JP2001174604A - Antireflection transparent electrically conductive laminated film - Google Patents

Antireflection transparent electrically conductive laminated film

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JP2001174604A
JP2001174604A JP36212399A JP36212399A JP2001174604A JP 2001174604 A JP2001174604 A JP 2001174604A JP 36212399 A JP36212399 A JP 36212399A JP 36212399 A JP36212399 A JP 36212399A JP 2001174604 A JP2001174604 A JP 2001174604A
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transparent
antireflection
film
laminated film
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Akihiro Matsufuji
明博 松藤
Tsukasa Yamada
司 山田
Tadahiro Matsunaga
直裕 松永
Akihiro Ikeyama
昭弘 池山
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an antireflection transparent electrically conductive laminated film used for the face plate of a cathode-ray tube, a plasma display or the like and excellent in antistatic property, electromagnetic wave shielding performance, antireflection property, mechanical characteristics and antifouling property. SOLUTION: A hard coat layer, a transparent electrically conductive layer with fine particles comprising one or more metals, at least one transparent antireflection layer having a refractive index different from that of the electrically conductive layer and an antifouling layer formed as the outermost layer are successively disposed on a high elasticity transparent substrate of polyethylene naphthalate or the like to obtain the objective antireflection transparent electrically conductive laminated film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた帯電防止効
果、電磁波遮蔽効果、反射防止効果、機械特性及び防汚
性に優れた反射防止透明導電性積層フイルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection transparent conductive laminated film having excellent antistatic effect, electromagnetic wave shielding effect, antireflection effect, mechanical properties and antifouling property.

【0002】[0002]

【従来の技術】TVブラウン管やコンピュータディスプ
レイとして用いられている陰極線管やプラズマディスプ
レー等は、フェースパネル面に発生する静電気により埃
が付着して視認性が低下する他、電磁波を輻射して周囲
に悪影響を及ぼすなどの問題点を有している。また陰極
線管のフラット化等により、反射防止機能が必要となっ
ている。またフェースパネル面は手が触れたり、汚れを
落とすことにより、擦り傷が発生しやすい問題がある。
2. Description of the Related Art In a cathode ray tube or a plasma display used as a TV cathode ray tube or a computer display, dust adheres due to static electricity generated on a face panel surface, thereby lowering visibility. It has problems such as adverse effects. Further, the flattening of the cathode ray tube or the like requires an antireflection function. Further, there is a problem that the face panel surface is liable to be scratched by touching or removing dirt.

【0003】帯電防止、電磁波遮蔽および反射防止を目
的として、銀等の金属あるいはITO等の導電性金属酸
化物を蒸着・スパッタ等で導電性層をフェースパネル面
に直接形成させる方法が提案されているが、膜形成には
真空処理や高温処理が必要であり、製造費が高価になっ
たり、生産性に問題があった。
For the purpose of preventing static electricity, shielding electromagnetic waves and preventing reflection, a method has been proposed in which a conductive layer is formed directly on the face panel surface by vapor deposition or sputtering of a metal such as silver or a conductive metal oxide such as ITO. However, vacuum processing and high-temperature processing are required for film formation, which increases the manufacturing cost and raises productivity problems.

【0004】また、ゾル−ゲル法による塗布方式の導電
性薄膜の形成法も提案されているが(羽生等、National
Technical Report 40, No.1 (1994) 90)、高温処理が
必要であり、透明基材であるプラスチックフイルム上や
ハードコート上への積層は基材の変質が起こることによ
り、基材として使用できる素材が限定されてしまう問題
があった。
A method of forming a conductive thin film by a coating method by a sol-gel method has also been proposed (Hanyu et al., National
Technical Report 40, No.1 (1994) 90), requires high-temperature treatment, and can be used as a base material when laminated on a plastic film or hard coat, which is a transparent base material, due to the deterioration of the base material There was a problem that the material was limited.

【0005】導電性酸化物微粒子やコロイドを分散させ
た透明導電性塗料も提案されているが(特開平6−34
4489、特開平7−268251)、得られた透明導
電性層の導電性が低い問題があった。
[0005] A transparent conductive paint in which conductive oxide fine particles and colloids are dispersed has also been proposed (JP-A-6-34).
4489, JP-A-7-268251), and there was a problem that the conductivity of the obtained transparent conductive layer was low.

【0006】さらに、導電性を上げるため、金属微粒子
からなる透明導電膜が提案されるようになってきた(特
開昭63−160140、特開平9−55175)。ま
た、透明導電膜上にテトラエトキシシラン等の反射防止
塗料を塗布することにより低反射透明導電膜を形成する
方法が提案されている(特開平10−142401)。
透明基材の上に金属微粒子を塗布しただけでは機械強度
が弱いという問題や、テトラエトキシシラン等の反射防
止塗料は長時間の高温熱処理が必要であり、ゾル−ゲル
法による反射防止層の積層は透明基材の使用が限られて
しまう問題が生じてしまい、上記低反射透明導電膜の形
成方法ではガラスフェースパネルに直接塗布することし
かできないという問題があった。
Further, in order to increase the conductivity, a transparent conductive film made of fine metal particles has been proposed (JP-A-63-160140, JP-A-9-55175). In addition, a method of forming a low-reflection transparent conductive film by applying an antireflection paint such as tetraethoxysilane on the transparent conductive film has been proposed (JP-A-10-142401).
The problem that mechanical strength is weak just by coating metal fine particles on a transparent base material, and anti-reflective coatings such as tetraethoxysilane require long-term high-temperature heat treatment, and the anti-reflection layer is laminated by a sol-gel method. However, there is a problem that the use of a transparent base material is limited, and there is a problem that the method for forming a low-reflection transparent conductive film can only be directly applied to a glass face panel.

