JP2001196527A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2001196527A
JP2001196527A JP2000002406A JP2000002406A JP2001196527A JP 2001196527 A JP2001196527 A JP 2001196527A JP 2000002406 A JP2000002406 A JP 2000002406A JP 2000002406 A JP2000002406 A JP 2000002406A JP 2001196527 A JP2001196527 A JP 2001196527A
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semiconductor
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which can improve the mounting density of a circuit element, while the circuit elements is provided near the base end of the bump electrode of a semiconductor chip in the semiconductor device of a chip-on-chip structure. SOLUTION: In the semiconductor device, main faces 11 and 12 of a first semiconductor chip 1 and a second semiconductor chip 2 are bonded face to face, electrode 12 and 15 formed in the main faces 11 and 12 face each other and are conducted and the plural semiconductor chips 1 and 2 are resin- packaged by packaging resin 5. For relieving pressure due to the contraction of packaging resin 5, when the plural semiconductor chips 1 and 2 are resin- packaged, at least one face 22 of one semiconductor chip 2 is exposed to the outside of the packaging resin 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は、複数の半導体チ
ップを積み重ねた、いわゆるチップ・オン・チップと呼
称される構造の半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a so-called chip-on-chip structure in which a plurality of semiconductor chips are stacked.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、半導体チップを用いて所望の
半導体装置を製造する場合、半導体チップ内に組み込ま
れた回路素子の実装密度を高めることによって、半導体
装置全体の小型化が図られている。近年では、複数の半
導体チップを用い、これらを厚み方向に積み重ねた構
造、いわゆるチップ・オン・チップ(以下「COC」と
いう)と呼称される構造の半導体装置が提案されてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a desired semiconductor device is manufactured using a semiconductor chip, the overall size of the semiconductor device is reduced by increasing the mounting density of circuit elements incorporated in the semiconductor chip. . In recent years, a semiconductor device having a structure in which a plurality of semiconductor chips are stacked in the thickness direction, that is, a structure called a so-called chip-on-chip (hereinafter, referred to as “COC”) has been proposed.

【0003】図10は、上記COC構造を適用した半導
体装置の一例を示す図である。この半導体装置では、複
数(たとえば2つ)の半導体チップ51,52が上下に
積み重ねられた状態で、略平板状のダイパッド53上に
実装されている。上記2つの半導体チップ51,52
は、それらの主面54,55同士を互いに対向させた状
態で接着され、主面54,55に形成されているバンプ
電極56,57同士が異方性導電接着剤58を介して互
いに導通されている。上記半導体チップ51,52で
は、通常、主面54,55側の内部に、回路素子等が組
み込まれている。
FIG. 10 is a diagram showing an example of a semiconductor device to which the above-mentioned COC structure is applied. In this semiconductor device, a plurality (for example, two) of semiconductor chips 51 and 52 are mounted on a substantially flat die pad 53 in a state of being vertically stacked. The above two semiconductor chips 51 and 52
Are bonded with their main surfaces 54, 55 facing each other, and the bump electrodes 56, 57 formed on the main surfaces 54, 55 are electrically connected to each other via an anisotropic conductive adhesive 58. ing. In the semiconductor chips 51 and 52, circuit elements and the like are usually incorporated inside the main surfaces 54 and 55.

【0004】また、上記半導体チップ51の主面54に
形成されているパッド状電極59は、ワイヤWを介して
リードフレーム60に結線接続されている。そして、上
記2つの半導体チップ51,52、複数のワイヤW、お
よびダイパッド53等は、たとえばトランスファー成形
法等を用いてパッケージング樹脂61によって封止され
ている。
A pad-like electrode 59 formed on the main surface 54 of the semiconductor chip 51 is connected to a lead frame 60 via a wire W. The two semiconductor chips 51 and 52, the plurality of wires W, the die pad 53, and the like are sealed with a packaging resin 61 using, for example, a transfer molding method.

【0005】ところで、上記半導体チップ51,52等
が上記パッケージング樹脂61によって封止される際、
パッケージング樹脂61が硬化されることにより収縮
し、半導体チップ51,52等はその周囲から上記収縮
による押圧力を受けることがある。そのため、上記押圧
力によって、主面54,55に設けられたバンプ電極5
6,57が半導体チップ51,52側に押しやられ、バ
ンプ電極56,57の基端側近傍に設けられた図示しな
い回路素子を損傷させたり、破壊したりするおそれがあ
る。したがって、半導体チップ51,52では、通常、
バンプ電極56,57の基端側近傍に回路素子を設けな
いようにして、回路素子や配線パターン等の保護を図っ
ている。
When the semiconductor chips 51, 52 and the like are sealed with the packaging resin 61,
When the packaging resin 61 is cured, it shrinks, and the semiconductor chips 51, 52 and the like may receive a pressing force due to the shrinkage from the periphery thereof. Therefore, the bump electrodes 5 provided on the main surfaces 54 and 55 are
6 and 57 are pushed to the semiconductor chips 51 and 52 side, and there is a possibility that a circuit element (not shown) provided near the base end side of the bump electrodes 56 and 57 may be damaged or broken. Therefore, in the semiconductor chips 51 and 52,
Circuit elements are not provided near the base ends of the bump electrodes 56 and 57 to protect the circuit elements and wiring patterns.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように、バンプ電極56,57の基端側近傍に回路素子
を設けないようにすると、半導体チップ51,52内に
おける回路素子の配置や配線パターンの引回しに制約が
生じる場合がある。すなわち、バンプ電極56,57の
配置領域には、基本的に回路素子を形成することができ
ないため、他の領域を選定して回路素子を形成しなけれ
ばならず、回路の設計自由度が制限されることになる。
このことは、回路素子の実装密度を高める上での問題点
のひとつになっていた。
However, as described above, if the circuit elements are not provided near the base ends of the bump electrodes 56 and 57, the arrangement of the circuit elements in the semiconductor chips 51 and 52 and the wiring pattern In some cases, there is a restriction in the routing of the information. That is, since a circuit element cannot be basically formed in the area where the bump electrodes 56 and 57 are arranged, it is necessary to select another area to form a circuit element, and the degree of freedom in circuit design is limited. Will be done.
This has been one of the problems in increasing the mounting density of circuit elements.

