JP2001185906A - 対称形セラミック共振器及びこれを利用した帯域通過濾波器 - Google Patents
対称形セラミック共振器及びこれを利用した帯域通過濾波器Info
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Abstract
整が容易で損失係数が小さな新しい対称形セラミック共
振器を利用して、各種移動通信及び無線通信基地局また
は中継機システムに使用されるGHZ帯域の特定された周
波数を高い減衰特性を有して通過/阻止させるための小
型セラミック共振器、及びこれを利用した帯域通過濾波
器を提供する。 【解決手段】 本発明は中央部に貫通穴が形成され、
4側面に切開溝が形成されて表面に導電皮膜がコーティ
ングされた六面体形状の高誘電率セラミック共振器の貫
通穴内周部入口に皮膜除去部を形成し、皮膜除去部を通
じて共振器と電磁気的な結合(Coupling)により共振周波
数を調整するためのチューニングスクリューを配置して
単位セラミック共振器を構成し、これを利用して多様な
形態のコンパクトで特性が優秀な帯域通過濾波器を作る
ことができることを特徴とする。
Description
振器及びこれを利用した帯域通過濾波器に関するもので
あり、特にどの方向でも共振器間の結合と調整が容易で
損失係数が小さな新しい対称形セラミック共振器を利用
して、各種移動通信及び無線通信基地局または中継機シ
ステムに使用されるGHZ帯域の特定された周波数を高い
減衰特性を有して通過/阻止させるための小型セラミッ
ク共振器、及びこれを利用した帯域通過濾波器に関する
ものである。
(L)とキャパシティ(C)の組合により特定の周波数で共
振する回路素子として、このような共振器、すなわちマ
イクロ波用セラミック共振器を多段結合して共振器間結
合係数を多様に調節し、多様な通過/消去帯域幅を有す
る帯域通過濾波器(BPF)、帯域消去濾波器(Band Rejecti
onFilter)及びデュプレックサ(Duplexer)を製作するこ
とができる。
を構成するそれぞれの共振器の特性や大きさによって素
子の特性と大きさが決定され、また共振器間の信号伝達
方式によっても全体的な素子の減衰特性が影響を受ける
ようになる。
に図示されたように高誘電率のセラミックでなされた直
六面体の長さ方向に貫通穴3が形成されて、胴体5の内
/外部面に導電皮膜5bが形成されており、胴体の一側
面(斜線部分)5aはメッキが完全に除去されている構造
を有している。
aの導電皮膜5bが完全に除去されて外部に放射されるエ
ネルギーの損失が大きく、これを利用して帯域通過濾波
器(BPF)を構成する場合、図3及び図4に図示されたよ
うに複数の共振器1a−1c間の結合(Coupling)はまず
共振器1a−1cから各々銅線コア11を通じて印刷回路
基板7の伝送ラインに連結され、基板7に別途に複数の
チップ型キャパシティまたはインダクタ素子(Capacitor
or Inductor)9などを利用した付加回路により結合が
なされた。
器間の結合が外部でなされることにより共振器の損失係
数が増加するようになってBPFの伝送損失も増加するよ
うになる。
は共振器表面の導電皮膜5bを少しずつ剥がし取るため
にグラインダのような工具を使用して調整しなければな
らないために、結合量を調整することが難しくなって、
一旦除去された導電皮膜を再生することはほとんど不可
能で損失が増加する問題を抱えていてBPFの生産性も低
い。
片方断面の導電皮膜が完全に除去された構造であり、共
振周波数のチューニング(Tuning)のために内部導電皮膜
と外部導電皮膜を少しずつ除去しながら共振周波数をチ
ューニングしなければならないために、周波数チューニ
ング作業の面倒さ及び共振器の損失係数が増加する等の
問題を抱えている。したがって、このような作業のため
には高熟練作業者を必要として、さらに周波数チューニ
ングの可逆性が保障されないために周波数チューニング
レンジも任意通り自由に調整することが難しく、結果的
にチューニングレンジが狭くなる問題点がある。
をフローティングさせて共振器を形成する従来の金属キ
ャビティ型帯域通過濾波器はセラミック濾波器に比べて
大きさが非常に大きくて、キャビティと誘電体の構造上
