JP2001185073A - Apparatus and method of analyzing inductively coupled plasma - Google Patents

Apparatus and method of analyzing inductively coupled plasma

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JP2001185073A
JP2001185073A JP37033499A JP37033499A JP2001185073A JP 2001185073 A JP2001185073 A JP 2001185073A JP 37033499 A JP37033499 A JP 37033499A JP 37033499 A JP37033499 A JP 37033499A JP 2001185073 A JP2001185073 A JP 2001185073A
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plasma
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健一 阪田
Kazuo Yamanaka
一夫 山中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ICP-MS device and method which can control a position and a shape of plasma face and reduce a desensitizing or sensitizing by a matrix effect. SOLUTION: An interface 150 of ICP-MS device 100 includes a first output electrode 156 and a second output electrode arranged in order at the rear side of a skimmer cone 153. Voltage switched between positive and negative voltages of the same extent as plasma is applied to the first ion output electrode, and the negative voltage is applied to the second ion output electrode 157.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、誘導結合プラズマ
質量分析(ICP-MS)に関し、より詳しくはプラズマ及び
そこからのイオンの取り込みに対する制御性に優れ、マ
トリックス効果による分析感度の変動を低減可能な装置
及び方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS). Apparatus and method.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICP-MSは、金属元素を中心とする多くの
無機元素について、超微量(ppt)レベルの分析を可能
にする技術である。この技術は、多元素を同時に分析可
能であり、同位体比の測定が可能であり、しかも分析を
高精度且つ迅速に実行可能であるといった多くの特長を
有し、半導体などの材料産業、地質学や環境などの分野
において広く応用されている。
2. Description of the Related Art ICP-MS is a technique that enables ultra-trace (ppt) level analysis of many inorganic elements, mainly metal elements. This technology has many features such as the ability to analyze multiple elements simultaneously, the measurement of isotope ratios, and the ability to perform analysis with high accuracy and speed. Widely applied in fields such as science and environment.

【0003】ICP-MSは、通常はアルゴンによる誘導結合
プラズマ(ICP)を使用し、そこでイオン化された試料
中の被分析物を分離、測定するために質量分析器(MS)
を用いる。一般に、試料は溶液化されてペリスタルティ
ックポンプによりネブライザに注入され、試料エアロゾ
ルとなる。試料エアロゾルはスプレーチャンバを経てIC
Pに送り込まれ、イオン化される。こうして得られた試
料イオンは、大気圧のプラズマから、差動排気されたイ
ンタフェースに運ばれる。インタフェースは典型的に
は、高温のままでのサンプリングを可能にする大きなオ
リフィス径を有するサンプリングコーンと、イオンビー
ム形成のためのスキマーコーン及び引き出し電極とから
なり、形成されたイオンビームは真空チャンバ内に位置
する質量分析器、例えば四重極質量分析器に集束され
る。この分析器は、質量/電荷比に基づいて試料非分析
物のイオンを分離し、分離された試料非分析物イオンは
その後、電子増倍管検出システムにより測定される。
[0003] ICP-MS usually uses inductively coupled plasma (ICP) with argon, where a mass spectrometer (MS) is used to separate and measure analytes in the ionized sample.
Is used. Generally, a sample is made into a solution and injected into a nebulizer by a peristaltic pump to form a sample aerosol. Sample aerosol is passed through the spray chamber to IC
It is sent to P and ionized. The sample ions thus obtained are transported from the plasma at atmospheric pressure to the differentially evacuated interface. The interface typically consists of a sampling cone with a large orifice diameter that allows sampling at high temperatures, a skimmer cone and extraction electrodes for ion beam formation, and the formed ion beam is placed in a vacuum chamber. At a mass analyzer, for example a quadrupole mass analyzer. The analyzer separates sample non-analyte ions based on the mass / charge ratio, and the separated sample non-analyte ions are then measured by an electron multiplier detection system.

【0004】ICP-MSは、原子吸光分析法(AAS)やICP原
子発光分析法(ICP-AES)のような従来の元素分析技術
より高い感度とより低い検出限界を備えることが認めら
ているが、依然として解決されなければならない幾つか
の問題がある。その1つに、マトリックス効果と呼ばれ
る非分光学的干渉がある。これは他の分析手法における
と同様に、試料中に存在する高濃度のマトリックスによ
って被分析物に対する感度が増減して誤差が生じ、分析
が妨害される問題である。例えば試料中にセシウムがマ
トリックスとして100〜1000 ppm程度存在すると、リチ
ウム、タリウム、イットリウムといった被分析物に対す
る相対的な感度は、マトリックスが存在しない場合に比
べて0.6〜1.25程度の範囲で変動する。多くの用途にお
いては、こうしたマトリックス効果による減感や増感を
少なくし、あるいは排除することが強く求められてい
る。
[0004] ICP-MS has been found to have higher sensitivity and lower detection limits than conventional elemental analysis techniques such as atomic absorption spectrometry (AAS) and ICP atomic emission spectrometry (ICP-AES). However, there are some problems that still need to be solved. One of them is non-spectroscopic interference called the matrix effect. This is a problem that, as in other analysis methods, the high concentration of the matrix present in the sample causes an increase or decrease in sensitivity to the analyte, thereby causing an error and hindering the analysis. For example, when cesium is present as a matrix in the sample at about 100 to 1000 ppm, the relative sensitivity to analytes such as lithium, thallium, and yttrium varies in a range of about 0.6 to 1.25 as compared to the case where no matrix is present. In many applications, there is a strong demand to reduce or eliminate desensitization and sensitization due to such a matrix effect.

