JP2001183527A - Polyimide-based resin for optical parts, and phase contrast plate and wavelength plate each using the same - Google Patents

Polyimide-based resin for optical parts, and phase contrast plate and wavelength plate each using the same

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JP2001183527A
JP2001183527A JP36579799A JP36579799A JP2001183527A JP 2001183527 A JP2001183527 A JP 2001183527A JP 36579799 A JP36579799 A JP 36579799A JP 36579799 A JP36579799 A JP 36579799A JP 2001183527 A JP2001183527 A JP 2001183527A
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bis
dianhydride
polyimide resin
wavelength
film
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JP36579799A
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Japanese (ja)
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Tadahiro Kimura
忠宏 木村
Takashi Kumaki
尚 熊木
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Showa Denko Materials Co Ltd
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low-cost polyimide resin for optical parts having transparency to light of 400-1,000 nm wavelength and giving a high phase contrast, and a phase contrast plate and a wavelength plate each using the resin and having good light transmittance in a relatively short wavelength range of 400-1,000 nm and high birefringence. SOLUTION: The polyimide resin for optical parts used under a light source having the wavelength range of 400-1,000 nm contains repeating units of formula 1a or 1b. In the formulae 1a and 1b, R is a divalent organic group; R' and R" are each a monovalent organic group or H; R1 and R2 are each a monovalent organic group or H; and R', R", R1 and R2 may be mutually the same or different.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、位相差板、波長板
等に用いられる光学部品用ポリイミド系樹脂とそれを用
いた位相差板及び波長板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyimide resin for an optical component used for a retardation plate, a wave plate and the like, and a retardation plate and a wave plate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光配線、光通信、光記憶装置、光
ディスクメディアなど光を媒体とした情報伝達、情報保
管に関する光を使用する技術の発展が著しい。光の使用
は、光通信等の1300nm以上の比較的長波長の光を
使用する比較的長距離を情報伝送する場合と、光記憶装
置等の900nm以下の比較的短波長の光を使用する比
較的短距離を情報伝送する場合に大きく分けられる。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been a remarkable development of technology using light for transmitting and storing information using light as a medium, such as optical wiring, optical communication, optical storage devices and optical disk media. The use of light is compared with the case of transmitting information over a relatively long distance using light of a relatively long wavelength of 1300 nm or more, such as optical communication, and the use of light of a relatively short wavelength of 900 nm or less, such as an optical storage device. When information is transmitted over a short distance, it can be broadly divided.

【0003】900nm以下の比較的短波長の光を用い
る装置、例えば光記憶装置のメディアとしては、コンパ
クトディスク(CD)、ミニディスク(MD)、CD−
R(シーディーアール)、CD−RW(シーディーアー
ルリライタブル)、DVD(ディーブイディ)、DVD
−RAM(ディーブイディラム)、DVD−R(ディー
ブイディーアール)、その他光ディスクがある。これら
のメディアは一定のコヒーレント光をアゾ化合物やシア
ニン化合物等の記録媒体に照射し情報の書き込みを行っ
たり、書き込みより弱い光を照射して反射光をピックア
ップし読み取りを行ったりするが、それらの照射、反射
の際に位相差が生じ読み取り精度や書き込み精度を著し
く低下させるという問題がある。そのため位相差の生じ
たノイズ成分を除去するのに1/4波長板等が用いら
れ、これまでは水晶等が使用されてきた。
Devices using relatively short wavelength light of 900 nm or less, such as optical storage media, include compact disks (CD), mini disks (MD), and CD-ROMs.
R (CDR), CD-RW (CDR rewritable), DVD (DVI), DVD
-There are RAM (Did-idrum), DVD-R (Dedd-R), and other optical disks. These media irradiate a certain coherent light to a recording medium such as an azo compound or a cyanine compound to write information, or irradiate light weaker than the writing to pick up reflected light and perform reading. There is a problem that a phase difference occurs at the time of irradiation and reflection, and reading accuracy and writing accuracy are remarkably reduced. Therefore, a quarter-wave plate or the like is used to remove a noise component having a phase difference, and a crystal or the like has been used so far.

【0004】水晶波長板は、一軸結晶である水晶を結晶
軸に平行な平面で切り得られるが、波長板そのものが高
価であり、比較的重量があるため周辺部品にもコストが
かかるという問題がある。また、水晶波長板は安定供給
が難しく、今後予想される爆発的な光情報伝達、光情報
記憶装置の普及に追従できない可能性が高いという問題
がある。さらには、水晶は脆く部品の製造プロセス中に
割れることがあり、歩留まりが下がるという問題があ
る。
A quartz wave plate can be obtained by cutting a crystal, which is a uniaxial crystal, in a plane parallel to the crystal axis. However, since the wave plate itself is expensive and relatively heavy, the cost of peripheral parts is high. is there. Further, there is a problem that it is difficult to stably supply a quartz wave plate, and there is a high possibility that it will not be possible to follow explosive optical information transmission and optical information storage devices expected in the future. Furthermore, quartz is fragile and may be broken during the manufacturing process of a part, resulting in a problem of lowering the yield.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、40
0〜1000nmの波長光に対して透明で高い位相差を
得られ、且つ安価な光学部品用ポリイミド系樹脂を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to
An object of the present invention is to provide an inexpensive polyimide resin for an optical component, which is transparent to light having a wavelength of 0 to 1000 nm and can obtain a high phase difference.