大きさを減らすのに限界がある。
や帯域消去濾波器は非常に小さな挿入損失特性と阻止帯
域内での急激な減衰特性を要求している。
めには共振器自体が小型で損失係数特性などが優秀な新
しい方式の共振器と、これを使用して製作された帯域通
過濾波器が要求されている。
ような従来技術の問題点を勘案して案出されたものであ
り、第1目的は共振器の多段結合及び入/出力端子の結
合時にどの方向でも結合が容易になされることができる
対称構造の小型セラミック共振器を提供することにあ
る。
ーが共振器の貫通穴に結合された構造として共振周波数
のチューニングが容易で、共振周波数のチューニング及
び共振器間の結合に必要な最小限の導体皮膜だけを共振
器から除去するために損失係数が小さな小型セラミック
共振器を提供することにある。
チューニングスクリューが共振器間に挿入される構造を
有することができ、大きさが小型で伝送損失を小さくし
ながら結合容量(Coupling Capacitance)の調整が非常
に容易で可逆的に再現でき、生産品の不良率を低くする
ことができる小型セラミック共振器及び帯域通過濾波器
を提供することにある。
ングが容易で周波数チューニングレンジが大きくて、共
振周波数のチューニング及び共振器間の結合に必要な最
小限の導体皮膜だけを共振器から除去するために、損失
係数が小さな複数の小型共振器を利用して各種移動通信
及び無線通信基地局または中継機システムに必要なGHZ
帯域の特定された周波数を通過/阻止させるための小型
セラミック帯域通過濾波器を提供することにある。
の結合と調整が容易で損失係数が小さな対称形セラミッ
ク共振器を直/並列組合して阻止帯域内での望みの周波
数に減衰点を実現することによりGHZ帯域の特定された
周波数を高い減衰特性を有して通過/阻止させることが
できる小型セラミック帯域通過濾波器を提供することに
ある。
を改善するために段数を増加させずに簡単なバイパス手
段を付加することにより安価で小型の素子として具現す
ることができる小型セラミック共振器形帯域通過濾波器
を提供することにある。
ために、本発明は高誘電率のセラミック材料で構成し、
中央に上下方向に貫通された貫通穴を含んでおり、4側
面には上下方向に少なくとも2個の切開溝を具備した六
面体形状をなすセラミック胴体と、前記セラミック胴体
の内外部前表面に高伝導性の導電体で皮膜されて、セラ
ミック胴体の貫通穴の内周部入口に第1皮膜除去部が形
成された導電皮膜と、前記セラミック胴体の貫通穴に先
端部が移動可能に結合されて前記第1皮膜除去部で共振
器と電磁気的な結合(Coupling)により共振周波数を調整
するための共振周波数チューニング手段で構成されるこ
とを特徴とするセラミック共振器を提供する。
との接続部分に共振器間の結合容量を調整するためのチ
ューニングスクリューが挿入される筒型の空間を形成し
て、隣接した切開溝には導電皮膜が選択的に部分的に除
去された第2皮膜除去部をさらに含んで、前記切開溝は
半円型、球形トレンチ(rectangular trench)、ノッチ形
状(notch type)及び放物線形状の内いずれか一つで形成
される。
続されるために導電皮膜が選択的に部分的に除去された
第3皮膜除去部をさらに含んで、前記第3皮膜除去部は
逆"U"形状及び無限ループ形状の内いずれか一つで形成
される。
クロ波入力信号を受信する入力端子と、各々中央に貫通
穴が形成されて4側面のうち少なくとも2側面に切開溝
を有する六面体形状のセラミック胴体の内/外部に高伝
導性の導電体を皮膜形成し、貫通穴の内周部入口と隣接
された共振器間の対向した切開溝に各々第1導電皮膜除
去部と第2導電皮膜除去部を形成し、前記入力信号の内
から設定された周波数帯域の信号のみを出力するように
直列接続された複数の第1セラミック共振器と、各々前
記セラミック胴体の貫通穴に設置されて前記第1皮膜除
去部で共振器と電磁気的な結合により共振周波数を調整
するための複数の共振周波数チューニング手段と、前記
隣接された対向した切開溝に設置されて前記第2皮膜除
去部で隣接された共振器と電磁気的な結合により共振器
間の結合容量を調整するための複数の結合容量調整手段
と、前記最終段共振器に接続されて帯域通過された出力
