JP2001228429A - Exposure recorder - Google Patents

Exposure recorder

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JP2001228429A
JP2001228429A JP2000035478A JP2000035478A JP2001228429A JP 2001228429 A JP2001228429 A JP 2001228429A JP 2000035478 A JP2000035478 A JP 2000035478A JP 2000035478 A JP2000035478 A JP 2000035478A JP 2001228429 A JP2001228429 A JP 2001228429A
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JP
Japan
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light
recording apparatus
exposure
drum
exposure recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000035478A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirobumi Saida
博文 齊田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently detect the light quantity of a light beam outputted from a light source, without turning the photosensitive material useless. SOLUTION: After a laser beam L consisting of the linearly polarized light outputted from a semiconductor laser LD passes a polarizing beam splitter 38 and is converted into the circular polarized light by 1/4 wavelength plates 24a-24d, it is made incident on reflecting plates 22a-22d. After, as for the laser beam L reflected by the reflecting plates 22a-22d, the rotating direction of the polarized light is reversed, it is converted into the linearly polarized light by the 1/4 wavelength plates 24a-24d, is reflected by the polarizing beam splitter 38 to be made incident on a photo-sensor 46, and the light quantity is detected.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ドラム外周面に装
着された感光材料を画像情報に応じて変調された光ビー
ムにより走査して画像を露光記録する露光記録装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure recording apparatus for exposing and recording an image by scanning a photosensitive material mounted on an outer peripheral surface of a drum with a light beam modulated in accordance with image information.

【0002】[0002]

【従来の技術】外周面に感光材料が装着されたドラムを
主走査方向に回転させる一方、画像に応じて変調された
レーザビームを前記主走査方向と直交する副走査方向に
走査させることで、2次元画像を前記感光材料に記録す
るようにした露光記録装置が広汎に使用されている。
2. Description of the Related Art By rotating a drum having a photosensitive material mounted on its outer peripheral surface in a main scanning direction, a laser beam modulated according to an image is scanned in a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction. Exposure recording apparatuses for recording a two-dimensional image on the photosensitive material are widely used.

【0003】このような露光記録装置に用いられる感光
材料としては、所定の発色閾値以上の光量からなるレー
ザビームが照射されることで画像が記録されるものがあ
る。この場合、レーザビームの光量分布は、図11に示
すように、一般的にガウス分布となっている。従って、
レーザビームの光量が変動すると発色範囲が変動するた
め、記録時における光量が一定となるようにレーザビー
ムを制御する必要がある。また、光量に応じた濃度で発
色する感光材料の場合においても、所望の濃度が得られ
るように光量を制御する必要がある。
As a photosensitive material used in such an exposure recording apparatus, there is a photosensitive material on which an image is recorded by irradiating a laser beam having a light amount equal to or more than a predetermined coloring threshold. In this case, the light quantity distribution of the laser beam generally has a Gaussian distribution as shown in FIG. Therefore,
When the light amount of the laser beam fluctuates, the coloring range also fluctuates. Therefore, it is necessary to control the laser beam so that the light amount during recording becomes constant. Further, even in the case of a photosensitive material which develops a color at a density corresponding to the light quantity, it is necessary to control the light quantity so that a desired density can be obtained.

【0004】そこで、従来の露光記録装置では、感光材
料に定期的にテストパターンを露光記録し、例えば、記
録された線幅の変化から光源の出力変動量を推定して駆
動電流を修正する、といった方法が採用されている。こ
の場合、光源の調整のために感光材料を消耗する不具合
があった。また、露光状態の確認は、線幅が均一である
か否かを拡大し丹念に観察して行っていたため、極めて
煩雑であり、非効率的なものであった。
Therefore, in a conventional exposure recording apparatus, a test pattern is regularly recorded on a photosensitive material by exposure and the drive current is corrected by estimating the output fluctuation of the light source from the change in the recorded line width. Such a method is adopted. In this case, there is a problem that the photosensitive material is consumed for adjusting the light source. Further, since the confirmation of the exposure state was performed by carefully observing whether or not the line width was uniform and observing it carefully, it was extremely complicated and inefficient.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、感光材料を
無駄にすることがなく、光源から出力される光ビームの
光量を効率的に検出することのできる露光記録装置を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an exposure recording apparatus capable of efficiently detecting the amount of a light beam output from a light source without wasting photosensitive material. And

【0006】また、本発明は、構成を大型化することな
く、光ビームの光量を検出することのできる露光記録装
置を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide an exposure recording apparatus capable of detecting the amount of light beam without increasing the size of the configuration.

【0007】また、本発明は、感光材料に対して画像を
露光記録しながら、光ビームの光量を検出することので
きる露光記録装置を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide an exposure recording apparatus capable of detecting the amount of light beam while exposing and recording an image on a photosensitive material.

【0008】また、本発明は、光ビームの光量を検出で
きるとともに、光ビームの感光材料に対する露光位置ま
たは露光スポット形状を検出することのできる露光記録
装置を提供することを目的とする。
It is another object of the present invention to provide an exposure recording apparatus capable of detecting the light amount of a light beam and detecting an exposure position or an exposure spot shape of the light beam on a photosensitive material.

【0009】また、本発明は、感光材料に供給する光ビ
ームのエネルギを無駄にすることなく、その光量を検出
することのできる露光記録装置を提供することを目的と
する。
Another object of the present invention is to provide an exposure recording apparatus capable of detecting the amount of light beam supplied to a photosensitive material without wasting energy.

【0010】また、本発明は、光ビームの光量を検出し
た地点を基準として、感光材料に対する露光記録のタイ
ミングを高精度に設定することのできる露光記録装置を
提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide an exposure recording apparatus capable of setting the timing of exposure recording on a photosensitive material with high accuracy based on a point at which the light amount of a light beam is detected.

【0011】さらに、本発明は、光ビームの光量と光源
の温度との関係から、前記光源の状態を検出することの
できる露光記録装置を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide an exposure recording apparatus capable of detecting the state of the light source from the relationship between the light amount of the light beam and the temperature of the light source.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
めに、本発明では、ドラム外周面の感光材料が装着され
ない部位に、画像情報を記録するための光ビームを反射
する反射手段を設け、光源から出力された前記光ビーム
を偏光ビームスプリッタおよび1/4波長板を介して前
記反射手段に導く。
In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, a reflection means for reflecting a light beam for recording image information is provided at a portion on the outer peripheral surface of the drum where the photosensitive material is not mounted. The light beam output from the light source is guided to the reflection means via a polarizing beam splitter and a quarter-wave plate.

【0013】この場合、偏光ビームスプリッタを透過し
た直線偏光の光ビームは、1/4波長板によって偏光特
性が円偏光または楕円偏光に変換され、反射手段に入射
する。次いで、反射手段によって反射された円偏光また
は楕円偏光からなる前記光ビームは、偏光の回転方向が
逆転し、再び1/4波長板に入射する。1/4波長板
は、この光ビームを、前記偏光ビームスプリッタを透過
した光ビームの偏光方向と異なる偏光面からなる直線偏
光に変換する。
In this case, the linearly polarized light beam transmitted through the polarizing beam splitter has its polarization characteristics converted into circularly polarized light or elliptically polarized light by a quarter-wave plate, and is incident on the reflecting means. Next, the rotation direction of the polarized light of the circularly polarized light or the elliptically polarized light reflected by the reflection means is reversed, and the light beam enters the quarter-wave plate again. The quarter-wave plate converts this light beam into linearly polarized light having a polarization plane different from the polarization direction of the light beam transmitted through the polarizing beam splitter.

【0014】そして、反射板側から1/4波長板を透過
した光ビームは、偏光ビームスプリッタを透過すること
なく、反射されて光量検出器に導かれる。光量検出器
は、この光ビームの光量を検出し、その光量が所定量と
なるように、光源の出力が調整される。
The light beam transmitted through the quarter-wave plate from the reflection plate side is reflected without being transmitted through the polarizing beam splitter and guided to the light amount detector. The light amount detector detects the light amount of the light beam, and the output of the light source is adjusted so that the light amount becomes a predetermined amount.

