JP2001210038A - Magnetic head slider and producing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体上を
微小間隔で浮上して磁気情報の記録再生を行う磁気ヘッ
ドスライダとその製造方法に係わり、特に、磁気ディス
ク側の媒体対向面やレールに突起が設けられたスライダ
本体と磁気ディスクとの吸着をさらに低減できるように
した磁気ヘッドスライダとその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head slider for recording / reproducing magnetic information by flying over a magnetic recording medium at minute intervals and a method of manufacturing the same. The present invention relates to a magnetic head slider and a method of manufacturing the magnetic head slider, which can further reduce the attraction between a slider body provided with a projection on a magnetic disk and a magnetic disk.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、コンピュータ用の磁気記録装置に
おいて、図１１に示すような磁気ディスク装置が知られ
ている。この磁気ディスク装置は、回転自在に設けられ
た円盤状の磁気ディスク８１上に磁気ヘッドスライダ８
２が対向配置された構成であり、磁気ヘッドスライダ８
２は３角形状のバネ板８３を介して支持アーム８４によ
り支持されていて、支持アーム８４の回動中心部８４ａ
を中心とする回動操作により磁気ヘッドスライダ８２が
磁気ディスク８１の直径方向の所望の位置に移動できる
ように構成されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic recording device for a computer, a magnetic disk device as shown in FIG. 11 has been known. This magnetic disk drive comprises a magnetic head slider 8 on a disk-shaped magnetic disk 81 rotatably provided.
2 is a configuration in which the magnetic head slider 8
Numeral 2 is supported by a support arm 84 via a triangular spring plate 83.
The magnetic head slider 82 can be moved to a desired position in the diametrical direction of the magnetic disk 81 by a rotation operation centered on.
【０００３】図１１に示す構成の磁気ディスク装置にお
いて、磁気ディスク８１が停止している場合、磁気ヘッ
ドスライダ８２の底面は磁気ヘッドスライダ８２を支持
するバネ板８３の付勢力によって磁気ディスク８１に軽
く押し付けられており、磁気ディスク８１が回転されて
いる場合は、回転に伴って生じる空気の流れを利用して
磁気ヘッドスライダ８２は磁気ディスク８１上を所定の
高さで浮上走行するように構成され、磁気ディスク８１
の回転が停止されると浮上走行していた磁気ヘッドスラ
イダ８２は再び磁気ディスク８１に接触して停止される
が、上記の浮上走行時に磁気ディスク８１の磁気記録層
に対して磁気情報の読み書きがなされるように構成され
ており、この一連の作動状況は通常ＣＳＳ（コンタクト
スタートストップ）と称されている。In the magnetic disk drive having the structure shown in FIG. 11, when the magnetic disk 81 is stopped, the bottom surface of the magnetic head slider 82 is lightly applied to the magnetic disk 81 by the urging force of the spring plate 83 supporting the magnetic head slider 82. When the magnetic disk 81 is being rotated, the magnetic head slider 82 is configured to fly above the magnetic disk 81 at a predetermined height by utilizing the flow of air generated by the rotation. , Magnetic disk 81
When the rotation of the magnetic head slider is stopped, the magnetic head slider 82 which was flying and traveling again comes into contact with the magnetic disk 81 and is stopped. This series of operation states is usually called CSS (contact start / stop).
【０００４】図１２は従来から広く使用されている２レ
ール型の磁気ヘッドスライダ８２の浮上走行状態を示す
もので、この磁気ヘッドスライダ８２の底面には、中央
部に１本の溝（図示略）を形成してその両側にサイドレ
ール８６、８６が形成され、各サイドレール８６の先端
下面側（磁気ディスク８１の回転方向上流側）には、傾
斜面８６ａが形成されていて、この傾斜面８６ａを介し
て図１２の矢印Ａに示すように空気が流入することで磁
気ヘッドスライダ８２のサイドレール８６の底面が正圧
発生部となって磁気ヘッドスライダ８２が浮上走行する
ようになっている。また、図１２の２点鎖線で示すよう
にサイドレール８６の底面に負圧溝８６ｂを形成し、こ
の負圧溝８６ｂで発生させた負圧と上記サイドレール８
６、８６で発生させた正圧を均衡させることにより浮上
走行性の安定化を図った磁気ヘッドの構成も知られてい
る。FIG. 12 shows a flying state of a two-rail type magnetic head slider 82 which has been widely used in the past. One groove (not shown in the figure) is formed on the bottom surface of the magnetic head slider 82 at the center thereof. ) Are formed on both sides thereof, and side rails 86, 86 are formed. On the lower surface of the tip of each side rail 86 (upstream in the rotational direction of the magnetic disk 81), an inclined surface 86a is formed. As shown by an arrow A in FIG. 12 through the air 86a, the bottom surface of the side rail 86 of the magnetic head slider 82 serves as a positive pressure generating part, so that the magnetic head slider 82 floats and travels. . A negative pressure groove 86b is formed on the bottom surface of the side rail 86 as shown by a two-dot chain line in FIG.
There is also known a configuration of a magnetic head in which the positive pressure generated in 6, 6 is balanced to stabilize the flying performance.
【０００５】磁気ヘッドスライダ８２が浮上走行してい
る場合は、傾斜面８６ａを介して空気が磁気ヘッドスラ
イダ８２の底面側に流れ込み、更に負圧溝８６ｂを形成
した場合は磁気ヘッド後部側に負圧が発生しているの
で、磁気ヘッドスライダ８２は図１２に示すように空気
の流入側を上に持ち上げた状態で微小角度傾斜しながら
浮上走行しており、一般にこの傾斜角度はピッチ角
（α：通常１００μＲａｄ程度）と称されている。When the magnetic head slider 82 is flying, air flows into the bottom surface of the magnetic head slider 82 via the inclined surface 86a, and when a negative pressure groove 86b is formed, a negative pressure is applied to the rear side of the magnetic head. Since the pressure is generated, the magnetic head slider 82 levitates and travels while tilting at a small angle with the air inflow side lifted up as shown in FIG. 12, and this inclination angle is generally equal to the pitch angle (α). : Usually about 100 μRad).
【０００６】このような構成の磁気ヘッドスライダ８２
にあっては、磁気ディスク８１の起動時（立ち上がり
時）と停止時（立ち下がり時）に磁気ディスクに摺接す
る。そこで、磁気ディスク面の摩耗や消耗を防止するた
めに、磁気ディスク８１の記録層の上に保護膜を形成し
たり、さらに、この保護膜上に潤滑層を形成している。
上記のような構成の磁気ヘッドスライダ８２において
は、磁気記録の面から見ると浮上時には磁気ヘッドスラ
イダ８２の磁気ギャップＧが磁気ディスク８１の磁気記
録層にできるだけ接近した方が有利であるので、磁気ヘ
ッドスライダ８２の浮上走行時の高さをできる限り低く
することが望ましく、また、近年、磁気ディスク装置の
高記録密度化及び小型化に伴って、磁気ヘッドスライダ
８２の浮上量（磁気ヘッドスライダ８２と磁気ディスク
８１とのスペーシング量）をさらに小さくする傾向にあ
る。浮上量を小さくしようとする場合には、浮上状態の
磁気ヘッドスライダ８２と、磁気ディスク８１との接触
を回避するために磁気ディスク８１の表面粗さをできる
だけ小さくする必要がある。しかし、磁気ディスク８１
の起動時あるいは停止時においては、磁気ディスク８１
の表面が平滑になるほど磁気ディスク８１と磁気ヘッド
スライダ８２との接触面積が大きくなってスライダ８２
と磁気ディスク８１との吸着が生じ易く、吸着トルクが
高くなってしまう。[0006] The magnetic head slider 82 having the above-described structure.
In this case, the magnetic disk 81 comes into sliding contact with the magnetic disk 81 at the time of starting (at the time of rising) and at the time of stopping (at the time of falling). Therefore, in order to prevent abrasion and wear of the magnetic disk surface, a protective film is formed on the recording layer of the magnetic disk 81, and further, a lubricating layer is formed on the protective film.
In the magnetic head slider 82 having the above-described configuration, it is advantageous that the magnetic gap G of the magnetic head slider 82 is as close as possible to the magnetic recording layer of the magnetic disk 81 when flying, as viewed from the magnetic recording surface. It is desirable to reduce the height of the head slider 82 during flying flight as much as possible. In recent years, with the increase in recording density and miniaturization of the magnetic disk drive, the flying height of the magnetic head slider 82 (magnetic head slider 82 And the magnetic disk 81). To reduce the flying height, it is necessary to reduce the surface roughness of the magnetic disk 81 as much as possible in order to avoid contact between the magnetic head slider 82 and the magnetic disk 81 in the floating state. However, the magnetic disk 81
When starting or stopping the magnetic disk 81,
As the surface of the disk becomes smoother, the contact area between the magnetic disk 81 and the magnetic head slider 82 increases and the slider 82
And the magnetic disk 81 are likely to be attracted, and the attracting torque is increased.
【０００７】吸着トルクが高くなると、磁気ディスク８
１を回転させるモータの始動時の負荷が大きくなった
り、また、磁気ディスク８１の回転起動の際に支持アー
ム８４やスライダ８２に設けられた磁気ヘッド素子や磁
気ディスク記録層が破損し易くなるという問題があっ
た。そこで、このような問題を解決するために図１３に
示すように磁気ヘッドスライダ８２の各サイドレール８
６上に同じ高さの突起８９ａ、８９ｂをサイドレール８
６の長さ方向に沿って設けて磁気ディスク８１との接触
面積を小さくした磁気ヘッドスライダが考えられてい
る。なお、図１３は、磁気ヘッドスライダの浮上時の状
態を示した側面図である。When the attraction torque increases, the magnetic disk 8
In this case, the load at the time of starting the motor for rotating the magnetic disk 1 is increased, and the magnetic head element and the magnetic disk recording layer provided on the support arm 84 and the slider 82 are easily damaged when the magnetic disk 81 is started to rotate. There was a problem. Therefore, in order to solve such a problem, as shown in FIG.
6 and the projections 89a and 89b of the same height
A magnetic head slider that is provided along the length direction of the magnetic disk 6 and has a small contact area with the magnetic disk 81 has been considered. FIG. 13 is a side view showing a state where the magnetic head slider flies.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで磁気ヘッドス
ライダにおいては、上述したように磁気ディスク装置の
高記録密度化及び小型化の要望から磁気ヘッドスライダ
８２の浮上走行時の高さを低くする傾向があり、これに
伴って上記ピッチ角も小さくなっている。ところが図１
３に示したような従来の磁気ヘッドスライダにおいて
は、上記ピッチ角が小さくなると、浮上状態のときに、
空気流の流出側寄り（磁気ギャップＧに近い方）の突起
８９ｂが磁気ギャップＧより磁気ディスク８１側に突出
してしまうため、それを回避するために突起８９ｂを設
ける位置を図１３の波線で示すように磁気ギャップＧか
らＬ1分空気流の流入側８２ａ寄りに移動させている。
しかしながらこのように突起８９ｂの位置を空気流の
流入側８２ａ寄りに移動させると、磁気ディスク８１の
停止時に磁気ヘッドスライダ８２の媒体対向面の突起が
設けられていない部分（磁気ギャップＧ近傍の媒体対向
面）が磁気ディスク８１の表面に塗布された潤滑剤の液
膜により磁気ディスク８１に張り付いて吸着が生じ、吸
着トルクが増大するという問題があった。In the magnetic head slider, as described above, there is a tendency that the height of the magnetic head slider 82 at the time of flying traveling is reduced due to the demand for high recording density and miniaturization of the magnetic disk drive. The pitch angle is also reduced accordingly. However, FIG.
In the conventional magnetic head slider as shown in FIG. 3, when the pitch angle is small, when the slider is in a floating state,
The projection 89b closer to the outflow side of the airflow (closer to the magnetic gap G) protrudes from the magnetic gap G toward the magnetic disk 81. To avoid this, the position where the projection 89b is provided is indicated by a broken line in FIG. It is moved from the magnetic gap G on the inflow side 82a side of the L 1 minute airflow as.
However, when the position of the protrusion 89b is moved toward the air flow inflow side 82a in this manner, when the magnetic disk 81 stops, the portion of the magnetic head slider 82 where the protrusion is not provided on the medium facing surface (the medium near the magnetic gap G). The opposing surface) sticks to the magnetic disk 81 due to the liquid film of the lubricant applied to the surface of the magnetic disk 81, causing adsorption, and there is a problem that the adsorption torque increases.