信号を出力する出力端子で構成されることを特徴とする
セラミック共振器を利用した帯域通過濾波器を提供す
る。
段及び最終段共振器は切開溝に入力及び出力端子が接続
されるために導電皮膜が選択的に除去された第3皮膜除
去部をさらに含んで、前記第3皮膜除去部は逆”U”形
状及び無限ループ形状のうちいずれか一つの形状を有す
る。
に収容して接地させるための4角筒形状の金属ケースと
カバーをさらに含んで、前記複数の共振周波数チューニ
ング手段と結合容量調整手段は各々金属ケースのカバー
に回転可能に支持される。
のセラミック共振器のうち少なくともいずれか一つに並
列で接続されて阻止帯域に減衰点を形成するための少な
くとも1以上の第2セラミック共振器をさらに含む。
共振器で前段のセラミック共振器から少なくとも1以上
のセラミック共振器をバイパスして後段のセラミック共
振器に共振信号の一部をバイパスさせて阻止帯域に減衰
点を形成するためのバイパス手段をさらに含むことが望
ましい。
形構造として共振器の4外側面に結合容量を挿入して調
整するのに有用な切開溝が形成されて共振器間の結合と
入/出力端子の接続が方向と関係なく容易で、チューニ
ングスクリューの調整で共振周波数のチューニングが容
易で、共振器外部の除去される導体皮膜を最小限に最適
化して損失係数が小さな小型共振器を具現することがで
きる。
器の直/並列結合により阻止帯域内での望みの周波数に
減衰点を実現してGHZ帯域の特定された周波数を高い減
衰特性を有して通過/阻止させることが可能で、段数を
増加させずに簡単なバイパス手段を付加することにより
安価で小型な素子として具現することができる。
長所などは次ぎに参照する本発明の好適な実施例に対す
る以下の説明から明確になるであろう。
実施例について図示された添付図面を参考にしてより詳
細に説明する。添付された図5ないし図7は本発明に使
用される基本形帯域通過濾波器を示す分解図、カバーが
除去された状態の組立図及び完全組立図であり、図21
は本発明の第1実施例による減衰特性が優秀なセラミッ
ク共振器形帯域通過濾波器を示す平面図である。
実施例によるセラミック共振器形帯域通過濾波器(BPF)
は6個の直列接続された第1ないし第6セラミック共振
器20a−20fと、第1及び第6セラミック共振器20a,
20fに各々並列接続されて上部及び下部減衰点UNP,LNP
を形成するための2個の第7及び第8セラミック共振器
20g,20hとで構成されている。
ック共振器20a−20fはBPFで帯域通過特性を有するよ
うにするための構造であり、並列接続された第7及び第
8セラミック共振器20g,20hはそれぞれの共振周波数
に該当する周波数のエネルギーを結合(Coupling)させ接
地でバイパス(by-pass)させることにより減衰点を形成
する役割をする。
に助けになるように前記したセラミック共振器20a−2
0h各々に対する構造と、これら間の相互接続構造及びこ
れらを利用した基本形セラミック帯域通過濾波器につい
て順次説明する。
20は図8ないし図12のように高誘電率のセラミック
材料で概略正六面体または直六面体の形状をなして、中
央に上下方向に貫通された貫通穴22を含んでおり、4
側面に上下方向に切開溝23a−23dが形成されたセラ
ミック胴体21の内外部表面には伝導性が優秀な導電
体、例えば、銀、銅、アルミニウムなどの導電皮膜24
がメッキされた構造を有している。
共振周波数のλ/4長さに設定され、高誘電率のセラミ
ック材料を使用することによって共振器の大きさは縮少
可能である。
れ、後述するように多段接続時に隣接した共振器との接
続部分に円筒形の空間を形成することによって、棒形で
なされた結合容量調整用チューニングスクリュー32の
挿入が制限された空間内で容易になされることができて
望ましい。しかし、前記切開溝23a−23dはこれに限
定されずに他の形態、例えば球形トレンチ(rectangular
trench)、ノッチ形状(notch type)、放物線形状等も可
能である。
共振周波数を調整するために貫通穴22の一側内部に、
図5及び図12のようにチューニングスクリュー(2
6,26a−26c)の先端部である金属棒40と共振器
との電磁気的な結合(Coupling)のために、導電皮膜24