【0015】ここで、反射手段は、光ビームが集光され
るドラムの外周面に配設されるため、必要最小限の大き
さとすることができる。なお、反射手段としては、ドラ
ムの外周面に配設した反射板、あるいは、ドラムの外周
面を鏡面仕上げしたものを用いることができる。ドラム
の外周面を鏡面仕上げした場合には、構成部材を少なく
することができる。また、反射手段は、1/4波長板の
表面に蒸着あるいは積層することで密着形成し、装置を
より小型に構成することができる。
Here, since the reflecting means is provided on the outer peripheral surface of the drum on which the light beam is condensed, the size of the reflecting means can be minimized. As the reflection means, a reflection plate provided on the outer peripheral surface of the drum, or a mirror whose outer peripheral surface is mirror-finished can be used. When the outer peripheral surface of the drum is mirror-finished, the number of constituent members can be reduced. Further, the reflection means is formed in close contact with the surface of the quarter-wave plate by vapor deposition or lamination, so that the apparatus can be made smaller.

【0016】また、光源から出力される光ビームをCC
Dセンサによって受光することにより、光量を検出する
とともに、その受光位置から光ビームの感光材料に対す
る照射位置を検出することができる。この場合、検出さ
れた照射位置から位置ずれを補正するようにすれば、高
精度な画像記録を行うことができる。
The light beam output from the light source is referred to as CC.
By receiving light with the D sensor, it is possible to detect the amount of light and to detect the irradiation position of the light beam on the photosensitive material from the light receiving position. In this case, if the positional deviation is corrected from the detected irradiation position, highly accurate image recording can be performed.

【0017】さらに、CCD面を感光材料上の露光スポ
ット位置と共役にすることで露光スポット形状を検出す
ることができる。
Further, by making the CCD surface conjugate with the position of the exposure spot on the photosensitive material, the shape of the exposure spot can be detected.

【0018】また、光源側から偏光ビームスプリッタに
入射する光ビームの偏光方向を1/2波長板により調整
することで、全ての光ビームを透過させて感光材料に導
くことができ、これによって効率的な画像記録を行うこ
とができる。
Further, by adjusting the polarization direction of the light beam incident on the polarizing beam splitter from the light source side by a half-wave plate, all the light beams can be transmitted and guided to the photosensitive material, thereby increasing the efficiency. Image recording can be performed.

【0019】また、光源を複数の半導体レーザとすれ
ば、効率的な画像記録ができる。なお、複数の半導体レ
ーザから出力された光ビームの光量は、独立に構成した
複数の光量検出器にそれぞれ導き、あるいは、光ファイ
バ等を用いて1つの光量検出器に導くことにより、検出
することができる。
If a plurality of semiconductor lasers are used as the light source, efficient image recording can be performed. It should be noted that the light amounts of the light beams output from the plurality of semiconductor lasers may be detected by guiding the light beams to a plurality of light amount detectors independently configured, or by guiding the light beams to one light amount detector using an optical fiber or the like. Can be.

【0020】また、光量検出器によって光ビームを検出
した地点の情報から、画像記録を行うためのタイミング
信号を生成することができる。
Further, a timing signal for performing image recording can be generated from information on a point where the light beam is detected by the light amount detector.

【0021】さらに、光源に温度検出器を設け、この光
源から所定光量の光ビームを出力したときの温度を検出
し、その温度の情報から当該光源の状態を判断すること
ができる。
Further, a temperature detector is provided in the light source, the temperature at which a predetermined amount of light beam is output from the light source is detected, and the state of the light source can be determined from the information on the temperature.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】図1および図2は、本発明の第1
実施形態の露光記録装置10を示す。なお、図1は側面
図、図2は平面図である。
1 and 2 show a first embodiment of the present invention.
1 shows an exposure recording apparatus 10 according to an embodiment. 1 is a side view and FIG. 2 is a plan view.

【0023】露光記録装置10は、外周面に感光材料1
2が装着され、主走査方向(矢印X方向)に回転するド
ラム14と、搬送台16上に配設され、ドラム14の軸
線に沿った副走査方向(矢印Y方向)に移動する複数の
露光ヘッド18a〜18dとから基本的に構成される。
The exposure recording apparatus 10 has a photosensitive material 1 on the outer peripheral surface.
2, a drum 14 rotating in the main scanning direction (arrow X direction), and a plurality of exposures disposed on the carrier 16 and moving in the sub scanning direction (arrow Y direction) along the axis of the drum 14. It is basically composed of heads 18a to 18d.

【0024】感光材料12は、クランプ20a〜20d
により固定プレート20e、20fが感光材料12の両
端部に押し当てられることでドラム14に固定される。
感光材料12としては、照射される光ビームによって感
光するフイルムや、感光剤が塗布された刷版等を用いる
ことができる。刷版が使用される場合には、当該露光記
録装置10は、画像データから直接刷版を作成するCT
P(Computer to Plate)装置として機能することにな
る。
The photosensitive material 12 includes clamps 20a to 20d
As a result, the fixing plates 20 e and 20 f are pressed against both ends of the photosensitive material 12 to be fixed to the drum 14.
As the photosensitive material 12, a film that is exposed by an irradiated light beam, a printing plate coated with a photosensitive agent, or the like can be used. When a printing plate is used, the exposure recording apparatus 10 uses a CT that creates a printing plate directly from image data.
It will function as a P (Computer to Plate) device.

【0025】固定プレート20e、20f間には、ドラ
ム14の軸線に沿って感光材料12が装着されない隙間
が設けられており、この隙間には、各露光ヘッド18a
〜18dに対応して反射板22a〜22d(反射手段)
が配設される。なお、反射板22a〜22dを用いる代
わりに、ドラム14の外周面を鏡面仕上げし、ドラム1
4自体を反射手段とすることもできる。
Between the fixed plates 20e and 20f, there is provided a gap along the axis of the drum 14 where the photosensitive material 12 is not mounted.
Reflectors 22a to 22d (reflecting means) corresponding to .about.18d
Is arranged. Instead of using the reflecting plates 22a to 22d, the outer peripheral surface of the drum 14 is mirror-finished,
4 itself may be used as the reflection means.

【0026】各反射板22a〜22dの反射面側には、
1/4波長板24a〜24dが配設される。1/4波長
板24a〜24dは、当該1/4波長板24a〜24d
の入射面に平行であって、ドラム14の軸線に対し45
゜傾斜して設定された光学軸を有する。1/4波長板2
4a〜24dは、反射板22a〜22dの反射面上、あ
るいは、反射手段である鏡面仕上げされたドラム14の
外周面上に積層形成してもよい。また、この1/4波長
板24a〜24dに反射手段を蒸着形成することもでき
る。さらに、本実施形態において、1/4波長板24a
〜24dは、ドラム14側に配設し、反射板22a〜2
2dと一体的に回転するように構成しているが、露光ヘ
ッド18a〜18d側に配設し、露光ヘッド18a〜1
8dと一体的に移動するように構成してもよい。
On the reflection surface side of each of the reflection plates 22a to 22d,
Quarter-wave plates 24a to 24d are provided. The 波長 wavelength plates 24a to 24d are the 波長 wavelength plates 24a to 24d.
Of the drum 14 and 45 ° with respect to the axis of the drum 14.
有 す る It has an optical axis set to be inclined. Quarter wave plate 2
4a to 24d may be formed on the reflecting surfaces of the reflecting plates 22a to 22d or on the outer peripheral surface of the mirror-finished drum 14 as a reflecting means. Further, the reflecting means can be formed by vapor deposition on the quarter-wave plates 24a to 24d. Further, in the present embodiment, the 波長 wavelength plate 24a
To 24d are arranged on the drum 14 side, and the reflection plates 22a to 22d
Although it is configured to rotate integrally with the exposure heads 18a to 18d, the exposure heads 18a to 18d
It may be configured to move integrally with 8d.

