JP2001167689A - Cathode for electron tube - Google Patents

Cathode for electron tube

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JP2001167689A
JP2001167689A JP2000336378A JP2000336378A JP2001167689A JP 2001167689 A JP2001167689 A JP 2001167689A JP 2000336378 A JP2000336378 A JP 2000336378A JP 2000336378 A JP2000336378 A JP 2000336378A JP 2001167689 A JP2001167689 A JP 2001167689A
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Japan
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cathode
base metal
heat treatment
electron tube
electron
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JP2000336378A
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Japanese (ja)
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Seiin Bun
聖 ▲いん▼ 文
Toki Kan
東 ▲き▼ 韓
Shoken Kan
承 権 韓
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Samsung SDI Co Ltd
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    • HELECTRICITY
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    • H01J1/00Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
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    • HELECTRICITY
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    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/04Manufacture of electrodes or electrode systems of thermionic cathodes

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cathode for electron tube. SOLUTION: Fine particle siges of a base metal surface are adjusted from 3 to 50 μm in the cathode for electron tube containing a base metal and a electron-emitting substance layer. Thereby, the fine particle of the base metal surface can be controlled freely by a series of heat-treatment, a dispersion efficiency of an intermediate produced on working is excellent and a diffusion path of a reducing agent can be provided continuously, whereby an excellent long life property can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子管用陰極に係
り、詳細には寿命及び電子放出特性が向上した電子管用
陰極に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cathode for an electron tube, and more particularly, to a cathode for an electron tube having improved life and electron emission characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子管用陰極としては、一般にニッケル
を主成分とし還元剤としてケイ素、マグネシウムを微量
含有する基地金属上に、バリウムを主成分とするアルカ
リ土類金属炭酸塩から転換された酸化物よりなる電子放
出物質層の備わった酸化物陰極が広く使われている。
2. Description of the Related Art As a cathode for an electron tube, an oxide converted from an alkaline earth metal carbonate containing barium as a main component is coated on a base metal containing nickel as a main component and a small amount of silicon or magnesium as a reducing agent. An oxide cathode provided with a layer of an electron-emitting substance is widely used.

【0003】従って、酸化物陰極の寿命特性は、主に基
地金属及び酸化物の影響を受け、特に酸化物陰極の動作
中に生成される中間生成物は還元剤の拡散を妨害して陰
極の寿命を大きく縮めてしまうのである。
[0003] Therefore, the life characteristics of the oxide cathode are mainly affected by the base metal and the oxide, and in particular, the intermediate products formed during the operation of the oxide cathode hinder the diffusion of the reducing agent to prevent the cathode from being diffused. The life is greatly shortened.

【0004】図1は、従来の基地金属(Si0.05w
t%、及びMg0.05wt%が含まれたニッケル金
属)の表面組織の光学顕微鏡写真である。図示するよう
に、従来の基地金属は、表面組織の粒子サイズが約10
0μm程度に達する。
FIG. 1 shows a conventional base metal (Si 0.05w).
5 is an optical micrograph of the surface structure of nickel metal (t% and 0.05 wt% of Mg). As shown in the figure, the conventional base metal has a surface texture of about 10 particles.
It reaches about 0 μm.

【0005】このような酸化物陰極は、一般に次のよう
な方法で製造されている。まず、ニトロセルロースを溶
かした有機溶剤に炭酸バリウムを主成分とする炭酸塩粉
末を混合した後、その混合物をスプレーや電着などの方
法で基地金属上に被着し、その後、電子銃に装着させて
電子管に組立てる。電子管内部を真空にするための排気
工程で、炭酸塩はヒータにより約1000℃に加熱さ
れ、この際炭酸バリウムは、下記(1)式で示す反応に
より酸化バリウムに変換される。
[0005] Such an oxide cathode is generally manufactured by the following method. First, a carbonate powder mainly composed of barium carbonate is mixed with an organic solvent in which nitrocellulose is dissolved, and the mixture is applied on a base metal by a method such as spraying or electrodeposition, and then attached to an electron gun. And assemble it into an electron tube. In an evacuation process for evacuating the inside of the electron tube, the carbonate is heated to about 1000 ° C. by a heater, and at this time, barium carbonate is converted into barium oxide by a reaction represented by the following formula (1).