【0005】こうした問題に対する解決策としては、試
料溶液を希釈したり、試料を前処理してマトリックスか
ら分離したりすることが挙げられるが、希釈の結果被分
析物の濃度が検出限界以下になってしまったり、付加的
な労力が必要になるといった、別の問題が生じてくる。
また、プラズマ温度を上げてマトリックス効果を相対的
に小さくする手法もあるが、これにより感度が全体的に
かなり低くなるといった問題があり、これらの間でトレ
ードオフを行うことが必要である。
[0005] Solutions to these problems include diluting the sample solution or pretreating the sample to separate it from the matrix, but the dilution results in analyte concentrations below the detection limit. Other problems arise, such as the need for additional effort.
There is also a method of relatively reducing the matrix effect by increasing the plasma temperature. However, there is a problem that the sensitivity is considerably lowered as a whole, and it is necessary to make a trade-off between them.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の1つの課題
は、試料中の元素に対する感度を調節可能にすることに
よって、マトリックス減感や増感を改善可能な、改良さ
れたICP-MS測定装置及び方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an improved ICP-MS measuring apparatus capable of improving matrix desensitization and sensitization by adjusting the sensitivity to elements in a sample. And a method.

【0007】本発明の他の課題は、インタフェースに印
加される電圧を切り換えることによって、プラズマから
のイオンの引き出しを最適に制御可能な、改良されたIC
P-MS測定装置及び方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an improved IC capable of optimally controlling the extraction of ions from a plasma by switching the voltage applied to the interface.
An object of the present invention is to provide a P-MS measuring device and method.

【0008】本発明の別の課題は、インタフェースに印
加される電圧の制御を通じてプラズマ面の位置及び形状
を調節可能な、改良されたICP-MS測定装置及び方法を提
供することにある。
It is another object of the present invention to provide an improved ICP-MS measuring apparatus and method capable of adjusting the position and shape of a plasma surface through control of a voltage applied to an interface.

【0009】本発明のさらに別の課題は、ICP-MS測定装
置のための新規なインタフェースを提供することにあ
る。
Yet another object of the present invention is to provide a novel interface for an ICP-MS measuring device.

【0010】本発明の他の課題、機能及び利点について
は、以下の詳細な説明から理解されるところであり、ま
たより特定的には特許請求の範囲に記載されている。
[0010] Other objects, features and advantages of the present invention will be understood from the following detailed description, and more particularly, are set forth in the appended claims.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、ICP-MS装置を
開示し、この装置は大気圧のプラズマを発生するための
手段と、試料をプラズマ中に導入して被分析物のイオン
を形成するための手段と、この被分析物のイオンをプラ
ズマから取り入れるためのインタフェース手段と、取り
入れられた被分析物のイオンを分離及び測定を行うため
の質量分析器へと移送するためのイオンレンズ手段とを
備える。インタフェース手段の圧力は通常200〜400Paの
範囲にあり、他方質量分析器の段の圧力は正常動作時に
おいて10 -2〜10-4Paのレベルにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an ICP-MS device.
Disclosed is a device for generating an atmospheric pressure plasma.
Means and ions of the analyte by introducing the sample into the plasma
Means for forming the analyte and the ions of the analyte
Interface means for taking in from
To separate and measure the ions of the inserted analyte
An ion lens means for transferring to a mass spectrometer.
Prepare. The pressure of the interface means is usually 200-400Pa
Range, while the mass analyzer stage pressure is
10 -2~Ten-FourAt Pa level.

【0012】インタフェース手段は少なくともスキマー
コーンを、通常はその前段に配置されるサンプリングコ
ーンと共に含み、さらにスキマーコーンの背後又は後段
に順次配置される第1及び第2のイオン引き出し電極を含
む。本発明によれば、第1のイオン引き出し電極には正
及び負の間で切り換え可能な電圧が印加され、また第2
のイオン引き出し電極には負の電圧が印加される。即ち
本発明によれば、ICP-MS装置はこうした電圧の印加及び
切り換えを可能にするための手段、例えば正及び負の可
変直流電源、切り換えスイッチその他を具備する。より
詳しくは本発明は、第1の引き出し電極に対して通常と
は異なり、正の電圧を印加することを提案するものであ
る。
[0012] The interface means includes at least a skimmer cone, together with a sampling cone usually arranged in front of the skimmer cone, and further includes first and second ion extraction electrodes sequentially arranged behind or after the skimmer cone. According to the present invention, a voltage switchable between positive and negative is applied to the first ion extraction electrode, and
A negative voltage is applied to the ion extraction electrode. That is, according to the present invention, the ICP-MS device comprises means for enabling such voltage application and switching, such as positive and negative variable DC power supplies, changeover switches and the like. More specifically, the present invention proposes to apply an unusually positive voltage to the first extraction electrode.

【0013】インタフェース手段は大気プラズマ中に作
り出されたイオンを高真空領域へと引き出す役割を果た
す。サンプリングコーン及びスキマーコーンは接地され
ており、通常はプラズマから質量分析器に向けてイオン
を引き出すために、第1の引き出し電極には例えば-160
V程度、第2の引き出し電極には第1の引き出し電極より
も高い、例えば-70 V程度の負電圧が印加される。しか
しながら本発明によれば、第1の引き出し電極に印加さ
れる電圧は正に切り換え可能であり、これによって驚く
べき結果が得られる。
[0013] The interface means plays a role in extracting ions created in the atmospheric plasma to a high vacuum region. The sampling cone and the skimmer cone are grounded, and usually, for extracting ions from the plasma toward the mass spectrometer, the first extraction electrode has, for example, -160.
A negative voltage of about V and higher than that of the first extraction electrode, for example, about -70 V, is applied to the second extraction electrode. However, according to the invention, the voltage applied to the first extraction electrode can be switched positively, which gives surprising results.