【０００９】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、磁気ディスク側の媒体対向面やレールに突起が設
けられたスライダ本体と磁気ディスクとの吸着をさらに
低減することを課題とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to further reduce the attraction between a magnetic disk and a slider body provided with a protrusion on a medium facing surface or a rail on a magnetic disk.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドスラ
イダは上記課題を解決するために、板状のスライダ本体
内に磁気ヘッドコアが設けられ、上記スライダ本体の磁
気ディスク側の媒体対向面に浮力発生のためのレールが
形成され、磁気ディスクに対して浮上走行して磁気情報
の書き込みあるいは読み出しを行う磁気ヘッドスライダ
であって、上記スライダ本体の媒体対向面およびレール
のうち少なくともレールに複数の突起が上記スライダ本
体の長さ方向に沿って設けられ、上記複数の突起のうち
上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起の
高さは、他の位置に設けられた突起の高さより低いこと
を特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a magnetic head slider according to the present invention has a magnetic head core provided in a plate-like slider body, and has a buoyant force on a medium facing surface of the slider body on the magnetic disk side. A magnetic head slider on which a rail for generation is formed and which levitates and runs on a magnetic disk to write or read magnetic information, wherein a plurality of protrusions are provided on at least one of the rail and the medium facing surface of the slider body. Are provided along the length direction of the slider main body, and the height of a projection provided at a position closest to the magnetic head core among the plurality of projections is lower than the height of a projection provided at another position. It is characterized by.
【００１１】このような構成の本発明の磁気ヘッドスラ
イダによれば、磁気ディスクの停止時に磁気ヘッドコア
側（空気流の流出側）近傍のスライダ本体の媒体対向面
と上記磁気ディスクとの間に、他の突起より高さが低い
突起が介在されることになるので、上記磁気ディスクの
表面に塗布された潤滑剤のメニスカスの半径は、上記高
さが低い突起の回りで大きくなり、上記潤滑剤の液膜に
より上記スライダ本体の媒体対向面が磁気ディスクに張
り付くのを改善でき、スライダ本体と磁気ディスクとの
吸着を低減する効果を向上できる。また、上記磁気ヘッ
ドコアに最も近い位置に設けられた突起の高さは、他の
位置に設けられた突起の高さより低くされているので、
磁気ヘッドスライダがピッチ角１００μＲａｄ程度で浮
上時に上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた
突起が上記磁気ヘッドコアに設けられた磁気ギャップよ
り磁気ディスク側に突出するのを回避でき、すなわち、
上記磁気ギャップを上記複数の突起よりも磁気ディスク
に近接させることができ有利である。According to the magnetic head slider of the present invention having such a structure, when the magnetic disk is stopped, the magnetic head slides between the medium facing surface of the slider body near the magnetic head core side (outflow side of the air flow) and the magnetic disk. Since a projection having a height lower than the other projections is interposed, the radius of the meniscus of the lubricant applied to the surface of the magnetic disk increases around the projection having the lower height, and the lubricant With this liquid film, the medium facing surface of the slider body can be prevented from sticking to the magnetic disk, and the effect of reducing the attraction between the slider body and the magnetic disk can be improved. Further, since the height of the projection provided at the position closest to the magnetic head core is lower than the height of the projection provided at other positions,
When the magnetic head slider flies at a pitch angle of about 100 μRad, it is possible to avoid that the protrusion provided at the position closest to the magnetic head core projects toward the magnetic disk from the magnetic gap provided in the magnetic head core.
Advantageously, the magnetic gap can be closer to the magnetic disk than the plurality of protrusions.
【００１２】上記の構成の本発明の磁気ヘッドスライダ
において、上記複数の突起の高さは上記スライダ本体の
空気流の流入側から空気流の流出側にかけて順次低くさ
れているものであってもよい。また、上記のいずれかの
構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいては、上記レ
ールは、上記スライダ本体の磁気ディスク側の媒体対向
面の両縁部側に形成され、上記スライダ本体の空気流の
流入側から空気流の流出側にかけて延出するサイドレー
ルを有しており、上記複数の突起は上記の各サイドレー
ルの長さ方向に沿って設けられているものであってもよ
い。また、上記のいずれかの構成の本発明の磁気ヘッド
スライダにおいて、上記スライダ本体のサイドレール間
に溝が設けられ、上記複数の突起は上記各サイドレール
および上記溝に設けられているものであってもよい。In the magnetic head slider according to the present invention having the above-described structure, the height of the plurality of protrusions may be sequentially reduced from the inflow side of the airflow of the slider body to the outflow side of the airflow. . Further, in the magnetic head slider according to the present invention having any one of the above structures, the rail is formed on both sides of the medium facing surface of the slider body on the magnetic disk side, and the air flow of the slider body is reduced. There may be a side rail extending from the side to the outflow side of the air flow, and the plurality of protrusions may be provided along the length direction of each of the side rails. Further, in the magnetic head slider of the present invention having any one of the above structures, a groove is provided between the side rails of the slider body, and the plurality of protrusions are provided in each of the side rails and the groove. You may.
【００１３】また、上記のいずれかの構成の本発明の磁
気ヘッドスライダにおいて、上記磁気ヘッドスライダの
浮上状態のとき、上記複数の突起のうち少なくとも上記
磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起の先端
（下端部）は、上記磁気ヘッドコアの磁気ギャップより
高い位置にあることが好ましく、すなわち、上記複数の
突起のうち少なくとも上記磁気ヘッドコアに最も近い位
置に設けられた突起の先端と磁気ディスクとの距離は、
上記磁気ヘッドコアの磁気ギャップと磁気ディスクとの
距離より大きいことが好ましい。このような構成の磁気
ヘッドスライダによれば、磁気ヘッドスライダの浮上時
に、上記磁気ギャップを上記複数の突起よりも磁気ディ
スクに近接させることができ有利であり、また、上記突
起の先端が磁気ディスクに接触するのを防止できる。ま
た、上記のいずれかの構成の本発明の磁気ヘッドスライ
ダにおいて、上記磁気ヘッドスライダの浮上状態のと
き、上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突
起は、上記の他の位置に設けられた突起と上記磁気ヘッ
ドコアの磁気ギャップとの延長線上より磁気ディスク側
に突き出していないことが好ましい。このような構成の
磁気ヘッドスライダによれば、磁気ヘッドスライダの浮
上時に、上記磁気ギャップを上記複数の突起よりも磁気
ディスクに近接させることができ有利であり、また、上
記突起の先端が磁気ディスクに接触するのを防止でき
る。Further, in the magnetic head slider according to the present invention having one of the above structures, when the magnetic head slider is in a floating state, at least one of the plurality of projections provided at a position closest to the magnetic head core is provided. The tip (lower end) is preferably located at a position higher than the magnetic gap of the magnetic head core. That is, the tip of the protrusion provided at least at the position closest to the magnetic head core among the plurality of protrusions and the magnetic disk. The distance is
It is preferable that the distance is larger than the distance between the magnetic gap of the magnetic head core and the magnetic disk. According to the magnetic head slider having such a configuration, when the magnetic head slider flies, the magnetic gap can be brought closer to the magnetic disk than the plurality of protrusions, and the tip of the protrusion can be advantageously positioned on the magnetic disk. Can be prevented from coming into contact with. Further, in the magnetic head slider of the present invention having any one of the above structures, when the magnetic head slider is in a floating state, the protrusion provided at a position closest to the magnetic head core is provided at the other position. It is preferable that the protrusion does not protrude toward the magnetic disk from an extension of the magnetic gap of the magnetic head core. According to the magnetic head slider having such a configuration, when the magnetic head slider flies, the magnetic gap can be brought closer to the magnetic disk than the plurality of protrusions, and the tip of the protrusion can be advantageously positioned on the magnetic disk. Can be prevented from coming into contact with.
【００１４】また、上記のいずれかの構成の本発明の磁
気ヘッドスライダにおいては、上記磁気ヘッドコアに最
も近い位置に設けられた突起から上記磁気ギャップまで
の距離は、上記スライダ本体の長さの２５％以下である
ことが好ましい。このような構成の磁気ヘッドスライダ
によれば、磁気ディスクの停止時に磁気ギャップ近傍の
スライダ本体の媒体対向面と上記磁気ディスクとの間に
上記高さが低い突起が介在され、しかも該突起と上記磁
気ギャップとの距離が小さいので、上記潤滑剤の液膜に
より上記スライダ本体の媒体対向面が磁気ディスクに張
り付くのを防止する効果をより向上でき、スライダ本体
と磁気ディスクとの吸着の防止効果が優れる。Further, in the magnetic head slider of the present invention having any one of the above structures, the distance from the projection provided at the position closest to the magnetic head core to the magnetic gap is 25 times the length of the slider body. % Is preferable. According to the magnetic head slider having such a configuration, when the magnetic disk is stopped, the low-height protrusion is interposed between the medium facing surface of the slider body near the magnetic gap and the magnetic disk. Since the distance from the magnetic gap is small, the effect of preventing the medium facing surface of the slider body from sticking to the magnetic disk by the liquid film of the lubricant can be further improved, and the effect of preventing the slider body from sticking to the magnetic disk can be improved. Excellent.
【００１５】また、上記のいずれかの構成の本発明の磁
気ヘッドスライダにおいて、上記突起は、少なくとも最
外層に膜硬度２２ＧＰa以上のカーボン膜を有すること
が、上記突起の耐摩耗性を著しく向上でき、磁気ディス
クの起動時と停止時に上記突起が磁気ディスクと摺動し
ても摩耗しにくくできる点で好ましい。また、上記のい
ずれかの構成の本発明の磁気ヘッドスライダにおいて、
上記磁気ヘッドコアは、巨大磁気抵抗効果型素子が備え
られていることが好ましい。Further, in the magnetic head slider according to the present invention having any one of the above structures, the protrusion has a carbon film having a film hardness of 22 GPa or more in at least the outermost layer, so that the wear resistance of the protrusion can be significantly improved. This is preferable in that the protrusions can be hardly worn even when the magnetic disk is slid when the magnetic disk is started and stopped. Further, in the magnetic head slider of the present invention having one of the above structures,
Preferably, the magnetic head core includes a giant magnetoresistive element.
【００１６】本発明の磁気ヘッドスライダの製造方法
は、上記課題を解決するために、磁気ヘッドコアが設け
られた板状のスライダ本体の磁気ディスク側の媒体対向
面上に、中間膜とカーボン膜とを交互に積層し、該積層
膜をパターニングして複数の突起を形成する際、上記複
数の突起のうち上記磁気ヘッドコアに最も近い位置に形
成する突起の高さを他の位置に形成する突起の高さより
低くすることを特徴とする。このような構成の磁気ヘッ
ドスライダの製造方法によれば、本発明の磁気ヘッドス
ライダの製造に好適に用いることができる。In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a magnetic head slider according to the present invention provides an intermediate film and a carbon film on a medium facing surface on a magnetic disk side of a plate-like slider body provided with a magnetic head core. Are alternately stacked, and when the stacked film is patterned to form a plurality of protrusions, the height of the protrusion formed at the position closest to the magnetic head core among the plurality of protrusions is the height of the protrusion formed at another position. The height is lower than the height. According to the method of manufacturing a magnetic head slider having such a configuration, it can be suitably used for manufacturing the magnetic head slider of the present invention.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の磁
気ヘッドスライダの一実施形態について説明する。図１
は本発明に係る磁気ヘッドスライダの実施形態例を示す
底面図であり、図２は図１の磁気ヘッドスライダが浮上
の状態のときのＩＩ−ＩＩ線断面図である。この例の磁
気ヘッドスライダＳは、Ａｌ2Ｏ3ＴｉＣなどからなる板
状のスライダ本体１０に、後述する構成の磁気ヘッドコ
ア１１を備えたもので、磁気コア部分以外の部分は全体
的にはセラミックス製などの基板から構成されてなり、
図１１に示す従来の磁気ヘッドスライダと同様に使用さ
れるものである。スライダ本体１０の底面（図１では上
面であって、磁気ディスク７１に対向する媒体対向面）
には、その両側縁部に位置してスライダ本体１０の前部
側から後部側に至るサイドレール１２が２本形成されて
いる。なお、本明細書では、図１におけるスライダ本体
１０の下側をスライダ本体１０の前部側と称し、この前
部側が一般にはスライダのリーディング側と称されて磁
気ディスク７１からの空気流が流入される側１０ａであ
り、反対に、図１におけるスライダ本体１０の上側をス
ライダ本体１０の後部側と称し、この後部側が一般には
スライダのトレーリング側と称されて磁気ディスクから
の空気流が流出される側１０ｂである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a magnetic head slider according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG.