【0006】BaCO3→BaO+CO2 …(1) 生成された前記酸化バリウムは、陰極動作中電子放出物
質層が基地金属と接触される境界で基地金属中の還元剤
のSi、Mg等により下記(2)式および(3)式のよ
うに還元反応を起こす。
BaCO 3 → BaO + CO 2 (1) The produced barium oxide is formed by the reducing agent Si, Mg or the like in the base metal at the boundary where the electron emission material layer comes into contact with the base metal during operation of the cathode, as follows: A reduction reaction occurs as in the equations (2) and (3).

【0007】BaO+Mg→MgO+Ba …(2) 4BaO+Si→Ba2SiO4+2Ba …(3) このように生成されたガラスバリウムが電子放出するの
際に、前記(2)、(3)式に示されたようにMgO、
Ba2SiO4も電子放出物質層と基地金属との境界及び
基地金属の粒界で生成される。この反応生成物は、中間
生成物と呼ばれ、MgやSiの拡散を妨害する障壁にな
り、電子放出に寄与するガラスバリウムの生成が難しく
なる。従ってこの中間生成物は、酸化物陰極の寿命短縮
という結果を招く。また、この中間生成物は、高抵抗を
以って電子放出電流の流れを妨害するので電流密度を制
限する問題点もある。
BaO + Mg → MgO + Ba (2) 4BaO + Si → Ba 2 SiO 4 + 2Ba (3) When the glass barium thus generated emits electrons, it is expressed by the above formulas (2) and (3). Like MgO,
Ba 2 SiO 4 is also generated at the boundary between the electron emitting material layer and the base metal and at the grain boundary of the base metal. This reaction product is called an intermediate product, and serves as a barrier that hinders the diffusion of Mg and Si, making it difficult to generate glass barium that contributes to electron emission. Therefore, this intermediate product results in shortened life of the oxide cathode. In addition, the intermediate product has a problem that the current density is limited because the intermediate product obstructs the flow of the electron emission current due to the high resistance.

【0008】このような問題点を解決するために、日本
松下社では日本国特開平3−257735号公報を通じ
て基地金属の表面にタングステン、モリブデンよりなさ
れた金属層を着けた陰極を提案しているが、この陰極は
自ら還元剤だけでなく付加的な中間形成物Ba3WO3
生成するので初期電子放出が大きすぎ、陰極の電子放出
特性及び寿命特性が時間が経つほど低下する問題点があ
る。
In order to solve such a problem, Matsushita Corporation of Japan has proposed a cathode having a metal layer made of tungsten and molybdenum on the surface of a base metal through Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-257735. However, this cathode itself generates not only a reducing agent but also an additional intermediate Ba 3 WO 3 , so that the initial electron emission is too large, and the electron emission characteristics and the life characteristics of the cathode deteriorate as time passes. is there.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明が解決
しようとする技術的課題は、電子管用陰極の動作中に基
地金属と電子放出物質層の境界及び基地金属の粒界で発
生する中間生成物によって誘発される寿命縮、カットオ
フドリフト率増大の問題を解決できる電子管用陰極を提
供することにある。
Accordingly, the technical problem to be solved by the present invention is to solve the problem of intermediate products generated at the boundary between the base metal and the electron-emitting material layer and the grain boundary of the base metal during the operation of the cathode for an electron tube. It is an object of the present invention to provide a cathode for an electron tube which can solve the problems of shortening the life and increasing the cutoff drift rate induced by an object.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前記課題を達成するため
に本発明は、基地金属及び電子放出物質層を含む電子管
用陰極において、前記基地金属表面の微細組織粒子サイ
ズが3乃至50μmであることを特徴とする電子管用陰
極である。
According to the present invention, there is provided an electron tube cathode including a base metal and an electron emitting material layer, wherein a fine structure particle size of the base metal surface is 3 to 50 μm. A cathode for an electron tube.

