JP2001228329A - Polarizing plate having antireflection film, method of manufacturing the same, and liquid crystal display device - Google Patents

Polarizing plate having antireflection film, method of manufacturing the same, and liquid crystal display device

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JP2001228329A
JP2001228329A JP2000038869A JP2000038869A JP2001228329A JP 2001228329 A JP2001228329 A JP 2001228329A JP 2000038869 A JP2000038869 A JP 2000038869A JP 2000038869 A JP2000038869 A JP 2000038869A JP 2001228329 A JP2001228329 A JP 2001228329A
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JP
Japan
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film
layer
polarizing plate
refractive index
polarizing
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Application number
JP2000038869A
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Japanese (ja)
Inventor
Ichiro Amimori
一郎 網盛
Kenichi Nakamura
謙一 中村
Hidetoshi Watabe
英俊 渡部
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polarizing plate having an antireflection film having good adhesion property and no foreign matter. SOLUTION: In the polarizing plate, at least one protective film of two protective films 21, 22 which protect both faces of a polarizing film 31 is a triacetylcellulose film layer as a transparent supporting body. The adhesion face of the triacetylcellulose film layer to the polarizing film is subjected to saponification treatment, and an antireflection film and a laminating film layer are applied on the face of the layer not subjected to the saponification treatment.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は反射防止膜を有する
偏光板と、それを用いた液晶表示装置、及び偏光板の製
造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polarizing plate having an antireflection film, a liquid crystal display using the same, and a method for manufacturing a polarizing plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明の偏光板を適用しうる液晶表示装
置の構成を図2に示す。一般的な液晶表示装置において
は最裏面にエッジライト方式のバックライト11を配置
し、裏面より順にバックライトの光を表面に出射させる
導光板12、この光の輝度を均一化させるための散乱シ
ート13、更に散乱シートにより均一化された光を所定
方向に集光する機能、または特定の偏光を選択的に透
過、反射する機能を有する1枚または複数の調光シート
14のように配置され、これらのフィルムを通過した光
が1対の偏光板15、16に挟持されてなる液晶セル1
7に入射する。18は光源の冷陰極蛍光管、19は反射
シートである。
2. Description of the Related Art FIG. 2 shows the structure of a liquid crystal display device to which the polarizing plate of the present invention can be applied. In a general liquid crystal display device, an edge-light type backlight 11 is disposed on the rearmost surface, a light guide plate 12 for emitting light of the backlight to the surface in order from the rear surface, and a scattering sheet for equalizing the brightness of the light. 13, further arranged as one or a plurality of light control sheets 14 having a function of condensing the light uniformized by the scattering sheet in a predetermined direction, or a function of selectively transmitting and reflecting specific polarized light, A liquid crystal cell 1 in which light passing through these films is sandwiched between a pair of polarizing plates 15 and 16
7 is incident. Reference numeral 18 denotes a cold cathode fluorescent tube as a light source, and 19 denotes a reflection sheet.

【0003】反射防止層は一般に、CRT、PDPやL
CDのような画像表示装置において、外光の反射による
コントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光
学干渉の原理を用いて反射率を低減するディスプレイの
最表面に配置される。すなわち、図1において16の表
示側に反射防止層が設けられている。
[0003] The antireflection layer is generally made of CRT, PDP, L
In an image display device such as a CD, in order to prevent a decrease in contrast or reflection of an image due to reflection of external light, the image display device is disposed on the outermost surface of a display that reduces the reflectance using the principle of optical interference. That is, the antireflection layer is provided on the 16 display side in FIG.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】偏光板の製造工程にお
いては、一般にポリビニルアルコールからなる偏光層の
両側を保護する目的でトリアセチルセルロースを貼合し
ている。このトリアセチルセルロースは偏光層との密着
の目的から水酸化ナトリウム水溶液のようなアルカリ中
でケン化処理される。
In the manufacturing process of a polarizing plate, triacetyl cellulose is generally bonded for the purpose of protecting both sides of a polarizing layer made of polyvinyl alcohol. This triacetyl cellulose is saponified in an alkali such as an aqueous sodium hydroxide solution for the purpose of adhesion to the polarizing layer.

【0005】ケン化処理は、トリアセチルセルロース上
に反射防止層や耐傷性付与のためのハードコート層等を
塗布する前になされる場合と、トリアセチルセルロース
上に下塗り層またはハードコート層を形成してからなさ
れる場合がある。前者は塗布面側のトリアセチルセルロ
ースもケン化されることにより表面に水溶性セルロース
皮膜が形成され、塗膜との密着性を著しく低下させる。
この問題を解決する方法として特開平10−26428
4号ではエポキシ基のような官能基を有する化合物をア
クリルからなるハードコート層中に添加しているが、こ
れではハードコート層の強度低下、塗布前の異物付着に
よる欠陥の問題がある。後者の場合、密着性低下のよう
な問題はないが、塗布−ケン化−塗布(または真空成
膜)のように煩雑な工程となるため好ましくない。本発
明の課題は、簡便な工程によって密着性がよく、異物の
ない反射防止膜を有する偏光板を製造することである。
The saponification treatment is carried out before coating an antireflection layer or a hard coat layer for imparting scratch resistance on triacetyl cellulose, or when forming an undercoat layer or a hard coat layer on triacetyl cellulose. It may be done after that. In the former, triacetylcellulose on the application surface side is also saponified, so that a water-soluble cellulose film is formed on the surface, and adhesion to the coating film is significantly reduced.
As a method for solving this problem, Japanese Patent Laid-Open No. 10-26428
In No. 4, a compound having a functional group such as an epoxy group is added to a hard coat layer made of acryl. However, there are problems such as a decrease in strength of the hard coat layer and a defect due to adhesion of foreign matter before coating. In the latter case, there is no problem such as a decrease in adhesion, but it is not preferable because it involves a complicated process such as coating-saponification-coating (or vacuum film formation). An object of the present invention is to manufacture a polarizing plate having an antireflection film having good adhesion and no foreign matter by a simple process.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下の手
段によって達成された。 (1)偏光フィルムの両側を保護する2枚の保護フィル
ムのうち、少なくとも一方の保護フィルムが透明支持体
であるトリアセチルセルロースフィルム層であり、該ト
リアセチルセルロースフィルム層の偏光フィルムへの密
着面がケン化処理面であり、ケン化されていない側に反
射防止膜とラミネートフィルム層とを有することを特徴
とする反射防止膜を有する偏光板。 (2)トリアセチルセルロースフィルム層とラミネート
フィルム層との間に0.5乃至10μmの粒子を含有す
る防眩層を有することを特徴とする(1)項記載の反射
防止膜を有する偏光板。 (3)該ラミネートフィルム層が除去可能なフィルムで
あることを特徴とする(1)又は(2)項に記載の反射
防止膜を有する偏光板。 (4)(1)、(2)又は(3)項の偏光板からラミネ
ートフィルム層を除去した偏光板を、液晶セルの両側に
配置された2枚の偏光板のうち、表示側の偏光板として
用いることを特徴とする液晶表示装置。 (5)反射防止膜を有する偏光板が、トリアセチルセル
ロースフィルムの一方の面上に反射防止膜を形成する工
程、反射防止膜上にラミネートフィルムを貼り合わせ光
学フィルムを製造する工程、トリアセチルセルロースフ
ィルムの他方の面をケン化しケン化された光学フィルム
を製造する工程、偏光フィルムの両側を保護する2枚の
保護フィルムの少なくとも一方にケン化された光学フィ
ルムを用いて偏光板を製造する工程を、この順に行うこ
とを特徴とする反射防止膜を有する偏光板の製造方法。
The object of the present invention has been attained by the following means. (1) At least one of the two protective films for protecting both sides of the polarizing film is a triacetylcellulose film layer serving as a transparent support, and the triacetylcellulose film layer is in close contact with the polarizing film. Is a saponified surface, and has an antireflection film and a laminate film layer on the non-saponified side. (2) A polarizing plate having an antireflection film according to (1), further comprising an antiglare layer containing particles of 0.5 to 10 μm between the triacetyl cellulose film layer and the laminate film layer. (3) The polarizing plate having the antireflection film according to (1) or (2), wherein the laminate film layer is a removable film. (4) The polarizing plate obtained by removing the laminate film layer from the polarizing plate according to (1), (2) or (3), the display-side polarizing plate of the two polarizing plates arranged on both sides of the liquid crystal cell. A liquid crystal display device characterized by being used as a liquid crystal display. (5) a step of forming an antireflection film on one surface of a triacetylcellulose film using a polarizing plate having an antireflection film, a step of laminating a laminate film on the antireflection film to produce an optical film, Manufacturing a saponified optical film by saponifying the other surface of the film, and manufacturing a polarizing plate using the saponified optical film on at least one of two protective films for protecting both sides of the polarizing film Are carried out in this order, thereby producing a polarizing plate having an antireflection film.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】図1(a)〜(c)は、本発明に
用いられる反射防止膜の層構成を示す断面模式図の例で
ある。(a)に示す反射防止膜は、透明支持体21、低
屈折率層25の順序の層構成を有する。(b)に示す反
射防止膜は透明支持体21、防眩層22、低屈折率層2
5の順序の層構成を有する。(c)に示す反射防止膜は
透明支持体21、防眩層22、中屈折率層23、高屈折
率層24、低屈折率層25の順序の層構成を有する。防
眩層は防眩性を付与するための粒子26を含有し、この
粒子が表面に凹凸を形成することにより防眩性を与え
る。低屈折率層には熱または電離放射線により架橋する
含フッ素化合物が用いられる。中屈折率層、高屈折率
層、低屈折率層の屈折率と膜厚はそれぞれ下記式を満足
することが好ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIGS. 1A to 1C are examples of schematic cross-sectional views showing a layer structure of an antireflection film used in the present invention. The antireflection film shown in (a) has a layer structure in the order of the transparent support 21 and the low refractive index layer 25. The anti-reflection film shown in (b) comprises a transparent support 21, an antiglare layer 22, and a low refractive index layer 2.
It has a layer configuration in the order of 5. The antireflection film shown in (c) has a layer structure in the order of a transparent support 21, an antiglare layer 22, a medium refractive index layer 23, a high refractive index layer 24, and a low refractive index layer 25. The anti-glare layer contains particles 26 for imparting anti-glare properties, and the particles provide the anti-glare properties by forming irregularities on the surface. For the low refractive index layer, a fluorine-containing compound which is crosslinked by heat or ionizing radiation is used. It is preferable that the refractive index and the film thickness of the medium refractive index layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer each satisfy the following expressions.

