JP2001147303A - Method for producing functional film - Google Patents

Method for producing functional film

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JP2001147303A
JP2001147303A JP33076099A JP33076099A JP2001147303A JP 2001147303 A JP2001147303 A JP 2001147303A JP 33076099 A JP33076099 A JP 33076099A JP 33076099 A JP33076099 A JP 33076099A JP 2001147303 A JP2001147303 A JP 2001147303A
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Japan
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film
coating
antifouling
antireflection film
functional
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JP33076099A
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Osamu Ito
修 伊藤
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Sony Corp
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve adhesion of an dirt-proof, film to the surface of an antireflection film in a method for producing a functional film. SOLUTION: In order to produce a functional film 10, a film-forming step S1 is first carried out. In the step S1, an antireflection film 14 is formed continuously on the surface of a resin substrate 11 wound in to a roll shape, while allowing the substrate 11 to run in a hermetically sealed atmosphere, and the substrate 11 is rewound into a roll shape. An exposure step S2 is then carried out. In the step S2, the wound substrate 11 is rewound in an open atmosphere, and the surface of the formed antireflection film 14 is activated naturally by exposure to the air. A coating step S4 in which the activated surface of the antireflection film 14 is coated with a coating solution containing an dirt-proof material, and the coating solution is dried to form an dirt-proof film 15 is carried out. After the preparation of the coating solution and before the coating, an aging step S3 is carried out so that the reactivity of the coating solution is enhanced, and the fixation of the antifouling film 15 on the surface of the antireflection film 14 is promoted.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主に陰極線管(C
RT)のパネルガラス表面に貼着される機能フィルムの
製造方法に関する。
The present invention mainly relates to a cathode ray tube (C)
(RT) relates to a method for producing a functional film to be attached to a panel glass surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、陰極線管(CRT)などに代表
される表示装置では、画像が表示されるパネルの表面
に、紫外線硬化型樹脂などの接着剤或いは粘着剤を介し
て機能フィルムが貼着されている。この機能フィルム
は、防爆補助効果、帯電防止効果、透過率調整効果、反
射防止効果、防汚効果などの各種の機能を有した膜を適
宜に組み合わせてこれらを基材となる樹脂基材上に積層
し、形成されたもので、その一例として、樹脂基材上に
ハードコート膜、透明導電膜、反射防止膜、防汚膜を順
に積層したものが知られている。
2. Description of the Related Art Generally, in a display device such as a cathode ray tube (CRT), a functional film is attached to the surface of a panel on which an image is displayed via an adhesive or an adhesive such as an ultraviolet curable resin. Have been. This functional film is formed by appropriately combining films having various functions such as an explosion-proof auxiliary effect, an antistatic effect, a transmittance adjusting effect, an antireflection effect, and an antifouling effect on a resin base material serving as a base material. As one example, a laminate formed by laminating a hard coat film, a transparent conductive film, an antireflection film, and an antifouling film on a resin substrate is known.

【0003】ここで、防汚膜は、その表面に指紋等の汚
れが付着し難く、また一旦付着した汚れも乾拭き、水拭
きなどで容易に除去できるようにしたフッ素系の樹脂か
らなるもので、パーフルオロ基を含有したシリコン系材
料を溶質とする溶液に、パーフルオロ基を含有したリン
酸エステルを触媒として加えて形成されたコーティング
液が、反射防止膜上に塗布され、さらにこれが乾燥され
ることによって形成されたものである。
Here, the antifouling film is made of a fluorine-based resin in which dirt such as fingerprints does not easily adhere to the surface thereof, and the dirt once adhered can be easily removed by dry wiping or water wiping. A coating solution formed by adding a perfluoro group-containing phosphoric acid ester as a catalyst to a solution containing a perfluoro group-containing silicon-based material as a solute is coated on an antireflection film, and further dried. It is formed by doing.

【0004】このように樹脂基材上にハードコート膜、
透明導電膜、反射防止膜、防汚膜を形成して得られた機
能フィルムは、最外層となる防汚膜の形成直後にロール
状に巻き取られて保管され、使用に際してはこのロール
から引出され、被貼着面、例えばCRTのパネルガラス
表面に接着剤(紫外線硬化型樹脂)あるいは粘着剤を介
して貼着される。
[0004] Thus, a hard coat film on a resin substrate,
The functional film obtained by forming the transparent conductive film, antireflection film and antifouling film is wound up and stored in a roll immediately after the formation of the outermost antifouling film, and is withdrawn from this roll when used. Then, it is adhered to the surface to be adhered, for example, the surface of a panel glass of a CRT via an adhesive (ultraviolet curable resin) or an adhesive.

