JP2001141909A - Microlens substrate, counter substrate for liquid crystal panel, liquid crystal panel and projection display device - Google Patents
Microlens substrate, counter substrate for liquid crystal panel, liquid crystal panel and projection display deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロレンズ基
板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表
示装置に関するものである。The present invention relates to a microlens substrate, a counter substrate for a liquid crystal panel, a liquid crystal panel, and a projection display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】スクリーン上に、画像を投影する投射型
表示装置が知られている。このような投射型表示装置で
は、その画像形成に主として液晶パネル（液晶光シャッ
ター）が用いられている。2. Description of the Related Art A projection display device for projecting an image on a screen is known. In such a projection display device, a liquid crystal panel (liquid crystal optical shutter) is mainly used for image formation.
【０００３】この液晶パネルは、例えば、各画素を制御
する薄膜トランジスター（ＴＦＴ）と個別電極とを有す
る液晶駆動基板（ＴＦＴ基板）と、ブラックマトリック
スや共通電極等を有する液晶パネル用対向基板とが、液
晶層を介して接合された構成となっている。In this liquid crystal panel, for example, a liquid crystal driving substrate (TFT substrate) having a thin film transistor (TFT) for controlling each pixel and an individual electrode, and a counter substrate for a liquid crystal panel having a black matrix, a common electrode and the like are provided. And a liquid crystal layer.
【０００４】このような構成の液晶パネル（ＴＦＴ液晶
パネル）では、液晶パネル用対向基板の画素となる部分
以外のところにブラックマトリックスが形成されている
ため、液晶パネルを透過する光の領域は制限される。こ
のため、光の透過率が下がる。In a liquid crystal panel (TFT liquid crystal panel) having such a structure, a black matrix is formed in a portion other than a pixel portion of a counter substrate for a liquid crystal panel, so that a region of light transmitted through the liquid crystal panel is limited. Is done. For this reason, the light transmittance is reduced.
【０００５】かかる光の透過率を高めるべく、液晶パネ
ル用対向基板には、各画素に対応する位置に多数の微小
なマイクロレンズが設けられたものが知られている。こ
れにより、液晶パネル用対向基板を透過する光は、ブラ
ックマトリックスに形成された開口に集光され、光の透
過率が高まる。[0005] In order to increase the light transmittance, there is known an opposing substrate for a liquid crystal panel in which a number of minute microlenses are provided at positions corresponding to respective pixels. Accordingly, light transmitted through the opposing substrate for the liquid crystal panel is focused on the opening formed in the black matrix, and the light transmittance is increased.
【０００６】図４は、液晶パネル用対向基板に用いられ
るマイクロレンズ基板の従来の構造を示す模式的な縦断
面図である。FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view showing a conventional structure of a microlens substrate used as a counter substrate for a liquid crystal panel.
【０００７】同図に示すように、マイクロレンズ基板９
００は、多数の凹部９０６が設けられたガラス基板９０
２と、かかるガラス基板９０２の凹部９０６が設けられ
た面に樹脂層（接着剤層）９０４を介して接合されたガ
ラス層９０３とを有しており、また、樹脂層９０４で
は、凹部９０６内に充填された樹脂によりマイクロレン
ズ９０７が形成されている。[0007] As shown in FIG.
00 denotes a glass substrate 90 provided with a large number of concave portions 906.
2 and a glass layer 903 joined via a resin layer (adhesive layer) 904 to the surface of the glass substrate 902 on which the concave portion 906 is provided. The microlens 907 is formed of the resin filled in the microlens 907.
【０００８】このようなマイクロレンズ基板９００は、
液晶パネルを製造する際に、通常、加熱工程を経る。[0008] Such a microlens substrate 900 includes:
When manufacturing a liquid crystal panel, a heating step is usually performed.
【０００９】このとき加熱により、マイクロレンズ基板
９００には、そり、たわみ等が生じる場合があった。ま
た、極端な場合には、ガラス層９０３が、ガラス基板９
０２から剥離することもあった。At this time, the microlens substrate 900 may be warped or bent due to the heating. In an extreme case, the glass layer 903 is
02 was sometimes peeled off.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、そ
り、たわみ、剥離等の欠陥を防止可能なマイクロレンズ
基板、および、かかるマイクロレンズ基板を備えた液晶
パネル用対向基板、液晶パネル、さらには、投射型表示
装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a microlens substrate capable of preventing defects such as warpage, deflection, and peeling, a counter substrate for a liquid crystal panel provided with such a microlens substrate, a liquid crystal panel, and a liquid crystal panel. Another object of the present invention is to provide a projection display device.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１６）の本発明により達成される。This and other objects are achieved by the present invention which is defined below as (1) to (16).
【００１２】（１） 多数の凹部が設けられたガラス基
板と、該ガラス基板に樹脂層を介して接合されたガラス
層とを有し、前記凹部内に充填された樹脂によりマイク
ロレンズが構成されたマイクロレンズ基板であって、前
記樹脂層は、少なくともその一部が前記マイクロレンズ
を構成する第１の層と、該第１の層を構成する樹脂より
柔らかい樹脂で構成された第２の層とを有することを特
徴とするマイクロレンズ基板。(1) A glass substrate provided with a large number of concave portions, and a glass layer joined to the glass substrate via a resin layer, wherein a resin is filled in the concave portions to form a microlens. A resin layer, at least a part of which is a first layer forming the microlens, and a second layer formed of a resin softer than the resin forming the first layer. A microlens substrate comprising:
【００１３】（２） 前記第１の層を構成する樹脂のシ
ョアＤ硬度は、５０〜１５０である上記（１）に記載の
マイクロレンズ基板。(2) The microlens substrate according to the above (1), wherein the resin constituting the first layer has a Shore D hardness of 50 to 150.