【0008】 第1層 mλ/4×0.7<n11<mλ/4×1.3 (I)First layer mλ / 4 × 0.7 <n 1 d 1 <mλ / 4 × 1.3 (I)

【0009】式中、mは正の整数(一般に1、2または
3)であり、n1は中屈折率層の屈折率であり、そし
て、d1は中屈折率層の膜厚(nm)である。λは使用
光線の波長である。
In the formula, m is a positive integer (generally 1, 2 or 3), n 1 is the refractive index of the medium refractive index layer, and d 1 is the thickness (nm) of the medium refractive index layer. It is. λ is the wavelength of the light beam used.

【0010】 第2層 hλ/4×0.7<n22<hλ/4×1.3 (II)Second layer hλ / 4 × 0.7 <n 2 d 2 <hλ / 4 × 1.3 (II)

【0011】式中、hは正の整数(一般に1、2または
3)であり、n2は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、d2は高屈折率層の膜厚(nm)である。λは使用
光線の波長である。
Where h is a positive integer (generally 1, 2 or 3), n 2 is the refractive index of the high refractive index layer, and d 2 is the thickness (nm) of the high refractive index layer. It is. λ is the wavelength of the light beam used.

【0012】 第3層 kλ/4×0.7<n33<kλ/4×1.3 (III)Third layer kλ / 4 × 0.7 <n 3 d 3 <kλ / 4 × 1.3 (III)

【0013】式中、kは正の奇数(一般に1)であり、
3は低屈折率層の屈折率であり、そして、d3は低屈折
率層の膜厚(nm)である。λは使用光線の波長であ
る。
Where k is a positive odd number (generally 1);
n 3 is the refractive index of the low refractive index layer, and d 3 is the thickness (nm) of the low refractive index layer. λ is the wavelength of the light beam used.

【0014】図3は、反射防止膜を有する偏光板の層構
成を示す断面模式図の例である。反射防止膜は透明支持
体21、防眩層22、低屈折率層25の順序の層構成を
有し、透明支持体21を有する反射防止膜と反対側に偏
光層31が隣接してなり、偏光層の反射防止膜と反対側
に透明支持体21が貼合されている。低屈折率層25の
上には図示されていないが、ラミネートフィルム層が剥
離可能に形成されている。
FIG. 3 is an example of a schematic sectional view showing a layer structure of a polarizing plate having an antireflection film. The anti-reflection film has a layer structure in the order of the transparent support 21, the anti-glare layer 22, and the low refractive index layer 25, and the polarizing layer 31 is adjacent to the anti-reflection film having the transparent support 21 on the opposite side, A transparent support 21 is attached to the side of the polarizing layer opposite to the antireflection film. Although not shown, a laminate film layer is formed on the low refractive index layer 25 so as to be peelable.

【0015】反射防止膜に用いる透明支持体として、ま
たLCD用偏光板の偏光層を保護する保護膜としてはト
リアセチルセルロースが用いられる。トリアセチルセル
ロースの光透過率は、80%以上であることが好まし
く、86%以上であることが更に好ましい。透明支持体
は正面から見たときに光学的等方性を有するものが好ま
しい。透明支持体のヘイズは、2.0%以下であること
が好ましく、1.0%以下であることが更に好ましい。
Triacetyl cellulose is used as a transparent support for the antireflection film and as a protective film for protecting the polarizing layer of the polarizing plate for LCD. The light transmittance of triacetyl cellulose is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more. The transparent support preferably has optical isotropy when viewed from the front. The haze of the transparent support is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less.

【0016】透明支持体上には、隣接する層との密着性
を付与するために下塗り層を設けてもよい。このような
下塗り層を形成する素材は特に限定されないが、トリア
セチルセルロース上においてはゼラチンやポリ(メタ)
アクリレート樹脂及びその置換体、スチレン−ブタジエ
ン樹脂等が用いられる。また、化学処理、機械処理、コ
ロナ処理、グロー放電処理等の表面処理を行ってもよ
い。
An undercoat layer may be provided on the transparent support in order to impart adhesion to an adjacent layer. The material for forming such an undercoat layer is not particularly limited, but gelatin or poly (meth) can be used on triacetyl cellulose.
Acrylate resins and their substitutes, styrene-butadiene resins and the like are used. Further, a surface treatment such as a chemical treatment, a mechanical treatment, a corona treatment, and a glow discharge treatment may be performed.

【0017】透明支持体上には耐傷性付与の目的でハー
ドコート層を設けることが好ましい。ハードコート層に
用いる化合物は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主
鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭
化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに
好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好
ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、
エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが
好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るため
には、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを
用いることが好ましい。
It is preferable to provide a hard coat layer on the transparent support for the purpose of imparting scratch resistance. The compound used for the hard coat layer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. Polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain,
It is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups.