【0005】なお、このような機能フィルムのパネルガ
ラス表面への貼着方法としては、図5に示すように、ま
ずパネルガラス1の表面に紫外線硬化型樹脂7aを塗布
する。次に、機能フィルム10を、その一端側をフィル
ム掴み304で紫外線硬化型樹脂7aより浮かした状態
に掴みつつ、他端側を紫外線硬化型樹脂7aの上に載せ
る。そして、この機能フィルム10上においてその他端
側より一端側に向けて加圧ロール305を走行させつ
つ、フィルム掴み304を下げて一端側も漸次紫外線硬
化型樹脂7aに当接させることにより、機能フィルム1
0の全面を紫外線硬化型樹脂7a上に載せる。その後、
この機能フィルム10上から紫外線を照射することによ
り、紫外線硬化型樹脂7aを硬化させ、これにより機能
フィルム10をパネルガラス1に貼着する。
As a method of attaching such a functional film to the panel glass surface, first, as shown in FIG. 5, an ultraviolet curable resin 7a is applied to the surface of the panel glass 1. Next, the other end of the functional film 10 is placed on the ultraviolet-curable resin 7a while one end of the functional film 10 is held by the film grip 304 so as to float above the ultraviolet-curable resin 7a. Then, while moving the pressure roll 305 from the other end toward the one end side on the functional film 10, the film gripper 304 is lowered, and the one end side is gradually brought into contact with the ultraviolet curable resin 7 a, whereby the functional film 10 1
0 is placed on the ultraviolet curing resin 7a. afterwards,
By irradiating the functional film 10 with ultraviolet light, the ultraviolet curable resin 7a is cured, whereby the functional film 10 is attached to the panel glass 1.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】機能フィルムを紫外線
硬化型樹脂からなる接着剤でパネルガラス表面に貼着す
る場合、例えば貼着面が汚染されていると、紫外線照射
により紫外線硬化型樹脂を硬化させても、この機能フィ
ルムがパネルガラス表面から容易に剥離してしまう。そ
して、このように機能フィルムの剥離が起こると、これ
を再貼着するなどの工程が必要となり、結果として、こ
の機能フィルムを用いた陰極線管のコストが高くなると
いった不都合を生じてしまう。
When a functional film is adhered to the panel glass surface with an adhesive made of an ultraviolet-curable resin, for example, if the adhered surface is contaminated, the ultraviolet-curable resin is cured by irradiation with ultraviolet light. Even if it does, this functional film will easily peel off from the panel glass surface. Then, when the functional film is peeled off as described above, a process such as re-adhering the functional film is required, and as a result, there is an inconvenience that the cost of the cathode ray tube using the functional film is increased.

【0007】又、紫外線硬化型樹脂7aに代えて粘着剤
を用いて機能フィルム10をパネルガラス1の表面に貼
り付ける場合もある。特に粘着剤を用いてパネルガラス
表面に貼着した場合、例えば得られたCRTを製品出荷
後、リサイクルとして再生処理すべく機能フィルムを剥
離すると、粘着剤がパネルガラス表面に残ってしまい、
これを再使用するのが困難になってしまう。そして、こ
のように再使用が困難になると、結果としてこの機能フ
ィルムを用いた陰極線管のコストが高くなるといった不
都合を生じてしまう。
In some cases, the functional film 10 is attached to the surface of the panel glass 1 using an adhesive instead of the ultraviolet curing resin 7a. In particular, when affixing to the panel glass surface using an adhesive, for example, after shipping the obtained CRT product, if the functional film is peeled off for reprocessing as recycling, the adhesive remains on the panel glass surface,
It becomes difficult to reuse this. If the reuse becomes difficult in this way, there arises an inconvenience that the cost of a cathode ray tube using this functional film is increased.

【0008】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、パネルガラスの再使用を
可能にして陰極線管のコストを低減した機能フィルムの
製造方法を提供することにある。
[0008] The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a functional film in which panel glass can be reused to reduce the cost of a cathode ray tube. .

【0009】[0009]

【課題を解決する為の手段】上述した本発明の目的を達
成する為に以下の手段を講じた。即ち、本発明に係る機
能フィルムの製造方法は、ロール状に巻回された樹脂基
材を密閉雰囲気中で走行させながら、反射防止膜を該樹
脂基材の表面に連続成膜して再びロール状に巻き取る成
膜工程と、巻き取った該樹脂基材を開放雰囲気中で巻き
換えることにより、成膜された反射防止膜を大気に暴露
してその表面を自然活性化する暴露工程と、活性化され
た該反射防止膜の表面に防汚物質を含むコーティング液
を塗工し且つ乾燥して防汚膜を形成する塗工工程とを行
ない、該反射防止膜の表面に対する該防汚膜の密着性を
改善することを特徴とする。具体的には、前記成膜工程
は、該反射防止膜として最上層にSiO2 層を含む光学
多層膜を形成し、前記暴露工程は該SiO2 層に大気中
の水分を作用させてその表面を自然活性化し、前記塗工
工程はパーフルオロ基を含有したシリコン系の防汚物質
を溶質とする溶液に、パーフルオロ基を含有した燐酸エ
ステルを触媒として加えたコーティング液を塗工する。
好ましくは、前記暴露工程は、温度が25℃±3℃で湿
度が60%±5%に調整された開放雰囲気中で、該樹脂
基材を5m/分乃至10m/分の速度で巻き換える。場
合によっては、前記塗工工程は、該コーティング液を調
製した後塗工する前にエージングを行なうことで該コー
ティング液の反応性を高め、以て該反射防止膜の表面に
対する該防汚膜の固定化を促進する。
The following means have been taken in order to achieve the above-mentioned object of the present invention. In other words, the method for producing a functional film according to the present invention is such that an antireflection film is continuously formed on the surface of the resin substrate while the resin substrate wound in a roll shape is run in a closed atmosphere, and the roll is rolled again. A film forming step of winding into a shape, and an exposing step of exposing the formed antireflection film to the atmosphere and naturally activating the surface by rewinding the wound resin substrate in an open atmosphere, Applying a coating solution containing an antifouling substance to the surface of the activated antireflection film and drying the coating solution to form an antifouling film; and performing a coating process on the surface of the antireflection film. Is characterized by improving the adhesiveness. Specifically, in the film forming step, an optical multilayer film including an SiO 2 layer as an uppermost layer is formed as the antireflection film, and in the exposing step, the surface of the SiO 2 layer is formed by allowing moisture in the air to act on the SiO 2 layer. In the coating step, a coating liquid obtained by adding a perfluoro group-containing phosphoric acid ester as a catalyst to a solution containing a perfluoro group-containing silicon-based antifouling substance as a solute is applied.
Preferably, in the exposing step, the resin base material is rolled at a speed of 5 m / min to 10 m / min in an open atmosphere adjusted to a temperature of 25 ° C. ± 3 ° C. and a humidity of 60% ± 5%. In some cases, the coating step enhances the reactivity of the coating liquid by performing aging after preparing the coating liquid and before coating, whereby the antifouling film reacts with the surface of the antireflection film. Promotes immobilization.

