JP2001175330A - Automatic carrier system - Google Patents
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Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Control Of Position, Course, Altitude, Or Attitude Of Moving Bodies (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、工場の組立現場な
どで無人走行する自動搬送装置に関し、特に、自動搬送
装置が移動する方向の障害物を検知するためのセンサ技
術に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an automatic transfer device that travels unattended at an assembly site in a factory, and more particularly to a sensor technology for detecting an obstacle in the direction in which the automatic transfer device moves.
【0002】[0002]
【従来の技術】工場などにおいて、組立工程で部品を搬
送するときなどには自動搬送装置(以下、ビークルとい
う)が好んで利用されている。特に、半導体の加工工程
においては塵埃などを嫌うため、クリーンルーム内にお
いて、人手を介さないで、ビークルを用いて半導体ウエ
ーハの搬送や組立てなどが行われている。例えば、半導
体ウエーハや液晶デバイスの組立加工などでは、クリー
ンルーム内で天井軌道を走行するOHT(Overhead Hoi
st Transport)が利用されている。2. Description of the Related Art In a factory or the like, an automatic transfer device (hereinafter, referred to as a vehicle) is preferably used when parts are transferred in an assembly process. In particular, in a semiconductor processing step, dust and the like are disliked, so that a semiconductor wafer is transported or assembled using a vehicle in a clean room without manual intervention. For example, when assembling semiconductor wafers and liquid crystal devices, an OHT (Overhead Hoi
st Transport) is used.
【0003】図4は、半導体ウエーハの加工工程などで
利用されているOHTシステムの動作概念図である。同
図において、右図面部分はOHTビークルの側面図を示
しており、左図面部分はOHTビークルの進行方向正面
の投影図を進行方向の所定の位置に配置したときの状態
図を示している。すなわち、同図において、図示しない
クリーンルーム内の天井には、工程ラインに沿って軌道
21が敷設されており、図では軌道21の一部が示され
ているいる。そして、軌道21の下部には、走行自在に
OHTビークル22が吊り下がっている。OHTビーク
ル22は、例えば、枡状の枠が構成されており、この枠
内でウエーハカセット23を把持して軌道21に沿って
走行できるように構成されている。FIG. 4 is a conceptual diagram showing the operation of an OHT system used in a semiconductor wafer processing step or the like. In the figure, the right drawing part shows a side view of the OHT vehicle, and the left drawing part shows a state diagram when a front view in the traveling direction of the OHT vehicle is arranged at a predetermined position in the traveling direction. That is, in the figure, a track 21 is laid along a process line on a ceiling in a clean room (not shown), and a part of the track 21 is shown in the figure. An OHT vehicle 22 is suspended below the track 21 so as to run freely. The OHT vehicle 22 has, for example, a square frame, and is configured to hold the wafer cassette 23 in the frame and travel along the track 21.
【0004】また、OHTビークル22の走行方向の前
部には、前方監視センサ24が取りつけられている。こ
の前方監視センサ24は、一般に、赤外線などの光学式
反射センサが用いられ、OHTビークル22の移動方向
の障害物を非接触で検知できるように構成されている。
すなわち、前方監視センサ24から円錐状に放射する光
ビームによって前方の障害物を検知している。そして、
前方監視センサ24が前方の障害物を検知すると、OH
Tビークル22は自動停止するようになっている。尚、
図4では、OHTビークル22が図の左方に移動するも
のとして、OHTビークル22の左側面に前方監視セン
サ24を設けているが、通常、OHTビークル22は双
方向に移動するので、その場合はOHTビークル22の
右側面にも前方監視センサ24が設けられているものと
する。[0004] A forward monitoring sensor 24 is attached to the front of the OHT vehicle 22 in the traveling direction. The front monitoring sensor 24 generally uses an optical reflection sensor such as an infrared ray, and is configured to detect an obstacle in the moving direction of the OHT vehicle 22 in a non-contact manner.
That is, an obstacle ahead is detected by a light beam radiated in a conical shape from the forward monitoring sensor 24. And
When the forward monitoring sensor 24 detects an obstacle ahead, OH
The T vehicle 22 automatically stops. still,
In FIG. 4, the front monitoring sensor 24 is provided on the left side of the OHT vehicle 22 assuming that the OHT vehicle 22 moves to the left in the figure. However, since the OHT vehicle 22 normally moves in both directions, It is assumed that a front monitoring sensor 24 is also provided on the right side of the OHT vehicle 22.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、軌道2
1の周辺の極近傍には関連する製造装置があったり、製
造装置の扉が開いていたり、あるいは、工程中の部品な
どが置かれていることもある。さらに、OHTビークル
22の通路にはみでて、メンテナンスなどのために脚立
や作業台などが置かれたり、そこに人が存在したりする
こともある。したがって、OHTビークル22がこれら
に衝突しないように、前方監視センサ24が前方を監視
しながらOHTビークル22を走行させている。ところ
が、図4に示すように、OHTビークル22の通過域に
ある障害物を検知するために、前方監視センサ24から
放射する光の検出エリアを検出領域Aのように広くする
と、必要以上に走行路周辺の物体を検出してしまい、走
行することができなくなってしまう虞がある。However, the orbit 2
In the very vicinity of the periphery of the device 1, there may be an associated manufacturing apparatus, a door of the manufacturing apparatus may be open, or a part in process may be placed. Further, a stepladder or a workbench may be placed for maintenance or the like, or a person may be present in the passage of the OHT vehicle 22. Therefore, the OHT vehicle 22 is traveling while the front monitoring sensor 24 monitors the front so that the OHT vehicle 22 does not collide with them. However, as shown in FIG. 4, if the detection area of the light emitted from the front monitoring sensor 24 is widened as in the detection area A in order to detect an obstacle in the pass area of the OHT vehicle 22, the vehicle travels more than necessary. There is a possibility that an object around the road may be detected and the vehicle may not be able to travel.