【0018】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸と
のエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペン
タエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニル
ベンゼン及びその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼ
ン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエス
テル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルス
ルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド
(例、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルア
ミドが含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリ
マーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合
成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を
有するモノマーは、塗布後電離放射線または熱による重
合反応により硬化させる必要がある。
Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate) Pentaerythritol tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta ( (Meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and the like Conductors (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide), and methacryl Amides are included. The polymer having a polyether as a main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. These monomers having an ethylenically unsaturated group need to be cured by a polymerization reaction by ionizing radiation or heat after coating.

【0019】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラ
メトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造
を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロック
イソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋
性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において
架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した
結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基を
有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要が
ある。
Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by a reaction of a crosslinkable group.
Examples of the crosslinkable functional group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxyl group, a methylol group, and an active methylene group. Vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine,
Metal alkoxides such as etherified methylols, esters and urethanes, and tetramethoxysilane can also be used as monomers for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of a decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. Further, in the present invention, the cross-linking group is not limited to the above-mentioned compound, but may be one which shows reactivity as a result of decomposition of the above-mentioned functional group. These compounds having a cross-linking group need to be cross-linked by heat or the like after coating.

【0020】防眩層に用いるバインダは特に限定されな
いが、反射防止性を改良するためには屈折率が1.57
乃至2.00であることが好ましい。加工時にそれ自体
に傷がつきにくいようにするためには、ハードコート性
を有することが好ましい。
The binder used for the antiglare layer is not particularly limited, but in order to improve the antireflection property, the binder has a refractive index of 1.57.
To 2.00. It is preferable to have a hard coat property in order to make it difficult to damage itself during processing.

【0021】防眩層にハードコート性を付与するために
は、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有す
るポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖
として有するポリマーであることが更に好ましい。バイ
ンダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭
化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽
和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋
しているバインダーポリマーを得るためには、二以上の
エチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好
ましい。
In order to impart a hard coat property to the antiglare layer, a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain is preferable, and a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is more preferable. . The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups.

【0022】防眩層のバインダを高屈折率化するため
に、屈折率が1.57以上、好ましくは1.65以上の
高屈折率モノマーを用いることができる。高屈折率モノ
マーの例には、ビス(4−メタクリロイルチオフェニ
ル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルス
ルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4’−メトキ
シフェニルチオエーテル等が含まれる。ポリエーテルを
主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の
開環重合反応により合成することが好ましい。これらの
エチレン性不飽和基を有するモノマーは、塗布後電離放
射線または熱による重合反応により硬化させる必要があ
る。
In order to increase the refractive index of the binder of the antiglare layer, a high refractive index monomer having a refractive index of 1.57 or more, preferably 1.65 or more can be used. Examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinylnaphthalene, vinylphenylsulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenylthioether and the like. The polymer having a polyether as a main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. These monomers having an ethylenically unsaturated group need to be cured by a polymerization reaction by ionizing radiation or heat after coating.

【0023】また防眩層のバインダを高屈折率化するた
めに、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウ
ム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくと
も一つの酸化物からなる粒径100nm以下、好ましく
は50nm以下の微粒子を含有することが好ましい。微
粒子の例としては、TiO2、ZrO2、Al23、In
23、ZnO、SnO2、Sb23、ITO等が挙げら
れる。無機微粒子の添加量は、ハードコート層の全質量
の10乃至90質量%であることが好ましく、20乃至
80質量%であると更に好ましく、30乃至60質量%
が特に好ましい。
In order to increase the refractive index of the binder of the anti-glare layer, the particle size of at least one oxide selected from the group consisting of at least one oxide selected from titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin and antimony is preferably 100 nm or less, preferably It is preferable to contain fine particles of 50 nm or less. Examples of the fine particles include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , In
Examples include 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , and ITO. The addition amount of the inorganic fine particles is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and more preferably 30 to 60% by mass of the total mass of the hard coat layer.
Is particularly preferred.

【0024】防眩層には、防眩性付与とハードコート層
の干渉による反射率悪化防止、色むら防止の目的で、散
乱性粒子を用いてもよい。散乱性粒子は平均粒径0.0
1乃至1.0μm、屈折率が1.35乃至1.65また
は2.00乃至3.00であって、バインダの屈折率と
の差が0.03以上である。この散乱性粒子を添加する
ことによって防眩層中に内部散乱が生じ、防眩層全体と
しては屈折率が一つの値で定義されない屈折率不均一層
となる。
In the antiglare layer, scattering particles may be used for the purpose of imparting antiglare properties, preventing deterioration in reflectance due to interference of the hard coat layer, and preventing color unevenness. The scattering particles have an average particle size of 0.0
1 to 1.0 μm, the refractive index is 1.35 to 1.65 or 2.00 to 3.00, and the difference from the refractive index of the binder is 0.03 or more. By adding these scattering particles, internal scattering occurs in the antiglare layer, and the entire antiglare layer becomes a non-uniform refractive index layer whose refractive index is not defined by one value.

【0025】防眩層に防眩性を付与するためには、例え
ば特開昭61−209154号に記載されている透明支
持体上にバインダに粒子を添加した凹凸層を塗布したも
のや、特開平6−16851号に記載されているあらか
じめ凹凸面を形成したフィルムを透明支持体上の塗布層
に貼り合わせて凹凸を転写させたもの、または透明支持
体に直接またはハードコート層のごとき他の層を介して
エンボス加工により凹凸を形成したものが挙げられる。
中でもバインダに粒子を添加して凹凸を形成する方法
は、簡便かつ安定に製造できる点で好ましい。
In order to impart anti-glare properties to the anti-glare layer, for example, a transparent support described in JP-A-61-209154, which is coated with a bumpy layer obtained by adding particles to a binder, or a special support, may be used. No. 6,168,851, in which a film on which an uneven surface is previously formed is bonded to a coating layer on a transparent support to transfer the unevenness, or another film such as a hard coat layer directly or on the transparent support. One in which unevenness is formed by embossing via a layer is exemplified.
Above all, a method of forming particles by adding particles to a binder is preferable in that it can be manufactured easily and stably.

【0026】防眩性を付与する粒子(防眩性粒子)とし
ては、防眩層の表面に凹凸が形成されれば特に限定され
ないが、内部散乱をコントロールするために粒子とバイ
ンダとの屈折率差は0.05未満であることが好まし
く、0.02未満であることがより好ましい。 また、
防眩層の表面に有効に凹凸を形成するために平均粒径が
0.5乃至10μmであることが好ましく、1乃至6μ
mであることがより好ましい。粒子の例としてはポリメ
チルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデ
ン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹
脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン
樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラ
ミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等が挙げられる。粒子
は水及び有機溶剤に不溶のものが好ましい。防眩層に添
加する粒子は、凹凸をコントロールするために2種類以
上の粒子を組み合わせて用いても構わない。
The particles imparting antiglare properties (antiglare particles) are not particularly limited as long as irregularities are formed on the surface of the antiglare layer, but in order to control internal scattering, the refractive index between the particles and the binder is controlled. Preferably, the difference is less than 0.05, more preferably less than 0.02. Also,
In order to effectively form irregularities on the surface of the antiglare layer, the average particle size is preferably 0.5 to 10 μm, and preferably 1 to 6 μm.
m is more preferable. Examples of particles include polymethyl methacrylate resin, fluorine resin, vinylidene fluoride resin, silicone resin, epoxy resin, nylon resin, polystyrene resin, phenol resin, polyurethane resin, crosslinked acrylic resin, crosslinked polystyrene resin, melamine resin, benzoguanamine resin, etc. Is mentioned. The particles are preferably insoluble in water and organic solvents. The particles to be added to the anti-glare layer may be used in combination of two or more kinds of particles for controlling unevenness.