FIG. 2 is a bottom view showing an embodiment of the magnetic head slider according to the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II when the magnetic head slider of FIG. 1 is in a floating state. The magnetic head slider S of this example includes a plate-shaped slider body 10 made of Al 2 O 3 TiC or the like and a magnetic head core 11 having a configuration to be described later. It is composed of substrates made of
It is used similarly to the conventional magnetic head slider shown in FIG. Bottom surface of slider body 10 (upper surface in FIG. 1 and medium facing surface facing magnetic disk 71)
Are formed with two side rails 12 located on both side edges from the front side to the rear side of the slider body 10. In this specification, the lower side of the slider main body 10 in FIG. 1 is referred to as the front side of the slider main body 10, and the front side is generally referred to as the leading side of the slider, and the air flow from the magnetic disk 71 flows in. The upper side of the slider body 10 in FIG. 1 is called the rear side of the slider body 10, and the rear side is generally called the trailing side of the slider, and the air flow from the magnetic disk flows out. Side 10b.
【００１８】各サイドレール１２は、正圧を発生させる
ために設けられたものであり、空気流の流入側１０ａの
端部が空気流の流出側１０ｂの端部より幅広でこれら流
入側の端部と流出側の端部の間の中央部が幅狭に形成さ
れている。各サイドレール１２の中央部には、図１の鎖
線で示したように切欠部１０ｄが形成されていてもよ
い。両サイドレール１２、１２の後端部間にはアイラン
ド状のセンターレール１３が形成されている。これら両
サイドレール１２、１２とセンターレール１３の表面に
は、クラウンが形成されていることが好ましい。また、
両サイドレール１２，１２およびセンターレール１３の
周囲にはそれぞれ段部２０が形成されている。また、ス
ライダ本体１０の底面には、両サイドレール１２に挟ま
れた状態で負圧溝１５が形成されている。この負圧溝１
５の前部側は中央部にかけて末広がりに形成されて、そ
の後部側はセンターレール１３で二つに分断されて上記
中央部より幅狭に形成されている。Each of the side rails 12 is provided for generating a positive pressure, and the end of the air flow inflow side 10a is wider than the end of the air flow outflow side 10b, and these inflow side ends are provided. The central part between the part and the end on the outflow side is formed narrow. At the center of each side rail 12, a notch 10d may be formed as shown by a chain line in FIG. An island-shaped center rail 13 is formed between the rear ends of both side rails 12 and 12. It is preferable that crowns are formed on the surfaces of both side rails 12 and 12 and center rail 13. Also,
A step portion 20 is formed around each of the side rails 12 and 12 and the center rail 13. In addition, a negative pressure groove 15 is formed on the bottom surface of the slider body 10 so as to be sandwiched between both side rails 12. This negative pressure groove 1
The front side of 5 is formed so as to widen toward the center, and the rear side is divided into two by a center rail 13 so as to be narrower than the center.
【００１９】両サイドレール１２、１２およびセンター
レール１３の表面上には、図２に示すようにＳｉ、Ｓｉ
Ｃ等からなる中間膜６３が設けられている。中間膜６３
の厚みは、０．５ｎｍ程度とされる。As shown in FIG. 2, Si, Si is formed on the surfaces of both side rails 12, 12 and center rail 13.
An intermediate film 63 made of C or the like is provided. Intermediate film 63
Has a thickness of about 0.5 nm.
【００２０】各サイドレール１２上には、中間膜６３を
介して第１、第２、第３の突起１７、１８、１９が形成
されている。第１の突起１７は空気流の流入側寄りに設
けられており、第２の突起１８は空気流の流出側寄りに
設けられている。第３の突起１９は、これら第１と第２
の突起１７、１８間に設けられている。従って、上記突
起のうち第２の突起１８が、磁気ヘッドコア１１に最も
近い位置に設けられている。第１、第３の突起１７、１
９は、横断面円状のものである。第２の突起１８は、横
断面楕円状のものであり、長軸がサイドレール１２の長
さ方向に配置されている。上記複数の突起の高さは、ス
ライダ本体１０の空気流の流入側１０ａから空気流の流
出側１０ｂにかけて順次低くなっており（磁気ギャップ
Ｇに近いものほど高さが低くなっており）、すなわち、
高さの低い方から第２の突起１８、第３の突起１９、第
１の突起１７の順に並んでいる。First, second, and third projections 17, 18, and 19 are formed on each side rail 12 with an intermediate film 63 interposed therebetween. The first protrusion 17 is provided near the inflow side of the air flow, and the second protrusion 18 is provided near the outflow side of the air flow. The third protrusion 19 is provided between the first and second protrusions.
Are provided between the projections 17 and 18. Therefore, the second protrusion 18 is provided at a position closest to the magnetic head core 11 among the above-mentioned protrusions. First and third projections 17, 1
Reference numeral 9 denotes a circular cross section. The second projection 18 has an elliptical cross section, and its major axis is arranged in the length direction of the side rail 12. The heights of the plurality of protrusions are gradually reduced from the inflow side 10a of the airflow to the outflow side 10b of the airflow of the slider body 10 (the height is lower as the position is closer to the magnetic gap G). ,
The second projection 18, the third projection 19, and the first projection 17 are arranged in this order from the lowest height.
【００２１】第２の突起１８は、図２に示すようにカー
ボン膜６４から形成されてなるものである。この第２の
突起１８の高さは、磁気ヘッドスライダＳの浮上量が２
５ｎｍで、第２の突起１８と磁気ギャップＧとの距離が
３００μｍの場合、４０ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ
〜３５ｎｍ程度とされる。スライダ本体１０は浮上時に
は１００μＲａｄ程度傾斜しているので第２の突起１８
の高さが４０ｎｍを越えると、浮上時にこの突起１８の
方が磁気ギャップＧより磁気ディスク７１に近づいてし
まうため、すなわち、磁気ギャップＧと磁気ディスク７
１との距離が遠くなるため不利になってしまう。The second projection 18 is formed from a carbon film 64 as shown in FIG. The height of the second projection 18 is such that the flying height of the magnetic head slider S is 2
When the distance between the second protrusion 18 and the magnetic gap G is 300 μm at 5 nm, it is 40 nm or less, preferably 30 nm.
About 35 nm. Since the slider body 10 is inclined by about 100 μRad when flying, the second protrusion 18
If the height exceeds 40 nm, the protrusion 18 comes closer to the magnetic disk 71 than the magnetic gap G when flying, that is, the magnetic gap G and the magnetic disk 7
This is disadvantageous because the distance from the camera 1 is long.
【００２２】第３の突起１９は、カーボン膜６４と、Ｓ
ｉ、ＳｉＣ等からなる中間膜６３が交互に形成されてな
るものであり、図２では、スライダ本体１０側からカー
ボン膜６４、中間膜６３、カーボン膜６４の順に積層さ
れている。第３の突起１９の高さは、第２の突起１８の
高さより高くなっており、磁気ヘッドスライダＳの浮上
量が２５ｎｍで、第３の突起１９と磁気ギャップＧとの
距離が６００μｍの場合、３５ｎｍ以上、好ましくは４
０ｎｍ〜４５ｎｍ程度である。The third protrusion 19 is formed by a carbon film 64
The intermediate films 63 made of i, SiC or the like are alternately formed. In FIG. 2, the carbon film 64, the intermediate film 63, and the carbon film 64 are laminated in this order from the slider body 10 side. The height of the third protrusion 19 is higher than the height of the second protrusion 18. When the flying height of the magnetic head slider S is 25 nm and the distance between the third protrusion 19 and the magnetic gap G is 600 μm. , 35 nm or more, preferably 4
It is about 0 nm to 45 nm.
【００２３】第１の突起１７も、カーボン膜６４と、Ｓ
ｉ、ＳｉＣ等からなる中間膜６３が６３が交互に形成さ
れてなるものであり、図２では、スライダ本体１０側か
らカーボン膜６４、中間膜６３、カーボン膜６４、中間
膜６３、カーボン膜６４の順に積層されている。第２の
突起１８の高さは、第３の突起１９の高さより高くなっ
ており、磁気ヘッドスライダＳの浮上量が２５ｎｍで、
第２の突起１７と磁気ギャップＧとの距離が８００μｍ
の場合、３５ｎｍ以上、好ましくは４０ｎｍ〜４５ｎｍ
程度である。第１、第３の突起１７、１９を構成する各
中間膜６３の厚みは４ｎｍ程度とされ、各カーボン膜６
４の厚みは２０ｎｍ程度である。The first projections 17 are also formed of the carbon film 64 and the S
In FIG. 2, carbon films 64, the intermediate films 63, the carbon films 64, the intermediate films 63, and the carbon films 64 are formed from the slider body 10 side. Are stacked in this order. The height of the second protrusion 18 is higher than the height of the third protrusion 19, the flying height of the magnetic head slider S is 25 nm,
The distance between the second protrusion 17 and the magnetic gap G is 800 μm
35 nm or more, preferably 40 nm to 45 nm
It is about. The thickness of each intermediate film 63 constituting the first and third protrusions 17 and 19 is set to about 4 nm, and each carbon film 6
4 has a thickness of about 20 nm.
【００２４】中間膜６３は、各突起を形成する際にエッ
チングストッパーとして機能するものである。また、特
に各サイドレール１２の表面に形成する中間膜６３（第
１層目の中間膜６３）は、接着層としても機能するもの
である。The intermediate film 63 functions as an etching stopper when forming each projection. In particular, the intermediate film 63 (first-layer intermediate film 63) formed on the surface of each side rail 12 also functions as an adhesive layer.
【００２５】各突起１７、１８、１９を構成するカーボ
ン膜６４は、膜硬度２２ＧＰa以上のカーボン膜から構
成されていることが、各突起１７、１８、１９の磨耗性
を向上できる点で好ましい。ここでの膜硬度は、押込み
硬さ試験機を用い荷重に対する押し込み深さを深さを測
定し、下記式（１）により求めたものである。押込み試
験機に備えられた測定圧子としては、図５に示すような
開き角（α）６５°のダイヤモンド三角錐圧子を用い
た。なお、図５中、Ａｐは、投影面積を示す。 膜硬度（Ｈ）＝Ｐ／Ａｓ≒３７．９６２×１０-3×Ｐ／ｈ2 ・・・（１） （式中、Ｐは荷重、ｈは押し込み深さ、Ａｓは変位ｈに
対する三角錐圧子の表面積である。） 膜硬度２２ＧＰａ以上のカーボン膜の具体例としては、
水素含有量（水素濃度）が４０原子％未満のカーボン膜
が用いられ、好ましくは水素含有量（水素濃度）が３５
原子％のカーボン膜が用いられる。さらに好ましくは水
素含有量（水素濃度）が０原子％のカソディックアーク
カーボン（ＣＡＣ）が用いられる。It is preferable that the carbon film 64 constituting each of the projections 17, 18 and 19 is made of a carbon film having a film hardness of 22 GPa or more, from the viewpoint that the abrasion property of each of the projections 17, 18 and 19 can be improved. Here, the film hardness is obtained by measuring the depth of the indentation with respect to the load using an indentation hardness tester, and calculating the depth by the following equation (1). As a measurement indenter provided in the indentation tester, a diamond triangular pyramid indenter having an opening angle (α) of 65 ° as shown in FIG. 5 was used. In FIG. 5, Ap indicates a projection area. Film hardness (H) = P / As ≒ 37.962 × 10 −3 × P / h 2 (1) (where P is a load, h is a depth of indentation, and As is a triangular pyramid indenter for displacement h. Specific examples of the carbon film having a film hardness of 22 GPa or more include:
A carbon film having a hydrogen content (hydrogen concentration) of less than 40 atomic% is used, and preferably, a hydrogen content (hydrogen concentration) of 35%.
An atomic% carbon film is used. More preferably, cathodic arc carbon (CAC) having a hydrogen content (hydrogen concentration) of 0 atomic% is used.
【００２６】さらに、第２の突起１８の高さは、上記磁
気ヘッドスライダＳが浮上状態のとき、第３の突起１９
あるいは第１の突起１７と磁気ギャップＧとの延長線Ｈ
上より磁気ディスク７１側に突き出さないような高さと
することが、磁気ヘッドスライダＳの浮上時に、磁気ギ
ャップＧを第１、２、３の突起１７、１８、１９よりも
磁気ディスク７１に近接させることができ有利にできる
点で好ましい。Further, the height of the second projection 18 is such that when the magnetic head slider S is in a floating state, the third projection 19
Alternatively, an extension line H between the first protrusion 17 and the magnetic gap G
When the magnetic head slider S flies, the magnetic gap G is closer to the magnetic disk 71 than the first, second, and third protrusions 17, 18, and 19 when the magnetic head slider S flies. It is preferable because it can be advantageously performed.
