JP2001184624A - Glass ceramic substrate for information recording medium - Google Patents

Glass ceramic substrate for information recording medium

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JP2001184624A
JP2001184624A JP37053199A JP37053199A JP2001184624A JP 2001184624 A JP2001184624 A JP 2001184624A JP 37053199 A JP37053199 A JP 37053199A JP 37053199 A JP37053199 A JP 37053199A JP 2001184624 A JP2001184624 A JP 2001184624A
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glass
ceramic substrate
storage medium
information storage
medium according
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JP37053199A
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Japanese (ja)
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Naoyuki Goto
直雪 後藤
Tamako Kataoka
珠子 片岡
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Ohara Inc
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Ohara Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass ceramic substrate for an information memory medium in which decrease in the magnetic characteristics of a recording medium due to alkali elution or defects due to alkali corrosion are significantly decreased, which has a ultrasmooth surface so as to respond an increase in the memory capacity of the information memory medium and the lower floating height or the contact state of a magnetic head, and moreover, which realizes faster rotation of the information transmission rate and higher mechanical strength for mobile use, and to provide a magnetic information memory medium produced by forming a magnetic medium film on that glass ceramic substrate. SOLUTION: The glass ceramic substrate for an information memory medium contains lithium disilicate (Li2O.2SiO2) as the main crystal phase and has 4 to 8% content of Li2O calculated as the mass of oxides.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、情報記憶装置に用
いられる基板であり、特にニアコンタクトレコーディン
グやコンタクトレコーディング方式に好適な超平滑な基
板表面を有し、高速回転対応の高ヤング率と低比重特性
を備え、機械的特性が良好でかつ、ドライブ構成部材に
合致する熱膨張特性を兼ね備えた、情報記憶媒体用ガラ
スセラミックス基板およびその製造方法ならびにこの情
報記憶媒体用基板に成膜プロセスを施し形成される情報
記憶媒体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate used in an information storage device, and more particularly to a substrate having an ultra-smooth substrate surface suitable for near-contact recording and contact recording, and having a high Young's modulus and a low A glass ceramic substrate for an information storage medium, a method for manufacturing the same, and a film formation process for the information storage medium substrate, which have specific gravity characteristics, good mechanical characteristics, and also have a thermal expansion characteristic matching a drive component. It relates to an information storage medium to be formed.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータのマルチ
メディア化やデジタルビデオカメラ、デジタルカメラ等
の普及によって、動画や音声等のデータが扱われるよう
になり、高記憶密度化の情報記憶装置の需要が大きく伸
びてきている。そのため情報記憶媒体は、記録密度を大
きくするために、ビットおよびトラック密度を増加さ
せ、ビットセルのサイズを縮小化する必要がある。そし
てヘッドは、ビットセルの縮小化に伴って、情報記憶媒
体表面により近接した状態で作動するようになる。この
ようにヘッドが情報記憶媒体基板に対し、低浮上状態
(ニアコンタクト)または接触状態(コンタクト)にて
作動する場合、基板表面は超平滑性が重要となる。更
に、従来のランディングゾーン技術に対抗して、磁気ヘ
ッドを完全に接触させ、ヘッドの始動停止を情報磁気記
憶媒体基板上から外す、ランプロード技術も開発されて
おり、情報磁気記憶媒体基板表面への要求は、よりスム
ーズへという方向となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the use of multimedia in personal computers and the spread of digital video cameras, digital cameras, and the like, data such as moving images and audio have been handled, and the demand for information storage devices with high storage density has increased. It is growing. Therefore, in order to increase the recording density of the information storage medium, it is necessary to increase the bit and track densities and to reduce the size of the bit cells. The head operates in a state closer to the surface of the information storage medium as the bit cells are reduced in size. As described above, when the head operates in a low flying state (near contact) or a contact state (contact) with respect to the information storage medium substrate, super smoothness of the substrate surface is important. Furthermore, in contrast to the conventional landing zone technology, a ramp load technology has been developed in which the magnetic head is brought into complete contact and the start and stop of the head is removed from the information magnetic storage medium substrate. Is moving toward a smoother direction.

【0003】更に、情報容量の増大化に伴い、今日、磁
気記憶装置の情報磁気記憶媒体基板を高速回転化する事
で情報転送速度の高速化を計る技術開発が進んでいる
が、基板の回転数が高速化する事で、たわみや変形が発
生するために、基板材には高ヤング率化、低比重化が要
求されている。さらに磁性膜の微細化、高精度化に伴い
基板材から溶出するアルカリ成分(Li、Na、K)に
ついてもより低減化が要求されている。加えて、現在の
固定型情報磁気記憶装置に対し、リムーバブル方式やカ
ード方式等の情報磁気記憶装置が検討・実用化段階にあ
り、デジタルビデオカメラ、デジタルカメラ等への用途
展開も始まりつつある。このため特にモバイル用として
の用途においては、基板自体の機械的強度も重要な要素
となる。
[0003] Furthermore, with the increase in information capacity, technology has been developed to increase the information transfer speed by increasing the speed of the information magnetic storage medium substrate of the magnetic storage device today. As the number increases, deflection and deformation occur, so that the substrate material is required to have a high Young's modulus and a low specific gravity. Further, with the miniaturization and higher precision of the magnetic film, further reduction of the alkali components (Li, Na, K) eluted from the substrate material is required. In addition, information magnetic storage devices such as a removable type and a card type are now being studied and put into practical use with respect to the current fixed type information magnetic storage device, and applications to digital video cameras, digital cameras and the like are beginning to be developed. For this reason, especially in mobile applications, the mechanical strength of the substrate itself is also an important factor.

【0004】更にこれらの情報記憶媒体については、モ
バイル用(APSカメラ、携帯電話、デジタルカメラ、
デジタルビデオカメラ、カードドライブ)、デスクトッ
プPC用(ハードディスクドライブ)、サーバー用(ハ
ードディスクドライブ)、新規高記録密度媒体用(垂直
磁気記憶媒体、アイランド磁気記憶媒体、半導体メモリ
ー用記憶媒体)等の用途展開も始まりつつあり、これら
の新規用途への展開も含めて、基板に求められる特性は
より多様で高度になっている。
[0004] Further, regarding these information storage media, mobile information (APS cameras, mobile phones, digital cameras,
Applications such as digital video cameras, card drives), desktop PCs (hard disk drives), servers (hard disk drives), new high-density media (perpendicular magnetic storage media, island magnetic storage media, storage media for semiconductor memory), etc. The characteristics required for the substrate, including the development for these new applications, are becoming more diverse and sophisticated.

【0005】しかもこれら情報記憶媒体においては高密
度化における表面平滑度の他に、基板からのアルカリ溶
出を原因とする、(a)記憶媒体の磁気特性低下(アル
カリ成分が記憶媒体中に拡散し、媒体の磁気特性を低下
させる)、(b)基板表面へのディフェクトの付着(溶
出したアルカリ成分が記録媒体表面にまで拡散しこれが
化合物となり、異物として表面に付着した状態とな
る)、(c)記録とびの問題等の基本的な問題をクリア
していなければならない。
In addition, in these information storage media, in addition to the surface smoothness in high density, the elution of alkali from the substrate causes (a) a decrease in the magnetic properties of the storage medium (the alkali component is diffused into the storage medium. (B) Deterioration of the magnetic properties of the medium), (b) Attachment of defects to the substrate surface (the eluted alkali component diffuses to the surface of the recording medium and becomes a compound, which is attached to the surface as foreign matter), (c) ) Basic problems such as recording skipping problems must be cleared.

【0006】前記の現象について更に詳しく述べる。ま
ず、アルカリ溶出現象についてであるが、結晶相の構成
成分としてアルカリ成分を必要とするガラスセラミック
スを製造する場合、原ガラスのアルカリ成分の濃度は、
結晶相に必要とされる化学量論的な量よりも多く必要で
あり、結晶化後は、ガラスマトリックス相に消費されな
かったこれらアルカリ成分が残留している。これが
(i)成膜の際に記録媒体へ熱拡散し、記録媒体の成分
と化合物(例えばCrとの化合物等)を生成し、記録媒
体の磁気特性を低下させてしまったり、(ii)記録媒
体表面へ経時的に拡散し、表面で水分や炭酸ガスと化合
して水酸化物や炭酸化物を生成し、この化合物が表面の
異物となって、表面欠陥や記録飛びの原因となる。
The above phenomenon will be described in more detail. First, regarding the alkali elution phenomenon, when producing glass ceramics requiring an alkali component as a component of the crystal phase, the concentration of the alkali component of the raw glass is
These alkali components are required in a larger amount than the stoichiometric amount required for the crystal phase, and after crystallization, these alkali components which are not consumed in the glass matrix phase remain. This causes (i) thermal diffusion into the recording medium during film formation to generate a component of the recording medium and a compound (for example, a compound with Cr), thereby deteriorating the magnetic properties of the recording medium, or (ii) recording. The compound diffuses over time to the surface of the medium and combines with water or carbon dioxide gas to form a hydroxide or a carbonate. This compound becomes a foreign substance on the surface and causes surface defects and recording skip.

【0007】以上のように、記録密度が飛躍的に向上し
ている昨今においては、前記問題点が記録密度向上の妨
げの要因の一つとなりつつあり、したがって、よりアル
カリ溶出の少ない基板が強く求められている。
As described above, in recent years where the recording density has been dramatically improved, the above problem is becoming one of the factors which hinder the improvement of the recording density. It has been demanded.

【0008】磁気記録媒体用基板としては、アルミニウ
ム合金等が従来使用されてきたが、アルミニウム合金基
板では、種々の材料欠陥の影響により、研磨工程におけ
る基板表面の突起またはスポット状の凹凸を生じ平滑性
の点で前記の高密度記憶媒体用基板として十分でない。
またアルミニウム合金は軟かい材料で、ヤング率、表面
硬度が低いため、ドライブの高速回転において振動が激
しく変形が生じやすいということや、薄形化に対応する
ことが難しいという欠点を有している。更にヘッドの接
触による変形傷を生じメディアを損傷させてしまったり
高速回転化に対する変形等、今日の高密度記録化の要求
に十分対応できない。
As a substrate for a magnetic recording medium, an aluminum alloy or the like has been conventionally used. However, in the case of an aluminum alloy substrate, projections or spot-like irregularities are formed on the substrate surface in the polishing step due to various material defects. In terms of properties, it is not sufficient as the substrate for the high-density storage medium.
In addition, aluminum alloy is a soft material and has low Young's modulus and low surface hardness, so it has the drawback that it is easily vibrated and deformed at high speed rotation of the drive, and it is difficult to cope with thinning. . Furthermore, it cannot sufficiently meet today's demands for high-density recording, such as deformation due to contact of the head, causing damage to the medium and deformation due to high-speed rotation.

