JP2001225566A - Original plate for direct lithographic type lithographic printing plate and method for manufacturing direct lithographic type waterless lithographic printing plate - Google Patents

Original plate for direct lithographic type lithographic printing plate and method for manufacturing direct lithographic type waterless lithographic printing plate

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JP2001225566A
JP2001225566A JP2000038620A JP2000038620A JP2001225566A JP 2001225566 A JP2001225566 A JP 2001225566A JP 2000038620 A JP2000038620 A JP 2000038620A JP 2000038620 A JP2000038620 A JP 2000038620A JP 2001225566 A JP2001225566 A JP 2001225566A
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JP
Japan
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printing plate
lithographic printing
compound
organic
heat
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000038620A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuoki Goto
一起 後藤
Koichi Nagase
公一 長瀬
Gentaro Obayashi
元太郎 大林
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/16Waterless working, i.e. ink repelling exposed (imaged) or non-exposed (non-imaged) areas, not requiring fountain solution or water, e.g. dry lithography or driography

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a direct lithographic type lithographic printing plate having good image reproducibility. SOLUTION: An original plate for the direct lithographic type lithographic printing plate comprises at least a heat sensitive layer on a base plate. In this case, the layer contains a compound having a structure represented by formula I, wherein M is a metal atom or an organic component, (A) is an organic polymer component, (B) is an organic molecular component, n and m are each an integer of 1 or more, and 1 is an integer of 0 or 1 or more.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光で直接
製版できる直描型平版印刷版原版に関するものであり、
特に湿し水を用いずに印刷が可能な直描型水なし平版印
刷版原版に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a direct drawing type lithographic printing plate precursor that can be directly made by laser light.
In particular, the present invention relates to a direct drawing type waterless planographic printing plate precursor capable of printing without using dampening solution.

【0002】[0002]

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆる直描型製
版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷版が
得られる迅速性、多様なシステムから品質とコストに応
じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、軽印
刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、フレキソ印刷
の分野にも進出し始めている。特に最近では、プリプレ
スシステムやイメージセッター、レーザープリンタなど
の出力システムの急激な進歩によって新しいタイプの各
種直描型平版印刷版が開発されている。これらの直描型
平版印刷版を製版方法から分類すると、レーザー光を照
射する方法、サーマルヘッドで書き込む方法、ピン電極
で電圧を部分的に印加する方法、インクジェットでイン
キ反撥層またはインキ着肉層を形成する方法などが挙げ
られる。なかでも、レーザー光を用いる方法は解像度、
および製版速度の面で他の方式よりも優れており、その
種類も多い。
2. Description of the Related Art A so-called direct drawing type plate making, in which an offset printing plate is produced directly from an original without using a plate making film, is simple, which does not require skill, rapidity in which a printing plate can be obtained in a short time, Taking advantage of features such as rationality that can be selected from various systems according to quality and cost, the company has begun to enter not only the light printing industry but also the fields of general offset printing and flexographic printing. In particular, a new type of various direct-drawing lithographic printing plates has recently been developed with the rapid progress of output systems such as a prepress system, an image setter, and a laser printer. These direct-drawing lithographic printing plates can be classified according to plate-making methods, such as a method of irradiating a laser beam, a method of writing with a thermal head, a method of partially applying a voltage with a pin electrode, an ink repellent layer or an ink-coated layer by inkjet. And the like. Above all, the method using laser light is resolution,
It is superior to other methods in terms of plate making speed and there are many types.

【0003】このレーザー光を用いる印刷版はさらに、
光反応によるフォトンモードのものと、光熱変換を行っ
て熱反応を起こさせるヒートモードの2つのタイプに分
けられる。特にヒートモードの方式は、明室で取り扱え
るといった利点があり、また光源となる半導体レーザー
の急激な進歩によって、最近その有用性が見直されてき
ている。
[0003] The printing plate using the laser light further includes:
There are two types: a photon mode by photoreaction and a heat mode in which photothermal conversion is performed to cause a thermal reaction. In particular, the heat mode method has an advantage that it can be handled in a bright room, and its usefulness has recently been reviewed due to the rapid progress of a semiconductor laser as a light source.

【0004】ヒートモードにおける平版印刷版、とりわ
け印刷時に湿し水を必要としない水なし平版印刷版、お
よびそれを製造する方法としては、これまで以下のよう
な提案がなされているが、種々の問題を有していた。
A lithographic printing plate in a heat mode, particularly a waterless lithographic printing plate which does not require dampening water at the time of printing, and a method for producing the same have heretofore been proposed as follows. Had a problem.

【0005】例えば、特開平6−199064号公報、
特開平6−186750公報、特開平6−55723号
公報、特開平6−55869号公報、特開平10−85
8号公報、特開平10−31317号公報、特開平10
−39496号公報、および特開平10−329310
号公報、特開平11−11037号公報などは、感熱層
のアブレーションに基づく印刷版の形成方法に関する提
案である。これらは、現像が簡易であるというメリット
を有しているが、感熱層をアブレーションさせる為、高
いレーザー出力が必要であること、および、アブレーシ
ョンによりガスなどの副生成物が生じ光学系に悪影響を
及ぼす可能性があること、さらには、アブレーションの
残さ除去の必要があること、微小な網点の再現が困難で
あることなどの問題を有していた。
For example, JP-A-6-199064 discloses
JP-A-6-186750, JP-A-6-55723, JP-A-6-55869, JP-A-10-85
No. 8, JP-A-10-31317, JP-A-10-31317
JP-A-39496 and JP-A-10-329310
And JP-A-11-11037 are proposals on a method for forming a printing plate based on ablation of a heat-sensitive layer. These have the advantage of simple development, but require a high laser output to ablate the heat-sensitive layer, and have a bad effect on the optical system due to the generation of by-products such as gas due to ablation. There are problems such as the possibility of the influence, the necessity of removing the ablation residue, and the difficulty in reproducing minute halftone dots.

【0006】特開平9−80747号公報、特開平10
−58635号公報、特開平10−62977号公報、
特開平10−171105号公報などは、レーザー照射
前後にインキ反発性層上に形成した粘着性を有する剥離
シートを利用して、レーザー照射部のインキ反発性層を
剥離する剥離現像に関する提案である。簡易な現像であ
ることがメリットであるが、微小な網点の再現が非常に
困難であるという問題を有していた。
JP-A-9-80747 and JP-A-10-80747
-58635, JP-A-10-62977,
JP-A-10-171105 and the like propose a release development in which an ink-repellent layer in a laser-irradiated portion is released by using an adhesive release sheet formed on an ink-repellent layer before and after laser irradiation. . The advantage is simple development, but there is a problem that it is very difficult to reproduce minute halftone dots.

【0007】また、現像液を用いて、印刷版を製造する
方法としては、以下のような提案がなされている。
[0007] Further, as a method for producing a printing plate using a developer, the following proposals have been made.

【0008】特開平10−34868号公報は、レーザ
ー照射後、表面張力が25〜50dyn/cm2(25
〜50×10-6N/cm2)の液体を付与して擦る、と
いう提案であるが、インキ反発層を膨潤させた状態で擦
るため、インキ反発層に傷が入りやすいという問題があ
った。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-34868 discloses that after laser irradiation, the surface tension is 25 to 50 dyn / cm 2 (25
5050 × 10 −6 N / cm 2 ) is applied and rubbed, but there is a problem that the ink repellent layer is easily scratched because the ink repellent layer is swollen and rubbed. .

【0009】特開平10−146945号公報について
も、レーザー照射後、版表面のインキ反発層を脂肪族炭
化水素を70%以上含有する非極性溶剤を含む処理液で
膨潤させる、という提案であるが、現像工程においてイ
ンキ反発層に傷が入りやすいという問題があった。
JP-A-10-146945 also proposes that after laser irradiation, the ink repellent layer on the plate surface is swollen with a treatment liquid containing a nonpolar solvent containing at least 70% of an aliphatic hydrocarbon. In addition, there has been a problem that the ink repellent layer is easily damaged in the developing step.

【0010】特開平10−100361号公報は、レー
ザー照射後、液体の非存在下で擦り、その後、液体の存
在下で擦る、という提案であるが、逆に、液体の非存在
下での擦り工程において、摩擦力が大きすぎるためイン
キ反発層に傷が入るという問題があった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-100361 proposes rubbing in the absence of a liquid after laser irradiation, and then rubbing in the presence of a liquid. Conversely, rubbing in the absence of a liquid is proposed. In the process, there was a problem that the ink repellent layer was damaged because the frictional force was too large.

【0011】特開平11−198335号公報、特開平
11−58667号公報、特開平11−207921号
公報などは、レーザー照射後、水や界面活性剤を含む水
などの存在下、レーザー照射部のインキ反発層を除去す
る事に関する提案である。しかしながら、これらの方法
ではある程度の網点を再現することは出来るが、微小な
網点の再現性が不安定であり、また網点のインキ着肉性
が悪いという問題を有していた。
JP-A-11-198335, JP-A-11-58667, JP-A-11-207921 and the like disclose a method of irradiating a laser-irradiated portion in the presence of water or water containing a surfactant after laser irradiation. This is a proposal for removing the ink repellent layer. However, these methods can reproduce a certain number of halftone dots, but have a problem that the reproducibility of minute halftone dots is unstable and the ink deposition of halftone dots is poor.