【００２７】また、第２の突起１８は、磁気ギャップＧ
からの距離Ｌ2がスライダ本体１０の長さの２５％以下
となる位置に設けられていることが好ましく、例えば、
スライダ本体１０の長さが１．２ｍｍの場合、Ｌ2が３
００μｍ以下とされる。このようにすることにより、磁
気ディスク７１の停止時に磁気ギャップＧ近傍のスライ
ダ本体１０の媒体対向面と磁気ディスク７１との間に第
２の突起１８が介在され、しかもこの第２の突起１８と
磁気ギャップＧとの距離が小さいので、上記潤滑剤の液
膜により上記スライダ本体１０の媒体対向面が磁気ディ
スク７１に張り付くのを防止する効果をより向上でき、
スライダ本体１０と磁気ディスク７１との吸着の防止効
果が優れる。上記のような第１と第２と第３の突起１
７、１８、１９の表面には、クラウンが形成されている
ことが好ましい。Further, the second projection 18 is provided with a magnetic gap G.
It is preferable that the distance L 2 is provided in 25% or less and a position of the length of the slider body 10 from, for example,
When the length of the slider body 10 is 1.2 mm, L 2 is 3
It is set to 00 μm or less. In this way, when the magnetic disk 71 is stopped, the second projection 18 is interposed between the magnetic disk 71 and the medium facing surface of the slider body 10 near the magnetic gap G. Since the distance from the magnetic gap G is small, the effect of preventing the medium facing surface of the slider body 10 from sticking to the magnetic disk 71 by the liquid film of the lubricant can be further improved,
The effect of preventing the slider body 10 from attracting the magnetic disk 71 is excellent. First, second and third protrusions 1 as described above
It is preferable that crowns are formed on the surfaces of 7, 18 and 19.
【００２８】次に、スライダ本体１０の後端部側中央に
形成された磁気ヘッドコア１１の構造について説明す
る。この例で示す磁気ヘッドコア１１は、図３と図４に
断面構造を示すような複合型磁気ヘッドコアであり、ス
ライダ本体１０の後分部側端面（トレーリング側端面）
に、ＭＲヘッド（読出ヘッド）ｈ1と、インダクティブ
ヘッド（書込ヘッド）ｈ2とが順に積層されて構成され
ている。ＭＲヘッドｈ1は、磁気抵抗効果を利用してデ
ィスクなどの記録媒体からの漏れ磁束を検出し、磁気信
号を読み取るものである。図３と図４に示すようにＭＲ
ヘッドｈ1は、スライダ本体１０の後端部に形成された
センダスト（Ｆｅ-Ａｌ-Ｓｉ）等の磁性合金からなる下
部シールド層３３上に、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）などの非
磁性材料により形成された下部ギャップ層３４が設けら
れ、この下部ギャップ層３４上に、巨大磁気抵抗効果材
料膜（巨大磁気抵抗効果型素子）３５が積層されてい
る。Next, the structure of the magnetic head core 11 formed in the center of the slider body 10 at the rear end will be described. The magnetic head core 11 shown in this example is a composite type magnetic head core whose sectional structure is shown in FIG. 3 and FIG. 4, and a rear-part-side end surface (trailing-side end surface) of the slider body 10.
An MR head (read head) h1 and an inductive head (write head) h2 are sequentially stacked. The MR head h1 detects a magnetic flux leaking from a recording medium such as a disk using the magnetoresistance effect and reads a magnetic signal. As shown in FIG. 3 and FIG.
The head h1 is formed of a nonmagnetic material such as alumina (Al 2 O 3 ) on a lower shield layer 33 formed of a magnetic alloy such as sendust (Fe-Al-Si) formed at the rear end of the slider body 10. A provided lower gap layer 34 is provided, and a giant magnetoresistive material film (giant magnetoresistive element) 35 is laminated on the lower gap layer 34.
【００２９】巨大磁気抵抗効果材料膜３５の両側には、
この膜にバイアス磁界を与えるハードバイアス層や検出
電流を与える電極層４１などが形成され、更にその上に
は、上部ギャップ層が形成され、その上に上部シールド
層が形成されており、この上部シールド層は、その上に
設けられるインダクティブヘッドｈ2の下部コア層４５
と兼用にされている。On both sides of the giant magnetoresistive material film 35,
A hard bias layer for applying a bias magnetic field, an electrode layer 41 for applying a detection current, and the like are formed on this film. An upper gap layer is further formed thereon, and an upper shield layer is formed thereon. The shield layer is formed on the lower core layer 45 of the inductive head h2 provided thereon.
And have been combined.
【００３０】インダクティブヘッドｈ2は、下部コア層
４５の上に、ギャップ層４４が形成され、その上に平面
的に螺旋状となるようにパターン化されたコイル層４６
が形成され、コイル層４６は絶縁材料層４７に囲まれて
いる。絶縁材料層４７の上に形成された上部コア層４８
は、その先端部４８ａをＡＢＳ面３１ｂにて下部コア層
４５に微小間隙をあけて対向し、その基端部４８ｂを下
部コア層４５と磁気的に接続させて設けられている。ま
た、上部コア層４８の上にはアルミナなどからなる保護
層４９が設けられている。インダクティブヘッドｈ2で
は、コイル層４６に記録電流が与えられ、コイル層４６
からコア層に記録磁界が与えられる。そして、磁気ギャ
ップＧの部分での下部コア層４５と上部コア層４８の先
端部からの漏れ磁界により磁気ディスクなどの磁気記録
媒体に磁気信号を記録することができる。The inductive head h2 has a gap layer 44 formed on a lower core layer 45, and a coil layer 46 patterned on the gap layer 44 so as to be spirally planar.
Is formed, and the coil layer 46 is surrounded by the insulating material layer 47. Upper core layer 48 formed on insulating material layer 47
Is provided such that a front end portion 48a thereof faces the lower core layer 45 with a minute gap therebetween on the ABS 31b, and a base end portion 48b thereof is magnetically connected to the lower core layer 45. Further, a protective layer 49 made of alumina or the like is provided on the upper core layer 48. In the inductive head h2, a recording current is applied to the coil layer 46, and the coil layer 46
, A recording magnetic field is applied to the core layer. Then, a magnetic signal can be recorded on a magnetic recording medium such as a magnetic disk by a leakage magnetic field from the distal ends of the lower core layer 45 and the upper core layer 48 at the portion of the magnetic gap G.
【００３１】巨大磁気抵抗効果材料膜３５は、フリー強
磁性層と非磁性層とピン止め強磁性層と反強磁性層を積
層して断面台形状の積層体が形成されてなるものであ
る。上記フリー強磁性層、ピン止め強磁性層は、いずれ
も強磁性体の薄膜からなるが、具体的にはＮｉ-Ｆｅ合
金、Ｃｏ-Ｆｅ合金、Ｎｉ-Ｃｏ合金、Ｃｏ、Ｎｉ-Ｆｅ-
Ｃｏ合金な どからなる。また、上記フリー強磁性層を
Ｃｏ層から、あるいはＮｉ-Ｆｅ合金層から、あるいは
Ｃｏ層とＮｉ-Ｆｅ合金層の積層構造、あるいはＣｏ−
Ｆｅ合 金層とＮｉ−Ｆｅ合金層との積層構造から構成
することもできる。なお、Ｃｏ層とＮｉ-Ｆｅ合金層と
の２層構造とする場合は、上記非磁性層側に薄いＣｏ層
を 配置する構造とすることが好ましい。またＣｏ−Ｆ
ｅ合金層とＮｉ−Ｆｅ合金層の２層構造とする場合は上
記非磁性層側に薄いＣｏ−Ｆｅ合金層を配置することが
好ましい。The giant magnetoresistive material film 35 is formed by laminating a free ferromagnetic layer, a nonmagnetic layer, a pinned ferromagnetic layer, and an antiferromagnetic layer to form a laminate having a trapezoidal cross section. Each of the free ferromagnetic layer and the pinned ferromagnetic layer is formed of a ferromagnetic thin film, and specifically, includes a Ni—Fe alloy, a Co—Fe alloy, a Ni—Co alloy, Co, and a Ni—Fe— layer.
It is made of Co alloy. Further, the free ferromagnetic layer is formed from a Co layer, from a Ni—Fe alloy layer, or a laminated structure of a Co layer and a Ni—Fe alloy layer, or
It can also be composed of a laminated structure of an Fe alloy layer and a Ni—Fe alloy layer. In the case of a two-layer structure of a Co layer and a Ni—Fe alloy layer, it is preferable that a thin Co layer is disposed on the nonmagnetic layer side. Also Co-F
In the case of a two-layer structure of the e-alloy layer and the Ni-Fe alloy layer, it is preferable to arrange a thin Co-Fe alloy layer on the nonmagnetic layer side.
【００３２】これは、上記非磁性層を上記フリー強磁性
層、上記ピン止め強磁性層で挟む構造の巨大磁気抵抗効
果発生機構にあっては、ＣｏとＣｕの界面で伝導電子の
スピン依存散乱の効果が大きいこと、および、上記フリ
ー強磁性層、ピン止め強磁性層を同種の材料から構成す
る方が、異種の材料から構成するよりも、伝導電子のス
ピン依存散乱以外の因子が生じる可能性が低く、より高
い磁気抵抗効果を得られることに起因している。このよ
うなことから、上記ピン止め強磁性層をＣｏから構成し
た場合は、上記フリー強磁性層の上記非磁性層側を所定
の厚さでＣｏ層に置換した構造が好ましい。また、Ｃｏ
層を特に区別して設けなくとも、上記フリー強磁性層の
非磁性層側にＣｏの多く含ませた合金状態とし、上記非
磁性層側に向かうにつれて徐々にＣｏ濃度が薄くなるよ
うな濃度勾配層としても良い。また、上記フリー強磁性
層、ピン止め強磁性層をＣｏ−Ｆｅ合金層から構成し、
これらフリー強磁性層、ピン止め強磁性層で上記非磁性
層を挟む構造とした場合も、Ｃｏ−Ｆｅ合金層とＣｕ層
の界面で伝導電子のスピン依存散乱の効果が大きく、伝
導電子のスピン依存散乱以外の因子が生じる可能性が低
く、より高い磁気抵抗効果が得られる。上記非磁性層
は、Ｃｕ、Ｃｒ、Ａｕ、Ａｇなどに代表される非磁性体
からなり、２〜４ｎｍ程度の厚さに形成されている。The mechanism for generating a giant magnetoresistance effect in which the nonmagnetic layer is sandwiched between the free ferromagnetic layer and the pinned ferromagnetic layer is described as follows. Spin-dependent scattering of conduction electrons at the interface between Co and Cu. And the fact that the free ferromagnetic layer and the pinned ferromagnetic layer are made of the same kind of material may cause factors other than spin-dependent scattering of conduction electrons than those made of different kinds of materials. This is due to its low resistance and higher magnetoresistance effect. For this reason, when the pinned ferromagnetic layer is made of Co, a structure in which the nonmagnetic layer side of the free ferromagnetic layer is replaced with a Co layer with a predetermined thickness is preferable. Also, Co
Even though the layers are not particularly distinguished, the free ferromagnetic layer is made into an alloy state in which a large amount of Co is contained in the nonmagnetic layer side, and the concentration gradient layer is such that the Co concentration gradually decreases toward the nonmagnetic layer side. It is good. Further, the free ferromagnetic layer and the pinned ferromagnetic layer are composed of a Co—Fe alloy layer,
Also in the case where the non-magnetic layer is sandwiched between the free ferromagnetic layer and the pinned ferromagnetic layer, the effect of the spin-dependent scattering of the conduction electrons at the interface between the Co—Fe alloy layer and the Cu layer is large, It is unlikely that factors other than dependent scattering will occur, and a higher magnetoresistance effect can be obtained. The nonmagnetic layer is made of a nonmagnetic material typified by Cu, Cr, Au, Ag and the like, and is formed to a thickness of about 2 to 4 nm.