【0007】また、ガラスフェースパネルに銀微粒子を
直接スピンコート法により塗布し、150℃近辺で焼結
反応を起こすこと、表面のAg2Oも分解反応を起こす
ことにより焼成することで導電性の改良が提案されてい
るが(特開平10−66861)、耐熱性のあるガラス
等の基材にしか適応できない。
Also, silver fine particles are directly applied to a glass face panel by a spin coating method, and a sintering reaction is caused at about 150 ° C., and Ag 2 O on the surface is also decomposed to be baked to cause a conductive property. Although an improvement has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 10-66861), it can be applied only to heat-resistant substrates such as glass.

【0008】そこで、設備投資が大きく、高温処理が必
要なフェースパネル前面に直接塗膜を形成させる方法に
対し、基材に薄膜を形成したものを張り付ける方法も提
案されている(瀧等,National Technical Report, 42,
No. 3 (1996) 264-268)。
In view of the above, there has been proposed a method of directly forming a coating film on the front surface of a face panel which requires a high investment and requires a high-temperature treatment, and a method of attaching a thin film formed on a base material (Taki et al., National Technical Report, 42,
No. 3 (1996) 264-268).

【0009】これらの薄膜の形成方法は、ITO等の導
電性金属酸化物を蒸着・スパッタ等で導電性層を形成さ
せる方法であり、膜形成には真空処理が必要であり、製
造費が高価になったり、生産性に問題があった。
The method of forming these thin films is a method of forming a conductive layer by depositing or sputtering a conductive metal oxide such as ITO, and requires a vacuum treatment for forming the film, which is expensive. Or there was a problem with productivity.

【0010】これらの課題を解決するため、透明基材上
にハードコート層と、少なくとも1種以上の金属からな
る微粒子を有する透明導電層と、該透明導電層の外層に
形成され、この透明導電層の屈折率と異なる屈折率を有
する少なくとも1層の透明被膜層と、最外層に形成され
た防汚層とを含む構成からなる低反射透明導電性積層フ
イルムを開発してきたが、まだ機械特性、特に鉛筆引っ
掻き試験などの表面硬度に関わる特性が十分では無かっ
た。TVブラウン管やコンピュータディスプレイとして
用いられている陰極線管やプラズマディスプレー等のフ
ェースパネル表面に付着した埃や汚れをふき取ったり、
表面を硬いもので擦ったりした時に傷が発生することが
起こる。
In order to solve these problems, a hard coat layer on a transparent substrate, a transparent conductive layer having fine particles of at least one kind of metal, and an outer layer of the transparent conductive layer are formed. A low-reflection transparent conductive laminated film composed of at least one transparent coating layer having a refractive index different from the refractive index of the layer and an antifouling layer formed on the outermost layer has been developed, but the mechanical properties are still low. In particular, characteristics relating to surface hardness, such as a pencil scratch test, were not sufficient. Wipe off dust and dirt attached to the face panel surface such as a cathode ray tube or plasma display used as a TV cathode ray tube or a computer display,
Scratches occur when the surface is rubbed with a hard object.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
を解決するためになされたものであって、帯電防止性、
電磁波遮蔽性、反射防止性、防汚性、生産性に加えて機
械特性にも優れたフェースパネルに貼り付けることの可
能な反射防止透明導電性積層フイルムを提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has an antistatic property,
An object of the present invention is to provide an anti-reflective transparent conductive laminated film that can be attached to a face panel that has excellent mechanical properties in addition to electromagnetic wave shielding, anti-reflection, anti-fouling, and productivity.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の課題は、透明基材
上に、順次、ハードコート層、1種以上の金属からなる
微粒子を有する透明導電層、この透明導電層の屈折率と
異なる屈折率を有する少なくとも1層の透明性反射防止
層、及び、最外層として形成された防汚層を設けた反射
防止透明導電性積層フイルムにおいて、該透明基材のヤ
ング率が540×107Pa以上であることを特徴とす
る反射防止導電性積層フイルムによって解決された。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide a hard coat layer, a transparent conductive layer having fine particles of one or more metals, and a refractive index different from that of the transparent conductive layer on a transparent substrate. In the antireflection transparent conductive laminated film provided with at least one transparent antireflection layer having a modulus and an antifouling layer formed as the outermost layer, the transparent substrate has a Young's modulus of 540 × 10 7 Pa or more. The problem was solved by an antireflective conductive laminated film characterized by the following.

【0013】本発明の透明基材は、約80%以上の透過
率を有し、好ましくは90%以上の透過率を有する。1
種以上の金属からなる微粒子には、単一金属からなる微
粒子と金属合金からなる微粒子とが含まれる。透明導電
層は、約50%以上の透過率を有し、好ましくは60%
以上の透過率を有する。透明性反射防止層は、約50%
以上の透過率を有し、好ましくは60%以上の透過率を
有する。本発明の必須構成層である、透明基材、ハード
コート層、透明導電層、反射防止層、及び、防汚層の1
以上の層を必要に応じて2層以上としても良い。例え
ば、ハードコート層を組成が同一の、又は、異なる2層
により構成しても良く、透明性反射防止層を屈折率の異
なる2層構成とすることもできる。逆に、反射防止層に
防汚層の機能を兼備させて、最外層とすることも可能で
あり、この場合には、透明基材上に3層が設けられるこ
とになる。
The transparent substrate of the present invention has a transmittance of about 80% or more, and preferably has a transmittance of 90% or more. 1
Fine particles composed of more than one kind of metal include fine particles composed of a single metal and fine particles composed of a metal alloy. The transparent conductive layer has a transmittance of about 50% or more, preferably 60%
It has the above transmittance. About 50% of transparent anti-reflective layer
It has the above transmittance, and preferably has a transmittance of 60% or more. One of the essential constituent layers of the present invention, a transparent substrate, a hard coat layer, a transparent conductive layer, an antireflection layer, and an antifouling layer.
The above layers may be two or more layers as necessary. For example, the hard coat layer may be composed of two layers having the same or different compositions, and the transparent antireflection layer may be composed of two layers having different refractive indices. Conversely, the antireflection layer may also have the function of an antifouling layer and be the outermost layer. In this case, three layers are provided on the transparent substrate.

