JP2001221720A - ガス分析計の校正方法及び校正装置 - Google Patents
ガス分析計の校正方法及び校正装置Info
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- JP2001221720A JP2001221720A JP2000034321A JP2000034321A JP2001221720A JP 2001221720 A JP2001221720 A JP 2001221720A JP 2000034321 A JP2000034321 A JP 2000034321A JP 2000034321 A JP2000034321 A JP 2000034321A JP 2001221720 A JP2001221720 A JP 2001221720A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガス分析計に対するガス流を円滑に切り換
え、ガス分析計の指示値に悪い影響を与えることなく、
簡単な機器構成にできるガス分析計の校正方法及び校正
装置を提供する。 【解決手段】 サンプルガスが供給されるサンプリング
流路２から分岐する複数のガス供給路６，７の各々にガ
ス分析計８，９を設け、前記複数のガス供給路６，７の
各々に校正ガスの供給手段１２，１３を設け、前記複数
の供給手段６，７から前記サンプリング流路２にオーバ
ーフローする校正ガスの圧力損失が略均等となる位置に
圧力調整手段５を設ける装置とし、前記圧力調整手段５
に前記サンプルガスの全量に加えて前記校正ガスの一部
をオーバーフローさせる方法で校正を行う。
え、ガス分析計の指示値に悪い影響を与えることなく、
簡単な機器構成にできるガス分析計の校正方法及び校正
装置を提供する。 【解決手段】 サンプルガスが供給されるサンプリング
流路２から分岐する複数のガス供給路６，７の各々にガ
ス分析計８，９を設け、前記複数のガス供給路６，７の
各々に校正ガスの供給手段１２，１３を設け、前記複数
の供給手段６，７から前記サンプリング流路２にオーバ
ーフローする校正ガスの圧力損失が略均等となる位置に
圧力調整手段５を設ける装置とし、前記圧力調整手段５
に前記サンプルガスの全量に加えて前記校正ガスの一部
をオーバーフローさせる方法で校正を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、サンプリング流路
から分岐する複数のガス供給路の各々に設けられた複数
のガス分析計の校正方法及び校正装置に関する。
から分岐する複数のガス供給路の各々に設けられた複数
のガス分析計の校正方法及び校正装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば自動車排気ガスに含まれる
炭化水素（ＨＣ）、窒素酸化物（ＮＯ）、一酸化炭素
（ＣＯ）、二酸化炭素（ＣＯ2 ）などを定量分析する場
合、エンジンからの排気ガスをそのまま或いは希釈し、
これをサンプルガスとして複数のガス分析計に同時に供
給し、同時に上記複数の物質を分析することが行われて
いる。
炭化水素（ＨＣ）、窒素酸化物（ＮＯ）、一酸化炭素
（ＣＯ）、二酸化炭素（ＣＯ2 ）などを定量分析する場
合、エンジンからの排気ガスをそのまま或いは希釈し、
これをサンプルガスとして複数のガス分析計に同時に供
給し、同時に上記複数の物質を分析することが行われて
いる。
【０００３】また、ガス分析計は、その指示値が測定中
にドリフトを生じることがあるため、所定の校正ガスを
前記ガス分析計に流し、ゼロ点調整又はスパン調整など
の校正が行われる。空気又は窒素ガス等のゼロガスを各
分析計に流すと、ゼロ点調整ができる。既知の濃度のス
パンガスを各分析計に流すと、スパン調整ができる。
にドリフトを生じることがあるため、所定の校正ガスを
前記ガス分析計に流し、ゼロ点調整又はスパン調整など
の校正が行われる。空気又は窒素ガス等のゼロガスを各
分析計に流すと、ゼロ点調整ができる。既知の濃度のス
パンガスを各分析計に流すと、スパン調整ができる。
【０００４】図４は、エンジンからの排気ガスをそのま
ま分析計に供給しながら行う分析と、ゼロ点調整又はス
パン調整等の所定の校正との両方ができる構成のガス分
析計の校正装置の従来構造を示す図である。図に於い
て、１は自動車エンジン、２はエンジン１の排気管に連
なるサンプリング流路である。サンプリング流路２の上
流側にフィルタ３及び吸引ポンプ４が備えられ、その下
流側に圧力調整器５が備えられている。
ま分析計に供給しながら行う分析と、ゼロ点調整又はス
パン調整等の所定の校正との両方ができる構成のガス分
析計の校正装置の従来構造を示す図である。図に於い
て、１は自動車エンジン、２はエンジン１の排気管に連
なるサンプリング流路である。サンプリング流路２の上