【0006】本発明の他の目的は、400nm〜100
0nmの比較的短波長光領域の光透過性がよく、複屈折
の大きい位相差板を提供することにある。
[0006] Another object of the present invention is to provide a light source having a wavelength of 400 nm to 100 nm.
An object of the present invention is to provide a retardation plate having a good light transmittance in a relatively short wavelength region of 0 nm and a large birefringence.

【0007】本発明の他の目的は、400nm〜100
0nmの比較的短波長光領域の光透過性がよく、軽量、
薄膜且つ安価な波長板を提供することにある。
[0007] Another object of the present invention is to provide a light source device having a wavelength of 400 nm
Good light transmission in the relatively short wavelength region of 0 nm, light weight,
It is to provide a thin film and an inexpensive wave plate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者ら、ポリイミド
系樹脂について各種検討した結果、特定の構造の繰り返
し単位を含むポリイミド系樹脂が特に400〜1000
nmの比較的短波長領域で光線透過率が高く、高い位相
差を得られることを見出し、この知見に基づいて本発明
を完成するに至った。
As a result of various studies on the polyimide resin, the present inventors have found that a polyimide resin containing a repeating unit having a specific structure is particularly 400 to 1000.
It has been found that the light transmittance is high in a relatively short wavelength region of nm and a high phase difference can be obtained, and the present invention has been completed based on this finding.

【0009】本発明は一般式1a又は1bThe present invention relates to a compound of the general formula 1a or 1b

【0010】[0010]

【化2】 (式中、Rは2価の有機基を表し、R′及びR″は1価
の有機基又は水素原子を表し、R1及びR2は1価の有機
基又は水素原子を表し、R′、R″、R1及びR2は同じ
ものであっても異なるものであってもよい。)で示され
る繰り返し単位を含むポリイミド系樹脂からなり、40
0〜1000nm波長領域の光源で使用される光学部品
用ポリイミド系樹脂に関する。
Embedded image (Wherein, R represents a divalent organic group, R ′ and R ″ represent a monovalent organic group or a hydrogen atom, R 1 and R 2 represent a monovalent organic group or a hydrogen atom, , R ″, R 1 and R 2 may be the same or different from each other.)
The present invention relates to a polyimide resin for an optical component used in a light source in a wavelength range of 0 to 1000 nm.

【0011】本発明は、また、400〜800nm波長
領域の光源で使用される前記光学部品用ポリイミド系樹
脂に関する。
[0011] The present invention also relates to the polyimide resin for an optical component used in a light source in a wavelength region of 400 to 800 nm.

【0012】本発明は、また、前記のポリイミド系樹脂
からなる400〜1000nm波長領域の光で使用され
る位相差板に関する。
[0012] The present invention also relates to a retardation plate comprising the above-mentioned polyimide resin and used for light in a wavelength region of 400 to 1000 nm.

【0013】本発明は、また、400〜800nm波長
領域の光で使用される前記の位相差板に関する。
[0013] The present invention also relates to the above retardation plate used for light in the wavelength region of 400 to 800 nm.

【0014】本発明は、また、前記のポリイミド系樹脂
からなる400〜1000nm波長領域で使用される波
長板に関する。
The present invention also relates to a wave plate made of the above-mentioned polyimide resin and used in a wavelength region of 400 to 1000 nm.

【0015】本発明は、また、400〜800nm波長
領域で使用される前記の波長板に関する。
The present invention also relates to the above-mentioned wave plate used in the wavelength region of 400 to 800 nm.

【0016】本発明の光学部品用ポリイミド系樹脂は、
配向を進めた場合単位あたりの複屈折位相差が非常に大
きくなる。本発明の光学部品用ポリイミド系樹脂を用い
れば、10μmあたり1000nm以上の位相差を容易
に得ることができる。
The polyimide resin for optical parts of the present invention comprises:
When the orientation is advanced, the birefringence phase difference per unit becomes very large. When the polyimide resin for optical parts of the present invention is used, a phase difference of 1000 nm or more per 10 μm can be easily obtained.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】一般式1a又は1bで表される繰
り返し単位を含むポリイミド系樹脂は比較的平面構造を
とりやすいため、配向しやすい。そのためフィルム、構
造物としたときに屈折率異方性が強く複屈折が発生す
る。特に基材上に塗布硬化した場合には基材面に対して
配向しやすいため、塗布面内に導波モードでレーザー光
などを通した場合には大きい複屈折を得ることができ
る。さらにこのポリイミド系樹脂は400〜1000n
mの光の波長領域で光線透過率が高い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A polyimide resin containing a repeating unit represented by the general formula 1a or 1b is relatively easy to have a planar structure, and is easily oriented. Therefore, when formed into a film or a structure, birefringence occurs due to strong refractive index anisotropy. In particular, when the composition is applied and cured on the substrate, it is easily oriented with respect to the surface of the substrate, so that a large birefringence can be obtained when a laser beam or the like is passed through the application surface in a guided mode. Furthermore, this polyimide resin is 400 to 1000 n
The light transmittance is high in the wavelength region of light m.

