JP2001202800A - Non-volatile semiconductor memory - Google Patents

Non-volatile semiconductor memory

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JP2001202800A
JP2001202800A JP2000010674A JP2000010674A JP2001202800A JP 2001202800 A JP2001202800 A JP 2001202800A JP 2000010674 A JP2000010674 A JP 2000010674A JP 2000010674 A JP2000010674 A JP 2000010674A JP 2001202800 A JP2001202800 A JP 2001202800A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an one time PROM in which there is not the possibility of that data is written in a main memory cell at the time of test. SOLUTION: This ROM is provided with a main memory cell 101, and a spare memory cell 102 for test. When an address An is in a low level or a high level, a HV detecting circuit 111 judges that the main memory cell 101 is selected, when it is in a HV level, the circuit 111 judges that the spare memory cell 102 is selected. A signal generating circuit 113 inputs control signals CEB, OEB and VPPHB and an HV detecting signal. The signal generating circuit 113 generates a write-in mode signal when a control signal is a write-in mode and a HV detecting signal is the main memory cell 101 and when a control signal is write-in standby mode and the HV detecting signal is the spare memory cell 102. Drivers 103, 114, 105 input a write-in mode signal, and perform write-in control for the memory cells 101, 102.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、不揮発性半導体
メモリに関し、より詳細には、書き込み動作試験を行う
ための予備メモリセルを備える不揮発性半導体メモリに
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory, and more particularly, to a nonvolatile semiconductor memory having a spare memory cell for performing a write operation test.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の不揮発性半導体メモリについて、
OTPROM(One Time ProgrammableRead Only Memor
y) を例に採って説明する。
2. Description of the Related Art Conventional non-volatile semiconductor memories include:
OTPROM (One Time Programmable Read Only Memor
This is explained using y) as an example.

【0003】従来より、EPROM(Erasable Programm
able Read Only Memory)の一種として、OTPROMが
知られている。OTPROMは、一般のEPROMと同
様、紫外線を照射することによってデータを消去するこ
とができるメモリ素子を使用している。但し、OTPR
OMは、紫外線照射窓が無いパッケージに封入されるの
で、パッケージングされた後は、一端書き込んだデータ
を書き換えたり消去したりすることはできない。
Conventionally, EPROM (Erasable Programmable
An OTPROM is known as a kind of “able read only memory”. The OTPROM uses a memory element capable of erasing data by irradiating ultraviolet rays, like a general EPROM. However, OTPR
Since the OM is sealed in a package without an ultraviolet irradiation window, once the package is packaged, the data once written cannot be rewritten or erased.

【0004】このため、製造の最終段階でOTPROM
の書き込み動作試験を行う場合には、本メモリセルとは
別に、かかる動作試験でのみ使用するための予備メモリ
セルを設ける場合がある。すなわち、予備メモリセルを
設けることによって、パッケージング後に書き込み動作
試験を行うことが可能となる。
For this reason, the OTPROM is required at the final stage of manufacturing.
When the write operation test is performed, a spare memory cell used only for the operation test may be provided separately from the present memory cell. That is, by providing a spare memory cell, a write operation test can be performed after packaging.

【0005】図4は、従来のOTPROMの要部構成例
を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing an example of a configuration of a main part of a conventional OTPROM.

【0006】図4に示したように、このOTPROM4
00は、本メモリセル401と予備メモリセル402と
を備えている。本メモリセル401および予備メモリセ
ル402には、それぞれ、図示しないワード線、ドレイ
ン線およびビット線を備えている。一般に、本メモリセ
ル401および予備メモリセル402内のメモリ素子
(図示せず)としては、フローティングゲート構造のト
ランジスタが使用される。
[0006] As shown in FIG.
00 has a main memory cell 401 and a spare memory cell 402. Each of the main memory cell 401 and the spare memory cell 402 has a word line, a drain line, and a bit line (not shown). Generally, a transistor having a floating gate structure is used as a memory element (not shown) in the main memory cell 401 and the spare memory cell 402.

【0007】本メモリセル401に対する書き込み・読
み出し時には、アドレス信号A0 〜Am に基づいて、ワ
ード線ドライバ403がいずれかのワード線(図示せ
ず)を選択し、ドレイン線ドライバ414がいずれかの
ドレイン線(図示せず)を選択し、且つ、ビット線ドラ
イバ404およびマルチプレクサ408がいずれかのビ
ット線(図示せず)を選択する。そして、選択されたワ
ード線およびドレイン線によって、本メモリセル401
内のブロックが特定され、さらに、選択されたビット線
によって、そのブロック内のいずれかのメモリ素子が特
定される。アドレス信号A0 〜Am は、アドレスバッフ
ァ406を介して入力される。
When writing / reading the memory cell 401, the word line driver 403 selects one of the word lines (not shown) based on the address signals A0 to Am, and the drain line driver 414 selects one of the drain lines. A line (not shown) is selected, and the bit line driver 404 and the multiplexer 408 select any bit line (not shown). Then, the memory cell 401 is selected according to the selected word line and drain line.
Is specified, and any of the memory elements in the block is specified by the selected bit line. The address signals A0 to Am are input via an address buffer 406.