【0014】本発明の反射防止透明導電フイルムを、T
Vブラウン管やコンピュータディスプレイとして用いら
れている陰極線管やプラズマディスプレー等の表面に直
接ラミネートすることにより、PVD法やCVD法を用
いる従来の導電性被膜の形成技術やフェースパネル等に
直接導電性皮膜等を塗布する方法に比べ、設備も工程も
格段に簡易化することができ、さらに、表面機械特性特
に鉛筆引っ掻き試験に対する耐性を向上させることが可
能となる。
The antireflective transparent conductive film of the present invention is
By directly laminating on the surface of a cathode ray tube or a plasma display used as a V cathode ray tube or a computer display, a conventional conductive film forming technique using a PVD method or a CVD method, or a direct conductive film on a face panel or the like. In comparison with the method of applying a varnish, the equipment and the process can be significantly simplified, and the surface mechanical properties, particularly the resistance to the pencil scratch test, can be improved.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳し
く説明する。図1に、本発明の好ましい一実施形態であ
る反射防止透明導電性積層フイルムを示す。基材ベース
の側からハードコート層、金属微粒子からなる透明導電
層と、その外層に透明導電層と異なる屈折率を有する透
明性反射防止層が形成され、最外層に防汚層から構成さ
れている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail. FIG. 1 shows an antireflection transparent conductive laminated film which is a preferred embodiment of the present invention. A hard coat layer from the side of the base material base, a transparent conductive layer made of metal fine particles, and a transparent antireflection layer having a refractive index different from that of the transparent conductive layer formed on the outer layer, and an outermost layer formed of an antifouling layer. I have.

【0016】本積層フイルムは、ハードコート層を設け
たことによりフイルムの傷付を防止し、金属微粒子から
なる透明導電層が積層されているので導電性であり、帯
電が防止されると共に、陰極線管等から輻射される電磁
波を効果的に遮断することができ、さらに反射防止層に
より外部からの反射光を低下させることができる。最外
層に設けた防汚層により、フイルムの汚れを防止するこ
とができる。
The laminated film is provided with a hard coat layer to prevent the film from being damaged. Since the transparent conductive layer made of metal fine particles is laminated, the laminated film is conductive. Electromagnetic waves radiated from a tube or the like can be effectively blocked, and furthermore, external reflection light can be reduced by the antireflection layer. The antifouling layer provided on the outermost layer can prevent the film from being stained.

【0017】本発明に用いられる透明基材としては、引
っ張り試験による弾性率が540×107Pa以上のフ
イルム状の透明プラスチックフイルムが使用でき、好ま
しくは、540×107Pa以上200×108Pa以下
の透明プラスチックフイルムが使用できる。弾性率が高
すぎると、柔軟性が無く、脆性が極めて悪くなるため
に、フイルムとしての機能を果たせなくなってしまう。
これらの具体例としては、ポリエチレンナフタレート、
ポリイミド、芳香族ポリアミド等のフイルムを上げるこ
とができるが、ポリエチレンナフタレートが好ましい。
この透明基材フィルムの厚さとしては特に制限はなく、
使用目的に応じて適宜選定すればよいが、これらのフイ
ルムの厚みは20〜500μmが好ましく、薄すぎると
膜強度が弱く、厚いとスティフネスが大きく貼り付けが
困難になり、50〜200μmがより好ましい。この透
明基材フィルムは、所望により着色又は蒸着されていて
もよく、また紫外線吸収剤を含んでいてもよい。さら
に、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目
的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法な
どにより表面処理を施すことができる。上記酸化法とし
ては、例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロム
酸処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線
照射処理などが挙げらる。更に、一層以上の下塗り層を
設けることができる。下塗り層の素材としては塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、ブタジエン、(メタ)アクリル酸
エステル(メタクリル酸エステル又はアクリル酸エステ
ルの意。以下同様の表記である。)、ビニルエステル等
の共重合体或いはラテックス、ゼラチン等の水溶性ポリ
マーなどが挙げられる。
As the transparent substrate used in the present invention, a film-shaped transparent plastic film having an elastic modulus of 540 × 10 7 Pa or more by a tensile test can be used, and preferably 540 × 10 7 Pa or more and 200 × 10 8. A transparent plastic film of Pa or less can be used. If the elastic modulus is too high, there is no flexibility and the brittleness is extremely poor, so that the film cannot function as a film.
Specific examples of these include polyethylene naphthalate,
Films such as polyimide and aromatic polyamide can be used, but polyethylene naphthalate is preferred.
There is no particular limitation on the thickness of this transparent substrate film,
The thickness of these films is preferably 20 to 500 μm, and the thickness of these films is preferably 20 to 500 μm. If the thickness is too thin, the film strength is weak. . This transparent substrate film may be colored or vapor-deposited as desired, and may contain an ultraviolet absorber. Further, for the purpose of improving the adhesion to a layer provided on the surface, one or both surfaces can be subjected to a surface treatment by an oxidation method, a roughening method, or the like, if desired. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, glow discharge treatment, chromic acid treatment (wet method), flame treatment, hot air treatment, and ozone / ultraviolet irradiation treatment. Further, one or more undercoat layers can be provided. Examples of the material for the undercoat layer include copolymers or latexes of vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, (meth) acrylate (meaning of methacrylate or acrylate; the same applies hereinafter), vinyl ester, and the like. Examples include water-soluble polymers such as gelatin.

【0018】本発明に用いるハードコートは公知の硬化
性樹脂を用いることができ、熱硬化性樹脂、放射線硬化
型樹脂等がある。熱硬化性樹脂としてはメラミン樹脂、
ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のプレポリマーの架橋反
応を利用するものがある。放射線硬化型樹脂の例として
は、3官能以上の多官能モノマーが挙げられ、例として
は、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
やジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート等に代表される活性
エネルギー線(ガンマー線、電子線、紫外線等を含む)
硬化性化合物、特に紫外線硬化性化合物が挙げられる。
これらの化合物中には必要に応じて重合開始剤を添加す
ることができる。
As the hard coat used in the present invention, a known curable resin can be used, and examples thereof include a thermosetting resin and a radiation curable resin. Melamine resin as thermosetting resin,
Some use a crosslinking reaction of a prepolymer such as a urethane resin or an epoxy resin. Examples of the radiation-curable resin include trifunctional or higher-functional polyfunctional monomers. Examples thereof include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and trimethylolpropane triacrylate. Active energy rays such as acrylates (including gamma rays, electron beams, ultraviolet rays, etc.)
Curable compounds, in particular, UV curable compounds.
A polymerization initiator can be added to these compounds as needed.