流側にフィルタ３及び吸引ポンプ４が備えられ、その下
流側に圧力調整器５が備えられている。
【０００５】吸引ポンプ４と圧力調整器５の間のサンプ
リング流路２には、複数のガス供給路６，７が並列的に
分岐しており、これらのガス供給路６，７の各々にガス
分析計８，９が設けられている。さらに、各ガス供給路
６，７には、第１オンオフ電磁弁１２，１３を有する校
正ガス供給路１４，１５が設けられるとともに、第２オ
ンオフ電磁弁１０，１１を設けて校正装置が構成されて
いる。
リング流路２には、複数のガス供給路６，７が並列的に
分岐しており、これらのガス供給路６，７の各々にガス
分析計８，９が設けられている。さらに、各ガス供給路
６，７には、第１オンオフ電磁弁１２，１３を有する校
正ガス供給路１４，１５が設けられるとともに、第２オ
ンオフ電磁弁１０，１１を設けて校正装置が構成されて
いる。
【０００６】ここで、８は、例えば、ＴＨＣ(TotalHydr
o-carbon) を定量するためのＦＩＤ(Flame Ionization
Detector) であり、９は、例えば、ＮＯを測定するため
のＣＬＤ(Chemical Luminescence Detector)である。校
正ガス供給路１４，１５には、ゼロ点調整用のゼロガス
又はスパン調整用のスパンガスが供給できるようになっ
ている。なお、１６，１７は、各ガス供給路６，７に設
けられる流量調整用のキャピラリーである。
o-carbon) を定量するためのＦＩＤ(Flame Ionization
Detector) であり、９は、例えば、ＮＯを測定するため
のＣＬＤ(Chemical Luminescence Detector)である。校
正ガス供給路１４，１５には、ゼロ点調整用のゼロガス
又はスパン調整用のスパンガスが供給できるようになっ
ている。なお、１６，１７は、各ガス供給路６，７に設
けられる流量調整用のキャピラリーである。
【０００７】通常のガス分析計の測定時には、第２オン
オフ電磁弁１０，１１がオープンの状態にあり、第１オ
ンオフ電磁弁１２，１３がクローズの状態にある。その
ため、圧力調整器５によって所定圧力に調整されたサン
プルガスが各ガス供給路１２，１３のキャピラリー１
６，１７に作用し、ガス分析計８，９に所定量のガスが
一斉に供給され、同時並列的なガス分析が行われる。
オフ電磁弁１０，１１がオープンの状態にあり、第１オ
ンオフ電磁弁１２，１３がクローズの状態にある。その
ため、圧力調整器５によって所定圧力に調整されたサン
プルガスが各ガス供給路１２，１３のキャピラリー１
６，１７に作用し、ガス分析計８，９に所定量のガスが
一斉に供給され、同時並列的なガス分析が行われる。
【０００８】ガス分析計８，９の校正は、いずれか単独
に又は同時に行うことができる。例えばガス分析計８の
単独でゼロ点調整を行う場合、第２オンオフ電磁弁１０
をクローズに切り換え、第１オンオフ電磁弁１２をオー
プンに切り換える。すると、校正ガス供給路１４から例
えば空気のゼロガスが所定圧力で供給され、このゼロガ
スがキャピラリー１６を経てガス分析計８に流れるた
め、ゼロ点調整ができる。ガス分析計９の単独の校正も
同様にして行われる。ガス分析計８，９を同時に校正す
る場合には、第２オンオフ電磁弁１０，１１及び第１オ
ンオフ電磁弁１２，１３を同時に切り換えればよい。
に又は同時に行うことができる。例えばガス分析計８の
単独でゼロ点調整を行う場合、第２オンオフ電磁弁１０
をクローズに切り換え、第１オンオフ電磁弁１２をオー
プンに切り換える。すると、校正ガス供給路１４から例
えば空気のゼロガスが所定圧力で供給され、このゼロガ
スがキャピラリー１６を経てガス分析計８に流れるた
め、ゼロ点調整ができる。ガス分析計９の単独の校正も
同様にして行われる。ガス分析計８，９を同時に校正す
る場合には、第２オンオフ電磁弁１０，１１及び第１オ
ンオフ電磁弁１２，１３を同時に切り換えればよい。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記校正装
置においては、ガス分析計８，９に対して校正を行う場
合、まず第２オンオフ電磁弁１０，１１をオープンから
クローズに切り換えるため、ガス供給路６，７に至るサ
ンプルガスの流れが遮断される。そのため、ガス分析計
８，９に対するガス流が一時的に途絶えるという問題が
あった。そこで、まず第１オンオフ電磁弁１２，１３を
クローズからオープンに切り換えてから、第２オンオフ
電磁弁１０，１１をオープンからクローズに切り換え、
ガス分析計８，９に対するガス流を途絶えさせないこと
も考えられるが、第１オンオフ電磁弁１２，１３がオー
プンになったときに、校正ガスがサンプリング流路２に
逆流して他のガス分析計に影響を及ぼすことが考えられ
る。また、ガスの切換時に電磁弁１０と接続点Ｄ１の間