【0018】また、基材上に形成されたフィルムを基材
から剥離、または基材ごと延伸した場合、フィルム内の
分子は延伸方向に配向する傾向があり、このとき面に垂
直方向にレーザー光などを透過させた場合位相差板とし
ての働きをする。このときフィルムの厚さと延伸率を調
整すれば各種波長板を得ることができる。
When the film formed on the substrate is peeled off from the substrate or when the entire substrate is stretched, the molecules in the film tend to be oriented in the stretching direction. In the case where light is transmitted therethrough, it functions as a phase difference plate. At this time, various wavelength plates can be obtained by adjusting the thickness and the stretching ratio of the film.

【0019】さらにポリイミド系樹脂からなる波長板は
水晶のものに比べ同一膜厚あたりの位相差を大きくでき
るため部品を薄くでき、且つポリイミド系樹脂そのもの
も軽いため周辺の部品や稼動部にかかる負担が大きく低
減できるというメリットもある。周辺の部品や稼動部に
かかる負担が大きく低減できるということはそれらに対
してもコスト低減が期待でき、波長板そのものだけでは
なく部品や装置までも安価に作ることが出来るというメ
リットもある。
Further, the wavelength plate made of a polyimide resin can increase the phase difference per the same film thickness as compared with that of a quartz crystal, so that the parts can be made thin. In addition, since the polyimide resin itself is light, the burden on peripheral parts and operating parts is increased. Is also greatly reduced. The fact that the burden on peripheral components and the operating section can be greatly reduced also has the advantage that cost reduction can be expected for them, and that not only the wave plate itself but also components and devices can be manufactured at low cost.

【0020】本発明の位相差板を得るためには本発明の
光学部品用ポリイミド系樹脂のフィルムを得ることによ
り得られる。
The retardation plate of the present invention can be obtained by obtaining a polyimide resin film for an optical component of the present invention.

【0021】フィルムを得る方法としては、本発明の1
a又は1bで表される繰り返し単位を含むポリイミド系
樹脂の溶液を、塗布し、乾燥し、必要に応じ硬化し、延
伸することにより得る方法と、塗布し、乾燥し、延伸
し、必要に応じ硬化して得る方法がある。
As a method for obtaining a film, one of the methods of the present invention is used.
a method of applying a polyimide resin solution containing a repeating unit represented by a or 1b by applying, drying, curing if necessary, and stretching, and applying, drying, stretching, and optionally There is a method to obtain by curing.

【0022】塗布する方法としては、ガラス、石英など
の無機材料、シリコン、ガリウム−砒素、アルミニウ
ム、チタン、銅、銀、ステンレス等の半導体や金属材
料、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリ
アミドイミド等の有機材料の基材の上にスピン塗布、キ
ャスト塗布、ロール塗布する方法などがある。
As a method of coating, inorganic materials such as glass and quartz, semiconductors and metal materials such as silicon, gallium-arsenide, aluminum, titanium, copper, silver and stainless steel, and organic materials such as polyester, polypropylene, polyimide and polyamideimide are used. There are methods such as spin coating, cast coating and roll coating on a base material.

【0023】乾燥する方法としては基材に保持した状態
で室温〜200℃の範囲に加熱して溶剤を揮発させる
が、乾燥後延伸する場合はフィルム中の溶剤量が極端に
少なくなると延伸できなくなるので乾燥温度はあまり高
くないほうが好ましい。
As a method for drying, the solvent is volatilized by heating to a temperature in the range of room temperature to 200 ° C. while holding the substrate, but when the film is stretched after drying, the film cannot be stretched if the amount of solvent in the film becomes extremely small. Therefore, the drying temperature is preferably not too high.

【0024】延伸する方法としては、一軸延伸、逐次二
軸延伸、同時二軸延伸、一軸固定一軸延伸等があるが、
一軸固定一軸延伸が均一な面をより多く効率的に得るこ
とができるので好適である。また、この場合加熱延伸し
ても良い。
Examples of the stretching method include uniaxial stretching, sequential biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching, and uniaxial fixed uniaxial stretching.
Uniaxial fixing and uniaxial stretching are preferred because more uniform surfaces can be obtained more efficiently. In this case, the film may be stretched by heating.

【0025】硬化は通常250〜400℃の範囲で行う
ことによりポリイミド系樹脂を得ることができる。
Curing is usually performed at a temperature of 250 to 400 ° C. to obtain a polyimide resin.

【0026】ポリイミド系樹脂フィルムは、乾燥のみを
行った一般式1bで表される繰り返し単位を含むポリイ
ミド前駆体からなるポリイミド系樹脂フィルムでも使用
条件によっては問題無い。
The polyimide resin film made of a polyimide precursor containing a repeating unit represented by the general formula 1b which has been dried only has no problem depending on the conditions of use.

【0027】得られたフィルムを位相板又は波長板とす
るには、厚さ0.1〜100μmとすることが好まし
い。
In order to use the obtained film as a phase plate or a wave plate, the thickness is preferably 0.1 to 100 μm.

【0028】本発明の一般式1a又は1bで表される繰
り返し単位を含む光学部品用ポリイミド系樹脂は、3,
3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
を含むテトラカルボン酸二無水物とジアミンの共重合に
よって得られる。
The polyimide resin for optical parts containing a repeating unit represented by the general formula 1a or 1b according to the present invention comprises:
It is obtained by copolymerization of a tetracarboxylic dianhydride containing 3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride with a diamine.