【0011】本発明においては、前記基地金属表面の微
細組織の粒子サイズは、熱処理によって形成されたもの
であることが望ましい。この熱処理は、a)基地金属を
大気下で300乃至1100℃に加熱して金属酸化膜を
形成する酸化熱処理段階と、b)前記金属酸化膜が形成
された基地金属を露点温度が−50乃至−90℃の水素
雰囲気で500乃至1200℃に加熱して前記金属酸化
膜を除去する乾式還元熱処理段階と、c)前記b)段階
が終った基地金属を露点温度が−10乃至−40℃の水
素雰囲気で500乃至1200℃に加熱する湿式還元熱
処理段階とを含むことを特徴とする。
In the present invention, the particle size of the fine structure on the surface of the base metal is preferably formed by heat treatment. This heat treatment includes: a) an oxidizing heat treatment step of heating the base metal to 300 to 1100 ° C. in the air to form a metal oxide film; and b) a dew point temperature of the base metal on which the metal oxide film is formed having a dew point of −50 to -50 ° C. A dry reduction heat treatment step of removing the metal oxide film by heating to a temperature of 500 to 1200 ° C. in a hydrogen atmosphere of −90 ° C., and c) removing the base metal after the step b) to a dew point temperature of −10 to −40 ° C. A wet reduction heat treatment step of heating to 500 to 1200 ° C. in a hydrogen atmosphere.

【0012】また、本発明においては、前記酸化熱処理
段階は最高温度で3乃至60分間維持されることが望ま
しい。前記乾式還元熱処理段階は最高温度で3乃至60
分間維持されることが望ましい。前記湿式還元熱処理段
階は最高温度で3乃至60分間維持されることが望まし
い。
In the present invention, it is preferable that the oxidizing heat treatment is performed at a maximum temperature for 3 to 60 minutes. The dry reduction heat treatment is performed at a maximum temperature of 3 to 60.
It is desirable to maintain for minutes. Preferably, the wet reduction heat treatment is performed at a maximum temperature for 3 to 60 minutes.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して本
発明に係る電子管用陰極に対してより詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a cathode for an electron tube according to the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

【0014】電子管用陰極の動作中に形成される中間生
成物による寿命特性をはじめとする諸般特性の低下を防
止するためには、中間生成物の生成自体を抑制する方
法、または生成された中間層を分散させて還元剤を持続
的に電子放出層に供給させる方法が考えられる。これに
本発明は、後者の方法として、熱処理を通じて基地金属
表面の構造をとても微細な構造になるように制御して生
成された中間生成物質が分散されて還元剤の拡散経路を
持続的に提供させることによって寿命増加、カットオフ
ドリフト率減少などの効果をもたらす。
In order to prevent deterioration of various characteristics such as life characteristics due to the intermediate product formed during the operation of the cathode for an electron tube, a method of suppressing the generation of the intermediate product itself, or a method of suppressing the generated intermediate product A method of dispersing the layer and continuously supplying the reducing agent to the electron-emitting layer can be considered. According to the present invention, as the latter method, the intermediate material generated by controlling the structure of the base metal surface to a very fine structure through the heat treatment is dispersed and the diffusion path of the reducing agent is continuously provided. By doing so, effects such as an increase in service life and a reduction in cutoff drift rate are brought about.

【0015】このために本発明による電子管用陰極は、
熱処理によって基地金属表面の粒子サイズを制御した陰
極を用いている。
For this reason, the cathode for an electron tube according to the present invention is:
A cathode whose particle size on the base metal surface is controlled by heat treatment is used.

【0016】この熱処理は、第一に、基地金属の酸化熱
処理段階は、大気下で基地金属を300乃至1100℃
の温度で3乃至60分間加熱処理する段階であって、基
地金属の主成分のNiが酸素と結合してNiOを形成
し、このように形成された酸化膜は多くのエネルギーを
蓄積しており、また、酸化膜の成長速度も非常に速いた
めに基地金属の粒成長を抑制する。
In this heat treatment, first, the oxidation heat treatment of the base metal is performed by heating the base metal at 300 to 1100 ° C. in air.
At a temperature of 3 to 60 minutes, in which Ni, the main component of the base metal, combines with oxygen to form NiO, and the oxide film thus formed stores a large amount of energy. Also, since the growth rate of the oxide film is very high, the grain growth of the base metal is suppressed.