又は電磁弁１１と接続点Ｄ２の間にサンプルガスが残留
することから、ガス分析計８，９に流れる校正ガスが完
全に置き換わり、ガス分析計８，９の指示値が安定する
のに時間が掛かる場合がある。さらに、各ガス供給路
６，７に第２オンオフ電磁弁１０，１１を設ける必要が
あり、装置の機器構成が複雑になる。
置においては、ガス分析計８，９に対して校正を行う場
合、まず第２オンオフ電磁弁１０，１１をオープンから
クローズに切り換えるため、ガス供給路６，７に至るサ
ンプルガスの流れが遮断される。そのため、ガス分析計
８，９に対するガス流が一時的に途絶えるという問題が
あった。そこで、まず第１オンオフ電磁弁１２，１３を
クローズからオープンに切り換えてから、第２オンオフ
電磁弁１０，１１をオープンからクローズに切り換え、
ガス分析計８，９に対するガス流を途絶えさせないこと
も考えられるが、第１オンオフ電磁弁１２，１３がオー
プンになったときに、校正ガスがサンプリング流路２に
逆流して他のガス分析計に影響を及ぼすことが考えられ
る。また、ガスの切換時に電磁弁１０と接続点Ｄ１の間
又は電磁弁１１と接続点Ｄ２の間にサンプルガスが残留
することから、ガス分析計８，９に流れる校正ガスが完
全に置き換わり、ガス分析計８，９の指示値が安定する
のに時間が掛かる場合がある。さらに、各ガス供給路
６，７に第２オンオフ電磁弁１０，１１を設ける必要が
あり、装置の機器構成が複雑になる。
【００１０】本発明は、上記問題を解決する為になされ
たもので、その目的とするところは、ガス分析計に対す
るガス流を円滑に切り換え、ガス分析計の指示値に悪い
影響を与えることなく、更に装置を簡単な機器構成にで
きるガス分析計の校正方法及び校正装置を提供すること
にある。
たもので、その目的とするところは、ガス分析計に対す
るガス流を円滑に切り換え、ガス分析計の指示値に悪い
影響を与えることなく、更に装置を簡単な機器構成にで
きるガス分析計の校正方法及び校正装置を提供すること
にある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明のガス分析計の校正方法は、サンプルガスが供
給されるサンプリング流路から分岐する複数のガス供給
路の各々にガス分析計を設け、前記複数のガス供給路の
各々に校正ガスの供給手段を設け、前記サンプリング流
路に圧力調整手段を設け、前記圧力調整手段に、前記サ
ンプルガスの全量と前記複数のガス供給路に供給される
校正ガスの各々の一部とを流しながら前記複数のガス分
析計の校正を同時に行う方法である。これによると、サ
ンプルガスの供給を止めることなく、各ガス供給路に校
正ガスを供給し、各ガス供給路のサンプルガスを押し出
し、前記サンプルガスの全量と前記複数のガス供給路に
供給される校正ガスの各々の一部とを圧力調整手段に流
すことにより、ガス分析計に流れるガスを校正ガスだけ
にし、必要な校正を行う。
の本発明のガス分析計の校正方法は、サンプルガスが供
給されるサンプリング流路から分岐する複数のガス供給
路の各々にガス分析計を設け、前記複数のガス供給路の
各々に校正ガスの供給手段を設け、前記サンプリング流
路に圧力調整手段を設け、前記圧力調整手段に、前記サ
ンプルガスの全量と前記複数のガス供給路に供給される
校正ガスの各々の一部とを流しながら前記複数のガス分
析計の校正を同時に行う方法である。これによると、サ
ンプルガスの供給を止めることなく、各ガス供給路に校
正ガスを供給し、各ガス供給路のサンプルガスを押し出
し、前記サンプルガスの全量と前記複数のガス供給路に
供給される校正ガスの各々の一部とを圧力調整手段に流
すことにより、ガス分析計に流れるガスを校正ガスだけ
にし、必要な校正を行う。
【００１２】上記目的を達成するための本発明のガス分
析計の校正装置は、サンプルガスが供給されるサンプリ
ング流路から分岐する複数のガス供給路の各々にガス分
析計を設け、前記複数のガス供給路の各々に校正ガスの
供給手段を設け、前記複数の供給手段から前記サンプリ
ング流路にオーバーフローする校正ガスの圧力損失が略
均等となる位置に圧力調整手段を設けた装置である。好
ましくは、前記圧力調整手段を、前記供給手段から略等
距離にある前記サンプリング流路の所定位置に設ける。
これによると、サンプルガスの供給を止めることなく、
各ガス供給路に校正ガスを供給すると、各ガス供給路の
サンプルガスが押し出され、前記複数の供給手段から前
記サンプリング流路にオーバーフローする校正ガスの圧
力損失が略均等となる位置に圧力調整手段を設けられて
いるため、サンプルガスの全量と各ガス分析計に至る校
正ガスの一部がそれぞれオーバーフローするようにな
り、ガス分析計に流れるガスが校正ガスだけになり、必
要な校正が行われる。
析計の校正装置は、サンプルガスが供給されるサンプリ
ング流路から分岐する複数のガス供給路の各々にガス分