【0006】すなわち、図の左方には、OHTビークル
22を移動方向正面から見たOHTビークル22の通過
領域Cが実線で示されている。また、OHTビークル2
2の通過領域Cを全て検出できる広い検出領域Aが破線
で示されている。この広い検出領域Aは、前方監視セン
サ24から放射する光ビームの、所定の位置での円錐底
面である。That is, the passing area C of the OHT vehicle 22 as viewed from the front in the moving direction of the OHT vehicle 22 is indicated by a solid line on the left side of the drawing. OHT vehicle 2
A wide detection area A in which all the two pass areas C can be detected is indicated by a broken line. The wide detection area A is the conical bottom surface of the light beam emitted from the forward monitoring sensor 24 at a predetermined position.
【0007】OHTビークル22の通過領域C、すなわ
ち、OHTビークル22の正面形状が、円錐底面である
円形の広い検出領域Aと異なって、例えば、図のような
長方形である場合は、広い検出領域Aが通過領域Cをは
み出して検出する部分の過剰検出領域Dが生じる。この
過剰検出領域Dの中に物体が置かれている場合には、実
際にはOHTビークル22の通過障害にはならないにも
関わらず、OHTビークル22は停止してしまう。When the passage area C of the OHT vehicle 22, that is, the front shape of the OHT vehicle 22 is different from the circular wide detection area A having a conical bottom surface, for example, when the OHT vehicle 22 is rectangular as shown in the figure, a large detection area is used. An excess detection area D is generated in a portion where A protrudes from the passage area C and is detected. When an object is placed in the excessive detection area D, the OHT vehicle 22 stops even though it does not actually obstruct the passage of the OHT vehicle 22.
【0008】一方、破線で示す狭い検出領域Bのように
検出エリアを狭めると、OHTビークル22の通過領域
Cのうち、コーナの部分が非検出領域Eとして検出でき
なくなってしまう。このような場合は、OHTビークル
22の通過によってコーナ部分の非検出領域Eで物体に
衝突する虞がある。On the other hand, if the detection area is narrowed like a narrow detection area B indicated by a broken line, a corner portion of the passage area C of the OHT vehicle 22 cannot be detected as a non-detection area E. In such a case, the OHT vehicle 22 may collide with the object in the non-detection region E in the corner portion due to the passage of the OHT vehicle 22.
【0009】図5は、OHTビークルの前方監視センサ
と障害物の一例を示す説明図である。すなわち、同図に
示すように、OHTビークル22の移動方向前方に脚立
25が立っている場合、前方監視センサ24の検出エリ
アが検出領域Aのように広いと、OHTビークル22は
脚立25に衝突しないにも関わらず、これを障害物とし
て検出してOHTビークル22が停止してしまう。ま
た、検出エリアが検出領域Bのように狭ければ脚立25
は検出しないが、OHTビークル22の極近傍に部品な
どが置かれていた場合には、これらを検出できないので
衝突して破損させる虞がある。FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of a forward monitoring sensor of an OHT vehicle and an obstacle. That is, as shown in the figure, when the stepladder 25 stands in the forward direction of the movement of the OHT vehicle 22 and the detection area of the front monitoring sensor 24 is wide such as the detection area A, the OHT vehicle 22 collides with the stepladder 25. In spite of this, the OHT vehicle 22 is detected as an obstacle and stops. If the detection area is as narrow as the detection area B, the stepladder 25 is used.
Is not detected, but if parts or the like are placed very close to the OHT vehicle 22, they cannot be detected, and there is a risk of collision and damage.
【0010】図6は、半導体製造装置にOHTビークル
を利用する場合の概念図である。同図に示すように、例
えば、300mmウエーハの製造装置では、ウエーハを搬
送するOHTビークル22の端面と半導体製造装置26
の前面との間隔Pは、約30mm程度にするように規格上
定められている。このような狭い間隔で作業を行う場
合、検出エリアが広すぎると、前方監視センサ24が半
導体製造装置26の扉などを検出してしまい、OHTビ
ークル22が殆ど動作せず作業ができなくなってしま
う、また、検出エリアを狭くすると、OHTビークル2
2のコーナなどが、半導体製造装置26などに載置され
た図示しない半導体ウエーハなどに当たって、これらの
半導体ウエーハを破損させてしまう虞れがある。FIG. 6 is a conceptual diagram when an OHT vehicle is used in a semiconductor manufacturing apparatus. As shown in FIG. 1, for example, in a 300 mm wafer manufacturing apparatus, an end face of an OHT vehicle 22 that conveys a wafer is connected to a semiconductor manufacturing apparatus 26.
The distance P from the front surface is defined by standards so as to be about 30 mm. When the work is performed at such a narrow interval, if the detection area is too large, the front monitoring sensor 24 detects the door of the semiconductor manufacturing apparatus 26 and the like, and the OHT vehicle 22 hardly operates and the work cannot be performed. When the detection area is reduced, the OHT vehicle 2
The second corner or the like hits a semiconductor wafer or the like (not shown) mounted on the semiconductor manufacturing apparatus 26 or the like, and may damage these semiconductor wafers.