【0029】Rは好ましくは炭素数1〜30の2価の有
機基であり、更に好ましくは炭素数6〜30の芳香族環
を有する2価の有機基である。R′、R″、R1及びR2
は好ましくは炭素数1〜30の1価の有機基であり、更
に好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。
R is preferably a divalent organic group having 1 to 30 carbon atoms, and more preferably a divalent organic group having an aromatic ring having 6 to 30 carbon atoms. R ', R ", R 1 and R 2
Is preferably a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

【0030】3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物は、テトラカルボン酸二無水物中10
0%が最も好ましいが、それ以下でも本発明の目標とす
る特性が得られる。よって他の酸二無水物を混合して使
用してもよいが、3,3′,4,4′−ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物の使用割合はテトラカルボン酸二
無水物中50モル%以上であることが好ましい。
3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride is used in tetracarboxylic dianhydride.
0% is most preferred, but below that the desired properties of the present invention can be obtained. Therefore, other acid dianhydrides may be used as a mixture, but the proportion of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride used is at least 50 mol% in the tetracarboxylic dianhydride. It is preferred that

【0031】本発明で用いられるポリイミド系樹脂とし
てはポリイミド樹脂(ポリイミド樹脂前駆体を含む)、
ポリイミド・イソインドロキナゾリンジオンイミド樹
脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂な
どが挙げられる。
The polyimide resin used in the present invention includes a polyimide resin (including a polyimide resin precursor),
Examples thereof include polyimide / isoindoloquinazolinedione imide resin, polyether imide resin, and polyamide imide resin.

【0032】ポリイミド樹脂の前駆体溶液は、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、
γ−ブチルラクトンジメチルスルホオキシドなどの極性
溶媒中でテトラカルボン酸二無水物とジアミンの反応に
よって得られる。
The precursor solution of the polyimide resin includes N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide,
It is obtained by reacting a tetracarboxylic dianhydride with a diamine in a polar solvent such as γ-butyl lactone dimethyl sulfoxide.

【0033】3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物と共に用いられるテトラカルボン酸二
無水物の例としてはピロメリット酸二無水物、2,3,
3′,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、
2,2′,3,3′−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸二無水物、2,2′,3,3′−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、
1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニ
ル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフ
ェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2−メチル−
3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビ
ス(2,5−ジメチル−3,4−ジカルボキシフェニ
ル)エーテル二無水物、ビス(2,5−ジエチル−3,
4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス
(2,5−ジエトキシ−3,4−ジカルボキシフェニ
ル)エーテル二無水物、1,2,3,4−シクロペンタ
ンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(4−(4
−カルボキシフェノキシ)フェニル)プロパン二無水
物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、2,3,5,6−ピリジンテトラカルボン酸二
無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸
二無水物、3,3′,4,4′−テトラフェニルシラン
テトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水
物、p−ターフェニル−3,3′,4,4′−テトラカ
ルボン酸二無水物、4,4′−ジフタル酸二無水物、
(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水和物、ジ
(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水和物、ジ
(ヘプタフルオロプロピル)ピロメリット酸二無水和
物、ペンタフルオロエチルピロメリット酸二無水和物、
ビス{3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェノキシ}
ピロメリット酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、
5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−3,3′,
4,4′−テトラカルボキシビフェニル二無水物、2,
2′,5,5′−テトラキス(トリフルオロメチル)−
3,3′,4,4′−テトラカルボキシビフェニル二無
水物、5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−3,
3′,4,4′−テトラカルボキシビフェニルエーテル
二無水物、5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−
3,3′,4,4′−テトラカルボキシベンゾフェノン
二無水物、ビス{(トリフルオロメチル)ジカルボキシ
フェノキシ}ベンゼン二無水物、ビス{(トリフルオロ
メチル)ジカルボキシフェノキシ}(トリフルオロメチ
ル)ベンゼン二無水物、ビス(ジカルボキシフェノキ
シ)(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水物、ビス
(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゼン二無水物、ビス(ジカルボキシフェノキ
シ)テトラキス(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水
物、2,2−ビス{(4−(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)フェニル}ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビ
ス{(トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノキシ}
ビフェニル二無水物、ビス{(トリフルオロメチル)ジ
カルボキシフェノキシ}ビス(トリフルオロメチル)ビ
フェニル二無水物、ビス{(トリフルオロメチル)ジカ
ルボキシフェノキシ}ジフェニルエーテル二無水物、ビ
ス(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフルオロメチ
ル)ビフェニル二無水物等の公知のテトラカルボン酸二
酸無水物が2種以上を組み合わせて使用されてもよい。
Examples of tetracarboxylic dianhydride used together with 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 2,3,3
3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride,
2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic acid Dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride,
1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride Anhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis ( 2-methyl-
3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,5-dimethyl-3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,5-diethyl-3,
4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,5-diethoxy-3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, , 2-bis (4- (4
-Carboxyphenoxy) phenyl) propane dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5,6 -Pyridinetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, p-terphenyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-diphthalic dianhydride,
(Trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride, di (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride, di (heptafluoropropyl) pyromellitic dianhydride, pentafluoroethyl pyromellitic dianhydride object,
Bis {3,5-di (trifluoromethyl) phenoxy}
Pyromellitic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride,
5,5'-bis (trifluoromethyl) -3,3 ',
4,4'-tetracarboxybiphenyl dianhydride, 2,
2 ', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl)-
3,3 ', 4,4'-tetracarboxybiphenyl dianhydride, 5,5'-bis (trifluoromethyl) -3,
3 ', 4,4'-tetracarboxybiphenyl ether dianhydride, 5,5'-bis (trifluoromethyl)-
3,3 ', 4,4'-tetracarboxybenzophenone dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} benzene dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} (trifluoromethyl) benzene Dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) (trifluoromethyl) benzene dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) bis (trifluoromethyl) benzene dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) tetrakis (trifluoromethyl) benzene Dianhydride, 2,2-bis {(4- (3,4-dicarboxyphenyl) phenyl} hexafluoropropane dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy}
Biphenyl dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} bis (trifluoromethyl) biphenyl dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} diphenyl ether dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) bis Known tetracarboxylic dianhydrides such as (trifluoromethyl) biphenyl dianhydride may be used in combination of two or more.