析計を設け、前記複数のガス供給路の各々に校正ガスの
供給手段を設け、前記複数の供給手段から前記サンプリ
ング流路にオーバーフローする校正ガスの圧力損失が略
均等となる位置に圧力調整手段を設けた装置である。好
ましくは、前記圧力調整手段を、前記供給手段から略等
距離にある前記サンプリング流路の所定位置に設ける。
これによると、サンプルガスの供給を止めることなく、
各ガス供給路に校正ガスを供給すると、各ガス供給路の
サンプルガスが押し出され、前記複数の供給手段から前
記サンプリング流路にオーバーフローする校正ガスの圧
力損失が略均等となる位置に圧力調整手段を設けられて
いるため、サンプルガスの全量と各ガス分析計に至る校
正ガスの一部がそれぞれオーバーフローするようにな
り、ガス分析計に流れるガスが校正ガスだけになり、必
要な校正が行われる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。図１は、本発明の一実施形態に係
るガス分析計の校正装置及び校正方法を概略的に示すも
のであり、この図１において、前記図４於いて付した符
号と同一のものは同一物であるのでその説明を省略す
る。
に基づいて説明する。図１は、本発明の一実施形態に係
るガス分析計の校正装置及び校正方法を概略的に示すも
のであり、この図１において、前記図４於いて付した符
号と同一のものは同一物であるのでその説明を省略す
る。
【００１４】図１に示す校正装置が図４の校正装置と異
なる点は、第１に、ガス供給路６，７に、第２オンオフ
電磁弁が設けられておらず、単に校正ガス供給手段とし
ての校正ガス供給路１４，１５が設けられている点であ
る。第２に、圧力調整器５が、校正ガス供給路１４，１
５の接続点Ａ１，Ａ２から略等距離になるサンプリング
流路２のＢ点から分岐する流路２１に設けられている点
である。なお、校正ガス供給路１４，１５と第１オンオ
フ電磁弁１２，１３が校正ガスの供給手段を構成する。
なる点は、第１に、ガス供給路６，７に、第２オンオフ
電磁弁が設けられておらず、単に校正ガス供給手段とし
ての校正ガス供給路１４，１５が設けられている点であ
る。第２に、圧力調整器５が、校正ガス供給路１４，１
５の接続点Ａ１，Ａ２から略等距離になるサンプリング
流路２のＢ点から分岐する流路２１に設けられている点
である。なお、校正ガス供給路１４，１５と第１オンオ
フ電磁弁１２，１３が校正ガスの供給手段を構成する。
【００１５】圧力調整手段である圧力調整器５は、例え
ば電子制御式の様に高精度の圧力調整ができるものが好
ましい。校正時に、圧力調整器５がサンプルガスの全量
に校正ガスの一部を加えた大流量でも精度良く圧力調整
を行うためである。高精度の圧力調整器５を用いると、
校正ガスの供給路１４，１５の供給源には特別の圧力調
整手段を設ける必要がなくなる。
ば電子制御式の様に高精度の圧力調整ができるものが好
ましい。校正時に、圧力調整器５がサンプルガスの全量
に校正ガスの一部を加えた大流量でも精度良く圧力調整
を行うためである。高精度の圧力調整器５を用いると、
校正ガスの供給路１４，１５の供給源には特別の圧力調
整手段を設ける必要がなくなる。
【００１６】ただし、校正ガス供給路１４，１５に供給
される校正ガスの量は、キャピラリー１６，１７を経て
ガス分析計８，９に流れる量より多くなるように設定さ
れている。これにより、ガス分析計８，９の校正時に
は、校正ガスがガス供給路６，７を逆流し、サンプルガ
スを押し出し、校正ガスがサンプリング流路２及び流路
２１にオーバーフローするようになっている。
される校正ガスの量は、キャピラリー１６，１７を経て
ガス分析計８，９に流れる量より多くなるように設定さ
れている。これにより、ガス分析計８，９の校正時に
は、校正ガスがガス供給路６，７を逆流し、サンプルガ
スを押し出し、校正ガスがサンプリング流路２及び流路
２１にオーバーフローするようになっている。
【００１７】圧力調整器５が設けられるサンプリング流
路２のＢ点は、ガス供給路６，７に接続される校正ガス
供給路１４，１５の接続点Ａ１，Ａ２から略等距離にな
る。これにより、校正ガス供給路１４，１５の接続点Ａ
１，Ａ２から圧力調整器５に至る迄の圧力損失が略等し
くなり、ガス供給路６，７に於ける校正ガスのオーバー
フローが略均等に行われる。
路２のＢ点は、ガス供給路６，７に接続される校正ガス
供給路１４，１５の接続点Ａ１，Ａ２から略等距離にな
る。これにより、校正ガス供給路１４，１５の接続点Ａ
１，Ａ２から圧力調整器５に至る迄の圧力損失が略等し
くなり、ガス供給路６，７に於ける校正ガスのオーバー
フローが略均等に行われる。
【００１８】図２のように、サンプリング流路２を、Ｔ
字状に２方向に分岐させ、分岐路２ａ，２ｂの各々から
ガス供給路６，７を更に分岐させる構成にすると、接続