【0027】各露光ヘッド18a〜18dは、副走査方
向(矢印Y方向)に所定間隔離間して配列されており、
感光材料12に記録する画像情報に応じてオンオフ制御
されるレーザビームLを出力する半導体レーザLDを備
える。半導体レーザLDは、活性層に平行な方向がドラ
ム14の軸線と平行となるように設定される。従って、
半導体レーザLDから出力されるレーザビームLは、ド
ラム14の軸線と平行な方向に偏光する直線偏光とな
る。図1および図2において、レーザビームLの偏光方
向は、「○と・」、「両方向矢印」、「回転矢印」によ
ってそれぞれ表すものとする。なお、半導体レーザLD
として、本実施形態では、副走査方向(矢印Y方向)に
幅広となる光量分布を有する屈折率導波型ブロードエリ
ア半導体レーザを用いているが、ガウス分布状の光量分
布を有するシングルモードの半導体レーザを用いること
もできる。
The exposure heads 18a to 18d are arranged at predetermined intervals in the sub-scanning direction (arrow Y direction).
A semiconductor laser LD that outputs a laser beam L that is turned on and off in accordance with image information recorded on the photosensitive material 12 is provided. The semiconductor laser LD is set so that the direction parallel to the active layer is parallel to the axis of the drum 14. Therefore,
The laser beam L output from the semiconductor laser LD is linearly polarized light polarized in a direction parallel to the axis of the drum 14. In FIGS. 1 and 2, the polarization direction of the laser beam L is represented by “○ and •”, “double-headed arrow”, and “rotating arrow”, respectively. Note that the semiconductor laser LD
In this embodiment, a refractive index-guided broad area semiconductor laser having a light amount distribution that becomes wide in the sub-scanning direction (arrow Y direction) is used, but a single mode semiconductor having a Gaussian distribution light amount distribution is used. Lasers can also be used.

【0028】半導体レーザLDから出力されたレーザビ
ームLの光軸上には、コリメータレンズ26、1/2波
長板28、シリンダレンズ30、アパーチャ32、平行
平板34、シリンダレンズ36、キュービック型偏光ビ
ームスプリッタ38、シリンダレンズ40および結像レ
ンズ42が順に配列される。また、偏光ビームスプリッ
タ38により反射されたレーザビームLの光軸上には、
集光レンズ44を介してフォトダイオード等の光センサ
46(光量検出器)が配設される。
On the optical axis of the laser beam L output from the semiconductor laser LD, a collimator lens 26, a half-wave plate 28, a cylinder lens 30, an aperture 32, a parallel plate 34, a cylinder lens 36, a cubic polarization beam A splitter 38, a cylinder lens 40, and an imaging lens 42 are sequentially arranged. Further, on the optical axis of the laser beam L reflected by the polarizing beam splitter 38,
An optical sensor 46 (light amount detector) such as a photodiode is provided via a condenser lens 44.

【0029】コリメータレンズ26は、半導体レーザL
Dから出力されたレーザビームLを平行光束とする。1
/2波長板28は、レーザビームLの偏光方向を調整す
るもので、光学軸が当該1/2波長板28の入射面に平
行であって、ドラム14の軸線に対し垂直から時計方向
に45゜回転させて設定されている。従って、1/2波
長板28を透過したレーザビームLは、偏光面がドラム
14の軸線に対し直交する方向に変換される。なお、1
/2波長板28を光軸の周りに回転させることで、レー
ザビームLの偏光方向を容易に調整することができる。
The collimator lens 26 includes a semiconductor laser L
The laser beam L output from D is a parallel light beam. 1
The half-wave plate 28 adjusts the polarization direction of the laser beam L. The half-wave plate 28 has an optical axis parallel to the incident surface of the half-wave plate 28, and is 45 clockwise from perpendicular to the axis of the drum 14.゜ It is set to rotate. Therefore, the laser beam L transmitted through the half-wave plate 28 is converted into a direction in which the polarization plane is orthogonal to the axis of the drum 14. In addition, 1
By rotating the half-wave plate 28 around the optical axis, the polarization direction of the laser beam L can be easily adjusted.

【0030】シリンダレンズ30、36、40は、副走
査方向(矢印Y方向)に対するレーザビームLの幅を調
整し、アパーチャ32は、主走査方向(矢印X方向)お
よび副走査方向(矢印Y方向)に対するレーザビームL
の幅を調整する。平行平板34は、光軸に対する傾斜角
度を調整することで、レーザビームLの感光材料12に
対する照射位置を調整する。結像レンズ42は、レーザ
ビームLを感光材料12に対して結像する。
The cylinder lenses 30, 36, and 40 adjust the width of the laser beam L in the sub-scanning direction (arrow Y direction), and the aperture 32 controls the main scanning direction (arrow X direction) and sub-scanning direction (arrow Y direction). Laser beam L for
Adjust the width of. The parallel plate 34 adjusts the irradiation position of the laser beam L on the photosensitive material 12 by adjusting the inclination angle with respect to the optical axis. The imaging lens forms an image of the laser beam L on the photosensitive material 12.

【0031】偏光ビームスプリッタ38は、シリンダレ
ンズ36側から入射するレーザビームLを通過し、シリ
ンダレンズ40側から入射するドラム軸に平行な直線偏
光のレーザビームを反射し光センサ46側に導くように
配設する。
The polarization beam splitter 38 passes the laser beam L incident from the cylinder lens 36 side, reflects a linearly polarized laser beam parallel to the drum axis incident from the cylinder lens 40 side, and guides it to the optical sensor 46 side. To be installed in

【0032】図3は、前記のように構成される露光記録
装置10の回路構成を示す。露光記録装置10は、CP
Uを含む制御回路48(タイミング信号生成手段)によ
って全体が制御される。制御回路48には、ドラム14
を主走査方向(矢印X方向)に回転させるドラム回転モ
ータ52を駆動するドラム回転モータ駆動回路54と、
露光ヘッド18a〜18dを副走査方向(矢印Y方向)
に移動させるヘッド移動モータ56を駆動するヘッド移
動モータ駆動回路58とが接続される。なお、ドラム回
転モータ52には、ロータリエンコーダ50が連結され
る。
FIG. 3 shows a circuit configuration of the exposure recording apparatus 10 configured as described above. Exposure recording device 10 has a CP
The whole is controlled by a control circuit 48 (timing signal generating means) including U. The control circuit 48 includes the drum 14
A drum rotation motor driving circuit 54 that drives a drum rotation motor 52 that rotates the drum in the main scanning direction (the direction of the arrow X);
Move the exposure heads 18a to 18d in the sub-scanning direction (arrow Y direction).
And a head moving motor driving circuit 58 for driving a head moving motor 56 for moving the head. Note that a rotary encoder 50 is connected to the drum rotation motor 52.

【0033】また、制御回路48には、画像データ記憶
部60が接続されており、この画像データ記憶部60に
接続されたLD駆動回路62は、画像データ記憶部60
から読み出された画像データに従って半導体レーザLD
をオンオフ制御する。
An image data storage unit 60 is connected to the control circuit 48. The LD drive circuit 62 connected to the image data storage unit 60 is connected to the image data storage unit 60.
Semiconductor laser LD according to image data read from
On / off control.

【0034】さらに、制御回路48には、温度検出回路
64、温度制御回路66、光量制御回路68、光量検出
回路70および発光開始タイミングデータ記憶部72が
それぞれ接続される。
Further, a temperature detection circuit 64, a temperature control circuit 66, a light quantity control circuit 68, a light quantity detection circuit 70, and a light emission start timing data storage section 72 are connected to the control circuit 48, respectively.

【0035】温度検出回路64は、温度センサ74(温
度検出器)からの信号に基づいて半導体レーザLDの温
度を検出する。温度制御回路66は、温度センサ74に
より検出された半導体レーザLDの温度を所定温度とす
べく、ペルチェ素子等からなる温度調整素子76を制御
する。光量検出回路70は、光センサ46からの信号に
基づいてレーザビームLの光量を検出する。光量制御回
路68は、光センサ46により検出されたレーザビーム
Lの光量を所定光量とすべく、LD駆動回路62から半
導体レーザLDに供給される駆動電流を制御する。発光
開始タイミングデータ記憶部72は、半導体レーザLD
の発光開始タイミングデータ(タイミング信号)を記憶
するもので、この発光開始タイミングデータは、ドラム
14を回転させ、光センサ46がレーザビームLを検出
したときのロータリエンコーダ50の出力に基づいて生
成される。
The temperature detection circuit 64 detects the temperature of the semiconductor laser LD based on a signal from the temperature sensor 74 (temperature detector). The temperature control circuit 66 controls a temperature adjusting element 76 such as a Peltier element to set the temperature of the semiconductor laser LD detected by the temperature sensor 74 to a predetermined temperature. The light amount detection circuit 70 detects the light amount of the laser beam L based on a signal from the optical sensor 46. The light amount control circuit 68 controls a drive current supplied from the LD drive circuit 62 to the semiconductor laser LD so that the light amount of the laser beam L detected by the optical sensor 46 becomes a predetermined light amount. The light emission start timing data storage unit 72 includes a semiconductor laser LD.
This light emission start timing data (timing signal) is generated based on the output of the rotary encoder 50 when the drum 14 is rotated and the optical sensor 46 detects the laser beam L. You.