【0014】本発明の好適な1実施例によれば、第1の引
き出し電極に、負の電圧との間で切り換え可能な、プラ
ズマの電位と実質的に同じ電位を印加する手段が備えら
れる。プラズマは0〜10 V程度の正の電位を有し、第1の
引き出し電極をこれと同じか多少異なる程度の正の電位
に維持することによって、プラズマはスキマーコーンを
介してインタフェース手段内部へと入り込み、第1の引
き出し電極と電位的に一体化する。すなわち概念的に
は、プラズマは第1の引き出し電極に対して貼り付くよ
うになる。換言すれば、こうした構成によってプラズマ
をインタフェース手段内部に入り込ませ、プラズマ面又
はイオン引き出し面の位置を、第1のイオン引き出し電
極に対して調節することができる。
According to a preferred embodiment of the present invention, the first extraction electrode is provided with means for switching between a negative voltage and applying a potential substantially equal to the potential of the plasma. The plasma has a positive potential on the order of 0 to 10 V, and by maintaining the first extraction electrode at a positive potential on the same or slightly different level, the plasma enters the interface means via the skimmer cone. It enters and is electrically integrated with the first extraction electrode. That is, conceptually, the plasma comes to adhere to the first extraction electrode. In other words, such a configuration allows the plasma to enter the interface means and adjust the position of the plasma surface or the ion extraction surface with respect to the first ion extraction electrode.

【0015】第2の引き出し電極に対しては負の電圧、
典型的には0〜-200 V程度の範囲内のものが印加され
る。こうした範囲内で第2の引き出し電極に印加される
電圧を調節することにより、インタフェース手段の内部
での、第2のイオン引き出し電極に対面するプラズマの
表面形状を調節することができる。これによって、被分
析物に対する検出感度を制御することが可能になり、ま
たマトリックス効果による減感または増感を制御するこ
とができるようになる。
A negative voltage for the second extraction electrode;
Typically, a voltage in the range of about 0 to -200 V is applied. By adjusting the voltage applied to the second extraction electrode within such a range, the surface shape of the plasma facing the second ion extraction electrode inside the interface means can be adjusted. This makes it possible to control the detection sensitivity for the analyte and to control desensitization or sensitization due to the matrix effect.

【0016】本発明によれば、引き出し電極の効果をよ
り有効に得るためには、第1のイオン引き出し電極がド
ーナツ盤状、円筒状又は截頭円錐状であるのが好まし
い。またプラズマ面又はイオン引き出し面に対する制御
をより効果的にするためには、第2のイオン引き出し電
極が截頭円錐状又は周縁フランジを有する円筒状であ
り、第1のイオン引き出し電極の内側に重なって配置さ
れているのが好ましい。周縁フランジは好ましくは円筒
の後端に配置されるが、第2の引き出し電極が第1の引き
出し電極に向けて突出する特徴を維持できるのであれ
ば、それより前方にあっても構わない。例えば第1及び
第2の引き出し電極が共に截頭円錐状であり、入れ子式
に重なって配置されるような構成が良好である。これら
の場合に、第2のイオン引き出し電極の先端とスキマー
コーンの先端の間の間隔が25 mm以内であるのが、十分
な密度を有するプラズマに対する良好な制御という面か
ら極めて好ましい。
According to the present invention, in order to more effectively obtain the effect of the extraction electrode, it is preferable that the first ion extraction electrode has a donut disk shape, a cylindrical shape, or a truncated cone shape. In order to more effectively control the plasma surface or the ion extraction surface, the second ion extraction electrode is frustoconical or cylindrical with a peripheral flange, and overlaps the inside of the first ion extraction electrode. It is preferable that they are arranged in a vertical direction. The peripheral flange is preferably located at the rear end of the cylinder, but may be further forward as long as the feature that the second extraction electrode projects toward the first extraction electrode can be maintained. For example, a configuration in which the first and second extraction electrodes are both frusto-conical and arranged in a nested manner is preferable. In these cases, it is highly preferable that the distance between the tip of the second ion extraction electrode and the tip of the skimmer cone be within 25 mm from the viewpoint of good control of plasma having a sufficient density.

【0017】上記説明は、以下の発明の実施形態につい
ての詳細な説明とともに添付図面を参照することによっ
て一層容易に理解することができる。
The above description can be understood more easily by referring to the accompanying drawings together with the following detailed description of embodiments of the present invention.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1に、本発明が適用される例示
的なICP-MS装置を、全体を100で概略的に示す。以下に
説明するように、このICP-MSは、イオン源である誘導結
合プラズマ(ICP)と、イオン化された試料を質量に関
して分離するための質量分析器(MS)と、両者の間のイ
ンタフェースとを有する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 schematically illustrates an exemplary ICP-MS apparatus to which the present invention is applied, generally at 100. As described below, the ICP-MS uses an inductively coupled plasma (ICP) as an ion source, a mass analyzer (MS) for separating ionized samples with respect to mass, and an interface between the two. Having.