【0007】[0007]

【発明の開示】本願発明は、上記した事情のもとで考え
出されたものであって、COC構造の半導体装置におい
て、半導体チップのバンプ電極の基端側近傍に回路素子
を設けつつ、回路素子の実装密度を高めることのできる
半導体装置を提供することを、その課題とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been conceived in view of the above circumstances, and in a COC structure semiconductor device, a circuit element is provided near a base end of a bump electrode of a semiconductor chip while providing a circuit element. It is an object to provide a semiconductor device which can increase the mounting density of elements.

【0008】上記の課題を解決するため、本願発明で
は、次の技術的手段を講じている。
In order to solve the above problems, the present invention takes the following technical measures.

【0009】本願発明によって提供される半導体装置
は、第1の半導体チップと第2の半導体チップとのそれ
ぞれの主面同士が互いに対面して接着され、かつそれら
の主面に形成されている電極同士が互いに対向して導通
され、複数の半導体チップがパッケージング樹脂によっ
て樹脂パッケージされた半導体装置であって、複数の半
導体チップが樹脂パッケージされる際のパッケージング
樹脂の収縮による押圧力を緩和するために、少なくとも
一方の半導体チップの片面がパッケージング樹脂の外部
に露出されたことを特徴とする。
According to the semiconductor device provided by the present invention, the main surfaces of the first semiconductor chip and the second semiconductor chip are bonded to each other so as to face each other, and the electrodes formed on the main surfaces are provided. A semiconductor device in which a plurality of semiconductor chips are resin-packaged with a packaging resin, the pressing force due to shrinkage of the packaging resin when the plurality of semiconductor chips are packaged with the resin is reduced. Therefore, at least one side of the semiconductor chip is exposed to the outside of the packaging resin.

【0010】本願発明によれば、この半導体装置では、
主面同士が互いに対面して接着された第1および第2の
半導体チップのうち、少なくとも一方の半導体チップの
片面がパッケージング樹脂の外部に露出するように、パ
ッケージング樹脂によって樹脂パッケージされる。その
ため、両半導体チップが樹脂パッケージされる際、パッ
ケージング樹脂が硬化して収縮しても、半導体チップに
対して上記収縮による押圧力が緩和され、従来のよう
に、バンプ電極が半導体チップ側に押しやられるといっ
たことを回避することができる。そのため、半導体チッ
プのバンプ電極の基端側近傍にも回路素子を設けること
ができるので、回路の設計自由度が制限されることがな
く、回路素子の実装密度を高めることができる。したが
って、半導体装置の一層の小型化を図ることができる。
According to the present invention, in this semiconductor device,
Among the first and second semiconductor chips whose main surfaces face each other and are bonded to each other, at least one of the semiconductor chips is packaged with the packaging resin such that one surface of the semiconductor chip is exposed to the outside of the packaging resin. Therefore, when both semiconductor chips are packaged in a resin, even if the packaging resin is cured and shrunk, the pressing force due to the shrinkage on the semiconductor chip is reduced, and the bump electrodes are moved to the semiconductor chip side as in the conventional case. Pushing can be avoided. Therefore, the circuit element can be provided also near the base end side of the bump electrode of the semiconductor chip, so that the degree of freedom in circuit design is not limited and the mounting density of the circuit element can be increased. Therefore, the size of the semiconductor device can be further reduced.

【0011】本願発明の好ましい実施の形態によれば、
一方の半導体チップの片面に、放熱体が設けられてい
る。この構成によれば、一方の半導体チップの片面に設
けられた放熱板により、半導体チップから発せられる熱
を効率よく外部に逃がすことができ、この半導体装置の
放熱性を高めることができ、ひいては電子回路の動作を
安定させることができる。また、上記放熱板を半導体チ
ップの片面に設けても、放熱板が外部に露出するように
なるため、半導体チップが樹脂パッケージされる際の当
該樹脂の収縮による押圧力を緩和することができる。
According to a preferred embodiment of the present invention,
A heat radiator is provided on one surface of one semiconductor chip. According to this configuration, the heat generated from the semiconductor chip can be efficiently released to the outside by the heat radiating plate provided on one surface of the one semiconductor chip, so that the heat dissipation of the semiconductor device can be improved, and thus the electronic device can be improved. The operation of the circuit can be stabilized. Further, even if the heat radiating plate is provided on one surface of the semiconductor chip, the heat radiating plate is exposed to the outside, so that the pressing force due to shrinkage of the resin when the semiconductor chip is packaged with the resin can be reduced.