点Ａ１，Ａ２から略等距離になるＣ点が選択し易く、Ｃ
点に至るまでの圧力損失を完全に一致させることがで
き、各ガス供給路６，７を逆流する校正ガスのオーバー
フローを確保し易くなる。このように、圧力調整器５が
設けられるサンプリング流路２の位置は、各ガス供給路
６，７を逆流してオーバーフローする校正ガスの圧力損
失が略均等になる位置であればよい。
字状に２方向に分岐させ、分岐路２ａ，２ｂの各々から
ガス供給路６，７を更に分岐させる構成にすると、接続
点Ａ１，Ａ２から略等距離になるＣ点が選択し易く、Ｃ
点に至るまでの圧力損失を完全に一致させることがで
き、各ガス供給路６，７を逆流する校正ガスのオーバー
フローを確保し易くなる。このように、圧力調整器５が
設けられるサンプリング流路２の位置は、各ガス供給路
６，７を逆流してオーバーフローする校正ガスの圧力損
失が略均等になる位置であればよい。
【００１９】前述した校正装置を用いた校正方法を図１
により説明する。通常のガス分析計８，９の測定時に
は、第１オンオフ電磁弁１２，１３がクローズの状態に
あるため、サンプリング流路２からのサンプルガスはガ
ス供給路６，７を経てキャピラリー１６，１７に至る。
圧力調整器５がサンプルガスの圧力を所定値に制御して
いるため、キャピラリー１６，１７を通過した所定流量
のサンプルガスがガス分析計８，９に流れ、所定の分析
が同時に行われる。
により説明する。通常のガス分析計８，９の測定時に
は、第１オンオフ電磁弁１２，１３がクローズの状態に
あるため、サンプリング流路２からのサンプルガスはガ
ス供給路６，７を経てキャピラリー１６，１７に至る。
圧力調整器５がサンプルガスの圧力を所定値に制御して
いるため、キャピラリー１６，１７を通過した所定流量
のサンプルガスがガス分析計８，９に流れ、所定の分析
が同時に行われる。
【００２０】ガス分析計の校正時には、サンプリング流
路２からのサンプルガスの供給はそのままにし、第１オ
ンオフ電磁弁１２，１３をオープンに切り換え、供給路
１４，１５を経て所定の校正ガスを流す。校正ガスの圧
力も圧力調整器５によって所定圧力に調整される。ま
た、校正ガスの流量はガス分析計８，９に供給される量
より多くなっている。そのため、各ガス供給路６，７の
校正ガスは大部分がガス分析計８，９に流れ、その一部
がガス供給路６，７を逆流しようとする。このとき、圧
力調整器５が校正ガスの供給路１４，１５の接続点Ａ
１，Ａ２から等距離にあるため、各ガス供給路６，７か
らオーバーフローされる校正ガスが確実に圧力調整器５
に向かう。一方、サンプルガスの全量もサンプリング流
路２から圧力調整器５を経て図示されないパイパス路に
放出される。
路２からのサンプルガスの供給はそのままにし、第１オ
ンオフ電磁弁１２，１３をオープンに切り換え、供給路
１４，１５を経て所定の校正ガスを流す。校正ガスの圧
力も圧力調整器５によって所定圧力に調整される。ま
た、校正ガスの流量はガス分析計８，９に供給される量
より多くなっている。そのため、各ガス供給路６，７の
校正ガスは大部分がガス分析計８，９に流れ、その一部
がガス供給路６，７を逆流しようとする。このとき、圧
力調整器５が校正ガスの供給路１４，１５の接続点Ａ
１，Ａ２から等距離にあるため、各ガス供給路６，７か
らオーバーフローされる校正ガスが確実に圧力調整器５
に向かう。一方、サンプルガスの全量もサンプリング流
路２から圧力調整器５を経て図示されないパイパス路に
放出される。
【００２１】このように圧力調整器５に、サンプルガス
の全量と各ガス分析計８，９の校正ガスの一部とを流し
ながらガス分析計８，９の校正を行うため、ガス分析計
８の校正ガスが他のガス分析計９に向かって流れること
や、サンプルガスがガス分析計８，９に流れることを阻
止しながら、複数のガス分析計８，９の校正を同時に行
うことができる。また、通常の測定から校正に切り換え
る瞬間にも、サンプリング流路２にサンプルガスが供給
されているため、ガス分析計８，９に対するガス流の一
時的な停止も起こらない。そのため、ガス分析計８，９
の安定した作動を維持させながら、ゼロ点調整又はスパ
ン調整ができる。
の全量と各ガス分析計８，９の校正ガスの一部とを流し
ながらガス分析計８，９の校正を行うため、ガス分析計
８の校正ガスが他のガス分析計９に向かって流れること
や、サンプルガスがガス分析計８，９に流れることを阻
止しながら、複数のガス分析計８，９の校正を同時に行
うことができる。また、通常の測定から校正に切り換え
る瞬間にも、サンプリング流路２にサンプルガスが供給
されているため、ガス分析計８，９に対するガス流の一
時的な停止も起こらない。そのため、ガス分析計８，９
の安定した作動を維持させながら、ゼロ点調整又はスパ
ン調整ができる。
【００２２】また、通常の測定から校正に切り換えたと
き、供給路１４，１５に残るサンプルガスが、校正ガス