【0010】又、本発明は、ロール状に巻回された樹脂
基材を走行させながら反射防止膜を該樹脂基材の表面に
連続成膜して再びロール状に巻き取る成膜工程と、巻き
取られた該樹脂基材を再び走行させながら防汚物質を含
むコーティング液を該反射防止膜の表面に連続塗工し且
つ乾燥して防汚膜を形成する塗工工程とを行なう機能フ
ィルムの製造方法において、該コーティング液を調製し
た後塗工する前にエージングを行なうことで該コーティ
ング液の反応性を高め、以て反射防止膜に対する防汚膜
の固定化を促進するエージング工程を行なうことを特徴
とする。具体的には、前記塗工工程は、パーフルオロ基
を含有したシリコン系の汚染物質を溶質とする溶液に、
パーフルオロ基を含有した燐酸エステルを触媒として加
えたコーティング液を塗工する。この場合、前記エージ
ング工程は、温度が25℃±3℃で湿度が60%±5%
の雰囲気に一時間を限度として該コーティング液を放置
するものである。
The present invention also provides a film forming step of continuously forming an antireflection film on the surface of the resin base material while running the resin base material wound in a roll shape, and winding the roll back again. A coating step of continuously applying a coating solution containing an antifouling substance to the surface of the antireflection film while running the wound resin substrate again, and drying to form an antifouling film. In the production method, after the coating solution is prepared, aging is performed before coating to increase the reactivity of the coating solution, thereby performing an aging step of promoting the fixation of the antifouling film to the antireflection film. It is characterized by the following. Specifically, the coating step is performed by using a solution containing a silicon-based contaminant containing a perfluoro group as a solute,
A coating liquid containing a perfluoro group-containing phosphate ester as a catalyst is applied. In this case, the aging step is performed at a temperature of 25 ° C. ± 3 ° C. and a humidity of 60% ± 5%.
The coating liquid is allowed to stand in the atmosphere of the above for up to one hour.

【0011】本発明者は、前述の、パネルガラス表面に
粘着剤が残ってしまうことについて鋭意研究した結果、
その原因は、機能フィルムがロール状に巻き取られて保
管された際、機能フィルムの樹脂基材裏面(反射防止
膜、防汚膜等が形成された面と反対側の面)に防汚膜の
一部が移る、いわゆる裏移りにあるとの見解に至った。
すなわち、防汚膜は汚れ等が付着し難いものであること
から、粘着剤に接する面となる前記樹脂基材裏面に防汚
膜が裏移りしていると、この裏移り部分も防汚膜と同様
に作用して粘着剤との接着性が弱くなる。したがって、
機能フィルムを剥離すると、粘着剤は樹脂フィルムでな
くパネルガラス側に残ってしまうのである。そこで、本
発明の機能フィルムの製造方法では、スパッタリングな
どによる反射防止膜成膜後の樹脂基材ロールを大気中に
て少なくとも一度巻き換えている。その時の環境は例え
ば温度が25℃程度で湿度が60%程度である。この大
気暴露により反射防止膜の表面に水分が付着し化学的に
活性化される。自然活性化された表面にコーティング液
を塗工することで密着性が良くなり、上述した防汚膜の
裏移りを防ぐことが可能である。又、コーティング液を
反射防止膜に塗工する前にロールコータの液パン中でコ
ーティング液をエージングしている。これにより、コー
ティング液の反応性が高くなり、反射防止膜の表面に対
して速やかに固定化される。この為、塗工後に樹脂基材
を巻き取っても、防汚膜が樹脂基材の裏面に転写される
ことがない。
The inventor of the present invention has conducted intensive studies on the fact that the adhesive remains on the surface of the panel glass.
The cause is that when the functional film is wound up in a roll and stored, the antifouling film is formed on the back surface of the resin substrate of the functional film (the surface opposite to the surface on which the antireflection film, the antifouling film, etc. are formed). Some believe that there is a so-called set-off.
That is, since the antifouling film is difficult to adhere to the dirt and the like, if the antifouling film is set off on the back surface of the resin base material that is in contact with the adhesive, the set off portion also has an antifouling film. Acts in the same manner as described above, and the adhesion to the pressure-sensitive adhesive becomes weak. Therefore,
When the functional film is peeled off, the adhesive remains on the panel glass side instead of the resin film. Therefore, in the method for manufacturing a functional film of the present invention, the resin substrate roll after the antireflection film is formed by sputtering or the like is wound at least once in the air. The environment at that time is, for example, a temperature of about 25 ° C. and a humidity of about 60%. Due to this exposure to the air, moisture adheres to the surface of the antireflection film and is chemically activated. By applying the coating liquid to the naturally activated surface, the adhesiveness is improved, and it is possible to prevent the set-off of the antifouling film described above. Before coating the coating liquid on the antireflection film, the coating liquid is aged in a liquid pan of a roll coater. Thereby, the reactivity of the coating liquid increases, and the coating liquid is quickly fixed to the surface of the antireflection film. For this reason, even if the resin substrate is wound up after coating, the antifouling film is not transferred to the back surface of the resin substrate.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態を詳細に説明する。図1は本発明に係る機能フィ
ルムの製造方法を表わしており、(A)は機能フィルム
の断面図、(B)はその製造方法を示す工程図である。
(A)中で、符号10は機能フィルムである。この機能
フィルム10は、樹脂基材11上に機能膜としてハード
コート膜12、反射防止膜(透明導電膜を含む)14、
防汚膜15をこの順に積層した構成のもので、本例にお
いては陰極線管のパネルガラス1の表面に粘着剤7を介
して貼着され、使用されるものである。なお、図示した
ようにこの機能フィルム10は、その樹脂基材11の裏
面がパネルガラス1の表面に貼着されるようになってお
り、防汚膜15は最外層に位置するようになっている。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. 1A and 1B show a method for producing a functional film according to the present invention, wherein FIG. 1A is a cross-sectional view of the functional film, and FIG.
In (A), reference numeral 10 denotes a functional film. The functional film 10 includes a hard coat film 12, an antireflection film (including a transparent conductive film) 14 as a functional film on a resin substrate 11,
In this embodiment, the antifouling film 15 is laminated in this order, and is adhered to the surface of the panel glass 1 of the cathode ray tube via the adhesive 7 and used. As shown in the figure, the functional film 10 has the back surface of the resin substrate 11 adhered to the surface of the panel glass 1, and the antifouling film 15 is located at the outermost layer. I have.