【0019】図示の分析装置において、試料は溶液化さ
れ、まず試料採取システム110によってICPにつながる噴
霧段120へと供給される。即ち液体試料112はペリスタル
ティックポンプ111によって吸い上げられ、ネブライザ1
21からスプレーチャンバ122中へと、高圧のアルゴン(A
r)ガスを用いて噴霧されて試料エアロゾルを形成す
る。このエアロゾルはICPを含むイオン化部130中に吹き
込まれる。ICPを含むイオン化部は幾つかの同心状の石
英管で構成されるICPトーチ131を具備し、このトーチは
高周波(RF)コイル132の内部に配置される。RFコイル
によって作り出される高周波磁界はトーチを通過するAr
原子をイオン化し、高温のプラズマを形成し、維持す
る。試料エアロゾルは必要ならば脱溶媒装置を経た後に
プラズマ中に吹き込まれ、イオン化される。
In the analyzer shown, the sample is liquefied and first supplied by a sampling system 110 to a spray stage 120 which leads to the ICP. That is, the liquid sample 112 is sucked up by the peristaltic pump 111 and the nebulizer 1
From high pressure argon (A) into spray chamber 122 from 21
r) Spray with gas to form a sample aerosol. This aerosol is blown into the ionization section 130 containing ICP. The ionization section including the ICP comprises an ICP torch 131 composed of several concentric quartz tubes, which is located inside a radio frequency (RF) coil 132. The high frequency magnetic field created by the RF coil is Ar passing through the torch
Atoms are ionized, forming and maintaining a hot plasma. The sample aerosol is blown into the plasma after passing through a desolvation device if necessary, and is ionized.

【0020】インタフェース150は、質量分析器を含む
後続の高真空段から大気プラズマを分離するように、通
常のロータリポンプ(RP)によって通常200〜400Paの圧
力に維持される。試料イオンはプラズマから、サンプリ
ングコーン151のオリフィス152を通してインタフェース
へと引き出される。試料イオンは次いで、スキマーコー
ン153のオリフィス154を通り、インタフェースの後段を
形成する第1の引き出し電極156及び第2の引き出し電極1
57を介して、質量分析器へと移送される。なお158はイ
ンタフェースの圧力を測定する真空計である。
The interface 150 is maintained at a pressure of typically 200-400 Pa by a conventional rotary pump (RP) to separate the atmospheric plasma from the subsequent high vacuum stage containing the mass analyzer. Sample ions are extracted from the plasma through the orifice 152 of the sampling cone 151 to the interface. The sample ions then pass through the orifice 154 of the skimmer cone 153 and form the first extraction electrode 156 and the second extraction electrode 1 forming the later stage of the interface.
Via 57 it is transferred to the mass spectrometer. Reference numeral 158 denotes a vacuum gauge that measures the pressure of the interface.

【0021】質量分析器は、イオンレンズ領域160、質
量フィルタ領域170及び検出器領域180から構成される。
イオンレンズ領域160は、一連の静電イオンレンズを内
蔵した真空チャンバを含み、イオンビームを質量フィル
タ領域に向けて集束させる。これらのイオンレンズは例
えば、一連の集束レンズ162と、スキマーオリフィスと
軸をずらして取り付けられたステアリングレンズ(Ω形
偏光レンズ)163からなることができる。この中間の真
空チャンバは、ターボ分子ポンプ(TMP)及びロータリ
ポンプによって、通常は10-2Pa程度の圧力に排気され
る。質量フィルタ領域170及び検出器領域180はどちら
も、差動開口172によってこの中間の真空チャンバと分
離されている、別の真空チャンバ内に設けられている。
この真空チャンバは第2のターボ分子ポンプによって、
通常は10-4Pa程度の圧力に排気される。質量フィルタ領
域170は、4本の平行ロッドから構成される四重極質量分
析器171を具備し、これらのロッドには高周波及び直流
電圧が印加される。印加される高周波電圧と直流電圧の
特定の組合せに対して、分析器171は決まった質量/電
荷比のイオンだけを検出器へ通過させる。これによっ
て、例えば電子増倍管型検出器181である検出器によ
り、異なる元素のイオンを分離し、測定することが可能
になる。各質量のイオン信号は増幅された後、多チャン
ネルカウンタを用いて測定される。所与の質量(したが
って元素)の信号強度は、試料溶液中のその元素の濃度
に正比例することになる。
The mass analyzer comprises an ion lens region 160, a mass filter region 170 and a detector region 180.
The ion lens area 160 includes a vacuum chamber containing a series of electrostatic ion lenses and focuses the ion beam toward the mass filter area. These ion lenses may comprise, for example, a series of focusing lenses 162 and a steering lens (Ω-polarized lens) 163 mounted off-axis from the skimmer orifice. The intermediate vacuum chamber is evacuated to a pressure of usually about 10 -2 Pa by a turbo molecular pump (TMP) and a rotary pump. Both the mass filter region 170 and the detector region 180 are provided in separate vacuum chambers separated from this intermediate vacuum chamber by a differential aperture 172.
This vacuum chamber is powered by a second turbo-molecular pump.
Usually, it is exhausted to a pressure of about 10 -4 Pa. The mass filter region 170 comprises a quadrupole mass analyzer 171 composed of four parallel rods, to which high frequency and DC voltages are applied. For a particular combination of high frequency voltage and DC voltage applied, the analyzer 171 passes only ions of a fixed mass / charge ratio to the detector. This makes it possible to separate and measure ions of different elements by using, for example, a detector that is the electron multiplier tube type detector 181. After the ion signals of each mass are amplified, they are measured using a multi-channel counter. The signal intensity for a given mass (and therefore element) will be directly proportional to the concentration of that element in the sample solution.