【0034】また、ポリアミドイミド樹脂を得る場合に
は、塩化無水トリメリット酸などが用いられる。
When obtaining a polyamideimide resin, trimellitic anhydride chloride or the like is used.

【0035】ジアミンとしては、例えば、4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェ
ニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、
4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、ベンジジ
ン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミ
ン、1,5−ナフタレンジアミン、2,6−ナフタレン
ジアミン、ビス(4−アミノフェノキシフェニル)スル
ホン、ビス(3−アミノフェノキシフェニル)スルホ
ン、ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、
1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,
2′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニル、2,
2′−ジエチル−4,4′−ジアミノビフェニル、3,
3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニル、3,
3′−ジエチル−4,4′−ジアミノビフェニル、2,
2′,3,3′−テトラメチル−4,4′−ジアミノビ
フェニル、2,2′,3,3′−テトラエチル−4,
4′−ジアミノビフェニル、2,2′−ジメトキシ−
4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジメトキシ
−4,4′−ジアミノビフェニル、2,2′−ジヒドロ
キシ−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジヒ
ドロキシ−4,4′−ジアミノビフェニル、2,2′−
ジ(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノビフェ
ニル、4−(1H,1H,11H−エイコサフルオロウ
ンデシルオキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−
(1H,1H−パーフルオロ−1−ブチルオキシ)−
1,3−ジアミノベンゼン、4−(1H,1H−パーフ
ルオロ−1−ヘプチルオキシ)−1,3−ジアミノベン
ゼン、4−(1H,1H−パーフルオロ−1−オクチル
オキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−ペンタフル
オロフェノキシ−1,3−ジアミノベンゼン、4−
(2,3,5,6−テトラフルオロフェノキシ)−1,
3−ジアミノベンゼン、4−(4−フルオロフェノキ
シ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−(1H,1H,
2H,2H−パーフルオロ−1−ヘキサノキシ)−1,
3−ジアミノベンゼン、4−(1H,1H,2H,2H
−パーフルオロ−1−ドデシルオキシ)−1,3−ジア
ミノベンゼン、2,5−ジアミノベンゾトリフルオロラ
イド、ビス(トリフルオロメチル)フェニレンジアミ
ン、ジアミノテトラ(トリフルオロメチル)ベンゼン、
ジアミノ(ペンタフルオロエチル)ベンゼン、2,5−
ジアミノ(パーフルオロヘキシル)ベンゼン、2,5−
ジアミノ(パーフルオロブチル)ベンゼン、2,2′−
ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノビフ
ェニル、3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,
4′−ジアミノビフェニル、オクタフルオロべンジジ
ン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−
ビス(p−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、
1,3−ビス(アニリノ)ヘキサフルオロプロパン、
1,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1,
5−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1,7−
ビス(アニリノ)テトラデカフルオロヘプタン、2,
2′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3,3′−ビス(トリフルオロ
メチル)−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、
3,3′,5,5′−テトラキス(トリフルオロメチ
ル)−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,
3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミ
ノベンゾフェノン、4,4′−ジアミノ−p−テルフェ
ニル、1,4−ビス(p−アミノフェニル)ベンゼン、
p−ビス(p−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ベンゼン、ビス(アミノフェノキシ)ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゼン、ビス(アミノフェノキシ)
テトラキス(トリフルオロメチル)ベンゼン、2,2−
ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサ
フルオロプロパン、2,2−ビス{4−(3−アミノフ
ェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2
−ビス{4−(2−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキ
サフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノ
フェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル}ヘキサフル
オロプロパン、4,4′−ビス(4−アミノ−2−トリ
フルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,4′−ビ
ス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)
ビフェニル、4,4′−ビス(4−アミノ−2−トリフ
ルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,
4′−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)ジフェニルスルホン、2,2−ビス{4−(4
−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニ
ル}ヘキサフルオロプロパン、ビス〔{(トリフルオロ
メチル)アミノフェノキシ}フェニル〕ヘキサフルオロ
プロパン、ビス{(トリフルオロメチル)アミノフェノ
キシ}ビフェニル、ビス〔2−{(アミノフェニキシ)
フェニル}ヘキサフルオロプロピル〕ベンゼン等の芳香
族ジアミン化合物等が、各々単独で、又は2種類以上の
組み合わせで使用される。これらの中で、2つ以上の芳
香族環の間の結合のうち少なくとも1つ以上がエーテル
基、メチレン基、カルボニル基を有する芳香族ジアミン
化合物が好ましく、エーテル基を有する芳香族ジアミン
化合物がより好ましい。加えて、少なくとも一つのアル
キル基が置換基として存在する少なくとも一つのフェニ
レン構造を有する芳香族ジアミン化合物が好ましく、ア
ルキル基が、それぞれの芳香族環の間の結合に対してオ
ルト位に位置するフェニレン構造を有する芳香族ジアミ
ン化合物がより好ましい。
Examples of the diamine include 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone,
4,4'-diaminodiphenyl sulfide, benzidine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 1,5-naphthalenediamine, 2,6-naphthalenediamine, bis (4-aminophenoxyphenyl) sulfone, bis (3-amino Phenoxyphenyl) sulfone, bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether,
1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,
2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,
2'-diethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,
3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,
3'-diethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,
2 ', 3,3'-tetramethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2', 3,3'-tetraethyl-4,
4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dimethoxy-
4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxy-4,4'- Diaminobiphenyl, 2,2'-
Di (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 4- (1H, 1H, 11H-eicosafluoroundecyloxy) -1,3-diaminobenzene, 4-
(1H, 1H-perfluoro-1-butyloxy)-
1,3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H-perfluoro-1-heptyloxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H-perfluoro-1-octyloxy) -1,3- Diaminobenzene, 4-pentafluorophenoxy-1,3-diaminobenzene, 4-
(2,3,5,6-tetrafluorophenoxy) -1,
3-diaminobenzene, 4- (4-fluorophenoxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H,
2H, 2H-perfluoro-1-hexanoxy) -1,
3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H, 2H, 2H
-Perfluoro-1-dodecyloxy) -1,3-diaminobenzene, 2,5-diaminobenzotrifluorofluoride, bis (trifluoromethyl) phenylenediamine, diaminotetra (trifluoromethyl) benzene,
Diamino (pentafluoroethyl) benzene, 2,5-
Diamino (perfluorohexyl) benzene, 2,5-
Diamino (perfluorobutyl) benzene, 2,2'-
Bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,
4'-diaminobiphenyl, octafluorobenzidine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 2,2-
Bis (p-aminophenyl) hexafluoropropane,
1,3-bis (anilino) hexafluoropropane,
1,4-bis (anilino) octafluorobutane, 1,
5-bis (anilino) decafluoropentane, 1,7-
Bis (anilino) tetradecafluoroheptane, 2,
2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether,
3,3 ', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,
3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diamino-p-terphenyl, 1,4-bis (p-aminophenyl) benzene,
p-bis (p-amino-2-trifluoromethylphenoxy) benzene, bis (aminophenoxy) bis (trifluoromethyl) benzene, bis (aminophenoxy)
Tetrakis (trifluoromethyl) benzene, 2,2-
Bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2
-Bis {4- (2-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl} hexafluoropropane, 4,4'-bis ( 4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy)
Biphenyl, 4,4'-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) diphenyl sulfone,
4'-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) diphenylsulfone, 2,2-bis {4- (4
-Amino-3-trifluoromethylphenoxy) phenyl {hexafluoropropane, bis [{(trifluoromethyl) aminophenoxy} phenyl] hexafluoropropane, bis {(trifluoromethyl) aminophenoxy} biphenyl, bis [2-} (Aminophenix)
Aromatic diamine compounds such as [phenyl [hexafluoropropyl] benzene] are used alone or in combination of two or more. Among these, aromatic diamine compounds having at least one or more of an ether group, a methylene group and a carbonyl group among bonds between two or more aromatic rings are preferable, and aromatic diamine compounds having an ether group are more preferable. preferable. In addition, an aromatic diamine compound having at least one phenylene structure in which at least one alkyl group is present as a substituent is preferable, and the phenylene group in which the alkyl group is located ortho to the bond between the aromatic rings. Aromatic diamine compounds having a structure are more preferred.

