JP2001159742A - Divided exposure device using hologram scanning system - Google Patents
Divided exposure device using hologram scanning systemInfo
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、被描画体に対し
て、レーザビームを主走査方向に走査させるホログラム
走査系のユニットを複数備え、被描画体に対してそれぞ
れの走査系毎に分割して露光を行う露光装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a hologram scanning system unit for scanning a drawing object with a laser beam in the main scanning direction. And an exposure apparatus for performing exposure.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、基板に回路パターンを形成す
る方法として、例えば銅などの導電金属材料からなる薄
膜を均一に付着させた基板上に、フォトポリマー等を均
一に付着させ、この基板を回路パターンが形成された露
光焼き付け用マスク(フォトマスクフィルム)によって
覆い、紫外光等を照射して露光焼き付け用マスクに形成
した回路パターンを露光焼き付けする方法が知られてい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of forming a circuit pattern on a substrate, for example, a photopolymer or the like is uniformly deposited on a substrate on which a thin film made of a conductive metal material such as copper is uniformly deposited. 2. Description of the Related Art There is known a method in which a circuit pattern formed on an exposure printing mask is covered with an exposure printing mask (photomask film) having a circuit pattern formed thereon, and the circuit pattern formed on the exposure printing mask is exposed to ultraviolet light or the like.
【0003】近年、上記の方法に代わる方法として、露
光焼き付けマスクを使用せず、回路パターンに対応した
ラスタデータに応じて変調したレーザ光をポリゴンミラ
ーなどの偏向手段を介して基板上で走査させ、基板に直
接回路パターンに対応した画像を露光する方法が提案さ
れている。代表的な例としては、フォトリソグラフの手
法を用いたプリント回路基板の製造過程での回路パター
ンやプラズマ表示パネル(PDP)の透明電極パターン
の描画が挙げられる。この場合、被描画体としては、例
えばフォトマスク用感光フィルムあるいは基板上のフォ
トレジスト層が挙げられる。In recent years, as an alternative to the above method, a laser beam modulated according to raster data corresponding to a circuit pattern is scanned on a substrate via a deflecting means such as a polygon mirror without using an exposure printing mask. A method of exposing an image corresponding to a circuit pattern directly to a substrate has been proposed. A typical example is drawing of a circuit pattern or a transparent electrode pattern of a plasma display panel (PDP) in a process of manufacturing a printed circuit board using a photolithographic technique. In this case, the object to be drawn includes, for example, a photosensitive film for a photomask or a photoresist layer on a substrate.
【0004】一方、上述したようなポリゴンミラーでレ
ーザ光を偏向させるレーザ描画装置を用いて広範囲の露
光を行う場合、fθレンズが極端に大きくかつ重くなっ
てその製造が大変難しく、必要な形状精度が確保できな
いという問題があった。また、fθレンズの保持枠やこ
れらの光学部品を設置する基台は、fθレンズ、コンデ
ンサレンズの自重によるたわみが光学性能に影響を与え
ない程度に剛性を高めておく必要がある。そのため、こ
れらのレーザ描画装置の質量は、1000から2000
kgにも及び、可搬性が極めて悪く高コストであるとい
う問題点も有していた。これらの問題点を改善するため
に、被描画体上の走査範囲を分割して露光するようにし
た分割露光装置が提案されている。On the other hand, when a wide range of exposure is performed using a laser drawing apparatus that deflects a laser beam with the above-described polygon mirror, the fθ lens becomes extremely large and heavy, making it extremely difficult to manufacture the fθ lens. There was a problem that could not be secured. In addition, it is necessary to increase the rigidity of the holding frame of the fθ lens and the base on which these optical components are installed so that the deflection due to the weight of the fθ lens and the condenser lens does not affect the optical performance. Therefore, the mass of these laser writing apparatuses is 1000 to 2000.
It has a problem that it is extremely poor in portability and expensive. In order to solve these problems, there has been proposed a division exposure apparatus which divides a scanning range on an object to be drawn and performs exposure.