【0011】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、その目的は、自動搬送装置が通過するエ
リアにある障害物を、搬送システムの動作効率が損なわ
れないように確実に検出することのできるセンサを備え
た自動搬送装置を提供することにある。The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to reliably remove obstacles in an area where an automatic transfer device passes so that the operation efficiency of the transfer system is not impaired. An object of the present invention is to provide an automatic transfer device provided with a sensor capable of detecting the same.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の自動搬送システムは、自動搬送装置が通
過する領域内の障害物を非接触で監視する前方監視手段
を備え、物品の搬送を行う自動搬送システムであって、
前方監視手段は、自動搬送装置が通過する方向の、該自
動搬送装置の投影面のエリアのみを監視し、この前方監
視手段が投影面のエリア内に障害物を検知したとき、自
動搬送装置の走行を減速あるいは停止させることを特徴
とする。In order to solve the above-mentioned problems, an automatic transport system according to the present invention includes forward monitoring means for monitoring an obstacle in an area through which the automatic transport device passes without contact, and comprising: An automatic transport system that transports
The forward monitoring means monitors only the area of the projection surface of the automatic transport device in the direction in which the automatic transport device passes, and when the forward monitoring device detects an obstacle in the area of the projection surface, It is characterized in that traveling is decelerated or stopped.
【0013】すなわち、本発明による前方監視手段は、
自動搬送装置の実際の通過領域の面積のみを監視してい
るので、走行の邪魔にならない位置の極近傍に置かれた
部品などを検出して走行が停止してしまったり、自動搬
送装置が部品などに衝突するような不具合を防ぐことが
できる。したがって、半導体製造装置の組立工程に利用
する自動搬送システムなどにおいては、極めて狭い範囲
で部品などを搬送して走行させる必要があるので、本発
明の自動搬送システムを利用することにより、作業効率
が一段と改善される。That is, the forward monitoring means according to the present invention comprises:
Since only the area of the actual passage area of the automatic transfer device is monitored, parts that are placed in the immediate vicinity of a position that does not interfere with running are detected and travel stops, or the automatic transfer device stops This can prevent a problem such as colliding with the like. Therefore, in an automatic transport system used in an assembly process of a semiconductor manufacturing apparatus, it is necessary to transport components and travel in an extremely narrow range. It is further improved.
【0014】また、本発明の自動搬送システムは、上記
の発明において、前方監視手段は、自動搬送装置の投影
面の全外周に亘る帯状の領域を照射する光ビームを放出
する光学式反射センサであって、この光学式反射センサ
が照射した光ビームの領域内の障害物を検知することを
特徴とする。すなわち、自動搬送装置が通過する領域の
外周部のみに光ビームを照射して、この光ビームの反射
光を検出すれば、簡単に自動搬送装置の通過領域のみを
検出することができる。Further, in the automatic transport system according to the present invention, in the above invention, the forward monitoring means is an optical reflection sensor which emits a light beam for irradiating a belt-shaped area over the entire outer periphery of the projection surface of the automatic transport apparatus. The optical reflection sensor detects an obstacle in a region of the light beam irradiated by the optical reflection sensor. That is, by irradiating the light beam only to the outer peripheral portion of the area where the automatic transport device passes and detecting the reflected light of this light beam, it is possible to easily detect only the pass area of the automatic transport device.
【0015】また、本発明の自動搬送システムは、上記
の発明において、光学式反射センサは、自動搬送装置の
走行方向前面における外周端近傍の全周囲に複数個設置
され、各々の光学式反射センサから扇状に放射される光
ビームが、自動搬送装置の走行方向投影面の全外周に亘
る帯状の領域を照射することを特徴とする。Further, in the automatic transport system according to the present invention, in the above invention, a plurality of the optical reflection sensors are installed all around the outer peripheral end on the front surface in the traveling direction of the automatic transport device. A light beam radiated in a fan shape from the light source irradiates a band-shaped region over the entire outer periphery of the traveling direction projection plane of the automatic transport device.
【0016】すなわち、光学式反射センサを、自動搬送
装置の走行方向前面における外周端近傍の全周囲に亘っ
て複数個配置する。そして各々の光学式反射センサから
放射される光ビームが、通過領域の外周全域を帯状に照
射されるようにする。具体的な方法としては、例えば、
移動方向の前面が長方形の自動搬送装置であれば、その
長方形の各辺に沿って帯状のスリットを設けて、このス
リットの内部から光ビームを扇状に放射すれば、通過領
域となる長方形の該当する辺全体が帯状に照射される。
したがって、各辺の帯状の照射領域を組み合わせれば、
通過領域全体の外周を帯状に照射することができる。That is, a plurality of optical reflection sensors are arranged over the entire periphery near the outer peripheral end on the front surface in the traveling direction of the automatic transport device. Then, the light beam emitted from each optical reflection sensor is applied to the entire outer periphery of the passing area in a band shape. As a specific method, for example,
If the front surface in the moving direction is a rectangular automatic conveyance device, a band-shaped slit is provided along each side of the rectangle, and a light beam is radiated from the inside of the slit in a fan shape. The entire side is illuminated in a band shape.
Therefore, by combining the belt-shaped irradiation areas on each side,
The entire outer periphery of the passage area can be illuminated in a band shape.
【0017】また、本発明の自動搬送システムは、上記
の発明において、光ビームに照射される帯状の領域は、
帯状の幅の一部領域が投影面の外周端よりはみ出してい
ることを特徴とする。すなわち、自動搬送装置の移動時
の機械的ずれなどによって障害物を誤検出したり、検出
漏れが生じたりしないように、検出領域の幅に若干の余
裕を持たせることが望ましい。Further, in the automatic transport system according to the present invention, in the above-mentioned invention, the belt-shaped area irradiated with the light beam may include:
It is characterized in that a part of the band-shaped width protrudes from the outer peripheral end of the projection surface. That is, it is desirable that the width of the detection area has some allowance so that an obstacle is not erroneously detected due to a mechanical shift or the like during the movement of the automatic transport device or a detection omission does not occur.