【0027】防眩性粒子は、防眩層を形成するバインダ
との屈折率差が0.03未満であれば、LCDの黒表示
において散乱光によるコントラスト低下、すなわち白っ
ぽく見えることを防ぐことができる。屈折率差0.03
以上の場合または前記散乱性粒子を使用した場合は、白
味は悪化するが高精細LCDにおいて表面凹凸のレンズ
効果による画素の拡大が引き起こすギラツキを防止する
ことができる。従って、防眩性粒子の屈折率設計や前記
散乱性粒子の使用は、用いられるLCDに必要な機能に
よって使い分けることが望ましい。
When the anti-glare particles have a refractive index difference from the binder forming the anti-glare layer of less than 0.03, it is possible to prevent a decrease in contrast due to scattered light, that is, a whitish appearance in a black display of an LCD. . Refractive index difference 0.03
In the above case or when the scattering particles are used, the whiteness is deteriorated, but it is possible to prevent glare caused by the enlargement of pixels due to the lens effect of the surface unevenness in the high definition LCD. Therefore, it is desirable that the refractive index design of the antiglare particles and the use of the scattering particles are properly used depending on the functions required for the LCD used.

【0028】低屈折率層に用いる化合物としては特に限
定されないが、屈折率が1.38乃至1.49の含フッ
素化合物が好ましく、防汚性及び耐傷性の観点から動摩
擦係数0.03乃至0.15、水に対する接触角90乃
至120°の熱または電離放射線により架橋する含フッ
素化合物がより好ましい。塗布性や膜硬度等を調節する
ために、他の化合物と併用してもよい。架橋性含フッ素
化合物としては、含フッ素モノマーや架橋性含フッ素ポ
リマーが挙げられるが、塗布性の観点から架橋性含フッ
素ポリマーが好ましい。
The compound used for the low refractive index layer is not particularly limited, but is preferably a fluorine-containing compound having a refractive index of 1.38 to 1.49, and has a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0 from the viewpoints of stain resistance and scratch resistance. 15. A fluorine-containing compound which is crosslinked by heat or ionizing radiation having a contact angle of 90 to 120 ° with water is more preferable. It may be used in combination with other compounds in order to adjust coatability, film hardness and the like. Examples of the crosslinkable fluorine-containing compound include a fluorine-containing monomer and a crosslinkable fluorine-containing polymer, and a crosslinkable fluorine-containing polymer is preferable from the viewpoint of applicability.

【0029】架橋性の含フッ素ポリマーとしてはパーフ
ルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデ
カフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエト
キシシラン)等の他、含フッ素モノマーと架橋性基付与
のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が
挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、
例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレ
ン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキ
ソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類(例えば商品名:ビスコ
ート6FM(大阪有機化学製)や商品名:M−2020
(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエ
ーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとし
てはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらか
じめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマ
ーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、
スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー
(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アク
リレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、
アリルアクリレート等)が挙げられる。後者は共重合の
後、架橋構造を導入できることが特開平10−2538
8号及び特開平10−147739号に知られている。
Examples of the crosslinkable fluoropolymer include perfluoroalkyl group-containing silane compounds (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane) and the like, and a fluorine-containing monomer and a crosslinkable group. A fluorinated copolymer having a monomer for application as a constitutional unit is exemplified. Specific examples of the fluorine-containing monomer unit,
For example, a portion of fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), (meth) acrylic acid or Perfluorinated alkyl ester derivatives (for example, trade name: Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) or trade name: M-2020)
(Manufactured by Daikin)) or fully or partially fluorinated vinyl ethers. As a monomer for providing a crosslinkable group, in addition to a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in advance in the molecule, such as glycidyl methacrylate, a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group,
(Meth) acrylate monomers having a sulfonic acid group or the like (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate,
Allyl acrylate, etc.). The latter can introduce a crosslinked structure after copolymerization.
No. 8 and JP-A-10-147739.

【0030】また上記含フッ素モノマーを構成単位とす
るポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマ
ーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマー単
位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレ
ン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−
エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチ
ル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレ
ン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエ
ン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチ
ルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリル
アミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シ
クロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド
類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることができる。
In addition to the polymer having the above-mentioned fluorine-containing monomer as a constitutional unit, a copolymer with a monomer containing no fluorine atom may be used. There is no particular limitation on the monomer units that can be used in combination. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylates (methyl acrylate,
Methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2-
Ethylhexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether) And the like, vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, acrylonitrile derivatives and the like.

【0031】反射防止膜の各層は、ディップコート法、
エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエ
クストルージョンコート法(米国特許2681294号
明細書)により、塗布により形成することができる。二
以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法につ
いては、米国特許2761791号、同2941898
号、同3508947号、同3526528号の各明細
書及び原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉
書店(1973)に記載がある。
Each layer of the antireflection film is formed by a dip coating method,
It can be formed by coating by an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or an extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294). Two or more layers may be applied simultaneously. The method of simultaneous coating is described in U.S. Pat. Nos. 2,761,791 and 2,918,898.
Nos. 3,508,947 and 3,526,528, and in Yuji Harazaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).

【0032】本発明におけるラミネート工程は、ポリエ
チレンやポリエチレンテレフタレートのような市販のラ
ミネートフィルムをラミネータを用いて反射防止層側に
貼り合わせてなる。図4は、このラミネートの工程の説
明図であり、41はラミネートフィルム、42は反射防
止層、43は透明支持体、44はラミネートロールを示
す。ラミネートフィルムの反射防止層との接合面には粘
着剤を塗布してもよい。またラミネートロール44は加
熱可能なヒートロールでもよい。後述のケン化工程にお
いてラミネートフィルムと反射防止層との間にアルカリ
水溶液が浸入してはならないため、比較的高い密着力を
必要とする。その目的でラミネートフィルムには粘着剤
を用いるのが好ましい。反射防止層へのラミネートは、
既に製品表面の保護の目的で用いられているもので構わ
ない。
The laminating step in the present invention comprises laminating a commercially available laminated film such as polyethylene or polyethylene terephthalate on the antireflection layer side using a laminator. FIG. 4 is an explanatory view of the laminating process, in which 41 is a laminated film, 42 is an antireflection layer, 43 is a transparent support, and 44 is a laminating roll. An adhesive may be applied to the bonding surface of the laminate film with the antireflection layer. The laminating roll 44 may be a heat roll that can be heated. In the saponification process described later, an alkaline aqueous solution must not enter between the laminate film and the antireflection layer, and therefore requires a relatively high adhesion. For that purpose, it is preferable to use an adhesive for the laminate film. Lamination to the anti-reflection layer,
What is already used for the purpose of protecting the product surface may be used.

【0033】ケン化工程はラミネートされた反射防止膜
を有するトリアセチルセルロースを水酸化ナトリウムの
ようなアルカリ液に浸漬し、次いで硫酸のような酸に浸
漬して中和、さらに水または洗浄用の界面活性剤等を含
む水溶液中で洗浄した後、乾燥する工程によってなる。
ラミネートされていない面がアルカリ液によってケン化
されれば、ケン化工程は必ずしもこの順序でなくてもよ
い。
In the saponification step, triacetyl cellulose having a laminated antireflection film is immersed in an alkali solution such as sodium hydroxide, and then immersed in an acid such as sulfuric acid to neutralize the solution, and further to water or washing. After washing in an aqueous solution containing a surfactant and the like, drying is performed.
If the unlaminated surface is saponified with an alkali solution, the saponification step does not necessarily have to be performed in this order.