【0012】本願発明の他の好ましい実施の形態によれ
ば、電極の基端側近傍の、半導体チップの内部に、回路
素子が組み込まれている。上記したように、少なくとも
一方の半導体チップの片面はパッケージング樹脂の外部
に露出されて、パッケージング樹脂の収縮による押圧力
が緩和されるので、電極の基端側近傍の、半導体チップ
の内部に回路素子を組み込むことが可能となる。そのた
め、回路素子は損傷等なく良好に動作することができる
ので、信頼性の高い半導体装置を提供することができ
る。
According to another preferred embodiment of the present invention, a circuit element is incorporated in a semiconductor chip near a base end of an electrode. As described above, one surface of at least one semiconductor chip is exposed to the outside of the packaging resin, and the pressing force due to the shrinkage of the packaging resin is reduced. It becomes possible to incorporate circuit elements. Therefore, the circuit element can operate satisfactorily without damage or the like, so that a highly reliable semiconductor device can be provided.

【0013】本願発明のその他の特徴および利点は、添
付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より
明らかとなろう。
Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の
形態を、添付図面を参照して具体的に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the accompanying drawings.

【0015】図1は、本願発明に係る半導体装置の一例
を示す断面図である。この半導体装置は、複数の半導体
チップを重ね合わせたCOC構造が適用されたものであ
り、第1の半導体チップ1と、第2の半導体チップ2
と、両半導体チップ1,2を搭載するためのダイパッド
3と、複数本のリードフレーム4と、パッケージング樹
脂5とが備えられて構成されている。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a semiconductor device according to the present invention. This semiconductor device employs a COC structure in which a plurality of semiconductor chips are superimposed, and includes a first semiconductor chip 1 and a second semiconductor chip 2.
And a die pad 3 for mounting both semiconductor chips 1 and 2, a plurality of lead frames 4, and a packaging resin 5.

【0016】第1の半導体チップ1および第2の半導体
チップ2は、たとえばLSIチップ、あるいはその他の
ICチップとして構成されたものであり、シリコンチッ
プの片面上に所望の電子回路を集積させて一体的に形成
されたものである。以下、上記第1の半導体チップ1お
よび第2の半導体チップ2の、電子回路が集積された側
の面を主面11および主面12ということにする。
The first semiconductor chip 1 and the second semiconductor chip 2 are configured as, for example, an LSI chip or another IC chip. A desired electronic circuit is integrated on one surface of a silicon chip and integrated. It was formed in a typical way. Hereinafter, the surfaces of the first semiconductor chip 1 and the second semiconductor chip 2 on which the electronic circuits are integrated are referred to as main surfaces 11 and 12, respectively.

【0017】上記第1の半導体チップ1の主面11に
は、突起状に形成されたバンプ電極13と、それよりも
平坦な形状に形成されたパッド状電極14とがそれぞれ
複数設けられている。一方、第2の半導体チップ2の主
面12には、上記第1の半導体チップ1の複数のバンプ
電極13と対応する複数の突起状のバンプ電極15が設
けられている。
On the main surface 11 of the first semiconductor chip 1, a plurality of bump electrodes 13 formed in a projecting shape and a plurality of pad electrodes 14 formed in a flatter shape are provided. . On the other hand, a plurality of projecting bump electrodes 15 corresponding to the plurality of bump electrodes 13 of the first semiconductor chip 1 are provided on the main surface 12 of the second semiconductor chip 2.

【0018】上記複数のバンプ電極13,15は、それ
らの導電接続性を良好とするために、たとえば金製のバ
ンプ電極として形成されている。また、同様に、上記複
数のパッド状電極14も金線等のワイヤ(後述)との導
電接続性を良好とするために、その表面が金製の電極と
されている。具体的には、パッド状電極14は、たとえ
ば第1の半導体チップ1の主面11に形成されたアルミ
ニウム製の平坦な電極の表面に金メッキを施すことによ
って形成される。
The plurality of bump electrodes 13 and 15 are formed, for example, as gold bump electrodes in order to improve their conductive connectivity. Similarly, the surface of each of the plurality of pad-shaped electrodes 14 is a gold electrode in order to improve the conductive connection with a wire such as a gold wire (described later). Specifically, pad-shaped electrode 14 is formed by, for example, applying gold plating to the surface of a flat aluminum electrode formed on main surface 11 of first semiconductor chip 1.