によってガス分析計８，９及びサンプリング流路２に向
かって押し出される。そのため、ガス分析計８，９に対
する校正ガスへの切り換えが円滑に行われ、残存サンプ
ルガスがガス分析計８，９の指示値に及ぼす悪い影響が
早い時期に解消される。
き、供給路１４，１５に残るサンプルガスが、校正ガス
によってガス分析計８，９及びサンプリング流路２に向
かって押し出される。そのため、ガス分析計８，９に対
する校正ガスへの切り換えが円滑に行われ、残存サンプ
ルガスがガス分析計８，９の指示値に及ぼす悪い影響が
早い時期に解消される。
【００２３】また、校正時にもサンプルガスを流し続け
ることにより、圧力調整器５を安定して作動させるため
流量が確保されているため、オーバーフローさせる校正
ガスの流量を最小限にすることができる。そのため、ゼ
ロガス又はスパンガスの様な特別に調整された校正ガス
の使用量を最小限に抑えることができる。
ることにより、圧力調整器５を安定して作動させるため
流量が確保されているため、オーバーフローさせる校正
ガスの流量を最小限にすることができる。そのため、ゼ
ロガス又はスパンガスの様な特別に調整された校正ガス
の使用量を最小限に抑えることができる。
【００２４】また、ガス供給路６，７に対するオンオフ
電磁弁も必要ない。供給路１４，１５に供給される校正
ガスの圧力調整も圧力調整器５が行うため、高価な圧力
調整器５を一つだけにすることができる。各流路２，
６，７，１４，１５は通常金属製ブロックに孔を開けて
形成され、このブロックに必要なオンオフ電磁弁１２，
１３を内蔵又は付属させるため、オンオフ電磁弁の数を
減らすことにより、装置の機器構成を簡単にすることが
できる。
電磁弁も必要ない。供給路１４，１５に供給される校正
ガスの圧力調整も圧力調整器５が行うため、高価な圧力
調整器５を一つだけにすることができる。各流路２，
６，７，１４，１５は通常金属製ブロックに孔を開けて
形成され、このブロックに必要なオンオフ電磁弁１２，
１３を内蔵又は付属させるため、オンオフ電磁弁の数を
減らすことにより、装置の機器構成を簡単にすることが
できる。
【００２５】なお、ガス分析計が３以上あっても、校正
ガスが供給される接続点からの距離を略等しくしたサン
プリング流路を形成することができる。図３に、４個の
ガス分析計が接続された校正装置の要部が第２実施形態
として示される。
ガスが供給される接続点からの距離を略等しくしたサン
プリング流路を形成することができる。図３に、４個の
ガス分析計が接続された校正装置の要部が第２実施形態
として示される。
【００２６】サンプリング流路１０１は、両端が閉鎖さ
れた大径の筒体１０２と、この筒体１０２の中心軸から
内部に差し込まれた小径の管体１０３とから形成されて
いる。筒体１０２の外周には放射状に４個の孔１０４が
形成されており、この孔１０３に４本のガス供給路１１
０〜１１３が接続される。管体１０３の一端に圧力調整
器５に対するオーバフロー流路１１５が接続される。ガ
ス供給路１１０〜１１３の各々に、オンオフ電磁弁１２
０〜１２３を設けた校正ガス供給路１３０〜１３３と、
キャピラリー１４０〜１４３と、ガス分析計１５０〜１
５３が設けられている。
れた大径の筒体１０２と、この筒体１０２の中心軸から
内部に差し込まれた小径の管体１０３とから形成されて
いる。筒体１０２の外周には放射状に４個の孔１０４が
形成されており、この孔１０３に４本のガス供給路１１
０〜１１３が接続される。管体１０３の一端に圧力調整
器５に対するオーバフロー流路１１５が接続される。ガ
ス供給路１１０〜１１３の各々に、オンオフ電磁弁１２
０〜１２３を設けた校正ガス供給路１３０〜１３３と、
キャピラリー１４０〜１４３と、ガス分析計１５０〜１
５３が設けられている。
【００２７】図３の校正装置を用いた校正方法を以下に
説明する。ガス分析計１５０〜１５３を同時に校正する
ため、オンオフ電磁弁１２０〜１２３を一斉にクローズ
からオープンに切り換える。各孔１０４からオーバフロ
ー流路１１５迄の距離が略等しく、均圧化されるため、
各ガス分析計１５０〜１５３に至る校正ガスのオーバー
フロー分が管体１０３内の空間を経てオーバフロー流路
１１５に至る。また、管体１０３に供給されるサンプル
ガスの全量が管体１０３内の空間を経てオーバフロー流
路１１５に至る。これにより、各ガス分析計１５０〜１
５３に供給されるガスを止めることなく、校正ガスに切
り換える事が可能になり、各ガス分析計１５０〜１５３
に至る校正ガスが他のガス分析計に紛れ込むこともな
い。さらに、接続できるガス分析計の数も任意に選択で
きる。
説明する。ガス分析計１５０〜１５３を同時に校正する
ため、オンオフ電磁弁１２０〜１２３を一斉にクローズ
からオープンに切り換える。各孔１０４からオーバフロ
ー流路１１５迄の距離が略等しく、均圧化されるため、