【0005】ところで、前述のようにポリゴンミラー、
fθレンズ及びコンデンサレンズにより構成される走査
系を複数備える分割露光装置においては、分割された各
走査系の接続部分において、コンデンサレンズの両端部
の走査に用いられない部分が重なり合うため、各コンデ
ンサレンズを走査線方向に並べて配置することが出来な
い。そのため、例えば、コンデンサレンズを副走査方向
に互いにコンデンサレンズの幅分ずらして配置する構成
をとることとなるが、その場合、第1の走査系から第2
の走査系に移る際に露光テーブルの移動が必要となり、
露光テーブルの位置決め誤差が問題となる。By the way, as described above, a polygon mirror,
In a divided exposure apparatus provided with a plurality of scanning systems each including an fθ lens and a condenser lens, portions that are not used for scanning both ends of the condenser lens overlap at connection portions of the divided scanning systems. Cannot be arranged side by side in the scanning line direction. Therefore, for example, a configuration is adopted in which the condenser lenses are arranged so as to be shifted from each other by the width of the condenser lens in the sub-scanning direction.
When moving to the scanning system, it is necessary to move the exposure table,
The positioning error of the exposure table poses a problem.
【0006】また、走査系にポリゴンミラーを用いた分
割露光装置では、走査系の数に応じて複数のポリゴンミ
ラー等の構成部品が必要となり、装置の大型化を抑える
為に各ポリゴンミラーは薄く小型のものが用いられ、そ
れに従って光源のビーム径も小さくする必要が生じる。
このように光源のビーム径を小さくした場合、露光面に
おける集光スポット径が大きくなる為、高解像度の描画
を行うことができなくなるという問題がある。In a division exposure apparatus using a polygon mirror for the scanning system, a plurality of components such as polygon mirrors are required in accordance with the number of scanning systems, and each polygon mirror is made thin in order to suppress an increase in the size of the apparatus. A smaller one is used, and accordingly, it is necessary to reduce the beam diameter of the light source.
When the beam diameter of the light source is reduced in this manner, the diameter of the condensed spot on the exposure surface becomes large, so that there is a problem that high-resolution drawing cannot be performed.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、露光装置が
複数の走査系を備える場合に、走査系の数に応じて増加
する構成部品の数を、構成部品を共通化して抑制するこ
とにより、装置をコンパクトにし、且つ、ビーム径を大
きくして高解像度の描画を行い、さらに、走査線の副走
査方向の位置ずれを補正することのできる分割露光装置
を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an exposure apparatus having a plurality of scanning systems, by suppressing the number of components that increase in accordance with the number of scanning systems by using common components. It is another object of the present invention to provide a divided exposure apparatus capable of performing high-resolution drawing by making the apparatus compact, increasing the beam diameter, and correcting the positional deviation of the scanning line in the sub-scanning direction.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の分割露光装置
は、一つのレーザビームを射出する光源と、前記レーザ
光源から射出される一つのレーザビームを複数のビーム
に分割する透過型回折素子と、描画データに基づいて複
数のレーザビームをそれぞれ変調する光変調素子と、複
数のレーザビームのビーム径をそれぞれ拡大するビーム
エキスパンダと、前記拡大されたレーザビームが入射す
るそれぞれのホログラム走査系とによって構成される。A split exposure apparatus according to the present invention comprises a light source for emitting one laser beam, and a transmission type diffraction element for splitting one laser beam emitted from the laser light source into a plurality of beams. A light modulation element that modulates a plurality of laser beams based on drawing data, a beam expander that expands the beam diameter of the plurality of laser beams, and a hologram scanning system that receives the expanded laser beam. Composed of
【0009】また、被描画体が載置される露光テーブル
上の端部に、ガイドレールを介してビームディテクタを
摺動自在に取り付け、露光テーブルを移動してビームデ
ィテクタ上に走査線を入射させることにより、ビームデ
ィテクタが走査線の副走査方向の位置ずれ量を検出する
ように構成することができる。Further, a beam detector is slidably attached to an end of the exposure table on which the object to be drawn is mounted via a guide rail, and the exposure table is moved to make a scanning line incident on the beam detector. Thus, the beam detector can be configured to detect the amount of positional deviation of the scanning line in the sub-scanning direction.