【0008】一方、予備メモリセル402に対する書き
込み・読み出し時には、アドレス信号A0 〜Am に基づ
いて、予備セルドライバ405がいずれかのワード線を
選択し、ドレイン線ドライバ414がいずれかのドレイ
ン線を選択し、且つ、ビット線ドライバ404およびマ
ルチプレクサ408がいずれかのビット線を選択する。
これにより、メモリ素子が特定される。そして、予備セ
ルドライバ405は、予備セルバッファ407を介し
て、アドレス信号A0 〜Am を入力する。
On the other hand, at the time of writing / reading to / from the spare memory cell 402, the spare cell driver 405 selects one of the word lines and the drain line driver 414 selects one of the drain lines based on the address signals A0 to Am. Then, the bit line driver 404 and the multiplexer 408 select one of the bit lines.
Thereby, the memory element is specified. Then, the spare cell driver 405 inputs the address signals A0 to Am via the spare cell buffer 407.

【0009】センスアンプ409および出力バッファ4
10は、ビット線上に読み出されたデータの増幅・出力
を行う。
Sense amplifier 409 and output buffer 4
Numeral 10 amplifies and outputs the data read on the bit line.

【0010】本メモリセル401と予備メモリセル40
2との選択は、第nのアドレス信号An の電位によって
行われる。アドレス信号An がハイレベルまたはローレ
ベルのときは本メモリセルが選択され、アドレス信号A
n がHV(High Voltage)レベル(ハイレベルよりも高い
電位)のときは予備メモリセルが選択される。HV検出
回路411は、アドレス信号An がHVレベルのとき
に、予備メモリセル402が選択されたことを示す信号
を、予備セルバッファ407に送る。
The main memory cell 401 and the spare memory cell 40
The selection of 2 is made by the potential of the n-th address signal An. When the address signal An is at a high level or a low level, this memory cell is selected and the address signal A
When n is at the HV (High Voltage) level (potential higher than the high level), the spare memory cell is selected. When the address signal An is at the HV level, the HV detection circuit 411 sends a signal to the spare cell buffer 407 indicating that the spare memory cell 402 has been selected.

【0011】書き込みモード信号発生回路413は、チ
ップイネーブル信号CEB、出力イネーブル信号OEB
およびVpp検出信号VPPHBに基づいて、書き込みモ
ードであるか否かを判断し、判断結果を各ドライバ40
3,405,414およびセンスアンプ409に送る。
ここで、Vpp検出信号VPPHBは、Vpp端子(ワード
線およびドレイン線に印可する電圧の供給端子)にVcc
よりも高い電圧が印加されているのか、Vcc以下の電圧
が印可されているのか示す信号である。フローティング
ゲート構造のトランジスタをメモリ素子として使用する
場合、読み出し時のワード線・ドレイン線電圧よりも、
書き込み時のワード線・ドレイン線電圧を高くする必要
がある。図4のOTPROM400では、読み出し時の
ワード線・ドレイン線をそれぞれVccとし、書き込み時
のワード線・ドレイン線電圧をVppとする。
The write mode signal generation circuit 413 includes a chip enable signal CEB and an output enable signal OEB.
And whether or not the mode is the write mode, based on the Vpp detection signal VPPHB and the driver 40
3, 405, 414 and the sense amplifier 409.
Here, the Vpp detection signal VPPHB is applied to the Vpp terminal (supply terminal of the voltage applied to the word line and the drain line) by Vcc
This signal indicates whether a higher voltage is applied or a voltage lower than Vcc is applied. When a transistor having a floating gate structure is used as a memory element, the voltage of the word line and the drain line at the time of reading is higher than that of the transistor.
It is necessary to increase the word line / drain line voltage at the time of writing. In the OTPROM 400 of FIG. 4, the word line and the drain line at the time of reading are each set to Vcc, and the word line and the drain line at the time of writing are set to Vpp.

【0012】図5は、書き込みモード信号発生回路41
3の内部構成例を示す論理回路である。また、図6は、
OTPROM400のモードと各制御信号CEB,OE
B,VPPHB,An の信号値との関係を示している。
FIG. 5 shows a write mode signal generation circuit 41.
3 is a logic circuit showing an example of the internal configuration of the third embodiment. Also, FIG.
OTPROM 400 mode and control signals CEB, OE
6 shows the relationship with the signal values of B, VPPHB, and An.

【0013】チップイネーブル信号CEBおよび出力イ
ネーブル信号OEBは、ともに負論理である。Vpp検出
信号VPPHBは、電圧がVcc以下のときハイレベルと
なり、電圧がVppのときローレベルとなる。また、アド
レス信号An は、上述したように、ハイレベルまたはロ
ーレベルのときは本メモリセルが選択されることを示し
ており、HVレベルのときは予備メモリセルが選択され
ることを示している。
The chip enable signal CEB and the output enable signal OEB are both negative logic. The Vpp detection signal VPPHB goes high when the voltage is lower than Vcc, and goes low when the voltage is Vpp. As described above, when the address signal An is at the high level or the low level, it indicates that the present memory cell is selected, and when it is at the HV level, it indicates that the spare memory cell is selected. .