【００１４】（３） 前記第２の層を構成する樹脂のシ
ョアＤ硬度は、５〜１００である上記（１）または
（２）に記載のマイクロレンズ基板。(3) The microlens substrate according to the above (1) or (2), wherein the resin constituting the second layer has a Shore D hardness of 5 to 100.
【００１５】（４） 前記第１の層を構成する樹脂のシ
ョアＤ硬度をＡ、前記第２の層を構成する樹脂のショア
Ｄ硬度をＢとしたとき、Ｂ／Ａは、０．０３〜０．９で
ある上記（１）ないし（３）のいずれかに記載のマイク
ロレンズ基板。(4) When the Shore D hardness of the resin forming the first layer is A and the Shore D hardness of the resin forming the second layer is B, B / A is 0.03 to 0.03. The microlens substrate according to any one of the above (1) to (3), which is 0.9.
【００１６】（５） 前記第２の層を構成する樹脂のガ
ラス転移点Ｔｇが５０℃以下である上記（１）ないし
（４）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。(5) The microlens substrate according to any one of (1) to (4), wherein the resin constituting the second layer has a glass transition point Tg of 50 ° C. or less.
【００１７】（６） 前記第２の層の厚さが０．１〜５
０μｍである上記（１）ないし（５）のいずれかに記載
のマイクロレンズ基板。(6) The thickness of the second layer is 0.1 to 5
The microlens substrate according to any one of the above (1) to (5), which is 0 μm.
【００１８】（７） 前記第１の層を構成する樹脂のガ
ラス転移点Ｔｇ以上の温度における熱膨張係数をＨ、前
記第２の層を構成する樹脂のガラス転移点Ｔｇ以上の温
度における熱膨張係数をＩとしたとき、Ｈ／Ｉは、０．
１〜１０である上記（１）ないし（６）のいずれかに記
載のマイクロレンズ基板。(7) The coefficient of thermal expansion of the resin constituting the first layer at a temperature equal to or higher than the glass transition point Tg is H, and the thermal expansion coefficient of the resin constituting the second layer at a temperature equal to or higher than the glass transition point Tg. When the coefficient is I, H / I is 0.
The microlens substrate according to any one of the above (1) to (6), which is 1 to 10.
【００１９】（８） 前記第１の層と前記第２の層との
境界部分に、カップリング剤が設けられた部分を有する
上記（１）ないし（７）のいずれかに記載のマイクロレ
ンズ基板。(8) The microlens substrate according to any one of (1) to (7), wherein a coupling agent is provided at a boundary between the first layer and the second layer. .
【００２０】（９） 前記第１の層を構成する樹脂の屈
折率よりも、前記第２の層を構成する樹脂の屈折率の方
が小さい上記（１）ないし（８）のいずれかに記載のマ
イクロレンズ基板。(9) The resin according to any one of (1) to (8), wherein the refractive index of the resin forming the second layer is smaller than the refractive index of the resin forming the first layer. Micro lens substrate.
【００２１】（１０） 上記（１）ないし（９）のいず
れかに記載のマイクロレンズ基板と、前記ガラス層上ま
たは前記ガラス基板上に設けられた透明導電膜とを有す
ることを特徴とする液晶パネル用対向基板。(10) A liquid crystal comprising: the microlens substrate according to any one of (1) to (9); and a transparent conductive film provided on the glass layer or the glass substrate. Counter substrate for panel.
【００２２】（１１） 上記（１）ないし（９）のいず
れかに記載のマイクロレンズ基板と、前記ガラス層上ま
たは前記ガラス基板上に設けられたブラックマトリック
スと、該ブラックマトリックスを覆う透明導電膜とを有
することを特徴とする液晶パネル用対向基板。(11) The microlens substrate according to any one of (1) to (9), a black matrix provided on the glass layer or the glass substrate, and a transparent conductive film covering the black matrix. And a counter substrate for a liquid crystal panel.
【００２３】（１２） 上記（１０）または（１１）に
記載の液晶パネル用対向基板を備えたことを特徴とする
液晶パネル。(12) A liquid crystal panel comprising the liquid crystal panel counter substrate according to the above (10) or (11).
【００２４】（１３） 個別電極を備えた液晶駆動基板
と、該液晶駆動基板に接合された上記（１０）または
（１１）に記載の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆
動基板と前記液晶パネル用対向基板との空隙に封入され
た液晶とを有することを特徴とする液晶パネル。(13) A liquid crystal driving substrate provided with individual electrodes, the liquid crystal panel opposing substrate according to (10) or (11), which is joined to the liquid crystal driving substrate, the liquid crystal driving substrate and the liquid crystal panel A liquid crystal panel, comprising: a liquid crystal sealed in a space between the liquid crystal panel and a counter substrate.
【００２５】（１４） 前記液晶駆動基板はＴＦＴ基板
である上記（１３）に記載の液晶パネル。(14) The liquid crystal panel according to the above (13), wherein the liquid crystal driving substrate is a TFT substrate.
【００２６】（１５） 上記（１２）ないし（１４）の
いずれかに記載の液晶パネルを備えたライトバルブを有
し、該ライトバルブを少なくとも１個用いて画像を投射
することを特徴とする投射型表示装置。(15) A projection comprising a light valve provided with the liquid crystal panel according to any one of (12) to (14), and projecting an image using at least one of the light valves. Type display device.
【００２７】（１６） 画像を形成する赤色、緑色およ
び青色に対応した３つのライトバルブと、光源と、該光
源からの光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記
各光を対応する前記ライトバルブに導く色分離光学系
と、前記各画像を合成する色合成光学系と、前記合成さ
れた画像を投射する投射光学系とを有する投射型表示装
置であって、前記ライトバルブは、上記（１２）ないし
（１４）のいずれかに記載の液晶パネルを備えたことを
特徴とする投射型表示装置。(16) Three light valves corresponding to red, green, and blue for forming an image, a light source, and light from the light source is separated into red, green, and blue light, and the respective lights correspond to each other. A color separation optical system for guiding to the light valve, a color combining optical system for combining the images, and a projection display device having a projection optical system for projecting the combined image, wherein the light valve, A projection display device comprising the liquid crystal panel according to any one of the above (12) to (14).