【0022】図2は、本発明によるインタフェースの好
適な1実施例を示す。この例では、インタフェースはサ
ンプリングコーン151と、スキマーコーン153と、第1の
引き出し電極156と、第2の引き出し電極157とを備え
る。サンプリングコーン151及びスキマーコーン153は接
地されている。第1の引き出し電極156に印加される電位
は、10 V程度までの範囲内で可変なの正の電位と、-200
V程度までの範囲内で可変なの負の電位との間でスイッ
チSWにより切り換え可能であり、また第2の引き出し電
極157に印加される電位は、-200 V程度までの間の範囲
で調節される負の電位である。
FIG. 2 shows a preferred embodiment of the interface according to the present invention. In this example, the interface includes a sampling cone 151, a skimmer cone 153, a first extraction electrode 156, and a second extraction electrode 157. The sampling cone 151 and the skimmer cone 153 are grounded. The potential applied to the first extraction electrode 156 is a variable positive potential within a range of about 10 V,
It can be switched by a switch SW between a negative potential that is variable up to about V and the potential applied to the second extraction electrode 157 is adjusted within a range up to about -200 V. Negative potential.

【0023】第1のモードでは、第1の引き出し電極156
には例えば-160 V程度の負電圧が印加され、第2の引き
出し電極157には例えば-70 V程度の負電圧が印加され
る。この場合、プラズマPのイオン引き出し表面PSはス
キマーコーン153のオリフィスから第1の引き出し電極の
間に位置し、正の電荷を持つイオンのみがイオン引き出
し電極156、157に向けてビーム状に引き出されていく。
このようなモードは従来から周知である。第1のモード
との間で切り換え可能な第2のモードでは、第1の引き出
し電極156にはプラズマPの電位と実質的に同程度の、通
常は2〜3 V程度の正の電圧が印加される。これによって
プラズマPのイオン引き出し表面PS’は、第1の引き出し
電極156の近傍で位置調節可能となり、プラズマPが第1
の引き出し電極内へと実際に入り込むことを可能にす
る。他方、このモードでは第2の引き出し電極157は第1
の引き出し電極156に対して常に負となり、-200 V程度
までの間の適当な、例えば-150 V程度の電位とされる。
この第2の引き出し電極157に印加される電圧を制御する
ことによって、これに対面するプラズマ面又はイオン引
き出し表面PS’の形状を変化させ、被分析物イオンの検
出に対する制御を行うことができるようになる。
In the first mode, the first extraction electrode 156
Is applied with a negative voltage of, for example, about -160 V, and a negative voltage of, for example, about -70 V is applied to the second extraction electrode 157. In this case, the ion extraction surface PS of the plasma P is located between the orifice of the skimmer cone 153 and the first extraction electrode, and only ions having a positive charge are extracted in the form of a beam toward the ion extraction electrodes 156 and 157. To go.
Such a mode is conventionally known. In the second mode which can be switched between the first mode and the first mode, a positive voltage substantially equal to the potential of the plasma P, usually about 2 to 3 V is applied to the first extraction electrode 156. Is done. As a result, the position of the ion extraction surface PS ′ of the plasma P can be adjusted in the vicinity of the first extraction electrode 156.
Can actually enter the extraction electrode. On the other hand, in this mode, the second extraction electrode 157 is
Is always negative with respect to the extraction electrode 156, and is set to a suitable potential, for example, about -150 V, up to about -200 V.
By controlling the voltage applied to the second extraction electrode 157, it is possible to change the shape of the plasma surface or the ion extraction surface PS 'facing the second extraction electrode 157, and control the detection of analyte ions. become.

【0024】例えば第2の引き出し電極157に印加される
電圧の値によって、ICP-MS装置の被分析物に対する感度
は変化しうるが、第2のイオン引き出し電極に印加され
る負電圧を所定範囲内、例えば0〜-200 Vの間で掃引
し、これによる感度の変化を測定し、これに応じて検出
用電圧を決定することができる。またこの掃引につれ
て、被分析物のイオンの分離及び検出に対して試料マト
リックスが有する効果を測定し、この測定に応じて、例
えば最もマトリックス効果の少ないところに検出用電圧
を定めることができる。
For example, although the sensitivity of the ICP-MS apparatus to the analyte can change depending on the value of the voltage applied to the second extraction electrode 157, the negative voltage applied to the second ion extraction electrode is set to a predetermined range. Of these, for example, the voltage is swept between 0 to -200 V, the change in sensitivity due to the sweep is measured, and the detection voltage can be determined accordingly. During this sweep, the effect of the sample matrix on the separation and detection of ions of the analyte is measured, and the detection voltage can be determined in accordance with this measurement, for example, at a place where the matrix effect is least.

【0025】図3は、第1及び第2の引き出し電極のそれ
ぞれについて利用可能な、種々の電極形状を示す断面図
である。第1のイオン引き出し電極156は、図3(b)及び
図2に示す截頭円錐状の他、図3(a)のドーナツ盤状及
び(c)の円筒状などをとることができる。第2のイオン
引き出し電極157については、第1のイオン引き出し電極
156の内側に重なって配置されるのが好ましく、図2の截
頭円錐状の他、図3(d)に示すような周縁フランジを有
する円筒状が好ましく使用できる。但し図3(d)の場
合、前方に凸な形状を維持できるのであれば、周縁フラ
ンジは円筒の後端以外の位置にあってもよい。前述した
ように、プラズマに対する良好な制御という面から、第
2のイオン引き出し電極157の先端と、スキマーコーン15
3の先端の間の間隔が25 mm以内であるのが極めて好まし
い。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing various electrode shapes that can be used for each of the first and second extraction electrodes. The first ion extraction electrode 156 can have a donut shape shown in FIG. 3A, a cylindrical shape shown in FIG. 3C, or the like, in addition to the truncated cone shape shown in FIGS. For the second ion extraction electrode 157, the first ion extraction electrode
It is preferable to be disposed so as to overlap the inside of 156. In addition to the frusto-conical shape shown in FIG. 2, a cylindrical shape having a peripheral flange as shown in FIG. However, in the case of FIG. 3 (d), the peripheral flange may be located at a position other than the rear end of the cylinder as long as it can maintain a forwardly convex shape. As mentioned above, in terms of good control over the plasma,
(2) The tip of the ion extraction electrode 157 and the skimmer cone 15
It is highly preferred that the spacing between the three tips is within 25 mm.