【0012】また、特開平11−221977号公報な
どにおいて、感熱層中に金属キレート化合物を有する直
描型印刷版が提案されているが、製版工程や印刷工程で
用いる各種溶剤に対する耐性が十分ではないという問題
があったり、感度も実用上十分と言えるものではなかっ
た。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-221977 and the like have proposed a direct-printing printing plate having a metal chelate compound in a heat-sensitive layer. However, the printing plate is not sufficiently resistant to various solvents used in the plate making process and the printing process. However, there was no problem, and the sensitivity was not sufficient for practical use.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題はかかる
従来技術の欠点を改良するために、特定の構造を有する
化合物を感熱層に有することで画像再現性の良好な直描
型平版印刷版を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to improve the drawbacks of the prior art by providing a compound having a specific structure in a heat-sensitive layer to provide a direct-drawing lithographic printing plate having good image reproducibility. Is provided.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の直描型平版印刷
版原版は、上記課題を解決するために主として次の構成
を有する。すなわち、「基板上に、少なくとも感熱層を
有する直描型平版印刷版原版であって、該感熱層が下記
一般式(I)で表される構造を有する化合物を含むこと
を特徴とする直描型平版印刷版原版。 M(A)n(B)m(C)l (I) (Mは金属原子または有機成分、Aは有機高分子成分、
Bは有機低分子成分、Cは有機低分子成分である、ま
た、n、mは1以上の整数、lは0または1以上の整数
である。)」、である。
The direct drawing type lithographic printing plate precursor of the present invention mainly has the following constitution in order to solve the above-mentioned problems. That is, a direct drawing lithographic printing plate precursor having at least a heat-sensitive layer on a substrate, wherein the heat-sensitive layer contains a compound having a structure represented by the following general formula (I). A planographic printing plate precursor M (A) n (B) m (C) l (I) (M is a metal atom or an organic component, A is an organic polymer component,
B is an organic low-molecular component, C is an organic low-molecular component, n and m are integers of 1 or more, and l is 0 or an integer of 1 or more. ) ".

【0015】また、本発明の直描型水なし平版印刷版の
製造方法は主として次の構成を有する。すなわち、「基
板上に、下記一般式(I)で表される構造を有する化合
物を少なくとも含む感熱層、インキ反発層をこの順に有
する直描型水なし平版印刷版の製造方法であって、
(1)レーザー照射により、感熱層表層を反応させる工
程、(2)有機溶媒で処理する工程、(3)水存在下で
のブラシ擦りによりレーザー照射部のインキ反発層を除
去する工程、を含むことを特徴とする直描型水なし平版
印刷版の製造方法。 M(A)n(B)m(C)l (I) (Mは金属原子または有機成分、Aは有機高分子成分、
Bは有機低分子成分、Cは有機低分子成分である、ま
た、n、mは1以上の整数、lは0または1以上の整数
である。)」である。
The method for producing a direct-drawing waterless planographic printing plate of the present invention mainly has the following constitution. That is, a method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate having, on a substrate, a thermosensitive layer containing at least a compound having a structure represented by the following general formula (I), and an ink repellent layer in this order:
(1) a step of causing the surface layer of the heat-sensitive layer to react by laser irradiation, (2) a step of treating with an organic solvent, and (3) a step of removing the ink repellent layer of the laser irradiated part by brushing in the presence of water. A method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate, characterized in that: M (A) n (B) m (C) l (I) (M is a metal atom or an organic component, A is an organic polymer component,
B is an organic low-molecular component, C is an organic low-molecular component, n and m are integers of 1 or more, and l is 0 or an integer of 1 or more. ) ".

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.

【0017】本発明の特徴は、感熱層中に下記一般式
(I)で表される構造を有する化合物を含むことにあ
る。
A feature of the present invention resides in that a compound having a structure represented by the following general formula (I) is contained in the heat-sensitive layer.

【0018】 M(A)n(B)m(C)l (I) (Mは金属原子または有機成分、Aは有機高分子成分、
Bは有機低分子成分、Cは有機低分子成分である、ま
た、n、mは1以上の整数、lは0または1以上の整数
である。)
M (A) n (B) m (C) l (I) (M is a metal atom or an organic component, A is an organic polymer component,
B is an organic low-molecular component, C is an organic low-molecular component, n and m are integers of 1 or more, and l is 0 or an integer of 1 or more. )

【0019】一般式(I)で表される構造を有する化合
物は、例えば、(a)反応性の官能基を有する高分子成
分と、1分子中に反応性の異なる官能基を2種以上有す
る化合物の反応、あるいは、(b)反応性の官能基を有
する高分子成分と、反応性の官能基を有する化合物のモ
ル比を制御して反応させることによっても得ることがで
きる。Mが金属原子である場合は特に、反応の容易さ、
得られる化合物の構造面での均一さ、印刷版の画像再現
性などの観点から(a)の手法により得ることが好まし
く、Mが有機成分である場合は同様の理由で(b)の手
法により得ることが好ましい。
The compound having the structure represented by the general formula (I) includes, for example, (a) a polymer component having a reactive functional group and two or more functional groups having different reactivity in one molecule. It can also be obtained by reacting a compound or by reacting (b) a polymer component having a reactive functional group with a molar ratio of a compound having a reactive functional group. Ease of reaction, especially when M is a metal atom,
From the viewpoint of structural uniformity of the obtained compound, image reproducibility of the printing plate, etc., it is preferable to obtain the compound by the method (a). When M is an organic component, it is preferably obtained by the method (b) for the same reason. It is preferable to obtain.

【0020】反応性の官能基を有する高分子成分として
は、水酸基、アミノ基、メルカプト基、アリル基、ビニ
ル基、アクリル基、メタアクリル基、カルボキシル基、
アルデヒド基、エポキシ基など、好ましくは水酸基、カ
ルボキシル基、アミノ基、アセチルアセトン基を有する
高分子化合物が挙げられる。具体的は、フェノール、ク
レゾール、キシレノールなどのフェノール類とホルムア
ルデヒドの縮合反応により得られるノボラック樹脂やレ
ゾール樹脂、フェノール・フルフラール樹脂、フラン樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリヒドロキシスチレ
ン、ヒドロキシスチレンとビニルモノマーの共重合体、
水酸基含有ポリウレタン樹脂、ロジン変性マレイン酸樹
脂、などが挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。これらのなかでは、ノボラック樹脂、レゾール樹
脂、ヒドロキシスチレンの単独および共重合体が好まし
い。
The polymer component having a reactive functional group includes a hydroxyl group, an amino group, a mercapto group, an allyl group, a vinyl group, an acrylic group, a methacryl group, a carboxyl group,
A polymer compound having an aldehyde group, an epoxy group, or the like, preferably a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, or an acetylacetone group is exemplified. Specifically, phenol, cresol, novolak resin and resol resin obtained by the condensation reaction of phenols such as xylenol and formaldehyde, phenol / furfural resin, furan resin, unsaturated polyester resin, polyhydroxystyrene, hydroxystyrene and vinyl monomer Copolymer,
Examples include, but are not limited to, hydroxyl group-containing polyurethane resins and rosin-modified maleic acid resins. Of these, novolak resins, resole resins, and homo- and copolymers of hydroxystyrene are preferred.

【0021】Mが有機成分である場合の反応性の官能基
を有する有機化合物の官能基としては、イソシアネート
基、ビニル基、アクリル基、メタアクリル基、アリル
基、カルボキシル基、アルデヒド基、水酸基、アミノ
基、メルカプト基、アルコキシ基、アリーロキシ基、シ
リル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、アジド基、
ジアゾ基などが挙げられる。
When M is an organic component, the functional group of the organic compound having a reactive functional group includes an isocyanate group, a vinyl group, an acryl group, a methacryl group, an allyl group, a carboxyl group, an aldehyde group, a hydroxyl group, Amino group, mercapto group, alkoxy group, aryloxy group, silyl group, alkoxysilyl group, epoxy group, azide group,
And a diazo group.

【0022】有機化合物の具体例としては、トリレンジ
イソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、
キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、ト
リス(イソシアネートフェニル)チオホスフェート、
1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネートおよび
これらのポリオールアダクト体、重合体などの多官能イ
ソシアネート類、フタル酸、アジピン酸、アゼライン
酸、トリメリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボ
ン酸、ピロメリット酸などの多価カルボン酸、メラミ
ン、ベンゾグアナミン、尿素などの多官能アミノ基含有
化合物、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ変
性フェノール樹脂などのエポキシ基含有化合物、グリセ
ロールジメタクリレート、グリセロールモノメタクリレ
ート、グリセリンメタクリレートアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタアクリレート、2−ヒドロキシ
−1,3−ジメタクリロキシプロパン、テトラメチロー
ルメタントリアクリレートなどの多官能アクリレート類
などが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
Specific examples of the organic compound include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate,
Xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiophosphate,
Polyfunctional isocyanates such as 1,3,6-hexamethylene triisocyanate and their polyol adducts and polymers; phthalic acid, adipic acid, azelaic acid, trimellitic acid, methylcyclohexentricarboxylic acid, pyromellitic acid, etc. Polyfunctional amino group-containing compounds such as polyvalent carboxylic acid, melamine, benzoguanamine and urea, epoxy group-containing compounds such as bisphenol A type epoxy resin and epoxy-modified phenol resin, glycerol dimethacrylate, glycerol monomethacrylate, glycerin methacrylate acrylate, pentaerythritol tri Examples include polyfunctional acrylates such as methacrylate, 2-hydroxy-1,3-dimethacryloxypropane, and tetramethylolmethane triacrylate. The present invention is not limited to these.