各ガス分析計１５０〜１５３に至る校正ガスのオーバー
フロー分が管体１０３内の空間を経てオーバフロー流路
１１５に至る。また、管体１０３に供給されるサンプル
ガスの全量が管体１０３内の空間を経てオーバフロー流
路１１５に至る。これにより、各ガス分析計１５０〜１
５３に供給されるガスを止めることなく、校正ガスに切
り換える事が可能になり、各ガス分析計１５０〜１５３
に至る校正ガスが他のガス分析計に紛れ込むこともな
い。さらに、接続できるガス分析計の数も任意に選択で
きる。
【００２８】また、図２において、Ｃ点から分岐される
Ｔ字状のサンプリング流路の数を増やすと、接続できる
ガス分析計の数を２の倍数で増やすこともできる。
Ｔ字状のサンプリング流路の数を増やすと、接続できる
ガス分析計の数を２の倍数で増やすこともできる。
【００２９】なお、この発明は、上述した実施形態に限
られるものではなく、種々変形して実施することができ
る。例えば、電子式の圧力調整器に代えて機械式の圧力
調整弁を用いることもできる。また、ガス分析計は、Ｔ
ＨＣやＣＬＤ以外の種々のガス分析計であってもよく、
２以上のガス分析計によりサンプリングガスを同時測定
するものであればその接続個数は任意である。
られるものではなく、種々変形して実施することができ
る。例えば、電子式の圧力調整器に代えて機械式の圧力
調整弁を用いることもできる。また、ガス分析計は、Ｔ
ＨＣやＣＬＤ以外の種々のガス分析計であってもよく、
２以上のガス分析計によりサンプリングガスを同時測定
するものであればその接続個数は任意である。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のガス分析
計の校正方法及び校正装置によれば、共通のサンプリン
グ流路から分岐された複数のガス供給路に対応して設け
られた複数ガス分析計に対するガス流を止めることな
く、複数のガス分析計の校正を同時に行うことができ
る。また、ガス分析計に対するサンプルガスから校正ガ
スへの切り換えが円滑且つ確実に行われるため、切り換
え時にガス分析計の指示値に悪い影響を与えることがな
い。更に、一つのガス分析計に供給する校正ガスが他の
ガス分析計の校正に影響を与えることがないため、各分
析計に対する校正の種類は任意に選択できる。
計の校正方法及び校正装置によれば、共通のサンプリン
グ流路から分岐された複数のガス供給路に対応して設け
られた複数ガス分析計に対するガス流を止めることな
く、複数のガス分析計の校正を同時に行うことができ
る。また、ガス分析計に対するサンプルガスから校正ガ
スへの切り換えが円滑且つ確実に行われるため、切り換
え時にガス分析計の指示値に悪い影響を与えることがな
い。更に、一つのガス分析計に供給する校正ガスが他の
ガス分析計の校正に影響を与えることがないため、各分
析計に対する校正の種類は任意に選択できる。
【図１】本発明の一実施形態に係るガス分析計の校正装
置及び校正方法を概略的に示す図である。
置及び校正方法を概略的に示す図である。
【図２】図１の圧力調整器の設け方の他の例を示す図で
ある。
ある。
【図３】本発明の他の一実施形態に係るガス分析計の校
正装置及び校正方法を概略的に示す図である。
正装置及び校正方法を概略的に示す図である。
【図４】従来のガス分析計の校正装置及び校正方法を概
略的に示す図である。
略的に示す図である。
【符号の説明】 ５ 圧力調整器（圧力調整手段） ６ ガス供給路 ７ ガス供給路 ８ ガス分析計 ９ ガス分析計 １２ 第１オンオフ電磁弁（校正ガス供給手段） １３ 第１オンオフ電磁弁（校正ガス供給手段） １４ 校正ガス供給路（校正ガス供給手段） １５ 校正ガス供給路（校正ガス供給手段） ２１ 流路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｇ０１Ｎ 21/27 Ｇ０１Ｎ 21/27 Ｆ
Claims (3)
- 【請求項１】 サンプルガスが供給されるサンプリング
流路から分岐する複数のガス供給路の各々にガス分析計
を設け、前記複数のガス供給路の各々に校正ガスの供給
手段を設け、前記サンプリング流路に圧力調整手段を設
け、前記圧力調整手段に、前記サンプルガスの全量と前
記複数のガス供給路に供給される校正ガスの各々の一部
とを流しながら前記複数のガス分析計の校正を同時に行
うことを特徴とするガス分析計の校正方法。 - 【請求項２】 サンプルガスが供給されるサンプリング
流路から分岐する複数のガス供給路の各々にガス分析計
を設け、前記複数のガス供給路の各々に校正ガスの供給
手段を設け、前記複数の供給手段から前記サンプリング
流路にオーバーフローする校正ガスの圧力損失が略均等
となる位置に圧力調整手段を設けたことを特徴とするガ
ス分析計の校正装置。 - 【請求項３】 前記圧力調整手段を、前記供給手段から