【0036】[0036]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0037】実施例1 4,4′−ジアミノジフェニルエーテル200gをN,
N−ジメチルアセトアミド588gに溶解した後に、
3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物294.2gを添加し、室温で20時間撹拌するこ
とによりポリイミド前駆体溶液を得た。基板としてSi
2で2μm被覆してある6インチのシリコンウエハを
使用し、その上に上記ポリイミド前駆体溶液を滴下しス
ピン塗布(1400rpm/30秒)を行ったあとにオ
ーブンで加熱(100℃/30分)してポリアミド酸膜
を形成した。この膜をはがし、東洋精機製作所製二軸延
伸装置で一軸固定一軸延伸を行った。この時の延伸率は
20%であった。延伸したフィルムを取り出し、延伸方
向を冶具で固定し、200℃/1時間+350℃/1時
間の硬化を東洋精機製クリーンオーブンで行った。硬化
後のこの膜の膜厚は17μmであった。
Example 1 200 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether was added to N,
After dissolving in 588 g of N-dimethylacetamide,
294.2 g of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was added and stirred at room temperature for 20 hours to obtain a polyimide precursor solution. Si as substrate
Using a 6-inch silicon wafer coated with 2 μm of O 2 , the above-mentioned polyimide precursor solution was dropped on the silicon wafer and spin-coated (1400 rpm / 30 seconds), and then heated in an oven (100 ° C./30 minutes) ) To form a polyamic acid film. The film was peeled off and uniaxially fixed uniaxial stretching was performed with a biaxial stretching device manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho. The stretching ratio at this time was 20%. The stretched film was taken out, the stretching direction was fixed with a jig, and curing was performed at 200 ° C./1 hour + 350 ° C./1 hour using a clean oven manufactured by Toyo Seiki. The thickness of this film after curing was 17 μm.