【0013】(A)に示した機能フィルムは(B)に示
した工程に従って製造される。まず成膜工程S1を行な
い、ロール状に巻回された樹脂基材11を密閉雰囲気中
で走行させながら、反射防止膜14を樹脂基材11の表
面にスパッタリングなどで連続成膜して再びロール状に
巻き取る。尚PETなどからなる樹脂基材11の表面に
は予めアクリル樹脂などからなるハードコート膜12が
塗工されている。次に暴露工程S2を行ない、ロール状
に巻き取られた樹脂基材11を開放雰囲気中で巻き換え
ることにより、反射防止膜14を大気に暴露してその表
面を自然活性化する。この後エージング工程S3を経て
塗工工程S4を行なう。塗工工程S4は、自然活性化さ
れた反射防止膜14の表面に防汚物質を含むコーティン
グ液を塗工し且つ乾燥して防汚膜15を形成するもので
ある。予め、暴露工程S2で自然活性化を行なうことに
より、反射防止膜14の表面に対する防汚膜15の密着
性を改善することができる。尚暴露工程S2の後塗工工
程S4の前に挿入されたエージング工程S3は、コーテ
ィング液を調製した後、塗工する前にエージングを行な
うことでコーティング液の反応性を高め、以て反射防止
膜14の表面に対する防汚膜15の固定化を促進する為
に行なわれる。
The functional film shown in (A) is manufactured according to the process shown in (B). First, a film forming step S1 is performed, and while the resin substrate 11 wound into a roll shape is run in a closed atmosphere, an antireflection film 14 is continuously formed on the surface of the resin substrate 11 by sputtering or the like, and the roll is again formed. And roll it up. Note that a hard coat film 12 made of acrylic resin or the like is previously applied to the surface of a resin base material 11 made of PET or the like. Next, an exposure step S2 is performed, and the anti-reflection film 14 is exposed to the air to naturally activate the surface by rewinding the resin substrate 11 wound in a roll shape in an open atmosphere. Thereafter, a coating step S4 is performed through an aging step S3. In the coating step S4, a coating liquid containing an antifouling substance is applied to the surface of the naturally activated antireflection film 14 and dried to form the antifouling film 15. By performing the natural activation in the exposure step S2 in advance, the adhesion of the antifouling film 15 to the surface of the antireflection film 14 can be improved. The aging step S3 inserted before the post-coating step S4 of the exposure step S2 increases the reactivity of the coating liquid by preparing the coating liquid and performing aging before coating, thereby preventing the reflection. This is performed to promote the immobilization of the antifouling film 15 on the surface of the film 14.

【0014】好ましくは、成膜工程S1は、反射防止膜
14として最上層にSiO2 層を含む光学多層膜を形成
する。又、暴露工程S2は、SiO2 層に大気中の水分
を作用させてその表面を自然活性化する。塗工工程S4
は、パーフルオロ基を含有したシリコン系の防汚物質を
溶質とする溶液に、パーフルオロ基を含有した燐酸エス
テルを触媒として加えたコーティング液を塗工する。こ
の場合、暴露工程S2は、温度が25℃±3℃で湿度が
60%±5%に調整された開放雰囲気中で、ロール状の
樹脂基材11を例えば5m/分乃至10m/分の速度で
巻き換える。同様に、エージング工程S3は、温度が2
5℃±3℃で湿度が60%±5%の雰囲気中に一時間を
限度としてコーティング液を放置することにより行な
う。
Preferably, in the film forming step S1, an optical multilayer film including an SiO 2 layer as the uppermost layer is formed as the antireflection film 14. In the exposure step S2, moisture in the air acts on the SiO 2 layer to naturally activate the surface. Coating process S4
Applies a coating solution obtained by adding a perfluoro group-containing phosphate as a catalyst to a solution containing a silicon-based antifouling substance containing a perfluoro group as a solute. In this case, in the exposure step S2, the roll-shaped resin substrate 11 is heated at a rate of, for example, 5 m / min to 10 m / min in an open atmosphere where the temperature is adjusted to 25 ° C. ± 3 ° C. and the humidity is adjusted to 60% ± 5%. To rewind. Similarly, in the aging step S3, when the temperature is 2
The coating is performed by leaving the coating liquid in an atmosphere at 5 ° C. ± 3 ° C. and a humidity of 60% ± 5% for a maximum of one hour.