【0026】[0026]

【実施例】横河アナリティカルシステムズ株式会社及び
米国カリフォルニア州パロアルトのアジレント・テクノ
ロジーズ・インクより入手可能なICP-MS装置モデルHP45
00を改造し、図2に示すように、スイッチSWの切り換え
によって第1の引き出し電極に対してプラズマとほぼ同
電位の2〜3 Vを印加可能なようにした。また第2の引き
出し電極に対して加えられる電圧が、0〜200 Vの範囲内
で可変的に印加できるようにした。 実験例1 リチウム、バナジウム、イットリウム、インジウム、セ
リウム、タリウム、ビスマス及びウランを含有する溶液
について、セシウムによるマトリックス効果を測定する
ために、マトリックス濃度がそれぞれ0 ppm、0.01 pp
m、0.1 ppm、1 ppm、10 ppm、100 ppm及び1000 ppmのサ
ンプル溶液を調製した。通常のモード(第1の引き出し
電極の電位-160 V、第2の引き出し電極の電位-70 V)に
おいて、セシウムが0 ppmの溶液に対する相対感度を測
定したところ、マトリックス濃度が100 ppm及び1000 pp
mの場合に減感及び増感が大きく、相対感度は約0.6〜1.
25程度の範囲内でばらついた。この結果を表1に示す。
また他の動作条件は次の通りであった。
[Example] ICP-MS model HP45 available from Yokogawa Analytical Systems, Inc. and Agilent Technologies, Inc. of Palo Alto, California, USA
As shown in FIG. 2, 00 was modified so that 2-3 V having almost the same potential as the plasma could be applied to the first extraction electrode by switching the switch SW. Further, the voltage applied to the second extraction electrode can be variably applied within the range of 0 to 200 V. Experimental Example 1 For a solution containing lithium, vanadium, yttrium, indium, cerium, thallium, bismuth and uranium, the matrix concentrations were 0 ppm and 0.01 pp, respectively, to measure the matrix effect due to cesium.
Sample solutions of m, 0.1 ppm, 1 ppm, 10 ppm, 100 ppm and 1000 ppm were prepared. In a normal mode (potential of the first extraction electrode -160 V, potential of the second extraction electrode -70 V), the relative sensitivity to a solution containing 0 ppm of cesium was measured, and the matrix concentration was 100 ppm and 1000 pp.
In the case of m, desensitization and sensitization are large, and the relative sensitivity is about 0.6 to 1.
It varied within the range of about 25. Table 1 shows the results.
Other operating conditions were as follows.

【0027】 ICP高周波電力 1.6 kW キャリヤーガス流量 1.4 リットル/分 サンプリング深さ 8 mmICP high frequency power 1.6 kW Carrier gas flow 1.4 liter / min Sampling depth 8 mm

【0028】[0028]

【表1】 【table 1】

【0029】実験例2 次いで、リチウム、イットリウム及びタリウムを含有す
る溶液について、セシウムのマトリックス濃度を0 ppm
及び1000 ppmとしたサンプル溶液を調製し、第1の引き
出し電極の電位を4 Vに切り換えてプラズマ電位と実質
的に同じとし、第2の引き出し電極に印加される電圧を0
から-200 Vの範囲で掃引して、マトリックスがない場合
のICP-MS装置の感度と、これに対するマトリックス1000
ppmの溶液についての相対的な検出感度を測定した。結
果を表2及び表3に示す。
Experimental Example 2 Next, with respect to a solution containing lithium, yttrium and thallium, the cesium matrix concentration was reduced to 0 ppm.
And a sample solution having a concentration of 1000 ppm was prepared, and the potential of the first extraction electrode was switched to 4 V to be substantially the same as the plasma potential, and the voltage applied to the second extraction electrode was set to 0.
Of the ICP-MS instrument in the absence of matrix, swept from -200 V to
The relative detection sensitivity for the ppm solution was determined. The results are shown in Tables 2 and 3.

【0030】[0030]

【表2】 [Table 2]

【0031】[0031]

【表3】 [Table 3]

【0032】表2に示されるように、このモードでは第2
の引き出し電極に対して-40〜-60 V程度の負電圧を印加
した場合が感度が最も高い。しかしながら、表3から明
らかなように、セシウムのマトリックス効果により、第
2の引き出し電極に対して-20〜-60 V程度の負電圧を印
加した場合、相対感度は0.6〜0.8程度に低下する。 実験例3 そこで第2の引き出し電極に対して印加する電圧として-
150 Vを選び、実験例1と同様のサンプル溶液について同
様の測定を行った。結果を表4に示す。この場合は、セ
シウムのマトリックス濃度が高い場合においても、相対
感度は0.25程度の振幅内に収まっており、表1に示した
場合に対して減感及び増感に対する顕著な効果が見られ
る。また、例外はあるものの、相対感度の推移も元素ご
とにほぼ一定している。
As shown in Table 2, in this mode, the second
The highest sensitivity is obtained when a negative voltage of about -40 to -60 V is applied to the extraction electrode. However, as is clear from Table 3, due to the matrix effect of cesium,
When a negative voltage of about -20 to -60 V is applied to the second extraction electrode, the relative sensitivity is reduced to about 0.6 to 0.8. Experimental Example 3 Therefore, the voltage applied to the second extraction electrode was
150 V was selected, and the same measurement was performed for the same sample solution as in Experimental Example 1. Table 4 shows the results. In this case, even when the cesium matrix concentration is high, the relative sensitivity is within an amplitude of about 0.25, and a remarkable effect on desensitization and sensitization is seen from the case shown in Table 1. Also, with some exceptions, the change in relative sensitivity is almost constant for each element.