【0017】図2は、図1の場合と同じ基地金属(Si
0.05wt%及びMg0.05wt%が固溶されたN
i金属)を大気下800℃の温度で30分間加熱して酸
化熱処理段階が終った後の表面を500倍に拡大して撮
った光学顕微鏡写真である。
FIG. 2 shows the same base metal (Si) as in FIG.
N in which 0.05 wt% and Mg 0.05 wt% are dissolved
1 is an optical microscope photograph of the surface after the oxidation heat treatment step was completed by heating the metal (i-metal) at a temperature of 800 ° C. for 30 minutes in the atmosphere at a magnification of 500 times.

【0018】ここで、“粒子”はニッケルのグレーンを
意味し、金属試料内でNi原子は原子配列方向が相等し
い部類同士で集まって一つのグレーンを形成する。粒界
はこのようなグレーン間の界面を意味する。なお、添付
した図1乃至図5で丸く見える部分の黒い線が粒界を示
す。
Here, "particles" means nickel grains, and in a metal sample, Ni atoms gather together in classes having the same atomic arrangement direction to form one grain. A grain boundary means such an interface between grains. In addition, a black line in a portion that looks round in the attached FIGS. 1 to 5 indicates a grain boundary.

【0019】第二に、乾式還元熱処理段階は、露点温度
が−50乃至−90℃程度の水素雰囲気で基地金属を5
00乃至1200℃の温度で3乃至60分間加熱処理す
る段階であって、酸化熱処理段階で形成された酸化膜を
除去する。図3は、酸化熱処理段階が終った図2の基地
金属を1000℃の温度で8分間乾式還元熱処理した基
地金属の表面を1000倍拡大して撮った光学顕微鏡写
真である。
Second, in the dry reduction heat treatment step, the base metal is removed in a hydrogen atmosphere having a dew point temperature of about -50 to -90 ° C.
The heat treatment is performed at a temperature of 00 to 1200 ° C. for 3 to 60 minutes, and the oxide film formed in the oxidation heat treatment is removed. FIG. 3 is an optical microscope photograph of the surface of the base metal of FIG. 2 which has been subjected to the dry heat treatment at a temperature of 1000 ° C. for 8 minutes after the oxidation heat treatment is completed.

【0020】最後に、湿式還元熱処理段階は、露点温度
が−10乃至−40℃程度の水素雰囲気で、500乃至
1200℃の温度で、3乃至60分間熱処理する段階で
あって、基地金属内に含まれた還元剤の濃度勾配を適切
に調節し、粒成長が起こらないように粒界に析出物を形
成する段階である。
Finally, the wet reduction heat treatment step is a heat treatment in a hydrogen atmosphere having a dew point of about -10 to -40 ° C. at a temperature of 500 to 1200 ° C. for 3 to 60 minutes. This is a step of appropriately adjusting the concentration gradient of the contained reducing agent and forming precipitates at grain boundaries so that grain growth does not occur.

【0021】前述したように、グレーンはNiの原子配
列により形成されるものであって、グレーンの大きさは
還元剤の析出と関係がある。Mg、Siの還元剤が湿式
熱処理あるいは酸化熱処理などによって粒界に酸化析出
物を形成する場合、その量が大きいほど粒成長を抑えら
れる。
As described above, the grains are formed by the atomic arrangement of Ni, and the size of the grains is related to the precipitation of the reducing agent. When the Mg and Si reducing agents form oxide precipitates at grain boundaries by wet heat treatment or oxidative heat treatment, the larger the amount, the more the grain growth can be suppressed.