【0018】また、本発明の自動搬送システムは、前記
の各発明における自動搬送システムを構成する自動搬送
装置が、天井軌道を走行するOHT、または床上を走行
するAGV、または床の軌道上を走行するRGVの何れ
かであることを特徴とする。すなわち、本発明の自動搬
送システムは、半導体製造装置などの精密作業に利用さ
れるOHT以外に、オートメーション工場などで資材や
部品や製品などを自動搬送するAGV(Automatic Guid
ed Vehicle)やRGV(Rail Guided Vehicle)などに
利用することもできる。Further, in the automatic transfer system according to the present invention, the automatic transfer device constituting the automatic transfer system according to each of the above-mentioned inventions is characterized in that the automatic transfer device is an OHT running on a ceiling track, an AGV running on a floor, or running on a floor track. RGV. That is, the automatic transfer system of the present invention is an automatic guide system (AGV) that automatically transfers materials, parts, products, and the like in an automation factory, in addition to the OHT used for precision work of a semiconductor manufacturing device or the like.
(ED Vehicle) and RGV (Rail Guided Vehicle).
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて、本発明にお
ける自動搬送システムの実施の形態を説明する。尚、以
下の説明では走行する軌道などは省略し、通過領域とな
る前面の断面形状が長方形のOHTビークルを例にして
説明する。図1は、本発明の実施の形態におけるOHT
ビークルの外観斜視図である。同図において、OHTビ
ークル1の移動方向前面部2には、前方監視センサとし
て、移動方向前面部2の各辺に沿って4個の光学式反射
センサS1、S2、S3、S4が設置されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of an automatic transport system according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, a traveling track or the like is omitted, and an OHT vehicle having a rectangular cross section on the front surface, which is a passage area, will be described as an example. FIG. 1 shows an OHT according to an embodiment of the present invention.
It is an external appearance perspective view of a vehicle. In the figure, four optical reflection sensors S1, S2, S3, S4 are installed on the front surface 2 of the OHT vehicle 1 along the sides of the front surface 2 in the moving direction as front monitoring sensors. I have.
【0020】すなわち、OHTビークル1が通過する領
域の最小エリアを確保するために、扇状のビーム光を放
射する光学式反射センサS1が辺L1に沿って配置さ
れ、同様に、光学式反射センサS2が辺L2に沿って、
光学式反射センサS3が辺L3に沿って、光学式反射セ
ンサS4が辺L4に沿って、それぞれ配置されている。That is, in order to secure the minimum area of the area through which the OHT vehicle 1 passes, an optical reflection sensor S1 that emits a fan-shaped light beam is arranged along the side L1, and similarly, the optical reflection sensor S2 Is along side L2,
The optical reflection sensor S3 is arranged along the side L3, and the optical reflection sensor S4 is arranged along the side L4.
【0021】各光学式反射センサS1、S2、S3、S
4は、例えば、それぞれの辺L1、L2、L3、L4の
近傍に沿って細い長方形のスリットをあけ、それぞれの
スリットの内部に赤外線光源を設けて構成されている。
これによって、図示しない赤外線光源からの光ビームは
それぞれのスリットから放射される。したがって、各光
学式反射センサS1、S2、S3、S4から、それぞれ
の光ビームが扇状に放射され、所定の位置の投影面にお
いては、各スリットの形状と相似形の断面形状を持った
照射光となる。Each of the optical reflection sensors S1, S2, S3, S
For example, the slit 4 is formed by forming a thin rectangular slit along the vicinity of each side L1, L2, L3, L4, and providing an infrared light source inside each slit.
Thus, a light beam from an infrared light source (not shown) is emitted from each slit. Therefore, each light beam is emitted in a fan shape from each of the optical reflection sensors S1, S2, S3, S4, and the irradiation light having a cross-sectional shape similar to the shape of each slit is formed on the projection surface at a predetermined position. Becomes
【0022】図2は、図1のOHTビークルを用いて移
動方向前方を監視する状態を示す概念図である。同図
は、OHTビークル1の移動方向の前方に、このOHT
ビークル1と同一形状の仮想OHTビークル1’が配置
されている状態を示している。FIG. 2 is a conceptual diagram showing a state in which the OHT vehicle shown in FIG. 1 is used to monitor the front of the moving direction. The figure shows that the OHT is located in front of the OHT vehicle 1 in the moving direction.
This shows a state in which a virtual OHT vehicle 1 'having the same shape as the vehicle 1 is arranged.
【0023】OHTビークル1の移動方向前面部2に
は、辺L1、L2、L3、L4に沿って、それぞれ光学
式反射センサS1、S2、S3、S4が配置されてい
る。そして、光学式反射センサS1から放射される光ビ
ームは、仮想OHTビークル1’の辺L1’に沿って照
射領域m1を照射している。また、光学式反射センサS
2から放射される光ビームは、仮想OHTビークル1’
の辺L2’に沿って照射領域m2を照射している。さら
に、光学式反射センサS3から放射される光ビームは、
仮想OHTビークル1’の辺L3’に沿って照射領域m
3を照射している。そして、光学式反射センサS4から
放射される光ビームは、仮想OHTビークル1’の辺L
4’に沿って照射領域m4を照射している。Optical reflection sensors S1, S2, S3, S4 are arranged on the front surface 2 in the moving direction of the OHT vehicle 1 along the sides L1, L2, L3, L4. The light beam emitted from the optical reflection sensor S1 irradiates the irradiation area m1 along the side L1 'of the virtual OHT vehicle 1'. Also, the optical reflection sensor S
The light beam emitted from 2 is a virtual OHT vehicle 1 '
The irradiation area m2 is irradiated along the side L2 'of FIG. Further, the light beam emitted from the optical reflection sensor S3 is
Irradiation area m along side L3 'of virtual OHT vehicle 1'
3 has been irradiated. Then, the light beam emitted from the optical reflection sensor S4 is the side L of the virtual OHT vehicle 1 ′.