【0036】第1実施形態の露光記録装置10は、基本
的には以上のように構成される。次に、図4および図5
のフローチャートに基づき、その動作について説明す
る。
The exposure recording apparatus 10 of the first embodiment is basically configured as described above. Next, FIGS. 4 and 5
The operation will be described based on the flowchart of FIG.

【0037】先ず、感光材料12をドラム14の外周面
に装着し、クランプ20a〜20dにより固定プレート
20e、20fを押し当てて固定する(ステップS
1)。次に、温度センサ74によって温度検出回路64
を介して半導体レーザLDの温度を検出し、温度制御回
路66を介して温度調整素子76を制御することによ
り、半導体レーザLDの温度を一定の温度、例えば、2
5℃となるように調節する(ステップS2)。
First, the photosensitive material 12 is mounted on the outer peripheral surface of the drum 14, and is fixed by pressing the fixing plates 20e and 20f by the clamps 20a to 20d (step S).
1). Next, a temperature detection circuit 64 is
The temperature of the semiconductor laser LD is detected via the temperature control circuit 66 to detect the temperature of the semiconductor laser LD through the temperature control circuit 66, so that the temperature of the semiconductor laser LD is kept at a constant temperature, for example, 2.
The temperature is adjusted to 5 ° C. (step S2).

【0038】以上の準備を行った後、ドラム回転モータ
駆動回路54を制御してドラム回転モータ52を回転さ
せ、ドラム14を光量調整位置まで回転移動させる(ス
テップS3)。この場合、光量調整位置とは、図1およ
び図2に示すように、半導体レーザLDから出力された
レーザビームLが反射板22a〜22dに入射する位置
であり、ドラム14の初期位置からの回転角度としてロ
ータリエンコーダ50の出力から求めることができる。
After the above preparations are made, the drum rotation motor drive circuit 54 is controlled to rotate the drum rotation motor 52, and the drum 14 is rotated to the light amount adjustment position (step S3). In this case, the light amount adjustment position is a position where the laser beam L output from the semiconductor laser LD is incident on the reflection plates 22a to 22d as shown in FIGS. 1 and 2, and the rotation of the drum 14 from the initial position. The angle can be obtained from the output of the rotary encoder 50.

【0039】ドラム14が光量調整位置に回転移動した
後、ドラム14の回転を停止させ、LD駆動回路62よ
り半導体レーザLDに駆動電流を供給し、出力されたレ
ーザビームLの光量を光センサ46によって検出し、そ
の光量が所定値となるように駆動電流を制御する(ステ
ップS4)。
After the rotation of the drum 14 to the light amount adjustment position, the rotation of the drum 14 is stopped, a drive current is supplied from the LD drive circuit 62 to the semiconductor laser LD, and the light amount of the output laser beam L is detected by the optical sensor 46. And the drive current is controlled so that the light amount becomes a predetermined value (step S4).

【0040】すなわち、画像データ記憶部60より半導
体レーザLDをオン状態とするテストデータをLD駆動
回路62に供給する。LD駆動回路62は、このテスト
データに基づいて駆動電流を各半導体レーザLDに供給
し、これによってレーザビームLが出力される。半導体
レーザLDから出力されたレーザビームLは、コリメー
タレンズ26によって平行光束とされた後、1/2波長
板28を透過することで、偏光方向がドラム14の軸線
に対して直交するレーザビームLとなる。次いで、この
レーザビームLは、シリンダレンズ30、アパーチャ3
2、平行平板34、シリンダレンズ36を介して偏光ビ
ームスプリッタ38に入射する。
That is, test data for turning on the semiconductor laser LD is supplied from the image data storage unit 60 to the LD drive circuit 62. The LD drive circuit 62 supplies a drive current to each semiconductor laser LD based on the test data, thereby outputting a laser beam L. The laser beam L output from the semiconductor laser LD is converted into a parallel light beam by the collimator lens 26 and then transmitted through the half-wave plate 28 so that the polarization direction of the laser beam L is orthogonal to the axis of the drum 14. Becomes Next, the laser beam L is applied to the cylinder lens 30 and the aperture 3.
2. The light enters the polarization beam splitter 38 via the parallel plate 34 and the cylinder lens 36.

【0041】ドラム14の軸線に対して直交した直線偏
光のレーザビームLは偏光ビームスプリッタ38を透過
し、シリンダレンズ40および結像レンズ42を介して
1/4波長板24a〜24dに入射する。1/4波長板
24a〜24dに入射したレーザビームLは、直線偏光
から円偏光に変換された後、反射板22a〜22dに到
達する。なお、反射板22a〜22dは、ドラム14上
の集光位置近傍に配設されているので、可能な限り小さ
く構成することができ、その分、コストも抑えることが
できる。
The linearly polarized laser beam L orthogonal to the axis of the drum 14 passes through the polarization beam splitter 38 and enters the quarter-wave plates 24 a to 24 d via the cylinder lens 40 and the imaging lens 42. The laser beam L incident on the wavelength plates 24a to 24d reaches the reflection plates 22a to 22d after being converted from linearly polarized light to circularly polarized light. Since the reflection plates 22a to 22d are arranged near the light condensing position on the drum 14, they can be made as small as possible, and the cost can be reduced accordingly.

【0042】反射板22a〜22dは、円偏光のレーザ
ビームLを反射することでその偏光方向を逆回転とし、
再び1/4波長板24a〜24dに導く。従って、反射
板22a〜22d側から入射したレーザビームは、偏光
方向が偏光ビームスプリッタ38側から入射したレーザ
ビームLと直交するレーザビームとして偏光ビームスプ
リッタ38に入射する。1/4波長板24a〜24d側
から偏光ビームスプリッタ38に入射したレーザビーム
は、偏光ビームスプリッタ38によって反射され、集光
レンズ44を介して光センサ46に導かれる。
The reflecting plates 22a to 22d reflect the circularly polarized laser beam L to reverse the direction of polarization, and
It is guided again to the quarter-wave plates 24a to 24d. Therefore, the laser beam incident from the reflection plates 22a to 22d enters the polarization beam splitter 38 as a laser beam whose polarization direction is orthogonal to the laser beam L incident from the polarization beam splitter 38 side. The laser beam that has entered the polarization beam splitter 38 from the quarter-wave plates 24 a to 24 d is reflected by the polarization beam splitter 38 and guided to the optical sensor 46 via the condenser lens 44.

【0043】各光センサ46は、入射したレーザビーム
の光量を光量検出回路70によって検出し、制御回路4
8に供給する。制御回路48は、検出された各レーザビ
ームの光量が所定の光量となるように、光量制御回路6
8を介してLD駆動回路62から半導体レーザLDに供
給される駆動電流を制御する。
Each of the optical sensors 46 detects the amount of the incident laser beam by a light amount detection circuit 70 and controls the control circuit 4.
8 The control circuit 48 controls the light amount control circuit 6 so that the detected light amount of each laser beam becomes a predetermined light amount.
The drive current supplied from the LD drive circuit 62 to the semiconductor laser LD via the control circuit 8 is controlled.

【0044】なお、レーザビームが照射されることによ
る光センサ46の劣化や、入射する光量が許容量以上と
なることによる光センサ46の検出精度低下が懸念され
るが、この問題は、反射板22a〜22dの反射率を小
さく設定することで回避することができる。また、反射
板22a〜22dの位置を感光材料12に対するレーザ
ビームLの集光位置からずらして設定しておき、検出さ
れた光量から感光材料12に対する実際の露光光量を推
定するようにしてもよい。この場合、レーザビームLに
よる反射板22a〜22dの劣化を同時に回避すること
ができる。さらに、レーザビームLの光路中に配設され
る1/2波長板28や1/4波長板24a〜24dのレ
ーザビームLに対する光学軸の角度、偏光ビームスプリ
ッタ38の光軸に対する設定回転角度等を適宜調整する
ことにより、光センサ46に入射するレーザビームの光
量を調整することができる。
It is to be noted that the deterioration of the optical sensor 46 due to the irradiation of the laser beam and the decrease in the detection accuracy of the optical sensor 46 due to the incident light amount exceeding the allowable amount are concerned. This can be avoided by setting the reflectance of 22a to 22d small. Further, the positions of the reflection plates 22a to 22d may be set so as to be shifted from the condensing position of the laser beam L on the photosensitive material 12, and the actual exposure light amount on the photosensitive material 12 may be estimated from the detected light amount. . In this case, the deterioration of the reflection plates 22a to 22d due to the laser beam L can be avoided at the same time. Further, the angle of the optical axis of the half-wave plate 28 and the quarter-wave plates 24a to 24d disposed in the optical path of the laser beam L with respect to the laser beam L, the set rotation angle of the polarizing beam splitter 38 with respect to the optical axis, and the like. Can be adjusted appropriately to adjust the light amount of the laser beam incident on the optical sensor 46.