【００３３】上記反強磁性層は、例えば、Ｘ1-Ｍｎ合金
からなることが好ましい。ここで上記組成式においてＸ
1は、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔのいずれか１種ま
たは２種以上からなることが好ましい。上記Ｘ1-Ｍｎ合
金のＸ1が単一の金属原子である場合のＸ1の含有率の好
ましい範囲は、Ｒｕは１０〜４５原子％、Ｒｈは１０〜
４０原子％、Ｉｒは１０〜４０原子％、Ｐｄは１０〜２
５原子％、Ｐｔは１０〜２５原子％である。なお、以上
の記載において１０〜４５原子％とは、１０原子％以上
で４５原子％以下を意味し、「〜」で表示する数値範囲
の上限下限は全て「以上」および「以下」で規定される
ものとする。上記組成範囲のＭｎ系合金は、不規則結晶
構造を有するものであるが、この不規則結晶構造とは、
面心正方晶（fct規則格子；ＣｕＡｕＩ構造など）のよ
うな規則的な結晶構造ではない状態を意味している。即
ち、ここで用いられるＭｎ合金は、スパッタリングなど
により成膜された後に、上記面心正方晶などの規則的な
結晶構造（ＣｕＡｕＩ構造など）とするための高温でか
つ長時間の加熱処理を行わないものであり、不規則結晶
構造とは、スパッタリングなどの成膜法により形成され
たままの状態、あるいはこれに通常のアニール処理が施
された状態のものである。The antiferromagnetic layer is preferably made of, for example, an X 1 -Mn alloy. Here, in the above composition formula, X
1 is preferably composed of one or more of Ru, Rh, Ir, Pd, and Pt. A preferred range for the content of X 1 when X 1 of the X 1 -Mn alloy is a single metal atom, Ru is 10 to 45 atomic%, Rh is 10
40 atomic%, Ir 10-40 atomic%, Pd 10-2
5 atomic% and Pt are 10 to 25 atomic%. In the above description, 10 to 45 atomic% means 10 atomic% or more and 45 atomic% or less, and the upper and lower limits of the numerical range represented by “to” are all defined by “over” and “below”. Shall be. The Mn-based alloy having the above composition range has an irregular crystal structure.
It means a state that is not a regular crystal structure such as a face-centered tetragonal crystal (fct ordered lattice; CuAuI structure or the like). That is, the Mn alloy used here is subjected to high-temperature and long-time heat treatment for forming a regular crystal structure such as the face-centered tetragonal crystal (CuAuI structure) after being formed into a film by sputtering or the like. The irregular crystal structure is a state in which the film is formed by a film forming method such as sputtering or a state in which the film is subjected to a normal annealing treatment.
【００３４】上記Ｘ1−Ｍｎ合金（元素Ｘ1はＲｕ、Ｒ
ｈ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔのうちのいずれか１種または２種
以上からなる。）のＸ1の含有率のより好ましい範囲は
Ｘ1が３７〜６３原子％である。なお以上の記載におい
て３７〜６３原子％とは３７原子％以上で６３原子％以
下を意味し、「〜」で表示する数値範囲の上限下限は全
て「以上」および「以下」で規定されるものとする。上
記組成範囲のＸ1−Ｍｎ合金は、スパッタリング等の成
膜法などにより形成された状態ではＸ1、Ｍｎ原子の配
列順序が不規則な、面心立方格子であり、強磁性層との
境界面で交換異方性磁界はほとんど発生しないが磁界中
でアニール処理を施すことにより、面心正方格子に変態
し、強磁性層との境界面で一方向異方性の大きな交換異
方性磁界（Ｈex）を発生することができる。The above X 1 -Mn alloy (element X 1 is Ru, R
h, Ir, Pd, and Pt. A more preferable range of the content of X 1) of the X 1 is 37 to 63 atomic%. In the above description, 37 to 63 atomic% means 37 atomic% or more and 63 atomic% or less, and the upper and lower limits of the numerical range indicated by “to” are all defined by “above” and “below”. And The X 1 -Mn alloy in the above composition range is a face-centered cubic lattice in which the order of arrangement of X 1 and Mn atoms is irregular when formed by a film forming method such as sputtering, and the boundary with the ferromagnetic layer. Although an exchange anisotropic magnetic field hardly occurs on the surface, it is transformed into a face-centered square lattice by annealing in a magnetic field, and has a large unidirectional anisotropy at the interface with the ferromagnetic layer. (H ex ) can be generated.
【００３５】又、上記反強磁性層はＸ1−Ｍｎ−Ｘ2合金
からなるものであってもよい。ここで上記組成式におい
て、Ｘ1は先に述べたようにＲｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｄ、
Ｐｔのうちの１種または２種以上からなることが好まし
い。また、Ｘ2はＡｕ、 Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ 、Ｓｉ、
Ｐ、Ｂｅ、Ｂ、Ｃ、Ｓｅ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、 Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｎ、Ｎｂ、
Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｓｎ、Ｉｎのうちのいずか１種
または２種以上からなることが好ましい。Ｘ1とＭｎの
組成比は、原子％でＸ1：Ｍｎ＝４：６〜６：４であ
る。Ｘ2の含有率は原子％で０．２〜１０原子％であ
る。The antiferromagnetic layer may be made of an X 1 -Mn-X 2 alloy. Here, in the above composition formula, X 1 is Ru, Rh, Ir, Pd,
It is preferable that one or two or more of Pt are used. X 2 is Au, Ag, Mg, Al, Si,
P, Be, B, C, Se, Ti, V, Cr, Fe, C
o, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Y, Zn, Nb,
It is preferable to be made of one or more of Mo, Hf, Ta, W, Sn, and In. The composition ratio of X 1 and Mn is X 1 : Mn = 4: 6 to 6: 4 in atomic%. The content of X 2 is 0.2 to 10 atomic% by atomic%.
【００３６】上記反強磁性層がＸ1−Ｍｎ−Ｘ2合金から
なる場合にも、成膜後に、磁界中でアニール処理を施す
ことにより強磁性層との境界面で一方向異方性の大きな
交換異方性磁界（Ｈex）を発生することができる。上記
のＸ1−Ｍｎ系合金あるいはＸ1−Ｍｎ−Ｘ2系合金から
なる反強磁性層であるならば、上記ピン止め強磁性層と
の境界面に一方向異方性の交換異方性磁界を印加するこ
とができ、ピン止め強磁性層の外部信号磁界に対する磁
化の回転をピン止めすることができる。また、上記Ｘ1
−Ｍｎ系の合金の反強磁性層であるならば、Ｆｅ−Ｍｎ
に 比べて耐食性に優れ、また温度変化に対する交換異
方性磁界（Ｈex）の変動が少なくなる。上記のような構
成のＭＲヘッドｈ1においては、磁気ディスク７１から
の微小の漏れ磁界の有無により巨大磁気抵抗効果材料膜
３５の電気抵抗が変化するので、この抵抗変化を読み取
ることで磁気ディスクの記録内容を読み取ることができ
る。Even in the case where the antiferromagnetic layer is made of an X 1 -Mn-X 2 alloy, the film is annealed in a magnetic field after the film is formed, so that a unidirectional anisotropy is formed at the interface with the ferromagnetic layer. A large exchange anisotropic magnetic field ( Hex ) can be generated. If the antiferromagnetic layer is made of the above-mentioned X 1 -Mn-based alloy or X 1 -Mn-X 2 -based alloy, a unidirectional anisotropic exchange anisotropy is formed at the interface with the pinned ferromagnetic layer. A magnetic field can be applied and the rotation of the magnetization of the pinned ferromagnetic layer with respect to an external signal magnetic field can be pinned. In addition, the above X 1
-If the antiferromagnetic layer is a Mn-based alloy, Fe-Mn
As compared with the above, it is excellent in corrosion resistance, and the fluctuation of the exchange anisotropic magnetic field (H ex ) with the temperature change is reduced. In the MR head h1 having the above-described structure, the electric resistance of the giant magnetoresistive material film 35 changes depending on the presence or absence of a minute leakage magnetic field from the magnetic disk 71. Can read the contents.
【００３７】上記のような構成の磁気ヘッドスライダＳ
を製造するには、例えば、Ａｌ2Ｏ3ＴｉＣなどからなる
板状体（ウエハ）に複数の磁気ヘッドコア１１を形成し
た後、上記板状体を複数の基体に切断する。なお、サイ
ドレール１２、１２およびセンターレール１３にクラウ
ンを形成する場合には、上記基体の表面にラップ加工等
が施される。The magnetic head slider S configured as described above
In order to manufacture the substrate, for example, after forming a plurality of magnetic head cores 11 on a plate (wafer) made of Al 2 O 3 TiC or the like, the plate is cut into a plurality of substrates. When crowns are formed on the side rails 12 and 12 and the center rail 13, lapping or the like is performed on the surface of the base.
【００３８】この後、 図６のＡに示すように、基体１
０ｃの表面上（磁気ディスク側の媒体対向面となる側の
面上）に、スパッタ法又はＣＶＤ法によりＳｉ又はＳｉ
Ｃよりなる中間膜６３を形成した後、ＥＣＲＣＶＤ法
（Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Depo
sition）によりカーボン膜６４を交互に成膜し、６層の
積層膜を形成する。ここでカーボン膜６４を成膜する
際、成膜装置内に供給する反応ガス（炭素を含むガス）
の種類を変更したり、基板バイアスを調整する（基板バ
イアスを高くする）ことにより、カーボン膜中の水素含
有量を３０原子％未満と少なくして、膜硬度が２２ＧＰ
ａ以上の第２のカーボン膜６４を成膜することが好まし
い。このようにカーボン膜６４中の水素含有量を低くす
ることにより、炭素原子同士の結合が強くなり、硬度を
高くすることができ、耐磨耗性が優れた突起を形成でき
る点で好ましい。なお、カーボン膜６４をカソディック
アークカーボンから構成する場合は、中間膜６３が成膜
された基体１０ｃを成膜装置内に配置し、真空雰囲気中
でグラファイトの塊をアーク放電することにより成膜す
る。Thereafter, as shown in FIG.
0c (on the surface facing the medium facing the magnetic disk) by Si or Si by sputtering or CVD.
After the formation of the intermediate film 63 made of C, the ECRCVD method (Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Depo
The carbon films 64 are alternately formed according to (sition), thereby forming a six-layer laminated film. Here, when the carbon film 64 is formed, a reactive gas (gas containing carbon) supplied into the film forming apparatus.
The hydrogen content in the carbon film is reduced to less than 30 atomic% by changing the type of the film and adjusting the substrate bias (the substrate bias is increased), and the film hardness is reduced to 22 GP.
It is preferable to form the second carbon film 64 of a or more. By reducing the hydrogen content in the carbon film 64 in this way, the bonding between carbon atoms is strengthened, the hardness can be increased, and a projection excellent in wear resistance can be formed, which is preferable. When the carbon film 64 is made of cathodic arc carbon, the substrate 10c on which the intermediate film 63 is formed is placed in a film forming apparatus, and the graphite lump is arc-discharged in a vacuum atmosphere to form the film. I do.
【００３９】ついで、第２のカーボン膜６４上に第１の
レジストを塗布した後に、この第１のレジストを露光、
現像することにより、図６のＢに示すようなストライプ
状のレジストパターン２２を形成する。このレジストパ
ターン２２は、サイドレール１２、１２およびセンター
レール１３を形成する領域を覆っている。Next, after a first resist is applied on the second carbon film 64, the first resist is exposed,
By performing development, a stripe-shaped resist pattern 22 as shown in FIG. 6B is formed. The resist pattern 22 covers a region where the side rails 12 and 12 and the center rail 13 are formed.
【００４０】この後、図６のＣに示すようにレジストパ
ターン２２に覆われない領域にあるカーボン膜６４、中
間膜６３、基体１０ｃを順次イオンミリングによるエッ
チングよって除去する。これによりサイドレール１２、
１２およびセンターレール１３が形成される。また、サ
イドレール１２，１２間に負圧溝１５が形成されるとと
もにスライダ毎に分割するため分割用溝（図示略）が形
成される。この後にレジストパターン２２を除去する。Thereafter, as shown in FIG. 6C, the carbon film 64, the intermediate film 63, and the substrate 10c in the area not covered by the resist pattern 22 are sequentially removed by etching by ion milling. Thereby, the side rail 12,
12 and a center rail 13 are formed. In addition, a negative pressure groove 15 is formed between the side rails 12, and a dividing groove (not shown) is formed for dividing the slider into sliders. Thereafter, the resist pattern 22 is removed.