が上段部のみに部分的に除去された第1皮膜除去部25
が形成されており、貫通穴22にはチューニングスクリ
ュー26の金属棒40が挿入されている。前記したセラ
ミック共振器は等価回路的にLC並列共振回路を形成す
る。
0は外部からチューニングスクリュー26を回転させて
金属棒40を貫通穴22内部に挿入する程度によって容
易に共振器の共振周波数を調整することができる。
数調整のための第1皮膜除去部25が導電皮膜24から
最小限に除去された状態であるためにエネルギー放射に
よる損失を最小化できる。
ック共振器20a−20cを3ケ直列接続してなされた本発
明に使用される基本形BPF(50)が図示されている。
切開溝23b,23dにより形成される円筒形の空間31
には共振器20aと20b,20bと20c間の結合容量(Coupl
ingCapacitance)、すなわち結合係数を調整するために
先端部の金属棒が内部に挿入される結合容量調整用チュ
ーニングスクリュー32が上下に移動可能に金属版(カ
バー)27に結合されている。前記した結合容量調整用
チューニングスクリュー32はBPF50の通過帯域幅を決
定するのに使用される。
数調整用チューニングスクリュー26a−26cまたは結
合容量調整用チューニングスクリュー32を設定された
位置に固定させるための固定ナットであり、34はセラ
ミック共振器20a−20cを収容して支持するための金属
ケース、35は入力端子、36は出力端子、37はカバ
ー固定用スクリューである。
のうちいずれか1つまたは2つまたは3つの切開溝には
図13のように共振器の直/並列接続時に隣接した共振
器との電磁気的な結合のために導電皮膜24が除去され
た第2皮膜除去部28が形成されている。
した第2皮膜除去部28は相互隣接して接続される2共
振器20a,20b間に互いに対向する切開溝23b,23d
の同一な位置に形成される。
ように結合容量調整用チューニングスクリュー32aが
共振周波数調整用チューニングスクリュー26a−26c
と反対方向、すなわち下側から結合される場合共振器2
0a−20cの切開溝23b,23dの下側に形成される。
クリュー32aは先端部が切開溝23b,23d内部の円
筒空間31で上下に移動するようにケースまたは支持プ
レート34aに回転可能に固定される。
隣接された共振器20aと20b,20bと20c間に電磁気的
な結合がなされて共振器間に電磁気エネルギーが伝播さ
れる状態、すなわち容量結合がなされる。この状態で前
記したチューニングスクリュー32,32aを外部から
回転させればこれによりチューニングスクリューの先端
部が円筒空間31の内部に下降して挿入する程度によっ
て伝播されるエネルギーの量が調整されて結合容量値が
可変される。
合容量を調整するための構造が共振器内部に形成されて
最小限の空間に収容可能で、またチューニングスクリュ
ー32,32aの回転により結合容量の調整が容易かつ
可逆的に可能である。
去部25は図5に図示された例の場合、共振周波数調整
用チューニングスクリュー26a−26cが結合される部
位に形成されたが、前記した図16の例のようにチュー
ニングスクリュー26a−26cが結合される反対側貫通
穴22に形成されることももちろん可能である。
3段直列接続されたBPF50を例にして見せたものである
が、それぞれの共振器20a−20cは4方向に対し対称構
造であるために図21に図示された第1実施例のように
どの方向でも変形された構造の帯域通過濾波器(BPF)接
続が可能である。
ック共振器、すなわちBPFに入/出力端子を結合する時
の外部接続構造として、各々接地(ground)構造及び開放
(open)構造を示す。
入/出力端子35,36間の接続には図14に図示され
たように切開溝23dまたは23bに上下方向に逆”U”
字形状で導電皮膜24が除去された第3皮膜除去部29
が利用される。入/出力端子35,36が第3皮膜除去
部29の上段に接続される時、第3皮膜除去部29は等
価回路的に見る時終段が接地されたインダクタカップリ
ング(L-Coupling)構造を形成し、アンテナを通じて流入
されるDC及び低周波の落雷時に後段の装置を保護する役
割をする。
入/出力端子35,36間の接続には図15に図示され