【0022】図4及び図5は、1000℃で8分間湿式
還元熱処理まで終った基地金属の表面組織を各々200
倍及び500倍に拡大した光学顕微鏡写真であって、図
1に示した従来の基地金属の表面組織と比較して、とて
も微細な組織が形成されたことが分かり、その粒子サイ
ズは3乃至50μmの分布を有する。
FIG. 4 and FIG. 5 show the surface textures of the base metals, each of which has been subjected to wet reduction heat treatment at 1000 ° C. for 8 minutes, for 200 minutes each.
Optical micrographs at × 200 and × 500, showing that a very fine structure was formed as compared to the surface structure of the conventional base metal shown in FIG. 1, and the particle size was 3 to 50 μm. Having a distribution of

【0023】前述したそれぞれの熱処理段階の加熱温度
は、基地金属の酸化及び還元反応を十分に起こすための
適正温度、そして基地金属の表面微細組織を小さく制御
できる適正時間である。
The heating temperature in each of the above-mentioned heat treatment steps is an appropriate temperature for sufficiently causing the oxidation and reduction reactions of the base metal and an appropriate time for controlling the surface microstructure of the base metal to be small.

【0024】即ち、本発明によれば、上記の熱処理によ
って、基地金属表面の微細組織の粒子サイズを3乃至5
0μmに調節された電子管用陰極が提供され、この陰極
は、動作中に生成される中間生成物質が分散され還元剤
の拡散経路を持続的に提供させることによって寿命増
加、カットオフドリフト率減少などの効果をもたらす。
That is, according to the present invention, the above heat treatment reduces the particle size of the fine structure on the surface of the base metal to 3 to 5 particles.
A cathode for an electron tube adjusted to 0 μm is provided. The cathode has an extended life, a reduced cut-off drift rate, etc. by dispersing intermediate products generated during operation and continuously providing a diffusion path of a reducing agent. Bring the effect.

【0025】以下、さらに、本発明の望ましい実施の形
態として、基地金属としてSi及びMgを各々0.05
重量%含むNi金属を主に説明するが、これに限定され
ることではなく、還元剤の含量及び種類は必要に応じて
変えられる。
Further, as a preferred embodiment of the present invention, Si and Mg are each used as a base metal in 0.05% each.
Although the description mainly focuses on Ni metal containing wt%, the content and type of the reducing agent are not limited thereto, and may be changed as necessary.

【0026】本発明に係る電子管用陰極に使われる電子
放射物質は、当業界で電子放射物質として使用するもの
であればどれでも構わない。具体的には、例えばバリウ
ムを主成分とするアルカリ土類金属炭酸塩層、望ましく
は(Ba,Sr,Ca)CO 3より構成された三元炭酸
塩、または(Ba,Sr,Ca)CO3より構成された
二元炭酸塩から転換された酸化物があり、さらにここに
電子放出特性及び寿命特性を向上させる目的でスカンジ
ュムオキシド、バリウム−スカンデート、ランタン−マ
グネシウム複合酸化物を添加した電子放射物質も使用で
きる。また、電子放射物質層の表面にタングステンまた
はモリブデンをコーティングする場合にも適用できる。
Electrons used in the cathode for an electron tube according to the present invention
Emissive materials are those used in the industry as electron emitting materials
Anything is fine. Specifically, for example,
Alkaline earth metal carbonate layer containing
Is (Ba, Sr, Ca) CO ThreeTernary carbonic acid composed of
Salt or (Ba, Sr, Ca) COThreeComposed of
There are oxides converted from binary carbonates, and here
Scanning to improve electron emission characteristics and life characteristics
Oxide, barium-scandate, lantern-ma
Emissive material with added gnesium composite oxide can also be used
Wear. In addition, tungsten or
Is also applicable when molybdenum is coated.

【0027】以下、本発明に係る電子管用陰極の諸般性
能に対する効果を説明するが、テストに使用された電子
管用陰極は次のような方法で製造された。
The effect of the cathode for an electron tube according to the present invention on various performances will be described below. The cathode for an electron tube used in the test was manufactured by the following method.

【0028】Si0.05重量%及びMg0.05重量
%を含むNi金属器体の上部表面を洗浄した後、(B
a,Sr,Ca)CO3三元炭酸塩にLa−Mg複合化
合物が0.07wt%添加されたニトロセルローズ系懸
濁液をスプレー塗布し、乾燥して炭酸塩陰極を製造し
た。製造した陰極を電子銃に挿設した後、スリーブ内部
に陰極加熱用ヒーターを挿設した。この電子銃を電子管
用バルブに封止させた後排気工程を経て酸化物陰極を製
造した。
After cleaning the upper surface of the Ni metal body containing 0.05% by weight of Si and 0.05% by weight of Mg, (B)
a, Sr, Ca) CO 3 ternary carbonate was spray-coated with a nitrocellulose suspension in which 0.07 wt% of a La—Mg composite compound was added, and dried to prepare a carbonate cathode. After inserting the manufactured cathode into the electron gun, a cathode heater was inserted inside the sleeve. After sealing the electron gun in a bulb for an electron tube, an oxide cathode was manufactured through an evacuation process.