【0019】上記第1の半導体チップ1は、その主面1
1が上向きとなる姿勢とされて、その裏面21が上記ダ
イパッド3の上面に接着剤等を介して接着されている。
上記第2の半導体チップ2は、上記第1の半導体チップ
1よりもその大きさが小であり、その裏面22が上向き
となる姿勢で第1の半導体チップ1上に重ねられてい
る。詳細には、第2の半導体チップ2の主面12は、第
1の半導体チップ1の主面11と異方性導電接着剤23
を介して接着されている。なお、異方性導電接着剤23
に代わり、異方性導電フィルム等を適用するようにして
もよい。
The first semiconductor chip 1 has a main surface 1
The upper surface of the die pad 3 is bonded to the upper surface of the die pad 3 with an adhesive or the like.
The second semiconductor chip 2 has a size smaller than that of the first semiconductor chip 1 and is stacked on the first semiconductor chip 1 with the back surface 22 facing upward. Specifically, the main surface 12 of the second semiconductor chip 2 is in contact with the main surface 11 of the first semiconductor chip 1 and the anisotropic conductive adhesive 23.
Is glued through. The anisotropic conductive adhesive 23
Instead, an anisotropic conductive film or the like may be applied.

【0020】異方性導電接着剤23は、図2に示すよう
に、絶縁材料としての、たとえば熱硬化性のエポキシ樹
脂内に金属粒子等の導電性粒子23aを分散させて含有
させたものであって、上記両半導体チップ1,2の主面
11,12間に存在するだけではその厚み方向に導電性
を有することはなく、それらの厚み方向に所定値以上の
圧力が加わえられると、その圧力が加えられた部分のみ
が導電性を有することとなる特性を有している。そのた
め、上記第1の半導体チップ1のバンプ電極13と、第
2の半導体チップ2のバンプ電極15とは、それらが互
いに対向して配置されることにより、これらの間に所定
値以上の圧力が加えられ、異方性導電接着剤23を介し
て互いに導通接続されている。したがって、上記両半導
体チップ1,2は、互いに電気的に接続された状態で組
み合わされている。
As shown in FIG. 2, the anisotropic conductive adhesive 23 is a material in which conductive particles 23a such as metal particles are dispersed and contained in, for example, a thermosetting epoxy resin as an insulating material. Therefore, if the semiconductor chip 1 and the semiconductor chip 1 are present only between the main surfaces 11 and 12, the semiconductor chips 1 and 2 do not have conductivity in the thickness direction, and when a pressure equal to or more than a predetermined value is applied in the thickness direction, Only the part to which the pressure is applied has the property of having conductivity. Therefore, since the bump electrodes 13 of the first semiconductor chip 1 and the bump electrodes 15 of the second semiconductor chip 2 are arranged to face each other, a pressure equal to or more than a predetermined value is applied therebetween. In addition, they are electrically connected to each other via an anisotropic conductive adhesive 23. Therefore, the two semiconductor chips 1 and 2 are combined while being electrically connected to each other.

【0021】図1に戻り、上記第1の半導体チップ1の
主面11に形成されたパッド状電極14には、金線等か
らなるワイヤWがボンディングされ、このワイヤWは、
複数本のリードフレーム4に接続されている。
Returning to FIG. 1, a wire W made of a gold wire or the like is bonded to the pad-like electrode 14 formed on the main surface 11 of the first semiconductor chip 1, and this wire W is
It is connected to a plurality of lead frames 4.

【0022】リードフレーム4は、銅等の薄肉金属板に
よって形成されたものであり、パッケージング樹脂5の
内部に埋没した内部リード24と、パッケージング樹脂
5の外部に突出した外部リード25とを有している。こ
のリードフレーム4によって、この半導体装置を他の実
装基板に実装することができる。すなわち、ハンダペー
ストが塗布された他の実装基板の所定領域に、上記リー
ドフレーム4を接触させるようにこの半導体装置を載置
した後、ハンダペーストを加熱してハンダリフロー処理
を行うと、この半導体装置を他の実装基板の所定領域に
実装することができる。
The lead frame 4 is formed of a thin metal plate such as copper. The lead frame 4 has an internal lead 24 buried inside the packaging resin 5 and an external lead 25 projecting outside the packaging resin 5. Have. With this lead frame 4, this semiconductor device can be mounted on another mounting substrate. That is, after the semiconductor device is mounted so that the lead frame 4 is brought into contact with a predetermined region of another mounting substrate on which the solder paste is applied, the solder paste is heated to perform a solder reflow process. The device can be mounted on a predetermined area of another mounting substrate.

【0023】ダイパッド3は、たとえば平面視略矩形状
に形成されており、上記リードフレーム4と同様に、銅
等の薄肉金属板によって形成されている。このダイパッ
ド3に接着剤が塗布されて第1の半導体チップ1が接合
される。なお、上記リードフレーム4およびダイパッド
3は、後述する導体フレームから派生したものである。
The die pad 3 is formed, for example, in a substantially rectangular shape in a plan view, and is formed of a thin metal plate such as copper similarly to the lead frame 4. An adhesive is applied to the die pad 3 and the first semiconductor chip 1 is joined. The lead frame 4 and the die pad 3 are derived from a conductor frame described later.