【0009】この様な急速な高密度化傾向に伴って、最
近はアルミニウム合金に代わり、強度の点で有利で高密
度化に適した磁気ディスク基板材料として、化学強化処
理を施したアルミノシリケートガラス(SiO2−Al2
3−Na2O)や各種ガラスセラミックスが用いられて
いる。アルミノシリケートガラスの場合、(A)研磨は
化学強化後に行なわれ、ディスクの薄板化における強化
層の不安定要素が高い、(B)化学強化を施すため、基
板自身の組成としてのアルカリ含有率が大きくなり、ア
ルカリコロージョンの問題が起き易い。すなわち、ガラ
ス表面層に多量のNa2O成分を必須成分として含有す
るため、成膜特性が悪化し、Na2O溶出防止のための
エッチング処理や全面バリアコート処理が必要となり、
基板の微少うねり等の問題等、製品の低コスト安定生産
性が難しい欠点がある、という欠点を有している。
With the rapid trend toward higher densification, recently, aluminosilicate glass which has been subjected to chemical strengthening treatment has been used instead of aluminum alloy as a magnetic disk substrate material which is advantageous in strength and suitable for high density. (SiO 2 —Al 2
O 3 -Na 2 O) various glass ceramics is used. In the case of aluminosilicate glass, (A) polishing is performed after chemical strengthening, and the unstable element of the strengthening layer in thinning the disk is high. (B) Since the chemical strengthening is performed, the alkali content as the composition of the substrate itself is reduced. And the problem of alkali corrosion is likely to occur. That is, since a large amount of Na 2 O component is contained as an essential component in the glass surface layer, the film forming characteristics are deteriorated, and an etching process or a barrier coating process for preventing Na 2 O elution is required.
There is a disadvantage that it is difficult to stably produce a product at low cost, such as a problem such as minute undulation of a substrate.

【0010】これに対し、アルカリ溶出の少ない基板材
料としてガラスセラミックスが挙げられる。例えば、特
開平6−329440号公報記載のSiO2−Li2O−
MgO−P25系ガラスセラミックスは、主結晶相とし
て二珪酸リチウム(Li2O・2SiO2)およびα−ク
ォーツ(α−SiO2)を有し、α−クォーツ(α−S
iO2)の球状粒子サイズをコントロールする事で、従
来のメカニカルテクスチャ,ケミカルテクスチャを不用
とし、研磨して成る表面粗度(Ra)を15〜50Åの
範囲で制御を可能とした、基板表面全面テクスチャ材と
して非常に優れた材料であり、特開平10−45429
6号公報記載のSiO2−Li2O−K2O―MgO−Z
nO―P25―Al23系または、SiO2−Li2O−
2O―MgO−ZnO―P25―Al23―ZrO2
ガラスセラミックスは、主結晶相として二珪酸リチウム
(Li2O・2SiO2)、二珪酸リチウム及びα−クォ
ーツ(α−SiO2)の混晶、または二珪酸リチウム及
びα−クリストバライト(α−SiO2)の混晶の少な
くとも一種以上であることを特徴とした、レーザーテク
スチャー用ガラスセラミックスであり、特開平9−35
234号公報記載のガラスセラミックス基板は、SiO
2−Al23−Li2O系ガラスにおいて、主結晶相が二
珪酸リチウム(Li2O・2SiO2)とβ−スポジュー
メン(Li 2O・Al23・4SiO2)からなる磁気デ
ィスク用基板であり、国際公開番号WO97/0116
4公報記載のガラスセラミックス基板は、上記特開平9
−35234号公報を含み、新たに上記組成系の結晶化
熱処理を低温化(680〜770℃)し、β−ユークリ
プタイト(Li2O・Al23・2SiO2)を析出させ
るものである。
On the other hand, a substrate material with less alkali elution
Glass ceramics may be used as a material. For example,
SiO described in JP-A-6-329440Two−LiTwoO-
MgO-PTwoOFiveSeries glass ceramics
Lithium disilicate (LiTwoO.2SiOTwo) And α-q
Quartz (α-SiOTwo) And α-quartz (α-S
iOTwo) By controlling the spherical particle size
No need for conventional mechanical or chemical textures
And the surface roughness (Ra) obtained by polishing is 15 to 50 °.
With a texture material on the entire surface of the substrate that enables control in a range
And a very excellent material.
No. 6 publication SiOTwo−LiTwoOKTwoO-MgO-Z
nO-PTwoOFive―AlTwoOThreeSystem or SiOTwo−LiTwoO-
KTwoO-MgO-ZnO-PTwoOFive―AlTwoOThree―ZrOTwosystem
Glass ceramics use lithium disilicate as the main crystal phase.
(LiTwoO.2SiOTwo), Lithium disilicate and α-quo
Arts (α-SiOTwo) Mixed crystal or lithium disilicate and
And α-cristobalite (α-SiOTwo) Low mixed crystal
Laser technology characterized by at least one kind
Glass ceramics for sture, as disclosed in JP-A-9-35
No. 234, the glass ceramic substrate is made of SiO.
Two-AlTwoOThree−LiTwoIn O-based glass, the main crystal phase
Lithium silicate (LiTwoO.2SiOTwo) And β-spodjoux
Men (Li TwoO ・ AlTwoOThree・ 4SiOTwo)
A disc substrate, which has the international publication number WO97 / 0116.
The glass ceramic substrate described in Japanese Patent Application Laid-Open No.
Patent No. 35234, and new crystallization of the above composition system
Lower the heat treatment (680-770 ° C)
Putite (LiTwoO ・ AlTwoOThree・ 2SiOTwo) Is deposited
Things.

【0011】しかし、これらガラスセラミックス基板
は、化学強化されたアモルファスガラスと比較してアル
カリ溶出が少ないものの、それでもアルカリ溶出を発生
し、近年における著しい記録媒体の高密度化傾向におい
ては、例えこれらのガラスセラミックス基板であって
も、アルカリ溶出に起因する「記憶媒体の磁気特性低
下」「基板表面へのディフェクトの付着」「記録とびの
問題」等が問題となりつつある。しかし、これらガラス
セラミックス基板については、アルカリ溶出に対する改
善についての言及が一切なされておらず、また後述の結
晶粒子径、結晶化度、ヤング率・比重等の機械的強度に
対する議論がまったくなされていない。特に特開平9−
35234号公報および国際公開番号WO97/011
64公報記載のガラスセラミックス基板は、主結晶相が
負の熱膨張特性(結果として基板は低膨張特性となる)
を有するβ−スポジューメン(Li2O・Al23・4
SiO2)であり、α−石英(α−SiO2)やα−クリ
ストバライト(α−SiO2)結晶等SiO2系の正の熱
膨張特性(結果として基板は高膨張特性となる)を有す
る結晶の析出を規制したものであるが、主結晶として負
の熱膨張特性を有する結晶を析出させた材料は、情報記
憶媒体装置の構成部品との熱膨張率差に関して悪影響を
与える事は明白である。そして特開平9−35234号
公報は磁気ディスクとしての研磨して成る表面粗度Ra
(算術平均粗さ)は、20Å以下であるが、実施例で開
示される表面粗度Ra(算術平均粗さ)は12〜17Å
と、上記要求に対してはまだ粗く、記憶容量向上に伴う
磁気ヘッドの低浮上化に十分対応することができない。
また、結晶化熱処理温度に関しても820〜920℃と
高温を必要とし、低コスト、量産性を妨げるものである
However, although these glass-ceramic substrates have less alkali elution than the chemically strengthened amorphous glass, alkali elution still occurs. Even with glass ceramic substrates, problems such as "deterioration of magnetic properties of the storage medium", "attachment of defects to the substrate surface", and "problem of skipping over recording" due to alkali elution are becoming problems. However, with respect to these glass-ceramic substrates, no mention is made of any improvement with respect to alkali elution, and no discussion is made on mechanical strength such as crystal particle diameter, crystallinity, Young's modulus and specific gravity described below. . In particular, JP-A-9-
No. 35234 and International Publication No. WO 97/011
The glass-ceramic substrate described in Japanese Patent Publication No. 64 has a negative thermal expansion characteristic in the main crystal phase (the substrate has low expansion characteristics).
Β-spodumene (Li 2 O.Al 2 O 3 .4
An SiO 2), crystals with α- quartz (alpha-SiO 2) and α- cristobalite (alpha-SiO 2) crystals or the like positive thermal expansion properties of the SiO 2 system (resulting substrate becomes high expansion characteristic) It is clear that the material in which a crystal having a negative thermal expansion characteristic is precipitated as a main crystal has a negative effect on the difference in thermal expansion coefficient with the components of the information storage medium device. . Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-35234 discloses a magnetic disk having a polished surface roughness Ra.
(Arithmetic average roughness) is 20 ° or less, but the surface roughness Ra (arithmetic average roughness) disclosed in Examples is 12 to 17 °.
However, the above requirements are still rough, and it is not possible to sufficiently cope with the low flying height of the magnetic head accompanying the improvement of the storage capacity.
In addition, the crystallization heat treatment temperature requires a high temperature of 820 to 920 ° C., which hinders low cost and mass productivity.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、前記
のように「高記憶密度化に伴い、ビットセルのサイズ
を縮小化する必要がある。そしてヘッドは、ビットセル
の縮小化に伴って、情報記憶媒体表面により近接した状
態で作動するようになる。このようにヘッドが情報記憶
媒体基板に対し、低浮上状態(ニアコンタクト)または
接触状態(コンタクト)にて作動する場合、基板表面の
超平滑性は表面粗度Ra(算術平均粗さ)が5.0Å以
下、より好ましくは3.0Å以下、さらに好ましくは
2.0Å以下と原子レベルの超平滑性が求められる。」
「超平滑性化に伴い、基板内部の結晶粒子は原子レベ
ルの精密研磨に耐え得るために、超精密研磨にて派生す
る化学的耐久性、物理的特性に耐え得る結晶の種類と結
晶粒子径、結晶粒子形状、結晶化度が求められる。」
「高記憶密度化に伴い、基板の回転数を高速化する必
要がある。このような高速回転化に対して基板材は、高
ヤング率、低比重化が重要となる。」「情報記憶媒体
の用途拡大に対して、特にモバイル用途では基板材の機
械的強度が重要となる。」「ヘッドと媒体のポジショ
ニングに高精度を要するため、媒体基板やディスクの各
構成部品には高い寸法精度が要求される。そのためこれ
ら構成部品に対する平均線膨張係数の差を使用環境温度
範囲において極力少なくしなければならない。」「高
記録密度化に伴う、磁性膜の微細化、高精度化に対し、
ガラス中のアルカリ成分の溶出は、磁性膜の配向性低下
および表面にまで拡散したアルカリ成分の化合物生成に
よるデフェクトの経時的発生を生じるために、より低減
させる必要がある。特にガラスセラミックスからのアル
カリ成分溶出はマトリックス中のアモルファス部分から
の溶出が発生するために結晶中のアルカリ成分以外は極
力低減させる必要がある。」という、現在求められてい
る特性に対して、前記従来技術では解決し得なかった課
題を解消すべく、アルカリ溶出に起因する記録媒体の磁
気特性低下やアルカリ溶出によるディフェクトを無くし
て、情報記憶媒体の記憶容量の増大と磁気ヘッドの低浮
上化あるいは接触状態による基板の超平滑化を図り、更
に情報転送速度の高速回転化およびモバイル用途への高
機械的強度化、および他の記憶媒体構成部品材料との適
合性を兼ね備えた、情報記憶媒体用ガラスセラミック基
板およびこのガラスセラミック基板上に磁気媒体の被膜
を形成してなる磁気情報記憶媒体を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is, as described above, "It is necessary to reduce the size of the bit cell with the increase in storage density. When the head operates in a low flying state (near contact) or a contact state (contact) with respect to the information storage medium substrate in this manner, the head is operated closer to the information storage medium surface. For the smoothness, the surface roughness Ra (arithmetic average roughness) is required to be 5.0 ° or less, more preferably 3.0 ° or less, and further preferably 2.0 ° or less.
"With the ultra-smoothness, the crystal grains inside the substrate can withstand the precision polishing at the atomic level, so the type and size of crystals that can withstand the chemical durability and physical properties derived from ultra-precision polishing , Crystal grain shape and crystallinity are required. "
"With the increase in storage density, it is necessary to increase the rotation speed of the substrate. For such a high-speed rotation, high Young's modulus and low specific gravity are important for the substrate material." The mechanical strength of the substrate material is important for mobile applications, especially for mobile applications. "" Because the positioning of the head and the media requires high precision, high dimensional accuracy is required for each component of the media substrate and disk. Therefore, the difference between the average linear expansion coefficients of these components must be reduced as much as possible in the operating environment temperature range. "
The elution of the alkali component in the glass needs to be further reduced since the orientation of the magnetic film is reduced and the generation of the defect due to the generation of the compound of the alkali component diffused to the surface occurs. Particularly, elution of an alkali component from glass ceramics occurs from an amorphous portion in a matrix. Therefore, it is necessary to reduce as much as possible other than an alkali component in a crystal. In order to solve the problems that cannot be solved by the above-mentioned conventional technology, the characteristics required at present are eliminated, and the magnetic storage of the recording medium due to the alkali elution and the defect due to the alkali elution are eliminated. Increases the storage capacity of the medium, lowers the flying height of the magnetic head or super-smooths the substrate due to the contact state, further increases the rotation speed of the information transfer speed, increases the mechanical strength for mobile applications, and configures other storage media It is an object of the present invention to provide a glass ceramic substrate for an information storage medium having compatibility with a component material and a magnetic information storage medium in which a coating of a magnetic medium is formed on the glass ceramic substrate.