【0010】更に、反射板が取り付けられた光偏向器を
備えることによって、ビームディテクタが検出した走査
線の位置ずれ量に基づいて光偏向器を制御し、光偏向器
でのビームの反射角を変えることにより、走査線の副走
査方向の位置ずれ補正を行うこともできる。Further, by providing an optical deflector provided with a reflecting plate, the optical deflector is controlled based on the positional deviation of the scanning line detected by the beam detector, and the angle of reflection of the beam on the optical deflector is adjusted. By changing the position, the positional deviation of the scanning line in the sub-scanning direction can be corrected.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】図1から図3は、本発明の一つの
実施形態である2つのホログラム走査系を用いた分割露
光装置の要部を表している。露光テーブル13上に載置
された被描画体14は、2つの走査系によって分割して
露光される。図1において、光源1から射出された1つ
のレーザビームは、透過型回折素子2により2つの強度
の等しいビームに分割され、さらにコリメータレンズ3
により平行光にされ、入射光学系に入射し、その後走査
系へ導かれる。このように、1つの光源からの1つのレ
ーザビームを分割して用いる構成にすることで、各走査
系毎に光源を持つ必要がなくなり、各走査ユニット毎に
光源を搭載する場合と比較すると、各光源間の出射強度
を調整する必要がなくなる。1 to 3 show a main part of a division exposure apparatus using two hologram scanning systems according to one embodiment of the present invention. The object to be drawn 14 placed on the exposure table 13 is divided and exposed by two scanning systems. In FIG. 1, one laser beam emitted from a light source 1 is split into two beams of equal intensity by a transmission type diffraction element 2 and further collimated by a collimator lens 3.
Is converted into parallel light, enters the incident optical system, and is then guided to the scanning system. In this way, by using a configuration in which one laser beam from one light source is divided and used, it is not necessary to have a light source for each scanning system, and compared with a case where a light source is mounted for each scanning unit, There is no need to adjust the emission intensity between each light source.
【0012】分割され平行光にされた2つのビームは、
それぞれが光変調器5、光偏光器6、ビームエキスパン
ダ9よりなる入射光学系に入射する。入射光学系では、
後に詳述するように、ラスタデータに基づいたビームの
変調等が行われる。入射光学系を通過したビームは、ホ
ログラムディスク10の1つのファセットに入射する。
ホログラムディスク10はモータ11により回転駆動さ
れており、その回転に伴いビームが入射するファセット
が移動することで、ビームLB1は図1の矢印S方向に
偏向されつつ凹面鏡12に導かれる。The two split and collimated beams are:
Each of them enters an incident optical system including an optical modulator 5, an optical polarizer 6, and a beam expander 9. In the incident optical system,
As described later in detail, beam modulation and the like are performed based on the raster data. The beam that has passed through the incident optical system enters one facet of the hologram disk 10.
The hologram disc 10 is driven to rotate by a motor 11, and the facet on which the beam is incident is moved with the rotation, so that the beam LB1 is guided to the concave mirror 12 while being deflected in the direction of arrow S in FIG.
【0013】図2は、本発明の分割露光装置の入射光学
系を詳しく示している。入射光学系は、光変調器5、光
偏向器6、絞り板8、ビームエキスパンダ9により構成
される。コリメータレンズ3によって平行光にされた2
本のビームの内の一つは、ビームベンダ4(図1)を介
して入射光学系中の光変調器5に導かれる。光変調器5
は、音響光学素子により構成され、光変調器5に対して
ラスタデータに基づいて変化する電圧を印加すると、電
圧の変化に伴って光変調器5を通過するビームの回折方
向が変化する。ここで、電圧のONまたはOFF時にビ
ームが絞り板8の中央部の開口からずれるように光変調
器5を配置すると、ビームがそこで遮蔽されるため、露
光面からみるとビームがラスタデータに基づいてON/
OFF制御されることになる。また、絞り板8は光変調
器5からの1次光のみを通過させるように配置すること
により、ノイズとなる0次光を完全に遮蔽することがで
きる。FIG. 2 shows the incident optical system of the division exposure apparatus of the present invention in detail. The incident optical system includes an optical modulator 5, an optical deflector 6, an aperture plate 8, and a beam expander 9. 2 collimated by collimator lens 3
One of the beams is guided to an optical modulator 5 in the incident optical system via a beam bender 4 (FIG. 1). Optical modulator 5
Is constituted by an acousto-optical element, and when a voltage that changes based on raster data is applied to the optical modulator 5, the diffraction direction of a beam passing through the optical modulator 5 changes with the change in the voltage. Here, if the light modulator 5 is arranged so that the beam is shifted from the central opening of the diaphragm plate 8 when the voltage is turned on or off, the beam is blocked there. ON
OFF control is performed. In addition, by arranging the aperture plate 8 so as to pass only the first-order light from the optical modulator 5, it is possible to completely block the zero-order light, which is noise.