【0014】図5に示したように、NORゲート502
は、チップイネーブル信号CEBおよびVpp検出信号V
PPHBを入力するとともに、NOTゲート501を介
して出力イネーブル信号OEBを入力する。そして、N
ORゲート502の出力はNOTゲート503で反転さ
れて、出力モード信号PGMYBとなる。
As shown in FIG. 5, NOR gate 502
Are the chip enable signal CEB and the Vpp detection signal V
PPHB is input, and an output enable signal OEB is input via a NOT gate 501. And N
The output of the OR gate 502 is inverted by the NOT gate 503 and becomes the output mode signal PGMYB.

【0015】図6において、リードモードは読み出し動
作状態のモード、スタンバイモードは読み出し動作待機
状態のモード、プログラムモードは本メモリセル401
に対する書き込み動作状態のモード、プログラムインヒ
ビットモードは書き込み動作待機状態のモードである。
また、特殊モードは、予備メモリセル402に対する書
き込み動作状態のモード、すなわち書き込み動作試験の
モードである。
In FIG. 6, a read mode is a mode of a read operation state, a standby mode is a mode of a read operation standby state, and a program mode is a memory cell 401 of the present embodiment.
And the program inhibit mode is a mode in a write operation standby state.
The special mode is a mode of a write operation state for the spare memory cell 402, that is, a mode of a write operation test.

【0016】図5、図6から判るように、書き込みモー
ド信号PGMYBは、チップイネーブル信号CEBがロ
ーレベルで、出力イネーブル信号OEBがハイレベル
で、Vpp検出信号VPPHBがローレベルのときにロー
レベルとなり、他の場合はハイレベルとなる。すなわ
ち、OTPROM400では、本メモリセル401への
書き込み(プログラムモード)と予備メモリセル402
への書き込み(特殊モード)とは、アドレス信号An の
値のみが異なり、他の信号CEB,OEB,VPPHB
の論理は同一である。そして、HV検出回路411の検
出結果によって、書き込み先が本メモリセル401であ
るか予備メモリセル402であるのかが、特定される。
As can be seen from FIGS. 5 and 6, the write mode signal PGMYB goes low when the chip enable signal CEB is low, the output enable signal OEB is high, and the Vpp detection signal VPPHB is low. In other cases, the level is high. That is, in the OTPROM 400, writing (program mode) to the main memory cell 401 and the spare memory cell 402
Writing (special mode) differs from that of the other signals CEB, OEB and VPPHB only in the value of the address signal An.
Are the same. Then, whether the write destination is the main memory cell 401 or the spare memory cell 402 is specified based on the detection result of the HV detection circuit 411.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、プロ
グラムモードと特殊モードとは、アドレス信号An の電
位のみが異なる。
As described above, only the potential of the address signal An differs between the program mode and the special mode.

【0018】しかし、従来のOTPROMでは、アドレ
ス信号An をHVレベル設定したにも拘わらず、ノイズ
の影響や測定器の誤動作等のために、ハイレベルまたは
ローレベルになってしまう場合がある。このため、従来
のOTPROMでは、予備メモリセル402にデータを
書き込もうとしたにも拘わらず、本メモリセル401に
データが書き込まれてしまう場合がある。特殊モード時
すなわち書き込み動作試験時に本メモリセル401にデ
ータが書き込まれてしまった場合、そのOTPROMは
出荷できなくなる。
However, in the conventional OTPROM, even though the address signal An is set at the HV level, the level may be high or low due to the influence of noise or malfunction of the measuring instrument. For this reason, in the conventional OTPROM, data may be written to the main memory cell 401 in spite of an attempt to write data to the spare memory cell 402. If data is written to the memory cell 401 in the special mode, that is, during the write operation test, the OTPROM cannot be shipped.

【0019】また、ウエハプロセスでの製造ばらつきに
起因してHV検出回路405のしきい値にばらつきが生
じてしまった場合も、アドレス信号An がHVレベルで
あるにも拘わらず、ハイレベルまたはローレベルである
と判断されてしまう場合がある。この場合も、OTPR
OMは、本メモリセル401にデータが書き込まれてし
まうので、出荷できなくなる。
Also, when a variation occurs in the threshold value of the HV detection circuit 405 due to manufacturing variations in the wafer process, the high level or the low level regardless of the address signal An being at the HV level. There is a case where it is determined that the level. Also in this case, OTPR
The OM cannot be shipped because data is written in the memory cell 401.

【0020】特に、近年では、集積回路の微細化に伴っ
て、耐圧の低下や、信号電圧の低電圧化が進んでいる。
このため、上述のような誤書き込みが、さらに増大する
おそれがある。
In particular, in recent years, with the miniaturization of integrated circuits, the breakdown voltage and the signal voltage have been reduced.
For this reason, erroneous writing as described above may further increase.