【0024】上記パッケージング樹脂5は、たとえば熱
硬化性を有するエポキシ樹脂からなり、両半導体チップ
1,2の周辺部、ワイヤWのボンディング位置、ダイパ
ッド3、リードフレーム4の一部等を覆うように成形さ
れている。パッケージング樹脂5の上面5aは、第2の
半導体チップ2の上向きの裏面22と略面一の高さとさ
れ、上記裏面22の略全面が外部に露出するように形成
されている。
The packaging resin 5 is made of, for example, a thermosetting epoxy resin, and covers the peripheral portions of the semiconductor chips 1 and 2, the bonding position of the wire W, the die pad 3, and a part of the lead frame 4. It is molded into. The upper surface 5a of the packaging resin 5 is substantially flush with the upward rear surface 22 of the second semiconductor chip 2, and is formed so that substantially the entire rear surface 22 is exposed to the outside.

【0025】すなわち、本実施形態によると、第2の半
導体チップ2の裏面22が外部に露出するようにパッケ
ージング樹脂5が成形されているので、パッケージング
樹脂5の成形の際に、第1および第2の半導体チップ
1,2に対して加えられる、パッケージング樹脂5の硬
化、収縮による押圧力を緩和することができる。詳細に
は、従来では上記押圧力によりバンプ電極13,15が
半導体チップ1,2の内部に押しやられる場合があり、
バンプ電極13,15の基端部近傍の、半導体チップ
1,2の内部には回路素子を設けることができないとい
った弊害を生じていたが、本実施形態では、第2の半導
体チップ2の裏面22のほぼ全面が外部に露出している
ので、バンプ電極13,15に影響を及ぼしていた押圧
力が緩和されることになる。そのため、バンプ電極1
3,15が半導体チップ1,2の内部に押しやられるこ
とが回避され、バンプ電極13,15の基端部近傍の、
半導体チップ1,2の内部に、回路素子を設けたとして
も、これら回路素子の損傷を防止することができる。し
たがって、回路素子は、安定した動作が行え得、信頼性
の高い半導体装置を提供することができる。
That is, according to the present embodiment, the packaging resin 5 is molded so that the back surface 22 of the second semiconductor chip 2 is exposed to the outside. Further, the pressing force applied to the second semiconductor chips 1 and 2 due to the curing and shrinkage of the packaging resin 5 can be reduced. In detail, in the related art, the bump electrodes 13 and 15 may be pushed into the semiconductor chips 1 and 2 by the above pressing force,
Although the circuit elements cannot be provided inside the semiconductor chips 1 and 2 near the base ends of the bump electrodes 13 and 15, in the present embodiment, the back surface 22 of the second semiconductor chip 2 is used. Since almost the entire surface is exposed to the outside, the pressing force affecting the bump electrodes 13 and 15 is reduced. Therefore, the bump electrode 1
3 and 15 are prevented from being pushed into the semiconductor chips 1 and 2,
Even if circuit elements are provided inside the semiconductor chips 1 and 2, damage to these circuit elements can be prevented. Therefore, the circuit element can perform stable operation and can provide a highly reliable semiconductor device.

【0026】また、第2の半導体チップ2の裏面22を
外部に露出させる結果、バンプ電極13,15の基端部
近傍の、半導体チップ1,2の内部に、回路素子を設け
ることができるので、回路の設計自由度が制限されるこ
とがなく、回路素子の実装密度を高めることができる。
したがって、半導体装置の一層の小型化を図ることがで
きる。
Further, as a result of exposing the back surface 22 of the second semiconductor chip 2 to the outside, circuit elements can be provided inside the semiconductor chips 1 and 2 near the base ends of the bump electrodes 13 and 15. In addition, the degree of freedom in circuit design is not limited, and the mounting density of circuit elements can be increased.
Therefore, the size of the semiconductor device can be further reduced.

【0027】次に、この半導体装置の製造方法について
説明する。この半導体装置の製造方法では、図3,4に
示すような導体フレーム31が用いられ、この導体フレ
ーム31に、第1および第2の半導体チップ1,2が搭
載される。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device will be described. In this method of manufacturing a semiconductor device, a conductor frame 31 as shown in FIGS. 3 and 4 is used, and the first and second semiconductor chips 1 and 2 are mounted on the conductor frame 31.

【0028】まず、導体フレーム31に搭載される前
に、第1の半導体チップ1と第2の半導体チップ2とが
重ね合わされる。すなわち、第1の半導体チップ1をそ
の主面11を上向きにし、裏面21がたとえば図示しな
いテープキャリア上に仮接着される。次いで、第1の半
導体チップ1の主面11に異方性導電接着剤23等を塗
布する。この場合、異方性導電接着剤23の厚みは、バ
ンプ電極13の高さよりも多少高くなる厚みにしてお
く。
First, before being mounted on the conductor frame 31, the first semiconductor chip 1 and the second semiconductor chip 2 are overlaid. That is, the first semiconductor chip 1 has its main surface 11 facing upward, and its back surface 21 is temporarily bonded to, for example, a tape carrier (not shown). Next, anisotropic conductive adhesive 23 and the like are applied to main surface 11 of first semiconductor chip 1. In this case, the thickness of the anisotropic conductive adhesive 23 is set to be slightly higher than the height of the bump electrode 13.