【0013】[0013]

【課題を解消するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するために鋭意試験研究を重ねた結果、主結晶相に
二珪酸リチウムを有する情報記憶媒体用ガラスセラミッ
クス基板おいて、高密度記録傾向に対応し得る良好な表
面特性や物理的特性(各種強度,平均線膨張係数(Avera
ge linear thermal expansion),比重等)を有し、更に
アルカリ溶出を格段に低減し得る組成を兼ね備えた、情
報記憶媒体用基板に好適なガラスセラミックスが得られ
ることを見い出し、本発明に至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive tests and researches to achieve the above object, and have found that a glass ceramic substrate for an information storage medium having lithium disilicate in a main crystal phase has a high density. Good surface and physical properties (various strength, average linear expansion coefficient (Avera
The present inventors have found that a glass ceramic suitable for a substrate for an information storage medium can be obtained which has a composition capable of remarkably reducing alkali elution and has a composition capable of remarkably reducing alkali elution.

【0014】すなわち、請求項1に記載の発明は、主結
晶相として二珪酸リチウム(Li2O・2SiO2)を含
有し、且つLi2Oの含有量が酸化物質量換算で4質量
%〜8質量%であることを特徴とする、情報記憶媒体用
ガラスセラミックス基板であり、請求項2に記載の発明
は、二珪酸リチウムの結晶相の結晶化度が15〜40質
量%であることを特徴とする、請求項1に記載の情報記
憶媒体用ガラスセラミックス基板であり、請求項3に記
載の発明は、−50〜+70℃における平均線膨張係数
が+65〜+130×10-7/℃であることを特徴とす
る、請求項1または2に記載の情報記憶媒体用ガラスセ
ラミックス基板であり、請求項4に記載の発明は、ヤン
グ率(GPa)/比重が37以上であることを特徴とす
る、請求項1〜3のいずれか一つに記載の情報記憶媒体
用ガラスセラミックス基板であり、請求項5に記載の発
明は、曲げ強度が400MPa以上であることを特徴と
する、請求項1〜4のいずれか一つに記載の情報記憶媒
体用ガラスセラミックス基板であり、請求項6に記載の
発明は、主結晶相として(1)二珪酸リチウム(Li2
O・2SiO2)および(2)α―クオーツ(α―Si
2)またはα−クォーツ固溶体(α―SiO2固溶体)
を含み、これら主結晶相全体の結晶粒子径(平均)は
0.05μm以下であることを特徴とする、請求項1〜
5のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラスセラミ
ックス基板であり、請求項7に記載の発明は、主結晶相
として、(1)二珪酸リチウム(Li2O・2SiO2
および(2)α−クォーツ(α−SiO2)またはα−
クォーツ固溶体(α−SiO2固溶体)を含み、且つ前
記α―クオーツまたはα−クォーツ固溶体結晶相の結晶
化度が3〜35質量%、その結晶粒子径(平均)は0.
10μm以下であることを特徴とする、請求項1〜6の
いずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラスセラミック
ス基板であり、請求項8に記載の発明は、結晶粒子はい
ずれも微細でほぼ球状であることを特徴とする、請求項
1〜7のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラスセ
ラミックス基板であり、請求項9に記載の発明は、Pb
Oを実質的に含まないことを特徴とする、請求項1〜8
のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラスセラミッ
クス基板であり、請求項10に記載の発明は、研磨加工
後の表面粗度Ra(算術平均粗さ)が5.0Å以下であ
ることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一つに記
載の情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板であり、請
求項11に記載の発明は、ガラスセラミックスの組成は
質量百分率(酸化物換算)で SiO2 70 〜77% Li2O 4 〜 8% K2O 0.5 〜 5% MgO+ZnO+SrO+BaO+CaO 1 〜 7% Y23+WO3+La23+Bi23+SnO2 0 〜 3% P25 1.0〜 2.5% ZrO2 2.0〜 7% Al23 5 〜 10% Na2O 0.5〜3% Sb23+As23 0 〜 2% の範囲の各成分を含有することを特徴とする、請求項1
〜10のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラスセ
ラミックス基板であり、請求項12に記載の発明は、ガ
ラスセラミックスの組成は質量百分率(酸化物換算)で SiO2 70 〜77% Li2O 4 〜 8% K2O 0.5 〜 5% MgO+ZnO+SrO+BaO+CaO 1 〜 7% Y23+WO3+La23+Bi23+SnO2 0 〜 3% P25 1.0〜 2.5% ZrO2 2.0〜 7% Al23 5 〜 10% Na2O 0 〜 1% Sb23+As23 0 〜 2% の範囲の各成分を含有することを特徴とする、請求項1
〜10のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラスセ
ラミックス基板であり、請求項13に記載の発明は、原
ガラスを400℃〜600℃で1〜7時間熱処理して核
形成した後、700℃〜760℃で1〜7時間熱処理し
て結晶成長させ、その研磨後の表面粗度Ra(算術平均
粗さ)を5Å以下とすることを特徴とする、請求項11
または12に記載の情報記憶媒体用ガラスセラミックス
基板の製造方法であり、請求項14に記載の発明は、請
求項1〜13のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガ
ラスセラミックス基板上に磁性膜および必要に応じてN
i−Pメッキ、または下地層、保護層、潤滑膜等を形成
してなる情報記憶媒体ディスクである。
That is, the invention according to claim 1 contains lithium disilicate (Li 2 O · 2SiO 2 ) as a main crystal phase, and the content of Li 2 O is 4% by mass or less in terms of oxide mass. A glass ceramic substrate for an information storage medium, wherein the crystallinity of the crystal phase of lithium disilicate is 15 to 40% by mass. The glass ceramic substrate for an information storage medium according to claim 1, wherein the average linear expansion coefficient at −50 to + 70 ° C. is +65 to + 130 × 10 −7 / ° C. The glass ceramic substrate for an information storage medium according to claim 1 or 2, wherein the Young's modulus (GPa) / specific gravity is 37 or more. To claim 1 The glass ceramic substrate for an information storage medium according to any one of claims 1 to 4, wherein the invention according to claim 5 has a bending strength of 400 MPa or more. The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to any one of claims 1 to 3, wherein the invention according to claim 6 is characterized in that (1) lithium disilicate (Li 2
O.2SiO 2 ) and (2) α-quartz (α-Si
O 2 ) or α-quartz solid solution (α-SiO 2 solid solution)
Wherein the crystal grain size (average) of the entire main crystal phase is 0.05 μm or less.
5. The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to any one of (5) and (7), wherein the main crystal phase is (1) lithium disilicate (Li 2 O · 2SiO 2 ).
And (2) α-quartz (α-SiO 2 ) or α-quartz
It contains a quartz solid solution (α-SiO 2 solid solution), the crystallinity of the α-quartz or α-quartz solid solution crystal phase is 3 to 35% by mass, and the crystal particle diameter (average) is 0.
The glass ceramic substrate for an information storage medium according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the crystal grain is not more than 10 µm. The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to any one of claims 1 to 7, wherein the glass-ceramic substrate has a spherical shape.
9. O-free material.
The glass ceramics substrate for an information storage medium according to any one of the above, wherein the surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) after polishing is 5.0 ° or less. The glass ceramic substrate for an information storage medium according to any one of claims 1 to 9, wherein the composition of the glass ceramic is SiO 2 in terms of mass percentage (in terms of oxide). 2 70 ~77% Li 2 O 4 ~ 8% K 2 O 0.5 ~ 5% MgO + ZnO + SrO + BaO + CaO 1 ~ 7% Y 2 O 3 + WO 3 + La 2 O 3 + Bi 2 O 3 + SnO 2 0 ~ 3% P 2 O 5 1.0 to 2.5% ZrO 2 2.0 to 7% Al 2 O 3 5 to 10% Na 2 O 0.5 to 3% Sb 2 O 3 + As 2 O 30 0 to 2% Claims, characterized by containing
The glass ceramics substrate for an information storage medium according to any one of claims 10 to 10, wherein the composition of the glass ceramics is SiO 2 70 to 77% Li 2 in terms of mass percentage (in terms of oxide). O 4 to 8% K 2 O 0.5 to 5% MgO + ZnO + SrO + BaO + CaO 1 to 7% Y 2 O 3 + WO 3 + La 2 O 3 + Bi 2 O 3 + SnO 20 0 to 3% P 2 O 5 1.0 to 2.5 % ZrO 2 2.0 to 7% Al 2 O 3 5 to 10% Na 2 O 0 to 1% Sb 2 O 3 + As 2 O 3 0 to 2% Claim 1
The glass ceramics substrate for an information storage medium according to any one of claims 10 to 10, wherein the invention according to claim 13 forms a nucleus by heat-treating the raw glass at 400 ° C to 600 ° C for 1 to 7 hours. The crystal growth is performed by heat treatment at 700 ° C. to 760 ° C. for 1 to 7 hours, and the surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) after polishing is set to 5 ° or less.
Or a method for manufacturing a glass-ceramic substrate for an information storage medium according to claim 12, wherein the invention according to claim 14 is a method for manufacturing a glass-ceramic substrate for information storage medium according to any one of claims 1 to 13, Membrane and optionally N
This is an information storage medium disk formed by i-P plating or forming an underlayer, a protective layer, a lubricating film, and the like.