【0045】次に、各レーザビームLの光量が所定値と
なった後、各半導体レーザLDの温度を温度センサ74
によって検出し(ステップS5)、その温度が所定範囲
にあるか否かをチェックする(ステップS6)。この場
合、所定温度範囲にない半導体レーザLDは、劣化した
ものとして交換する(ステップS7)。半導体レーザL
Dの交換後、ステップS2〜S6の処理を繰り返す。な
お、ステップS6のチェックにおいて、所定温度範囲に
あると判定されたものであっても、その温度上昇傾向か
ら、交換時期を予想することも可能である。
Next, after the light quantity of each laser beam L reaches a predetermined value, the temperature of each semiconductor laser LD is
(Step S5), and it is checked whether the temperature is within a predetermined range (step S6). In this case, the semiconductor laser LD not in the predetermined temperature range is replaced as a deteriorated one (Step S7). Semiconductor laser L
After the exchange of D, the processing of steps S2 to S6 is repeated. In addition, even if it is determined in the check in step S6 that the temperature is within the predetermined temperature range, it is possible to predict the replacement time from the temperature rising tendency.

【0046】すべての半導体レーザLDの温度が所定温
度範囲となった後、ドラム回転モータ駆動回路54を介
してドラム回転モータ52を回転させ(ステップS
8)、レーザビームLが反射板22a〜22dによって
反射され、光センサ46によって検出された位置を各露
光ヘッド18a〜18dのタイミングデータとして求め
る。このタイミングデータから、各露光ヘッド18a〜
18dの半導体レーザLDを発光させて画像記録を開始
する発光タイミングデータを求める。求められた発光タ
イミングデータは、発光開始タイミングデータ記憶部7
2に設定される(ステップS9)。このようにして発光
開始タイミングデータを設定しておくことにより、露光
ヘッド18a〜18dの主走査方向(矢印X方向)に対
する位置ずれによる不適切な画像の生成を回避すること
ができる。
After the temperatures of all the semiconductor laser LDs have reached the predetermined temperature range, the drum rotation motor 52 is rotated via the drum rotation motor drive circuit 54 (step S).
8) The position where the laser beam L is reflected by the reflection plates 22a to 22d and detected by the optical sensor 46 is obtained as timing data of each of the exposure heads 18a to 18d. From this timing data, each of the exposure heads 18a to 18a
Light emission timing data for starting image recording by causing the 18d semiconductor laser LD to emit light is obtained. The obtained light emission timing data is stored in the light emission start timing data storage unit 7.
2 is set (step S9). By setting the emission start timing data in this way, it is possible to avoid generation of an inappropriate image due to a displacement of the exposure heads 18a to 18d in the main scanning direction (the direction of the arrow X).

【0047】以上の調整処理が行われた後、図5に示す
フローチャートに従って画像記録に先立つ光量制御デー
タの設定処理を行う(ステップS10)。
After the above-described adjustment processing is performed, setting processing of light quantity control data is performed prior to image recording according to the flowchart shown in FIG. 5 (step S10).

【0048】先ず、ドラム14を光量調整位置まで回転
移動させ(ステップS10a)、ロータリエンコーダ5
0からの出力に基づいて光量調整位置に移動したことを
検出した時点で、ドラム14の回転を停止させる(ステ
ップS10b)。次いで、LD駆動回路62より基準駆
動電流を半導体レーザLDに供給してレーザビームLを
出力させ(ステップS10c)、その光量を光センサ4
6により検出する(ステップS10d)。制御回路48
は、検出された光量が所定光量であるか否かを判定し
(ステップS10e)、所定光量となるまで光量制御回
路68を制御して駆動電流を増減させ、各半導体レーザ
LDから出力されるレーザビームLの光量が所定値とな
るように駆動電流を調整する(ステップS10f)。調
整された各露光ヘッド18a〜18dの駆動電流は、光
量制御データとして光量制御回路68に設定される。こ
こで、所定値とは、レーザビームLによって感光材料1
2に記録される画素の大きさが一定となる値である。駆
動電流が調整された後、ドラム14が回転駆動され、画
像露光位置に移動する(ステップS10g)。
First, the drum 14 is rotated to the light amount adjustment position (step S10a), and the rotary encoder 5 is rotated.
The rotation of the drum 14 is stopped when it is detected that the drum 14 has moved to the light amount adjustment position based on the output from 0 (step S10b). Next, a reference drive current is supplied from the LD drive circuit 62 to the semiconductor laser LD to output a laser beam L (step S10c).
6 (step S10d). Control circuit 48
Determines whether the detected light amount is a predetermined light amount (step S10e), controls the light amount control circuit 68 to increase or decrease the drive current until the detected light amount reaches the predetermined light amount, and controls the laser output from each semiconductor laser LD. The drive current is adjusted so that the light amount of the beam L becomes a predetermined value (step S10f). The adjusted drive current of each of the exposure heads 18a to 18d is set in the light amount control circuit 68 as light amount control data. Here, the predetermined value means that the photosensitive material 1 is irradiated with the laser beam L.
2 is a value at which the size of the pixel recorded becomes constant. After the drive current is adjusted, the drum 14 is driven to rotate and moves to the image exposure position (Step S10g).

【0049】以上のようにして光量制御データが設定さ
れた後、感光材料12に対する画像の露光処理が開始さ
れる(ステップS11)。この場合、制御回路48は、
発光開始タイミングデータ記憶部72から供給される発
光開始タイミングデータに基づき、画像データ記憶部6
0に記憶された画像データをLD駆動回路62に供給
し、調整された光量制御データに従って半導体レーザL
Dをオンオフ制御する。
After the light quantity control data is set as described above, the exposure processing of the image on the photosensitive material 12 is started (step S11). In this case, the control circuit 48
Based on the light emission start timing data supplied from the light emission start timing data storage unit 72, the image data storage unit 6
0 is supplied to the LD drive circuit 62, and the semiconductor laser L is supplied in accordance with the adjusted light amount control data.
D is turned on and off.

【0050】各半導体レーザLDから出力されたレーザ
ビームLは、主走査方向(矢印X方向)に回転する感光
材料12を主走査する一方、露光ヘッド18a〜18d
が副走査方向(矢印Y方向)に移動することにより、2
次元画像が感光材料12に記録される。この場合、半導
体レーザLDから出力されたレーザビームLは、その全
てが偏光ビームスプリッタ38を透過して感光材料12
に供給されるため、エネルギを無駄にすることなく画像
が記録される。
The laser beam L output from each semiconductor laser LD scans the photosensitive material 12 rotating in the main scanning direction (the direction of arrow X), while exposing heads 18a to 18d.
Moves in the sub-scanning direction (direction of arrow Y),
A two-dimensional image is recorded on the photosensitive material 12. In this case, all of the laser beam L output from the semiconductor laser LD passes through the polarizing beam splitter 38, and
The image is recorded without wasting energy.