【0014】光変調器5を通過したビームは、光偏向器
6に取り付けられた反射板7で反射され、絞り板8の中
央部の開口を通過してビームエキスパンダ9に到達す
る。ビームエキスパンダ9は光源1で発生されたビーム
のビーム径を拡大する。ここで、従来の走査系にポリゴ
ンミラーを用いた分割露光装置の場合、通常はビーム径
が2から3mmの光源が用いられている。レーザ光を集
光する場合の、集光スポット径dは一般には、 d=2.44・λ・f/D で表されるので、(但し、λは波長、fは焦点距離、D
は光源のビーム径を表す。)例えば、光源のビーム径D
=2mmのレーザビームを焦点距離f=200mmで合
焦する場合、レーザの波長を650nmとすると、集光
スポット径dは、約0.16mmとなる。これに対し
て、本発明においては、走査系にホログラムディスクを
用いる為、光源のビーム径を大きくすることができる。
従って、本実施形態のように、光源1からのビームはビ
ームエキスパンダ9によってビーム径を拡大された後
に、ホログラムディスク10に入射する構成とすること
ができる。ビームエキスパンダ9は一般的にはビーム径
を5から10倍に拡大することができる。例えば、ビー
ムエキスパンダ9の倍率を10倍とすると、光源のビー
ム径Dが10倍となるため、集光スポット径dは、0.
016mmとなる。集光スポット径が小さくなると、そ
れだけ解像力の高い描画を行うことができることとなる
ので、本発明によれば、走査系を複数備えた分割露光装
置でありながら、解像度の高い描画を行うことが可能で
ある。The beam that has passed through the optical modulator 5 is reflected by a reflection plate 7 attached to an optical deflector 6, and reaches a beam expander 9 through an opening at the center of a diaphragm plate 8. The beam expander 9 expands the beam diameter of the beam generated by the light source 1. Here, in the case of a divided exposure apparatus using a polygon mirror in a conventional scanning system, a light source having a beam diameter of 2 to 3 mm is usually used. When a laser beam is focused, the focused spot diameter d is generally represented by d = 2.44 · λ · f / D, where (λ is the wavelength, f is the focal length, D
Represents the beam diameter of the light source. ) For example, the beam diameter D of the light source
When a laser beam of = 2 mm is focused at a focal length f = 200 mm, and the wavelength of the laser is 650 nm, the focused spot diameter d is about 0.16 mm. On the other hand, in the present invention, since the hologram disk is used for the scanning system, the beam diameter of the light source can be increased.
Therefore, as in the present embodiment, the beam from the light source 1 can be configured to be incident on the hologram disk 10 after the beam diameter is expanded by the beam expander 9. The beam expander 9 can generally increase the beam diameter by a factor of 5 to 10 times. For example, assuming that the magnification of the beam expander 9 is 10 times, the beam diameter D of the light source becomes 10 times.
016 mm. According to the present invention, it is possible to perform high-resolution drawing even though the divided exposure apparatus has a plurality of scanning systems, since the smaller the focused spot diameter is, the higher the drawing performance can be. It is.