【0015】本発明の情報記憶媒体用ガラスセラミック
ス基板の主結晶相とその結晶粒子径(平均)・結晶化
度、ヤング率、比重、機械的強度、平均線膨張係数、表
面特性、組成、熱処理条件、を限定した理由を以下に述
べる。尚、組成は原ガラスと同様酸化物基準の質量百分
率で表示する。
The main crystal phase and the crystal grain size (average), crystallinity, Young's modulus, specific gravity, mechanical strength, average linear expansion coefficient, surface characteristics, composition, heat treatment of the glass-ceramic substrate for an information storage medium of the present invention. The reasons for limiting the conditions are described below. The composition is expressed in terms of mass percentage on an oxide basis as in the raw glass.

【0016】まず、平均線膨張係数についてであるが、
記録密度の向上に伴い磁気ヘッドと媒体のポジショニン
グに高精度を要するため、媒体基板やディスクの各構成
部品には高い寸法精度が要求される。そのためこれら構
成部品に対する平均線膨張係数の差の影響も無視できな
くなるので、これらの熱膨張率差を極力少なくしなけれ
ばならない。さらに厳密には、これら構成部品の平均線
膨張係数よりも媒体基板の平均線膨張係数は極くわずか
に大きいことが好ましい場合がある。特に小型の磁気情
報記憶媒体に使用される構成部品の熱膨脹係数は、+9
0〜+100×10-7/℃程度のものが良く用いられて
おり、基板もこの程度の熱膨脹係数が必要とされるが、
ドライブメーカーによってはこの範囲からはずれた熱膨
脹係数(+70前後〜+125前後×10-7/℃)を有
する材料を構成部品に用いる場合がある。以上のような
理由により、本発明の結晶系で強度との兼ね合いを図り
ながら、用いる構成部品の材質に広く対応しうるよう、
平均線膨張係数範囲を決めなければならず、その範囲は
−50〜+70℃の範囲において、+65〜+130×
10-7/℃であることが好ましい。さらには、平均線膨
張係数は+95×10-7/℃以上がより好ましく、+1
10×10-7/℃以下がより好ましい。
First, regarding the average linear expansion coefficient,
With the increase in recording density, high precision is required for positioning the magnetic head and the medium. Therefore, high dimensional accuracy is required for each component of the medium substrate and the disk. Therefore, the influence of the difference in the average coefficient of linear expansion on these components cannot be ignored. Therefore, the difference in the coefficient of thermal expansion must be minimized. More precisely, it may be preferred that the average linear expansion coefficient of the media substrate is very slightly greater than the average linear expansion coefficient of these components. In particular, the thermal expansion coefficient of components used for a small magnetic information storage medium is +9.
A substrate having a coefficient of thermal expansion of about 0 to + 100 × 10 −7 / ° C. is often used.
Depending on the drive maker, a material having a thermal expansion coefficient (around +70 to + 125 × 10 −7 / ° C.) out of this range may be used as a component. For the above reasons, the crystal system of the present invention, while aiming at the balance with the strength, so that it can widely correspond to the material of the component used,
The average linear expansion coefficient range must be determined, and the range is +65 to + 130 × in the range of −50 to + 70 ° C.
It is preferably 10 −7 / ° C. Further, the average linear expansion coefficient is more preferably + 95 × 10 −7 / ° C. or more, and +1
It is more preferably at most 10 × 10 −7 / ° C.

【0017】次いでヤング率・比重、機械的強度につい
て述べる。ヤング率・比重については情報転送速度の高
速化に対応する基板の10000rpm以上の高速回転
化に対して基板の変形・静振性を防止するために、本発
明の情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板は高剛性,
低比重でなければならない。また、ヘッドの接触やリム
ーバブル記憶装置のような携帯型の記憶装置に用いた場
合においては、それに十分耐え得る機械的強度,高ヤン
グ率,表面硬度を有する事が必要になる。
Next, the Young's modulus, specific gravity, and mechanical strength will be described. Regarding the Young's modulus and specific gravity, the glass ceramic substrate for an information storage medium of the present invention is required to prevent deformation and static vibration of the substrate against a high-speed rotation of 10,000 rpm or more corresponding to a high information transfer speed. High rigidity,
Must have low specific gravity. Further, when used in a portable storage device such as a head contact or a removable storage device, it is necessary to have a mechanical strength, a high Young's modulus, and a surface hardness that can sufficiently withstand it.

【0018】ところが、単に高剛性であっても比重が大
きければ、高速回転時にその重量が大きいことによって
たわみが生じ、振動を発生する。逆に低比重でも剛性が
小さければ、同様に振動が発生する。したがって、高剛
性でありながら低比重という一見相反する特性のバラン
スを取らなければならず、その好ましい範囲はヤング率
(GPa)/比重で37以上である。より好ましい範囲
は39以上であり、更に好ましい範囲は41以上であ
り、最も好ましい範囲は43以上である。尚、剛性につ
いても好ましい範囲があり、例え低比重で上記範囲を満
足しても、前記振動発生問題の点からすると、少なくと
も基板のヤング率は95GPa以上であることが好まし
い。本発明の実施例においてガラスセラミックス基板は
95GPa以上、120GPa以下の範囲のヤング率を
有していた。比重についても同様で、前記振動発生問題
の点からすると、例え高剛性であっても比重は2.60
以下であることが好ましく、2.57以下であることが
より好ましい。本発明の実施例においては2.40以
上、2.60以下の範囲の比重を有していた。
However, if the specific gravity is large even if the rigidity is merely high, the weight is large at the time of high-speed rotation, causing deflection and vibration. Conversely, if the rigidity is small even at a low specific gravity, vibration is similarly generated. Therefore, it is necessary to balance seemingly contradictory characteristics of high rigidity and low specific gravity, and the preferable range is Young's modulus (GPa) / specific gravity of 37 or more. A more preferred range is 39 or more, a still more preferred range is 41 or more, and a most preferred range is 43 or more. Note that there is a preferable range for the rigidity. Even if the above range is satisfied at a low specific gravity, it is preferable that at least the Young's modulus of the substrate is 95 GPa or more from the viewpoint of the problem of vibration generation. In the example of the present invention, the glass ceramic substrate had a Young's modulus in a range of 95 GPa or more and 120 GPa or less. The same applies to the specific gravity. From the viewpoint of the problem of the occurrence of vibration, the specific gravity is 2.60 even if the rigidity is high.
Or less, more preferably 2.57 or less. In Examples of the present invention, the specific gravity was in the range of 2.40 or more and 2.60 or less.

【0019】また、モバイル用途等の情報記憶媒体に
は、耐ショック性(100G〜500G)やヘッドスラ
ップにおいて十分耐え得る高機械的強度化が要求されて
おり、その為に基板の曲げ強度は400MPa以上であ
ることが好ましく、500MPa以上であることがより
好ましい。本発明の実施例においてガラスセラミックス
基板は400MPa以上、800MPa以下の範囲の曲
げ強度を有していた。
In addition, information storage media for mobile use and the like are required to have shock resistance (100 G to 500 G) and high mechanical strength enough to withstand head slap. Therefore, the bending strength of the substrate is 400 MPa. It is preferably at least 500 MPa, more preferably at least 500 MPa. In the examples of the present invention, the glass ceramic substrate had a bending strength in the range of 400 MPa or more and 800 MPa or less.

【0020】次いで主結晶相についてであるが、二珪酸
リチウムを含むガラスセラミックス基板は情報磁気記憶
媒体として、結晶異方性,少ない不純物等の欠陥,緻密
で均質・微細な組織であるため、高い機械的強度,加工
のしやすさ,熱膨張特性の制御性,高い化学的耐久性等
を実現でき、非常に有用であるためである。更に主結晶
相として、α−クォーツまたはα−クォーツ固溶体を含
むことによって、曲げ強度をより硬くすることができ、
同時に−50〜+70℃における平均線膨張係数を高め
に設定することができるため、(1)二珪酸リチウムお
よび(2)α−クォーツまたはα−クォーツ固溶体を含
むガラスセラミックス基板は、機械的強度,平均線膨張
係数の制御のし易さ,化学的安定性において非常に優れ
たものであり、好ましいものである。
Next, regarding the main crystal phase, the glass-ceramic substrate containing lithium disilicate has high crystal anisotropy, defects such as few impurities, and a dense, uniform and fine structure as an information magnetic storage medium. This is because it is very useful because it can realize mechanical strength, ease of processing, controllability of thermal expansion characteristics, high chemical durability, and the like. Further, by including α-quartz or α-quartz solid solution as the main crystal phase, the bending strength can be made harder,
At the same time, the average linear expansion coefficient at −50 to + 70 ° C. can be set higher, so that the glass ceramic substrate containing (1) lithium disilicate and (2) α-quartz or α-quartz solid solution has a high mechanical strength, It is very excellent in controllability of average linear expansion coefficient and chemical stability, and is preferable.

【0021】次いでLi2Oの含有量についてである
が、この成分は原ガラスの製造・溶融を容易にすると共
に、二珪酸リチウムを析出させるための極めて重要な必
須成分である。従来、この成分は二珪酸リチウムを構成
するに必要な化学量論的な量よりも多めにLi2O成分
を配合させていたため、この結晶相の構成に寄与してい
ない、余分なLi2Oがガラス相中に存在している。こ
れがアルカリ溶出成分となって、前記のような問題を生
じる可能性が高くなる。
Next, regarding the content of Li 2 O, this component is a very important essential component for facilitating production and melting of the raw glass and for precipitating lithium disilicate. Heretofore, since this component has incorporated a Li 2 O component more than the stoichiometric amount necessary for constituting lithium disilicate, extra Li 2 O which does not contribute to the constitution of this crystal phase is used. Is present in the glass phase. This becomes an alkali-eluting component and increases the possibility of causing the above-described problem.