【0051】一方、感光材料12に対して画像を記録し
ている間、光センサ46は、リアルタイムでレーザビー
ムの光量を検出し、必要に応じて光量調整を行う。すな
わち、ドラム14が回転してレーザビームLが反射板2
2a〜22dに照射された時点で光量を検出し、その光
量が所定範囲にある場合(ステップS12)、画像記録
を継続し、最後まで画像が記録された後(ステップS1
3)、ドラム14の回転を停止させ(ステップS1
4)、感光材料12をドラム14から取り外す(ステッ
プS15)。一方、光量が所定範囲にないと判定された
場合には(ステップS12)、不適切な画像が形成され
ているものと判断して露光を停止する(ステップS1
6)。その後、LD駆動回路62に供給される光量制御
データを修正する。
On the other hand, while the image is being recorded on the photosensitive material 12, the optical sensor 46 detects the light amount of the laser beam in real time and adjusts the light amount as necessary. That is, the drum 14 rotates and the laser beam L is
The amount of light is detected at the time when the light is irradiated on 2a to 22d. If the amount of light is within a predetermined range (step S12), the image recording is continued, and after the image is completely recorded (step S1).
3) Stop the rotation of the drum 14 (Step S1)
4) The photosensitive material 12 is removed from the drum 14 (Step S15). On the other hand, when it is determined that the light amount is not within the predetermined range (step S12), it is determined that an inappropriate image is formed, and the exposure is stopped (step S1).
6). After that, the light amount control data supplied to the LD drive circuit 62 is corrected.

【0052】次に、図6および図7に示す第2実施形態
の露光記録装置80について説明する。なお、図6は側
面図、図7は平面図であり、第1実施形態の露光記録装
置10と同一の構成要素については同一の参照符号を付
し、その詳細な説明は省略する。
Next, the exposure recording apparatus 80 of the second embodiment shown in FIGS. 6 and 7 will be described. FIG. 6 is a side view, and FIG. 7 is a plan view. The same components as those in the exposure recording apparatus 10 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0053】この露光記録装置80では、露光ヘッド8
2a〜82dを構成する偏光ビームスプリッタ38を1
/2波長板28とシリンダレンズ30との間に配設し、
1/2波長板28側から入射するレーザビームLを通過
させる一方、シリンダレンズ30側から入射するレーザ
ビームLを最終段の露光ヘッド82dの側部に配設した
光センサ46に集光レンズ44を介して導く。
In the exposure recording apparatus 80, the exposure head 8
The polarization beam splitters 38 constituting 2a to 82d are
Disposed between the half-wave plate 28 and the cylinder lens 30;
While allowing the laser beam L incident from the half-wave plate 28 side to pass, the laser beam L incident from the cylinder lens 30 side is condensed to the optical sensor 46 disposed on the side of the final stage exposure head 82d by the condenser lens 44. Guide through.

【0054】このように構成した露光記録装置80にお
いては、例えば、露光ヘッド82aの半導体レーザLD
から出力されたレーザビームLは、反射板22aによっ
て反射された後、偏光ビームスプリッタ38により反射
され、露光ヘッド82b〜82dの各偏光ビームスプリ
ッタ38を透過し、集光レンズ44を介して光センサ4
6に導かれる。同様に、他の露光ヘッド82b〜82d
の半導体レーザLDから出力されたレーザビームLも光
センサ46に導かれる。
In the exposure recording apparatus 80 configured as described above, for example, the semiconductor laser LD of the exposure head 82a is used.
Is reflected by the reflection plate 22a, is reflected by the polarization beam splitter 38, passes through the polarization beam splitters 38 of the exposure heads 82b to 82d, and passes through the condenser lens 44 to the optical sensor L. 4
It is led to 6. Similarly, the other exposure heads 82b to 82d
The laser beam L output from the semiconductor laser LD is also guided to the optical sensor 46.

【0055】この場合、各半導体レーザLDの発光タイ
ミングをずらすことにより、第1実施形態の場合とほぼ
同様にして光量検出を行うことができる。また、この第
2実施形態においては、集光レンズ44および光センサ
46を各露光ヘッド82a〜82dに対して共通化する
ことができるので、その分、コストダウンを図ることが
できる。なお、感光材料12に対して画像を記録しなが
ら、リアルタイムで光量検出を行うためには、例えば、
反射板22a〜22dの位置を主走査方向(矢印X方
向)に所定量ずらして設定し、半導体レーザLDからの
レーザビームLが光センサ46に順次入射するように構
成すればよい。
In this case, by shifting the light emission timing of each semiconductor laser LD, the light amount can be detected almost in the same manner as in the first embodiment. Further, in the second embodiment, the condenser lens 44 and the optical sensor 46 can be used in common for each of the exposure heads 82a to 82d, so that the cost can be reduced accordingly. In order to detect the amount of light in real time while recording an image on the photosensitive material 12, for example,
The positions of the reflection plates 22a to 22d may be set to be shifted by a predetermined amount in the main scanning direction (the direction of the arrow X) so that the laser beam L from the semiconductor laser LD is sequentially incident on the optical sensor 46.

【0056】次に、図8および図9に示す第3実施形態
の露光記録装置90について説明する。なお、図8は側
面図、図9は平面図であり、第1実施形態の露光記録装
置10と同一の構成要素については同一の参照符号を付
し、その詳細な説明は省略する。
Next, the exposure recording apparatus 90 of the third embodiment shown in FIGS. 8 and 9 will be described. FIG. 8 is a side view, and FIG. 9 is a plan view. The same components as those in the exposure recording apparatus 10 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0057】この露光記録装置90では、感光材料12
に対して、単一の露光ヘッド92により画像の記録が行
われる。露光ヘッド92は、図10に示すように、副走
査方向(矢印Y方向)に対して距離mだけ離間して2次
元的に配列された複数の半導体レーザLDからなる半導
体レーザ群を有した光源94を備える。
In the exposure recording apparatus 90, the photosensitive material 12
, An image is recorded by a single exposure head 92. As shown in FIG. 10, the exposure head 92 has a light source having a semiconductor laser group including a plurality of semiconductor lasers LD two-dimensionally arranged at a distance m in the sub-scanning direction (the direction of arrow Y). 94 is provided.

【0058】半導体レーザ群から出力されるレーザビー
ムLの光軸に沿って、集光レンズ96、偏光ビームスプ
リッタ38、結像レンズ98および1/4波長板100
が配列される。なお、半導体レーザ群から出力されるレ
ーザビームLの偏光方向と1/4波長板100の光学軸
の方向との関係は、第1実施形態の場合と同じに設定さ
れている。また、偏光ビームスプリッタ38の反射面側
には、集光レンズ44を介して光センサ46が配設され
る。
Along the optical axis of the laser beam L output from the semiconductor laser group, a condenser lens 96, a polarizing beam splitter 38, an imaging lens 98 and a quarter-wave plate 100
Are arranged. The relationship between the polarization direction of the laser beam L output from the semiconductor laser group and the direction of the optical axis of the quarter-wave plate 100 is set the same as in the first embodiment. Further, an optical sensor 46 is disposed on the reflection surface side of the polarization beam splitter 38 via a condenser lens 44.

【0059】一方、クランプ20aおよび20bとクラ
ンプ20cおよび20dによって感光材料12を押さえ
付ける2つの固定プレート20e、20f間の隙間に
は、副走査方向(矢印Y方向)に沿った長尺な反射板1
02が配設される。
On the other hand, in the gap between the two fixed plates 20e and 20f for holding down the photosensitive material 12 by the clamps 20a and 20b and the clamps 20c and 20d, a long reflecting plate along the sub-scanning direction (the direction of arrow Y) is provided. 1
02 is provided.

【0060】このように構成される露光記録装置90で
は、主走査方向(矢印X方向)に回転する感光材料12
に対して、光源94を構成する複数の半導体レーザLD
から出力されたレーザビームLが同時に照射され、画像
が記録される。一方、各レーザビームLの光量は、露光
ヘッド92が反射板102に対向する部位に位置すると
き、各半導体レーザLDを順次発光させることにより検
出することができる。
In the exposure recording apparatus 90 configured as described above, the photosensitive material 12 rotating in the main scanning direction (the direction of arrow X) is used.
, A plurality of semiconductor lasers LD forming the light source 94
Are simultaneously irradiated with the laser beam L output from, and an image is recorded. On the other hand, the light quantity of each laser beam L can be detected by sequentially emitting light from each semiconductor laser LD when the exposure head 92 is located at a position facing the reflection plate 102.