【0023】例えば、トリフェニルメタントリイソシア
ネートに2倍モル相当のメタノールを反応させた後、フ
ェノールノボラック樹脂と反応させる事で、Mが有機化
合物である一般式(I)で表される化合物を得ることが
出来る。この例においては、Mはトリフェニルメタント
リイソシアネート骨格、Aの有機高分子成分はフェノー
ルノボラック樹脂、Bの有機低分子成分はエタノールで
ある。
For example, a compound represented by the general formula (I) in which M is an organic compound is obtained by reacting triphenylmethane triisocyanate with methanol equivalent to twice the molar amount and then reacting with a phenol novolak resin. I can do it. In this example, M is a triphenylmethane triisocyanate skeleton, the organic polymer component of A is a phenol novolak resin, and the organic low molecular component of B is ethanol.

【0024】Mが金属原子である場合の1分子中に反応
性の異なる官能基を2種以上有する有機金属化合物とし
ては、金属に結合した有機基に上記のような2種以上の
官能基を有していてもよいし、あるいは反応性の異なる
2種以上の配位子を有していてもよいが、反応性の異な
る2種以上の配位子を有する有機金属化合物が好まし
く、このような場合は配位子が一般式(I)における有
機低分子成分となってもよい。
When M is a metal atom, examples of the organometallic compound having two or more kinds of functional groups having different reactivity in one molecule include the above-mentioned two or more kinds of functional groups in the organic group bonded to the metal. May have, or may have two or more ligands having different reactivities, but an organometallic compound having two or more ligands having different reactivities is preferable. In such a case, the ligand may be the organic low molecular component in the general formula (I).

【0025】有機金属化合物としては、Al、Ti、M
n、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、In、S
n、Zr、Hfなどの金属原子を有する有機金属化合物
が好ましいが、配位子の数という点からTi、Zr、H
f、Sn、Inなどの4個以上の配位子を有するものが
好ましい。また、配位子の種類としては、反応性が大き
く異なるという点から、アルコキサイド類とアセチルア
セトン、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸エチルなどの
β−ジケトン類の2種を有することが特に好ましい。
The organic metal compounds include Al, Ti, M
n, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ge, In, S
Organometallic compounds having metal atoms such as n, Zr, and Hf are preferable, but Ti, Zr, Hf are preferable in terms of the number of ligands.
Those having four or more ligands such as f, Sn, and In are preferable. In addition, it is particularly preferable to use two types of ligands, namely, alkoxides and β-diketones such as acetylacetone, benzoylacetone, and ethyl acetoacetate, because the reactivity is greatly different.

【0026】有機金属化合物の具体例としては、アルミ
ニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセト
ネート、アルミニウムジアセチルアセトネートエチルア
セトアセテート、アルミニウムモノアセチルアセトネー
トビスプロピルアセトアセテート、アルミニウムモノア
セチルアセトネートビスブチルアセトアセテート、アル
ミニウムモノアセチルアセトネートビスヘキシルアセト
アセテート、アルミニウムモノエチルアセトアセテート
ビスプロピルアセトセトネート、アルミニウムモノエチ
ルアセトアセテートビスブチルアセトアセトネート、ア
ルミニウムモノエチルアセトアセテートビスヘキシルア
セトアセトネート、アルミニウムモノエチルアセトアセ
テートビスノニルアセトアセトネート、アルミニウムジ
ブトキシドモノアセトアセテート、アルミニウムジプロ
ポキシドモノアセトアセテート、アルミニウムジブトキ
シドモノエチルアセトアセテート、アルミニウム−s−
ブトキシドビス(エチルアセトアセテート)、アルミニ
ウムジ−s−ブトキシドエチルアセトアセテート、アル
ミニウム−9−オクタデセニルアセトアセテートジイソ
プロポキシド、チタンアリルアセトアセテートトリイソ
プロポキサイド、チタンジ−n−ブトキサイド(ビス−
2,4−ペンタンジオネート)、チタンジイソプロポキ
サイド(ビス−2,4−ペンタンジオネート)、チタン
ジイソプロポキサイドビス(テトラメチルヘプタンジオ
ネート)、チタンジイソプロポキサイドビス(エチルア
セトアセテート)、チタンメタクリルオキシエチルアセ
トアセテートトリイソプロポキサイド、チタンオキシド
ビス(ペンタンジオネート)、ジルコニウムアリルアセ
トアセテートトリイソプロポキサイド、ジルコニウムジ
−n−ブトキサイド(ビス−2,4−ペンタンジオネー
ト)、ジルコニウムジイソプロポキサイド(ビス−2,
4−ペンタンジオネート)、ジルコニウムジイソプロポ
キサイドビス(テトラメチルヘプタンジオネート)、ジ
ルコニウムジイソプロポキサイドビス(エチルアセトア
セテート)、ジルコニウムメタクリルオキシエチルアセ
トアセテートトリイソプロポキサイド、ジルコニウムブ
トキサイド(アセチルアセテート)(ビスエチルアセト
アセテート)などが挙げられるが、これらに限定される
ものではない。
Specific examples of the organometallic compound include aluminum bisethylacetoacetate monoacetylacetonate, aluminum diacetylacetonate ethylacetoacetate, aluminum monoacetylacetonate bispropylacetoacetate, aluminum monoacetylacetonate bisbutylacetoacetate, Aluminum monoacetylacetonate bishexyl acetoacetate, aluminum monoethyl acetoacetate bispropyl acetoacetonate, aluminum monoethyl acetoacetate bisbutyl acetoacetonate, aluminum monoethyl acetoacetate bishexyl acetoacetonate, aluminum monoethyl acetoacetate bisnonyl Acetoacetonate, aluminum dibutoxide monoa DOO acetate, aluminum dipropoxide Sid mono acetoacetate, aluminum dibutoxide monoethyl acetoacetate, aluminum -s-
Butoxide bis (ethyl acetoacetate), aluminum di-s-butoxide ethyl acetoacetate, aluminum-9-octadecenyl acetoacetate diisopropoxide, titanium allyl acetoacetate triisopropoxide, titanium di-n-butoxide (bis-
2,4-pentanedionate), titanium diisopropoxide (bis-2,4-pentanedionate), titanium diisopropoxide bis (tetramethylheptanedionate), titanium diisopropoxide bis (ethylacetoacetate) ), Titanium methacryloxyethyl acetoacetate triisopropoxide, titanium oxide bis (pentanedionate), zirconium allyl acetoacetate triisopropoxide, zirconium di-n-butoxide (bis-2,4-pentanedionate), zirconium Diisopropoxide (bis-2,
4-pentanedionate), zirconium diisopropoxide bis (tetramethylheptanedionate), zirconium diisopropoxide bis (ethyl acetoacetate), zirconium methacryloxyethyl acetoacetate triisopropoxide, zirconium butoxide (acetyl Acetate) (bisethylacetoacetate) and the like, but are not limited thereto.

【0027】一般式(I)で表される構造を有する化合
物としては、ノボラック樹脂や、レゾール樹脂、ヒドロ
キシスチレンの単独および共重合体と、チタンジ−n−
ブトキサイド(ビス−2,4−ペンタンジオネート)、
チタンジイソプロポキサイド(ビス−2,4−ペンタン
ジオネート)、チタンジイソプロポキサイドビス(テト
ラメチルヘプタンジオネート)、チタンジイソプロポキ
サイドビス(エチルアセトアセテート)、ジルコニウム
ジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4−ペンタンジオネ
ート)、ジルコニウムジイソプロポキサイド(ビス−
2,4−ペンタンジオネート)、ジルコニウムジイソプ
ロポキサイドビス(エチルアセトアセテート)などの反
応により得られる化合物が特に好ましい。
Compounds having the structure represented by the general formula (I) include novolak resins, resol resins, homo- and copolymers of hydroxystyrene, and titanium di-n-
Butoxide (bis-2,4-pentanedionate),
Titanium diisopropoxide (bis-2,4-pentanedionate), titanium diisopropoxide bis (tetramethyl heptandionate), titanium diisopropoxide bis (ethyl acetoacetate), zirconium di-n-butoxide ( Bis-2,4-pentanedionate), zirconium diisopropoxide (bis-
Compounds obtained by a reaction such as 2,4-pentanedionate) and zirconium diisopropoxide bis (ethylacetoacetate) are particularly preferred.

【0028】一般式(I)で表される構造を有する化合
物は、高分子成分Aの数nが2以上であることが印刷版
の製版工程や印刷工程で用いる各種溶剤する耐性の面で
好ましく、低分子成分Bの数mについては高感度という
点から多い方が好ましい。また低分子成分Cの数lにつ
いては高感度という点から多いほうが好ましいが、高分
子成分Aの数nおよび低分子成分Bの数mとの関係か
ら、0または1であることが好ましい。さらに、Mは得
られた印刷版の画像再現性の点から金属原子が好まし
い。具体的な好ましい構造としては、下記一般式(I
I)〜(VIII)の構造を有する化合物が挙げられる
が、これらの中でも特に(III)(IV)(VI)
(VII)の構造が好ましい。
In the compound having the structure represented by the general formula (I), the number n of the polymer component A is preferably 2 or more from the viewpoint of resistance to various solvents used in the plate making step and the printing step of the printing plate. It is preferable that the number m of the low molecular component B is large from the viewpoint of high sensitivity. The number 1 of the low-molecular component C is preferably large from the viewpoint of high sensitivity, but is preferably 0 or 1 in view of the number n of the high-molecular component A and the number m of the low-molecular component B. Further, M is preferably a metal atom from the viewpoint of image reproducibility of the obtained printing plate. A specific preferred structure is represented by the following general formula (I
Compounds having the structures of I) to (VIII) are mentioned, and among them, (III), (IV) and (VI) are particularly preferable.
The structure of (VII) is preferred.