【0022】更に詳しく述べると、アルカリ溶出量とい
う観点から見た場合、前記のように結晶化ガラスは化学
強化したアモルファスガラスよりアルカリ溶出量は少な
いものの、高密度化傾向においては、更にアルカリ溶出
量を低減しなければならない。これらについて詳細な試
験研究の結果、所定のアルカリ溶出試験における基板表
面からのアルカリ溶出量が2.5インチディスク基板
(外形寸法:外径65mmφ,内径20mmφ,厚さ
0.635mm,チャンファー加工:45°で0.1m
m)において1.0μg/ディスク以上、すなわち単位
面積あたりの溶出量が0.016μg/cm2以上とな
ると、記録媒体成膜時のアルカリ拡散による磁気特性の
低下や記録媒体表面にまで拡散したアルカリ成分による
アルカリ化合物の生成により、例えば10000rpm
以上の高速回転を要求される磁気ディスク基板では読み
取りエラーやヘッドクラッシュを生じてしまうというこ
とが明らかになった。尚、このアルカリ溶出量は0.0
11μg/cm2以下(2.5インチディスク基板で
0.7μg/ディスク以下)であることがより好まし
く、0.008μg/cm2以下(2.5インチディス
ク基板で0.5μg/ディスク以下)であることが最も
好ましい。
More specifically, from the viewpoint of the alkali elution amount, the crystallized glass has a smaller alkali elution amount than the chemically strengthened amorphous glass as described above. Must be reduced. As a result of a detailed test study on these, the amount of alkali elution from the substrate surface in a predetermined alkali elution test was 2.5 inch disk substrate (external dimensions: outer diameter 65 mmφ, inner diameter 20 mmφ, thickness 0.635 mm, chamfer processing: 0.1m at 45 °
m), when the elution amount per unit area is equal to or greater than 0.016 μg / cm 2 , if the elution amount per unit area is equal to or greater than 0.016 μg / cm 2, the magnetic properties decrease due to alkali diffusion at the time of film formation of the recording medium or the alkali diffuses to the surface of the recording medium. The production of the alkali compound by the components, for example, 10,000 rpm
It has been clarified that a read error or a head crash occurs on a magnetic disk substrate requiring the above high-speed rotation. The alkali elution amount was 0.0
More preferably from (0.7 [mu] g / disc below 2.5 inch disk substrate) 11μg / cm 2 or less, with 0.008 / cm 2 or less (0.5 [mu] g / disc below 2.5 inch disk substrate) Most preferably.

【0023】したがって、二珪酸リチウムを構成するに
必要なLi2O含有量を有し、且つアルカリ溶出の原因
となる余分なLi2Oを極力低減すべく、二珪酸リチウ
ムを主結晶相として含む従来のガラスセラミックス基板
のLi2O含有量上限よりも低含有量で制御しなければ
ならない。すなわち、その量が4質量%未満では上記結
晶の微細状態での析出が困難となると同時に原ガラスの
溶融が困難となり、また8質量%を越えると、結晶を構
成する化学量論量を越える余剰のLi2O成分が多量に
ガラスマトリックス中に残るためにLiイオン溶出の問
題が発生してしまう。尚、より良好なガラスセラミック
ス基板、特にアルカリ溶出量が0.011μg/cm2
以下のガラスセラミックス基板を得るには、Li2O含
有量を4質量%以上、8質量%未満とするのが好まし
く、4.5質量%以上、8質量%未満とするとより好ま
しい。最も好ましくは5質量%以上、8質量%未満であ
る。
Therefore, lithium disilicate is contained as a main crystal phase in order to have the Li 2 O content necessary for constituting lithium disilicate and to reduce extra Li 2 O which causes alkali elution as much as possible. The content must be controlled to be lower than the upper limit of the Li 2 O content of the conventional glass ceramic substrate. That is, if the amount is less than 4% by mass, it becomes difficult to precipitate the crystals in a fine state, and at the same time, it becomes difficult to melt the original glass. If the amount exceeds 8% by mass, the surplus exceeding the stoichiometric amount constituting the crystals is obtained. Since a large amount of the Li 2 O component remains in the glass matrix, a problem of Li ion elution occurs. In addition, a better glass-ceramic substrate, particularly, an alkali elution amount of 0.011 μg / cm 2
In order to obtain the following glass-ceramic substrate, the Li 2 O content is preferably 4% by mass or more and less than 8% by mass, more preferably 4.5% by mass or more and less than 8% by mass. Most preferably, it is 5% by mass or more and less than 8% by mass.

【0024】また、主結晶相を構成する成分としてLi
2Oを必要とする他の結晶相(例えばSpodumen
e,Eucryptite,Petalite等の結晶
相)を有するものでも、前記Li2O含有量の範囲の限
定は有効なものであるが、負の熱膨張特性を有するβ−
スポジューメンやβ−ユークリプタイト、β−クリスト
バライト(β−SiO2)については所望の平均線膨張
係数を得ることが困難となる可能性が高くなるので、こ
れら負の平均線膨張係数を有する結晶相を含まないこと
が好ましい。
Further, Li as a component constituting the main crystal phase
Other crystalline phases requiring 2 O (eg, Spodumen)
e, Eucryptite, Petalite, etc.), it is effective to limit the range of the Li 2 O content, but β- having a negative thermal expansion characteristic is effective.
With respect to spodumene, β-eucryptite, and β-cristobalite (β-SiO 2 ), it is more likely that it is difficult to obtain a desired average linear expansion coefficient. Is preferably not contained.

【0025】次いで二珪酸リチウムの結晶化度について
であるが、前記のように情報記録媒体用ガラスセラミッ
クス基板として所望の機械的強度,加工性,熱膨張特
性,化学的耐久性等を得て、且つ前記のLi2O含有量
においてガラスマトリックス中の余分なLi2Oを低減
してアルカリ溶出による問題を解消するためには15質
量%以上、40質量%以下が好ましい。尚、より好まし
くは20質量%を越えて40質量%までであり、最も好
ましくは20質量%を越えて38質量%までである。
Next, regarding the crystallinity of lithium disilicate, as described above, desired mechanical strength, workability, thermal expansion characteristics, chemical durability, etc. were obtained as glass ceramic substrates for information recording media. In addition, in order to reduce the excess Li 2 O in the glass matrix at the Li 2 O content and eliminate the problem of alkali elution, the content is preferably 15% by mass or more and 40% by mass or less. The content is more preferably more than 20% by mass and up to 40% by mass, and most preferably more than 20% by mass and up to 38% by mass.

【0026】α−クォーツまたはα−クォーツ固溶体結
晶については、機械的強度(特に曲げ強度),熱膨張特
性の制御において所望の物性値を得るために、結晶化度
は3質量%以上、35質量%以下とすることが好まし
い。より好ましい範囲は5〜35質量%である。
The α-quartz or α-quartz solid solution crystal has a crystallinity of 3% by mass or more and 35% by mass in order to obtain desired physical properties in controlling mechanical strength (particularly bending strength) and thermal expansion characteristics. % Is preferable. A more preferred range is from 5 to 35% by mass.

【0027】そしてこの様な平滑性に優れた表面粗度R
a、研磨加工性および格段に優れた機械的強度、特に曲
げ強度を実現するためには、結晶粒径についても規制し
なければ実現が難しく、二珪酸リチウムを含む主結晶相
全体の結晶粒子径の平均は0.05μm以下としなけれ
ばならない。したがって、主結晶相が(1)二珪酸リチ
ウムおよび(2)α−クォーツまたはα−クォーツ固溶
体を含む場合においても、主結晶相全体の結晶粒子径の
平均は0.05μm以下としなければならない。尚、
(2)α−クォーツまたはα−クォーツ固溶体について
は、結晶粒子の形状やその他の特性により、結晶粒子径
の平均が0.10μm以下とすることができる。また、
好ましい範囲については、主結晶相全体の結晶粒子径の
平均が0.05μm以下、(1)二珪酸リチウム結晶の
結晶粒子径の平均が0.04μm以下、(2)α−クォ
ーツまたはα−クォーツ固溶体結晶の結晶粒子径の平均
が0.07μm以下であり、更に好ましい範囲は、主結
晶相全体の結晶粒子径の平均が0.03μm以下、
(1)二珪酸リチウム結晶の結晶粒子径の平均が0.0
3μm以下、(2)α−クォーツまたはα−クォーツ固
溶体結晶の結晶粒子径の平均が0.05μm以下であ
る。
The surface roughness R having such excellent smoothness
a, It is difficult to realize unless the crystal grain size is regulated in order to realize polishing workability and remarkably excellent mechanical strength, especially bending strength, and the crystal grain size of the entire main crystal phase including lithium disilicate Must be 0.05 μm or less. Therefore, even when the main crystal phase contains (1) lithium disilicate and (2) α-quartz or α-quartz solid solution, the average of the crystal grain diameter of the entire main crystal phase must be 0.05 μm or less. still,
(2) With respect to α-quartz or α-quartz solid solution, the average crystal grain size can be 0.10 μm or less depending on the shape and other characteristics of the crystal grains. Also,
Regarding a preferable range, the average of the crystal particle diameter of the entire main crystal phase is 0.05 μm or less, (1) the average of the crystal particle diameter of lithium disilicate crystal is 0.04 μm or less, and (2) α-quartz or α-quartz. The average of the crystal particle diameters of the solid solution crystals is 0.07 μm or less, and a more preferable range is that the average of the crystal particle diameters of the entire main crystal phase is 0.03 μm or less,
(1) The average of the crystal particle diameters of lithium disilicate crystals is 0.0
3 μm or less, (2) the average of the crystal particle diameters of α-quartz or α-quartz solid solution crystals is 0.05 μm or less.

【0028】また、析出結晶相の粒子形状については、
不定形の場合、良好な平滑性とすることが難しく、更に
析出結晶の脱落が生じやすくなり、これがパーティクル
となって磁気ヘッドや媒体の損傷を引き起こす原因とな
るため、球状に近い方が情報記憶媒体基板の表面特性上
好ましく、ほぼ球状であることが好ましい。
Regarding the particle shape of the precipitated crystal phase,
In the case of an irregular shape, it is difficult to obtain good smoothness, and the precipitated crystals are liable to fall off, causing particles to damage the magnetic head and the medium. It is preferable in terms of the surface characteristics of the medium substrate, and it is preferable that the medium substrate be substantially spherical.

【0029】次に、原ガラスの組成範囲において、Li
2O成分以外の各成分を上記の様に限定した理由につい
て以下に述べる。すなわち、SiO2成分は、原ガラス
の熱処理により、主結晶相として析出する二珪酸リチウ
ム(Li2O・2SiO2),α−クォーツ(α−SiO
2),α−クォーツ固溶体(α−SiO2固溶体)結晶を
生成するきわめて重要な成分であるが、その量が70質
量%未満では、得られたガラスセラミックスの析出結晶
が不安定で組織が粗大化しやすく、また、77質量%を
超えると原ガラスの溶融・成形性が困難になる。
Next, in the composition range of the raw glass, Li
The reasons for limiting each component other than the 2O component as described above will be described below. That is, the SiO 2 component is composed of lithium disilicate (Li 2 O · 2SiO 2 ) and α-quartz (α-SiO) which are precipitated as a main crystal phase by heat treatment of the raw glass.
2 ), which is a very important component for producing α-quartz solid solution (α-SiO 2 solid solution) crystals. If the amount is less than 70% by mass, precipitated crystals of the obtained glass ceramic are unstable and the structure is coarse. When the content exceeds 77% by mass, melting and forming of the raw glass becomes difficult.