【0015】機能フィルムに用いる防汚膜はフッ素系樹
脂である。この様な防汚物質を含んだコーティング液を
塗工した後、フッ素樹脂が反射防止膜14の表面と化学
的に結合することで撥水防汚性が発現する。このコーテ
ィング液の塗工工程においてはコーティング液を塗布し
た後乾燥してロール状に巻き取る。この為、フッ素樹脂
がSiO2 などからなる反射防止膜14の表面と化学的
に結合していないと、フッ素樹脂が樹脂基材11の裏面
に転写してしまう。裏面にフッ素樹脂が転写した機能フ
ィルム10をCRTに貼り付けるとフィルムが簡単に剥
離してしまうと同時に、貼り付けに用いた粘着剤7がC
RT側に残留してしまう。
The antifouling film used for the functional film is a fluororesin. After the coating liquid containing such an antifouling substance is applied, the fluororesin is chemically bonded to the surface of the antireflection film 14, whereby the water repellent and antifouling property is exhibited. In the coating liquid application step, the coating liquid is applied, dried, and wound into a roll. Therefore, if the fluororesin is not chemically bonded to the surface of the antireflection film 14 made of SiO 2 or the like, the fluororesin is transferred to the back surface of the resin substrate 11. When the functional film 10 with the fluororesin transferred to the back surface is attached to a CRT, the film is easily peeled off, and at the same time, the adhesive 7 used for the attachment is C
It remains on the RT side.

【0016】化学的な調査結果から、反射防止膜14と
防汚膜15との間の界面における化学結合には水分が関
与していることが判明した。反射防止膜14はスパッタ
などにより高真空中で成膜される為、成膜段階における
表面への水分の吸着は非常に少ない。そこで、コーティ
ング液を塗布する前に、反射防止膜14を成膜した樹脂
基材11のロールを大気中で巻き換える。具体的には、
ロール状の樹脂基材11をロール巻出機にかけ、これを
別のロール巻取機で巻き取る。これは、反射防止膜14
の表面への水分の吸着を目的とするものである。その条
件は、前述した様に温度が25℃±3℃で湿度が60%
±5%が適当であり、巻取り速度は5m/分乃至10m
/分程度が適当である。これにより、反射防止膜14の
表面に位置するSiO2 層に水分が吸着し、自然活性化
される。
From the results of the chemical investigation, it was found that water was involved in the chemical bonding at the interface between the antireflection film 14 and the antifouling film 15. Since the antireflection film 14 is formed in a high vacuum by sputtering or the like, the adsorption of moisture on the surface during the film formation stage is very small. Therefore, before applying the coating liquid, the roll of the resin substrate 11 on which the anti-reflection film 14 is formed is wound in the atmosphere. In particular,
The roll-shaped resin substrate 11 is set on a roll unwinder, and is wound up by another roll winder. This is because the anti-reflection film 14
The purpose is to adsorb moisture to the surface of the surface. The conditions are, as described above, a temperature of 25 ° C. ± 3 ° C. and a humidity of 60%.
± 5% is appropriate and the winding speed is 5m / min to 10m
/ Min is appropriate. As a result, moisture is adsorbed on the SiO 2 layer located on the surface of the antireflection film 14 and is naturally activated.

【0017】この様に暴露工程S2は反射防止膜14の
表面の活性化を目的とする一方、エージング工程S3は
コーティング液側の反応性を高めることを目的とする。
塗布前にコーティング液を液パン中で30分乃至60分
間エージングする。その環境条件は暴露工程S2と同様
である。コーティング液に大気中の水分を導入すること
により化学的な反応性を高めることが可能である。但
し、エージングを行ない過ぎるとコーティング液自体が
急速に劣化し、反射防止膜14の表面と化学的に反応し
なくなる為、エージング時間は60分を限度とする。
Thus, the exposure step S2 aims at activating the surface of the antireflection film 14, while the aging step S3 aims at increasing the reactivity on the coating liquid side.
Before coating, the coating solution is aged in the liquid pan for 30 to 60 minutes. The environmental conditions are the same as in the exposure step S2. Chemical reactivity can be enhanced by introducing atmospheric moisture into the coating liquid. However, if aging is excessively performed, the coating liquid itself rapidly deteriorates and does not chemically react with the surface of the antireflection film 14, so that the aging time is limited to 60 minutes.

【0018】図2は、防汚膜の撥水防汚性の発現時間を
示したグラフである。グラフでは、横軸に経過時間を取
り、縦軸に撥水性能の尺度として接触角を取ってある。
接触角は防汚膜に滴下した純水の接触角を表わしてお
り、その値が大きい程撥水性が高い。グラフ中、カーブ
Aは本発明に従って暴露工程及びエージング工程を経て
成膜された防汚膜の場合であり、カーブBは従来の防汚
膜の場合を表わしている。グラフから明らかな様に、本
発明の方がより短時間で撥水性能が現れており、速やか
にコーティング液と反射防止膜の表面が反応することを
示している。これにより、反射防止膜の表面に塗工され
た防汚膜が樹脂基材をロール状に巻き取る過程でその裏
面に転写することを防げる。これに対し、従来は反射防
止膜の成膜後に暴露工程及びエージング工程など反応を
促進する手段を講じていないので、コーティング液を塗
布後撥水防止性が発現するまでに長い時間がかかり、機
能フィルム裏面への防汚膜の転写量が多くなってしま
う。
FIG. 2 is a graph showing the expression time of the water repellent and antifouling properties of the antifouling film. In the graph, the elapsed time is plotted on the horizontal axis, and the contact angle is plotted on the vertical axis as a measure of the water repellency.
The contact angle indicates the contact angle of pure water dropped on the antifouling film, and the larger the value, the higher the water repellency. In the graph, curve A represents the case of the antifouling film formed through the exposure step and the aging step according to the present invention, and curve B represents the case of the conventional antifouling film. As is clear from the graph, the water repellency of the present invention is shorter in the present invention, indicating that the surface of the antireflection film reacts quickly with the coating liquid. This prevents the antifouling film applied on the surface of the antireflection film from being transferred to the back surface during the process of winding the resin substrate into a roll. On the other hand, conventionally, there is no means for promoting the reaction such as an exposure step and an aging step after the formation of the anti-reflection film. The transfer amount of the antifouling film to the back surface of the film increases.