たように切開溝23dまたは23bに上下方向に無限ルー
プ形状で導電皮膜24が除去された第4皮膜除去部30
が利用され得る。入/出力端子35,36が第4皮膜除
去部30内側のアイルランド部に接続される時、前記と
反対に等価回路的に見る時入/出力端子35,36とフ
ィルター50内部回路間にはキャパシティカップリング
(C-Coupling)構造を形成する。したがって、使用者が必
要によって選択的にカップリング構造を採用することが
できる。
2aを支持する支持プレート34aには、図17に図示さ
れたように上側に共振器20a−20cを位置設定して支持
するための3個の支持ポール41が一体で形成されてお
り、また支持プレート34aには下部からチューニング
スクリュー32aをねじ結合するための支持ナット42
が収容される凹溝34bが形成されている。
ューニングスクリュー26,26a−26c,32,32
aは図18に図示されたようにチューニングスクリュー
26,26a−26c,32,32aをカバー27、ケー
ス34または支持プレート34aに回転可能に支持され
るように支持ナット42を具備して、カバー27、ケー
ス34または支持プレート34aの凹溝34bに固定設置
した状態で結合されることが望ましい。
された変形例のように金属ケースを使用せずに直接基板
43上に共振器20a−20cと、チューニングスクリュー
ブロック44を順次組立てて構成することも可能であ
る。
板43に支持された状態で先端部が各々共振器20a,2
0cの第3皮膜除去部29または第4皮膜除去部30に連
結される。
ーニングスクリューブロック44が基板43に垂直に組
立られたが、チューニングスクリューブロック44が側
面に位置するように横にして基板43上に装着すること
も可能である。
43に固定させて共振器20a,20bと接続する方法以外
にも、共振器20a,20cの第3または第4皮膜除去部2
9,30に垂直に直接付着して組立てることも可能であ
る。
域通過濾波器(BPF)は直列接続された複数のセラミック
共振器20a−20hにより共振周波数のチューニングと共
振器間の結合容量の調整が容易で、望みの帯域通過特性
を有する濾波器を容易に構成することができる。
失係数と大きさが小さくて、共振器の結合に必要なコン
デンサーなどを別途に具備しないためにコンパクトなサ
イズで低損失濾波器を具現することができる。
に直列接続された複数のセラミック共振器20a−20fに
使用者の必要によってセラミック共振器20g,20hを並
列接続させることにより図22のように望みの阻止帯域
周波数で上部及び下部減衰点UNP,LNPを形成することが
できるようになる。
振器20a−20hの貫通穴22a−22hには共振周波数調
整用チューニングスクリューが結合されて、共振器と共
振器間には結合容量を調整するための7個の結合容量調
整用チューニングスクリューが円筒空間31a−31hに
結合されている。
ラミック共振器と並列接続されるセラミック共振器の数
及び並列接続位置はBPFの帯域通過特性によって変更で
き、制限された数の共振器を使用する場合にも共振器の
直/並列接続パターンは共振器が4方向に対し対称構造
を有しているために多様に変形され得る。
パス用同軸ケーブルを使用して減衰点を形成できるセラ
ミック共振器形帯域通過濾波器50aとして、共振器段数
を増加させずに阻止帯域に減衰点を形成することができ
る構造を示す。
るBPF50aは直列接続された第1ないし第4セラミック
共振器20a−20dを有し、例えば、第1及び第4セラミ
ック共振器20a,20dに各々別の貫通ホール61a,6
1bを形成し、貫通ホール61aと貫通ホール61b間に
同軸ケーブル62を使用し、同軸ケーブル62の両側芯
線62a,62bを挿入して結合させた構造である。
蔵される時カバーに形成された収容溝に埋入される方式
で設置されることも可能で、全体的にケースなしで構成
されることも可能である。
ラミック共振器20a−20dの貫通穴22a−22dには共
振周波数調整用チューニングスクリューが結合されて、
第1ないし第4セラミック共振器ら20a−20d間の円筒
空間31a−31cには結合容量調整用チューニングスク
リューが結合されている。