【0030】MgO、ZnO、SrO、BaO、CaO
成分は、ガラスの溶融性を向上させると同時に析出結晶
の粗大化を防止する成分であるのと同時に、主結晶相と
しての二珪酸リチウム(Li2O・2SiO2),α−ク
ォーツ(α−SiO2),α−クォーツ固溶体(α−S
iO2固溶体)の各結晶粒子を球状に析出させることに
効果的な成分である。そのために各成分の合計量は1.
0質量%以上であることが好ましいが、7質量%を超え
ると得られる結晶が不安定で組織が粗大化しやすくな
る。尚、MgO+ZnO+SrO+BaOにおいては1
質量%以上、2質量%以下が好ましい。
MgO, ZnO, SrO, BaO, CaO
The components are components that improve the melting property of glass and prevent coarsening of precipitated crystals, and at the same time, lithium disilicate (Li 2 O.2SiO 2 ) and α-quartz (α- SiO 2 ), α-quartz solid solution (α-S
It is an effective component for precipitating each crystal particle of iO 2 solid solution) into a sphere. Therefore, the total amount of each component is 1.
The content is preferably 0% by mass or more, but if it exceeds 7% by mass, the obtained crystals are unstable and the structure tends to be coarse. In the case of MgO + ZnO + SrO + BaO, 1
It is preferably from 2% by mass to 2% by mass.

【0031】P25成分は本発明において、ガラスの結
晶核形成剤として不可欠であるが、結晶核形成を促進し
て析出結晶相の粗大化を防ぎ為に、その量は1.0質量
%以上が好ましい。また、原ガラスの乳白失透を防ぎ、
量産安定性を保つために2.5質量%以下が好ましい。
In the present invention, the P 2 O 5 component is indispensable as a crystal nucleating agent for glass. However, in order to promote the formation of crystal nuclei and prevent coarsening of the precipitated crystal phase, the amount of P 2 O 5 is 1.0 mass. % Or more is preferable. In addition, we prevent milk glass devitrification of original glass,
In order to maintain mass production stability, the content is preferably 2.5% by mass or less.

【0032】ZrO2成分はP25成分と同様にガラス
の結晶核形成剤として機能する上に、析出結晶の微細化
と材料の機械的強度向上および化学的耐久性の向上に顕
著な効果を有することが見出された極めて重要な成分で
ある。その量は2.0質量%以上が好ましい、ただし、
過剰に加えると原ガラスの溶融が困難となると同時にZ
rSiO4等の溶け残りを生じる傾向が強くなるので、
ZrO2成分量は7質量%以下が好ましい。
Like the P 2 O 5 component, the ZrO 2 component not only functions as a crystal nucleating agent for glass, but also has a remarkable effect on refining precipitated crystals, improving the mechanical strength of the material, and improving the chemical durability. Is a very important component that has been found to have The amount is preferably 2.0% by mass or more, provided that
Excessive addition makes it difficult to melt the raw glass and
Since the tendency of rSiO 4 etc. to remain undissolved increases,
The amount of the ZrO 2 component is preferably 7% by mass or less.

【0033】Al23成分は、ガラスセラミックスの化
学的耐久性および機械的強度、特に硬度を向上させる成
分であり、その量は5質量%以上であることが好まし
い。しかしAl23成分が過剰であると溶融性および失
透性が悪化する傾向が強くなると共に、析出結晶相が低
膨張結晶のβ−スポジューメン(Li2O・Al23
4SiO2)に相変化してしまう傾向へ進んでいく。前
述のようにβ−スポジューメン(Li2O・Al23
4SiO2)の析出は材料の平均線膨張係数を著しく低
下させるため、これらの結晶の析出は避ける必要があ
る。このためAl23成分は10質量%以下であること
が好ましい。より好ましくは5質量%以上、8質量%以
下である。
The Al 2 O 3 component is a component for improving the chemical durability and mechanical strength, particularly the hardness, of the glass ceramic, and its amount is preferably at least 5% by mass. However, when the Al 2 O 3 component is excessive, the melting and devitrification tend to deteriorate, and the precipitated crystalline phase is a β-spodumene (Li 2 O.Al 2 O 3.
4SiO 2 ). As described above, β-spodumene (Li 2 O.Al 2 O 3.
Since the precipitation of 4SiO 2 ) significantly lowers the average linear expansion coefficient of the material, the precipitation of these crystals must be avoided. Therefore, the content of the Al 2 O 3 component is preferably 10% by mass or less. More preferably, the content is 5% by mass or more and 8% by mass or less.

【0034】Y23、WO3、La23、Bi23、S
nO2成分は、低含有のLi2O成分組成において低下し
た溶融性を改善すると共に、ガラスの高ヤング率化をも
たらす重要な成分であるが、その合計量は3質量%を超
えると安定した結晶の析出が困難となる。尚、Bi23
成分については、As23との共存により、結晶化後に
着色作用をもたらし、これにより傷の有無の発見を容易
にしたりレーザーテクスチャにおけるレーザーエネルギ
ーの吸収効率を高める効果がある。尚、Y23+WO3
+La23+Bi23においては1質量%以上、3質量
%未満が好ましい。
Y 2 O 3 , WO 3 , La 2 O 3 , Bi 2 O 3 , S
The nO 2 component is an important component that improves the lowered meltability in the low-content Li 2 O component composition and also increases the Young's modulus of the glass. When the total amount exceeds 3% by mass, the nO 2 component becomes stable. Precipitation of crystals becomes difficult. In addition, Bi 2 O 3
With respect to the components, coexistence with As 2 O 3 causes a coloring action after crystallization, which has the effect of facilitating detection of the presence or absence of flaws and increasing the efficiency of laser energy absorption in laser texture. In addition, Y 2 O 3 + WO 3
In + La 2 O 3 + Bi 2 O 3 , the content is preferably 1% by mass or more and less than 3% by mass.

【0035】K2O成分はガラスの溶融性を向上させる
と同時に析出結晶の粗大化を防止すると共に、特に本発
明においては、他のアルカリ成分(Li2O成分および
/またはNa2O成分)と共存させる(混合させる)こ
とにより、アルカリイオンの溶出または拡散を抑制する
という、重要な効果があるため、その量は0.5質量%
以上が好ましい。但し、過剰に含まれると析出結晶の粗
大化、結晶相変化および化学的耐久性が悪化する為にそ
の量は5質量%以下が好ましい。
The K 2 O component not only improves the melting property of the glass but also prevents coarsening of precipitated crystals, and in the present invention, particularly, in the present invention, other alkali components (Li 2 O component and / or Na 2 O component) By coexisting with (mixing with), there is an important effect of suppressing elution or diffusion of alkali ions.
The above is preferred. However, if it is contained excessively, the precipitated crystals become coarse, the crystal phase changes, and the chemical durability deteriorates, so the amount is preferably 5% by mass or less.

【0036】Na2O成分もK2O成分と同様ガラスの溶
融性を向上させると同時に析出結晶の粗大化を防止する
効果を有すると共に、特に本発明においては、他のアル
カリ成分(Li2O成分およびK2O成分)と共存させる
(混合させる)ことにより、アルカリイオンの拡散を抑
制するという重要な効果があり、特にこの効果は、Li
2O,Na2OおよびK2Oの3成分が適切な範囲で混合
された時、そのアルカリ合計量に対して溶出防止効果が
最も発揮される。この効果を発揮するためにはNa2
成分は0.5質量%以上が好ましいが、K2O成分ほど
その効果は顕著ではないため、含有量が必要以上に多く
なるとかえってアルカリ溶出が増加傾向となる。したが
って3質量%以下とするのが好ましい。
As with the K 2 O component, the Na 2 O component has the effect of improving the melting property of the glass and at the same time preventing the deposited crystals from becoming coarse, and in the present invention, in particular, in the present invention, other alkali components (Li 2 O Component and K 2 O component), there is an important effect of suppressing the diffusion of alkali ions.
When the three components of 2 O, Na 2 O, and K 2 O are mixed in an appropriate range, the effect of preventing elution with respect to the total amount of alkali is most exhibited. To achieve this effect, Na 2 O
The content of the component is preferably 0.5% by mass or more, but its effect is not so remarkable as that of the K 2 O component. Therefore, when the content is more than necessary, the alkali elution tends to increase. Therefore, the content is preferably 3% by mass or less.

【0037】しかし、1質量%以下の場合は3種類のア
ルカリの混合効果による溶出防止はやや低下するもの
の、Li2O成分およびK2O成分の2種類のアルカリ混
合効果が存在することや、Na2O成分含有量自体が低
いことのため、この場合でもアルカリ溶出量の著しく低
いガラスセラミックス基板を得ることが可能である。
However, when the content is less than 1% by mass, the elution prevention due to the mixing effect of the three alkalis is slightly lowered, but the mixing effect of the two alkalis of the Li 2 O component and the K 2 O component exists. Since the Na 2 O component content itself is low, it is possible to obtain a glass-ceramic substrate with an extremely low alkali elution amount even in this case.

【0038】ここでアルカリ混合効果について述べる。
本来アルカリ溶出量はガラスマトリックス中にあるアル
カリイオンによるもので、これらアルカリ成分の総量が
多ければそれに伴ってアルカリ溶出量も多くなると考え
られるが、2種以上のアルカリを共存させる(混合させ
る)ことにより、アルカリ成分が1種類である場合より
も、著しくアルカリ溶出量を低減することができるもの
である。これはこれらアルカリ成分を混合することによ
り、各アルカリ成分の拡散係数を下げることができると
いうことによるものである。特にLi2O成分とK2O成
分の2種類の組合せや、Li2O成分、Na2O成分およ
びK2O成分の3主成分の組合せにおいては,、その効果
が非常に優れたものであった。しかし拡散係数が低下し
たからといっても、元々の各アルカリ成分含有量が多け
れば、アルカリ溶出量はこれに比例して増加してしま
う。本願は、あくまでもアルカリ溶出量の低いガラスを
志向し、これらアルカリ含有量を最適化したものであ
る。
Here, the alkali mixing effect will be described.
Originally, the amount of alkali eluted is due to the alkali ions in the glass matrix. It is thought that if the total amount of these alkali components is large, the amount of alkali eluted will also increase, but coexistence (mixing) of two or more types of alkalis Thus, the amount of alkali elution can be significantly reduced as compared with the case where only one alkali component is used. This is because the diffusion coefficient of each alkali component can be reduced by mixing these alkali components. In particular and two combinations of Li 2 O component and K 2 O component, in which ,, the effect was very good in 3 principal components of the combination of Li 2 O component, Na 2 O component and K 2 O ingredients there were. However, even if the diffusion coefficient is lowered, if the original content of each alkali component is large, the alkali elution amount increases in proportion to this. The present application is directed to a glass having a low alkali elution amount and optimizing the alkali content.

【0039】Sb23およびAs23成分はガラス溶融
の際の清澄剤として添加しうるが、それらの成分の和は
2質量%以下、より好ましくは1質量%以下で充分であ
る。
The Sb 2 O 3 and As 2 O 3 components can be added as a fining agent at the time of glass melting, but the sum of these components is preferably 2% by mass or less, more preferably 1% by mass or less.