【0015】ビームエキスパンダ9からホログラムディ
スク10に入射するビームは、ホログラムディスク10
が回転することによって走査され、凹面鏡12によって
集光されて露光テーブル13上に到達する。集光された
ビームは、露光テーブル上で図2の画面垂直方向に走査
される。なお、凹面鏡12の反射面をトーリック面にす
ることで、ビームを集光するだけでなく、fθ機能を持
つよう構成することもできる。The beam incident on the hologram disc 10 from the beam expander 9 is
Are scanned by rotating, and are condensed by the concave mirror 12 and reach the exposure table 13. The focused beam is scanned on the exposure table in the direction perpendicular to the screen of FIG. By making the reflecting surface of the concave mirror 12 a toric surface, it is possible not only to condense the beam but also to have an fθ function.
【0016】図3には、凹面鏡12で集光されたビーム
の走査範囲が示されており、図のように露光テーブル1
3上の2つの走査範囲のつなぎ目部分は、互いに重なる
ように各走査系を配置することが好ましい。ビームが走
査される露光テーブル13上には、フィルムあるいはプ
リント基板等の被描画体14が載置され、露光テーブル
13が図2中の矢印A方向(副走査方向)に移動するこ
とで被描画体全体に渡っての描画が行われる。FIG. 3 shows a scanning range of the beam condensed by the concave mirror 12, and as shown in FIG.
It is preferable that the respective scanning systems are arranged so that the joint between the two scanning ranges on 3 overlaps each other. An object to be drawn 14 such as a film or a printed circuit board is placed on the exposure table 13 where the beam is scanned, and the exposure table 13 is moved in the direction of arrow A (sub-scanning direction) in FIG. Drawing is performed over the entire body.
【0017】図1及び図2に示すように、露光テーブル
13の端部には、ガイドレール21を介して、ビームの
走査方向に摺動自在にビームディテクタ20が備え付け
られている。ビームディテクタ20は、2つの走査線の
位置を検出する目的で備えられており、例えば、半導体
位置検出器(PSD)あるいは4分割素子により構成さ
れる。ビームディテクタ20による検出を行う場合は、
ビームディテクタ20の検出面の中央が走査線上に位置
するまで露光テーブル13を移動し、ビームをON状態
にして、ビームディテクタ20をビーム検出させつつガ
イドレール上を走査線に沿って移動させる。この動作に
よって、走査線の直線性、副走査方向のずれ、或いは各
走査系毎の走査線のつなぎ目における位置ずれを検出す
ることができる。As shown in FIGS. 1 and 2, a beam detector 20 is provided at the end of the exposure table 13 via a guide rail 21 so as to be slidable in the beam scanning direction. The beam detector 20 is provided for the purpose of detecting the positions of two scanning lines, and is configured by, for example, a semiconductor position detector (PSD) or a quadrant. When the detection by the beam detector 20 is performed,
The exposure table 13 is moved until the center of the detection surface of the beam detector 20 is positioned on the scanning line, the beam is turned on, and the beam detector 20 is moved along the scanning line on the guide rail while detecting the beam. By this operation, it is possible to detect the linearity of the scanning line, the deviation in the sub-scanning direction, or the positional deviation at the joint of the scanning lines for each scanning system.
【0018】次に、走査線の副走査方向のずれを補正す
る場合について述べる。入射光学系は光偏光器6を備え
ている。光偏光器6は、例えばピエゾ素子により構成さ
れ、反射鏡7の取り付けられた突起部分が印加する電圧
に依存して図2の矢印B方向に揺動するよう構成された
ものである。光偏光器6の突起部分が、矢印B方向で揺
動すると、反射板7で反射するビームの反射角が変化
し、それにしたがって露光テーブル13上のビームスポ
ットの位置も副走査方向に変化する。すなわち、ビーム
ディテクタ20から得られる走査線のずれ情報に基づい
て光偏光器6を電圧制御することで、走査線を副走査方
向に所望の量移動して補正を行うことができる。Next, a description will be given of a case of correcting a shift of a scanning line in the sub-scanning direction. The incident optical system has an optical deflector 6. The optical deflector 6 is formed of, for example, a piezo element, and is configured to swing in the direction of arrow B in FIG. 2 depending on the voltage applied to the projection on which the reflecting mirror 7 is attached. When the projection of the optical deflector 6 swings in the direction of arrow B, the angle of reflection of the beam reflected by the reflector 7 changes, and accordingly, the position of the beam spot on the exposure table 13 also changes in the sub-scanning direction. That is, by controlling the voltage of the optical deflector 6 based on the shift information of the scanning line obtained from the beam detector 20, the scanning line can be moved by a desired amount in the sub-scanning direction and the correction can be performed.