【0021】このため、特殊モードをプログラムモード
であると誤認識して本メモリセルにデータを書き込むお
それがない不揮発性半導体メモリが嘱望されていた。
Therefore, there has been a demand for a non-volatile semiconductor memory which does not have a risk of erroneously recognizing the special mode as the program mode and writing data in the memory cell.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】この発明に係る不揮発性
半導体メモリは、本データを記憶するための本メモリセ
ルと、書き込み動作試験を行うための予備メモリセル
と、メモリセル選択信号を入力して、本メモリセルが選
択されたか或いは予備メモリセルが選択されたかを判断
する信号レベル検出部と、少なくともチップイネーブル
信号および出力イネーブル信号を含む制御信号と信号レ
ベル検出部の検出結果とを入力し、制御信号の論理値が
書き込みモードを示し且つ検出結果が本メモリセルの選
択を示している場合と、制御信号の論理値が特定の非書
き込みモードを示し且つ検出結果が予備メモリセルの選
択を示している場合とに、書き込みモード信号を発生す
る書き込みモード信号発生部と、書き込みモード信号を
入力して、本メモリセルおよび予備メモリセルへの書き
込み制御を行うドライバ部とを備える。
A nonvolatile semiconductor memory according to the present invention receives a main memory cell for storing main data, a spare memory cell for performing a write operation test, and a memory cell selection signal. A signal level detector for determining whether the present memory cell is selected or a spare memory cell is selected; a control signal including at least a chip enable signal and an output enable signal; and a detection result of the signal level detector. The case where the logical value of the control signal indicates the write mode and the detection result indicates the selection of the present memory cell, and the case where the logical value of the control signal indicates the specific non-write mode and the detection result indicates the selection of the spare memory cell. And a write mode signal generator for generating a write mode signal and a write mode signal And a driver unit that controls writing to Le and spare memory cell.

【0023】この発明によれば、制御信号の論理値が特
定の非書き込みモードを示し且つ書き込み先検出部の検
出結果が予備メモリセルへの書き込みを示している場合
に予備メモリセルへの書き込みを行うこととしたので、
第nビットのアドレス信号の電位が誤認識されても本メ
モリセルへの書き込みが行われることがない。
According to the present invention, when the logical value of the control signal indicates a specific non-write mode and the detection result of the write destination detecting section indicates the write to the spare memory cell, the write to the spare memory cell is performed. I decided to do it,
Even if the potential of the n-th bit address signal is erroneously recognized, writing to this memory cell is not performed.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態に係
る不揮発性半導体メモリについて、OTPROMを例に
採り、図面を用いて説明する。なお、図中、各構成成分
の大きさ、形状および配置関係は、この発明が理解でき
る程度に概略的に示してあるにすぎず、また、以下に説
明する数値的条件は単なる例示にすぎない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A nonvolatile semiconductor memory according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings, taking an OTPROM as an example. In the drawings, the size, shape, and arrangement of each component are only schematically shown to an extent that the present invention can be understood, and numerical conditions described below are merely examples. .

【0025】図1は、この実施の形態に係るOTPRO
Mの要部構成を概略的に示すブロック図である。
FIG. 1 shows an OTPRO according to this embodiment.
FIG. 3 is a block diagram schematically showing a configuration of a main part of M.

【0026】図1に示したOTPROM100におい
て、本メモリセル101は、本データすなわちユーザデ
ータを記憶するためのメモリセルである。本メモリセル
101の記憶素子としては、例えば、フローティングゲ
ート構造のトランジスタが使用される。
In the OTPROM 100 shown in FIG. 1, the main memory cell 101 is a memory cell for storing main data, that is, user data. As a storage element of the memory cell 101, for example, a transistor having a floating gate structure is used.

【0027】予備メモリセル102は、書き込み動作試
験を行うためのメモリセルである。予備メモリセル10
2の記憶素子としても、例えば、フローティングゲート
構造のトランジスタが使用される。
The spare memory cell 102 is a memory cell for performing a write operation test. Spare memory cell 10
As the second storage element, for example, a transistor having a floating gate structure is used.

【0028】ワード線ドライバ103は、アドレスバッ
ファ106(後述)から、アドレス信号A0 〜Am の行
アドレス部分を入力する。そして、この行アドレスに対
応するワード線(図示せず)を選択する。書き込みモー
ド信号PGMYBがローレベルのときは、書き込み動作
(プログラムモード)状態となって、選択されたワード
線に電圧Vppが印可される。一方、書き込みモード信号
PGMYBがハイレベルのときは、読み出し動作(リー
ドモード)状態になって、選択されたワード線に電圧V
ccが印可される。
The word line driver 103 inputs the row address portions of the address signals A0 to Am from an address buffer 106 (described later). Then, a word line (not shown) corresponding to the row address is selected. When the write mode signal PGMYB is at a low level, a write operation (program mode) is established, and the voltage Vpp is applied to the selected word line. On the other hand, when the write mode signal PGMYB is at a high level, a read operation (read mode) is established, and the voltage V is applied to the selected word line.
cc is applied.

【0029】ビット線ドライバ104は、アドレスバッ
ファ106(後述)から、アドレス信号A0 〜Am の列
アドレスの一部を入力する。そして、この列アドレスに
対応するビット線(図示せず)を選択するための選択信
号を、マルチプレクサ108に対して出力する。
The bit line driver 104 inputs a part of the column address of the address signals A0 to Am from an address buffer 106 (described later). Then, a selection signal for selecting a bit line (not shown) corresponding to the column address is output to multiplexer 108.