【0033】[0033]

【表4】 [Table 4]

【0034】[0034]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
はICP-MSのインタフェースに印加される電圧の制御を介
して、イオン引き出し表面の位置及び形状を制御するこ
とを通じて、ICP-MSによる測定性能を改善するための非
常に拡張性のある技術を提供するものである。本明細書
において用いられた用語及び表現は記載のための術語と
して使用されたものであって限定のためのものではな
く、こうした用語及び表現を用いるについては、図示し
記載した特徴又はその部分に均等な何物をも排除する意
図はない。むしろ、特許請求の範囲に記載された発明の
範囲内において、種々の変更が可能であることが認識さ
れるものである。例えば、実施例においては本発明を、
マトリックスイオンとしてセシウムを例にとって特に具
体的に説明したが、当業者であれば、測定を行う用途に
応じて適切なマトリックスを適宜選択可能であり、この
ような応用態様は全て本発明の範囲内に包含されるもの
である。
As is apparent from the above description, the present invention provides a method for controlling the position and shape of the ion extraction surface by controlling the voltage applied to the interface of the ICP-MS. It provides a very scalable technique for improving measurement performance. The terms and expressions used herein are used as terms for description and not for purposes of limitation, and the use of such terms and expressions is not limited to the illustrated or described features or parts thereof. There is no intention to exclude anything equivalent. Rather, it will be appreciated that various modifications are possible within the scope of the claimed invention. For example, in embodiments, the present invention
Although cesium has been particularly specifically described as an example of a matrix ion, a person skilled in the art can appropriately select an appropriate matrix according to the purpose of performing the measurement, and all such application aspects are within the scope of the present invention. Is included.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用可能な例示的なICP-MS装置を概略
的に示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing an exemplary ICP-MS device to which the present invention can be applied.

【図2】本発明の1つの例示的な実施形態による、第1及
び第2の引き出し電極に対する印加電圧の制御を示す例
示的な模式図である。
FIG. 2 is an exemplary schematic diagram illustrating control of applied voltage to first and second extraction electrodes according to one exemplary embodiment of the present invention.

【図3】(a)から(d)は、本発明に用いられる第1及び
第2の引き出し電極がとりうる、種々の形態を例示的に
示す断面図である。
FIGS. 3A to 3D are cross-sectional views exemplarily showing various forms that can be taken by first and second extraction electrodes used in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 ICP-MS装置 110 試料採取システム 120 噴霧段 130 イオン化部 150 インタフェース 151 サンプリングコーン 153 スキマーコーン 156 第1の引き出し電極 157 第2の引き出し電極 160 イオンレンズ領域 170 質量フィルタ領域 180 検出器領域 100 ICP-MS device 110 Sampling system 120 Spray stage 130 Ionization section 150 Interface 151 Sampling cone 153 Skimmer cone 156 First extraction electrode 157 Second extraction electrode 160 Ion lens area 170 Mass filter area 180 Detector area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山中 一夫 東京都武蔵野市中町一丁目15番5号 三鷹 高木ビル 横河アナリティカルシステムズ 株式会社内 Fターム(参考) 5C038 GG09 GH11 GH13 GH15 JJ02 JJ11  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Kazuo Yamanaka 1-15-5 Nakamachi, Musashino-shi, Tokyo Mitaka Takagi Building Yokogawa Analytical Systems Co., Ltd. F-term (reference) 5C038 GG09 GH11 GH13 GH15 JJ02 JJ11