【0029】 M(A)2(B)1 (II) M(A)2(B)2 (III) M(A)2(B)1(C)1 (IV) M(A)3(B)1 (V) M(A)2(B)3 (VI) M(A)3(B)2 (VII) M(A)4(B)1 (VIII) (Mは金属原子、Aは有機高分子成分、B、Cは有機低
分子成分である。)
M (A) 2 (B) 1 (II) M (A) 2 (B) 2 (III) M (A) 2 (B) 1 (C) 1 (IV) M (A) 3 (B ) 1 (V) M (A) 2 (B) 3 (VI) M (A) 3 (B) 2 (VII) M (A) 4 (B) 1 (VIII) (M is a metal atom, A is an organic The high molecular components, B and C are organic low molecular components.)

【0030】特に好ましい構造である(III)の例を
図1に示す。
FIG. 1 shows an example of the particularly preferred structure (III).

【0031】この例においては、Mはチタン原子、Aの
有機高分子成分はノボラック樹脂、Bの有機低分子成分
はアセチルアセトンである。
In this example, M is a titanium atom, the organic polymer component of A is a novolak resin, and the organic low molecular component of B is acetylacetone.

【0032】以上のような一般式(I)で表される構造
を有する化合物を感熱層に含有させる方法としては、一
般式(I)で表される構造を有する化合物を予め合成し
た後、感熱層を構成する一成分として添加し感熱層を作
製する方法や、あるいは、一般式(I)で表される構造
を有する化合物の原料となる化合物を他の感熱層構成成
分と共に混合しておいて、感熱層溶液の塗布、乾燥時に
それらを反応させることで、結果として感熱層中に一般
式(I)で表される構造を有する化合物を含有させる方
法などが挙げられる。
As a method of incorporating the compound having the structure represented by the general formula (I) into the heat-sensitive layer, a compound having the structure represented by the general formula (I) is synthesized in advance and then heat-sensitive. A method for preparing a heat-sensitive layer by adding it as one component constituting the layer, or mixing a compound serving as a raw material of a compound having a structure represented by the general formula (I) with other heat-sensitive layer components A method in which a compound having a structure represented by the general formula (I) is contained in the heat-sensitive layer as a result of reacting them during application and drying of the heat-sensitive layer solution.

【0033】一般式(I)で表される構造を有する化合
物を感熱層中に有することで、優れた画像再現性が得ら
れる理由としては、次にように考えられる。まず、印刷
版の製版工程や印刷工程で用いる各種溶剤する耐性につ
いては、MとAの相互作用により発現される。レーザー
照射に対する画像再現性、感度については、Bおよび/
あるいはCの存在により達成される。すなわち、レーザ
ー照射時に発生する熱の作用でBとMの相互作用が弱ま
り、Bおよび/あるいはCが遊離することで現像工程で
用いる処理液に対する感熱層の膨潤率・溶解性が変化す
ると考えられる。
The reason why excellent image reproducibility can be obtained by having the compound having the structure represented by the general formula (I) in the heat-sensitive layer is considered as follows. First, the resistance to various solvents used in the plate making process and the printing process of the printing plate is exhibited by the interaction between M and A. Regarding image reproducibility and sensitivity to laser irradiation, B and / or
Alternatively, it is achieved by the presence of C. That is, it is considered that the interaction between B and M is weakened by the action of heat generated at the time of laser irradiation, and that the swelling rate and solubility of the heat-sensitive layer with respect to the processing solution used in the developing step are changed by releasing B and / or C. .

【0034】このような一般式(I)で表される構造を
有する化合物の感熱層中に占める割合としては、感熱層
の全固形分の20〜95重量%、さらには40〜80重
量%であることが好ましい。20重量%以上とすること
で、感熱層表層の変化による溶解性あるいは膨潤率変化
を維持することが出来、一方、95重量%以下とするこ
とで、相対的にレーザー光を吸収し熱を発生する化合物
の量を維持することによりレーザー照射による熱発生に
問題を生じることもない。
The proportion of the compound having the structure represented by the general formula (I) in the heat-sensitive layer is 20 to 95% by weight, more preferably 40 to 80% by weight of the total solids of the heat-sensitive layer. Preferably, there is. When the content is 20% by weight or more, the solubility or the swelling rate change due to the change in the surface layer of the heat-sensitive layer can be maintained. On the other hand, when the content is 95% by weight or less, laser light is relatively absorbed to generate heat. By maintaining the amount of the compound, the heat generation by laser irradiation does not cause a problem.

【0035】また、本発明に好ましく使用しうる直描型
平版印刷版原版の感熱層は、レーザー光を吸収し熱を発
生する化合物を含むことが好ましい。
The heat-sensitive layer of the direct-drawing lithographic printing plate precursor that can be preferably used in the present invention preferably contains a compound that absorbs laser light and generates heat.

【0036】レーザー光を吸収し熱を発生する化合物と
しては、カーボンブラック、チタンブラック、アニリン
ブラック、シアニンブラックなどの黒色顔料、フタロシ
アニン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、カーボングラ
ファイト、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯
体、フェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノ
ール系金属錯体、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、硫化
クロム、珪酸塩化合物や、酸化チタン、酸化バナジウ
ム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化タング
ステンなどの金属酸化物、これらの金属の水酸化物、硫
酸塩などを挙げることができる。
Examples of the compound that absorbs laser light and generates heat include black pigments such as carbon black, titanium black, aniline black, and cyanine black, phthalocyanine, naphthalocyanine-based green pigments, carbon graphite, diamine-based metal complexes, and dithiol. Metal complexes, phenol thiol metal complexes, mercaptophenol metal complexes, inorganic compounds containing water of crystallization, copper sulfate, chromium sulfide, silicate compounds, titanium oxide, vanadium oxide, manganese oxide, iron oxide, cobalt oxide, tungsten oxide And hydroxides and sulfates of these metals.

【0037】また、赤外線または近赤外線を吸収する色
素、特に染料が好ましく使用される。特に好ましい色素
としては、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシ
アニン系、ジチオール金属錯体系、ピアズレニウム系、
スクアリリウム系、クロコニウム系、アゾ系分散色素、
ビスアゾ系、ビスアゾスチルベン系、ナフトキノン系、
アントラキノン系、ペリレン系、ポリメチン系、インド
アニリン金属錯体染料、分子間型CT系、ベンゾチオピ
ラン系、スピロピラン系、ニグロシン系、チオインジゴ
系、ニトロソ系、キノリン系、フルギド系の色素、特に
染料などが挙げられる。
In addition, dyes that absorb infrared or near infrared rays, particularly dyes, are preferably used. Particularly preferred dyes include cyanine-based, phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, dithiol metal complex-based, piazurenium-based,
Squarylium-based, croconium-based, azo-based disperse dyes,
Bisazo type, bisazostilbene type, naphthoquinone type,
Anthraquinone, perylene, polymethine, indoaniline metal complex dyes, intermolecular CT, benzothiopyran, spiropyran, nigrosine, thioindigo, nitroso, quinoline, fulgide dyes, especially dyes, etc. .

【0038】これらの中では、幅広い波長にわたってレ
ーザー光を吸収するという点でカーボンブラックが、レ
ーザー光の吸収率などの点では、シアニン系、ポリメチ
ン系、ナフタロシアニン系の染料が特に好ましい。
Of these, carbon black is particularly preferable in that it absorbs laser light over a wide wavelength range, and cyanine, polymethine, and naphthalocyanine dyes are particularly preferable in terms of laser light absorption.

【0039】これら化合物の含有量は、全感熱層組成物
に対して1〜40重量%が好ましく、5〜25重量%が
より好ましい。1重量%以上とすることでレーザー光の
吸収を効率的に行うことが出来、40重量%以下とする
ことで感熱層の物性に悪影響を及ぼすこともなくなる。
The content of these compounds is preferably from 1 to 40% by weight, more preferably from 5 to 25% by weight, based on the total heat-sensitive layer composition. When the content is 1% by weight or more, the laser light can be efficiently absorbed. When the content is 40% by weight or less, the physical properties of the heat-sensitive layer are not adversely affected.

【0040】その他、感熱層中にはバインダーポリマー
や界面活性剤、各種添加剤を含有してもよい。これらの
バインダーの含有量は、全感熱層組成物に対して5〜7
0重量%が好ましく、10〜50重量%がより好まし
い。含有量が5%以上とすれば耐刷性や塗液の塗工性に
問題が生じることもなく、70重量%以下とすれば画像
再現性に悪影響もない。
In addition, the heat-sensitive layer may contain a binder polymer, a surfactant and various additives. The content of these binders is 5 to 7 with respect to the total thermosensitive layer composition.
0% by weight is preferable, and 10 to 50% by weight is more preferable. When the content is 5% or more, there is no problem in printing durability and coating properties of the coating solution, and when the content is 70% by weight or less, there is no adverse effect on image reproducibility.

【0041】また、本発明における感熱層の、照射レー
ザー光と同波長の光に対する透過率は20%未満である
こと、さらには10%未満であることが好ましい。感熱
層の透過率を20%未満にすることによって、感熱層全
体を透過する光を少なくすることが出来、感熱層表層で
の効果的な反応を行うことが出来る。さらに、感熱層全
体を透過する光を少なくすることが出来るので、感熱層
の下方からのエネルギーの反射による感熱層の余分な反
応を抑制することが出来る。
The transmittance of the heat-sensitive layer of the present invention to light having the same wavelength as the irradiation laser light is preferably less than 20%, and more preferably less than 10%. By setting the transmittance of the heat-sensitive layer to less than 20%, light transmitted through the entire heat-sensitive layer can be reduced, and an effective reaction can be performed on the surface layer of the heat-sensitive layer. Further, since light transmitted through the entire heat-sensitive layer can be reduced, unnecessary reaction of the heat-sensitive layer due to reflection of energy from below the heat-sensitive layer can be suppressed.