The irradiation area m4 is irradiated along 4 '.
【0024】さらに、これらの照射領域m1、m2、m
3、m4に照射された光の反射光は、それぞれ、光学式
反射センサS1、S2、S3、S4によって検出され
る。すなわち、各光学式反射センサS1、S2、S3、
S4から扇状に広がるビーム光の、帯状の照射領域m
1、m2、m3、m4が障害物を検出する領域となる。Further, these irradiation areas m1, m2, m
The reflected light of the light radiated to 3, m4 is detected by the optical reflection sensors S1, S2, S3, S4, respectively. That is, each of the optical reflection sensors S1, S2, S3,
Band-shaped irradiation area m of the beam light spreading in a fan shape from S4
1, m2, m3, and m4 are areas for detecting an obstacle.
【0025】これによって、仮想OHTビークル1’の
辺L1’、辺L2’、辺L3’、辺L4’に囲まれた領
域内は障害物を検出することができる。すなわち、OH
Tビークル1の移動方向前面部2の辺L1、L2、L
3、L4に囲まれた通過領域はもれなく検出される。し
かも、検出領域は、OHTビークル1の移動方向前面部
2の面積そのものであり、検出漏れ部分や過剰検出部分
が生じることなく、極めて、効率的にOHTシステムの
障害物検知を行うことができる。Thus, an obstacle can be detected in a region surrounded by the side L1 ', the side L2', the side L3 ', and the side L4' of the virtual OHT vehicle 1 '. That is, OH
Sides L1, L2, L of front part 2 in the moving direction of T vehicle 1
3. Passage areas surrounded by L4 are detected without any omission. In addition, the detection area is the area itself of the front part 2 in the moving direction of the OHT vehicle 1, and the OHT system can detect the obstacle of the OHT system extremely efficiently without a detection omission part or an excessive detection part.
【0026】尚、実際の障害物検出にあたっては、OH
Tビークル1の通過領域より少し広めの領域を照射する
ように、各光学式反射センサS1、S2、S3、S4か
ら放射する光ビームの放射方向の設定を工夫する。これ
によって、周りの製造装置を検出することなく、且つO
HTビークル1の移動時の振動などによる機械的なずれ
によって、不必要な検出をしたり、検出漏れを生じたり
しないようにすることが望ましい。In actual obstacle detection, OH
The setting of the emission direction of the light beam emitted from each of the optical reflection sensors S1, S2, S3, S4 is devised so as to irradiate an area slightly wider than the area through which the T vehicle 1 passes. As a result, the surrounding manufacturing apparatus is not detected and O
It is desirable to prevent unnecessary detection or detection omission due to mechanical displacement due to vibration or the like when the HT vehicle 1 moves.
【0027】具体的な光ビームの設定方法としては、例
えば、図1の各光学式反射センサS1、S2、S3、S
4に、光を放射する方向を規制する光誘導筒を設ける。
そして、各光誘導筒から放射される光ビームの方向を仮
想OHTビークル1’の外周よりやや外方に向くように
調節する。すなわち、図2の照射領域m1、m2、m
3、m4が、仮想OHTビークル1’の辺L1’、L
2’、L3’、L4’よりやや外側にはみ出すようにす
れば、OHTビークル1の通過領域より少し広めの領域
を検出することができる。このように、扇状にビーム光
を放射する光学式反射センサを、OHTビークル1の移
動方向前面の周囲に配列して、OHTビークル1の通過
領域のみを効率的に検出するようにすれば、OHTビー
クル1の不要な停止や部品などとの思わぬ衝突を避ける
ことができ、効率的にOHTシステムを動作させること
ができる。As a specific method of setting a light beam, for example, each of the optical reflection sensors S1, S2, S3, S3 shown in FIG.
4 is provided with a light guiding cylinder for regulating the direction in which light is emitted.
Then, the direction of the light beam emitted from each light guide cylinder is adjusted so as to be slightly outward from the outer periphery of the virtual OHT vehicle 1 '. That is, the irradiation areas m1, m2, and m in FIG.
3 and m4 are sides L1 'and L of virtual OHT vehicle 1'
If it protrudes slightly outside of 2 ′, L3 ′, and L4 ′, it is possible to detect an area slightly wider than the passage area of the OHT vehicle 1. As described above, if the optical reflection sensors that radiate a light beam in a fan shape are arranged around the front surface in the moving direction of the OHT vehicle 1 so as to efficiently detect only the passage area of the OHT vehicle 1, Unnecessary stopping of the vehicle 1 and unexpected collision with parts and the like can be avoided, and the OHT system can be operated efficiently.
【0028】尚、本実施形態では、移動方向の断面が長
方形のOHTビークル1について説明したが、移動方向
の断面形状は長方形に限らず、如何なる形状であっても
本発明を適用することができる。例えば、OHTビーク
ルの移動方向の断面が多角形であれば、その多角形に合
わせて各辺を結ぶように帯状のビーム光を照射すればよ
いし、移動方向の断面が楕円形であれば、その楕円形の
外周を、帯状に、全周に亘って照射するようにすればよ
い。In this embodiment, the OHT vehicle 1 having a rectangular cross section in the moving direction has been described. However, the present invention can be applied to any shape of the cross section in the moving direction. . For example, if the cross section of the OHT vehicle in the moving direction is a polygon, a band-shaped light beam may be applied so as to connect each side according to the polygon, and if the cross section in the moving direction is an ellipse, The elliptical outer periphery may be irradiated in a band shape over the entire periphery.