共振器20a−20dの共振周波数調整用チューニングスク
リューと結合容量調整用チューニングスクリューを適切
に設定することにより望みの帯域幅の通過帯域を設定す
る。
セラミック共振器20aに入力されて1次で共振がなされ
た後、1次共振された信号が第2セラミック共振器20b
に伝送されて2次共振がなされると同時に1次共振にな
った信号の一部は同軸ケーブル62に電磁界誘導され
る。その後、1次共振された信号は第2及び第3セラミ
ック共振器20b,20cを経由せずにバイパスされて第4
セラミック共振器20dに供給される。
第1ないし第3セラミック共振器20a−20cを経た帯域
通過信号とバイパスされた信号が混合されて、この過程
で隣接チャンネルの周波数を大きく減衰させる作用が生
じる。
器20dから得られる出力信号は通過帯域の上側及び下側
阻止帯域に急激な減衰がなされた信号が得られる。すな
わち、第2実施例によるBPFの周波数特性曲線は上/下
阻止帯域に各々減衰点UNP,LNPが形成されて急激な減衰
がなされる帯域通過フィルターリングが得られる。
共振器が帯域通過濾波器に適用されたものを例にして説
明したが、これ以外にも帯域阻止濾波器、デュプレック
サなどのように単位セラミック共振器を組合して構成さ
れ得るマイクロ波部品ならばどのようなものにも適用が
可能である。
一な方向に形成されて結合容量調整用チューニングスク
リューも上下方向に結合された例を図示したが、前記切
開溝と結合容量調整用チューニングスクリューは隣接し
た共振器との結合方向によって水平方向に形成されるこ
とももちろん可能である。
溝が必要によって水平方向と垂直方向に組合して形成さ
れることも可能である。
組合して結合することによりチャンネルコンバイナまた
はデュプレックサのような他のマイクロ波素子を構成す
ることも可能である。
セラミック共振器と比較する時単純にチューニングスク
リューの調整で共振周波数のチューニングが容易で、共
振器外部の除去される導体皮膜を最小限に最適化して損
失係数が小さな共振器を具現することができ、左右対称
形構造として共振器の4外側面に結合容量を挿入して調
整するのに有用な切開溝が形成され、共振器間の結合と
入/出力端子の接続が方向と関係なく容易にできる。そ
の結果、本発明の共振器は従来の金属キャビティ共振器
形製品及び誘電体共振器形製品より大きさを約1/7程
度で大幅に減らすことが可能である。
ラミック濾波器と比較する時共振周波数のチューニング
が単純で速やかになされることができ、共振器と共振器
間に結合容量チューニングスクリューが内蔵されていて
製品をコンパクトに構成することが可能である。
全体的な伝送損失も小さく、入/出力端子の接続がどの
方向でも容易になされることができ、また共振器の相互
接続がどの方向でも可能で多様な形態の濾波器を構成す
ることができる。
振器の直/並列結合により阻止帯域内での望みの周波数
に減衰点を実現して数百MHzから数GHz帯域の特定された
周波数を高い減衰特性を有して通過/阻止させることが
可能で、段数を増加させずに簡単なバイパス手段を付加
することにより安価で小型な素子として具現することが
できる。
たが、本発明は実施例によって限定されず、本発明が属
する技術分野において通常の知識を有するものであれば
本発明の思想と精神から逸脱することなく、本発明を修
正または変更できるであろう。
ある。
ある。
帯域通過濾波器を示す正面図である。
帯域通過濾波器を示す側面図である。
す分解図である。
図である。
図である。
面図である。
が結合される構造を示す分解図である。
構造を示す図面である。
時の外部構造として、接地構造に対する正面図である。
時の外部構造として、開放構造に対する正面図である。
過濾波器を示す分解図である。
持プレートの断面図である。
支持アセンブリの分解図である。
形帯域通過濾波器を示す分解図である。
形帯域通過濾波器を示す組立図である。
セラミック共振器形帯域通過濾波器を示す平面図であ
る。
示すグラフである。
ーブルを使用して減衰点を形成できるセラミック共振器
形帯域通過濾波器を示す平面図である。