【0042】感熱層の厚さは、被覆層にして0.1〜1
0g/m2であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を揮
散し易く生産性に優れる点で好ましく、1〜5g/m2
がより好ましい。
The thickness of the heat-sensitive layer is 0.1 to 1 as a coating layer.
0 g / m 2 is preferable in terms of printing durability of the printing plate and excellent productivity because the diluting solvent is easily evaporated, and 1 to 5 g / m 2.
Is more preferred.

【0043】さらに、本発明の直描型印刷版原版は感熱
層上にインキ反発層としてのシリコーンゴム層を有する
ことが好ましい。シリコーンゴム層としては、付加重合
型のもの、縮合重合型のものいずれでも用いられるが、
取り扱い性、インキ反発性の面から付加重合型のシリコ
ーンゴム層が好ましい。
Further, the direct-printing printing plate precursor of the present invention preferably has a silicone rubber layer as an ink repellent layer on the heat-sensitive layer. As the silicone rubber layer, any of an addition polymerization type and a condensation polymerization type may be used.
An addition polymerization type silicone rubber layer is preferable from the viewpoint of handleability and ink repellency.

【0044】付加重合型のシリコーンゴム層を構成する
成分としては、ビニル基含有ポリジメチルシロキサン、
SiH基含有ポリシロキサン、さらには硬化速度を制御
する目的で反応抑制剤、および硬化触媒を含むものが挙
げられる。
The components constituting the addition polymerization type silicone rubber layer include vinyl group-containing polydimethylsiloxane,
Examples include SiH group-containing polysiloxanes, and those containing a reaction inhibitor and a curing catalyst for the purpose of controlling the curing rate.

【0045】縮合重合型のシリコーンゴム層を構成する
成分としては、水酸基含有ポリジメチルシロキサン、架
橋剤(脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱ア
ミン型、脱アセトン型、脱アミド型、脱アミノキシ型な
ど)、および硬化触媒を含むものが挙げられる。
The components constituting the silicone rubber layer of the condensation polymerization type include a hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane, a crosslinking agent (deacetic acid type, deoxime type, dealcohol type, deamine type, deacetone type, deamide type, Deaminoxy type, etc.), and those containing a curing catalyst.

【0046】これらシリコーンゴム層の膜厚は0.5〜
20g/m2が好ましく、1〜4g/m2がさらに好まし
い。膜厚が0.5g/m2以上とすることにより印刷版
のインキ反撥性や耐傷性、耐刷性を安定して発現させる
ことが出来、20g/m2以下とすることで、現像性、
インキマイレージを良好に維持することが出来る。
The thickness of these silicone rubber layers is 0.5 to
Preferably 20 g / m 2, more preferably 1 to 4 g / m 2. When the film thickness is 0.5 g / m 2 or more, the ink repellency, scratch resistance, and printing durability of the printing plate can be stably exhibited, and when the film thickness is 20 g / m 2 or less, the developing property,
Good ink mileage can be maintained.

【0047】さらに、本発明で用いられる直描型平版印
刷版原版には、インキ反発層を保護する目的で保護フィ
ルムをラミネートするかあるいは保護層を形成してもよ
い。保護フィルムとしてはポリエステルフィルム、ポリ
プロピレンフィルムなどが挙げられる。
Further, a protective film may be laminated or a protective layer may be formed on the direct drawing type lithographic printing plate precursor used in the present invention for the purpose of protecting the ink repellent layer. Examples of the protective film include a polyester film and a polypropylene film.

【0048】次に直描型水なし平版印刷版の製造の方法
について説明する。
Next, a method for producing a direct drawing type waterless planographic printing plate will be described.

【0049】本発明の直描型水なし平版印刷版の製造方
法は、(1)レーザー照射により、感熱層表層を反応さ
せる工程、(2)有機溶媒で処理する工程、(3)水存
在下でのブラシ擦りによりレーザー照射部のインキ反発
層を除去する工程、を含む。
The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate of the present invention comprises: (1) a step of causing the surface layer of the heat-sensitive layer to react by laser irradiation, (2) a step of treating with an organic solvent, and (3) the presence of water. Removing the ink-repellent layer in the laser-irradiated part by brush rubbing.

【0050】レーザー照射に用いられる光源としては、
発光波長領域が300nm〜1500nmの範囲にある
ものが用いられるが、明室での版材の取扱い性などの観
点から近赤外領域付近に発光波長領域が存在する半導体
レーザーやYAGレーザーが好ましく用いられる。具体
的には、830nm、1064nmの波長のレーザー光
が製版に好ましく用いられる。
Light sources used for laser irradiation include:
A laser having an emission wavelength region in the range of 300 nm to 1500 nm is used, and a semiconductor laser or a YAG laser having an emission wavelength region near the near infrared region is preferably used from the viewpoint of handleability of the plate material in a bright room. Can be Specifically, laser light having a wavelength of 830 nm or 1064 nm is preferably used for plate making.

【0051】レーザー照射は、直描型水なし平版印刷版
原版に対し、保護フィルムを剥離してから、あるいは保
護フィルム上から行う。
The laser irradiation is carried out after peeling off the protective film from the direct drawing type waterless planographic printing plate precursor or from above the protective film.

【0052】レーザー照射を行うと、感熱層中の光を吸
収し熱を発生する化合物により、レーザー光が吸収され
熱が発生する。この時、感熱層の透過率が低いため、レ
ーザー光は感熱層の表層付近ほど多く吸収され、それ
故、感熱層表層付近ほど高温になりやすい。従って、レ
ーザー光照射量を調整することで、感熱層表層付近のみ
反応を起こさせることが可能となる。その結果、レーザ
ー照射部の感熱層表層のみが溶解または膨潤する。
When laser irradiation is performed, the compound that absorbs light in the thermosensitive layer and generates heat absorbs the laser light and generates heat. At this time, since the transmittance of the heat-sensitive layer is low, the laser light is more absorbed near the surface layer of the heat-sensitive layer, and therefore, the temperature tends to be higher near the surface layer of the heat-sensitive layer. Therefore, by adjusting the amount of laser light irradiation, it is possible to cause a reaction only in the vicinity of the surface layer of the heat-sensitive layer. As a result, only the surface layer of the heat-sensitive layer in the laser irradiation part dissolves or swells.

【0053】一般式(I)で表される構造を有する化合
物は、前述のように熱の作用で反応し、感熱層の溶解性
や膨潤率などに変化を生じる。その結果、有機溶媒で処
理することにより感熱層表層にあった上記化合物が溶解
あるいは膨潤し、シリコーンゴム層との接着力が弱めら
れる。
The compound having the structure represented by the general formula (I) reacts by the action of heat as described above, and changes the solubility and swelling ratio of the heat-sensitive layer. As a result, the treatment with the organic solvent dissolves or swells the above-mentioned compound in the surface layer of the heat-sensitive layer, thereby weakening the adhesive force with the silicone rubber layer.

【0054】ここでの処理に用いられる有機溶媒として
は、下記一般式(IX)で表されるグリコール化合物あ
るいはグリコールエーテル化合物が好ましい。
As the organic solvent used in the treatment, a glycol compound or a glycol ether compound represented by the following general formula (IX) is preferable.

【0055】 R2O−(CHR1−CH2−O−)n3 (IX) (式中、R1は水素原子あるいは炭素数1〜5のアルキ
ル基、R2およびR3は水素原子あるいは炭素数1〜15
のアルキル基を示し、nは1〜12の整数である。)特
に好ましい具体的な化合物の一例としては、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレン
グリコール、テトラプロピレングリコール、ポリオキシ
プロピレングリコール(Mw:200)、ポリオキシプ
ロピレングリコールモノブチルエーテル(Mw:120
0)、テトラエチレングリコールモノ−2−エチルヘキ
シルエーテル、ジエチレングリコールモノ−2−エチル
ヘキシルエーテルなどが挙げられる。
R 2 O— (CHR 1 —CH 2 —O—) n R 3 (IX) (wherein, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 2 and R 3 are hydrogen atoms Or 1 to 15 carbon atoms
Wherein n is an integer of 1 to 12. Examples of particularly preferred specific compounds include diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol, polyoxypropylene glycol (Mw: 200), and polyoxypropylene glycol monobutyl ether. (Mw: 120
0), tetraethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, and the like.

【0056】また、上記処理液中は、アルカリやアミン
化合物を含有することが好ましい。特に好ましい具体的
な化合物の一例としては、ジエチレングリコールアミ
ン、N−(β−アミノエチル)アミノエタノール、ジエ
タノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、モル
ホリン、N−メチルモルホリン、N−(3−アミノプロ
ピル)モルホリンなどが挙げられる。これらアミン化合
物は処理液中に、0.1〜30重量%含有することが好
ましく、さらには0.5〜20重量%が好ましい。
The treatment liquid preferably contains an alkali or an amine compound. Examples of particularly preferred specific compounds include diethylene glycol amine, N- (β-aminoethyl) aminoethanol, diethanolamine, N-methyldiethanolamine, morpholine, N-methylmorpholine, and N- (3-aminopropyl) morpholine. No. These amine compounds are preferably contained in the treatment liquid in an amount of 0.1 to 30% by weight, more preferably 0.5 to 20% by weight.

【0057】さらに、上記処理液には、必要に応じて
水、アルコール類、カルボン酸類、界面活性剤を添加し
てもよい。
Further, water, alcohols, carboxylic acids, and a surfactant may be added to the above-mentioned treatment liquid, if necessary.