【0019】また、ハードコート層中には硬度をアップ
させるため、充填剤として、シリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニア等の酸化物の微粒子やコロイダル粒子を
添加することできる。これらの粒子の硬さは硬い方が好
ましく、モース硬度6以上のものがより好ましい。これ
らの微粒子の粒子サイズは1〜100nmが好ましい。
微粒子の添加量は硬化性樹脂の20〜50体積%以下が
好ましい。50体積%以上では膜が脆くなり、少なすぎ
ると添加した効果が得られない。ハードコートの層厚は
2〜30μmが好ましく、4〜10μmが特に好まし
い。さらに必要に応じて、アニオン界面活性剤、カチオ
ン界面活性剤を添加したり、コロナ処理、グロー処理、
火炎処理等の表面処理を行い、ハードコートの表面の親
水性、密着性を向上させることができる。
In order to increase the hardness in the hard coat layer, fine particles of oxides such as silica, alumina, titania and zirconia and colloidal particles can be added as a filler. The hardness of these particles is preferably higher, and those having a Mohs hardness of 6 or more are more preferable. The particle size of these fine particles is preferably from 1 to 100 nm.
The addition amount of the fine particles is preferably 20 to 50% by volume or less of the curable resin. If the content is 50% by volume or more, the film becomes brittle, and if the content is too small, the added effect cannot be obtained. The layer thickness of the hard coat is preferably from 2 to 30 μm, particularly preferably from 4 to 10 μm. If necessary, an anionic surfactant or a cationic surfactant may be added, or a corona treatment, a glow treatment,
Surface treatment such as flame treatment can be performed to improve the hydrophilicity and adhesion of the hard coat surface.

【0020】本発明の透明導電層は、基本的には少なく
とも1種以上の金属からなる微粒子を含有する層からな
る。1種以上の金属からなる微粒子としては、金、銀、
銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、パラジウム、プラチ
ナ等の金属あるいはこれらの合金が挙げられる。特に銀
が好ましく、さらに耐候性の観点からパラジウムと銀の
合金が好ましい。パラジウムの含有量としては5〜30
wt%が好ましく、パラジウムが少ないと耐候性が悪
く、パラジウムが多くなると導電性が低下する。金属微
粒子の作成方法としては、低真空蒸発法による微粒子の
作製方法や金属塩の水溶液を鉄(II)、ヒドラジン、ボ
ロンハイドライド、ヒドロキシエチルアミン等のアミン
等の還元剤で還元する金属コロイド作製方法が挙げられ
る。
The transparent conductive layer of the present invention basically comprises a layer containing fine particles of at least one metal. Fine particles composed of one or more metals include gold, silver,
Examples thereof include metals such as copper, aluminum, iron, nickel, palladium, and platinum, and alloys thereof. Particularly, silver is preferable, and an alloy of palladium and silver is more preferable from the viewpoint of weather resistance. 5-30 as the content of palladium
wt% is preferable. When the amount of palladium is small, the weather resistance is poor, and when the amount of palladium is large, the conductivity is reduced. Examples of the method for preparing metal fine particles include a method for preparing fine particles by a low vacuum evaporation method and a method for preparing a metal colloid in which an aqueous solution of a metal salt is reduced with a reducing agent such as iron (II), hydrazine, boron hydride, or hydroxyethylamine. No.

【0021】これら金属微粒子の平均粒径は1〜100
nmが好ましい。100nmを越える場合には、金属粒
子による光の吸収が大きくなり、このために粒子層の光
透過率が低下すると同時にヘイズが大きくなり、また、
これら金属微粒子の平均粒径が1nm未満の場合には微
粒子の分散が困難になること、微粒子層の表面抵抗が急
激に大きくなるため、本発明の目的を達成しうる程度の
低抵抗値を有する被膜を得ることができない。透明導電
層は実質的に金属微粒子のみからなることが好ましく、
バインダー等の非導電性のものを含有しないことが導電
性の観点から好ましい。
The average particle diameter of these metal fine particles is 1 to 100.
nm is preferred. If it exceeds 100 nm, the absorption of light by the metal particles becomes large, so that the light transmittance of the particle layer is reduced and the haze is increased.
When the average particle diameter of these metal fine particles is less than 1 nm, it becomes difficult to disperse the fine particles, and the surface resistance of the fine particle layer sharply increases. No coating can be obtained. Preferably, the transparent conductive layer is substantially composed of only metal fine particles,
It is preferable not to contain a non-conductive material such as a binder from the viewpoint of conductivity.

【0022】金属の微粒子層を形成するには、水を主体
とする溶液あるいは有機溶剤中等に金属微粒子を分散し
た塗料をハードコート上に塗布して作製する。金属微粒
子の分散安定化のためには水を主体とする溶液が好まし
く、水と混合できる溶剤としてはエチルアルコール、n
−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、ブチ
ルアルコール、メチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等
のアルコールが好ましい。 金属の塗布量としては、5
0〜150mg/m2が好ましく、塗布量が少ないと導
電性が取れず、塗布量が多いと透過性が劣る。
In order to form a metal fine particle layer, a coating material in which metal fine particles are dispersed in a solution mainly composed of water or an organic solvent is applied on a hard coat. For the purpose of stabilizing the dispersion of the metal fine particles, a solution mainly composed of water is preferable. As a solvent that can be mixed with water, ethyl alcohol, n
Alcohols such as -propyl alcohol, i-propyl alcohol, butyl alcohol, methyl cellosolve and butyl cellosolve are preferred. The amount of metal applied is 5
The amount is preferably from 0 to 150 mg / m 2. If the coating amount is small, the conductivity cannot be obtained, and if the coating amount is large, the transmittance is poor.