ーニングスクリュー 27 カバー 28 第2皮膜除去部 29 第3皮膜除去部 30 第4皮膜除去部 31、31a−31h 円筒空間 33 固定ナット 34、34b 金属ケース 34a 支持プレート 34b 凹溝 35、35a 入力端子 36、36a 出力端子 37 固定スクリュー 40 金属棒 41 支持ポール 42 支持ナット 43 基板 44 チューニングスクリューブロック 50、50a 帯域通過濾波器 61a、61b 貫通ホール 62 同軸ケーブル 62a、62b 芯線
Claims (17)
- 【請求項1】 高誘電率のセラミック材料で構成され、
中央に上下方向に貫通された貫通穴を含んでおり、4側
面には上下方向に少なくとも2個の切開溝が具備された
六面体形状をなすセラミック胴体と、 前記セラミック胴体の内外部表面に高伝導性の導電体で
皮膜されて、セラミック胴体の貫通穴内周部入口に第1
皮膜除去部が形成された導電皮膜と、 前記セラミック胴体の貫通穴に先端部が移動可能に結合
されて前記第1皮膜除去部で共振器と電磁気的な結合に
より共振周波数を調整するための共振周波数チューニン
グ手段とで構成されることを特徴とするセラミック共振
器。 - 【請求項2】 前記切開溝は多段接続時に隣接した共振
器との接続部分に共振器間の結合容量を調整するための
チューニングスクリューが挿入される筒型の空間を形成
し、隣接した切開溝には導電皮膜が選択的に部分的に除
去された第2皮膜除去部が形成されることを特徴とする
請求項1に記載のセラミック共振器。 - 【請求項3】 前記切開溝は半円型、球形トレンチ(rec
tangular trench)、ノッチ形状(notch type)及び放物線
形状の内いずれか一つで形成されることを特徴とする請
求項1または2に記載のセラミック共振器。 - 【請求項4】 前記切開溝には入力/出力端子が接続さ
れるために導電皮膜が選択的に部分的に除去された第3
皮膜除去部がさらに形成されることを特徴とする請求項
1に記載のセラミック共振器。 - 【請求項5】 前記第3皮膜除去部は逆”U”形状及び
無限ループ形状の内いずれか一つであることを特徴とす
る請求項4に記載のセラミック共振器。 - 【請求項6】 マイクロ波入力信号を受信する入力端子
と、 各々中央に貫通穴が形成されて4側面のうち少なくとも
2側面に切開溝を有する六面体形状のセラミック胴体の
内/外部に高伝導性の導電体を皮膜形成し、貫通穴の内
周部入口と隣接された共振器間の対向した切開溝に各々
第1導電皮膜除去部と第2導電皮膜除去部を形成して、
前記入力信号の内から設定された周波数帯域の信号のみ
を出力するように直列接続された複数の第1セラミック
共振器と、 各々前記セラミック胴体の貫通穴に設置されて前記第1
皮膜除去部で共振器と電磁気的な結合により共振周波数
を調整するための複数の共振周波数チューニング手段
と、 前記隣接された対向した切開溝に設置されて前記第2皮
膜除去部で隣接された共振器と電磁気的な結合により共
振器間の結合容量を調整するための複数の結合容量調整
手段と、 前記最終段共振器に接続されて帯域通過された出力信号
を出力する出力端子とにより構成されることを特徴とす
るセラミック共振器を利用した帯域通過濾波器。 - 【請求項7】 前記複数の共振周波数チューニング手段
と結合容量調整手段各々は金属体からなり、先端部が穴
内部に移動可能に挿入されるチューニングスクリューで
構成されることを特徴とする請求項6に記載のセラミッ
ク共振器を利用した帯域通過濾波器。 - 【請求項8】 前記複数の共振周波数チューニング手段
は各々第1皮膜除去部が形成された貫通穴の反対側に設
置されることを特徴とする請求項6に記載のセラミック
共振器を利用した帯域通過濾波器。 - 【請求項9】 前記複数の第1セラミック共振器のうち
初段及び最終段共振器は切開溝に入力及び出力端子が接
続されるために導電皮膜が選択的に除去された第3皮膜
除去部をさらに含み、前記第3皮膜除去部は逆”U”形
状及び無限ループ形状の内いずれか一つであることを特
徴とする請求項6に記載のセラミック共振器を利用した
帯域通過濾波器。 - 【請求項10】 前記複数のセラミック共振器を内部に
収容して接地させるための4角筒形状の金属ケースとカ
バーをさらに含み、前記複数の共振周波数チューニング
手段と結合容量調整手段は各々金属ケースのカバーに回