【0058】このような処理液により、レーザー照射部
の感熱層表層を溶解あるいは膨潤させるが、安定して溶
解あるいは膨潤させるために、処理液の温度を一定に保
つことが好ましい。適当な処理液温度は、処理の時間に
も依存するが、保持のし易さなどの観点から10〜50
℃、さらには35〜45℃が好ましい。
Although the surface layer of the heat-sensitive layer in the laser-irradiated portion is dissolved or swelled by such a treatment liquid, the temperature of the treatment liquid is preferably kept constant in order to stably dissolve or swell. The appropriate temperature of the processing solution depends on the processing time, but is preferably 10 to 50 from the viewpoint of easy retention.
C, more preferably 35-45C.

【0059】このように有機溶媒で処理し、レーザー照
射部の感熱層表面を溶解あるいは膨潤させた直描型水な
し平版印刷版原版を、水の存在下、ブラシで擦ることに
よりレーザー照射部のインキ反発層を除去する。
The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor obtained by dissolving or swelling the surface of the heat-sensitive layer of the laser-irradiated portion treated with an organic solvent as described above is rubbed with a brush in the presence of water to thereby form a laser-irradiated portion. Remove the ink repellent layer.

【0060】以上のような工程を含む印刷版の製造は、
手による方法でもよいが、東レ(株)製“TWL−11
60”や“TWL−650”、“TWL−860”、あ
るいは特許第2864907号公報や、特開平6−25
8842号公報、特開平6−258843号公報、特開
平6−258844号公報、特開平7−92692号公
報などで開示されているような水なし平版印刷版用の自
動現像機を用いることが好ましい。
The production of a printing plate including the above steps is as follows.
A manual method may be used, but “TWL-11” manufactured by Toray Industries, Inc.
60, "TWL-650", "TWL-860", Japanese Patent No. 2864907, and
It is preferable to use an automatic developing machine for a waterless lithographic printing plate as disclosed in JP-A-8842, JP-A-6-258842, JP-A-6-258844, JP-A-7-92692 and the like. .

【0061】ブラシとしては、直径20〜500μmの
ブラシ素材を金属あるいはプラスチックなどの溝型材に
列状に植え込んだものを芯に取り付けたブラシローラが
一般的であるが、上記ブラシ素材を金属あるいはプラス
チックなどの芯に放射状に植え込んだものでもよく、上
記ブラシ素材をプラスチックシートあるいは布などの基
材に植え込んだものを芯に巻いたものでもよい。
As a brush, a brush roller is generally used in which a brush material having a diameter of 20 to 500 μm is implanted in a groove shape such as metal or plastic in a row, and the brush material is attached to a core. The brush material may be radially implanted in the core, or the brush material implanted in a base material such as a plastic sheet or cloth may be wound around the core.

【0062】ブラシ材質としては、ポリ塩化ビニル、ポ
リアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレン
テレフタレートおよびポリプロピレンの群から選ばれる
少なくとも1種とすることにより、ブラシによる印刷版
のインキ反発層を傷つけることなく、またブラシの力不
足によるレーザー照射部のインキ反発層の除去不良を防
止できる。
The brush material is at least one selected from the group consisting of polyvinyl chloride, polyamide, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polypropylene, so that the ink repellent layer of the printing plate is not damaged by the brush, and the brush is not damaged. Insufficient removal of the ink repellent layer at the laser irradiation part due to insufficient power can be prevented.

【0063】さらにブラシローラの回転数は10〜10
00rpm、好ましくは200〜600rpmである。
また、ブラシローラを回転すると共に、軸方向へ往復運
動させることにより、レーザー照射部のインキ反発層除
去効果が向上する。ブラシローラの回転方向としては、
印刷版の搬送方向と同方向のもの、および逆方向のもの
の両方を有することが、レーザー照射部のインキ反発層
除去の観点から重要である。
Further, the number of rotations of the brush roller is 10 to 10
00 rpm, preferably 200 to 600 rpm.
In addition, by rotating the brush roller and reciprocating in the axial direction, the effect of removing the ink repellent layer at the laser irradiation portion is improved. As the rotation direction of the brush roller,
It is important from the viewpoint of removing the ink repellent layer of the laser irradiation part to have both the one in the same direction as the transport direction of the printing plate and the one in the opposite direction.

【0064】このようにして得られた直描型水なし平版
印刷版については、画線部となるレーザー照射部の感熱
層を染色し、画線部と非画線部のコントラストをつけ、
画像視認性を高めることも好ましく行われる。染色に用
いられる染料としては、特に水溶性の塩基性染料、酸性
染料が好ましく用いられる。具体的には、クリスタルバ
イオレット、エチルバイオレット、ビクトリアピュアブ
ルー、ビクトリアブルー、メチルバイオレット、Brilli
ant Basic Cyanine 6GHなどが挙げられるが、これら
に限定されるものではない。
The direct-drawing waterless planographic printing plate thus obtained was dyed with a heat-sensitive layer in the laser-irradiated portion serving as an image portion to give a contrast between the image portion and the non-image portion.
Enhancing image visibility is also preferably performed. As the dye used for dyeing, a water-soluble basic dye and an acid dye are particularly preferably used. Specifically, crystal violet, ethyl violet, Victoria Pure Blue, Victoria Blue, methyl violet, Brilli
ant Basic Cyanine 6GH and the like, but are not limited thereto.

【0065】このように染色を行った直描型水なし平版
印刷版は、さらに水を用いて洗浄してもよい。
The direct-drawing waterless planographic printing plate thus dyed may be further washed with water.

【0066】また、陽極酸化処理などの親水化処理され
たアルミ基板上に、一般式(I)で表される構造を有す
る化合物を含む感熱層を設けることで、直描型の水あり
平版印刷版原版を得ることが出来る。
Further, by providing a heat-sensitive layer containing a compound having a structure represented by the general formula (I) on an aluminum substrate which has been subjected to a hydrophilic treatment such as anodizing treatment, a direct drawing type lithographic printing with water is provided. You can get the original plate.

【0067】レーザー照射により、感熱層を反応させ、
アルカリ現像液などを用いることで、レーザー照射部の
感熱層を除去する。この場合、感熱層全体を反応させる
ことが必要であるため、感熱層の透過率を高くし、レー
ザー光が感熱層全体を出来るだけ多く透過するように設
計することが好ましい。
The heat-sensitive layer is reacted by laser irradiation,
By using an alkali developer or the like, the heat-sensitive layer at the laser irradiation part is removed. In this case, it is necessary to react the entire heat-sensitive layer. Therefore, it is preferable to design the heat-sensitive layer so that the transmittance of the heat-sensitive layer is high and the laser light is transmitted as much as possible through the entire heat-sensitive layer.

【0068】現像に用いるアルカリ現像液としては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、メタ珪酸ナトリウム
などのアルカリ、界面活性剤などを含むものを用いるこ
とが出来る。
As the alkali developer used for the development, those containing an alkali such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and sodium metasilicate, a surfactant and the like can be used.

【0069】[0069]

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0070】[実施例1] <<一般式(I)で表される構造を有する化合物1の合
成>>100mlのナス型フラスコに、“スミライトレ
ジン”PR50622(フェノールノボラック樹脂、住
友デュレズ(株)製)を5.5g秤り取り、さらにモレ
キュラーシーブ4Aで乾燥済みのテトラヒドロフラン6
5gを注ぎ込んだ。これを、30℃で、スターラーを用
いて攪拌することによりフェノールノボラック樹脂のテ
トラヒドロフラン溶液(淡黄色)を作製した。この溶液
に、“オルガチックス”TC−125(松本製薬工業
(株)製、チタンジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4
−ペンタンジオネート)のアセチルアセトン溶液:黄
色)2gを滴下ロートを用いて滴下したところ、溶液が
褐色に変化した。さらに1時間、30℃で攪拌を続ける
ことにより、一般式(I)で表される構造を有する化合
物1の溶液を得た。
Example 1 << Synthesis of Compound 1 Having a Structure Represented by General Formula (I) >> In a 100 ml eggplant-shaped flask, "Sumilite Resin" PR50622 (phenol novolak resin, Sumitomo Durez Co., Ltd.) )), Weigh out 5.5 g, and further dry tetrahydrofuran 6 with molecular sieve 4A.
5 g were poured. This was stirred at 30 ° C. using a stirrer to prepare a phenol novolak resin in tetrahydrofuran solution (pale yellow). To this solution was added "Orgatics" TC-125 (manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd., titanium di-n-butoxide (bis-2,4)).
2 g of an acetylacetone solution of (pentanedionate): yellow) was added dropwise using a dropping funnel, and the solution turned brown. The solution was further stirred for 1 hour at 30 ° C. to obtain a solution of compound 1 having a structure represented by the general formula (I).

【0071】得られた化合物(I)の溶液のUVスペク
トルを測定したところ、フェノールノボラック樹脂溶液
や、チタンジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4−ペン
タンジオネート)の溶液では見られなかった吸収が36
0nm付近に認められた。
When the UV spectrum of the obtained solution of the compound (I) was measured, it was found that the absorption was not observed in the phenol novolak resin solution or the titanium di-n-butoxide (bis-2,4-pentanedionate) solution. Is 36
It was observed near 0 nm.