【0029】前述した図1の基地金属を採用した電子管
用陰極を比較例とし、上述した熱処理方法により製造さ
れた図4の基地金属を採用した電子管用陰極を本発明の
実施の形態による電子管用陰極として、それぞれ陰極の
寿命特性を評価した。
The cathode for an electron tube employing the base metal of FIG. 1 described above as a comparative example, and the cathode for an electron tube employing the base metal of FIG. 4 manufactured by the above-described heat treatment method for an electron tube according to an embodiment of the present invention. The life characteristics of each cathode were evaluated.

【0030】図6は、比較例及び実施の形態の陰極を使
用して15インチチューブを各々3本ずつ制作して加速
寿命(6.9V,3A/cm2)を試験した結果を示
す。本発明に係る実施の形態の陰極が電子放出特性(ハ
ーフドリフト率)とカットオフドリフト率の全てにおい
て優れたことが分かる。カットオフドリフト率の減少効
果は20%以上に至り、通常的に陰極の寿命はIK残存
率が50%に至るまでの経過時間のMTTF(Mean
Time to Failure Mode)と定義
されるが、比較例として示した従来の酸化物陰極寿命は
10,000乃至15,000時間であり、本発明の陰
極寿命は20,000乃至30,000時間であって、
従来の酸化物陰極寿命より25%以上顕著に向上して、
最近テレビブラウン管などの高精細化及び大型化の勢い
に従う高電流密度領域下でも寿命特性を顕著に向上させ
られることが分かる。
FIG. 6 shows the results of testing the accelerated lifetime (6.9 V, 3 A / cm 2 ) of three 15-inch tubes each using the cathodes of the comparative example and the embodiment. It can be seen that the cathode according to the embodiment of the present invention has excellent electron emission characteristics (half drift rate) and cutoff drift rate. The effect of reducing the cut-off drift rate reaches 20% or more, and usually, the life of the cathode is MTTF (mean) of the elapsed time until the IK residual rate reaches 50%.
The conventional oxide cathode life shown as a comparative example is 10,000 to 15,000 hours, and the cathode life of the present invention is 20,000 to 30,000 hours, which is defined as Time to Failure Mode. hand,
25% more than the conventional oxide cathode life,
It can be seen that the life characteristics can be remarkably improved even in a high current density region following the trend toward higher definition and larger size of television cathode ray tubes and the like recently.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上、述べたように本発明は、酸化熱処
理段階、乾式還元熱処理段階及び湿式還元熱処理段階に
つながる一連の熱処理を通じて基地金属表面の微細組織
及び基地金属内に含まれた還元剤の濃度勾配を自在に制
御できる。これにより本発明の電子管用陰極は、動作時
に生成される中間生成物質の分散効果に優れ、還元剤の
拡散経路を持続的に提供でき、カットオフドリフト率減
少で優れた長寿な特性を得られる。
As described above, the present invention provides a microstructure of the base metal surface and a reducing agent contained in the base metal through a series of heat treatments leading to an oxidation heat treatment step, a dry reduction heat treatment step, and a wet reduction heat treatment step. Can be freely controlled. As a result, the cathode for an electron tube of the present invention is excellent in the effect of dispersing intermediate products generated during operation, can continuously provide a diffusion path for the reducing agent, and has excellent long-lasting characteristics with a reduced cutoff drift rate. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 従来の基地金属の表面組織を示す200倍拡
大光学顕微鏡写真である。
FIG. 1 is a 200 × magnification optical microscope photograph showing the surface texture of a conventional base metal.