【0030】ドレイン線ドライバ114は、アドレスバ
ッファ106(後述)から、アドレス信号A0 〜Am の
残り部分を入力する。そして、このアドレスに対応する
ドレイン線(図示せず)を選択する。ドレイン線ドライ
バ114によって選択されたドレイン線には、図示しな
いドレイン電圧発生回路によって、ドレイン電圧が印可
される。ドレイン電圧は、書き込み動作(プログラムモ
ード)の場合には、電圧Vppと電圧Vccとの間の、最適
化された中間電圧に設定される。また、このドレイン電
圧は、読み出し動作(リードモード)の場合には、電圧
Vccとローレベルとの間の、最適化された中間電圧に設
定される。
The drain line driver 114 receives the rest of the address signals A0 to Am from the address buffer 106 (described later). Then, a drain line (not shown) corresponding to this address is selected. A drain voltage is applied to the drain line selected by the drain line driver 114 by a drain voltage generation circuit (not shown). The drain voltage is set to an optimized intermediate voltage between the voltage Vpp and the voltage Vcc in the case of a write operation (program mode). In the case of a read operation (read mode), the drain voltage is set to an optimized intermediate voltage between the voltage Vcc and the low level.

【0031】予備セルドライバ105は、アドレス信号
An にHVレベルが印可されたことがHV検出回路11
1によって検出されたときに、予備セルバッファ107
(後述)から、アドレス信号A0 〜Am の行アドレス部
分を入力する。そして、この行アドレスに対応するワー
ド線(図示せず)を選択する。予備セルドライバ105
は、特殊モードで使用される。予備セルドライバ105
が選択したワード線には、書き込みモード信号PGMY
Bがローレベルのときに電圧Vppが印可され、書き込み
モード信号PGMYBがハイレベルのときに電圧Vccが
印可される。
The spare cell driver 105 notifies the HV detection circuit 11 that the HV level has been applied to the address signal An.
1 is detected, the spare cell buffer 107
(Described later), the row address portions of the address signals A0 to Am are input. Then, a word line (not shown) corresponding to the row address is selected. Spare cell driver 105
Is used in special mode. Spare cell driver 105
Write mode signal PGMY
The voltage Vpp is applied when B is at a low level, and the voltage Vcc is applied when the write mode signal PGMYB is at a high level.

【0032】アドレスバッファ106は、アドレス信号
A0 〜Am を入力する。そして、HV検出回路111
(後述)の検出結果がローレベルまたはハイレベルであ
る場合は、チップイネーブル信号CEBがローレベルの
ときに、これらのアドレス信号A0 〜Am をワード線ド
ライバ103、ビット線ドライバ104およびドレイン
線ドライバ114に対して出力する。一方、HV検出回
路111(後述)の検出結果がHVレベルである場合
は、チップイネーブル信号CEBがローレベルのとき
に、これらのアドレス信号A0 〜Am の列アドレス部分
を、ビット線ドライバ104およびドレイン線ドライバ
114に対して出力する。
The address buffer 106 receives address signals A0 to Am. Then, the HV detection circuit 111
When the detection result (described later) is at a low level or a high level, when the chip enable signal CEB is at a low level, these address signals A0 to Am are applied to the word line driver 103, the bit line driver 104, and the drain line driver 114. Output to On the other hand, when the detection result of the HV detection circuit 111 (described later) is at the HV level, when the chip enable signal CEB is at the low level, the column address portions of these address signals A0 to Am are transferred to the bit line driver 104 and the drain. Output to the line driver 114.

【0033】予備セルバッファ107は、HV検出回路
111(後述)の検出結果がHVレベルである場合に、
アドレス信号A0 〜Am の行アドレス部分を入力する。
そして、チップイネーブル信号CEBがローレベルのと
きに、この行アドレスを予備セルドライバ105に対し
て出力する。
The spare cell buffer 107 is used when the detection result of the HV detection circuit 111 (described later) is at the HV level.
The row address portion of the address signals A0 to Am is input.
When the chip enable signal CEB is at a low level, the row address is output to the spare cell driver 105.

【0034】マルチプレクサ108は、ビット線ドライ
バ104から選択信号を入力し、この選択信号に対応す
るビット線(図示せず)を選択する。
The multiplexer 108 receives a selection signal from the bit line driver 104 and selects a bit line (not shown) corresponding to the selection signal.

【0035】センスアンプ109は、チップイネーブル
信号CEBがローレベルのときに、ビット線上に読み出
されたデータD0 〜Dn を増幅して出力する。
When the chip enable signal CEB is at a low level, the sense amplifier 109 amplifies and outputs the data D0 to Dn read on the bit lines.

【0036】出力バッファ110は、出力イネーブル信
号OEBがローレベルのときに、センスアンプ109が
増幅したデータD0 〜Dn を出力する。
Output buffer 110 outputs data D0 to Dn amplified by sense amplifier 109 when output enable signal OEB is at a low level.