【0034】ケン化されたトリアセチルセルロースを巻
き取る際、ラミネートフィルムを回収しても良いが、偏
光板加工後、製品では再度反射防止膜にラミネート処理
するため、そのままラミネートフィルムを回収すること
なく偏光板加工を行ってもよい。
When winding the saponified triacetyl cellulose, the laminated film may be collected. However, after processing the polarizing plate, the product is again laminated on the antireflection film. Polarizing plate processing may be performed.

【0035】本発明の偏光板における各層の厚さは特に
制限するものではないが、反射防止膜の厚さは100n
m程度である。具体的には透明支持体の厚さは好ましく
は10〜500μm、より好ましくは50〜200μm
である。偏光層の厚さは好ましくは1.0〜100μ
m、より好ましくは5.0〜50μmである。ハードコ
ート層の厚さは好ましくは0.1〜20.0μm、より
好ましくは1.0〜10.0μmである。防眩層の厚さ
は好ましくは0.1〜20.0μm、より好ましくは
0.5〜10.0μm、特に好ましくは1.0〜5.0
μmである。またラミネートフィルム層の厚さは好まし
くは2〜100μmである。以下、本発明を詳細に説明
するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
Although the thickness of each layer in the polarizing plate of the present invention is not particularly limited, the thickness of the antireflection film is 100 n.
m. Specifically, the thickness of the transparent support is preferably 10 to 500 μm, more preferably 50 to 200 μm.
It is. The thickness of the polarizing layer is preferably 1.0 to 100 μm.
m, more preferably 5.0 to 50 μm. The thickness of the hard coat layer is preferably from 0.1 to 20.0 μm, more preferably from 1.0 to 10.0 μm. The thickness of the antiglare layer is preferably 0.1 to 20.0 μm, more preferably 0.5 to 10.0 μm, and particularly preferably 1.0 to 5.0.
μm. The thickness of the laminate film layer is preferably 2 to 100 μm. EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0036】[0036]

【実施例】(ハードコート層用塗布液Aの調製)ジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物(商品名:DPH
A、日本化薬(株)製)256.5gを、イソプロパノ
ール78.8g、メチルイソブチルケトン157.2
g、メタノール102.1gの混合溶媒に溶解した。得
られた溶液に、光重合開始剤(商品名:イルガキュア9
07、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)
5.4gを加えた。これを撹拌、溶解してハードコート
層用塗布液Aを調製した。この溶液を塗布、紫外線硬化
して得られた塗膜の屈折率は1.53であった。
EXAMPLES (Preparation of Coating Solution A for Hard Coat Layer) A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: DPH)
A, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (256.5 g), isopropanol (78.8 g), methyl isobutyl ketone (157.2)
g and methanol in a mixed solvent of 102.1 g. A photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 9) was added to the obtained solution.
07, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
5.4 g were added. This was stirred and dissolved to prepare a coating solution A for a hard coat layer. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light was 1.53.

【0037】(ハードコート層用塗布液Bの調製)UV
架橋性ハードコート材料(商品名:KZ−7874、J
SR(株)製)をイソプロパノール673.3g、メチ
ルイソブチルケトン146.7gの混合溶媒に加えた。
これを撹拌した後、孔径1μmのポリプロピレン製フィ
ルターでろ過し、さらに平均粒径5.0μの架橋アクリ
ル粒子(商品名:MX−500H、綜研化学(株)製)
5.0gおよび平均粒径3.0μの架橋アクリル粒子
(商品名:MX−300H、綜研化学(株)製)2.5
gを添加、攪拌してハードコート層用塗布液Bを調製し
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は1.51であった。
(Preparation of Coating Solution B for Hard Coat Layer) UV
Crosslinkable hard coat material (trade name: KZ-7874, J
SR Co., Ltd.) was added to a mixed solvent of 673.3 g of isopropanol and 146.7 g of methyl isobutyl ketone.
After stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm, and further crosslinked acrylic particles having an average particle size of 5.0 μm (trade name: MX-500H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
Crosslinked acrylic particles having a particle size of 5.0 g and an average particle size of 3.0 μm (trade name: MX-300H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 2.5
g was added and stirred to prepare a coating solution B for a hard coat layer. The coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light had a refractive index of 1.51.

【0038】(ハードコート層用塗布液Cの調製)ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日
本化薬(株)製)125g、ビス(4−メタクリロイル
チオフェニル)スルフィド(商品名:MPSMA、住友
精化(株)製)125gを、439gのメチルエチルケ
トン/シクロヘキサノン=50/50質量%の混合溶媒
に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(イルガキ
ュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)
製)5.0gおよび光増感剤(商品名:カヤキュアーD
ETX、日本化薬(株)製)3.0gを49gのメチル
エチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗
布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.60で
あった。さらにこの溶液に平均粒径2μmの架橋ポリス
チレン粒子(商品名:SX−200H、綜研化学(株)
製)10gを添加して、高速ディスパにて5000mi
-1で1時間攪拌、分散した後、孔径30μmのポリプ
ロピレン製フィルターでろ過して防眩層の塗布液を調製
した。
(Preparation of Coating Solution C for Hard Coat Layer) 125 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide ( 125 g of trade name: MPSMA, manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.) was dissolved in 439 g of a mixed solvent of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 50/50% by mass. A photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added to the obtained solution.
5.0 g and a photosensitizer (trade name: Kayacure D)
A solution prepared by dissolving 3.0 g of ETX (produced by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in 49 g of methyl ethyl ketone was added. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet light was 1.60. Further, crosslinked polystyrene particles having an average particle size of 2 μm (trade name: SX-200H, Soken Chemical Co., Ltd.)
10g) and 5000mi at high speed disperser
After stirring and dispersing at n −1 for 1 hour, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for the antiglare layer.

【0039】(ハードコート層用塗布液Dの調製)シク
ロヘキサノン104.1g、メチルエチルケトン61.
3gの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しながら酸化ジ
ルコニア分散物含有ハードコート塗布液(商品名:KZ
−7886A、JSR(株)製)217.0g、を添加
した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は1.61であった。さらにこの溶液に平均粒径
2μmの架橋ポリスチレン粒子(商品名:SX−200
H、綜研化学(株)製)5gを添加して、高速ディスパ
にて5000min -1で1時間攪拌、分散した後、孔径
30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハー
ドコート層用塗布液Cを調製した。 (低屈折率層用塗布液Aの調製)屈折率1.46の熱架
橋性含フッ素ポリマー(商品名:JN−7221、JS
R(株)製)200gにメチルイソブチルケトンを20
0g添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フ
ィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Aを調製し
た。 (低屈折率層用塗布液Bの調製)屈折率1.40の熱架
橋性含フッ素ポリマー(商品名:JN−7227、JS
R(株)製)500gにメチルエチルケトンを100g
添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィル
ターでろ過して、低屈折率層用塗布液Bを調製した。
(Preparation of Coating Solution D for Hard Coat Layer)
104.1 g of rohexanone, methyl ethyl ketone
While stirring with 3 g of the mixed solvent using an air
Hard coat coating solution containing luconia dispersion (trade name: KZ
−7886A, manufactured by JSR Corporation) 217.0 g.
did. This solution is coated and cured by UV curing.
The refractive index was 1.61. In addition, the average particle size
2 μm crosslinked polystyrene particles (trade name: SX-200)
H, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
5000min at -1After stirring and dispersing for 1 hour at
Filter through a 30 μm polypropylene filter
A coating solution C for a docoat layer was prepared. (Preparation of Coating Solution A for Low Refractive Index Layer) Heating with Refractive Index 1.46
Bridging fluorinated polymer (trade name: JN-7221, JS
R (manufactured by R Co., Ltd.)
After adding 0 g and stirring, a polypropylene film having a pore diameter of 1 μm was added.
The mixture was filtered through a filter to prepare a coating liquid A for a low refractive index layer.
Was. (Preparation of Coating Solution B for Low Refractive Index Layer) Heating with Refractive Index of 1.40
Bridging fluorinated polymer (trade name: JN-7227, JS
R Co., Ltd.) 500 g of methyl ethyl ketone to 500 g
After addition and stirring, a 1μm pore size polypropylene fill
The mixture was filtered through a filter to prepare a coating solution B for a low refractive index layer.