【0029】次に、前述のような前方監視センサを備え
たOHTビークルの実際の使われ方の一例を説明する。
図3は、本発明のOHTビークルを用いた半導体製造装
置の一例を示す斜視図である。図3のような半導体製造
装置で半導体デバイスを製造する場合、種々の装置間に
おいて半導体ウエーハの搬送を自動的に行うために、上
述したようなOHTビークルが用いられている。すなわ
ち、一般に、半導体デバイスは、シリコンなどの半導体
ウエーハが、様々な半導体製造装置(例えば、ウエーハ
処理装置や保管装置や作業台やバッファ装置など)の間
をOHTビークルが往来して搬送されることより、多数
の工程処理を経て製造されている。Next, an example of the actual use of the OHT vehicle provided with the above-described forward monitoring sensor will be described.
FIG. 3 is a perspective view showing an example of a semiconductor manufacturing apparatus using the OHT vehicle of the present invention. When a semiconductor device is manufactured by a semiconductor manufacturing apparatus as shown in FIG. 3, the above-mentioned OHT vehicle is used to automatically transfer a semiconductor wafer between various apparatuses. That is, in general, a semiconductor device is such that a semiconductor wafer such as silicon is transported by an OHT vehicle coming and going between various semiconductor manufacturing apparatuses (for example, a wafer processing apparatus, a storage apparatus, a work table, and a buffer apparatus). It is manufactured through a number of processing steps.
【0030】図3を参照しながら、OHTビークルが半
導体ウエーハを搬送する処理工程について説明する。図
示しないクリーンルームの天井に敷設された軌道11に
吊り下がったOHTビークル12が自在に走行して、半
導体ウエーハ13の入ったウエーハキャリア14が、各
半導体製造装置15の間又は半導体製造装置15とスト
ッカ16との間で搬送され、各種の工程処理が行われて
いる。With reference to FIG. 3, a description will be given of the processing steps in which the OHT vehicle transports the semiconductor wafer. An OHT vehicle 12 hung on a track 11 laid on a ceiling of a clean room (not shown) freely travels, and a wafer carrier 14 containing a semiconductor wafer 13 is moved between each semiconductor manufacturing apparatus 15 or between the semiconductor manufacturing apparatus 15 and a stocker. 16 and various process processes are performed.
【0031】同図に示すOHTビークル12は、軌道1
1に沿って走行する走行部12aと、この走行部12a
の下部に設けられたハンド吊り下げ部12bと、ハンド
吊り下げ部12bにより昇降自在に吊り下げられたハン
ド12cとによって構成されている。そして、半導体製
造装置15のロードポート15aに置かれたウエーハキ
ャリア14をハンド12cで把持し、ハンド吊り下げ部
12bがハンド12cを上昇させた後、走行部12aに
より軌道11に沿って走行する機構となっている。そし
て、半導体デバイスの製造に当たっては、複数のOHT
ビークル12が、軌道11に沿って並設された複数の半
導体製造装置15間を往来し、各半導体製造装置15の
ロードポート15a上からウエーハキャリア14を把持
して、他の半導体製造装置15のロードポート15aへ
搬送するようになっている。The OHT vehicle 12 shown in FIG.
1 and a traveling portion 12a
And a hand 12c suspended vertically by the hand suspension unit 12b. Then, the wafer carrier 14 placed on the load port 15a of the semiconductor manufacturing apparatus 15 is gripped by the hand 12c, and the hand suspension unit 12b raises the hand 12c, and then travels along the track 11 by the traveling unit 12a. It has become. In manufacturing a semiconductor device, a plurality of OHTs are used.
The vehicle 12 moves between the plurality of semiconductor manufacturing apparatuses 15 arranged side by side along the track 11, holds the wafer carrier 14 from above the load port 15 a of each semiconductor manufacturing apparatus 15, and It is designed to be transported to the load port 15a.
【0032】すなわち、ウエーハキャリア14の搬送に
当たっては、先ず、軌道11に沿ってOHTビークル1
2を走行させ、これから搬送を行うウエーハキャリア1
4のあるロードポート15aの上方にて停止させる。そ
して、ハンド吊り下げ部12bを巻下げてハンド12c
を下降させ、このハンド12cによってウエーハキャリ
ア14を保持する。そして、ハンド吊り下げ部12bを
巻き上げてウエーハキャリア14をロードポート15a
から取り上げ、最上位高さに巻き上げた後、再び、OH
Tビークル12を走行させる。That is, when transporting the wafer carrier 14, first, the OHT vehicle 1 is moved along the track 11.
Wafer carrier 1 that travels and transports from now on
4 is stopped above the load port 15a. Then, the hand suspension unit 12b is lowered to remove the hand 12c.
Is lowered, and the wafer carrier 14 is held by the hand 12c. Then, the hand suspension unit 12b is wound up to load the wafer carrier 14 into the load port 15a.
And rolled it up to the highest height, then again, OH
The T vehicle 12 is run.
【0033】そして、次工程を行う他の半導体製造装置
15やストッカ16のロードポート15aなどの上方で
停止し、ハンド吊り下げ部12bを巻下げてハンド12
cを下降させ、そのロードポート15a上にウエーハキ
ャリア14を載置する。その後、ハンド12cはウエー
ハキャリア14を放して、ハンド吊り下げ部12bの巻
き上げとともにハンド12cを上昇させ、次の搬送作業
へと移る。Then, it stops above the other semiconductor manufacturing apparatus 15 for performing the next process or the load port 15a of the stocker 16, and lowers the hand suspending portion 12b to remove the hand 12.
c is lowered, and the wafer carrier 14 is placed on the load port 15a. Thereafter, the hand 12c releases the wafer carrier 14, raises the hand 12c together with the winding of the hand suspension unit 12b, and moves on to the next transport operation.