【0023】透明導電層の表面抵抗率は、スウェーデン
中央労働者協議会が制定したTCOガイドラインをクリ
アーするため1000Ω/□以下が必要であり、透過性
は50%以上が好ましい。
The surface resistivity of the transparent conductive layer is required to be 1000 Ω / □ or less in order to meet the TCO guidelines established by the Swedish Central Workers' Council, and the transmittance is preferably 50% or more.

【0024】透明導電性層の導電性や透過性の向上のた
め、熱処理や水処理することができる。熱処理は、プラ
スチックフイルムの耐熱性によるが、150℃以下が好
ましい。100℃から150℃が好ましい。150℃以
上ではプラスチックフイルムの熱による変形が起こりや
すく、100℃以下では熱処理の効果が出難く、長時間
の処理時間が必要になってしまう。
Heat treatment or water treatment can be performed to improve the conductivity and permeability of the transparent conductive layer. The heat treatment depends on the heat resistance of the plastic film, but is preferably 150 ° C. or lower. 100 ° C to 150 ° C is preferred. If the temperature is higher than 150 ° C., the plastic film is likely to be deformed by heat. If the temperature is lower than 100 ° C., the effect of the heat treatment is hardly obtained, and a long processing time is required.

【0025】熱処理の方法は、ウェッブ状態で加熱ゾー
ンを通しながら処理することが均一な処理ができて好ま
しい。加熱ゾーンの長さと搬送速度で滞在時間を調節す
ることができる。またロール状のフイルムを高温槽中で
加熱することも可能であるが、熱伝導のバラツキを考慮
した時間設定が必要になる。
The heat treatment is preferably carried out while passing through a heating zone in a web state, since uniform treatment can be achieved. The stay time can be adjusted by the length of the heating zone and the transport speed. It is also possible to heat the roll-shaped film in a high-temperature bath, but it is necessary to set a time in consideration of variations in heat conduction.

【0026】また、熱処理に先立ち、透明導電性層を水
洗等の水処理をする事で熱処理をさらに効率良くするこ
とができる。水洗等の水処理は、通常の塗布方式による
水だけの塗布、具体的にはディップコート塗布、ワイヤ
ーバーによる水の塗布等があり、他にはスプレーやシャ
ワーで水を透明導電性層に掛ける方法がある。透明導電
性層に水をかけた後、過剰の水は必要に応じて、ワイヤ
ーバー、ロッドバーで掻き取ったり、エアーナイフで掻
き取ることができる。
Further, prior to the heat treatment, the heat treatment can be further efficiently performed by subjecting the transparent conductive layer to a water treatment such as washing with water. Water treatment such as water washing includes application of only water by a normal application method, specifically, dip coating, application of water by a wire bar, etc. In addition, water is applied to the transparent conductive layer by spraying or showering. There is a way. After water is applied to the transparent conductive layer, excess water can be scraped off with a wire bar or a rod bar or with an air knife as necessary.

【0027】これらの水処理により、熱処理後の透明導
電性槽の表面抵抗をさらに低下させることができ、加え
て透過率の増加、透過スペクトルの平坦化、反射防止層
を積層した後の反射率の低下に対する効果が顕著にな
る。
These water treatments can further reduce the surface resistance of the transparent conductive bath after the heat treatment, increase the transmittance, flatten the transmission spectrum, and reflectivity after the antireflection layer is laminated. The effect on the reduction of the amount becomes significant.

【0028】本発明の透明導電層の屈折率と異なる屈折
率を有する少なくとも1層の透明性反射防止層の屈折率
は、2よりも小さいことが好ましい。好ましくは屈折率
と透明反射防止膜の厚み(nm)との積が100〜20
0の範囲に入ることが好ましい。これらの物質として
は、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、紫外線硬化樹脂などの有機系合成樹脂、
ケイ素などの金属アルコキシドの加水分解物、またはシ
リコーンモノマー、シリコーンオリゴマーなどの有機・
無機系化合物、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニ
ア或いはこれらの混合物等のゾル・ゲル反応による透明
酸化物被膜が挙げられる。特に好ましくは、ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレートやジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の放射線硬化
性樹脂あるいはこれらに微粒子のシリカやアルミナ等を
添加したものが表面硬度も上げることで好ましい。
The refractive index of at least one transparent antireflection layer having a refractive index different from that of the transparent conductive layer of the present invention is preferably smaller than 2. Preferably, the product of the refractive index and the thickness (nm) of the transparent antireflection film is 100 to 20.
It is preferable to fall within the range of 0. As these substances, for example, organic synthetic resins such as polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, melamine resin, polyurethane resin, polyvinyl butyral resin, ultraviolet curing resin,
Hydrolysis products of metal alkoxides such as silicon, or organic compounds such as silicone monomers and silicone oligomers
A transparent oxide film formed by a sol-gel reaction of an inorganic compound, silica, alumina, titania, zirconia, or a mixture thereof can be used. Particularly preferably, radiation curable resins such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, or those obtained by adding fine particles of silica or alumina to these resins are preferable because they increase the surface hardness.

【0029】最外層の防汚層としては、公知のフッ素を
含有する低表面エネルギーの化合物が好ましく、具体的
にはフッ化炭化水素基を含有するシリコン化合物、フッ
化炭化水素基含有ポリマー、フッ化炭化水素、シリコン
を有するモノマーのグラフト、ブロック共重合体等が挙
げられる。これらは熱硬化性、放射線硬化基を含有する
架橋性の樹脂が好ましい。表面の水の接触角は80℃以
上が好ましく、90℃以上がより好ましい。
The outermost antifouling layer is preferably a known fluorine-containing compound having a low surface energy, specifically, a silicon compound containing a fluorinated hydrocarbon group, a fluorinated hydrocarbon group-containing polymer, or a fluorine-containing compound. Examples include grafted hydrocarbons, grafts of monomers having silicon, and block copolymers. These are preferably thermosetting or crosslinkable resins containing a radiation-curable group. The contact angle of water on the surface is preferably 80 ° C. or more, more preferably 90 ° C. or more.