【００４１】次に、最外層のカーボン膜（第３のカーボ
ン膜）６４上に第２のレジストを塗布した後にこの第２
のレジストを露光、現像することにより、図６のＤに示
すように、サイドレール１２、１２上の所定位置に第１
の突起１７と同様のパターンを有するレジストパターン
２７を形成する。Next, after a second resist is applied on the outermost carbon film (third carbon film) 64, the second resist is applied.
6D, the first resist is exposed to a predetermined position on the side rails 12, 12 as shown in FIG.
A resist pattern 27 having a pattern similar to that of the projection 17 is formed.
【００４２】この後、最外層（スライダ本体１０側から
６層目）のカーボン膜６４のレジストパターン２７に覆
われていない部分を酸素プラズマによってエッチングし
除去する。このとき、最外層のカーボン膜６４の下層の
中間膜（第３の中間膜）６３は、エッチングストッパー
として機能し、図６のＥに示すように最外層のカーボン
膜６４のみエッチングされて中間膜６３はエッチングさ
れない。ついで、図６のＦに示すように中間膜６３のレ
ジストパターン２７に覆われていない部分をＣＦ4プラ
ズマによってエッチングして除去する。このとき、中間
膜６３のみエッチングされてこれの下層のカーボン膜６
４（第２のカーボン膜）はエッチングされない。Thereafter, portions of the outermost layer (sixth layer from the slider body 10 side) of the carbon film 64 not covered with the resist pattern 27 are removed by etching with oxygen plasma. At this time, the intermediate film (third intermediate film) 63 below the outermost carbon film 64 functions as an etching stopper, and only the outermost carbon film 64 is etched as shown in FIG. 63 is not etched. Then, as shown in FIG. 6F, a portion of the intermediate film 63 that is not covered with the resist pattern 27 is removed by etching with CF 4 plasma. At this time, only the intermediate film 63 is etched, and the carbon film 6 below the intermediate film 63 is etched.
4 (second carbon film) is not etched.
【００４３】ついで、スライダ本体１０側から４層目の
カーボン膜（第２のカーボン膜）６４上に第３のレジス
トを塗布した後にこの第３のレジストを露光、現像する
ことにより、図６のＡに示すように、サイドレール１
２、１２上の所定位置に第３の突起１９と同様のパター
ンを有するレジストパターン２８を形成する。Next, after a third resist is applied on the fourth carbon film (second carbon film) 64 from the slider body 10 side, the third resist is exposed and developed to obtain the structure shown in FIG. As shown in FIG.
A resist pattern 28 having a pattern similar to that of the third protrusion 19 is formed at a predetermined position on 2 and 12.
【００４４】この後、第２のカーボン膜６４のレジスト
パターン２７、２８に覆われていない部分を酸素プラズ
マによってエッチングし除去する。このとき、第２のカ
ーボン膜６４の下層の中間膜（第２の中間膜）６３は、
エッチングストッパーとして機能し、図７のＢに示すよ
うに第２のカーボン膜６４のみエッチングされて第２の
中間膜６３はエッチングされない。ついで、図７のＣに
示すように第２の中間膜６３のレジストパターン２７、
２８に覆われていない部分をＣＦ4プラズマによってエ
ッチングして除去する。このとき、第２の中間膜６３の
みエッチングされてこれの下層のカーボン膜６４（第１
のカーボン膜）はエッチングされない。Thereafter, portions of the second carbon film 64 not covered with the resist patterns 27 and 28 are removed by etching with oxygen plasma. At this time, the intermediate film (second intermediate film) 63 below the second carbon film 64 is
It functions as an etching stopper, and only the second carbon film 64 is etched and the second intermediate film 63 is not etched as shown in FIG. 7B. Next, as shown in FIG. 7C, the resist pattern 27 of the second intermediate film 63,
The portion not covered with 28 is removed by etching with CF 4 plasma. At this time, only the second intermediate film 63 is etched, and the carbon film 64 (first
Is not etched.
【００４５】ついで、スライダ本体１０側から２層目の
カーボン膜（第１カーボン膜）６４上に第４のレジスト
を塗布した後にこの第４のレジストを露光、現像するこ
とにより、図７のＤに示すように、サイドレール１２、
１２上の所定位置に第２の突起１８と同様のパターンを
有するレジストパターン２９を形成する。Next, a fourth resist is applied on the second carbon film (first carbon film) 64 from the slider body 10 side, and then the fourth resist is exposed and developed, thereby obtaining the D in FIG. As shown in the side rail 12,
A resist pattern 29 having a pattern similar to that of the second projection 18 is formed at a predetermined position on the resist 12.
【００４６】この後、第１のカーボン膜６４のレジスト
パターン２７、２８、２９に覆われていない部分を酸素
プラズマによってエッチングし除去する。このとき、第
１のカーボン膜６４の下層の中間膜（第１の中間膜）６
３は、エッチングストッパーとして機能し、図７のＥに
示すように第1のカーボン膜６４のみエッチングされて
第１の中間膜６３はエッチングされない。ついで、レジ
ストパターン２７、２８、２９を除去すると、第１、第
２、第３の突起１７、１８、１９を形成できる。なお、
ここで形成された第１、第２、第３の突起１７、１８、
１９の表面にラップ加工等を施してクラウンを形成して
もよい。ついで、上記分割用溝に沿って基体１０ｃを分
割すると、図１乃至図２に示すような磁気ヘッドスライ
ダＳが得られる。なお、上述の磁気ヘッドスライダＳの
製造方法では、スライダ本体１０の媒体対向面に中間膜
６３とカーボン膜６４を交互に積層した６層構造の積層
膜を形成後、この積層膜の必要部分のみエッチングして
第１、第２、第３の突起１７、１８、１９を形成する場
合について説明したが、この方法以外の方法であっても
よく、例えば、突起と同様のパターンを有する穴が設け
られた複数枚のマスクを用い、スライダ本体の媒体対向
面上に上記マスクを配置して上記穴内に中間膜とカーボ
ン膜を交互に積層して突起を形成することも可能であ
る。Thereafter, portions of the first carbon film 64 which are not covered with the resist patterns 27, 28 and 29 are removed by etching with oxygen plasma. At this time, the lower intermediate film (first intermediate film) 6 of the first carbon film 64 is formed.
Numeral 3 functions as an etching stopper, and as shown in FIG. 7E, only the first carbon film 64 is etched, and the first intermediate film 63 is not etched. Then, when the resist patterns 27, 28 and 29 are removed, the first, second and third projections 17, 18 and 19 can be formed. In addition,
The first, second, and third projections 17, 18, formed here,
The crown may be formed by lapping or the like on the surface of 19. Next, when the base 10c is divided along the dividing groove, a magnetic head slider S as shown in FIGS. 1 and 2 is obtained. In the above-described method of manufacturing the magnetic head slider S, a laminated film having a six-layer structure in which the intermediate films 63 and the carbon films 64 are alternately laminated is formed on the medium facing surface of the slider body 10, and only a necessary portion of the laminated film is formed. Although the case where the first, second, and third protrusions 17, 18, and 19 are formed by etching has been described, a method other than this method may be used. For example, a hole having the same pattern as the protrusion is provided. Using the plurality of masks provided, the mask may be arranged on the medium facing surface of the slider body, and the intermediate film and the carbon film may be alternately stacked in the holes to form projections.
【００４７】前記の如く構成された磁気ヘッドスライダ
Ｓにあっては、ＣＳＳでもって磁気ディスク７１に対し
て浮上走行し、必要に応じて磁気情報の書き込みと読み
込みを行う。従って、磁気ディスク７１が停止している
状態においては、磁気ヘッドスライダＳは各サイドレー
ル１２に設けられた第２の突起１８の表面を磁気ディス
ク７１の表面にこのスライダＳに取り付けられたバネ板
の付勢力で軽く押しつけた状態で停止している。In the magnetic head slider S configured as described above, the magnetic head slider S levitates with respect to the magnetic disk 71 by using the CSS, and writes and reads magnetic information as necessary. Therefore, when the magnetic disk 71 is stopped, the surface of the second protrusion 18 provided on each side rail 12 is attached to the surface of the magnetic disk 71 by the spring plate attached to the slider S. It is stopped with a light pressure by the urging force.
【００４８】この状態から磁気ディスク７１が回転を始
めると、磁気ディスク表面に気流が生じ、この気流がス
ライダ本体１０の底面側に流入するようになる。ここ
で、この気流発生により各サイドレール１２の空気流の
流入側１０ａの端部には揚力が発生するのでこの揚力が
上記バネ板の付勢力に打ち勝つ大きさになるとスライダ
本体１０は浮上を始める。また、各サイドレール１２の
空気流の流入側１０ａの端部を通過してスライダ本体１
０の底面側に流入した空気とサイドスライダ１２、１２
の間を通過した空気は負圧溝１５に流入し、ここで大き
な負圧を発生するので、スライダ本体１０は空気の流入
側の端部を上に持ち上げた状態で所定のピッチ角で傾斜
する。When the magnetic disk 71 starts rotating from this state, an air current is generated on the surface of the magnetic disk, and this air current flows into the bottom surface of the slider body 10. Here, a lift is generated at the end of the airflow inflow side 10a of each side rail 12 due to the generation of the airflow. Therefore, when the lift exceeds the urging force of the spring plate, the slider body 10 starts to fly. . In addition, the slider body 1 passes through the end of each side rail 12 on the inflow side 10a of the airflow.
0 and the side sliders 12, 12
The air passing through the gap flows into the negative pressure groove 15, where a large negative pressure is generated. Therefore, the slider body 10 is inclined at a predetermined pitch angle with the end on the air inflow side lifted up. .
【００４９】実施形態の磁気ヘッドスライダＳにあって
は、磁気ディスク７１の停止時に磁気ヘッドコア１１側
（空気流の流出側１０ａ）近傍のスライダ本体１０の媒
体対向面と上記磁気ディスク７１との間に、第１、第３
の突起１７、１９より高さが低い第２の突起１８が介在
されることになるので、磁気ディスク７１の表面に塗布
された潤滑剤のメニスカスの半径は、第２の突起１８の
回りで大きくなり、上記潤滑剤の液膜により上記スライ
ダ本体１０の媒体対向面が磁気ディスク７１に張り付く
のを改善でき、スライダ本体１０と磁気ディスク７１と
の吸着を低減する効果を向上できる。また、上記磁気ヘ
ッドコア１１に最も近い位置に設けられた第２の突起１
８の高さは、他の位置に設けられた第１、第３の突起１
７、１９の高さより低くされているので、磁気ヘッドス
ライダがピッチ角１００μＲａｄ程度で浮上時に磁気ヘ
ッドコア１１に最も近い位置に設けられた第２の突起１
８が磁気ヘッドコア１１に設けられた磁気ギャップＧよ
り磁気ディスク７１側に突出するのを回避でき、すなわ
ち、磁気ギャップＧを第１、２、３の突起１７、１８、
１９よりも磁気ディスク７１に近接させることができ有
利である。In the magnetic head slider S of the embodiment, when the magnetic disk 71 is stopped, the space between the medium facing surface of the slider body 10 near the magnetic head core 11 (air flow outflow side 10a) and the magnetic disk 71 is set. First, third
Since the second projections 18 having a height lower than the projections 17 and 19 are interposed, the radius of the meniscus of the lubricant applied to the surface of the magnetic disk 71 increases around the second projections 18. Thus, the medium facing surface of the slider body 10 can be prevented from sticking to the magnetic disk 71 by the liquid film of the lubricant, and the effect of reducing the attraction between the slider body 10 and the magnetic disk 71 can be improved. Further, the second protrusion 1 provided at a position closest to the magnetic head core 11 is provided.
8 is the height of the first and third protrusions 1 provided at other positions.
7 and 19, the magnetic head slider has a pitch angle of about 100 μRad and the second projection 1 provided at the position closest to the magnetic head core 11 when flying.
8 can be prevented from protruding from the magnetic gap G provided on the magnetic head core 11 toward the magnetic disk 71, that is, the magnetic gap G is reduced to the first, second, and third protrusions 17, 18,.
19 is more advantageous because it can be closer to the magnetic disk 71.