【0029】次に、第2の半導体チップ2を、図示しな
い吸着コレット等に保持させ、第1の半導体チップ1の
上方に配置する。そして、第1および第2の半導体チッ
プ1,2の各バンプ電極13,15が対向するように、
第1の半導体チップ1に対して第2の半導体チップ2の
位置合わせを行う。その後、第2の半導体チップ2を下
降させて第2の半導体チップ2を第1の半導体チップ1
上に載置し、この第2の半導体チップ2を下方に押し付
ける。これにより、異方性導電接着剤23は、2つの半
導体チップ1,2の間で圧縮されて主面11,12全域
に広がる。
Next, the second semiconductor chip 2 is held by a suction collet (not shown) or the like, and is arranged above the first semiconductor chip 1. Then, the bump electrodes 13 and 15 of the first and second semiconductor chips 1 and 2 are opposed to each other.
The second semiconductor chip 2 is aligned with the first semiconductor chip 1. After that, the second semiconductor chip 2 is moved down to move the second semiconductor chip 2 to the first semiconductor chip 1.
The second semiconductor chip 2 is placed on top and pressed downward. Thereby, the anisotropic conductive adhesive 23 is compressed between the two semiconductor chips 1 and 2 and spreads over the entire main surfaces 11 and 12.

【0030】この場合、異方性導電接着剤23は、互い
に対向するバンプ電極13,15間において大きな圧縮
力を受け、図2に示すように、導電性粒子23aが上記
バンプ電極13,15の表面に密着することとなり、上
記バンプ電極13,15間のみが適切に導通することに
なる。その後、異方性導電接着剤23を加熱して硬化さ
せる。これにより、第1の半導体チップ1と第2の半導
体チップ2との接着固定状態をより確実なものとするこ
とができる。
In this case, the anisotropic conductive adhesive 23 receives a large compressive force between the bump electrodes 13 and 15 facing each other, and as shown in FIG. As a result, the bump electrodes 13 and 15 are properly brought into conduction with each other. Then, the anisotropic conductive adhesive 23 is cured by heating. Thereby, the first semiconductor chip 1 and the second semiconductor chip 2 can be more securely bonded and fixed.

【0031】上記のような方法で重ね合わされた第1お
よび第2の半導体チップ1,2は、上述した導体フレー
ム31に搭載される。この導体フレーム31は、たとえ
ば銅製の金属板に打ち抜きプレス加工を施し、所定のフ
ォーミング加工を施す等して形成されたものであり、一
定方向に延びる長尺状である。より詳細には、この導体
フレーム31は、多数の送り孔32が一定間隔で穿設さ
れた2条の側縁部33,34の間に、第1および第2の
半導体チップ1,2を搭載するためのダイパッド3をそ
の長手方向に一定間隔で複数箇所形成したものである。
そして、この導体フレーム31は、上記ダイパッド3を
支持するサポートリード35、上記ダイパッド3から離
反した位置に設けられた複数条の内部リード24、およ
びこれら複数条の内部リード24とタイバー36を介し
て繋がった複数条の外部リード25をそれぞれ具備して
いる。
The first and second semiconductor chips 1 and 2 superposed by the above method are mounted on the above-described conductor frame 31. The conductor frame 31 is formed by, for example, punching and pressing a metal plate made of copper and performing a predetermined forming process, and has a long shape extending in a certain direction. More specifically, the conductor frame 31 mounts the first and second semiconductor chips 1 and 2 between two side edges 33 and 34 in which a large number of feed holes 32 are formed at regular intervals. The die pad 3 is formed at a plurality of locations at regular intervals in the longitudinal direction.
The conductive frame 31 is supported via support leads 35 for supporting the die pad 3, a plurality of internal leads 24 provided at positions separated from the die pad 3, and the plurality of internal leads 24 and tie bars 36. A plurality of connected external leads 25 are provided.

【0032】上記導体フレーム31のダイパッド3上
に、図4に示すように、上記両半導体チップ1,2を接
着する。この場合、ダイパッド3側または第1の半導体
チップ1の裏面21側、あるいは両方に、予めたとえば
チップボンダー等を塗布しておく。その後、第1の半導
体チップ1のパッド状電極14とリードフレーム4の内
部リード24とをワイヤWを介して結線接続する。
As shown in FIG. 4, the semiconductor chips 1 and 2 are bonded to the die pad 3 of the conductor frame 31. In this case, for example, a chip bonder or the like is applied in advance to the die pad 3 side or the back surface 21 side of the first semiconductor chip 1 or both. Thereafter, the pad-shaped electrode 14 of the first semiconductor chip 1 and the internal lead 24 of the lead frame 4 are connected and connected via the wire W.

【0033】次いで、たとえばトランスファー成形法を
用いて、パッケージング樹脂5の成形を行い、両半導体
チップ1,2やその周辺部分を封止する樹脂パッケージ
作業を行う。詳細には、図5に示すように、両半導体チ
ップ1,2を所定の金型41,42を用いてエポキシ樹
脂等の熱硬化性樹脂によりパッケージングを行い、パッ
ケージング樹脂5を成形する。この場合、図6に示すよ
うに、第2の半導体チップ2の裏面22と、上側の金型
41の内面41aとが接するように、金型41,42を
両半導体チップ1,2およびリードフレーム4に対して
配置し、エポキシ樹脂を金型41,42内に注入する。
これにより、パッケージング樹脂5は、第2の半導体チ
ップ2の裏面22と略面一になるような高さまで形成さ
れることになる。
Next, the packaging resin 5 is molded by using, for example, a transfer molding method, and a resin packaging operation for sealing the semiconductor chips 1 and 2 and the peripheral portions thereof is performed. More specifically, as shown in FIG. 5, both semiconductor chips 1 and 2 are packaged with a thermosetting resin such as an epoxy resin using predetermined molds 41 and 42 to form a packaging resin 5. In this case, as shown in FIG. 6, the dies 41, 42 are connected to the semiconductor chip 1, 2 and the lead frame so that the back surface 22 of the second semiconductor chip 2 and the inner surface 41a of the upper mold 41 are in contact with each other. 4 and the epoxy resin is injected into the molds 41 and 42.
As a result, the packaging resin 5 is formed to a height substantially flush with the back surface 22 of the second semiconductor chip 2.