【0061】この場合、光センサ46として、例えば、
CCDを用い、このCCDに入射したレーザビームLの
受光範囲を測定するようにすれば、各レーザビームLの
光量を検出することができるとともに、感光材料12に
対する半導体レーザLDの位置精度や露光スポット形状
を検出することができる。
In this case, as the optical sensor 46, for example,
By using a CCD and measuring the light receiving range of the laser beam L incident on the CCD, the light amount of each laser beam L can be detected, and the positional accuracy of the semiconductor laser LD with respect to the photosensitive material 12 and the exposure spot Shape can be detected.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、感光材
料に対して光ビームを照射することなく、前記光ビーム
の光量を検出することができる。従って、感光材料を無
駄にすることなく、光量の検出を行うことができる。ま
た、感光材料に対して画像の記録を行いながら光量検出
を行うことができるので、効率的である。さらに、光量
検出のための機構によって、画像記録のための光量が減
少することのない構成であるため、光ビームのエネルギ
が無駄になることがない。
As described above, according to the present invention, the amount of light beam can be detected without irradiating the photosensitive material with a light beam. Therefore, the amount of light can be detected without wasting the photosensitive material. Further, since the light amount can be detected while recording the image on the photosensitive material, it is efficient. Further, since the light quantity for image recording is not reduced by the mechanism for light quantity detection, the energy of the light beam is not wasted.

【0063】また、感光材料に対する光ビームの光路の
一部を用いて光量検出ができる構成であるため、装置の
小型化が容易である。
Further, since the light quantity can be detected by using a part of the optical path of the light beam with respect to the photosensitive material, the apparatus can be easily miniaturized.

【0064】また、光量検出器に対する光ビームの入射
位置から、光ビームの感光材料に対する照射位置を求め
ることができる。従って、求められた照射位置を調整す
れば、高精度な画像記録を行うことができる。
Further, the irradiation position of the light beam on the photosensitive material can be obtained from the incident position of the light beam on the light quantity detector. Therefore, by adjusting the obtained irradiation position, highly accurate image recording can be performed.

【0065】また、光量検出器が光ビームを検出したと
きのドラムの位置から、感光材料に対する露光記録のタ
イミングを高精度に設定することができる。
Further, the timing of the exposure recording on the photosensitive material can be set with high accuracy from the position of the drum when the light quantity detector detects the light beam.

【0066】さらに、光ビームの光量と光源の温度との
関係を求めることができるので、例えば、所定光量のと
きの温度が所定範囲にない場合、当該光源が劣化してい
るものと判断することができる。
Further, since the relationship between the light amount of the light beam and the temperature of the light source can be obtained, for example, if the temperature at the predetermined light amount is not within the predetermined range, it is determined that the light source is deteriorated. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態である露光記録装置の側面図であ
る。
FIG. 1 is a side view of an exposure recording apparatus according to a first embodiment.

【図2】第1実施形態である露光記録装置の平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view of the exposure recording apparatus according to the first embodiment.

【図3】第1実施形態である露光記録装置の回路構成図
である。
FIG. 3 is a circuit configuration diagram of the exposure recording apparatus according to the first embodiment.

【図4】第1実施形態である露光記録装置の動作を説明
するフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart illustrating an operation of the exposure recording apparatus according to the first embodiment.

【図5】第1実施形態である露光記録装置の動作を説明
するフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart illustrating an operation of the exposure recording apparatus according to the first embodiment.

【図6】第2実施形態である露光記録装置の側面図であ
る。
FIG. 6 is a side view of an exposure recording apparatus according to a second embodiment.

【図7】第2実施形態である露光記録装置の平面図であ
る。
FIG. 7 is a plan view of an exposure recording apparatus according to a second embodiment.

【図8】第3実施形態である露光記録装置の側面図であ
る。
FIG. 8 is a side view of an exposure recording apparatus according to a third embodiment.

【図9】第3実施形態である露光記録装置の平面図であ
る。
FIG. 9 is a plan view of an exposure recording apparatus according to a third embodiment.

【図10】第3実施形態である露光記録装置における光
源の構成説明図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a configuration of a light source in an exposure recording apparatus according to a third embodiment.

【図11】レーザビームの光量分布と、それによる感光
材料の発色範囲との関係説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a relationship between a light amount distribution of a laser beam and a coloring range of a photosensitive material by the distribution.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、80、90…露光記録装置 12…感光材料 14…ドラム 18a〜18d、82a〜82d、92…露光ヘッド 22a〜22d、102…反射板 24a〜24d、1
00…1/4波長板 28…1/2波長板 38…偏光ビームス
プリッタ 46…光センサ 48…制御回路 74…温度センサ 76…温度調整素子 94…光源 L…レーザビーム LD…半導体レーザ
10, 80, 90 Exposure recording device 12 Photosensitive material 14 Drum 18a-18d, 82a-82d, 92 Exposure head 22a-22d, 102 Reflector 24a-24d, 1
00 1 / wavelength plate 28 1 / wavelength plate 38 polarizing beam splitter 46 optical sensor 48 control circuit 74 temperature sensor 76 temperature adjusting element 94 light source L laser beam LD semiconductor laser

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成12年3月16日(2000.3.1
6)
[Submission date] March 16, 2000 (200.3.1.1)
6)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0003[Correction target item name] 0003

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0003】このような露光記録装置に用いられる感光
材料としては、所定の発色閾値以上の光量からなるレー
ザビームが照射されることで画像が記録されるものがあ
る。この場合、レーザビームの光量分布は、図に示す
ように、一般的にガウス分布となっている。従って、レ
ーザビームの光量が変動すると発色範囲が変動するた
め、記録時における光量が一定となるようにレーザビー
ムを制御する必要がある。また、光量に応じた濃度で発
色する感光材料の場合においても、所望の濃度が得られ
るように光量を制御する必要がある。
As a photosensitive material used in such an exposure recording apparatus, there is a photosensitive material on which an image is recorded by irradiating a laser beam having a light amount equal to or more than a predetermined coloring threshold. In this case, the light amount distribution of the laser beam, as shown in FIG. 9, has a generally Gaussian distribution. Therefore, when the light amount of the laser beam fluctuates, the coloring range also fluctuates. Therefore, it is necessary to control the laser beam so that the light amount during recording becomes constant. Further, even in the case of a photosensitive material which develops a color at a density corresponding to the light quantity, it is necessary to control the light quantity so that a desired density can be obtained.

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0052[Correction target item name] 0052

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0053[Correction target item name] 0053

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0054[Correction target item name] 0054

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0055[Correction target item name] 0055

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0056[Correction target item name] 0056

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0056】次に、図および図に示す第実施形態
の露光記録装置90について説明する。なお、図は側
面図、図は平面図であり、第1実施形態の露光記録装
置10と同一の構成要素については同一の参照符号を付
し、その詳細な説明は省略する。
Next, an exposure recording apparatus 90 according to a second embodiment shown in FIGS. 6 and 7 will be described. FIG. 6 is a side view, and FIG. 7 is a plan view. The same components as those in the exposure recording apparatus 10 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【手続補正7】[Procedure amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0057[Correction target item name] 0057

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0057】この露光記録装置90では、感光材料12
に対して、単一の露光ヘッド92により画像の記録が行
われる。露光ヘッド92は、図に示すように、副走査
方向(矢印Y方向)に対して距離mだけ離間して2次元
的に配列された複数の半導体レーザLDからなる半導体
レーザ群を有した光源94を備える。
In the exposure recording apparatus 90, the photosensitive material 12
, An image is recorded by a single exposure head 92. As shown in FIG. 8 , the exposure head 92 has a light source having a semiconductor laser group including a plurality of semiconductor lasers LD two-dimensionally arranged at a distance m in the sub-scanning direction (arrow Y direction). 94 is provided.

【手続補正8】[Procedure amendment 8]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Correction target item name] Brief description of drawings

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1実施形態である露光記録装置の側面図であ
る。
FIG. 1 is a side view of an exposure recording apparatus according to a first embodiment.

【図2】第1実施形態である露光記録装置の平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view of the exposure recording apparatus according to the first embodiment.

【図3】第1実施形態である露光記録装置の回路構成図
である。
FIG. 3 is a circuit configuration diagram of the exposure recording apparatus according to the first embodiment.

【図4】第1実施形態である露光記録装置の動作を説明
するフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart illustrating an operation of the exposure recording apparatus according to the first embodiment.

【図5】第1実施形態である露光記録装置の動作を説明
するフローチャートである。
FIG. 5 is a flowchart illustrating an operation of the exposure recording apparatus according to the first embodiment.