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラズマを発生するための手段と、 試料を前記プラズマに導入して被分析物のイオンを形成
するための手段と、 前記被分析物のイオンを前記プラズマから取り入れるた
めの、スキマーコーンを含むインタフェース手段と、 取り入れられた前記被分析物のイオンを移送するための
イオンレンズ手段と、及び移送された前記被分析物のイ
オンを分離及び検出するための測定手段とからなる誘導
結合プラズマ質量分析装置であって、 前記インタフェース手段が前記スキマーコーンの背後に
順次配置される第1及び第2のイオン引き出し電極を少な
くとも含み、 前記第1のイオン引き出し電極に正及び負の間で切り換
え可能な電圧が印加され、及び前記第2のイオン引き出
し電極に負の電圧が印加されることを特徴とする誘導結
合プラズマ質量分析装置。
A means for generating a plasma; a means for introducing a sample into the plasma to form ions of an analyte; and a skimmer for introducing ions of the analyte from the plasma. Inductive coupling comprising interface means including a cone, ion lens means for transporting the introduced analyte ions, and measurement means for separating and detecting the transferred analyte ions. A plasma mass spectrometer, wherein the interface means includes at least first and second ion extraction electrodes sequentially arranged behind the skimmer cone, and switches between the positive and negative ion extraction electrodes. Inductively coupled plasma, wherein a possible voltage is applied and a negative voltage is applied to the second ion extraction electrode The amount analyzer.
【請求項2】 前記正に切り換えられた電圧が前記プラ
ズマの電位と実質的に同じである、請求項1の誘導結合
プラズマ質量分析装置。
2. The inductively coupled plasma mass spectrometer of claim 1, wherein the positively switched voltage is substantially the same as a potential of the plasma.
【請求項3】 前記第1のイオン引き出し電極がドーナツ
盤状、円筒状又は截頭円錐状である、請求項1又は2の誘
導結合プラズマ質量分析装置。
3. The inductively coupled plasma mass spectrometer according to claim 1, wherein the first ion extraction electrode has a donut disk shape, a cylindrical shape, or a truncated cone shape.
【請求項4】 前記第2のイオン引き出し電極が截頭円錐
状又は周縁フランジを有する円筒状で、前記第1のイオ
ン引き出し電極の内側に重なって配置されている、請求
項1から3の何れか1の誘導結合プラズマ質量分析装置。
4. The method according to claim 1, wherein the second ion extraction electrode has a truncated conical shape or a cylindrical shape having a peripheral flange, and is disposed inside the first ion extraction electrode. Or 1 inductively coupled plasma mass spectrometer.
【請求項5】 前記第2のイオン引き出し電極の先端と前
記スキマーコーンの先端の間の間隔が25 mm以内であ
る、請求項1から4の何れか1の誘導結合プラズマ質量分
析装置。
5. The inductively coupled plasma mass spectrometer according to claim 1, wherein a distance between a tip of the second ion extraction electrode and a tip of the skimmer cone is within 25 mm.
【請求項6】 誘導結合プラズマ質量分析方法であっ
て、 プラズマを発生させるステップと、 試料を前記プラズマに導入して被分析物のイオンを形成
するステップと、 前記被分析物のイオンをインタフェース手段を介して前
記プラズマから取り入れるステップと、 取り入れられた前記被分析物のイオンをイオンレンズ手
段を介して移送するステップと、及び移送された前記被
分析物のイオンを分離及び検出するステップとからな
り、前記インタフェース手段が順次配置される第1及び
第2のイオン引き出し電極を少なくとも含むものにおい
て、 前記第1のイオン引き出し電極に前記プラズマとほぼ同
じ第1の電圧を印加するステップと、及び前記第2のイオ
ン引き出し電極に前記第1の電圧より低い第2の電圧を印
加するステップとをさらに含むことを特徴とする、誘導
結合プラズマ質量分析方法。
6. An inductively coupled plasma mass spectrometry method, comprising: generating a plasma; introducing a sample into the plasma to form ions of the analyte; and interfacing the ions of the analyte with the interface. Taking the ions of the analyte through the ion lens means, and separating and detecting the transferred ions of the analyte. Wherein the interface means includes at least a first and a second ion extraction electrode sequentially arranged, wherein applying a first voltage substantially equal to the plasma to the first ion extraction electrode; and Applying a second voltage lower than the first voltage to the second ion extraction electrode. Wherein, inductively coupled plasma mass spectrometry.
【請求項7】 誘導結合プラズマ質量分析方法であっ
て、 プラズマを発生させるステップと、 試料を前記プラズマに導入して被分析物のイオンを形成
するステップと、 前記被分析物のイオンをインタフェース手段を介して前
記プラズマから取り入れるステップと、 取り入れられた前記被分析物のイオンをイオンレンズ手
段を介して移送するステップと、及び移送された前記被
分析物のイオンを分離及び検出するステップとからな
り、前記インタフェース手段が順次配置される第1及び
第2のイオン引き出し電極を少なくとも含むものにおい
て、 前記第1のイオン引き出し電極に第1の電圧を印加して、
前記プラズマを前記インタフェース手段内部に入り込ま
せ、その位置を前記第1のイオン引き出し電極に対して
調節するステップと、及び前記第2のイオン引き出し電
極に前記第1の電圧より低い第2の電圧を印加して、前記
インタフェース手段の内部での、前記第2のイオン引き
出し電極に対面する前記プラズマの表面形状を調節する
ステップとをさらに含むことを特徴とする、誘導結合プ
ラズマ質量分析方法。
7. An inductively coupled plasma mass spectrometry method, comprising: generating a plasma; introducing a sample into the plasma to form ions of an analyte; and interfacing the ions of the analyte with ions. Taking the ions of the analyte through the ion lens means, and separating and detecting the transferred ions of the analyte. Wherein the interface means includes at least a first and a second ion extraction electrode arranged sequentially, applying a first voltage to the first ion extraction electrode,
Allowing the plasma to enter the interface means and adjusting its position with respect to the first ion extraction electrode, and applying a second voltage lower than the first voltage to the second ion extraction electrode. Adjusting the surface shape of said plasma facing said second ion extraction electrode inside said interface means.
【請求項8】 前記位置の調節が、前記第1のイオン引き
出し電極を前記インタフェース手段の内部で前記プラズ
マと電位的に一体化させるように行われる、請求項7の
誘導結合プラズマ質量分析方法。
8. The inductively coupled plasma mass spectrometry method according to claim 7, wherein the adjustment of the position is performed so as to electrically integrate the first ion extraction electrode with the plasma inside the interface means.
【請求項9】 前記第2のイオン引き出し電極に印加され
る前記第2の電圧を所定範囲内で掃引し、前記被分析物
のイオンの分離及び検出に対するマトリックス効果を測
定するステップをさらに含み、この測定に応じて前記第
2の電圧を決定する、請求項7又は8の誘導結合プラズマ
質量分析方法。
9. The method further comprising: sweeping the second voltage applied to the second ion extraction electrode within a predetermined range, and measuring a matrix effect on separation and detection of ions of the analyte, According to this measurement,
9. The inductively coupled plasma mass spectrometry method according to claim 7, wherein the voltage of (2) is determined.
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