【００５０】なお、上記の実施形態においては、第２の
突起１８がカーボン膜６４から構成され、第３の突起１
９がカーボン膜６４と中間膜６３を交互に積層した３層
構造の積層膜から構成され、第１の突起１７がカーボン
膜６４と中間膜６３を交互に積層した５層構造の積層膜
から構成した場合について説明したが、磁気ヘッドコア
１１に最も近い第２の突起１８は他の位置に設けられた
突起よりも高さが低いものであれば、カーボン膜６４と
中間膜６３が交互に積層された多層膜から構成されてい
てもよい。また、上記の実施形態においては、各サイド
レール１２に３個の突起を設けた場合について説明した
が、必ずしもこれに限らず、例えば、各サイドレール１
２に突起が２個ずつ設けられていてもよい。また、上記
の実施形態においては、各サイドレール１２に複数の突
起を設けた場合について説明したが、上記複数の突起
は、各サイドレール１２以外に負圧溝１５に設けられて
いてもよい。In the above embodiment, the second projection 18 is formed of the carbon film 64 and the third projection 1
Reference numeral 9 denotes a three-layer laminated film in which carbon films 64 and intermediate films 63 are alternately laminated, and first protrusions 17 include a five-layer laminated film in which carbon films 64 and intermediate films 63 are alternately laminated. However, if the second protrusion 18 closest to the magnetic head core 11 is lower in height than the protrusions provided at other positions, the carbon films 64 and the intermediate films 63 are alternately laminated. Or a multilayer film. In the above embodiment, the case where three projections are provided on each side rail 12 has been described. However, the present invention is not limited to this.
2, two projections may be provided. In the above embodiment, the case where a plurality of protrusions are provided on each side rail 12 has been described. However, the plurality of protrusions may be provided on the negative pressure groove 15 other than on each side rail 12.
【００５１】[0051]
【実施例】（実験例１）図１と図２に示す形状の磁気ヘ
ッドスライダを製造する際に、第１、第２の突起１７、
１８、１９を構成するカーボン膜６４の材料を下記の
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄに変更したときの突起の膜硬さ及び耐摩
耗性について調べた。その結果を図８、図９に示す。こ
こで作製した磁気ヘットスライダは、長方形状のスライ
ダ本体１０の長辺部の長さ１．２４１ｍｍ、幅１．０ｍ
ｍ、負圧溝１５の空気流の流入側の端部の幅０．１ｍ
ｍ、最大幅０．７８ｍｍ、深さ２．５μｍ、各サイドレ
ール１２の最大幅０．３４ｍｍ、最小幅０．０８ｍｍ、
高さ０．２５μｍ、第１の中間膜６３の厚み０．５ｎ
ｍ、第１、第３の突起１７、１９の径３０ｍｍ、第２の
突起１８の長径７５ｍｍ、短径３０ｍｍ、第１の突起１
７の高さは４５ｎｍ、第３の突起１９の高さは３５ｎ
ｍ、第２の突起１８の高さは２５ｎｍ、各突起を構成す
るカーボン膜の厚みは６ｎｍ、中間膜の厚みは４ｎｍ、
第２の突起１８と磁気ギャップＧとの距離Ｌ2を３００
μｍに設定した。また、スライダ本体１０は、浮上時の
浮上量が２５ｎｍで、ピッチ角１００μＲａｄとなるよ
うに設置した。EXAMPLES (Experimental Example 1) When manufacturing a magnetic head slider having the shapes shown in FIGS.
The film hardness and abrasion resistance of the projections when the material of the carbon film 64 constituting 18, 18 was changed to the following A, B, C, D were examined. The results are shown in FIGS. The magnetic head slider manufactured here has a length of 1.241 mm and a width of 1.0 m on the long side of the rectangular slider body 10.
m, width of the end of the negative pressure groove 15 on the inflow side of the airflow is 0.1 m.
m, maximum width 0.78 mm, depth 2.5 μm, maximum width of each side rail 12 0.34 mm, minimum width 0.08 mm,
Height 0.25 μm, thickness 0.5 n of first intermediate film 63
m, the diameter of the first and third protrusions 17 and 19 is 30 mm, the long diameter of the second protrusion 18 is 75 mm, the short diameter is 30 mm, the first protrusion 1
7 is 45 nm in height, and the height of the third protrusion 19 is 35 n.
m, the height of the second protrusion 18 is 25 nm, the thickness of the carbon film constituting each protrusion is 6 nm, the thickness of the intermediate film is 4 nm,
The distance L 2 between the second protrusion 18 and the magnetic gap G is set to 300
It was set to μm. The slider body 10 was installed so that the flying height during flying was 25 nm and the pitch angle was 100 μRad.
【００５２】上記材料Ａは、図６乃至図７に示す工程に
おいてＡｌ2Ｏ3ＴｉＣからなる基体１０ｃの上にＳｉ中
間膜６３とカーボン膜６４を交互に積層した６層構造の
積層膜の各カーボン膜６４をＥＣＲＣＶＤ法により形成
する際、成膜装置内に供給する反応ガスとしてメタンガ
スを用い、基板バイアスを１１０Ｗにすることにより作
製したものであり、膜中の水素濃度が３８原子％のもの
である。上記材料Ｂは、成膜装置内に供給する反応ガス
としてエチレンガスを用い、基板バイアスを２００Ｗに
する以外は、上記材料Ａと同様にして作製したものであ
り、膜中の水素濃度が２８原子％のものである。上記材
料Ｃは、基板バイアスを４００Ｗにする以外は、上記材
料Ｂと同様にして作製したものであり、膜中の水素濃度
が２６原子％のものである。上記材料Ｄは、カソディッ
クアークカーボンであり、膜中の水素濃度がほぼ０原子
％のものである。また、耐摩耗性は、通常のＣＳＳ５万
回後の突起の高さを測定することにより調べた。図９
中、縦軸の突起の摩耗量は、ＣＳＳを行う前の初期の突
起の高さと５万回ＣＳＳ後の突起の高さの差である。The above-mentioned material A is formed of a laminated film having a six-layer structure in which Si intermediate films 63 and carbon films 64 are alternately laminated on a substrate 10c made of Al 2 O 3 TiC in the steps shown in FIGS. When the carbon film 64 is formed by the ECRCVD method, a methane gas is used as a reaction gas to be supplied into the film forming apparatus and the substrate bias is set to 110 W, and the hydrogen concentration in the film is 38 atomic%. It is. The material B was prepared in the same manner as the material A, except that ethylene gas was used as a reaction gas supplied into the film forming apparatus and the substrate bias was set to 200 W. The hydrogen concentration in the film was 28 atoms. %belongs to. The material C was prepared in the same manner as the material B except that the substrate bias was set to 400 W, and the hydrogen concentration in the film was 26 atomic%. The material D is a cathodic arc carbon having a hydrogen concentration of approximately 0 atomic% in the film. The abrasion resistance was examined by measuring the height of the projections after 50,000 normal CSS cycles. FIG.
The wear amount of the protrusions on the middle and vertical axes is the difference between the height of the protrusions before the CSS is performed and the height of the protrusions after 50,000 times of CSS.
【００５３】図８に示した結果から材料Ａからなるカー
ボン膜を有する突起の膜硬度は約２０ＧＰａ乃至約２２
ＧＰａの範囲に分布しており、平均値は２１ＧＰａ付近
であり、材料Ｂからなるカーボン膜を有する突起の膜硬
度は約２０ＧＰａ乃至約２４ＧＰａの範囲に分布してお
り、平均値は２２ＧＰａ付近であり、材料Ｃからなるカ
ーボン膜を有する突起の膜硬度は約２３．６ＧＰａ乃至
２５．８ＧＰａの範囲に分布しており、平均値は２４．
２ＧＰａ付近であり、材料Ｄからなるカーボン膜を有す
る突起の膜硬度は約２８ＧＰａ乃至２９．４ＧＰａの範
囲に分布しており、平均値は２８．７ＧＰａ付近である
ことがわかる。From the results shown in FIG. 8, the film hardness of the projection having the carbon film made of the material A is about 20 GPa to about 22 GPa.
Are distributed in the range of GPa, the average value is around 21 GPa, the film hardness of the projections having the carbon film made of the material B is distributed in the range of about 20 GPa to about 24 GPa, and the average value is around 22 GPa. The film hardness of the projections having the carbon film made of the material C is distributed in a range of about 23.6 GPa to 25.8 GPa, and the average value is 24.
It is around 2 GPa, and the film hardness of the projections having the carbon film made of the material D is distributed in the range of about 28 GPa to 29.4 GPa, and it can be seen that the average value is around 28.7 GPa.
【００５４】図９に示した結果から膜硬度が約２１ＧＰ
ａの材料Ａからなるカーボン膜を有する突起は、摩耗量
が７ｎｍ以上と大きい。これに対して膜硬度が約２２Ｇ
Ｐａの材料Ｂからなるカーボン膜を有する突起は、５ｎ
ｍ以下であり、材料Ａよりも耐摩耗性が優れていること
がわかる。さらに、膜硬度が約２４．２ＧＰａの材料Ｃ
からなるカーボン膜を有する突起は、摩耗量の平均値が
約３．５ｎｍ、膜硬度が２８．７ＧＰａの材料Ｄからな
るカーボン膜を有する突起は、摩耗量の平均値が約１．
８ｎｍであり、耐摩耗性がより優れていることがわか
る。図９の結果から突起の摩耗量が実用上問題ない（吸
着トルクが小さい）範囲の５ｎｍ以下であるものは、カ
ーボン膜６４を膜硬度が２２ＧＰａ以上のカーボン膜か
ら構成したものであるので、スライダ本体に形成された
レールに設ける突起の最表面のカーボン膜を膜硬度が２
２ＧＰａ以上のカーボン膜から構成することが有効であ
ることを確認できる。From the results shown in FIG. 9, the film hardness was about 21 GP.
The protrusion having the carbon film made of the material A of a has a large wear amount of 7 nm or more. On the other hand, the film hardness is about 22G
The protrusion having the carbon film made of the material B of Pa is 5n
m, which indicates that the wear resistance is superior to that of the material A. Further, the material C having a film hardness of about 24.2 GPa
The projection having a carbon film made of material D has an average wear amount of about 3.5 nm, and the projection having a carbon film made of material D having a film hardness of 28.7 GPa has an average wear amount of about 1.
8 nm, which indicates that the abrasion resistance is more excellent. According to the results shown in FIG. 9, when the wear amount of the protrusion is 5 nm or less in a range where there is no practical problem (the adsorption torque is small), the carbon film 64 is made of a carbon film having a film hardness of 22 GPa or more. The carbon film on the outermost surface of the protrusion provided on the rail formed on the main body has a film hardness of 2
It can be confirmed that it is effective to use a carbon film of 2 GPa or more.
【００５５】（実験例２）磁気ギャップＧと第２の突起
１８との距離Ｌ2を３００μｍ〜５００μｍの範囲で変
更した以外は実験例１で用いたものと同様の磁気ヘッド
スライダを作製し、スライダ本体１０の媒体対向面と磁
気ディスク７１との吸着の発生状況について調べた。こ
こでの吸着の発生状況は、作製した磁気ヘッドスライダ
をＣＳＳテスタにセットし、磁気ディスク７１が７２０
０ｒｐｍ回転したときのスライダ本体１０の媒体対向面
と磁気ディスク７１との間に生じる吸着力を測定するこ
とにより調べた。その結果を図１０に示す。図１０に示
す結果から磁気ギャップＧと第２の突起１８との距離Ｌ
2が３００μｍを越えると吸着力が大きくなり、特に、
Ｌ2が４００μｍを越えると吸着力が急激に増大してい
ることがわかる。また、Ｌ2が３００μｍ未満のもの
は、吸着力が実用上問題のない範囲の４９ｍＮ（５ｇ
ｆ）以下であり、特に、Ｌ2が３００μｍ以下のもの
は、吸着を防止できることがわかる。以上の結果から磁
気ヘッドコアに最も近い位置に設けられた突起（第２の
突起）から磁気ギャップまでの距離は、スライダ本体の
長さの２５％以下とすることが有効であることを確認で
きる。[0055] (Experimental Example 2) except that the distance L 2 between the magnetic gap G and the second protrusion 18 in the range of 300μm~500μm is manufactured in the same manner as the magnetic head slider as that used in Experimental Example 1, The state of occurrence of adsorption between the medium facing surface of the slider body 10 and the magnetic disk 71 was examined. At this point, the magnetic head slider was set on a CSS tester and the magnetic disk 71
It was examined by measuring the attraction force generated between the medium facing surface of the slider body 10 and the magnetic disk 71 when rotating at 0 rpm. The result is shown in FIG. From the results shown in FIG. 10, the distance L between the magnetic gap G and the second protrusion 18 is determined.
When 2 exceeds 300 μm, the adsorbing power increases, and in particular,
It can be seen that when L 2 exceeds 400 μm, the adsorbing force sharply increases. Further, when L 2 is less than 300 μm, the adsorption power is 49 mN (5 g) within a range where there is no practical problem.
f) or less, and in particular, those having an L 2 of 300 μm or less can prevent adsorption. From the above results, it can be confirmed that it is effective to set the distance from the protrusion (second protrusion) provided closest to the magnetic head core to the magnetic gap to 25% or less of the length of the slider body.