【0019】走査線が副走査方向へ平行移動した状態の
位置ずれ、或いは走査線の湾曲・傾斜等の直線性の歪み
は、各走査系の組立てばらつき、或いはホログラムディ
スクの各ファセットの製造ばらつき等によって発生す
る。例えば、ホログラムディスクの各ファセットの製造
ばらつきにより、走査線が各ファセットでの走査毎に副
走査方向に等ピッチとならずに平行移動してずれる場合
には、1走査毎に1つの補正量となるように光偏向器6
での反射角を制御する。また、走査線の直線性の歪みに
ついては、1走査中に主走査に同期して副走査方向の位
置を補正するように光偏向器6での反射角を制御する。Positional deviations in the state where the scanning lines are moved in parallel in the sub-scanning direction, or linearity distortions such as the curvature and inclination of the scanning lines cause variations in assembly of each scanning system or variations in manufacturing of each facet of the hologram disk. Caused by For example, if the scanning line shifts in parallel in the sub-scanning direction without being equal in pitch in each sub-scanning direction due to manufacturing variations of each facet of the hologram disc, one correction amount is required for each scan. Optical deflector 6
To control the angle of reflection at. For the linearity distortion of the scanning line, the reflection angle at the optical deflector 6 is controlled so that the position in the sub-scanning direction is corrected in synchronization with the main scanning during one scanning.
【0020】なお、ビームディテクタ20を用いての走
査線の位置ずれの検出は、分割露光装置の組み立て時、
或いは1つの感光材に対する描画が終了する度に行う。
特に、1つの感光材に対する描画が終了する度に行うこ
とで、ファセット等の部品の経時的な変化にも対応する
ことが可能となる。The detection of the positional deviation of the scanning line using the beam detector 20 is performed at the time of assembling the divided exposure apparatus.
Alternatively, it is performed each time drawing on one photosensitive material is completed.
In particular, by performing the drawing every time the drawing on one photosensitive material is completed, it is possible to cope with a temporal change of a component such as a facet.
【0021】以上の実施形態では、光源からのビームを
透過型回折素子で2つに分割する場合について述べた
が、ビームの分割数が異なる任意の透過型回折素子を用
いることにより、任意の数の走査系を用いた分割露光装
置を構成することができる。なお、この場合も透過型回
折素子で分割される複数のビームの強度は等しいため、
各走査系毎にビームの強度を調整する必要はない。In the above embodiment, the case where the beam from the light source is split into two by the transmission type diffraction element has been described. A divided exposure apparatus using the above scanning system can be configured. In this case, since the intensities of the plurality of beams split by the transmission type diffraction element are equal,
There is no need to adjust the beam intensity for each scanning system.
【0022】[0022]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、複
数の走査系を備える場合にも、光源からの1つのビーム
を、所望の数の強度の等しい平行光に分割し、各々の走
査系に導くことが可能であるため、各走査系毎に光源を
備える必要がなく、各光源間の出射強度を調節する手間
が不要となる。加えて、走査系にホログラムを用いるの
で装置をコンパクトに構成でき、しかもビーム径を大き
くすることができる。さらに、露光テーブル上で走査さ
れるビームを検知して、走査系の組立ばらつきに伴う各
走査系間の走査線の位置ずれ、或いはホログラムディス
クの各ファセットの製造ばらつきに伴う走査線の副走査
方向への位置ずれを補正することができる。従って、各
走査系がそれぞれ高解像度であって、かつ走査系間の位
置ずれがないので高精細な描画を行うことが可能であ
る。As described above, according to the present invention, even when a plurality of scanning systems are provided, one beam from the light source is split into a desired number of parallel light beams having the same intensity, and Since the light can be guided to the scanning system, it is not necessary to provide a light source for each scanning system, and the trouble of adjusting the emission intensity between the light sources is not required. In addition, since the hologram is used for the scanning system, the apparatus can be made compact and the beam diameter can be increased. Further, by detecting a beam scanned on the exposure table, the positional deviation of the scanning line between the scanning systems due to the assembly variation of the scanning system, or the sub-scanning direction of the scanning line due to the manufacturing variation of each facet of the hologram disk. Misalignment can be corrected. Accordingly, since each scanning system has a high resolution and there is no positional deviation between the scanning systems, it is possible to perform high-definition drawing.