【0019】図3を参照して、図1に示した成膜工程S
1を具体的に説明する。(A)は反射防止膜の成膜に用
いるスパッタ装置を表わしている。又、(B)は予めハ
ードコート膜12が形成された樹脂基材11の上に成膜
される反射防止膜14の具体的な構成例を表わしてい
る。図示の様に反射防止膜14は光学多層膜からなり、
下から順に第一層(SiO2 )141、第二層(IT
O)142、第三層(SiO2 )143、第四層(IT
O)144及び第五層(SiO2 )145を積層した構
成である。SiO2 は低屈折層として機能し、ITOは
高屈折層として機能する。尚、ITOはインジウムと錫
の複合酸化物で導電性を有しており、帯電防止効果も兼
ね備えている。反射防止膜14は、外光の映り込みを和
らげて好ましい画像を表示することができる様に設けら
れたもので、上述した様に屈折率の異なる薄膜材料が交
互に積層された光学多層膜によって形成されている。こ
こで、反射防止膜14はその最表面にSiO2 が位置す
る様に構成されている。
Referring to FIG. 3, the film forming step S shown in FIG.
1 will be specifically described. (A) shows a sputtering apparatus used for forming an antireflection film. (B) shows a specific configuration example of the antireflection film 14 formed on the resin substrate 11 on which the hard coat film 12 is formed in advance. As shown, the antireflection film 14 is made of an optical multilayer film,
The first layer (SiO 2 ) 141 and the second layer (IT
O) 142, third layer (SiO 2 ) 143, fourth layer (IT
O) 144 and a fifth layer (SiO 2 ) 145 are stacked. SiO 2 functions as a low refractive layer, and ITO functions as a high refractive layer. In addition, ITO is a composite oxide of indium and tin and has conductivity, and also has an antistatic effect. The anti-reflection film 14 is provided so as to reduce reflection of external light and display a preferable image. As described above, the anti-reflection film 14 includes an optical multilayer film in which thin film materials having different refractive indexes are alternately laminated. Is formed. Here, the antireflection film 14 is configured so that SiO 2 is located on the outermost surface.

【0020】反射防止膜14を成膜するスパッタ装置
は、(A)に示す様に第一スパッタリング室104及び
第二スパッタリング室106を備えている。第一スパッ
タリング室104にはスパッタリングターゲット・カソ
ード組立物110と反応性ガス供給口112が設けられ
ている。同様に、第二スパッタリング室106にもスパ
ッタリングターゲット・カソード組立物111及び反応
性ガス供給口113が設けられている。ここで、第一ス
パッタリング室104のスパッタリングターゲットはシ
リコン単結晶であり、第二スパッタリング室106のタ
ーゲットは錫を添加した金属インジウムである。又、ス
パッタリング用のガスはアルゴンであり、各スパッタリ
ング室104,106に供給する反応性ガスは酸素であ
る。
The sputtering apparatus for forming the antireflection film 14 includes a first sputtering chamber 104 and a second sputtering chamber 106 as shown in FIG. The first sputtering chamber 104 is provided with a sputtering target / cathode assembly 110 and a reactive gas supply port 112. Similarly, a sputtering target / cathode assembly 111 and a reactive gas supply port 113 are provided in the second sputtering chamber 106. Here, the sputtering target of the first sputtering chamber 104 is a silicon single crystal, and the target of the second sputtering chamber 106 is metal indium to which tin is added. The sputtering gas is argon, and the reactive gas supplied to each of the sputtering chambers 104 and 106 is oxygen.

【0021】係る構成を有するスパッタリング装置で反
射防止膜14を成膜する為、まず樹脂基材11をフィル
ム巻出し機102から冷却ロール103に沿って第一ス
パッタリング室104に供給し、ここで第一層(SiO
2 )を形成する。続いて、第二スパッタリング室106
で第二層(ITO)を形成する。更に、検出器107で
第二層形成後の反射率を測定した後、フィルム巻取り機
108で巻き取る。次に、巻取り機108で巻き取った
ものを逆に繰り出し冷却ロール103に沿って、第一ス
パッタリング室104で第三層を形成させ(第二スパッ
タリング室106は単に通過)、同様に検出器109で
第三層形成後の反射率を測定した後、巻出し機102に
巻き戻す。再度巻出し機102から冷却ロール103に
沿って(第一スパッタリング室104は単に通過)、第
二スパッタリング室106で第四層を形成させ、検出器
107で第四層形成後の反射率を測定した後巻取り機1
08に巻き取る。再度巻取り機108から冷却ロール1
03に沿って、第一スパッタリング室104で第五層を
形成させ(第二スパッタリング室106は単に通過)、
検出器109で第五層を形成後の反射率を測定した後巻
出し機102に巻き取る。
In order to form the anti-reflection film 14 with the sputtering apparatus having the above-described configuration, first, the resin substrate 11 is supplied from the film unwinder 102 to the first sputtering chamber 104 along the cooling roll 103, One layer (SiO
2 ) Form. Subsequently, the second sputtering chamber 106
To form a second layer (ITO). Further, after the reflectance after the second layer is formed is measured by the detector 107, the film is wound by the film winder 108. Next, the material wound up by the winding machine 108 is fed out in reverse, and the third layer is formed in the first sputtering chamber 104 along the cooling roll 103 (the second sputtering chamber 106 simply passes). After measuring the reflectance after the formation of the third layer in 109, the film is rewound to the unwinder 102. Along the cooling roll 103 from the unwinder 102 again (the first sputtering chamber 104 simply passes), the fourth layer is formed in the second sputtering chamber 106, and the reflectance after the fourth layer is formed is measured by the detector 107. After winding machine 1
Take up to 08. Rewinding roll 108 from winder 108 again
Along 03, a fifth layer is formed in the first sputtering chamber 104 (the second sputtering chamber 106 simply passes),
After measuring the reflectance after the fifth layer is formed by the detector 109, the film is wound around the unwinder 102.