【００２８】[0028]
【発明の実施の形態】本発明におけるマイクロレンズ基
板には、個別基板およびウエハーの双方を含むものとす
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The microlens substrate according to the present invention includes both an individual substrate and a wafer.
【００２９】本発明者は、前述したマイクロレンズ基板
９００に生じるそり、たわみ、剥離等の欠陥の原因を調
査、研究した結果、かかる原因は、樹脂層９０４の構成
材料として用いられる樹脂が、一般的に「硬い」もので
あることに起因することを突き止めた。詳しくは、以下
のように説明できる。The inventor of the present invention has investigated and studied the causes of defects such as warpage, deflection, and peeling occurring on the microlens substrate 900. As a result, the cause is that the resin used as a constituent material of the resin layer 904 is generally used. The "hard" thing. The details can be described as follows.
【００３０】マイクロレンズ基板９００では、マイクロ
レンズ形成領域９０９には多数の凹部９０６が形成され
ているのに対し、マイクロレンズ非形成領域９０８では
ガラス基板９０２の本来の厚さが保持されている。この
ため、マイクロレンズ基板９００では、マイクロレンズ
形成領域９０９における樹脂層９０４の厚さと、マイク
ロレンズ非形成領域９０８における樹脂層９０４の厚さ
とが大きく異なったものとなっている。In the microlens substrate 900, many concave portions 906 are formed in the microlens forming region 909, whereas the original thickness of the glass substrate 902 is maintained in the non-microlens forming region 908. For this reason, in the microlens substrate 900, the thickness of the resin layer 904 in the microlens formation region 909 and the thickness of the resin layer 904 in the microlens non-formation region 908 are significantly different.
【００３１】しかも、マイクロレンズ基板９００では、
ガラス基板９０２と樹脂層９０４とが、異なる材料で構
成されている。両者の材料が異なるので、両者の熱膨張
係数も異なったものとなる（通常、ガラス基板９０２を
構成する材料よりも樹脂層９０４を構成する材料の方が
はるかに熱膨張係数が大きい。）。Moreover, in the microlens substrate 900,
The glass substrate 902 and the resin layer 904 are made of different materials. Since the two materials are different, the coefficients of thermal expansion of the two are also different (normally, the material of the resin layer 904 has a much larger coefficient of thermal expansion than the material of the glass substrate 902).
【００３２】このため、マイクロレンズ基板９００が加
熱等により温度上昇したときに、マイクロレンズ形成領
域９０９とマイクロレンズ非形成領域９０８とでは、樹
脂層９０４の熱膨張の度合いが大きく異なる。Therefore, when the temperature of the microlens substrate 900 rises due to heating or the like, the degree of thermal expansion of the resin layer 904 differs greatly between the microlens forming region 909 and the microlens non-forming region 908.
【００３３】しかも、樹脂層９０４を構成する樹脂に
は、通常、屈折率の高いものが用いられる。このような
屈折率の高い樹脂は、その硬度も高くなる傾向を示す。In addition, a resin having a high refractive index is usually used as the resin constituting the resin layer 904. Such a resin having a high refractive index tends to have a high hardness.
【００３４】このような高硬度の樹脂は、熱膨張時に、
高い押圧力（応力）で、ガラス層９０３を押圧する。通
常、この押圧力は、かかる押圧力に対するガラス層９０
３の応力よりもはるかに大きなものとなる。しかも前述
したように、マイクロレンズ形成領域９０９とマイクロ
レンズ非形成領域９０８とでは、樹脂層９０４の熱膨張
の度合いが大きく異なる。Such a high-hardness resin, when thermally expanded,
The glass layer 903 is pressed with a high pressing force (stress). Normally, this pressing force is applied to the glass layer 90 for such pressing force.
It is much larger than the stress of 3. Moreover, as described above, the degree of thermal expansion of the resin layer 904 is greatly different between the microlens formation region 909 and the microlens non-formation region 908.
【００３５】このため、樹脂層９０４が熱膨張すると、
これに伴い、ガラス層９０３が変形することとなる。こ
れが結果として、マイクロレンズ基板９００のそり、た
わみ、剥離等の欠陥となって現われる。Therefore, when the resin layer 904 thermally expands,
Accordingly, the glass layer 903 is deformed. This results in defects such as warpage, deflection, and peeling of the microlens substrate 900.
【００３６】本発明は、かかる知見に基づくものであ
る。すなわち本発明は、熱膨張により樹脂層がガラス層
を押圧する際の押圧力を緩和することにより、上記問題
を解決するものである。以下、本発明を、添付図面に示
す好適な実施の形態に基づき、詳細に説明する。The present invention is based on such findings. That is, the present invention solves the above problem by relaxing the pressing force when the resin layer presses the glass layer by thermal expansion. Hereinafter, the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
【００３７】図１は、本発明のマイクロレンズ基板の、
実施の形態を示す模式的な縦断面図である。FIG. 1 shows the microlens substrate of the present invention.
It is a typical longitudinal section showing an embodiment.
【００３８】同図に示すように、本発明のマイクロレン
ズ基板１は、多数の凹部６が設けられたガラス基板（マ
イクロレンズ用凹部付き基板）２と、第１の層４１と第
２の層４２とを有する樹脂層（接着剤層）４を介して、
ガラス基板２の凹部６が設けられた面に接合されたガラ
ス層（カバーガラス）３とを有しており、また、樹脂層
４では、凹部６内に充填された樹脂によりマイクロレン
ズ７が形成されている。As shown in the drawing, a microlens substrate 1 of the present invention comprises a glass substrate (substrate with microlens concave portions) 2 provided with a large number of concave portions 6, a first layer 41 and a second layer. 42 and a resin layer (adhesive layer) 4 having
A glass layer (cover glass) 3 bonded to the surface of the glass substrate 2 on which the concave portions 6 are provided; and a micro lens 7 is formed on the resin layer 4 by the resin filled in the concave portions 6. Have been.