【0038】このフィルムの50%透過波長は440n
mあった。また、このフィルムの中心部の位相差をオー
ク社製複屈折測定装置(XY100型)で測定したとこ
ろ、約800nmであった。このフィルムは633nm
の波長で5/4λ波長板として機能することがわかっ
た。
The 50% transmission wavelength of this film is 440n.
m. Further, the retardation at the center of the film was measured with a birefringence measuring apparatus (XY100 type, manufactured by Oak Corporation) to be about 800 nm. This film is 633 nm
It was found to function as a 5 / 4λ wave plate at the wavelength of.

【0039】実施例2 4,4′−ジアミノジフェニルエーテル200gをN,
N−ジメチルアセトアミド588gに溶解した後に、
3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物294.2gを添加し、室温で20時間撹拌するこ
とによりポリイミド前駆体溶液を得た。基板としてSi
2で2μm被覆してある6インチのシリコンウエハを
使用し、その上に上記ポリイミド前駆体溶液を滴下しス
ピン塗布(1400rpm/30秒)を行ったあとにオ
ーブンで加熱(100℃/30分+200℃/30分+
350℃/1時間)してポリイミド膜を形成した。この
膜をはがし、引張り試験機で250℃に加熱しながら延
伸を行った。この時の延伸率は5%であった。延伸した
フィルムを取り出し膜厚を測定したところ19μmであ
った。
Example 2 200 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether was added to N,
After dissolving in 588 g of N-dimethylacetamide,
294.2 g of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was added and stirred at room temperature for 20 hours to obtain a polyimide precursor solution. Si as substrate
Using a 6-inch silicon wafer coated with 2 μm of O 2 , the above-mentioned polyimide precursor solution was dropped on the silicon wafer and spin-coated (1400 rpm / 30 seconds), and then heated in an oven (100 ° C./30 minutes) + 200 ° C / 30 minutes +
(350 ° C./1 hour) to form a polyimide film. This film was peeled off and stretched while heating to 250 ° C. with a tensile tester. The stretching ratio at this time was 5%. The stretched film was taken out and its film thickness was measured to be 19 μm.

【0040】このフィルムの50%透過波長は440n
mあった。また、このフィルムの中心部の位相差をオー
ク社製複屈折測定装置(XY100型)で測定したとこ
ろ、約320nmであった。このフィルムは633nm
の波長で1/2λ波長板として機能することがわかっ
た。
The 50% transmission wavelength of this film is 440n.
m. In addition, the retardation at the center of the film was measured by using a birefringence measuring apparatus (Model XY100) manufactured by Oak Corporation and found to be about 320 nm. This film is 633 nm
It was found to function as a 1 / 2λ wavelength plate at the wavelength of.

【0041】実施例3 4,4′−ジアミノジフェニルエーテル200gをN,
N−ジメチルアセトアミド3000gに溶解した後に、
3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物147.1gとピロメリット酸二無水物109gを
添加し、室温で20時間撹拌することによりポリイミド
前駆体溶液を得た。
Example 3 200 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether was added to N,
After dissolving in 3000 g of N-dimethylacetamide,
147.1 g of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 109 g of pyromellitic dianhydride were added, and the mixture was stirred at room temperature for 20 hours to obtain a polyimide precursor solution.

【0042】ここで得たポリイミド前駆体溶液を188
μmのポリエステルフィルムにコンマコーターを使って
塗布した。このフィルムを乾燥後、15%一軸延伸し
た。その後350℃で硬化し、位相差を測定したところ
約790nmであった。このフィルムは633nmの波
長光で5/4λ波長板として機能することがわかった。
このフィルムの633nm波長光の透過率は85%と良
好であった。
The polyimide precursor solution obtained here was added to 188
It was applied to a μm polyester film using a comma coater. After drying the film, it was stretched 15% uniaxially. Thereafter, the composition was cured at 350 ° C., and the phase difference was measured to be about 790 nm. This film was found to function as a / wavelength plate at 633 nm wavelength light.
The transmittance of this film at a wavelength of 633 nm was as good as 85%.

【0043】実施例4 4,4′−ジアミノジフェニルエーテル100g、p−
フェニレンジアミン53gをN,N−ジメチルアセトア
ミド2000gに溶解した後に、3,3′,4,4′−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物147.1gとピ
ロメリット酸二無水物109gを添加し、室温で20時
間撹拌することによりポリイミド前駆体溶液を得た。
Example 4 100 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether, p-
After dissolving 53 g of phenylenediamine in 2000 g of N, N-dimethylacetamide, 3,3 ', 4,4'-
147.1 g of biphenyltetracarboxylic dianhydride and 109 g of pyromellitic dianhydride were added and stirred at room temperature for 20 hours to obtain a polyimide precursor solution.