【0022】図4は、図1に示した塗工工程を具体的に
示した模式図である。図示する様に、反射防止膜14ま
でを形成した樹脂基材11をコーティング液216を貯
留したコーティング槽217の上の一対のローラ218
a,218b間に通してコーティング液216を塗布
し、続いてこの樹脂基材11を乾燥機219に通すこと
によって塗布したコーティング液216を乾燥し、フッ
素系樹脂からなる防汚膜を形成する。この後、防汚膜が
形成されたことによって製造された機能フィルム10
は、乾燥機219から出てロール状に巻き取られ、使用
に供されるまで保管される。尚、ローラ218aはクロ
ムメッキされた金属ロール、ローラ218bはゴムや軟
質樹脂からなるものであり、下側のローラ218aは、
その下部がコーティング液216中に浸った状態に配置
されていることにより、コーティング液216をその上
に通される樹脂基材11の下面(反射防止膜が形成され
た面)に塗布する様になっている。本発明では、この塗
工工程を行なう前に図1に示した暴露工程S2及びエー
ジング工程S3を行なっているので、反射防止膜に対す
る防汚膜の密着性が高まり、乾燥機219から出た機能
フィルム10をロール状に巻き取った場合にその裏面に
防汚膜が転写されることがなくなる。
FIG. 4 is a schematic diagram specifically showing the coating step shown in FIG. As shown in the figure, a pair of rollers 218 on a coating tank 217 storing a coating liquid 216 is applied to the resin substrate 11 on which the antireflection film 14 is formed.
The coating liquid 216 is applied between the a and 218b, and the applied coating liquid 216 is dried by passing the resin substrate 11 through a drier 219 to form an antifouling film made of a fluororesin. Thereafter, the functional film 10 produced by forming the antifouling film is formed.
Is rolled out of the dryer 219 and stored until ready for use. The roller 218a is made of a chrome-plated metal roll, the roller 218b is made of rubber or a soft resin, and the lower roller 218a is made of
Since the lower portion is arranged so as to be immersed in the coating liquid 216, the coating liquid 216 is applied to the lower surface (the surface on which the antireflection film is formed) of the resin base material 11 passed therethrough. Has become. In the present invention, since the exposure step S2 and the aging step S3 shown in FIG. 1 are performed before performing the coating step, the adhesion of the antifouling film to the antireflection film is increased, and the function of the dryer 219 is performed. When the film 10 is wound into a roll, the antifouling film is not transferred to the back surface.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
防汚物質を含有したコーティング液を塗布する前に、ロ
ールの巻き換え及びコーティング液のエージングを行な
うことにより、コーティング液と反射防止膜表面との反
応性を向上させ、撥水防汚性能の発現時間を短縮するこ
とができる。この発現時間が短くなる為、コーティング
液を塗布し乾燥した後、ロール状に巻き取るまでにある
程度防汚膜と反射防止膜の界面における化学反応が進
み、機能フィルム裏面への防汚膜の転写量が少なくな
る。この結果、機能フィルムをCRTなどへ貼り付けた
時の接着性が改善するとともに、粘着剤がフィルム側で
はなくCRT側に残留する不具合を防ぐことが可能であ
る。
As described above, according to the present invention,
Before applying the coating liquid containing the antifouling substance, by performing roll rewinding and aging of the coating liquid, the reactivity between the coating liquid and the antireflection film surface is improved, and the water repellent and antifouling performance is exhibited. Can be shortened. Since the expression time is shortened, after the coating liquid is applied and dried, the chemical reaction at the interface between the antifouling film and the antireflection film progresses to some extent before being wound into a roll, and the antifouling film is transferred to the back of the functional film. The amount is reduced. As a result, it is possible to improve the adhesiveness when the functional film is attached to a CRT or the like, and to prevent a problem that the adhesive remains on the CRT side instead of the film side.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る機能フィルムの製造方法を示す模
式図である。
FIG. 1 is a schematic view illustrating a method for producing a functional film according to the present invention.

【図2】本発明に従って製造された機能フィルムの撥水
性の発現時間をを示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing a water repellency developing time of a functional film manufactured according to the present invention.

【図3】本発明に係る機能フィルムの製造方法に含まれ
る成膜工程を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic view showing a film forming step included in the method for producing a functional film according to the present invention.

【図4】本発明に係る機能フィルムの製造方法に含まれ
る塗工工程を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a coating step included in the method for producing a functional film according to the present invention.