【図6】第2実施形態である露光記録装置の側面図であ
る。
FIG. 6 is a side view of an exposure recording apparatus according to a second embodiment.

【図7】第2実施形態である露光記録装置の平面図であ
る。
FIG. 7 is a plan view of an exposure recording apparatus according to a second embodiment.

【図8】第実施形態である露光記録装置における光源
の構成説明図である。
FIG. 8 illustrates a light source in an exposure recording apparatus according to a second embodiment.
It is a block diagram of a.

【図9】レーザビームの光量分布と、それによる感光材
料の発色範囲との関係説明図である。
FIG. 9 shows a light amount distribution of a laser beam and a photosensitive material based on the distribution.
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a relationship between a coloring range and a color .

【手続補正9】[Procedure amendment 9]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】符号の説明[Correction target item name] Explanation of sign

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【符号の説明】 10、90…露光記録装置 12…感光材料 14…ドラム 18a〜18d、92…露光ヘッド 22a〜22d、102…反射板 24a〜24d、1
00…1/4波長板 28…1/2波長板 38…偏光ビームス
プリッタ 46…光センサ 48…制御回路 74…温度センサ 76…温度調整素子 94…光源 L…レーザビーム LD…半導体レーザ
[Reference Numerals] 10, 9 0 ... exposure recording apparatus 12 ... light-sensitive material 14 ... drum 18a to 18d, 9 2 ... exposure heads 22a to 22d, 102 ... reflecting plate 24 a to 24 d, 1
00 1 / wavelength plate 28 1 / wavelength plate 38 polarizing beam splitter 46 optical sensor 48 control circuit 74 temperature sensor 76 temperature adjusting element 94 light source L laser beam LD semiconductor laser

【手続補正10】[Procedure amendment 10]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図6[Correction target item name] Fig. 6

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図6】 FIG. 6

【手続補正11】[Procedure amendment 11]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図7[Correction target item name] Fig. 7

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図7】 FIG. 7

【手続補正12】[Procedure amendment 12]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図8[Correction target item name] Fig. 8

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図8】 FIG. 8

【手続補正13】[Procedure amendment 13]

【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing

【補正対象項目名】図9[Correction target item name] Fig. 9

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図9】 FIG. 9

【手続補正14】[Procedure amendment 14]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図10[Correction target item name] FIG.

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

【手続補正15】[Procedure amendment 15]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図11[Correction target item name] FIG.

【補正方法】削除[Correction method] Deleted

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ドラム外周面に装着された感光材料を画像
情報に応じて変調された光ビームにより走査して画像を
露光記録する露光記録装置において、 前記ドラム外周面の前記感光材料が装着されない部位に
設けられ、光源から出力された前記光ビームを反射する
反射手段と、 前記光源と前記反射手段との間に設けられ、前記光ビー
ムの偏光特性を変換する1/4波長板と、 前記反射手段によって反射され前記1/4波長板を透過
した前記光ビームの光量を検出する光量検出器と、 前記光源と前記1/4波長板との間に設けられ、前記光
源から出力された前記光ビームを前記ドラム外周面に導
く一方、前記反射手段により反射され、前記1/4波長
板を透過した前記光ビームを前記光量検出器に導く偏光
ビームスプリッタと、 を備え、前記光ビームの光量を前記光量検出手段により
検出して調整することを特徴とする露光記録装置。
1. An exposure recording apparatus for exposing and recording an image by scanning a photosensitive material mounted on an outer peripheral surface of a drum with a light beam modulated according to image information, wherein the photosensitive material on the outer peripheral surface of the drum is not mounted. A reflecting unit provided at a location and reflecting the light beam output from the light source; a quarter-wave plate provided between the light source and the reflecting unit and converting a polarization characteristic of the light beam; A light amount detector for detecting a light amount of the light beam reflected by the reflection means and transmitted through the 波長 wavelength plate; and a light amount detector provided between the light source and the 4 wavelength plate and output from the light source. A polarizing beam splitter that guides the light beam reflected by the reflecting means and transmitted through the 波長 wavelength plate to the light amount detector while guiding the light beam to the drum outer peripheral surface; Exposure recording apparatus characterized by adjusting by detecting the light quantity of the beam by said light quantity detecting means.
【請求項2】請求項1記載の装置において、 前記反射手段は、前記ドラムの外周面に配設される反射
板であることを特徴とする露光記録装置。
2. An exposure recording apparatus according to claim 1, wherein said reflection means is a reflection plate provided on an outer peripheral surface of said drum.
【請求項3】請求項1記載の装置において、 前記反射手段は、鏡面仕上げされた前記ドラムの外周面
からなることを特徴とする露光記録装置。
3. An exposure recording apparatus according to claim 1, wherein said reflection means comprises a mirror-finished outer peripheral surface of said drum.
【請求項4】請求項1記載の装置において、 前記反射手段は、前記1/4波長板に密着形成されるこ
とを特徴とする露光記録装置。
4. An exposure recording apparatus according to claim 1, wherein said reflection means is formed in close contact with said quarter-wave plate.
【請求項5】請求項1記載の装置において、 前記光源側から前記1/4波長板に入射する前記光ビー
ムは、直線偏光であり、前記1/4波長板の光学軸は、
前記直線偏光の偏光面に対し所定角度回転して設定され
ることを特徴とする露光記録装置。
5. The apparatus according to claim 1, wherein the light beam incident on the quarter-wave plate from the light source side is linearly polarized light, and the optical axis of the quarter-wave plate is:
An exposure recording apparatus, which is set by rotating the plane of polarization of the linearly polarized light by a predetermined angle.
【請求項6】請求項1記載の装置において、 前記光量検出器は、フォトダイオードであることを特徴
とする露光記録装置。
6. An exposure recording apparatus according to claim 1, wherein said light amount detector is a photodiode.
【請求項7】請求項1記載の装置において、 前記光量検出器は、前記光ビームを受光し、その光量お
よび受光範囲を検出するCCDセンサであることを特徴
とする露光記録装置。
7. The exposure recording apparatus according to claim 1, wherein the light quantity detector is a CCD sensor that receives the light beam, and detects a light quantity and a light receiving range of the light beam.
【請求項8】請求項1記載の装置において、 前記偏光ビームスプリッタは、キュービック型偏光ビー
ムスプリッタであり、前記光ビームの光軸に対し入射面
が垂直に配設されることを特徴とする露光記録装置。
8. An apparatus according to claim 1, wherein said polarization beam splitter is a cubic type polarization beam splitter, and an incident surface is disposed perpendicular to an optical axis of said light beam. Recording device.
【請求項9】請求項1記載の装置において、 前記光源と前記偏光ビームスプリッタとの間には、前記
光源から出力された前記光ビームの偏光方向を調整する
1/2波長板が配設されることを特徴とする露光記録装
置。
9. The apparatus according to claim 1, wherein a half-wave plate for adjusting a polarization direction of the light beam output from the light source is disposed between the light source and the polarization beam splitter. An exposure recording apparatus characterized in that:
【請求項10】請求項1記載の装置において、 前記光源は、複数の半導体レーザからなることを特徴と
する露光記録装置。
10. An apparatus according to claim 1, wherein said light source comprises a plurality of semiconductor lasers.
【請求項11】請求項1記載の装置において、 前記光量検出器が前記光ビームを検出した地点を基準と
して、前記感光材料に画像を記録するタイミング信号を
生成するタイミング信号生成手段を備えることを特徴と
する露光記録装置。
11. The apparatus according to claim 1, further comprising timing signal generating means for generating a timing signal for recording an image on the photosensitive material based on a point at which the light amount detector detects the light beam. Exposure recording device characterized by the following.
【請求項12】請求項1記載の装置において、 前記光源には、前記光量検出器により検出された前記光
ビームの光量を所定値としたときの前記光源の温度を検
出する温度検出器が配設されることを特徴とする露光記
録装置。
12. The apparatus according to claim 1, wherein the light source includes a temperature detector for detecting a temperature of the light source when a light amount of the light beam detected by the light amount detector is set to a predetermined value. An exposure recording apparatus, which is provided.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006116968A (en) * 2004-10-21 2006-05-11 Heidelberger Druckmas Ag Graphic drawing device capable of drawing graphic on recording material
JP2010185904A (en) * 2009-02-10 2010-08-26 Ricoh Co Ltd Optical scanner and image forming apparatus

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