【0034】上記樹脂パッケージ作業が終了すれば、導
体フレーム31の不要部分を取り除き、リードフレーム
4を折り曲げるフォーミング加工を行う。このような一
連の作業工程により、図1に示すような半導体装置を得
ることができる。
When the resin package operation is completed, an unnecessary portion of the conductor frame 31 is removed, and a forming process for bending the lead frame 4 is performed. By such a series of operation steps, a semiconductor device as shown in FIG. 1 can be obtained.

【0035】図7は、本実施形態に係る半導体装置の変
形例を示す図である。同図によれば、この半導体装置
は、第2の半導体チップ2の裏面22が外部に露出して
いることに代わり、第2の半導体チップ2の裏面22に
放熱板43が設けられ、放熱板43の片面が外部に露出
するようになっている。
FIG. 7 is a diagram showing a modification of the semiconductor device according to the present embodiment. According to the figure, this semiconductor device has a heat sink 43 provided on the back surface 22 of the second semiconductor chip 2 instead of the back surface 22 of the second semiconductor chip 2 being exposed to the outside. One side of 43 is exposed to the outside.

【0036】上記放熱板43は、平面視略矩形状の金属
製のプレート部材によって形成されており、放熱面積を
大きくとるために、その大きさは、第2の半導体チップ
2より大とされている。放熱板43は、一方の側面43
aが第2の半導体チップ2の裏面22に、たとえば超音
波接合、スポット溶接、またはそれ以外の方法によって
接合されている。そして、他方の側面43bが上向きに
外部に露出されている。その他の構成については、上記
した実施形態の構成と略同様である。
The heat radiating plate 43 is formed of a metal plate member having a substantially rectangular shape in a plan view, and has a size larger than that of the second semiconductor chip 2 in order to increase a heat radiating area. I have. The heat radiating plate 43 has one side surface 43.
a is bonded to the back surface 22 of the second semiconductor chip 2 by, for example, ultrasonic bonding, spot welding, or another method. And the other side surface 43b is exposed to the outside upward. The other configuration is substantially the same as the configuration of the above-described embodiment.

【0037】この変形例のように、第2の半導体チップ
2の裏面22に放熱板43が設けられることにより、第
2の半導体チップ2の裏面22は、直接外部に露出して
いないが、放熱板43を通じて間接的に外部に露出する
ことになる。したがって、パッケージング樹脂5を封止
する際に、第1および第2の半導体チップ1,2に対す
る押圧力が緩和されることになり、上述した実施形態と
同様に、バンプ電極13,15による回路素子の損傷を
防止することができる。
As in this modification, the heat radiating plate 43 is provided on the back surface 22 of the second semiconductor chip 2, so that the back surface 22 of the second semiconductor chip 2 is not directly exposed to the outside. It is indirectly exposed to the outside through the plate 43. Therefore, when the packaging resin 5 is sealed, the pressing force on the first and second semiconductor chips 1 and 2 is reduced, and the circuit by the bump electrodes 13 and 15 is performed similarly to the above-described embodiment. Element damage can be prevented.

【0038】また、この実施形態では、第2の半導体チ
ップ2の裏面22に放熱板43が設けられ、放熱板43
が外部に直接露出しているため、第2の半導体チップ2
から発せられる熱は、上記裏面22から外部に効率よく
逃がすことができる。そのため、この半導体装置の放熱
性を良好に維持し、半導体チップ1,2が駆動している
ときの温度上昇を抑制し、半導体チップ1,2に組み込
まれている電子回路の動作を安定させることができる。
In this embodiment, a heat sink 43 is provided on the back surface 22 of the second semiconductor chip 2.
Are directly exposed to the outside, the second semiconductor chip 2
Can be efficiently released from the back surface 22 to the outside. Therefore, it is necessary to maintain good heat radiation of the semiconductor device, suppress a rise in temperature when the semiconductor chips 1 and 2 are driven, and stabilize the operation of electronic circuits incorporated in the semiconductor chips 1 and 2. Can be.