【００３９】本発明者は、上記問題点を解決すべく検討
を重ねた結果、樹脂層４を二層構造とし、それらのうち
のガラス層３に近い方の層をマイクロレンズ７を構成す
る樹脂よりも柔らかい樹脂で構成することに到達した。
すなわち、本発明者は、マイクロレンズ基板１に、第１
の層４１とガラス層３との間に、第１の層４１を構成す
る樹脂よりも柔らかい樹脂で構成された第２の層（緩衝
層）４２を設けることに到達した。なお、本発明におけ
る樹脂の「硬さ」および「柔らかさ」では、例えば、シ
ョアＤ硬度（ＪＩＳ Ｇ ０２０２）を指標とすること
ができる。以下、説明の便宜上、第１の層４１を構成す
る樹脂を「樹脂（１）」といい、第２の層４２を構成す
る樹脂を「樹脂（２）」という。As a result of repeated studies to solve the above problems, the present inventor has made the resin layer 4 into a two-layer structure, of which the layer closer to the glass layer 3 is the resin constituting the microlens 7. Achieved to be composed of softer resin.
That is, the inventor provided the first lens on the microlens substrate 1.
A second layer (buffer layer) 42 made of a resin softer than the resin forming the first layer 41 is provided between the layer 41 and the glass layer 3. In the “hardness” and “softness” of the resin in the present invention, for example, Shore D hardness (JIS G 0202) can be used as an index. Hereinafter, for convenience of description, the resin forming the first layer 41 is referred to as “resin (1)”, and the resin forming the second layer 42 is referred to as “resin (2)”.
【００４０】第２の層４２をマイクロレンズ基板１に設
けることにより、加熱等により樹脂（１）が熱膨張する
際に、第１の層４１がガラス層３を押圧する押圧力（応
力）を吸収または緩和することができる。これにより、
ガラス層３の変形が防止され、マイクロレンズ基板１の
そり、たわみ、剥離等の欠陥が、好適に防止される。By providing the second layer 42 on the microlens substrate 1, when the resin (1) thermally expands by heating or the like, the pressing force (stress) of the first layer 41 pressing the glass layer 3 is reduced. Can be absorbed or mitigated. This allows
Deformation of the glass layer 3 is prevented, and defects such as warpage, deflection, and peeling of the microlens substrate 1 are suitably prevented.
【００４１】マイクロレンズ基板１のそり、たわみ等が
防止されると、樹脂層４およびガラス層３の厚さが、マ
イクロレンズ基板１全体にわたって均一なものとなる。
このため、マイクロレンズ７間で出射光の輝度のバラツ
キが抑制される。When the warpage, deflection and the like of the microlens substrate 1 are prevented, the thickness of the resin layer 4 and the glass layer 3 becomes uniform over the entire microlens substrate 1.
For this reason, variation in the brightness of the emitted light between the microlenses 7 is suppressed.
【００４２】かかる効果をより有効に得る観点からは、
第２の層４２を構成する樹脂（２）のショアＤ硬度は、
５〜１００程度であることが好ましく、５〜５０程度で
あることがより好ましい。ショアＤ硬度が高いと、第２
の層４２は、前述した効果を発揮しにくくなる。一方、
ショアＤ硬度があまりに低すぎると、第２の層４２が柔
らかすぎるようになり、外力によってガラス層３が変形
するおそれがある。From the viewpoint of obtaining such an effect more effectively,
The Shore D hardness of the resin (2) constituting the second layer 42 is
It is preferably about 5 to 100, and more preferably about 5 to 50. If the Shore D hardness is high, the second
Layer 42 is less likely to exhibit the effects described above. on the other hand,
If the Shore D hardness is too low, the second layer 42 becomes too soft, and the glass layer 3 may be deformed by an external force.
【００４３】一方、第１の層４１を構成する樹脂（１）
のショアＤ硬度は、特に限定されないが、５０〜１５０
程度であることが好ましく、５０〜１００程度であるこ
とがより好ましい。On the other hand, the resin (1) constituting the first layer 41
Shore D hardness is not particularly limited, but 50 to 150
It is preferably about 50 to 100, and more preferably about 50 to 100.
【００４４】樹脂（１）は、凹部６に充填されてマイク
ロレンズ７を形成する。すなわち、第１の層４１は、マ
イクロレンズ７を形成すべく設けられる。このため、樹
脂（１）は、通常、高い屈折率（例えば、ガラス基板２
の屈折率よりも高い屈折率）を有している。このような
高い屈折率を有する樹脂（１）は、通常、「硬い」もの
となる。換言すれば、必要な屈折率を得るために、通
常、樹脂（１）を「硬く」する必要がある。一方、樹脂
（１）があまりに「硬い」と、第２の層４２の厚さ、樹
脂（２）の種類等によっては、第２の層４２だけでは十
分にガラス層３の変形を防止できなくなるおそれがな
る。The resin (1) is filled in the concave portion 6 to form the micro lens 7. That is, the first layer 41 is provided to form the microlens 7. For this reason, the resin (1) usually has a high refractive index (for example, the glass substrate 2).
(A refractive index higher than the refractive index). The resin (1) having such a high refractive index is usually “hard”. In other words, the resin (1) usually needs to be "hardened" in order to obtain the required refractive index. On the other hand, if the resin (1) is too “hard”, the deformation of the glass layer 3 cannot be sufficiently prevented by the second layer 42 alone depending on the thickness of the second layer 42, the type of the resin (2), and the like. There is a fear.