【0030】本発明の積層フイルムの作製は、基材フイ
ルム上に各層の塗料をディッピング法、スピナー法、ス
プレー法、ロールコーター法、グラビア法、ワイヤーバ
ー法等の公知の薄膜形成方法で各層を順次形成、乾燥し
て作製することができる。
The laminated film of the present invention is prepared by coating each layer of the coating on the base film by a known thin film forming method such as a dipping method, a spinner method, a spray method, a roll coater method, a gravure method, and a wire bar method. It can be formed by sequentially forming and drying.

【0031】[0031]

【実施例】以下、実施例によって本発明を更に具体的に
説明する。 塗料の調製: ハードコート層塗布液の調整: (シリカ微粒子の表面処理)平均粒径が15nmのシリ
カ微粒子の40重量%メタノール分散液200gを、撹
拌装置、温度計および還流冷却管を装着した500ml
のガラス製三口フラスコに入れた。ここに2N塩酸0.
2gを加え、窒素気流下で60℃に昇温した後、3−メ
タクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン10g
を添加し、4時間撹拌を続け、シリカ微粒子を表面処理
した。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Preparation of paint: Preparation of coating liquid for hard coat layer: (Surface treatment of silica fine particles) 200 g of a 40% by weight methanol dispersion of silica fine particles having an average particle diameter of 15 nm was 500 ml equipped with a stirrer, a thermometer and a reflux condenser.
In a three-necked glass flask. Here, 2N hydrochloric acid was added.
After adding 2 g and heating to 60 ° C. under a nitrogen stream, 10 g of 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane was added.
Was added and stirring was continued for 4 hours to surface-treat the silica fine particles.

【0032】(ハードコート層用塗布液の調製)表面処
理したシリカ微粒子の43重量%メタノール分散液11
6gに、メタノール97g、イソプロパノール163g
および酢酸ブチル163gを加えた。混合液に、ジペン
タエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本
化薬(株)製)200gを加えて溶解した。得られた溶
液に、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギ
ー社製)7.5gおよび光増感剤(カヤキュアーDET
X、日本化薬(株)製)5.0gを加えて溶解した。混
合物を30分間撹拌した後、孔径1μmのポリプロピレ
ン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液(ハ
ードコート剤(1))を調製した。
(Preparation of Hard Coat Layer Coating Solution) A 43% by weight methanol dispersion of surface-treated silica fine particles 11
To 6 g, 97 g of methanol and 163 g of isopropanol
And 163 g of butyl acetate. To the mixture, 200 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was added and dissolved. 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DET) were added to the obtained solution.
X, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and dissolved. After stirring the mixture for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a hard coat layer (hard coat agent (1)).

【0033】銀パラジウムコロイド塗布液の調製: (銀パラジウムコロイド分散液の調整)30%硫酸鉄
(II)FeSO4・7H2O、40%のクエン酸を調整、
混合し、20℃に保持、攪拌しながらこれに10%の硝
酸銀と硝酸パラジウム(モル比9/1に混合したもの)
溶液を200ml/minの速度で添加混合し、その後
生成した遠心分離により水洗を繰り返し、最終的に3重
量%になるように純水を加え、銀パラジウムコロイド分
散液を調整した。得られた銀コロイド粒子の粒径はTE
M観察の結果、粒径は約9〜12nmであった。ICP
による測定の結果、銀とパラジウムの比は9/1の仕込
み比と同一であった。
[0033] Preparation of silver-palladium colloid coating solution: adjusted (silver adjustment of palladium colloid dispersion) 30% iron sulfate (II) FeSO 4 · 7H 2 O, 40% citric acid,
Mix, maintain at 20 ° C. and stir with stirring 10% silver nitrate and palladium nitrate (9/1 molar ratio)
The solution was added and mixed at a rate of 200 ml / min, and thereafter, washing with water was repeated by centrifugation, and pure water was finally added to a concentration of 3% by weight to prepare a silver-palladium colloidal dispersion. The particle size of the obtained silver colloid particles is TE
As a result of M observation, the particle size was about 9 to 12 nm. ICP
As a result, the ratio of silver to palladium was the same as the charging ratio of 9/1.

【0034】(銀コロイド塗布液の調整)前記銀コロイ
ド分散液100gにi−プロピルアルコールを加え、超
音波分散し孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで
濾過して塗布液を調整した。
(Adjustment of Silver Colloid Coating Solution) To 100 g of the silver colloid dispersion solution, i-propyl alcohol was added, ultrasonically dispersed, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution.

【0035】反射防止層用塗布液の調整 ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPH
A、日本化薬(株)製)2gと光重合開始剤(イルガキ
ュア907、チバガイギー社製)80mgおよび光増感
剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)30m
gをメチルイソプロピルケトン38g、2−ブタノール
38g、メタノール19gの混合液に加えて溶解した。
混合物を30分間撹拌した後、孔径1μmのポリプロピ
レン製フィルターで濾過して低反射防止層用塗布液を調
製した
Preparation of Coating Solution for Antireflection Layer A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPH
A, 2 g of Nippon Kayaku Co., Ltd., 80 mg of photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba-Geigy) and 30 m of photosensitizer (Kayacure DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.)
g was dissolved in a mixed solution of 38 g of methyl isopropyl ketone, 38 g of 2-butanol and 19 g of methanol.
After stirring the mixture for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low antireflection layer.

【0036】防汚層用塗布液の調製 熱架橋性含フッ素ポリマー(JN−7214、日本合成
ゴム(株)製)にイソプロピルアルコールを加えて、0.
2重量%の粗分散液を調製した。粗分散液を、更に超音
波分散し、防汚層用塗布液を調製した。
Preparation of Coating Solution for Antifouling Layer To a heat-crosslinkable fluoropolymer (JN-7214, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), isopropyl alcohol was added.
A 2% by weight crude dispersion was prepared. The coarse dispersion was further ultrasonically dispersed to prepare a coating solution for an antifouling layer.