【0034】ところで、これらの搬送作業は極めて狭い
範囲で行われており、OHTビークル12の移動方向に
ある各種装置の扉や隣接する部品などに接触しないよう
に、且つ移動の邪魔にならないにも関わらずこれらを検
出してOHTビークル12が停止したりすることのない
ように、OHTビークル12の移動障害とならない最小
範囲を検出する前方監視センサ(図示せず)が設けられ
ている。そして、図示しない前方監視センサの監視によ
って、半導体製造装置のOHTシステムは、効率よく半
導体ウエーハの工程処理を行うことができる。これによ
って、半導体デバイスなどの生産効率を一層向上させる
ことができる。Incidentally, these transport operations are performed in an extremely narrow range, so that they do not come into contact with doors of various devices or adjacent parts in the moving direction of the OHT vehicle 12 and do not hinder the movement. A forward monitoring sensor (not shown) for detecting a minimum range in which the OHT vehicle 12 does not hinder the movement of the OHT vehicle 12 is provided so as to prevent the OHT vehicle 12 from being stopped regardless of these detections. The OHT system of the semiconductor manufacturing apparatus can efficiently process the semiconductor wafer by monitoring the front monitoring sensor (not shown). Thereby, the production efficiency of semiconductor devices and the like can be further improved.
【0035】以上述べた実施の形態は本発明を説明する
ための一例であり、本発明は、上記の実施の形態に限定
されるものではなく、発明の要旨の範囲で種々の変形が
可能である。すなわち、上記の実施の形態は、天井軌道
を走行するOHTビークルに前方監視センサを設置した
場合について述べたが、これに限ることはない。例え
ば、床上を走行するAGV(Automatic Guide Vehicl
e)や軌道上を走行するRGV(Rail Guide Vehicle)
などに、本発明の前方監視センサを設置することもでき
る。AGVやRGVは、オートメーション工場などにお
いて、無人で、資材を搬送したり完成品を移動したりす
る工程ラインに利用されているが、本発明の前方監視セ
ンサを備えることにより、不必要にAGVやRGVが停
止したり、他の部品に衝突してこれらを破損させる虞も
なくなる。The embodiment described above is an example for explaining the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible within the scope of the invention. is there. That is, the above embodiment has described the case where the forward monitoring sensor is installed on the OHT vehicle traveling on the overhead track, but the present invention is not limited to this. For example, an AGV (Automatic Guide Vehicl) running on the floor
e) RGV (Rail Guide Vehicle) running on orbit
For example, the forward monitoring sensor of the present invention can be installed. AGVs and RGVs are used in process lines for transporting materials and moving finished products unattended in automation factories and the like. However, by providing the forward monitoring sensor of the present invention, AGVs and RGVs are unnecessary. There is no danger of the RGV stopping or colliding with other parts and damaging them.
【0036】[0036]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の自動搬送
システムによれば、自動搬送装置の実質移動領域のみを
監視しながら走行するので、確実に障害物のみを検出す
ることができる。すなわち、実際には走行の邪魔になら
ない周囲の物や人物を検出したり、また障害になるもの
が検出できなかったりして、無駄な停止や器物の損傷を
招く虞はなくなる。したがって、自動搬送装置を安全且
つ効率的に走行させることができ、もって、より安全且
つ効率的な自動生産システムを構築することができる。As described above, according to the automatic transport system of the present invention, the vehicle travels while monitoring only the substantial moving area of the automatic transport device, so that only obstacles can be reliably detected. In other words, there is no possibility that a surrounding object or a person that does not actually interfere with the traveling is detected, or an obstacle that cannot be detected is not detected, resulting in unnecessary stoppage or damage to equipment. Therefore, the automatic transport device can be safely and efficiently run, and thus a safer and more efficient automatic production system can be constructed.
【図1】 本発明の実施の形態におけるOHTビーク
ルの外観斜視図である。FIG. 1 is an external perspective view of an OHT vehicle according to an embodiment of the present invention.
【図2】 図1のOHTビークルを用いて移動方向前方
を監視する状態を示す概念図である。FIG. 2 is a conceptual diagram showing a state in which the OHT vehicle of FIG. 1 is used to monitor the front in the moving direction.
【図3】 本発明のOHTビークルを用いた半導体製造
装置の一例を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an example of a semiconductor manufacturing apparatus using the OHT vehicle of the present invention.
【図4】 半導体ウエーハの加工工程などで利用されて
いるOHTシステムの動作概念図である。FIG. 4 is an operation conceptual diagram of an OHT system used in a semiconductor wafer processing step or the like.
【図5】 OHTビークルの前方監視センサと障害物の
一例を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of a front monitoring sensor of an OHT vehicle and an obstacle.
【図6】 半導体製造装置にOHTビークルを利用する
場合の概念図である。FIG. 6 is a conceptual diagram when an OHT vehicle is used in a semiconductor manufacturing apparatus.
1、12、22 OHTビークル 1’ 仮想OHTビークル 2 移動方向前面部 S1、S2、S3、S4 光学式反射センサ L1、L2、L3、L4、L1’、L2’、L3’、L
4’ 辺 m1、m2、m3、m4 照射領域 11、21 軌道 12a 走行部 12b ハンド吊り下げ部 12c ハンド 13 半導体ウエーハ 14 ウエーハキャリア 15、26 半導体製造装置 15a ロードポート 16 ストッカ 23 ウエーハカセット 24 前方監視センサ 25 脚立 A 広い検出領域 B 狭い検出領域 C ビークル通過領域 D 過剰検出領域 E 非検出領域1, 12, 22 OHT vehicle 1 'Virtual OHT vehicle 2 Movement front surface S1, S2, S3, S4 Optical reflection sensor L1, L2, L3, L4, L1', L2 ', L3', L
4 'side m1, m2, m3, m4 Irradiation area 11, 21 Track 12a Running part 12b Hand hanging part 12c Hand 13 Semiconductor wafer 14 Wafer carrier 15, 26 Semiconductor manufacturing equipment 15a Load port 16 Stocker 23 Wafer cassette 24 Forward monitoring sensor 25 Stepladder A Wide detection area B Narrow detection area C Vehicle passing area D Excess detection area E Non-detection area
─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成12年10月24日(2000.10.