【００４５】したがって、樹脂（１）のシュアＤ硬度を
前述した範囲内とすることにより、優れた光学特性を有
し、かつ、そり、たわみ、剥離等の欠陥を有効に防止す
ることができるマイクロレンズ基板１を得ることができ
る。Therefore, by setting the Sure-D hardness of the resin (1) within the above-mentioned range, it is possible to obtain excellent optical properties and effectively prevent defects such as warpage, deflection, and peeling. The lens substrate 1 can be obtained.
【００４６】また、樹脂（２）のショアＤ硬度は、樹脂
（１）のショアＤ硬度よりも小さいことが好ましい。特
に、樹脂（１）のショアＤ硬度をＡ、樹脂（２）のショ
アＤ硬度をＢとしたとき、Ｂ／Ａは、０．０３〜０．９
程度であることが好ましく、０．０３〜０．６程度であ
ることがより好ましい。これにより、前述した効果をよ
り効果的に得られるようになる。また、これにより、前
述した樹脂（２）のショアＤ硬度が小さすぎることによ
り生じ得る弊害も、好適に防止できる。The Shore D hardness of the resin (2) is preferably smaller than the Shore D hardness of the resin (1). In particular, when the Shore D hardness of the resin (1) is A and the Shore D hardness of the resin (2) is B, B / A is 0.03 to 0.9.
Is preferably about 0.03 to 0.6, and more preferably about 0.03 to 0.6. Thereby, the above-mentioned effect can be obtained more effectively. In addition, thereby, it is possible to suitably prevent the above-mentioned adverse effects caused by the resin (2) having too low Shore D hardness.
【００４７】また、第２の層４２を構成する樹脂（２）
のガラス転移点Ｔｇは、５０℃以下であることが好まし
く、４０℃以下であることがより好ましい。これによ
り、マイクロレンズ基板１を高温環境下（例えば１５０
℃）においた場合でも、マイクロレンズ基板１のそり、
たわみ、剥離等の欠陥を、さらに好適に抑制できるよう
になる。すなわち、ガラス転移点Ｔｇが比較的低いと、
高温環境下において樹脂（２）は、第１の層４１がガラ
ス層３を押圧する押圧力を緩和するのに好適な軟化状態
となる。このため、ガラス層３の変形が好適に防止さ
れ、マイクロレンズ基板１のそり、たわみ、剥離等の欠
陥が、好適に抑制される。The resin (2) constituting the second layer 42
Is preferably 50 ° C. or lower, more preferably 40 ° C. or lower. Thereby, the microlens substrate 1 is placed under a high temperature environment (for example, 150
° C), even if the microlens substrate 1 is warped,
Defects such as deflection and peeling can be more suitably suppressed. That is, when the glass transition point Tg is relatively low,
Under a high temperature environment, the resin (2) is in a softened state suitable for reducing the pressing force of the first layer 41 against the glass layer 3. For this reason, deformation of the glass layer 3 is suitably prevented, and defects such as warpage, bending, and peeling of the microlens substrate 1 are suitably suppressed.
【００４８】また、同様の観点からは、第２の層４２を
構成する樹脂（２）のガラス転移点Ｔｇは、第１の層４
１を構成する樹脂（１）のガラス転移点Ｔｇよりも低い
ことが好ましい。Further, from the same viewpoint, the glass transition point Tg of the resin (2) constituting the second layer 42 is
It is preferably lower than the glass transition point Tg of the resin (1) constituting 1.
【００４９】なお、樹脂（１）および樹脂（２）のＴｇ
以上の温度における熱膨張係数（膨張率）は、１×１０
-3／℃以下であることが好ましく、５×１０-4／℃以下
であることがより好ましい。これにより、マイクロレン
ズ基板１のそり、たわみ、剥離等の欠陥を好適に抑制で
きる。The Tg of the resin (1) and the resin (2)
The thermal expansion coefficient (expansion coefficient) at the above temperature is 1 × 10
-3 / ° C. or lower, more preferably 5 × 10 -4 / ° C. or lower. Thereby, defects such as warpage, deflection, and peeling of the microlens substrate 1 can be suitably suppressed.
【００５０】さらに、第１の層４１を構成する樹脂
（１）のＴｇ以上の温度における熱膨張係数をＨ、第２
の層４２を構成する樹脂（２）のＴｇ以上の温度におけ
る熱膨張係数をＩとしたとき、Ｈ／Ｉは、０．１〜１０
程度であることが好ましく、０．２〜５程度であること
がより好ましい。Ｈ／Ｉがこの範囲内であると、樹脂層
４は、熱膨張する際に全体として比較的均一に膨張する
ようになる。このため、マイクロレンズ基板１のそり、
たわみ、剥離等の欠陥が、さらに好適に抑制できるよう
になる。Further, the resin (1) constituting the first layer 41 has a thermal expansion coefficient H at a temperature of Tg or more,
When the thermal expansion coefficient at a temperature equal to or higher than Tg of the resin (2) constituting the layer 42 of I is defined as I, H / I is 0.1 to 10
It is preferably about 0.2 to 5, more preferably about 0.2 to 5. When H / I is within this range, the resin layer 4 expands relatively uniformly as a whole when thermally expanding. For this reason, the warpage of the microlens substrate 1,
Defects such as deflection and peeling can be more suitably suppressed.
【００５１】第２の層４２は、レンズとして機能する部
分ではないので、ガラスとの関係で屈折率を特に考慮す
ることなく第２の層４２の構成材料を選択することがで
きる。このため、樹脂（２）の材質、種類等の選択の自
由度は高いのであるが、樹脂（２）の屈折率は、ガラス
層３を構成する材料とほぼ等しいものが好ましい。これ
により、マイクロレンズ基板１の光の利用効率を高める
ことができる。このような観点からは、樹脂（２）の屈
折率と、ガラス層３を構成する材料の屈折率との差は、
±０．２以内であることが好ましい。Since the second layer 42 does not function as a lens, the constituent material of the second layer 42 can be selected without particularly considering the refractive index in relation to glass. For this reason, the degree of freedom in selecting the material, type, and the like of the resin (2) is high. Thereby, the light use efficiency of the microlens substrate 1 can be improved. From such a viewpoint, the difference between the refractive index of the resin (2) and the refractive index of the material forming the glass layer 3 is:
It is preferably within ± 0.2.
