 1, wherein a distance from the coating liquid discharge port to a substrate on which the coating liquid is adhered is 50 to 10,000 μm.
ある、請求項１または２に記載のＥＬ素子の製造方法。8. The method according to claim 1, wherein the discharge by the electric field jet is intermittent discharge.
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