【0072】さらに、化合物(I)の溶液をアルミ基板
上に塗布し、130℃×60秒間乾燥した。得られた塗
膜を赤外吸収スペクトルで観察したところ、ノボラック
樹脂由来の吸収に加え、ビス−2,4−ペンタンジオネ
ートに由来する吸収が1025cm−1に認められた。
また、この塗膜の一部をTG−MASにかけたところ、
150℃付近において、2,4−ペンタンジオネートの
発生が測定された。これらの結果から、図1に示したよ
うな構造式を有すると予想される化合物1の生成が確認
できた。
Further, a solution of the compound (I) was applied on an aluminum substrate and dried at 130 ° C. for 60 seconds. Observation of the obtained coating film by an infrared absorption spectrum revealed that absorption derived from bis-2,4-pentanedionate was observed at 1025 cm-1 in addition to absorption derived from the novolak resin.
When a part of this coating film was subjected to TG-MAS,
At around 150 ° C., the generation of 2,4-pentanedionate was measured. From these results, it was confirmed that Compound 1 was expected to have the structural formula as shown in FIG.

【0073】<<直描型平版印刷版原版1の作製>>厚
さ0.24mmの脱脂したアルミ板上に下記の組成より
なる溶液をバーコーターにより塗布し、130℃×60
秒間乾燥し、1.0g/m2の感熱層を設けた。 <感熱層1> (a)“KAYASORB”IR−820B(日本化薬
(株)製):11重量部 (b)一般式(I)で表される構造を有する化合物1の
溶液:780重量部 (c)“サンプレン”T1331D(ポリウレタン、三
洋化成工業(株)製):10重量部(固形分として10
重量部) (d)m−キシリレンジアミン/グリシジルメタクリレ
ート/3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン:
1/3/1モル比付加物:10重量部 次いで、下記シリコーンゴム層を乾燥膜厚2.0μm、
乾燥条件は125℃×1分間としてバーコーターにより
塗設した。
<< Preparation of Direct-Drawing Lithographic Printing Plate Precursor 1 >> A solution having the following composition was applied on a degreased aluminum plate having a thickness of 0.24 mm using a bar coater, and then heated to 130 ° C. × 60.
After drying for 2 seconds, a heat-sensitive layer of 1.0 g / m 2 was provided. <Thermal layer 1> (a) "KAYASORB" IR-820B (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 11 parts by weight (b) Solution of compound 1 having a structure represented by the general formula (I): 780 parts by weight (C) "SAMPLEN" T1331D (polyurethane, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.): 10 parts by weight (solid content of 10%)
(D) m-xylylenediamine / glycidyl methacrylate / 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane:
1/3/1 molar ratio adduct: 10 parts by weight Then, the following silicone rubber layer was dried to a thickness of 2.0 μm,
The drying condition was 125 ° C. × 1 minute, and the coating was performed with a bar coater.

【0074】<シリコーンゴム層1> (a)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(分子
量約60,000):100重量部 (b)“HMS−501”(チッソ(株)製 両末端メ
チル(メチルハイドロジェンシロキサン)(ジメチルシ
ロキサン)共重合体 SiH基数/分子量=0.69mo
l/g):7重量部 (c)ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラ
ン:3重量部 (d)“SRX−212”(東レダウコーニングシリコ
ーン(株)製、白金触媒):5重量部 (e)“アイソパー”E(エッソ化学(株)製):10
00重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ8μmのポリ
プロピレンフィルム“トレファン”BO(東レ(株)
製)をカレンダーローラーを用いてラミネートし、直描
型平版印刷版原版1を得た。
<Silicone Rubber Layer 1> (a) α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (molecular weight: about 60,000): 100 parts by weight (b) “HMS-501” (manufactured by Chisso Corp. (Hydrogensiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer Number of SiH groups / molecular weight = 0.69 mol
l / g): 7 parts by weight (c) Vinyl tri (methylethyl ketoxime) silane: 3 parts by weight (d) "SRX-212" (Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd., platinum catalyst): 5 parts by weight (e) " Isopar E (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.): 10
00 parts by weight On the laminate obtained as described above, an 8 μm thick polypropylene film “Trefane” BO (Toray Industries, Inc.)
Was laminated using a calendar roller to obtain a direct-lithographic printing plate precursor 1.

【0075】<<平版印刷版の製造>>上記のようにし
て得られた直描型平版印刷版原版1を、カバーフィルム
を剥離後、「GX−3600」(製版機、東レ(株))
に装着し、半導体レーザー(波長830nm)を用いて
レーザー照射を行った(照射エネルギー175mJ/c
2、2400dpi、175lpi)。
<< Manufacture of Lithographic Printing Plate >> The direct-drawing lithographic printing plate precursor 1 obtained as described above was peeled off from the cover film and then subjected to “GX-3600” (plate making machine, Toray Industries, Ltd.).
And irradiated with a laser using a semiconductor laser (wavelength: 830 nm) (irradiation energy: 175 mJ / c).
m 2, 2400dpi, 175lpi).

【0076】その後、水なし平版印刷版用自動現像機
“TWL−860KII”(東レ(株)製)を用いて、自
動現像機の第1槽には下記処理液を、第2槽、第3槽に
は水を入れ、直描型平版印刷版の製造を行った。
Thereafter, using an automatic developing machine “TWL-860KII” (manufactured by Toray Industries, Inc.) for a waterless lithographic printing plate, the following processing solution was placed in a first tank of the automatic developing machine, and a second tank and a third tank were prepared. The tank was filled with water to produce a direct-drawing lithographic printing plate.

【0077】処理液は、ジエチレングリコール:80重
量部、ジエチレングリコールアミン:15重量部、2−
エチルヘキシル硫酸ナトリウム(アニオン性界面活性
剤)の40%水溶液:1重量部、水:4重量部、温度は
40℃、処理時間は30秒とした。ブラシ擦り工程(印
刷版の搬送方向と同方向回転工程、および逆方向回転工
程)の液体は水を用いた。水の温度は25℃であった。
The treatment liquid was composed of 80 parts by weight of diethylene glycol, 15 parts by weight of diethylene glycol amine,
A 40% aqueous solution of sodium ethylhexyl sulfate (anionic surfactant): 1 part by weight, water: 4 parts by weight, the temperature was 40 ° C., and the treatment time was 30 seconds. Water was used as the liquid in the brush rubbing step (the step of rotating in the same direction as the transport direction of the printing plate, and the step of rotating in the reverse direction). The water temperature was 25 ° C.

【0078】この結果、レーザー光が照射された部分の
シリコーンゴム層が除去された直描型平版印刷版が得ら
れた。
As a result, a direct drawing type lithographic printing plate was obtained in which the silicone rubber layer in the portion irradiated with the laser beam was removed.

【0079】<<画像再現性の評価>>得られた印刷版
を25倍のルーペで観察することにより、印刷版として
の画像再現性を評価したところ、1〜99%の再現性で
あった。
<< Evaluation of Image Reproducibility >> The resulting printing plate was observed with a 25-power loupe to evaluate the image reproducibility of the printing plate. The reproducibility was 1 to 99%. .

【0080】さらに、印刷版を枚葉オフセット印刷機
「スプリント25」(小森コーポレーション(株)製)
に取り付け、水なし平版用インキ“ドライオカラーNS
I”、藍(大日本インキ化学工業(株)製)を使用して
上質紙(62.5kg/菊)に印刷し、印刷物としての画像再
現性を評価したところ、1〜99%の再現性であった。
Further, the printing plate was converted to a sheet-fed offset printing press “Sprint 25” (manufactured by Komori Corporation).
Lithographic ink "Dryocolor NS"
I ", printed on high-quality paper (62.5 kg / chrysanthemum) using indigo (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), and evaluated for image reproducibility as a printed material. there were.

【0081】[比較例1]実施例1において化合物1を
用いる代わりに、同量のフェノールノボラック樹脂“ス
ミライトレジン”PR50622(住友デュレズ(株)
製)を用いて印刷版原版2を作製し、実施例1と同様に
評価した。その結果、シリコーンゴム層が全面にわたり
剥がれてしまった。
Comparative Example 1 Instead of using Compound 1 in Example 1, the same amount of phenol novolak resin “Sumilite Resin” PR50622 (Sumitomo Durez Co., Ltd.)
Printing Plate Precursor 2 was produced using the same method as described in Example 1. As a result, the silicone rubber layer was peeled off over the entire surface.

【0082】この結果は、本発明の化合物を含まないた
めに感熱層の耐溶剤性が発現しないため、上層のシリコ
ーンゴム層が剥がれたことを示している。
The results show that the solvent-resistant layer of the heat-sensitive layer did not exhibit solvent resistance because it did not contain the compound of the present invention, so that the upper silicone rubber layer was peeled off.

【0083】[比較例2]実施例1において、感熱層の
組成を以下のように変更して同様に印刷版原版3を作製
し、同様に評価した。
[Comparative Example 2] A printing plate precursor 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the heat-sensitive layer was changed as follows, and evaluated in the same manner.

【0084】<感熱層2> (a)“KAYASORB”IR−820B(日本化薬
(株)製):11重量部 (b)“オルガチックス”TC−125(松本製薬工業
(株)製、チタンジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4
−ペンタンジオネート)のアセチルアセトン溶液):9
重量部(固形分濃度40重量%として計算。固形分とし
て9重量部) (c)“サンプレン”T1331D(ポリウレタン、三
洋化成工業(株)製):70重量部(固形分として10
重量部) (d)m−キシリレンジアミン/グリシジルメタクリレ
ート/3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン:
1/3/1モル比付加物:10重量部 (e)テトラヒドロフラン:800重量部 (f)ジメチルホルムアミド:100重量部 その結果、シリコーンゴム層が全面にわたり剥がれてし
まった。
<Thermal Sensitive Layer 2> (a) “KAYASORB” IR-820B (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 11 parts by weight (b) “Orgatics” TC-125 (manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd., -N-butoxide (bis-2,4
-Pentandionate solution in acetylacetone): 9
Parts by weight (calculated as solid content concentration of 40% by weight; solids content of 9 parts by weight) (c) "SAMPLEN" T1331D (polyurethane, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.): 70 parts by weight (solid content of 10 parts)
(D) m-xylylenediamine / glycidyl methacrylate / 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane:
1/3/1 molar ratio adduct: 10 parts by weight (e) Tetrahydrofuran: 800 parts by weight (f) Dimethylformamide: 100 parts by weight As a result, the silicone rubber layer was peeled over the entire surface.