【００５２】このような第１の層４１に用いられる樹脂
（１）としては、例えば、アクリル系、エポキシ系、ア
クリルエポキシ系、ビニル系、チオウレタン系などの樹
脂が挙げられる。The resin (1) used for the first layer 41 includes, for example, acrylic, epoxy, acrylic epoxy, vinyl, and thiourethane resins.
【００５３】また、第２の層４２に用いられる樹脂
（２）としては、例えば、アクリル系、エポキシ系、ア
クリルエポキシ系、ビニル系、シリコーン系、ウレタン
系などの樹脂が挙げられる。The resin (2) used for the second layer 42 includes, for example, acrylic, epoxy, acrylic epoxy, vinyl, silicone, and urethane resins.
【００５４】特に、アクリル系、エポキシ系、アクリル
エポキシ系の樹脂を樹脂層４の構成材料として用いる
と、マイクロレンズ基板１の耐ＵＶ特性、耐熱性が向上
し、しかも、優れた光学特性を有するマイクロレンズ基
板１が得られる。また、チオウレタン系の樹脂を樹脂層
４の構成材料として用いると、マイクロレンズ基板１の
耐熱性が特に向上し、しかも、優れた光学特性を有する
マイクロレンズ基板１が得られる。In particular, when an acrylic, epoxy or acrylic epoxy resin is used as a constituent material of the resin layer 4, the UV resistance and heat resistance of the microlens substrate 1 are improved, and the microlens substrate 1 has excellent optical characteristics. The micro lens substrate 1 is obtained. When a thiourethane-based resin is used as a constituent material of the resin layer 4, the heat resistance of the microlens substrate 1 is particularly improved, and the microlens substrate 1 having excellent optical characteristics can be obtained.
【００５５】樹脂層４では、第１の層４１を構成する樹
脂（１）と第２の層４２を構成する樹脂（２）とを、同
種類のものとすることもできるし、異なる種類のものと
することもできる。In the resin layer 4, the resin (1) forming the first layer 41 and the resin (2) forming the second layer 42 can be of the same type or different types. It can also be.
【００５６】樹脂（１）と樹脂（２）とを同種類のもの
で構成すると、第１の層４１と第２の層４２との密着力
が向上し、より高い強度のマイクロレンズ基板１が得ら
れる。この場合、例えば、樹脂（２）のモノマー成分を
適宜選択すること、樹脂（２）の架橋度や平均分子量を
小さくすること、または、樹脂（２）に可塑剤や軟化剤
等を添加すること、もしくは、添加量を樹脂（１）の添
加量よりも大きくすることなどにより、樹脂（２）を樹
脂（１）よりも「柔らかく」することができる。When the resin (1) and the resin (2) are made of the same kind, the adhesion between the first layer 41 and the second layer 42 is improved, and the microlens substrate 1 having higher strength is obtained. can get. In this case, for example, appropriately selecting the monomer component of the resin (2), reducing the degree of crosslinking and the average molecular weight of the resin (2), or adding a plasticizer, a softener, and the like to the resin (2). Alternatively, the resin (2) can be made "softer" than the resin (1) by, for example, making the amount added larger than the amount added of the resin (1).
【００５７】樹脂（１）と樹脂（２）とを異なる種類の
もので構成すると、第１の層４１および第２の層４２の
材料選択の幅が広がり、マイクロレンズ基板１の光学設
計の自由度が高まる。If the resin (1) and the resin (2) are made of different types, the range of material selection for the first layer 41 and the second layer 42 is widened, and the optical design of the microlens substrate 1 is free. The degree increases.
【００５８】このような第１の層４１と第２の層４２と
の境界部分には、カップリング剤（図示せず）を設けて
もよい。これにより第１の層４１と第２の層４２との間
の密着強度が向上し、マイクロレンズ基板１の強度が向
上する。カップリング剤としては、例えば、シラン系カ
ップリング剤などが挙げられる。また、樹脂（１）や樹
脂（２）にカップリング剤を添加することによっても、
第１の層４１と第２の層４２との間の密着強度を向上さ
せることができる。At the boundary between the first layer 41 and the second layer 42, a coupling agent (not shown) may be provided. Thereby, the adhesion strength between the first layer 41 and the second layer 42 is improved, and the strength of the microlens substrate 1 is improved. Examples of the coupling agent include a silane coupling agent. Also, by adding a coupling agent to the resin (1) or the resin (2),
The adhesion strength between the first layer 41 and the second layer 42 can be improved.
【００５９】第１の層４１の厚さ（ガラス基板２が本来
の厚みを有しているところの厚さ）は、特に限定されな
いが、０．１〜５０μｍ程度が好ましく、０．１〜１５
μｍ程度がより好ましい。第１の層４１があまりに厚い
と、樹脂（１）の種類によっては第１の層４１の熱膨張
の度合いが大きくなりすぎ、第２の層４２の厚さ、樹脂
（２）の種類や硬度等によっては、第１の層４１がガラ
ス層３を押圧する押圧力を十分に緩和できなくなる場合
がある。一方、第１の層４１が前記下限値未満の厚さの
マイクロレンズ基板１は、製造技術上困難である。The thickness of the first layer 41 (the thickness where the glass substrate 2 has the original thickness) is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 50 μm, and 0.1 to 15 μm.