【0040】次にPbOを実質的に含まない理由につい
てであるが、磁気媒体膜中に拡散しやすいため、磁性膜
の高精度化や微細化において、さらには環境上において
も好ましくない成分であるので、使用は極力避けるべき
である。
Next, for the reason that PbO is not substantially contained, it is an unfavorable component in improving the precision and miniaturization of the magnetic film and also in the environment because it is easily diffused into the magnetic medium film. Therefore, use should be avoided as much as possible.

【0041】尚、上記組成の他に、Cu,Co,Fe,
Mn,Cr,Sn,Vから選ばれる1種または2種以上
の元素については、酸化物換算で2質量%まで含有する
こともできる。さらにGe、Gd、Ti、Ta、Nbか
ら選ばれる1種または2種以上の元素については、酸化
物換算で5質量%まで含有することもできる。
In addition to the above composition, Cu, Co, Fe,
One or more elements selected from Mn, Cr, Sn, and V can be contained up to 2% by mass in terms of oxide. Further, one or more elements selected from Ge, Gd, Ti, Ta and Nb can be contained up to 5% by mass in terms of oxide.

【0042】つぎに本発明にかかる磁気情報記憶媒体用
ガラスセラミックス基板を製造するには、上記の組成を
有するガラスを溶解し、熱間成形および/または冷間加
工を行った後、400〜600℃の範囲の温度で1〜7
時間熱処理して結晶核を形成し、続いて700〜760
℃の範囲の温度で約1〜7時間熱処理して結晶化を行
う。この熱処理条件によって、所望の結晶相,結晶粒
径,結晶化度を持ったガラスセラミックス基板を得るこ
とができる。
Next, in order to manufacture the glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium according to the present invention, the glass having the above composition is melted, hot-formed and / or cold-worked, and then 400-600. 1-7 at a temperature in the range of ° C
Heat treatment for hours to form crystal nuclei, followed by 700-760
The crystallization is performed by heat treatment at a temperature in the range of 1 to 7 hours. Under these heat treatment conditions, a glass-ceramic substrate having a desired crystal phase, crystal grain size and crystallinity can be obtained.

【0043】この熱処理結晶化したガラスセラミックス
を常法によりラッピングした後ポリシングすることによ
り、表面粗度Ra(算術平均粗さ)が1.0Å以上、
5.0Å以下の範囲内の情報記憶媒体用ディスク基板が
得られ、更にこのディスク基板上に磁性膜および必要に
応じてNi−Pメッキ、または下地層、保護層、潤滑膜
等を形成する事により、表面平滑性が良好で、且つアル
カリ溶出に起因するデフェクトがなく、長時間の入出力
テストにおいても何ら問題を生じるものではない良好な
情報磁気記憶媒体ディスクが得ることができる。
The heat treated crystallized glass ceramic is lapped by a conventional method and then polished, so that the surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) is 1.0 ° or more.
A disk substrate for an information storage medium within a range of 5.0 ° or less is obtained, and a magnetic film and, if necessary, Ni-P plating, or an underlayer, a protective layer, a lubricating film, etc. are formed on the disk substrate. As a result, it is possible to obtain a good information magnetic storage medium disk which has good surface smoothness, has no defects due to alkali elution, and does not cause any problem even in a long-time input / output test.

【0044】[0044]

【発明の実施の形態】次に本発明の好適な実施例につい
て説明する。表1〜3は本発明の情報記憶媒体用ディス
ク用ガラスセラミックス基板の実施組成例(No.1〜
7)および比較組成例として従来のLi2O−SiO2
ガラスセラミックス2種(比較例1:特開昭62−72
547号公報記載のもの、比較例2:特開平9−352
34号公報記載のもの)についての組成(酸化物基準の
質量百分率で表す),核形成温度,結晶化温度,結晶
相,結晶化度,結晶粒子径(平均)を示したもので、表
4〜6は表1〜3のガラスセラミックス基板の熱膨張,
ヤング率,比重,曲げ強度,研磨して成る表面粗度Ra
(算術平均粗さ)の値およびアルカリ溶出量を示したも
のである。
Next, a preferred embodiment of the present invention will be described. Tables 1 to 3 show working composition examples (No. 1 to No. 1) of a glass ceramic substrate for a disc for an information storage medium of the present invention.
7) and the comparative conventional Li 2 O-SiO 2 system glass ceramics two as Composition Example (Comparative Example 1: JP 62-72
No. 547, Comparative Example 2: JP-A-9-352
No. 34, the composition (expressed in terms of mass percentage based on oxide), nucleation temperature, crystallization temperature, crystal phase, crystallinity, and crystal particle size (average) are shown in Table 4. 6 to 6 show the thermal expansion of the glass ceramic substrate shown in Tables 1 to 3,
Young's modulus, specific gravity, bending strength, surface roughness Ra polished
It shows the value of (arithmetic average roughness) and the amount of alkali elution.

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【0046】[0046]

【表2】 [Table 2]

【0047】[0047]

【表3】 [Table 3]

【0048】[0048]

【表4】 [Table 4]

【0049】[0049]

【表5】 [Table 5]

【0050】[0050]

【表6】 [Table 6]

【0051】[0051]

【表7】 [Table 7]

【0052】[0052]

【表8】 [Table 8]

【0053】[0053]

【表9】 [Table 9]

【0054】[0054]

【表10】 [Table 10]

【0055】[0055]

【表11】 [Table 11]

【0056】[0056]

【表12】 [Table 12]

【0057】本発明の上記実施例のガラスは、いずれも
酸化物、炭酸塩、硝酸塩等の原料を混合し、これを通常
の溶解装置を用いて約1350〜1450℃の温度で溶
解し攪拌均質化した後ディスク状に成形して、冷却しガ
ラス成形体を得た。その後これを400〜600℃で約
1〜7時間熱処理して結晶核形成後、700〜760℃
で約1〜7時間熱処理結晶化して、所望のガラスセラミ
ックスを得た。ついで上記ガラスセラミックスを800
#〜2000#のダイヤモンドペレットにて約5〜30
分ラッピングし、その後粒子径(平均)0.02〜3μ
mの研磨剤酸化セリュームにて約30〜60分間研磨し
仕上げた。このガラスセラミックス基板の外形寸法は、
外径65mmφ,内径20mmφ,厚さ0.635m
m,チャンファー加工:45°で0.1mmであった。
In the glasses of the above embodiments of the present invention, raw materials such as oxides, carbonates, nitrates, etc. are all mixed, and the mixture is melted at a temperature of about 1350 to 1450 ° C. using an ordinary melting apparatus, and the mixture is stirred and homogenized. Then, the mixture was molded into a disk and cooled to obtain a glass molded body. Thereafter, this is heat-treated at 400 to 600 ° C. for about 1 to 7 hours, and after forming crystal nuclei, 700 to 760 ° C.
For about 1 to 7 hours to obtain a desired glass ceramic. Then, the above glass ceramics were
Approximately 5-30 with # ~ 2000 # diamond pellets
Wrapping, then particle size (average) 0.02-3μ
The abrasive was polished for about 30 to 60 minutes with an abrasive oxidized cerium. The external dimensions of this glass ceramic substrate are
Outer diameter 65mmφ, inner diameter 20mmφ, thickness 0.635m
m, chamfering: 0.1 mm at 45 °.

【0058】各結晶相の結晶粒子径(平均)については
透過型電子顕微鏡(TEM)により求めた。各結晶相の
結晶種はX線回折(XRD)装置および、結晶化度につ
いてはそれぞれの結晶種の100質量%結晶標準試料お
よび内部標準試料としてSiを準備し、X線回折(XR
D)装置により、内部標準法(Internal standard meth
od:JISにおいては内標準法)を使った回折ピーク面積
により求めた。
The crystal grain size (average) of each crystal phase was determined by a transmission electron microscope (TEM). For the crystal seed of each crystal phase, an X-ray diffraction (XRD) apparatus was used, and for the degree of crystallinity, Si was prepared as a 100% by mass crystal standard sample and an internal standard sample of each crystal seed.
D) Internal standard method (Internal standard meth
od: determined by the diffraction peak area using the internal standard method in JIS.

【0059】さらに表面粗度Ra(算術平均粗さ)につ
いては、原子間力顕微鏡(AFM)により求めた。
Further, the surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) was determined by an atomic force microscope (AFM).

【0060】曲げ強度については、カップ式リング曲げ
試験により、ディスクの内径・外径・板厚・ポアソン比
・最大荷重により算出した。
The bending strength was calculated from the inner diameter, outer diameter, plate thickness, Poisson's ratio, and maximum load of the disk by a cup-type ring bending test.

【0061】アルカリ溶出成分の測定はイオンクロマト
グラフィを用いて測定を行った。試験条件は、30℃の
純水,80ミリリットルに、前記よって得られた各ガラ
スセラミックス基板1枚を3時間浸漬し、純水中に溶出
したアルカリ濃度から、基板のアルカリ溶出量を計算に
て求めた。
The measurement of the alkaline elution component was performed by using ion chromatography. The test conditions were as follows. One glass ceramic substrate obtained above was immersed in pure water at 30 ° C. and 80 ml for 3 hours, and the alkali elution amount of the substrate was calculated from the alkali concentration eluted in the pure water. I asked.

【0062】表1〜3に示される通り、本発明のガラス
セラミックス基板は主結晶相が二珪酸リチウム(Li2
Si25)およびα−クォーツからなり、結晶粒子はい
ずれも0.02μ以下と微細で粒子形状もほぼ球状であ
るのに対し、比較例1のガラスセラミックスは二珪酸リ
チウムの結晶粒子径(平均)が1.5μm、比較例2の
ガラスセラミックスはβ−スポジューメンの結晶粒子径
(平均)が0.2μmと、いずれも比較的大きな針状な
いし米粒形状である。これは、より平滑性を求められる
状況において、研磨して成る表面粗度や欠陥に影響する
ものであり、比較例1,2のガラスセラミックスはいず
れも表面粗度Ra(算術平均粗さ)が11Å以上と、平
滑性の優れた表面特性を得ることが困難であることを示
すものである。
As shown in Tables 1 to 3, the glass-ceramic substrate of the present invention has a main crystal phase of lithium disilicate (Li 2
Si 2 O 5 ) and α-quartz, all of the crystal grains are fine and less than 0.02 μm, and the particle shape is almost spherical, whereas the glass ceramic of Comparative Example 1 has a crystal particle diameter of lithium disilicate ( (Average) is 1.5 μm, and the glass ceramics of Comparative Example 2 have a β-spodumene crystal particle diameter (average) of 0.2 μm, all of which have a relatively large acicular or rice grain shape. This has an effect on the surface roughness and defects obtained by polishing in a situation where more smoothness is required, and the glass ceramics of Comparative Examples 1 and 2 all have a surface roughness Ra (arithmetic average roughness). 11 ° or more indicates that it is difficult to obtain surface characteristics having excellent smoothness.