【0085】この結果は、本発明の化合物を含まないた
めに感熱層の耐溶剤性が発現しないため、上層のシリコ
ーンゴム層が剥がれたことを示している。
The results show that the solvent-resistant layer of the heat-sensitive layer did not exhibit solvent resistance because it did not contain the compound of the present invention, so that the upper silicone rubber layer was peeled off.

【0086】[比較例3]実施例1において、感熱層の
組成を以下のように変更して同様に印刷版原版4を作製
し、同様に評価した。
[Comparative Example 3] A printing plate precursor 4 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the heat-sensitive layer was changed as follows, and evaluated in the same manner.

【0087】<感熱層3> (a)“KAYASORB”IR−820B(日本化薬
(株)製):11重量部 (b)鉄(III)アセチルアセトナート:15重量部 (c)“スミライトレジン”PR50622(フェノー
ルノボラック樹脂、住友デュレズ(株)製):60重量
部 (d)“サンプレン”T1331D(ポリウレタン、三
洋化成工業(株)製):10重量部(固形分として10
重量部) (e)m−キシリレンジアミン/グリシジルメタクリレ
ート/3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン:
1/3/1モル比付加物:10重量部 (f)テトラヒドロフラン:800重量部 (g)ジメチルホルムアミド:100重量部 その結果、微小点のシリコーンゴム層が剥がれた画像再
現性の悪い印刷版しか得られなかった。
<Thermal Sensitive Layer 3> (a) "KAYASORB" IR-820B (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 11 parts by weight (b) Iron (III) acetylacetonate: 15 parts by weight (c) "Sumilite" Resin "PR50622 (phenol novolak resin, manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd.): 60 parts by weight (d)" SAMPLEN "T1331D (polyurethane, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.): 10 parts by weight (solid content: 10 parts)
(Parts by weight) (e) m-xylylenediamine / glycidyl methacrylate / 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane:
1/3/1 molar ratio adduct: 10 parts by weight (f) Tetrahydrofuran: 800 parts by weight (g) Dimethylformamide: 100 parts by weight As a result, only the printing plate with poor image reproducibility in which the silicone rubber layer at minute points was peeled off was obtained. Could not be obtained.

【0088】この結果は、感熱層中にフェノールノボラ
ック樹脂および、有機金属化合物である鉄(III)ア
セチルアセトナートを含んではいるが、一般式(I)で
表される構造を有する化合物を含まないために感熱層の
耐溶剤性が十分ではなく、また画像再現性も悪いことを
示している。
The results show that the heat-sensitive layer contains the phenol novolak resin and the organometallic compound iron (III) acetylacetonate, but does not contain the compound having the structure represented by the general formula (I). Therefore, the solvent resistance of the heat-sensitive layer is not sufficient, and the image reproducibility is also poor.

【0089】[0089]

【表1】 [Table 1]

【0090】[0090]

【発明の効果】本発明によれば、画像再現性の良好な直
描型平版印刷版が得られる。
According to the present invention, a direct drawing type lithographic printing plate having good image reproducibility can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明において、特に好ましい構造である式
(III)で表される化合物の一例。
FIG. 1 shows an example of a compound represented by formula (III), which is a particularly preferred structure in the present invention.

フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA04 AB04 AC08 BC64 CA41 CB10 CB17 CB22 CB28 CB29 CB41 CB43 CB45 CC12 CC13 CC20 DA37 FA17 2H096 AA13 BA09 EA23 GA08 GA27 2H114 AA05 AA22 AA24 AA30 BA01 BA10 DA03 DA05 DA08 DA09 DA21 DA27 DA39 DA41 DA55 DA56 DA59 DA60 DA62 EA01 EA02 EA08 Continued on front page F-term (reference) 2H025 AA04 AB04 AC08 BC64 CA41 CB10 CB17 CB22 CB28 CB29 CB41 CB43 CB45 CC12 CC13 CC20 DA37 FA17 2H096 AA13 BA09 EA23 GA08 GA27 2H114 AA05 AA22 AA24 AA30 DA03 DA03 DA03 DA56 DA59 DA60 DA62 EA01 EA02 EA08

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に、少なくとも感熱層を有する直描
型平版印刷版原版であって、該感熱層が下記一般式
(I)で表される構造を有する化合物を含むことを特徴
とする直描型平版印刷版原版。 M(A)n(B)m(C)l (I) (Mは金属原子または有機成分、Aは有機高分子成分、
Bは有機低分子成分、Cは有機低分子成分である、ま
た、n、mは1以上の整数、lは0または1以上の整数
である。)
1. A direct-drawing lithographic printing plate precursor having at least a heat-sensitive layer on a substrate, wherein the heat-sensitive layer contains a compound having a structure represented by the following general formula (I). Direct drawing type lithographic printing plate precursor. M (A) n (B) m (C) l (I) (M is a metal atom or an organic component, A is an organic polymer component,
B is an organic low-molecular component, C is an organic low-molecular component, n and m are integers of 1 or more, and l is 0 or an integer of 1 or more. )
【請求項2】上記一般式(I)で表される構造を有する
化合物が、下記一般式(II)〜(VIII)で表され
る構造を有する化合物から選ばれるものであることを特
徴とする請求項1記載の直描型平版印刷版原版。 M(A)2(B)1 (II) M(A)2(B)2 (III) M(A)2(B)1(C) 1 (IV) M(A)3(B)1 (V) M(A)2(B)3 (VI) M(A)3(B)2 (VII) M(A)4(B)1 (VIII) (Mは金属原子、Aは有機高分子成分、B、Cは有機低
分子成分である。)
2. The compound having a structure represented by the general formula (I) is selected from compounds having a structure represented by the following general formulas (II) to (VIII). The lithographic printing plate precursor according to claim 1. M (A) 2 (B) 1 (II) M (A) 2 (B) 2 (III) M (A) 2 (B) 1 (C) 1 (IV) M (A) 3 (B) 1 ( V) M (A) 2 (B) 3 (VI) M (A) 3 (B) 2 (VII) M (A) 4 (B) 1 (VIII) (M is a metal atom, A is an organic polymer component) , B and C are organic low molecular components.)
【請求項3】上記一般式(I)で表される構造を有する
化合物において、MがAl、Ti、Mn、Fe、Co、
Ni、Cu、Zn、Ge、In、Sn、Zr、Hf、の
群から選ばれるものであることを特徴とする請求項1〜
2のいずれかに記載の直描型平版印刷版原版。
3. A compound having a structure represented by the above general formula (I), wherein M is Al, Ti, Mn, Fe, Co,
4. A material selected from the group consisting of Ni, Cu, Zn, Ge, In, Sn, Zr, and Hf.
2. The direct-lithographic printing plate precursor according to any one of 2.
【請求項4】上記一般式(I)で表される構造を有する
化合物において、有機高分子成分Aが、ノボラック樹
脂、レゾール樹脂、ヒドロキシスチレンの単独および共
重合体、フェノール・フルフラール樹脂、フラン樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂、水酸基含有ポリウレタン樹
脂、ロジン変性マレイン酸樹脂、の群から選ばれるもの
であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載
の直描型平版印刷版原版。
4. A compound having a structure represented by the general formula (I), wherein the organic polymer component A is a novolak resin, a resole resin, a homo- or copolymer of hydroxystyrene, a phenol-furfural resin, a furan resin. ,
The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 3, wherein the lithographic printing plate precursor is a member selected from the group consisting of an unsaturated polyester resin, a hydroxyl group-containing polyurethane resin, and a rosin-modified maleic acid resin.
【請求項5】上記一般式(I)で表される構造を有する
化合物において、有機低分子成分Bが、β−ジケトンで
あることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の
直描型平版印刷版原版。
5. The compound according to claim 1, wherein in the compound having the structure represented by the general formula (I), the low-molecular organic component B is β-diketone. A lithographic printing plate precursor.
【請求項6】基板上に、下記一般式(I)で表される構
造を有する化合物を少なくとも含む感熱層、インキ反発
層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版の製造方法
であって、(1)レーザー照射により、感熱層表層を反
応させる工程、(2)有機溶媒で処理する工程、(3)
水存在下でのブラシ擦りによりレーザー照射部のインキ
反発層を除去する工程、を含むことを特徴とする直描型
水なし平版印刷版の製造方法。 M(A)n(B)m(C)l (I) (Mは金属原子または有機成分、Aは有機高分子成分、
Bは有機低分子成分、Cは有機低分子成分である、ま
た、n、mは1以上の整数、lは0または1以上の整数
である。)
6. A method for producing a direct drawing type waterless lithographic printing plate having a thermosensitive layer containing at least a compound having a structure represented by the following general formula (I) and an ink repellent layer on a substrate in this order. (1) a step of reacting the surface layer of the heat-sensitive layer by laser irradiation, (2) a step of treating with an organic solvent, (3)
Removing the ink-repellent layer of the laser-irradiated portion by brush rubbing in the presence of water. M (A) n (B) m (C) l (I) (M is a metal atom or an organic component, A is an organic polymer component,
B is an organic low-molecular component, C is an organic low-molecular component, n and m are integers of 1 or more, and l is 0 or an integer of 1 or more. )
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