It is more preferably about μm. If the first layer 41 is too thick, the degree of thermal expansion of the first layer 41 becomes too large depending on the type of the resin (1), and the thickness of the second layer 42, the type and the hardness of the resin (2). In some cases, the pressing force of the first layer 41 against the glass layer 3 may not be sufficiently reduced. On the other hand, it is difficult to manufacture the microlens substrate 1 in which the first layer 41 has a thickness smaller than the lower limit.
【００６０】第２の層４２の厚さは、特に限定されない
が、０．１〜５０μｍ程度が好ましく、１〜１５μｍ程
度がより好ましい。第２の層４２があまりに薄いと、樹
脂（２）の種類や硬度等によっては、ガラス層３の変形
を十分に防止できない場合がある。一方、第２の層４２
が厚すぎると、マイクロレンズ基板１は、必要な光学特
性が得にくくなる場合がある。The thickness of the second layer 42 is not particularly limited, but is preferably about 0.1 to 50 μm, more preferably about 1 to 15 μm. If the second layer 42 is too thin, the deformation of the glass layer 3 may not be sufficiently prevented depending on the type and hardness of the resin (2). On the other hand, the second layer 42
If the thickness is too large, the microlens substrate 1 may have difficulty in obtaining necessary optical characteristics.
【００６１】なお、樹脂層４全体の厚さ（ガラス基板２
が本来の厚みを有しているところの厚さ）は、０．２〜
１００μｍ程度が好ましく、１〜２０μｍ程度がより好
ましい。樹脂層４が厚すぎると、マイクロレンズ７の焦
点をガラス層３の表面付近に設定することが困難となる
（例えば後述するようにガラス層３上にブラックマトリ
ックス１１を設ける場合には、マイクロレンズ７の焦点
をガラス層３の表面付近に設定すると、最も高い光利用
効率が得られる。）。一方、樹脂層４が前記下限値未満
であると、ガラス基板２とガラス層３との間の接着強度
が十分に得られなくなる場合がある。The thickness of the entire resin layer 4 (the glass substrate 2
Is the original thickness) is 0.2-
About 100 μm is preferable, and about 1 to 20 μm is more preferable. If the resin layer 4 is too thick, it becomes difficult to set the focal point of the micro lens 7 near the surface of the glass layer 3 (for example, when the black matrix 11 is provided on the glass layer 3 as described later, When the focal point of 7 is set near the surface of the glass layer 3, the highest light use efficiency can be obtained.) On the other hand, if the resin layer 4 is less than the lower limit, the adhesive strength between the glass substrate 2 and the glass layer 3 may not be sufficiently obtained.
【００６２】このようなマイクロレンズ基板１が液晶パ
ネルの構成部材に用いられ、かかる液晶パネルがガラス
基板２の他にガラス基板（例えば後述するガラス基板１
７１等）を有する場合には、ガラス基板２やガラス層３
の熱膨張係数は、かかる液晶パネルが有する他のガラス
基板の熱膨張係数とほぼ等しいものであることが好まし
い。このように、ガラス基板２やガラス層３の熱膨張係
数と液晶パネルが有する他のガラス基板の熱膨張係数と
をほぼ等しいものとすると、得られる液晶パネルでは、
温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことによ
り生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。Such a microlens substrate 1 is used as a component of a liquid crystal panel, and such a liquid crystal panel is used in addition to a glass substrate 2 (for example, a glass substrate 1 described later).
71), the glass substrate 2 or the glass layer 3
Is preferably substantially equal to the thermal expansion coefficient of another glass substrate of the liquid crystal panel. As described above, assuming that the thermal expansion coefficients of the glass substrate 2 and the glass layer 3 are substantially equal to the thermal expansion coefficients of the other glass substrates of the liquid crystal panel, the obtained liquid crystal panel has
When the temperature changes, warpage, bending, peeling, and the like caused by the difference in the thermal expansion coefficient between the two are prevented.
【００６３】かかる観点からは、ガラス基板２やガラス
層３と、液晶パネルが有する他のガラス基板とは、同じ
材質で構成されていることが好ましい。これにより、温
度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ等が効
果的に防止される。From such a viewpoint, it is preferable that the glass substrate 2 and the glass layer 3 and the other glass substrates of the liquid crystal panel are formed of the same material. As a result, warpage, deflection, and the like due to the difference in the coefficient of thermal expansion when the temperature changes are effectively prevented.
【００６４】特に、マイクロレンズ基板１を高温ポリシ
リコンのＴＦＴ液晶パネルの構成部材に用いる場合に
は、ガラス基板２およびガラス層３は、石英ガラスで構
成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液
晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦ
Ｔ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石
英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応
させて、ガラス基板２およびガラス層３を石英ガラスで
構成することにより、そり、たわみ等の生じにくい、安
定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。In particular, when the microlens substrate 1 is used as a component of a high-temperature polysilicon TFT liquid crystal panel, the glass substrate 2 and the glass layer 3 are preferably made of quartz glass. The TFT liquid crystal panel has a TFT substrate as a liquid crystal driving substrate. Such TF
For the T substrate, quartz glass whose characteristics are unlikely to change depending on the environment during manufacturing is preferably used. Accordingly, by correspondingly forming the glass substrate 2 and the glass layer 3 from quartz glass, it is possible to obtain a TFT liquid crystal panel which is less likely to be warped or bent and has excellent stability.
【００６５】ガラス基板２の厚さは、ガラス基板２を構
成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通
常、０．３〜５mm程度とされ、より好ましくは０．５〜
２mm程度とされる。Although the thickness of the glass substrate 2 varies depending on various conditions such as the material constituting the glass substrate 2 and the refractive index, it is usually about 0.3 to 5 mm, more preferably about 0.5 to 5 mm.
It is about 2 mm.