【0063】また、ガラスセラミックス基板の平均線膨
張係数(×10-7/℃)についても、比較例1,2共に
50未満と低膨張となっており、更にヤング率84GP
a以下、曲げ強度320MPa以下と、比較例1、2の
ガラスセラミックスは、低ヤング率、低強度材であり、
このことから最近の高記録密度用磁気情報記憶媒体用基
板材として不適合である。
The average coefficient of linear expansion (× 10 −7 / ° C.) of the glass ceramic substrate was less than 50 in both Comparative Examples 1 and 2, and the Young's modulus was 84 GP.
a, the bending strength is 320 MPa or less, and the glass ceramics of Comparative Examples 1 and 2 are low Young's modulus and low strength materials,
For this reason, it is unsuitable as a recent substrate material for a high-density magnetic information storage medium.

【0064】更に、上記の実施例により得られたガラス
セラミックス基板に、DCスパッタ法により、Cr中間
層(80nm)、Co−Cr磁性層(50nm)、Si
C保護膜(10nm)を成膜した。次いでパーフルオロ
ポリエーテル系潤滑剤(5nm)を塗布して、情報記憶
媒体を得た。これによって得られた情報記憶媒体は、そ
の良好な表面粗度により、従来よりもヘッド浮上高さを
低減することができ、またランプローディング方式によ
って、ヘッドと媒体が接触状態での入出力を行っても、
ヘッド破損・媒体破損を生じることなく磁気信号の入出
力を行うことができた。さらに本発明のガラスセラミッ
クスは、ランディングゾーン方式にて行われるレーザー
テクスチャーにおいても安定したバンプ形状を示す基板
である。
Further, a Cr intermediate layer (80 nm), a Co—Cr magnetic layer (50 nm), a Si
A C protective film (10 nm) was formed. Next, a perfluoropolyether-based lubricant (5 nm) was applied to obtain an information storage medium. The information storage medium obtained in this way can reduce the flying height of the head compared to the conventional one due to its good surface roughness, and perform input / output in the state where the head and the medium are in contact by the ramp loading method. Even
Magnetic signals could be input and output without causing head damage and medium damage. Further, the glass ceramic of the present invention is a substrate which shows a stable bump shape even in a laser texture performed by a landing zone method.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、上
記従来技術に見られる諸欠点を解消しつつ、高記録密度
化に対応したヘッドの低浮上化または接触を可能とする
原子レベルの超平滑性を有し、さらには情報速度の高速
化に対応する高速回転化に対応する高ヤング率・低比重
を有するのと同時にモバイル用途に不可欠な高機械的強
度を兼ね備え且つガラス中のアルカリ成分を極力低減さ
せた情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板およびその
製造方法ならびにこのガラスセラミックス基板上に磁気
媒体の被膜を形成してなる磁気情報記憶媒体を提供する
ことができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to achieve a low flying height or contact of the head corresponding to a high recording density. It has ultra-smoothness, high Young's modulus and low specific gravity corresponding to high-speed rotation corresponding to high information speed, and at the same time has high mechanical strength indispensable for mobile applications It is possible to provide a glass ceramic substrate for an information storage medium in which an alkali component is reduced as much as possible, a method for manufacturing the same, and a magnetic information storage medium in which a coating of a magnetic medium is formed on the glass ceramic substrate.

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Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 主結晶相として二珪酸リチウム(Li2
O・2SiO2)を含有し、且つLi2Oの含有量が酸化
物質量換算で4質量%〜8質量%であることを特徴とす
る、情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板。
1. The method according to claim 1, wherein lithium disilicate (Li 2
O.2SiO 2 ), and the content of Li 2 O is from 4% by mass to 8% by mass in terms of oxide mass.
【請求項2】 二珪酸リチウムの結晶相の結晶化度が1
5〜40質量%であることを特徴とする、請求項1に記
載の情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板。
2. The crystalline phase of lithium disilicate has a crystallinity of 1
The glass ceramic substrate for an information storage medium according to claim 1, wherein the content is 5 to 40% by mass.
【請求項3】 −50〜+70℃における平均線膨張係
数が+65〜+130×10-7/℃であることを特徴と
する、請求項1または2に記載の情報記憶媒体用ガラス
セラミックス基板。
3. The glass ceramic substrate for an information storage medium according to claim 1, wherein the average linear expansion coefficient at −50 to + 70 ° C. is +65 to + 130 × 10 −7 / ° C.
【請求項4】 ヤング率(GPa)/比重が37以上で
あることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つに
記載の情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板。
4. The glass ceramic substrate for an information storage medium according to claim 1, wherein the Young's modulus (GPa) / specific gravity is 37 or more.
【請求項5】 曲げ強度が400MPa以上であること
を特徴とする、請求項1〜4のいずれか一つに記載の情
報記憶媒体用ガラスセラミックス基板。
5. The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to claim 1, having a bending strength of 400 MPa or more.
【請求項6】 主結晶相として(1)二珪酸リチウム
(Li2O・2SiO2)および(2)α―クオーツ(α
―SiO2)またはα−クォーツ固溶体(α―SiO2
溶体)を含み、これら主結晶相全体の結晶粒子径(平
均)は0.05μm以下であることを特徴とする、請求
項1〜5のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラス
セラミックス基板。
6. The main crystal phases (1) lithium disilicate (Li 2 O.2SiO 2 ) and (2) α-quartz (α)
-SiO 2 ) or α-quartz solid solution (α-SiO 2 solid solution), and the crystal grain size (average) of the entire main crystal phase is 0.05 μm or less. The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to any one of the above.
【請求項7】 主結晶相として、(1)二珪酸リチウム
(Li2O・2SiO2)および(2)α−クォーツ(α
−SiO2)またはα−クォーツ固溶体(α−SiO2
溶体)を含み、且つ前記α―クオーツまたはα−クォー
ツ固溶体結晶相の結晶化度が3〜35質量%、その結晶
粒子径(平均)は0.10μm以下であることを特徴と
する、請求項1〜6のいずれか一つに記載の情報記憶媒
体用ガラスセラミックス基板。
7. The main crystal phases include (1) lithium disilicate (Li 2 O.2SiO 2 ) and (2) α-quartz (α).
-SiO 2 ) or α-quartz solid solution (α-SiO 2 solid solution), and the crystallinity of the α-quartz or α-quartz solid solution crystal phase is 3 to 35% by mass, and the crystal particle diameter (average) is The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to any one of claims 1 to 6, wherein the thickness is 0.10 µm or less.
【請求項8】 結晶粒子はいずれも微細でほぼ球状であ
ることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つに記
載の情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板。
8. The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to claim 1, wherein the crystal grains are all fine and substantially spherical.
【請求項9】 PbOを実質的に含まないことを特徴と
する、請求項1〜8のいずれか一つに記載の情報記憶媒
体用ガラスセラミックス基板。
9. The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to claim 1, wherein the glass-ceramic substrate is substantially free of PbO.
【請求項10】 研磨加工後の表面粗度Ra(算術平均
粗さ)が5.0Å以下であることを特徴とする、請求項
1〜9のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラスセ
ラミックス基板。
10. The glass for an information storage medium according to claim 1, wherein a surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) after polishing is 5.0 ° or less. Ceramic substrate.
【請求項11】 ガラスセラミックスの組成は質量百分
率(酸化物換算)で SiO2 70 〜77% Li2O 4 〜 8% K2O 0.5 〜 5% MgO+ZnO+SrO+BaO+CaO 1 〜 7% Y23+WO3+La23+Bi23+SnO2 0 〜 3% P25 1.0〜 2.5% ZrO2 2.0〜 7% Al23 5 〜 10% Na2O 0.5〜 3% Sb23+As23 0 〜 2% の範囲の各成分を含有することを特徴とする、請求項1
〜10のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラスセ
ラミックス基板。
11. The composition of glass ceramics is expressed as mass percentage (in terms of oxide) of SiO 2 70 to 77% Li 2 O 4 to 8% K 2 O 0.5 to 5% MgO + ZnO + SrO + BaO + CaO 1 to 7% Y 2 O 3 + WO 3 + La 2 O 3 + Bi 2 O 3 + SnO 2 0 ~ 3% P 2 O 5 1.0~ 2.5% ZrO 2 2.0~ 7% Al 2 O 3 5 ~ 10% Na 2 O 0.5~ The composition according to claim 1, further comprising 3% Sb 2 O 3 + As 2 O 3 0 to 2% of each component.
11. The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to any one of items 10 to 10.
【請求項12】 ガラスセラミックスの組成は質量百分
率(酸化物換算)で SiO2 70 〜77% Li2O 4 〜 8% K2O 0.5 〜 5% MgO+ZnO+SrO+BaO+CaO 1 〜 7% Y23+WO3+La23+Bi23+SnO2 0 〜 3% P25 1.0〜 2.5% ZrO2 2.0〜 7% Al23 5 〜 10% Na2O 0 〜 1% Sb23+As23 0 〜 2% の範囲の各成分を含有することを特徴とする、請求項1
〜10のいずれか一つに記載の情報記憶媒体用ガラスセ
ラミックス基板。
12. The composition of glass ceramics is expressed as mass percentage (in terms of oxide) of SiO 2 70 to 77% Li 2 O 4 to 8% K 2 O 0.5 to 5% MgO + ZnO + SrO + BaO + CaO 1 to 7% Y 2 O 3 + WO 3 + La 2 O 3 + Bi 2 O 3 + SnO 2 0 to 3% P 2 O 5 1.0 to 2.5% ZrO 2 2.0 to 7% Al 2 O 3 5 to 10% Na 2 O 0 to 1% 2. The composition according to claim 1, wherein each component is contained in the range of Sb 2 O 3 + As 2 O 3 0 to 2%.
11. The glass-ceramic substrate for an information storage medium according to any one of items 10 to 10.
【請求項13】 原ガラスを400℃〜600℃で1〜
7時間熱処理して核形成した後、700℃〜760℃で
1〜7時間熱処理して結晶成長させ、その研磨後の表面
粗度Ra(算術平均粗さ)を5Å以下とすることを特徴
とする、請求項11または12に記載の情報記憶媒体用
ガラスセラミックス基板の製造方法。
13. The raw glass is heated at 400.degree.
After heat treatment for 7 hours to form nuclei, heat treatment is performed at 700 ° C. to 760 ° C. for 1 to 7 hours to grow crystals, and the surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) after polishing is set to 5 ° or less. The method for producing a glass ceramic substrate for an information storage medium according to claim 11 or 12, wherein
【請求項14】 請求項1〜13のいずれか一つに記載
の情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板上に磁性膜お
よび必要に応じてNi−Pメッキ、または下地層、保護
層、潤滑膜等を形成してなる情報記憶媒体ディスク。
14. A magnetic film and optionally Ni-P plating, or an underlayer, a protective layer, a lubricating film, etc., on the glass-ceramic substrate for an information storage medium according to claim 1. An information storage medium disk formed.
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