【0037】[実施例1]反射防止透明導電性積層フイ
ルムの作製:90μmのポリエチレンナフタレートフイ
ルムにワイヤーバーを用いてハードコート塗布液を層厚
8μmになるように塗布・乾燥し、紫外線照射しハード
コート層を作製した。コロナ処理を施した後、上記銀コ
ロイド塗布液をワイヤーバーで塗布量が70mg/m2
になるように塗布し、40℃で乾燥した。この銀コロイ
ド塗布面に、ポンプで送液した水をスプレーでかけ、エ
アーナイフで過剰の水を除去した後、120℃の加熱ゾ
ーンで搬送しながら、5分の処理を行った。次いで、反
射防止層を膜厚80nmになるように塗布・乾燥し、紫
外線照射した。さらに、防汚層用塗布液を同様にワイヤ
ーバーで5mg/m2塗布し120℃で乾燥・熱処理を
行った。
Example 1 Preparation of Antireflective Transparent Conductive Laminated Film: A hard coat coating solution was applied to a 90 μm polyethylene naphthalate film using a wire bar to a layer thickness of 8 μm, dried, and irradiated with ultraviolet rays. A hard coat layer was produced. After the corona treatment, the silver colloid coating solution was coated with a wire bar at a coating amount of 70 mg / m 2.
And dried at 40 ° C. Water fed by a pump was sprayed on the silver colloid-coated surface, excess water was removed with an air knife, and a treatment was carried out for 5 minutes while transporting in a heating zone at 120 ° C. Next, an antireflection layer was applied to a thickness of 80 nm, dried, and irradiated with ultraviolet rays. Further, the coating solution for the antifouling layer was similarly applied at 5 mg / m 2 with a wire bar, and dried and heat-treated at 120 ° C.

【0038】[比較例2,3]ポリエチレンナフタレー
トフイルムの変わりに、ポリエチレンテレフタレート、
セルローストリアセテートを用いた以外は実施例1と同
様の方法で積層フイルムを作製した。
Comparative Examples 2 and 3 Instead of polyethylene naphthalate film, polyethylene terephthalate was used.
A laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that cellulose triacetate was used.

【0039】[実施例2,比較例3,4]実施例1,比
較例2,3で用いたハードコート層塗布液に表面処理シ
リカ微粒子を添加すること無し(ハードコート剤(2))
に同様の方法で積層フイルムを作成した。
[Example 2, Comparative Examples 3 and 4] No fine particles of surface-treated silica were added to the hard coat layer coating solution used in Example 1, Comparative Examples 2 and 3 (hard coat agent (2)).
In the same manner, a laminated film was prepared.

【0040】作成した積層フイルムの特性を測定した結
果を表1に示す。何れのフイルムの表面電気抵抗率は2
00Ω/□、平均反射率は0.8%であり、また、防汚
性も良好(○)であった。
Table 1 shows the results of measuring the characteristics of the laminated film thus produced. The surface electric resistivity of each film is 2
00Ω / □, the average reflectance was 0.8%, and the antifouling property was good (().

【0041】作成した積層フイルムの鉛筆引っ掻き硬度
試験の結果を表1に示す。表中、PENはポリエチレン
ナフタレートを表し、PETはポリエチレンテレフタレ
ートを表し、又、TACはセルローストリアセテートを
表す。
Table 1 shows the results of the pencil scratch hardness test of the laminated film thus produced. In the table, PEN represents polyethylene naphthalate, PET represents polyethylene terephthalate, and TAC represents cellulose triacetate.

【0042】[0042]

【表1】 [Table 1]

【0043】各測定は以下に示す方法で行った。 (反射防止膜の評価) (1)表面抵抗率 4端子法表面抵抗率計(三菱化学(株)製「ロレスタG
P」)による測定値 (2)平均反射率 分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、450〜65
0nmの波長領域における入射光5゜における正反射の
平均反射率。 (3)防汚性 フイルム表面に指紋を付着させ、東レ(株)製トレシーを
用いてふき取った状態の評価(○は指紋が完全にふき取
れた状態、×は指紋の一部がふき取れずに残った状
態)。 (4)ヤング率の測定 (株)東洋精機製作所製万能引張試験機「テンシロンUT
M−II−20」を用いて、所定の大きさに裁断したフイ
ルムを、50%/分の速度で引っ張り、初期の応力変化
の傾きからヤング率を求めた。 (5)鉛筆引っ掻き試験の硬度 フイルムを温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間
調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用鉛
筆を用いて、JIS−K−5400が規定する鉛筆硬度
評価方法に従い、1kgの加重にて傷が全く認められな
い鉛筆の硬度の値。
Each measurement was performed by the following method. (Evaluation of anti-reflection film) (1) Surface resistivity 4-terminal method surface resistivity meter (Loresta G manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
P)) (2) Average reflectance 450-65 using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation).
Average reflectance of specular reflection of incident light 5 ° in a wavelength region of 0 nm. (3) Antifouling property Evaluation of the state where fingerprints were adhered to the film surface and wiped off using Toray's Toraysee (○ indicates that the fingerprints were completely wiped off, × indicates that some of the fingerprints were not wiped off Left in the state). (4) Measurement of Young's modulus Tensilon UT, a universal tensile tester manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.
Using "M-II-20", the film cut into a predetermined size was pulled at a speed of 50% / min, and the Young's modulus was determined from the gradient of the initial stress change. (5) Hardness of Pencil Scratch Test After conditioning the film for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, using a test pencil specified by JIS-S-6006, specified by JIS-K-5400. According to the pencil hardness evaluation method, the value of the pencil hardness at which no scratch is observed at a load of 1 kg.