【図1】本発明の分割露光装置の要部を表す平面図であ
る。FIG. 1 is a plan view illustrating a main part of a division exposure apparatus of the present invention.
【図2】図1の分割露光装置の側面図である。FIG. 2 is a side view of the division exposure apparatus of FIG.
【図3】図1の分割露光装置の正面図である。FIG. 3 is a front view of the division exposure apparatus of FIG.
1 レーザ発生器 2 透過型回折素子 3 コリメータレンズ 4 ビームベンダ 5 光変調器 6 光偏向器 7 反射鏡 8 絞り板 9 ビームエキスパンダ 10 ホログラムディスク 11 モータ 12 凹面鏡 13 露光テーブル 14 被描画体 20 ビームディテクタ 21 ガイドレール 22 移動テーブル REFERENCE SIGNS LIST 1 laser generator 2 transmission diffraction element 3 collimator lens 4 beam bender 5 optical modulator 6 optical deflector 7 reflecting mirror 8 aperture plate 9 beam expander 10 hologram disk 11 motor 12 concave mirror 13 exposure table 14 object to be drawn 20 beam detector 21 Guide rail 22 Moving table
Claims (3)
数のビームに分割する透過型回折素子と、 描画データに基づいて複数のレーザビームをそれぞれ変
調する光変調素子と、 複数のレーザビームのビーム径をそれぞれ拡大するビー
ムエキスパンダと、 前記拡大されたそれぞれのレーザビームが入射するそれ
ぞれのホログラム走査系とを有すること、 を特徴とする、ホログラム走査系を用いた分割露光装
置。1. A light source for emitting one laser beam, a transmission diffraction element for dividing one laser beam emitted from the laser light source into a plurality of beams, and a plurality of laser beams based on drawing data, respectively. A hologram, comprising: a light modulation element that modulates; a beam expander that expands the beam diameter of each of the plurality of laser beams; and a hologram scanning system that receives the expanded laser beams. A division exposure apparatus using a scanning system.
端部に、ガイドレールを介して摺動自在に取り付けられ
たビームディテクタを備え、 前記露光テーブルを移動して前記ビームディテクタ上に
走査線を入射させることにより、走査線のビームの位置
を検出すること、 を特徴とする、請求項1に記載のホログラム走査系を用
いた分割露光装置。2. A beam detector slidably attached via a guide rail to an end portion of an exposure table on which an object to be drawn is placed, wherein the exposure table is moved to move the exposure table onto the beam detector. The division exposure apparatus using the hologram scanning system according to claim 1, wherein a position of a beam of the scanning line is detected by making the scanning line incident.
変更するための光偏向器を更に備え、前記ビームディテ
クタが検出した走査線の位置情報に基づいて前記光偏向
器を制御して、走査線の副走査方向の補正を行うこと、 を特徴とする、請求項2に記載のホログラム走査系を用
いた分割露光装置。3. An optical deflector for changing an exposure position of the beam in the sub-scanning direction, wherein the optical deflector is controlled based on positional information of the scanning line detected by the beam detector, and 3. The division exposure apparatus using the hologram scanning system according to claim 2, wherein the correction in the sub-scanning direction is performed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34263499A JP2001159742A (en) | 1999-12-01 | 1999-12-01 | Divided exposure device using hologram scanning system |
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JP34263499A JP2001159742A (en) | 1999-12-01 | 1999-12-01 | Divided exposure device using hologram scanning system |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2001159742A true JP2001159742A (en) | 2001-06-12 |
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ID=18355299
Family Applications (1)
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Country | Link |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1999
- 1999-12-01 JP JP34263499A patent/JP2001159742A/en active Pending
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