【図2】 本発明の一実施の形態に係る酸化熱処理後基
地金属の表面組織を示す500倍拡大光学顕微鏡写真で
ある。
FIG. 2 is an optical microscope photograph (magnification: 500 times) showing a surface texture of a base metal after an oxidation heat treatment according to one embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の一実施の形態に係る乾式還元熱処理
後基地金属の表面組織を示す1000倍拡大光学顕微鏡
写真である。
FIG. 3 is an optical micrograph (× 1000) showing a surface texture of a base metal after dry reduction heat treatment according to an embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の一実施の形態に係る湿式還元熱処理
後基地金属の表面組織を示す200倍拡大光学顕微鏡写
真である。
FIG. 4 is an optical microscope photograph (magnification: 200) showing a surface texture of a base metal after a wet reduction heat treatment according to an embodiment of the present invention.

【図5】 本発明の一実施の形態に係る湿式還元熱処理
後基地金属の表面組織を示す500倍拡大光学顕微鏡写
真である。
FIG. 5 is an optical micrograph (× 500) showing a surface texture of a base metal after wet reduction heat treatment according to an embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態及び比較例に係る電子管
用陰極のハーフドリフト率とカットオフドリフト率を測
定した結果を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing a result of measuring a half drift rate and a cutoff drift rate of the cathode for an electron tube according to the embodiment of the present invention and a comparative example.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 韓 承 権 大韓民国京畿道水原市八達区▲しん▼洞 575番地 三星エスディアイ株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Korea Authority South Korea, Korea

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基地金属及び電子放出物質層を含む電子
管用陰極において、 前記基地金属表面の微細組織粒子サイズが3乃至50μ
mであることを特徴とする電子管用陰極。
1. An electron tube cathode including a base metal and an electron emitting material layer, wherein the fine metal particle size on the surface of the base metal is 3 to 50 μm.
m, a cathode for an electron tube.
【請求項2】 前記基地金属表面の微細組織の粒子サイ
ズは、熱処理によって形成されたものであることを特徴
とする請求項1に記載の電子管用陰極。
2. The cathode for an electron tube according to claim 1, wherein the particle size of the microstructure on the surface of the base metal is formed by heat treatment.
【請求項3】 前記熱処理は、 a)基地金属を大気下で300乃至1100℃に加熱し
て金属酸化膜を形成する酸化熱処理段階と、 b)前記金属酸化膜が形成された基地金属を露点温度が
−50乃至−90℃の水素雰囲気で500乃至1200
℃に加熱して前記金属酸化膜を除去する乾式還元熱処理
段階と、 c)前記b)段階が終った基地金属を露点温度が−10
乃至−40℃の水素雰囲気で500乃至1200℃に加
熱する湿式還元熱処理段階とを含むことを特徴とする請
求項2に記載の電子管用陰極。
3. The heat treatment includes the steps of: a) heating the base metal to 300 to 1100 ° C. in air to form a metal oxide film; and b) dew-pointing the base metal on which the metal oxide film is formed. 500 to 1200 in a hydrogen atmosphere at a temperature of -50 to -90C
(C) a dry reduction heat treatment step of removing the metal oxide film by heating the base metal to a temperature of -10.
The cathode for an electron tube according to claim 2, further comprising a wet reduction heat treatment step of heating to 500 to 1200 ° C in a hydrogen atmosphere of to -40 ° C.
【請求項4】 前記酸化熱処理段階は、最高温度で3乃
至60分間維持されることを特徴とする請求項3に記載
の電子管用陰極。
4. The cathode of claim 3, wherein the oxidation heat treatment is performed at a maximum temperature for 3 to 60 minutes.
【請求項5】 前記乾式還元熱処理段階は、最高温度で
3乃至60分間維持されることを特徴とする請求項3に
記載の電子管用陰極。
5. The cathode of claim 3, wherein the dry reduction heat treatment is performed at a maximum temperature for 3 to 60 minutes.
【請求項6】 前記湿式還元熱処理段階は、最高温度で
3乃至60分間維持されることを特徴とする請求項3に
記載の電子管用陰極。
6. The cathode according to claim 3, wherein the wet reduction heat treatment is performed at a maximum temperature for 3 to 60 minutes.
JP2000336378A 1999-11-05 2000-11-02 Cathode for electron tube Withdrawn JP2001167689A (en)

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