【0044】ここで得たポリイミド前駆体溶液をギャッ
プ300μmでキャスト塗布、ホットプレートで100
℃/15分加熱乾燥を行ない、フィルムを得た。このフ
ィルムを一軸に3%、一軸に10%同時に延伸し100
℃から350℃まで5℃/分の速度で昇温しながらホッ
トプレートで加熱硬化した。このフィルムの中心部の位
相差を633nmの波長光で測定したところ200nm
であった。このフィルムの633nm波長光の透過率は
90%と良好であった。
The polyimide precursor solution obtained here was cast applied with a gap of 300 μm, and 100
The film was dried by heating at 150 ° C. for 15 minutes to obtain a film. This film is simultaneously stretched 3% uniaxially and 10% uniaxially,
While the temperature was increased from 5 ° C. to 350 ° C. at a rate of 5 ° C./min, the composition was heated and cured on a hot plate. When the retardation at the center of the film was measured with light having a wavelength of 633 nm, it was 200 nm.
Met. The transmittance of this film at a wavelength of 633 nm was as good as 90%.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明によれば400nm〜1000n
mの比較的短波長光領域の光透過性に優れた光学部品用
ポリイミド系樹脂が得られ、400nm〜1000nm
の比較的短波長光領域の光透過性に優れたポリマー位相
差板を得ることができる。また、膜厚と配向の度合いに
よって位相差を簡単に制御できるので、軽量、薄膜、且
つ安価な波長板を容易に得ることができる。
According to the present invention, 400 nm to 1000 n
m, a polyimide resin for optical parts having excellent light transmittance in a relatively short wavelength region of 400 m to 400 nm to 1000 nm.
A polymer retardation plate excellent in light transmittance in a relatively short wavelength light region can be obtained. Further, since the phase difference can be easily controlled by the film thickness and the degree of orientation, a light-weight, thin-film, and inexpensive wave plate can be easily obtained.

フロントページの続き Fターム(参考) 2H049 BA06 BA25 BC03 BC09 CA20 4J043 PA02 PC115 PC135 PC136 PC145 PC146 PC155 PC156 QB15 QB26 QB31 RA05 RA35 SA06 SA54 SA55 SA56 SA61 SA71 SA72 TA01 TA22 TA47 TA48 TA49 TA71 TB01 UA041 UA121 UA122 UA131 UA132 UA151 UA152 UA261 UA262 UB011 UB012 UB121 UB122 UB281 UB301 VA021 VA031 VA041 VA061 VA101 ZA51 ZA55 ZB21 Continued on the front page F term (reference) 2H049 BA06 BA25 BC03 BC09 CA20 4J043 PA02 PC115 PC135 PC136 PC145 PC146 PC155 PC156 QB15 QB26 QB31 RA05 RA35 SA06 SA54 SA55 SA56 SA61 SA71 SA72 TA01 TA22 TA47 TA48 TA49 TA71 TB01 UA041 UA121 UA122 UA122 UA122 UA122 UA261 UA262 UB011 UB012 UB121 UB122 UB281 UB301 VA021 VA031 VA041 VA061 VA101 ZA51 ZA55 ZB21

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一般式1a又は1b 【化1】 (式中、Rは2価の有機基を表し、R′及びR″は1価
の有機基又は水素原子を表し、R1及びR2は1価の有機
基又は水素原子を表し、R′、R″、R1及びR2は同じ
ものであっても異なるものであってもよい。)で示され
る繰り返し単位を含むポリイミド系樹脂からなり、40
0〜1000nm波長領域の光源で使用される光学部品
用ポリイミド系樹脂。
1. A compound of the general formula 1a or 1b (Wherein, R represents a divalent organic group, R ′ and R ″ represent a monovalent organic group or a hydrogen atom, R 1 and R 2 represent a monovalent organic group or a hydrogen atom, , R ″, R 1 and R 2 may be the same or different from each other.)
Polyimide resin for optical parts used in a light source in a wavelength range of 0 to 1000 nm.
【請求項2】 400〜800nm波長領域の光源で使
用される請求項1記載の光学部品用ポリイミド系樹脂。
2. The polyimide resin for an optical component according to claim 1, which is used in a light source in a wavelength range of 400 to 800 nm.
【請求項3】 請求項1記載のポリイミド系樹脂からな
る400〜1000nm波長領域の光で使用される位相
差板。
3. A retardation plate comprising the polyimide resin according to claim 1 and used for light in a wavelength region of 400 to 1000 nm.
【請求項4】 400〜800nm波長領域の光で使用
される請求項3記載の位相差板。
4. The retardation plate according to claim 3, which is used for light in a wavelength range of 400 to 800 nm.
【請求項5】 請求項1記載のポリイミド系樹脂からな
る400〜1000nm波長領域で使用される波長板。
5. A wave plate comprising the polyimide resin according to claim 1 and used in a wavelength region of 400 to 1000 nm.
【請求項6】 400〜800nm波長領域で使用され
る請求項5記載の波長板。
6. The wave plate according to claim 5, which is used in a wavelength range of 400 to 800 nm.
JP36579799A 1999-12-24 1999-12-24 Polyimide-based resin for optical parts, and phase contrast plate and wavelength plate each using the same Pending JP2001183527A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2008010483A1 (en) * 2006-07-21 2008-01-24 Toray Industries, Inc. Resin composition for retardation thin film, color filter substrate for liquid crystal display device, liquid crystal display device, and method for production of color filter substrate for liquid crystal display device having retardation thin film attached thereto

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