【0040】[実施例1]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(富士写真フイルム(株)製)
に、上記のハードコート層用塗布液Aをバーコーターを
用いて塗布し、120℃で乾燥の後、160W/cmの
空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300
mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ6μmのハードコート層を形成した。その上に、上記
低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを用いて塗布し、
80℃で乾燥の後、更に120℃で10分間熱架橋し、
厚さ0.096μmの低屈折率層を形成することによ
り、反射防止層を有するフィルムを作成した。前記反射
防止フィルムにアクリル系粘着剤付のポリエチレンテレ
フタレートからなる市販ラミネートフィルム(商品名:
B316PET、(株)サンエー化研製)をラミネート
機を用いて貼り合わせた。前記ラミネートされた反射防
止フィルムを1.5mol/m3 水酸化ナトリウム水
溶液中で55℃にて2分間浸漬し、次いで水で12秒洗
浄した後、0.1mol/m3 硫酸水溶液中で20秒
間浸漬して中和、さらに水で15秒間洗浄した。このフ
ィルムを120℃で24秒間乾燥して巻取り、ケン化済
の反射防止フィルムを得た。 (偏光板の作成)前記ケン化済ラミネート付反射防止フ
ィルムと80μmの厚さのトリアセチルセルロースフイ
ルム(富士写真フイルム(株)製)とを保護膜として、
ヨウ素ドープした延伸ポリビニルアルコールからなる偏
光層の両面に接着して実施例1の偏光板を作成した。
Example 1 Triacetylcellulose film having a thickness of 80 μm (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The above coating solution A for a hard coat layer was applied using a bar coater, dried at 120 ° C., and then cooled with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (I-Graphics Co., Ltd.)
Illuminance 400 mW / cm 2 , irradiation amount 300
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays of mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 6 μm. On top of this, the low refractive index layer coating solution A was applied using a bar coater,
After drying at 80 ° C., it is further thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes,
By forming a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm, a film having an antireflection layer was prepared. A commercially available laminated film (trade name: polyethylene terephthalate with an acrylic adhesive) is formed on the antireflection film.
B316PET, manufactured by San-A Kaken Co., Ltd.) using a laminating machine. Wherein the laminated antireflection film was dipped 1.5 mol / m 3 2 minutes at 55 ° C. in aqueous sodium hydroxide solution, then washed 12 seconds with water, 0.1 mol / m 3 20 seconds in sulfuric acid aqueous solution It was neutralized by immersion, and further washed with water for 15 seconds. This film was dried at 120 ° C. for 24 seconds and wound up to obtain a saponified antireflection film. (Preparation of Polarizing Plate) Using the saponified antireflection film with a laminate and a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as protective films,
The polarizing plate of Example 1 was prepared by adhering to both surfaces of a polarizing layer comprising iodine-doped stretched polyvinyl alcohol.

【0041】[実施例2]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(富士写真フイルム(株)製)
に、上記のハードコート層用塗布液Aをバーコーターを
用いて塗布し、120℃で乾燥の後、160W/cmの
空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300
mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ6μmのハードコート層を形成した。その上に、支持
体側から順にTiO2、SiO2、TiO2、SiO2をそ
れぞれ30nm、25nm、50nm、100nmの厚
みでスパッタコーティングを行い、反射防止層を有する
フィルムを形成した。このフィルムを用いて、実施例1
と同様の方法でラミネート、ケン化、偏光板加工を行
い、実施例2の偏光板を作成した。
Example 2 Triacetylcellulose film having a thickness of 80 μm (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The above coating solution A for a hard coat layer was applied using a bar coater, dried at 120 ° C., and then cooled with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (I-Graphics Co., Ltd.)
Illuminance 400 mW / cm 2 , irradiation amount 300
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays of mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 6 μm. On top of that, TiO 2 , SiO 2 , TiO 2 , and SiO 2 were sequentially subjected to sputter coating with a thickness of 30 nm, 25 nm, 50 nm, and 100 nm from the support side, thereby forming a film having an antireflection layer. Example 1 using this film
Laminating, saponifying, and polarizing plate processing were performed in the same manner as in Example 1 to prepare a polarizing plate of Example 2.

【0042】[実施例3]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(富士写真フイルム(株)製)
に、上記のハードコート層用塗布液Bをバーコーターを
用いて塗布し、120℃で乾燥の後、160W/cmの
空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300
mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ3μmの防眩性ハードコート層を形成した。その上
に、上記低屈折率層用塗布液Bをバーコーターを用いて
塗布し、80℃で乾燥の後、更に120℃で10分間熱
架橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成するこ
とにより、反射防止層を有するフィルムを作成した。こ
の反射防止フィルムの他は実施例1と同様にして実施例
3の偏光板を作成した。
Example 3 Triacetylcellulose film having a thickness of 80 μm (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The above-mentioned coating solution B for hard coat layer is applied using a bar coater, dried at 120 ° C., and then cooled with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (Eye Graphics Co., Ltd.)
Illuminance 400 mW / cm 2 , irradiation amount 300
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays of mJ / cm 2 to form an antiglare hard coat layer having a thickness of 3 μm. The low refractive index layer coating solution B was coated thereon using a bar coater, dried at 80 ° C., and thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm. By forming, a film having an antireflection layer was prepared. A polarizing plate of Example 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except for this antireflection film.

【0043】[実施例4]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(富士写真フイルム(株)製)
に、上記のハードコート層用塗布液Aをバーコーターを
用いて塗布し、120℃で乾燥の後、160W/cmの
空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300
mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ4μmのハードコート層を形成した。その上に、上記
ハードコート層用塗布液Cをバーコーターを用いて塗布
し、窒素パージによって0.01%以下の酸素濃度雰囲
気下において、120℃で乾燥の後、160W/cmの
空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300
mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ1.4μmの防眩性ハードコート層を形成した。その
上に、上記低屈折率層用塗布液Bをバーコーターを用い
て塗布し、80℃で乾燥の後、更に120℃で10分間
熱架橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成する
ことにより、反射防止層を有するフィルムを作成した。
この反射防止フィルムの他は実施例1と同様にして実施
例4の偏光板を作成した。
Example 4 Triacetylcellulose film having a thickness of 80 μm (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The above coating solution A for a hard coat layer was applied using a bar coater, dried at 120 ° C., and then cooled with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (I-Graphics Co., Ltd.)
Illuminance 400 mW / cm 2 , irradiation amount 300
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays of mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 4 μm. The above-mentioned coating solution C for a hard coat layer was applied thereon using a bar coater, dried at 120 ° C. in an oxygen concentration atmosphere of 0.01% or less by nitrogen purge, and then cooled with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp. (I Graphics Co., Ltd.
Illuminance 400 mW / cm 2 , irradiation amount 300
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays of mJ / cm 2 to form an antiglare hard coat layer having a thickness of 1.4 μm. The low refractive index layer coating solution B was coated thereon using a bar coater, dried at 80 ° C., and thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm. By forming, a film having an antireflection layer was prepared.
A polarizing plate of Example 4 was prepared in the same manner as Example 1 except for this antireflection film.