【図5】機能フィルムの貼着方法を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory view showing a method for attaching a functional film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・パネルガラス、7・・・粘着剤、10・・・機
能フィルム、11・・・樹脂基材、12・・・ハードコ
ート膜、14・・・反射防止膜、15・・・防汚膜、S
1・・・成膜工程、S2・・・暴露工程、S3・・・エ
ージング工程、S4・・・塗工工程
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Panel glass, 7 ... Adhesive, 10 ... Functional film, 11 ... Resin base material, 12 ... Hard coat film, 14 ... Anti-reflection film, 15 ... Anti-reflection Soil, S
1 ... film forming step, S2 ... exposure step, S3 ... aging step, S4 ... coating step

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ロール状に巻回された樹脂基材を密閉雰
囲気中で走行させながら、反射防止膜を該樹脂基材の表
面に連続成膜して再びロール状に巻き取る成膜工程と、 巻き取った該樹脂基材を開放雰囲気中で巻き換えること
により、成膜された反射防止膜を大気に暴露してその表
面を自然活性化する暴露工程と、 活性化された該反射防止膜の表面に防汚物質を含むコー
ティング液を塗工し且つ乾燥して防汚膜を形成する塗工
工程とを行ない、 該反射防止膜の表面に対する該防汚膜の密着性を改善す
ることを特徴とする機能フィルムの製造方法。
A film forming step of continuously forming an antireflection film on the surface of the resin substrate while running the resin substrate wound in a roll shape in a closed atmosphere, and winding the film back into a roll shape; An exposing step of exposing the formed anti-reflection film to the atmosphere to naturally activate the surface thereof by rewinding the wound resin substrate in an open atmosphere; and the activated anti-reflection film. Applying a coating solution containing an antifouling substance to the surface of the antireflection film and drying the coating liquid to form an antifouling film, thereby improving the adhesion of the antifouling film to the surface of the antireflection film. Characteristic method for producing functional films.
【請求項2】 前記成膜工程は、該反射防止膜として最
上層にSiO2 層を含む光学多層膜を形成し、 前記暴露工程は該SiO2 層に大気中の水分を作用させ
てその表面を自然活性化し、 前記塗工工程はパーフルオロ基を含有したシリコン系の
防汚物質を溶質とする溶液に、パーフルオロ基を含有し
た燐酸エステルを触媒として加えたコーティング液を塗
工することを特徴とする請求項1記載の機能フィルムの
製造方法。
2. The film forming step includes forming an optical multilayer film including an SiO 2 layer as an uppermost layer as the anti-reflection film, and the exposing step includes applying atmospheric moisture to the SiO 2 layer to form a surface thereof. The coating step comprises applying a coating solution obtained by adding a perfluoro group-containing phosphate as a catalyst to a solution containing a perfluoro group-containing silicon-based antifouling substance as a solute. The method for producing a functional film according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記暴露工程は、温度が25℃±3℃で
湿度が60%±5%に調整された開放雰囲気中で、該樹
脂基材を5m/分乃至10m/分の速度で巻き換えるこ
とを特徴とする請求項2記載の機能フィルムの製造方
法。
3. The exposing step comprises winding the resin base material at a speed of 5 m / min to 10 m / min in an open atmosphere adjusted to a temperature of 25 ° C. ± 3 ° C. and a humidity of 60% ± 5%. 3. The method for producing a functional film according to claim 2, wherein the method is changed.
【請求項4】 前記塗工工程は、該コーティング液を調
製した後塗工する前にエージングを行なうことで該コー
ティング液の反応性を高め、以て該反射防止膜の表面に
対する該防汚膜の固定化を促進することを特徴とする請
求項2記載の機能フィルムの製造方法。
4. In the coating step, after the coating liquid is prepared, aging is performed before coating to increase the reactivity of the coating liquid, whereby the antifouling film with respect to the surface of the antireflection film is formed. The method for producing a functional film according to claim 2, wherein fixation of the film is promoted.
【請求項5】 ロール状に巻回された樹脂基材を走行さ
せながら反射防止膜を該樹脂基材の表面に連続成膜して
再びロール状に巻き取る成膜工程と、巻き取られた該樹
脂基材を再び走行させながら防汚物質を含むコーティン
グ液を該反射防止膜の表面に連続塗工し且つ乾燥して防
汚膜を形成する塗工工程とを行なう機能フィルムの製造
方法において、 該コーティング液を調製した後塗工する前にエージング
を行なうことで該コーティング液の反応性を高め、以て
反射防止膜に対する防汚膜の固定化を促進するエージン
グ工程を行なうことを特徴とする機能フィルムの製造方
法。
5. A film forming step of continuously forming an antireflection film on the surface of the resin base material while running the resin base material wound in a roll shape, and winding the film back into a roll shape. A process of continuously applying a coating solution containing an antifouling substance to the surface of the antireflection film while running the resin substrate again and drying to form an antifouling film. Performing aging before preparing the coating solution after coating to increase the reactivity of the coating solution, thereby performing an aging step to promote the fixation of the antifouling film to the antireflection film. Method of manufacturing functional films.
【請求項6】 前記塗工工程は、パーフルオロ基を含有
したシリコン系の汚染物質を溶質とする溶液に、パーフ
ルオロ基を含有した燐酸エステルを触媒として加えたコ
ーティング液を塗工することを特徴とする請求項5記載
の機能フィルムの製造方法。
6. The coating step includes applying a coating liquid obtained by adding a perfluoro group-containing phosphate as a catalyst to a solution containing a perfluoro group-containing silicon-based contaminant as a solute. The method for producing a functional film according to claim 5, characterized in that:
【請求項7】 前記エージング工程は、温度が25℃±
3℃で湿度が60%±5%の雰囲気に一時間を限度とし
て該コーティング液を放置するものであることを特徴と
する請求項6記載の機能フィルムの製造方法。
7. The aging step is performed at a temperature of 25 ° C. ±
7. The method for producing a functional film according to claim 6, wherein the coating liquid is allowed to stand in an atmosphere at 3 [deg.] C. and a humidity of 60% ± 5% for up to one hour.
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WO2004088370A1 (en) * 2003-03-31 2004-10-14 Zeon Corporation Protective film for polarizing plate, method for preparation thereof, polarizing plate with antireflection function, and optical article

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