【0037】HV検出回路111は、アドレス信号An
を入力して、このアドレス信号Anの信号電位を検出
し、検出結果をHV検出信号AnHとして出力する。こ
こで、アドレス信号An がローレベルまたはハイレベル
のときは、HV検出信号AnHはローレベルとなり、ア
ドレス信号An がHVレベルのときはHV検出信号An
Hはハイレベルとなる。なお、HV検出信号AnHのロ
ーレベルは、本メモリセル101が選択されたことを示
しており、HV検出信号AnHのハイレベルは、予備メ
モリセル102が選択されたことを示している。
The HV detection circuit 111 outputs the address signal An
To detect the signal potential of the address signal An, and output the detection result as an HV detection signal AnH. Here, when the address signal An is at low level or high level, the HV detection signal AnH is at low level, and when the address signal An is at HV level, the HV detection signal An is
H goes high. The low level of the HV detection signal AnH indicates that the present memory cell 101 has been selected, and the high level of the HV detection signal AnH indicates that the spare memory cell 102 has been selected.

【0038】制御信号バッファ112は、チップイネー
ブル信号CEB、出力イネーブル信号OEBおよびVpp
検出信号VPPHBを入力し、書き込みモード信号発生
回路113(後述)などに送る。
The control signal buffer 112 includes a chip enable signal CEB, an output enable signal OEB and Vpp
The detection signal VPPHB is input and sent to a write mode signal generation circuit 113 (described later) and the like.

【0039】書き込みモード信号発生回路113は、H
V検出回路111からHV検出信号AnHを入力すると
ともに、制御信号バッファ112からチップイネーブル
信号CEB、出力イネーブル信号OEBおよびVpp検出
信号VPPHBを入力する。そして、これらの信号An
H,CEB,OEB,VPPHBを用いてモードの判断
を行い、判断結果を書き込みモード信号PGMYBとし
て出力する。後述するように、書き込みモード信号PG
MYBは、モードが書き込みモード(すなわち本メモリ
セル101のプログラムモードまたは特殊モード)の場
合はローレベルとなり、他のモードの場合はハイレベル
になる。
The write mode signal generation circuit 113
The HV detection signal AnH is input from the V detection circuit 111, and the chip enable signal CEB, the output enable signal OEB, and the Vpp detection signal VPPHB are input from the control signal buffer 112. Then, these signals An
The mode is determined using H, CEB, OEB, and VPPHB, and the result of the determination is output as a write mode signal PGMYB. As described later, the write mode signal PG
MYB is at the low level when the mode is the write mode (that is, the program mode or the special mode of the memory cell 101), and is at the high level when the mode is another mode.

【0040】図2は、書き込みモード信号発生回路11
3の内部構成を示す論理回路図である。また、図3は、
OTPROM100のモードと各制御信号CEB,OE
B,VPPHB,HV検出信号AnHの信号値との関係
を示している。
FIG. 2 shows the write mode signal generation circuit 11
FIG. 3 is a logic circuit diagram showing an internal configuration of No. 3; Also, FIG.
The mode of the OTPROM 100 and the control signals CEB, OE
B, VPPHB, and the relationship with the signal value of the HV detection signal AnH are shown.

【0041】従来のOTPROM400(図4参照)と
同様、チップイネーブル信号CEBおよび出力イネーブ
ル信号OEBは、ともに負論理である。また、Vpp検出
信号VPPHBは、電圧がVcc以下のときハイレベルと
なり、電圧がVppのときローレベルとなる。さらに、H
V検出信号AnHは、上述したように、ローレベルが本
メモリセル101の選択を示しており、ハイレベルが予
備メモリセル102の選択を示している。
As in the conventional OTPROM 400 (see FIG. 4), the chip enable signal CEB and the output enable signal OEB are both negative logic. The Vpp detection signal VPPHB is at a high level when the voltage is equal to or lower than Vcc, and is at a low level when the voltage is Vpp. Furthermore, H
As described above, the low level of the V detection signal AnH indicates the selection of the main memory cell 101, and the high level indicates the selection of the spare memory cell 102.

【0042】図2の書き込みモード信号発生回路113
において、NOTゲート201は、出力イネーブル信号
OEBの反転値を出力する。NORゲート202は、N
OTゲート201の出力信号を入力するとともに、信号
AnH,CEB,VPPHBを入力する。また、NOT
ゲート203は、Vpp検出信号VPPHBの反転値を出
力する。NANDゲート204は、NOTゲート203
の出力信号を入力するとともに、信号AnH,OEB,
CEBを入力する。NOTゲート205は、NANDゲ
ート204の反転値を出力する。さらに、NORゲート
206は、NORゲート202の出力信号およびNOT
ゲート205の出力信号を入力し、書き込みモード信号
PGMYBを出力する。
Write mode signal generating circuit 113 in FIG.
, The NOT gate 201 outputs an inverted value of the output enable signal OEB. The NOR gate 202
The output signal of the OT gate 201 is input, and the signals AnH, CEB, and VPPHB are input. Also, NOT
Gate 203 outputs an inverted value of Vpp detection signal VPPHB. NAND gate 204 is NOT gate 203
And output signals AnH, OEB,
Enter CEB. NOT gate 205 outputs the inverted value of NAND gate 204. Further, the NOR gate 206 receives the output signal of the NOR gate 202 and the NOT signal.
The output signal of the gate 205 is input, and the write mode signal PGMYB is output.