【0044】表1より、ヤング率が540×107Pa
以上の基材上にハードコートを設けたものは、他のフイ
ルムに比較して鉛筆硬度が1ランク向上していることが
解る。この基材にハードコート層、銀コロイド層、反射
防止層及び防汚層を積層した低反射透明導電性積層フイ
ルムは導電性に優れ、さらに反射防止性、防汚性さらに
優れた機械特性のすべてを具備していることが解る。近
年、プラスチック製品が、加工性、軽量化の観点でガラ
ス製品と置き換わりつつあるが、これらプラスチック製
品の表面は傷つきやすいため、耐擦傷性を付与する目的
でハードコートフィルムを貼合して用いる場合が多い。
また、従来のガラス製品に対しても、飛散防止のために
プラスチックフィルムを貼合する場合が増えているが、
硬度不足のため、その表面にハードコートを形成するこ
とが広く行われており、本発明のハードコート付きフイ
ルムの形での使用も当然可能である。また、このヤング
率の大きな基材にハードコート層を塗設したフイルムを
用いて、金属微粒子以外の透明導電層例えばITOに代
表される酸化物等の層を設けた高機械強度の反射防止透
明導電性フイルムを作成することも当然可能である。
According to Table 1, the Young's modulus is 540 × 10 7 Pa.
It can be seen that the hard coat provided on the above-described base material has improved the pencil hardness by one rank as compared with other films. This low-reflection transparent conductive laminated film, in which a hard coat layer, a silver colloid layer, an antireflection layer and an antifouling layer are laminated on this substrate, has excellent conductivity, and furthermore has excellent antireflection properties, antifouling properties and excellent mechanical properties It turns out that it is equipped with. In recent years, plastic products are being replaced with glass products from the viewpoint of workability and weight reduction.However, since the surface of these plastic products is easily damaged, a case where a hard coat film is used for the purpose of imparting scratch resistance is used. There are many.
In addition, even with conventional glass products, the number of cases where plastic films are bonded to prevent scattering is increasing,
Due to insufficient hardness, a hard coat is widely formed on the surface thereof, and it is naturally possible to use the film of the present invention in the form of a film with a hard coat. In addition, a film having a hard coat layer coated on a substrate having a large Young's modulus is used to provide a transparent conductive layer other than metal fine particles, for example, an oxide or the like represented by ITO. It is of course possible to make a conductive film.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明の反射防止透明導電性積層フイル
ムは、簡単な層構成により帯電防止性および電磁波遮蔽
性、表面反射が防止されているフイルムであり、特に表
面の機械強度に優れた高特性の反射防止透明導電性フイ
ルムを得ることが可能である。従って、陰極線管やプラ
ズマディスプレー等の表面に積層することにより、電磁
波遮蔽、反射防止、表面の汚れ防止機能に加え優れた機
械強度を付加できる反射防止透明導電性積層フイルムを
供与できる。
The anti-reflective transparent conductive laminated film of the present invention is a film having a simple layer structure, which has an antistatic property, an electromagnetic wave shielding property, and a surface reflection prevention, and has a high surface mechanical strength. It is possible to obtain an antireflection transparent conductive film having characteristics. Therefore, by laminating on a surface of a cathode ray tube, a plasma display or the like, it is possible to provide an anti-reflection transparent conductive laminated film capable of adding excellent mechanical strength in addition to electromagnetic wave shielding, anti-reflection, and surface contamination prevention functions.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る反射防止透明導電性積
層フイルムの層構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a layer configuration of an antireflection transparent conductive laminated film according to one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明基材 2 ハードコート層 3 透明導電層 4 反射防止層 5 防汚層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent base material 2 Hard coat layer 3 Transparent conductive layer 4 Antireflection layer 5 Antifouling layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松永 直裕 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 池山 昭弘 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2K009 AA04 AA15 BB24 CC09 CC26 DD02 DD05 DD06 EE02 EE03 5G435 AA00 AA08 AA16 BB02 BB06 DD12 GG32 GG33 HH02 HH03 HH12 KK07 LL04 LL06 LL08 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Naohiro Matsunaga 210 Nakanakanuma, Minamiashigara, Kanagawa Prefecture Inside Fuji Photo Film Co., Ltd. (72) Inventor Akihiro Ikeyama 210 Nakanakanuma, Minamiashigara City, Kanagawa Prefecture Fuji Photo Film Co., Ltd. Reference) 2K009 AA04 AA15 BB24 CC09 CC26 DD02 DD05 DD06 EE02 EE03 5G435 AA00 AA08 AA16 BB02 BB06 DD12 GG32 GG33 HH02 HH03 HH12 KK07 LL04 LL06 LL08

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基材上に、順次、ハードコート層、
1種以上の金属からなる微粒子を有する透明導電層、こ
の透明導電層の屈折率と異なる屈折率を有する少なくと
も1層の透明性反射防止層、及び、最外層として形成さ
れた防汚層を設けた反射防止透明導電性積層フイルムに
おいて、該透明基材のヤング率が540×107Pa以
上であることを特徴とする反射防止導電性積層フイル
ム。
1. A hard coat layer on a transparent substrate,
A transparent conductive layer having fine particles of one or more metals, at least one transparent antireflection layer having a refractive index different from that of the transparent conductive layer, and an antifouling layer formed as an outermost layer are provided. An anti-reflection conductive laminated film, wherein the transparent base material has a Young's modulus of 540 × 10 7 Pa or more.
【請求項2】 前記1種以上の金属からなる微粒子が銀
あるいは銀を主体とする合金であり、その粒子サイズが
1〜100nmであることことを特徴とする請求項1に
記載の反射防止透明導電性積層フイルム。
2. The antireflection transparent material according to claim 1, wherein the fine particles made of one or more metals are silver or an alloy mainly composed of silver, and the particle size is 1 to 100 nm. Conductive laminated film.
【請求項3】 該透明基材がポリエチレンナフタレート
フイルムであることを特徴とする請求項1又は請求項2
に記載の反射防止透明導電性積層フイルム。
3. The method according to claim 1, wherein the transparent substrate is a polyethylene naphthalate film.
4. The anti-reflective transparent conductive laminated film according to item 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005191164A (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Toyobo Co Ltd Electromagnetic wave shield film
CN108778732A (en) * 2016-03-02 2018-11-09 琳得科株式会社 Hard stacked film

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