【0039】もちろん、この発明の範囲は上述した実施
の形態に限定されるものではない。たとえば、上記実施
形態においては、第2の半導体チップ2の裏面22が外
部に露出するように構成されていたが、この構成に代わ
り、第1の半導体チップ1の裏面21がダイパッド3を
介して外部に露出するように、形成されていてもよい。
また、図8に示すように、第1および第2の半導体チッ
プ1,2の両方の裏面21,22がそれぞれ外部に露出
されていてもよい。
Of course, the scope of the present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the above-described embodiment, the back surface 22 of the second semiconductor chip 2 is configured to be exposed to the outside. However, instead of this configuration, the back surface 21 of the first semiconductor chip 1 is connected via the die pad 3. It may be formed so as to be exposed to the outside.
In addition, as shown in FIG. 8, the back surfaces 21 and 22 of both the first and second semiconductor chips 1 and 2 may be exposed to the outside.

【0040】また、上記実施形態においては、第2の半
導体チップ2に放熱板43が設けられていたが、図9に
示すように、第1の半導体チップ1の裏面21とダイパ
ッド3を介して繋がっている下面に放熱板44が設けら
れていてもよい。さらには、両半導体チップ1,2に両
放熱板43,44がそれぞれ設けられていてもよい。
Further, in the above embodiment, the heat dissipation plate 43 is provided on the second semiconductor chip 2, but as shown in FIG. 9, the heat dissipation plate 43 is provided via the back surface 21 of the first semiconductor chip 1 and the die pad 3. A heat sink 44 may be provided on the connected lower surface. Furthermore, both heat dissipation plates 43 and 44 may be provided on both semiconductor chips 1 and 2 respectively.

【0041】また、上記実施形態では、2つの半導体チ
ップを搭載した半導体装置について説明したが、半導体
チップの搭載数は、これに限らず、3つ以上の半導体チ
ップが搭載されていてもよい。
In the above embodiment, the semiconductor device having two semiconductor chips is described. However, the number of semiconductor chips is not limited to this, and three or more semiconductor chips may be mounted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本願発明に係る半導体装置の一例を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of a semiconductor device according to the present invention.

【図2】図1の一部拡大要部断面図である。FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of a main part of FIG.

【図3】導体フレームの要部平面図である。FIG. 3 is a plan view of a main part of the conductor frame.

【図4】図1に示す半導体装置の製造方法を説明するた
めの図である。
FIG. 4 is a view illustrating a method of manufacturing the semiconductor device shown in FIG. 1;

【図5】図1に示す半導体装置の製造方法を説明するた
めの図である。
FIG. 5 is a view illustrating a method of manufacturing the semiconductor device illustrated in FIG. 1;

【図6】図1に示す半導体装置の製造方法を説明するた
めの図である。
FIG. 6 is a view illustrating a method of manufacturing the semiconductor device shown in FIG. 1;

【図7】図1に示す半導体装置の変形例を示す断面図で
ある。
FIG. 7 is a sectional view showing a modification of the semiconductor device shown in FIG. 1;

【図8】図1に示す半導体装置の他の変形例を示す断面
図である。
FIG. 8 is a sectional view showing another modification of the semiconductor device shown in FIG. 1;

【図9】図1に示す半導体装置の他の変形例を示す断面
図である。
FIG. 9 is a sectional view showing another modification of the semiconductor device shown in FIG. 1;

【図10】従来の半導体装置を示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1の半導体チップ 2 第2の半導体チップ 5 パッケージング樹脂 11 主面(第1の半導体チップの) 12 主面(第2の半導体チップの) 13 バンプ電極(第1の半導体チップの) 15 バンプ電極(第2の半導体チップの) 22 裏面(第2の半導体チップの) 23 異方性導電接着剤 43 放熱板 REFERENCE SIGNS LIST 1 first semiconductor chip 2 second semiconductor chip 5 packaging resin 11 main surface (of first semiconductor chip) 12 main surface (of second semiconductor chip) 13 bump electrode (of first semiconductor chip) 15 Bump electrode (of the second semiconductor chip) 22 Back surface (of the second semiconductor chip) 23 Anisotropic conductive adhesive 43 Heat sink

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の半導体チップと第2の半導体チッ
プとのそれぞれの主面同士が互いに対面して接着され、
かつそれらの主面に形成されている電極同士が互いに対
向して導通され、上記複数の半導体チップがパッケージ
ング樹脂によって樹脂パッケージされた半導体装置であ
って、 上記複数の半導体チップが樹脂パッケージされる際の上
記パッケージング樹脂の収縮による押圧力を緩和するた
めに、少なくとも上記一方の半導体チップの片面がパッ
ケージング樹脂の外部に露出されたことを特徴とする、
半導体装置。
1. A main surface of a first semiconductor chip and a main surface of a second semiconductor chip are bonded to face each other,
And a semiconductor device in which the electrodes formed on the main surfaces thereof are opposed to each other and conductive, and the plurality of semiconductor chips are resin-packaged with a packaging resin, and the plurality of semiconductor chips are resin-packaged. In order to reduce the pressing force due to shrinkage of the packaging resin, at least one surface of the one semiconductor chip is exposed to the outside of the packaging resin,
Semiconductor device.
【請求項2】 上記一方の半導体チップの片面に、放熱
体が設けられた、請求項1に記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a heat radiator is provided on one surface of said one semiconductor chip.
【請求項3】 上記電極の基端側近傍の、上記半導体チ
ップの内部に、回路素子が組み込まれた、請求項1また
は2に記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein a circuit element is incorporated inside the semiconductor chip near a base end side of the electrode.
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