【0043】この実施の形態で採用するモードは、従来
のOTPROM400の場合と同様である。すなわち、
図3において、リードモードは読み出し動作状態のモー
ド、スタンバイモードは読み出し動作待機状態のモー
ド、プログラムモードは本メモリセル101に対する書
き込み動作状態のモード、プログラムインヒビットモー
ドは書き込み動作待機状態のモードである。また、特殊
モードは、予備メモリセル102に対する書き込み動作
状態のモード、すなわち書き込み動作試験のモードであ
る。
The mode employed in this embodiment is the same as that of the conventional OTPROM 400. That is,
In FIG. 3, the read mode is a read operation mode, the standby mode is a read operation standby mode, the program mode is a write operation mode for the memory cell 101, and the program inhibit mode is a write operation standby mode. The special mode is a mode of a write operation state for the spare memory cell 102, that is, a mode of a write operation test.

【0044】図2から判るように、書き込みモード信号
PGMYBがローレベルになるのは、NORゲート20
2がハイレベルのときと、NANDゲート204がロー
レベルのときとである。ここで、NORゲート202が
ハイレベルになるのは、チップイネーブル信号CEBが
ローレベル、出力イネーブル信号OEBがハイレベル、
Vpp検出信号VPPHBがローレベル且つHV検出信号
AnHがローレベルのときであり、プログラムモードに
相当する(図3参照)。また、NANDゲート204が
ローレベルになるのは、チップイネーブル信号CEBが
ハイレベル、出力イネーブル信号OEBがハイレベル、
Vpp検出信号VPPHBがローレベル且つHV検出信号
AnHがハイレベルのときであり、特殊モードに相当す
る(図3参照)。
As can be seen from FIG. 2, the write mode signal PGMYB becomes low level when the NOR gate 20
2 is at a high level and when the NAND gate 204 is at a low level. Here, the NOR gate 202 goes high because the chip enable signal CEB is low, the output enable signal OEB is high,
This is when the Vpp detection signal VPPHB is at the low level and the HV detection signal AnH is at the low level, which corresponds to the program mode (see FIG. 3). The NAND gate 204 goes low when the chip enable signal CEB is high, the output enable signal OEB is high,
This is when the Vpp detection signal VPPHB is at the low level and the HV detection signal AnH is at the high level, and corresponds to the special mode (see FIG. 3).

【0045】すなわち、この実施の形態に係るOTPR
OM100では、特殊モードが選択される場合の制御信
号CEB,OEB,VPPHBの論理は、プログラムイ
ンヒビットモードが選択される場合の制御信号CEB,
OEB,VPPHBの論理と一致する。このため、アド
レス信号An をHVレベル設定したにも拘わらずHV検
出信号AnHがローレベルになった場合(アドレス信号
An がノイズ等のためにハイレベルまたはローレベルに
なってしまう場合や、HV検出回路111のしきい値に
誤差が生じた場合等)には、このOTPROM100
は、プログラムインヒビットモードになる。したがっ
て、本メモリセル101にデータが書き込まれることは
ない。
That is, the OTPR according to this embodiment
In the OM 100, the logic of the control signals CEB, OEB and VPPHB when the special mode is selected is determined by the control signals CEB and CEB when the program inhibit mode is selected.
It matches the logic of OEB and VPPHB. For this reason, when the HV detection signal AnH goes low even though the address signal An is set at the HV level (when the address signal An goes high or low due to noise or the like, When an error occurs in the threshold value of the circuit 111), the OTPROM 100
Goes into the program inhibit mode. Therefore, no data is written to the memory cell 101.

【0046】なお、この実施の形態は、この発明をOT
PROMに適用する場合を例に採って説明したが、他の
不揮発性半導体メモリにも適用することができる。
In this embodiment, the present invention is applied to the OT
Although the case where the present invention is applied to the PROM has been described as an example, the present invention can be applied to other nonvolatile semiconductor memories.

【0047】この実施の形態では、特殊モードの制御信
号論理をプログラムインヒビットモードの制御信号論理
と一致させたが、特殊モードと一致させるモードは、プ
ログラムモード以外のモードであればよい。
In this embodiment, the control signal logic of the special mode is made to match the control signal logic of the program inhibit mode. However, the mode that matches the special mode may be any mode other than the program mode.

【0048】この実施の形態では、選択されるメモリセ
ル(本メモリセル101または予備メモリセル102)
をアドレス信号An で指定することとしたが、他の信号
を用いて指定してもよい。また、メモリセルを選択する
ための信号端子を別途も受けることとしてもよい。
In this embodiment, the selected memory cell (main memory cell 101 or spare memory cell 102)
Is specified by the address signal An, but may be specified by using another signal. Further, a signal terminal for selecting a memory cell may be separately received.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、この発明に
よれば、書き込み動作試験時に本メモリセルにデータを
書き込むおそれがない不揮発性半導体メモリを提供する
ことができる。
As described above in detail, according to the present invention, it is possible to provide a nonvolatile semiconductor memory which does not have a possibility of writing data to the present memory cell during a write operation test.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施の形態に係る不揮発性半導体メモリの要部
構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram illustrating a main configuration of a nonvolatile semiconductor memory according to an embodiment;

【図2】図1に示した書き込みモード信号発生回路の内
部構成を示す論理回路図である。
FIG. 2 is a logic circuit diagram showing an internal configuration of a write mode signal generation circuit shown in FIG.