転可能に支持されることを特徴とする請求項6に記載の
セラミック共振器を利用した帯域通過濾波器。 - 【請求項11】 前記複数の第1セラミック共振器を内
部に収容して接地させるための4角筒形状の金属ケース
とカバーをさらに含み、前記複数の共振周波数チューニ
ング手段は各々金属ケースのカバーに回転可能に支持さ
れ、前記複数の結合容量調整手段は各々ケースの下端面
に回転可能に支持されることを特徴とする請求項6に記
載のセラミック共振器を利用した帯域通過濾波器。 - 【請求項12】 前記複数の第1セラミック共振器を上
部に支持して接地させるための基板をさらに含み、前記
入力端子と出力端子は初段及び最終段共振器の切開溝に
直接接続されることを特徴とする請求項6に記載のセラ
ミック共振器を利用した帯域通過濾波器。 - 【請求項13】 前記直列接続された複数のセラミック
共振器のうち少なくともいずれか一つに並列に接続され
て阻止帯域に減衰点を形成するための少なくとも1以上
の第2セラミック共振器をさらに含むことを特徴とする
請求項6ないし12のいずれかに記載のセラミック共振
器を利用した帯域通過濾波器。 - 【請求項14】 前記第2セラミック共振器は複数の第
1セラミック共振器のうち入力信号が入力される第1段
セラミック共振器と出力信号が発生される最終段セラミ
ック共振器に各々並列に接続されることを特徴とする請
求項13に記載のセラミック共振器を利用した帯域通過
濾波器。 - 【請求項15】 前記複数の第1セラミック共振器で前
段のセラミック共振器から少なくとも1以上のセラミッ
ク共振器をバイパスして後段のセラミック共振器に共振
信号の一部をバイパスさせて阻止帯域に減衰点を形成す
るためのバイパス手段をさらに含むことを特徴とする請
求項6ないし12のいずれかに記載のセラミック共振器
を利用した帯域通過濾波器。 - 【請求項16】 前記バイパス手段は前段及び後段セラ
ミック共振器の貫通ホールに両端部の芯線が結合された
同軸ケーブルで構成されることを特徴とする請求項15
に記載のセラミック共振器を利用した帯域通過濾波器。 - 【請求項17】 前記複数のセラミック共振器を内部に
収容して接地させるための金属ケースをさらに含み、前
記ケースはそれの底面に一体に形成されて複数の第1セ
ラミック共振器を設定された位置に位置設定させるため
の複数の支持ポールを含むことを特徴とする請求項15
に記載のセラミック共振器を利用した帯域通過濾波器。
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KR1019990055503A KR100354850B1 (ko) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 소형 세라믹 공진기를 이용한 대역통과여파기 |
KR10-1999-0055504A KR100379101B1 (ko) | 1999-12-07 | 1999-12-07 | 감쇄특성이 우수한 세라믹 공진기형 마이크로웨이브 소자 |
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-
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- 2000-09-18 JP JP2000281586A patent/JP3443084B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2016072643A3 (ko) * | 2014-11-07 | 2016-06-30 | 주식회사 이너트론 | 필터 |
KR101632667B1 (ko) * | 2014-11-07 | 2016-07-01 | 주식회사 이너트론 | 필터 |
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CN106058397B (zh) * | 2015-04-13 | 2019-11-12 | Ace技术株式会社 | 利用交叉耦合的腔体滤波器 |
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