【0044】[実施例5]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(富士写真フイルム(株)製)
に、上記のハードコート層用塗布液Aをバーコーターを
用いて塗布し、120℃で乾燥の後、160W/cmの
空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300
mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ4μmのハードコート層を形成した。その上に、上記
ハードコート層用塗布液Dをバーコーターを用いて塗布
し、窒素パージによって0.01%以下の酸素濃度雰囲
気下において、120℃で乾燥の後、160W/cmの
空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300
mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ1.4μmの防眩性ハードコート層を形成した。その
上に、上記低屈折率層用塗布液Bをバーコーターを用い
て塗布し、80℃で乾燥の後、更に120℃で10分間
熱架橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成する
ことにより、反射防止層を有するフィルムを作成した。
この反射防止フィルムの他は実施例1と同様にして実施
例5の偏光板を作成した。
Example 5 Triacetylcellulose film having a thickness of 80 μm (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The above coating solution A for a hard coat layer was applied using a bar coater, dried at 120 ° C., and then cooled with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (I-Graphics Co., Ltd.)
Illuminance 400 mW / cm 2 , irradiation amount 300
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays of mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 4 μm. The coating solution D for a hard coat layer was applied thereon using a bar coater, dried at 120 ° C. in an oxygen concentration atmosphere of 0.01% or less by a nitrogen purge, and then cooled with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp. (I Graphics Co., Ltd.
Illuminance 400 mW / cm 2 , irradiation amount 300
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays of mJ / cm 2 to form an antiglare hard coat layer having a thickness of 1.4 μm. The low refractive index layer coating solution B was coated thereon using a bar coater, dried at 80 ° C., and thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm. By forming, a film having an antireflection layer was prepared.
Except for this antireflection film, a polarizing plate of Example 5 was prepared in the same manner as in Example 1.

【0045】[比較例1〜5]実施例1〜5の反射防止
フィルムを用いて、ラミネートなしでケン化、偏光板加
工を行い、比較例1〜5の偏光板を作成した。 [比較例6] ケン化した80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(富士写真フイルム(株)製)
に、上記のハードコート層用塗布液Aをバーコーターを
用いて塗布し、120℃で乾燥の後、160W/cmの
空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300
mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ6μmのハードコート層を形成した。その上に、上記
低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを用いて塗布し、
80℃で乾燥の後、更に120℃で10分間熱架橋し、
厚さ0.096μmの低屈折率層を形成することによ
り、反射防止層を有するフィルムを作成した。このケン
化済反射防止フィルムを用いて、実施例1に示した偏光
板加工を行い、比較例6の偏光板を作成した。
[Comparative Examples 1 to 5] Using the antireflection films of Examples 1 to 5, saponification and polarizing plate processing were performed without laminating to prepare polarizing plates of Comparative Examples 1 to 5. Comparative Example 6 Saponified 80 μm thick triacetyl cellulose film (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The above coating solution A for a hard coat layer was applied using a bar coater, dried at 120 ° C., and then cooled with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (I-Graphics Co., Ltd.)
Illuminance 400 mW / cm 2 , irradiation amount 300
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays of mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 6 μm. On top of this, the low refractive index layer coating solution A was applied using a bar coater,
After drying at 80 ° C., it is further thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes,
By forming a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm, a film having an antireflection layer was prepared. Using the saponified anti-reflection film, the polarizing plate processing shown in Example 1 was performed to prepare a polarizing plate of Comparative Example 6.

【0046】[比較例7]80μmの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム(富士写真フイルム(株)製)
に、上記のハードコート層用塗布液Aをバーコーターを
用いて塗布し、120℃で乾燥の後、160W/cmの
空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)
製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300
mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚
さ6μmのハードコート層を形成した。このハードコー
トフィルムを実施例1に示した方法でケン化した。その
上に、上記低屈折率層用塗布液Aをバーコーターを用い
て塗布し、80℃で乾燥の後、更に120℃で10分間
熱架橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成する
ことにより、反射防止層を有するフィルムを作成した。
このケン化済反射防止フィルムを用いて、実施例1に示
した偏光板加工を行い、比較例7の偏光板を作成した。
Comparative Example 7 Triacetylcellulose film having a thickness of 80 μm (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The above coating solution A for a hard coat layer was applied using a bar coater, dried at 120 ° C., and then cooled with a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (I-Graphics Co., Ltd.)
Illuminance 400 mW / cm 2 , irradiation amount 300
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays of mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 6 μm. This hard coat film was saponified by the method described in Example 1. The coating liquid A for a low refractive index layer was coated thereon using a bar coater, dried at 80 ° C., and thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to form a low refractive index layer having a thickness of 0.096 μm. By forming, a film having an antireflection layer was prepared.
Using this saponified anti-reflection film, the polarizing plate processing shown in Example 1 was performed to prepare a polarizing plate of Comparative Example 7.

【0047】(反射防止層付偏光板の評価)得られた反
射防止層付偏光板について、以下の項目の評価を行っ
た。 (1)外観 偏光板に反射防止層の剥離や色味変化、異物付着等がな
いかを目視により検査した。 (2)平均反射率 分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜7
80nmの波長領域において、入射角5°における分光
反射率を測定した。結果には450〜650nmの平均
反射率を用いた。 (3)ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターMODEL
1001DP(日本電色工業(株)製)を用いて測定
した。 (4)鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてJIS K 5400に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度25℃、湿度60
%RHで2時間調湿した後、JIS S 6006に規
定する3Hの試験用鉛筆を用いて、1kgの荷重にてひ
っかき傷の発生を次の基準で評価した。 n=5の評価において傷が全く認められない :○ n=5の評価において傷が1または2つ :△ n=5の評価において傷が3つ以上 :× (5)接触角、指紋付着性評価 表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度25℃、
湿度60%RHで2時間調湿した後、水に対する接触角
を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させて
から、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状
態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。 指紋が完全に拭き取れる :○ 指紋がやや見える :△ 指紋がほとんど拭き取れない :×
(Evaluation of Polarizing Plate with Anti-Reflection Layer) The obtained polarizing plate with anti-reflection layer was evaluated for the following items. (1) Appearance The polarizing plate was visually inspected for peeling of the anti-reflection layer, color change, adhesion of foreign matter, and the like. (2) Average reflectance 380-7 using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation)
The spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 80 nm. The average reflectance of 450 to 650 nm was used for the results. (3) Haze The haze of the obtained film was measured using a haze meter MODEL.
It measured using 1001DP (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). (4) Pencil hardness evaluation A pencil hardness evaluation described in JIS K 5400 was performed as an index of scratch resistance. Antireflection film at a temperature of 25 ° C and a humidity of 60
After conditioning for 2 hours at% RH, the occurrence of scratches was evaluated using a 3H test pencil specified in JIS S 6006 at a load of 1 kg according to the following criteria. No scratches were observed in the evaluation of n = 5: ○ 1 or 2 scratches in the evaluation of n = 5: Δ 3 or more scratches in the evaluation of n = 5: × (5) Contact angle, fingerprint adhesion Evaluation As an index of the contamination resistance of the surface, the optical material was heated at a temperature of 25 ° C.
After adjusting the humidity at 60% RH for 2 hours, the contact angle to water was measured. After attaching a fingerprint to the sample surface, the sample was wiped off with a cleaning cloth to observe the state, and the fingerprint adhesion was evaluated as follows. Fingerprints can be completely wiped off: ○ Fingerprints can be seen slightly: △ Fingerprints can hardly be wiped off: ×