【図3】実施の形態に係る不揮発性半導体メモリのモー
ドと各制御信号の信号値との関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between modes of the nonvolatile semiconductor memory according to the embodiment and signal values of respective control signals.

【図4】従来の不揮発性半導体メモリの要部構成を示す
ブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a main part configuration of a conventional nonvolatile semiconductor memory.

【図5】図4に示した書き込みモード信号発生回路の内
部構成を示す論理回路図である。
FIG. 5 is a logic circuit diagram showing an internal configuration of the write mode signal generation circuit shown in FIG.

【図6】従来の不揮発性半導体メモリのモードと各制御
信号の信号値との関係を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a relationship between modes of a conventional nonvolatile semiconductor memory and signal values of respective control signals.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 本メモリセル 102 予備メモリセル 103 ワード線ドライバ 104 ビット線ドライバ 105 予備セルドライバ 106 アドレスバッファ 107 予備セルバッファ 108 マルチプレクサ 109 センスアンプ 110 出力バッファ 111 HV検出回路 112 制御信号バッファ 113 書き込みモード信号発生回路 114 ドレイン線ドライバ 201,203,205 NOTゲート 202 NORゲート 204 NANDゲート 206 NORゲート 101 Main Memory Cell 102 Spare Memory Cell 103 Word Line Driver 104 Bit Line Driver 105 Spare Cell Driver 106 Address Buffer 107 Spare Cell Buffer 108 Multiplexer 109 Sense Amplifier 110 Output Buffer 111 HV Detection Circuit 112 Control Signal Buffer 113 Write Mode Signal Generation Circuit 114 Drain line driver 201, 203, 205 NOT gate 202 NOR gate 204 NAND gate 206 NOR gate

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 本データを記憶するための本メモリセル
と、 書き込み動作試験を行うための予備メモリセルと、 メモリセル選択信号を入力して、前記本メモリセルが選
択されたか或いは前記予備メモリセルが選択されたかを
判断する信号レベル検出部と、 少なくともチップイネーブル信号および出力イネーブル
信号を含む制御信号と前記信号レベル検出部の検出結果
とを入力し、前記制御信号の論理値が書き込みモードを
示し且つ前記検出結果が前記本メモリセルの選択を示し
ている場合と、前記制御信号の前記論理値が特定の非書
き込みモードを示し且つ前記検出結果が前記予備メモリ
セルの選択を示している場合とに、書き込みモード信号
を発生する書き込みモード信号発生部と、 前記書き込みモード信号を入力して、前記本メモリセル
および前記予備メモリセルへの書き込み制御を行うドラ
イバ部と、 を備えることを特徴とする不揮発性半導体メモリ。
1. A main memory cell for storing main data, a spare memory cell for performing a write operation test, and a memory cell selection signal being input to determine whether the main memory cell is selected or the spare memory A signal level detection unit for determining whether a cell is selected; a control signal including at least a chip enable signal and an output enable signal; and a detection result of the signal level detection unit, and a logic value of the control signal indicating a write mode. And the detection result indicates the selection of the main memory cell, and the case where the logical value of the control signal indicates a specific non-write mode and the detection result indicates the selection of the spare memory cell A write mode signal generating unit for generating a write mode signal; and And a nonvolatile semiconductor memory comprising: a, a driver unit which controls writing into the spare memory cell.
【請求項2】 前記制御信号が、ワード線およびビット
線への印加電圧が書き込み電圧であるか読み出し電圧で
あるかを示す信号を含むことを特徴とする請求項1に記
載の不揮発性半導体メモリ。
2. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 1, wherein said control signal includes a signal indicating whether a voltage applied to a word line and a bit line is a write voltage or a read voltage. .
【請求項3】 前記本メモリセルおよび前記予備メモリ
セルの記憶素子が、フローティングゲートを備えるトラ
ンジスタを有することを特徴とする請求項1または2に
記載の不揮発性半導体メモリ。
3. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 1, wherein the storage elements of the main memory cell and the spare memory cell include a transistor having a floating gate.
【請求項4】 前記メモリセル選択信号が第nビットの
アドレス信号であり、このアドレス信号が第1レベルま
たは第2レベルのときは前記本メモリセルが選択された
と判断し、且つ、前記第nビットのアドレス信号が第3
レベルのときは前記予備メモリセルが選択されたと判断
することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の
不揮発性半導体メモリ。
4. The memory cell selection signal is an n-th bit address signal. When the address signal is at a first level or a second level, it is determined that the present memory cell has been selected, and the n-th bit is selected. Bit address signal is 3rd
4. The nonvolatile semiconductor memory according to claim 1, wherein it is determined that the spare memory cell is selected when the level is at the level.
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