略等距離にある前記サンプリング流路の所定位置に設け
たこと特徴とする請求項２記載のガス分析計の校正装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000034321A JP3668088B2 (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | ガス分析計の校正方法及び校正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000034321A JP3668088B2 (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | ガス分析計の校正方法及び校正装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001221720A true JP2001221720A (ja) | 2001-08-17 |
| JP3668088B2 JP3668088B2 (ja) | 2005-07-06 |
Family
ID=18558681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000034321A Expired - Lifetime JP3668088B2 (ja) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | ガス分析計の校正方法及び校正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3668088B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011080991A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-04-21 | Millipore Corp | 全有機炭素含有量を測定する装置の較正方法 |
| JP2013242274A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Horiba Ltd | 分析計校正システム及び排ガス分析システム |
| JP2014079672A (ja) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Nomura Micro Sci Co Ltd | アンモニア除去装置 |
| JP2019090768A (ja) * | 2017-11-17 | 2019-06-13 | 理研計器株式会社 | ガス検知器 |
| CN113396328A (zh) * | 2019-02-22 | 2021-09-14 | 株式会社日立高新技术 | 分析装置 |
-
2000
- 2000-02-07 JP JP2000034321A patent/JP3668088B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011080991A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-04-21 | Millipore Corp | 全有機炭素含有量を測定する装置の較正方法 |
| CN102042999A (zh) * | 2009-10-09 | 2011-05-04 | 米利波尔公司 | 校准用于测定总有机碳含量的设备的方法 |
| JP2013242274A (ja) * | 2012-05-22 | 2013-12-05 | Horiba Ltd | 分析計校正システム及び排ガス分析システム |
| US9255917B2 (en) | 2012-05-22 | 2016-02-09 | Horiba, Ltd. | Analyzer calibrating system and exhaust gas analyzing system |
| JP2014079672A (ja) * | 2012-10-15 | 2014-05-08 | Nomura Micro Sci Co Ltd | アンモニア除去装置 |
| JP2019090768A (ja) * | 2017-11-17 | 2019-06-13 | 理研計器株式会社 | ガス検知器 |
| CN113396328A (zh) * | 2019-02-22 | 2021-09-14 | 株式会社日立高新技术 | 分析装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3668088B2 (ja) | 2005-07-06 |
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