24)[Submission date] October 24, 2000 (2000.10.
24)
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】請求項1[Correction target item name] Claim 1
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【手続補正2】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】請求項2[Correction target item name] Claim 2
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【手続補正3】[Procedure amendment 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0012[Correction target item name] 0012
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の自動搬送システムは、自動搬送装置が通
過する領域内の障害物を非接触で監視する前方監視手段
を備え、物品の搬送を行う自動搬送システムであって、
前方監視手段は、自動搬送装置が通過する方向の、該自
動搬送装置の投影面のエリアを監視し、この前方監視手
段が投影面のエリア内に障害物を検知したとき、自動搬
送装置の走行を減速あるいは停止させることを特徴とす
る。In order to solve the above-mentioned problems, an automatic transport system according to the present invention includes forward monitoring means for monitoring an obstacle in an area through which the automatic transport device passes without contact, and comprising: An automatic transport system that transports
Forward monitoring means, in the direction of the automatic transporting device passes, to monitor the area A of the projection plane of the automatic conveying device, when the forward monitoring device detects the obstacle in the area of the projection surface, automated transporter It is characterized in that traveling is decelerated or stopped.
【手続補正4】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0014[Correction target item name] 0014
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0014】また、本発明の自動搬送システムは、上記
の発明において、前方監視手段は、自動搬送装置の投影
面の全外周に亘る領域を照射する光ビームを放出する光
学式反射センサであって、この光学式反射センサが照射
した光ビームの領域内の障害物を検知することを特徴と
する。すなわち、自動搬送装置が通過する領域の外周部
のみに光ビームを照射して、この光ビームの反射光を検
出すれば、簡単に自動搬送装置の通過領域のみを検出す
ることができる。[0014] The automatic conveyor system of the present invention, in the above invention, the forward monitoring unit, with optical sensors that emit light beam illuminating Wataru Ru realm to entire periphery of the projection plane of the automated transporter The optical reflection sensor detects an obstacle in a region of the light beam irradiated by the optical reflection sensor. That is, by irradiating the light beam only to the outer peripheral portion of the area where the automatic transport device passes and detecting the reflected light of this light beam, it is possible to easily detect only the pass area of the automatic transport device.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3F022 AA08 BB09 CC02 EE05 KK12 LL12 MM11 NN57 QQ13 5F031 CA02 CA05 GA58 GA59 JA06 JA13 JA22 5H301 AA02 AA09 BB05 CC03 CC06 EE02 EE03 GG08 GG23 GG29 LL01 LL07 LL08 LL11 LL14 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference)
Claims (5)
を非接触で監視する前方監視手段を備え、物品の搬送を
行う自動搬送システムにおいて、 前記前方監視手段は、前記自動搬送装置が通過する方向
の、該自動搬送装置の投影面のエリアのみを監視し、該
前方監視手段が、前記投影面のエリア内に障害物を検知
したとき、前記自動搬送装置の走行を減速あるいは停止
させることを特徴とする自動搬送システム。1. An automatic transport system for transporting an article, comprising: a forward monitoring means for monitoring an obstacle in an area through which the automatic transport device passes without contact; And monitoring only the area of the projection surface of the automatic transport device in the direction in which the automatic transport device moves, and when the forward monitoring unit detects an obstacle in the area of the projection surface, decelerates or stops the travel of the automatic transport device. Automatic transfer system characterized by the following.
の投影面の全外周に亘る帯状の領域を照射する光ビーム
を放出する光学式反射センサであって、 該光学式反射センサが、照射した光ビームの領域内の障
害物を検知することを特徴とする請求項1に記載の自動
搬送システム。2. An optical reflection sensor which emits a light beam for irradiating a belt-shaped area over the entire outer periphery of a projection surface of the automatic transport device, wherein the forward reflection monitoring means comprises: The automatic transport system according to claim 1, wherein an obstacle is detected in a region of the light beam.
装置の走行方向前面における外周端近傍の全周囲に複数
個設置され、 各々の前記光学式反射センサから扇状に放射される光ビ
ームが、前記自動搬送装置の走行方向投影面の全外周に
亘る帯状の領域を照射することを特徴とする請求項2に
記載の自動搬送システム。3. A plurality of the optical reflection sensors are installed around the entire periphery near the outer peripheral end on the front surface in the traveling direction of the automatic transport device, and light beams radiated from each of the optical reflection sensors in a fan shape are: 3. The automatic transport system according to claim 2, wherein a belt-shaped region extending over the entire outer periphery of the traveling direction projection plane of the automatic transport device is irradiated.
は、帯状の幅の一部領域が、前記投影面の外周端よりは
み出していることを特徴とする請求項3に記載の自動搬
送システム。4. The automatic transport system according to claim 3, wherein the belt-shaped region irradiated with the light beam has a part of a band-like width protruding from an outer peripheral end of the projection plane. .
るOHT、または床上を走行するAGV、または床の軌
道上を走行するRGVの何れかであることを特徴とする
請求項4に記載の自動搬送システム。5. The automatic transport device according to claim 4, wherein the automatic transport device is one of an OHT running on a ceiling track, an AGV running on a floor, and an RGV running on a floor track. Automatic transfer system.
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN112607293A (en) * | 2017-01-16 | 2021-04-06 | 浙江国自机器人技术股份有限公司 | Safety protection method and safety protection structure of AGV robot |
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- 1999-12-20 JP JP36196299A patent/JP2001175330A/en active Pending
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