【００５６】[0056]
【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気ヘッド
スライダによれば、上記の構成としたことにより、磁気
ディスクの停止時に磁気ヘッドコア側（空気流の流出
側）近傍のスライダ本体の媒体対向面と上記磁気ディス
クとの間に、他の突起より高さが低い突起が介在される
ことになるので、上記磁気ディスクの表面に塗布された
潤滑剤のメニスカスの半径は、上記高さが低い突起の回
りで大きくなり、上記潤滑剤の液膜により上記スライダ
本体の媒体対向面が磁気ディスクに張り付くのを改善で
き、スライダ本体と磁気ディスクとの吸着を低減する効
果を向上できる。また、上記磁気ヘッドコアに最も近い
位置に設けられた突起の高さは、他の位置に設けられた
突起の高さより低くされているので、磁気ヘッドスライ
ダがピッチ角１００μＲａｄ程度で浮上時に上記磁気ヘ
ッドコアに最も近い位置に設けられた突起が上記磁気ヘ
ッドコアに設けられた磁気ギャップより磁気ディスク側
に突出するのを回避でき、すなわち、上記磁気ギャップ
を上記複数の突起よりも磁気ディスクに近接させること
ができ有利である。また、本発明の磁気ヘッドスライダ
の製造方法によれば、上記の構成としたことにより、本
発明の磁気ヘッドスライダの製造に好適に用いられる。As described above, according to the magnetic head slider of the present invention, with the above structure, the medium facing of the slider body near the magnetic head core side (outflow side of air flow) when the magnetic disk is stopped. Between the surface and the magnetic disk, a projection having a height lower than the other projections is interposed, so that the radius of the meniscus of the lubricant applied to the surface of the magnetic disk has a low height. It becomes larger around the projections, and the liquid film of the lubricant can prevent the medium facing surface of the slider main body from sticking to the magnetic disk, thereby improving the effect of reducing the attraction between the slider main body and the magnetic disk. Further, the height of the protrusion provided at the position closest to the magnetic head core is set lower than the height of the protrusion provided at other positions. Therefore, when the magnetic head slider flies at a pitch angle of about 100 μRad, Can be prevented from protruding toward the magnetic disk from the magnetic gap provided in the magnetic head core, that is, the magnetic gap can be made closer to the magnetic disk than the plurality of protrusions. It is advantageous. Further, according to the method of manufacturing a magnetic head slider of the present invention, the above-described configuration is suitably used for manufacturing the magnetic head slider of the present invention.
【図１】 本発明に係る磁気ヘッドスライダの一実施形
態例の底面図。FIG. 1 is a bottom view of an embodiment of a magnetic head slider according to the present invention.
【図２】 図１の磁気ヘッドスライダの浮上の状態を示
す断面図。FIG. 2 is a sectional view showing a flying state of the magnetic head slider of FIG. 1;
【図３】 本発明に係わる磁気ヘッドスライダに設けら
れた磁気ヘッドコア部の一例を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a magnetic head core portion provided in the magnetic head slider according to the present invention.
【図４】 本発明に係わる磁気ヘッドスライダに設けら
れた磁気ヘッドコア部の一例を示す部分断面図。FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing one example of a magnetic head core portion provided in a magnetic head slider according to the present invention.
【図５】 第２のカーボン膜の膜硬度の測定に用いる圧
子の形状を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing the shape of an indenter used for measuring the film hardness of a second carbon film.
【図６】 図１乃至図２の磁気ヘッドスライダの製造方
法を工程順に示す図。FIG. 6 is a view showing a method of manufacturing the magnetic head slider shown in FIGS. 1 and 2 in the order of steps;
【図７】 図１乃至図２の磁気ヘッドスライダの製造方
法を工程順に示す図。FIG. 7 is a view showing a method of manufacturing the magnetic head slider shown in FIGS. 1 and 2 in the order of steps;
【図８】 磁気ヘッドスライダの突起の最表面のカーボ
ン膜を構成する材料の膜硬度の測定値を示す図。FIG. 8 is a view showing measured values of film hardness of a material forming a carbon film on the outermost surface of a protrusion of a magnetic head slider.
【図９】 磁気ヘッドスライダの突起の最表面のカーボ
ン膜を構成する材料と突起の摩耗量を示す図。FIG. 9 is a diagram showing a material forming a carbon film on the outermost surface of the protrusion of the magnetic head slider and a wear amount of the protrusion.
【図１０】 第２の突起と磁気ギャップとの距離と吸着
力との関係を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing a relationship between a distance between a second protrusion and a magnetic gap and an attraction force.
【図１１】 従来の磁気ヘッドスライダと磁気ディスク
の配置関係を示す図。FIG. 11 is a diagram showing an arrangement relationship between a conventional magnetic head slider and a magnetic disk.
【図１２】 従来の磁気ヘッドスライダの一例の浮上走
行状態を示す側面図。FIG. 12 is a side view showing a flying traveling state of an example of a conventional magnetic head slider.
【図１３】 従来の磁気ヘッドスライダのその他の例の
浮上走行状態を示す側面図。FIG. 13 is a side view showing a flying traveling state of another example of the conventional magnetic head slider.
Ｓ・・・磁気ヘッドスライダ、１０・・・スライダ本体、１０
ａ・・・空気流の流入側、１０ｂ・・・空気流の流出側、１１
・・・磁気ヘッドコア、 １２・・・サイドレール、１３・・・
センターレール、１５・・・負圧溝、１７・・・第１の突起、
１８・・・第２の突起、１９・・・第３の突起、２２、２７、
２８、２９・・・レジストパターン、３５・・・巨大磁気抵抗
効果材料膜（巨大磁気抵抗効果型素子）、７１・・・磁気
ディスク、６３・・・中間膜、６４・・・カーボン膜。S: magnetic head slider, 10: slider body, 10
a: inflow side of air flow, 10b ... outflow side of air flow, 11
... Magnetic head core, 12 ... Side rail, 13 ...
Center rail, 15: negative pressure groove, 17: first projection,
18 second protrusion, 19 third protrusion, 22, 27,
28, 29: resist pattern, 35: giant magnetoresistive material film (giant magnetoresistive element), 71: magnetic disk, 63: intermediate film, 64: carbon film.
Claims (9)
が設けられ、前記スライダ本体の磁気ディスク側の媒体
対向面に浮力発生のためのレールが形成され、磁気ディ
スクに対して浮上走行して磁気情報の書き込みあるいは
読み出しを行う磁気ヘッドスライダであって、 前記スライダ本体の媒体対向面およびレールのうち少な
くともレールに複数の突起が前記スライダ本体の長さ方
向に沿って設けられ、前記複数の突起のうち前記磁気ヘ
ッドコアに最も近い位置に設けられた突起の高さは、他
の位置に設けられた突起の高さより低いことを特徴とす
る磁気ヘッドスライダ。A magnetic head core is provided in a plate-like slider main body, a rail for generating buoyancy is formed on a surface of the slider main body facing the magnetic disk, and the magnetic head floats and runs on the magnetic disk. A magnetic head slider for writing or reading information, wherein a plurality of protrusions are provided along a length direction of the slider main body at least on a rail among a medium facing surface and a rail of the slider main body. A magnetic head slider, wherein a height of a protrusion provided at a position closest to the magnetic head core is lower than a height of a protrusion provided at another position.
体の空気流の流入側から空気流の流出側にかけて順次低
くされていることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッ
ドスライダ。2. The magnetic head slider according to claim 1, wherein the heights of the plurality of projections are gradually reduced from an air flow inflow side to an air flow outflow side of the slider body.
ディスク側の媒体対向面の両縁部側に形成され、前記ス
ライダ本体の空気流の流入側から空気流の流出側にかけ
て延出するサイドレールを有しており、前記複数の突起
は前記の各サイドレールの長さ方向に沿って設けられて
いることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ヘッ
ドスライダ。3. A side rail formed on both sides of a medium facing surface of the slider body on the magnetic disk side of the slider body, and extending from an inflow side of the airflow of the slider body to an outflow side of the airflow. 3. The magnetic head slider according to claim 1, wherein the plurality of protrusions are provided along a length direction of each of the side rails. 4.
が設けられ、前記複数の突起は前記各サイドレールおよ
び前記溝に設けられていることを特徴とする請求項１乃
至３のいずれかに記載の磁気ヘッドスライダ。4. The slider according to claim 1, wherein a groove is provided between the side rails of the slider body, and the plurality of protrusions are provided in each of the side rails and the groove. Magnetic head slider.
き、前記複数の突起のうち少なくとも前記磁気ヘッドコ
アに最も近い位置に設けられた突起の先端は、前記磁気
ヘッドコアの磁気ギャップより高い位置にあることを特
徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の磁気ヘッド
スライダ。5. When the magnetic head slider is in a floating state, at least a tip of a projection provided at a position closest to the magnetic head core among the plurality of projections is located at a position higher than a magnetic gap of the magnetic head core. The magnetic head slider according to claim 1, wherein:
けられた突起から前記磁気ギャップまでの距離は、前記
スライダ本体の長さの２５％以下であることを特徴とす
る請求項１乃至５のいずれかに記載の磁気ヘッドスライ
ダ。6. The slider according to claim 1, wherein a distance from the protrusion provided at a position closest to the magnetic head core to the magnetic gap is not more than 25% of a length of the slider body. Or a magnetic head slider.
２２ＧＰa以上のカーボン膜を有することを特徴する請
求項１乃至６のいずれかに記載の磁気ヘッドスライダ。7. The magnetic head slider according to claim 1, wherein the protrusion has a carbon film having a film hardness of 22 GPa or more in at least the outermost layer.
果型素子が備えられていることを特徴とする請求項１乃
至７のいずれかに記載の磁気ヘッドスライダ。8. The magnetic head slider according to claim 1, wherein the magnetic head core includes a giant magnetoresistive element.
イダ本体の磁気ディスク側の媒体対向面上に、中間膜と
カーボン膜とを交互に積層し、該積層膜をパターニング
して複数の突起を形成する際、前記複数の突起のうち前
記磁気ヘッドコアに最も近い位置に形成する突起の高さ
を他の位置に形成する突起の高さより低くすることを特
徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法。9. An intermediate film and a carbon film are alternately laminated on a medium facing surface on a magnetic disk side of a plate-like slider body provided with a magnetic head core, and the laminated film is patterned to form a plurality of projections. A method of manufacturing a magnetic head slider, wherein a height of a projection formed at a position closest to the magnetic head core among the plurality of projections is smaller than a height of a projection formed at another position.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000013490A JP2001210038A (en) | 2000-01-21 | 2000-01-21 | Magnetic head slider and producing method thereof |
| CN00135801.4A CN1197053C (en) | 1999-12-28 | 2000-12-21 | Magnetic head sliding block with projection set on relative surface of meetium, and its manufacture method |
| CN200410074787.2A CN1270293C (en) | 1999-12-28 | 2000-12-21 | Magnetic head slider having protrusions provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor |
| US09/749,961 US6728069B2 (en) | 1999-12-28 | 2000-12-27 | Magnetic head slider having protrusions with high abrasion resistance provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor |
| US10/447,692 US6717772B2 (en) | 1999-12-28 | 2003-05-29 | Magnetic head slider having protrusions provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor |
| US10/448,998 US7130154B2 (en) | 1999-12-28 | 2003-05-30 | Magnetic head slider having protrusions provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000013490A JP2001210038A (en) | 2000-01-21 | 2000-01-21 | Magnetic head slider and producing method thereof |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003025226A Division JP3742796B2 (en) | 2003-01-31 | 2003-01-31 | Manufacturing method of magnetic head slider |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001210038A true JP2001210038A (en) | 2001-08-03 |
Family
ID=18541074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000013490A Pending JP2001210038A (en) | 1999-12-28 | 2000-01-21 | Magnetic head slider and producing method thereof |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005004152A1 (en) * | 2003-07-03 | 2005-01-13 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider and method of manufacturing the head slider |
-
2000
- 2000-01-21 JP JP2000013490A patent/JP2001210038A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005004152A1 (en) * | 2003-07-03 | 2005-01-13 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider and method of manufacturing the head slider |
| US7408742B2 (en) | 2003-07-03 | 2008-08-05 | Fujitsu Limited | Magnetic head slider and method of fabricating magnetic head slider |
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