【0048】(6)動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を25℃、相対湿度60%で2時間調湿し
た後、HEIDON−14動摩擦測定機により5mmφ
ステンレス鋼球、荷重100g、速度60cm/min
にて測定した値を用いた。 (7)防眩性評価 作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯(8000cd/m 2)を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない :◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる :○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる :△ 蛍光灯がほとんどぼけない :×
(6) Measurement of dynamic friction coefficient The dynamic friction coefficient was evaluated as an index of the surface slip property. Motion
The coefficient of friction was adjusted for 2 hours at 25 ° C and 60% relative humidity.
5mmφ with HEIDON-14 dynamic friction measuring machine
Stainless steel ball, load 100g, speed 60cm / min
The value measured in was used. (7) Evaluation of antiglare property Exposed fluorescence without louver on the prepared antiglare film
Light (8000 cd / m Two) And the reflection image is blurred
The degree was evaluated based on the following criteria. The outline of the fluorescent lamp is not known at all: ◎ The outline of the fluorescent lamp is slightly recognized: ○ The fluorescent lamp is blurred, but the outline can be identified: △ The fluorescent lamp is hardly blurred: ×

【0049】表1に実施例及び比較例の結果を示す。Table 1 shows the results of Examples and Comparative Examples.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】次に、実施例5の偏光板を用いて図2に示
す液晶表示装置を作成した。作成した液晶表示装置は、
外光の映り込みが目立たず、屋外においても良好な表示
品位であった。
Next, a liquid crystal display device shown in FIG. 2 was prepared using the polarizing plate of Example 5. The created liquid crystal display is
The reflection of external light was not conspicuous, and the display quality was good even outdoors.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明の製造工程により、密着性がよ
く、異物のない反射防止膜を有する偏光板を安価に提供
することができる。また、この反射防止膜を有する偏光
板及びそれを用いた液晶表示装置により、外光の反射に
よる表示品位の劣化を改良することができる。
According to the manufacturing process of the present invention, a polarizing plate having an antireflection film having good adhesion and no foreign matter can be provided at low cost. Further, with the polarizing plate having the antireflection film and the liquid crystal display device using the same, deterioration of display quality due to reflection of external light can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)〜(c)反射防止膜の層構成を示す断面
膜式図の例である。
FIG. 1 is an example of a sectional film diagram showing a layer configuration of an antireflection film (a) to (c).

【図2】本発明を適用しうる液晶表示装置の説明図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a liquid crystal display device to which the present invention can be applied.

【図3】反射防止膜を有する偏光板の層構成を示す断面
模式図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a layer configuration of a polarizing plate having an antireflection film.

【図4】ラミネート工程の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a laminating step.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 反射シート 12 導光板 13 散乱シート 14 調光フィルム 15 裏面偏光板 16 表面偏光板 17 液晶セル 18 冷陰極蛍光管 19 反射シート 21 透明支持体 22 ハードコート層または防眩層 23 中屈折率層 24 高屈折率層 25 低屈折率層 26 粒子 31 偏光層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Reflection sheet 12 Light guide plate 13 Scattering sheet 14 Light control film 15 Back polarizing plate 16 Front polarizing plate 17 Liquid crystal cell 18 Cold cathode fluorescent tube 19 Reflection sheet 21 Transparent support 22 Hard coat layer or antiglare layer 23 Medium refractive index layer 24 High refractive index layer 25 Low refractive index layer 26 Particles 31 Polarizing layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡部 英俊 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H049 BA02 BB33 BB65 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA37X FB02 FC25 FD06 GA16 LA02 LA03 LA07 2K009 AA02 AA15 CC03 CC09 CC23 CC24 CC26 CC33 CC38 CC42 DD17 EE00 4F100 AJ05B AJ05C AJ06B AJ06C AK01A AK01E AK25G AK42 AR00E AS00B AS00C BA03 BA05 BA06 BA07 BA10B BA10C BA10E BA44 DE01E EC03 EC032 EH46 EH461 EH462 EJ05 EJ052 EJ08 EJ081 EJ42 EJ54 EJ541 EJ82 EJ823 EJ85 EJ853 EJ86 EJ861 EJ862 EJ863 GB41 JL11 JN01B JN01C JN06 JN06D JN10 JN10A YY00E 4J002 AB021 GF00  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Hidetoshi Watanabe 210-Nakanuma, Minamiashigara-shi, Kanagawa Prefecture Fuji Photo Film F-term (reference) 2H049 BA02 BB33 BB65 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA37X FB02 FC25 FD06 GA16 LA02 LA03 LA07 2K009 AA02 AA15 CC03 CC09 CC23 CC24 CC26 CC33 CC38 CC42 DD17 EE00 4F100 AJ05B AJ05C AJ06B AJ06C AK01A AK01E AK25G AK42 AR00E AS00B AS00C BA03 BA05 BA06 BA07 BA10B BA10C BA10E BA44 DE01E85 EJE EJH EJH46 EJ862 EJ863 GB41 JL11 JN01B JN01C JN06 JN06D JN10 JN10A YY00E 4J002 AB021 GF00

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 偏光フィルムの両側を保護する2枚の保
護フィルムのうち、少なくとも一方の保護フィルムが透
明支持体であるトリアセチルセルロースフィルム層であ
り、該トリアセチルセルロースフィルム層の偏光フィル
ムへの密着面がケン化処理面であり、ケン化されていな
い側に反射防止膜とラミネートフィルム層とを有するこ
とを特徴とする反射防止膜を有する偏光板。
1. At least one of two protective films for protecting both sides of a polarizing film is a triacetyl cellulose film layer which is a transparent support, and the triacetyl cellulose film layer is applied to the polarizing film. A polarizing plate having an antireflection film, wherein the adhesion surface is a saponified surface, and an antireflection film and a laminate film layer are provided on the non-saponified side.
【請求項2】 トリアセチルセルロースフィルム層とラ
ミネートフィルム層との間に0.5乃至10μmの粒子
を含有する防眩層を有することを特徴とする請求項1記
載の反射防止膜を有する偏光板。
2. The polarizing plate having an antireflection film according to claim 1, further comprising an antiglare layer containing particles of 0.5 to 10 μm between the triacetylcellulose film layer and the laminate film layer. .
【請求項3】 該ラミネートフィルム層が除去可能なフ
ィルムであることを特徴とする請求項1又は2に記載の
反射防止膜を有する偏光板。
3. The polarizing plate having an antireflection film according to claim 1, wherein the laminate film layer is a removable film.
【請求項4】 請求項1、2又は3の偏光板からラミネ
ートフィルム層を除去した偏光板を、液晶セルの両側に
配置された2枚の偏光板のうち、表示側の偏光板として
用いることを特徴とする液晶表示装置。
4. A polarizing plate obtained by removing the laminate film layer from the polarizing plate according to claim 1, 2 or 3, which is used as a display-side polarizing plate among two polarizing plates arranged on both sides of a liquid crystal cell. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 反射防止膜を有する偏光板が、トリアセ
チルセルロースフィルムの一方の面上に反射防止膜を形
成する工程、反射防止膜上にラミネートフィルムを貼り
合わせ光学フィルムを製造する工程、トリアセチルセル
ロースフィルムの他方の面をケン化しケン化された光学
フィルムを製造する工程、偏光フィルムの両側を保護す
る2枚の保護フィルムの少なくとも一方にケン化された
光学フィルムを用いて偏光板を製造する工程を、この順
に行うことを特徴とする反射防止膜を有する偏光板の製
造方法。
5. A step of forming an anti-reflection film on one surface of a triacetyl cellulose film using a polarizing plate having an anti-reflection film, a step of bonding a laminate film on the anti-reflection film to produce an optical film, A process for producing a saponified optical film by saponifying the other surface of an acetylcellulose film, and producing a polarizing plate using the saponified optical film on at least one of two protective films for protecting both sides of the polarizing film The steps of performing the steps in this order.
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Cited By (3)

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