【００６６】ガラス層３の厚さは、マイクロレンズ基板
１が液晶パネルの構成部材に用いられる場合、必要な光
学特性を得る観点からは、通常、１０〜１０００μｍ程
度とされ、より好ましくは２０〜１５０μｍ程度とされ
る。なお、液晶パネルが、光をガラス層３側から入射す
る構成の場合（換言すれば、ガラス基板２上にブラック
マトリックスや透明導電膜を形成し、かかるガラス基板
２と後述するＴＦＴ基板とが対向するように液晶パネル
を構成する場合）には、ガラス層３の厚さは、好ましく
は０．３〜５mm程度とされ、より好ましくは０．５〜２
mm程度とされる。When the microlens substrate 1 is used as a constituent member of a liquid crystal panel, the thickness of the glass layer 3 is usually about 10 to 1000 μm, more preferably 20 to 1000 μm, from the viewpoint of obtaining necessary optical characteristics. It is about 150 μm. In the case where the liquid crystal panel has a structure in which light is incident from the glass layer 3 side (in other words, a black matrix or a transparent conductive film is formed on the glass substrate 2, and the glass substrate 2 faces a TFT substrate described later). In the case where the liquid crystal panel is configured so as to perform the above, the thickness of the glass layer 3 is preferably about 0.3 to 5 mm, more preferably 0.5 to 2 mm.
mm.
【００６７】マイクロレンズ基板１は、例えば以下のよ
うにして製造することができる。以下に示す方法は、凹
部３を形成したガラス基板２上に第１の層４１を形成
し、また、ガラス層３上に第２の層４２を形成し、その
後、両者を接合することを特徴とする。The microlens substrate 1 can be manufactured, for example, as follows. The method described below is characterized in that a first layer 41 is formed on the glass substrate 2 on which the concave portion 3 is formed, a second layer 42 is formed on the glass layer 3, and then the two are joined. And
【００６８】まず、用意した未加工のガラス基板２の
表面にマスク層（図示せず）を形成する。このとき、ガ
ラス基板２の裏面に、ガラス基板２の裏面を保護する層
を設けてもよい。マスク層および裏面を保護する層は、
例えば、ＣＶＤ法等の気相成膜法により、ガラス基板２
上にポリシリコン等の層を形成することにより設けるこ
とができる。First, a mask layer (not shown) is formed on the surface of the prepared unprocessed glass substrate 2. At this time, a layer for protecting the back surface of the glass substrate 2 may be provided on the back surface of the glass substrate 2. The mask layer and the layer protecting the back surface are
For example, the glass substrate 2 is formed by a vapor deposition method such as a CVD method.
It can be provided by forming a layer of polysilicon or the like thereon.
【００６９】次に、前記マスク層に凹部６に対応した
形状、パターンの開口を形成する。これは、例えば、マ
スク層上に、開口に対応するパターンのレジスト層を形
成し、次いで、エッチング（例えばＣＦガス等によるド
ライエッチング）を行ない、次いで、前記レジスト層を
除去することにより行うことができる。Next, openings having a shape and a pattern corresponding to the concave portions 6 are formed in the mask layer. This can be performed, for example, by forming a resist layer having a pattern corresponding to the opening on the mask layer, performing etching (for example, dry etching using CF gas or the like), and then removing the resist layer. it can.
【００７０】次に、ガラス基板２に、凹部６を形成す
る。これは、例えばフッ酸系エッチング液等によるウエ
ットエッチングなどにより行なうことができる。Next, a concave portion 6 is formed in the glass substrate 2. This can be performed by, for example, wet etching using a hydrofluoric acid-based etchant or the like.
【００７１】次に、前記マスク層を除去する。これ
は、例えばアルカリ水溶液等への浸漬などにより行なう
ことができる。また、このとき、前記裏面を保護する層
も除去することができる。Next, the mask layer is removed. This can be performed, for example, by immersion in an alkaline aqueous solution or the like. At this time, the layer for protecting the back surface can also be removed.
【００７２】次に、ガラス基板２の凹部６が設けられ
た面に、例えばディスペンサー等を用いて、未硬化の樹
脂（１）の層を設ける。Next, an uncured resin (1) layer is provided on the surface of the glass substrate 2 on which the concave portions 6 are provided, for example, using a dispenser or the like.
【００７３】次に、別途用意したガラス層３上に、例
えばスピンコート等の塗布法などにより、未硬化の樹脂
（２）の層を設ける。Next, an uncured resin (2) layer is provided on the separately prepared glass layer 3 by a coating method such as spin coating.
【００７４】次に、樹脂（１）の層と樹脂（２）の層
が密着して接合するように、ガラス基板２とガラス層３
とを接合する。Next, the glass substrate 2 and the glass layer 3 are so bonded that the resin (1) layer and the resin (2) layer are in close contact with each other.
And join.
【００７５】次に、樹脂（１）および（２）を硬化さ
せる。これにより、第１の層４１と第２の層４２とを有
する樹脂層４が形成される。なお、樹脂の硬化は、例え
ば、樹脂に紫外線を照射、または、加熱等することによ
り行うことができる。Next, the resins (1) and (2) are cured. Thereby, the resin layer 4 having the first layer 41 and the second layer 42 is formed. The curing of the resin can be performed, for example, by irradiating the resin with ultraviolet light or heating.
【００７６】次に、必要に応じて、ガラス層３の厚さ
を、例えば研削、研磨等により、調整する。Next, if necessary, the thickness of the glass layer 3 is adjusted by, for example, grinding or polishing.
【００７７】このようにマイクロレンズ基板１を製造す
ると、第１の層４１および第２の層４２、さらには、樹
脂層４の厚さを均一なものとすることができる。このた
め、各マイクロレンズ７ごとに出射光の輝度にバラツキ
のないマイクロレンズ基板１が得られる。When the microlens substrate 1 is manufactured as described above, the thickness of the first layer 41, the second layer 42, and the thickness of the resin layer 4 can be made uniform. For this reason, the microlens substrate 1 in which the brightness of the emitted light does not vary for each microlens 7 can be obtained.
【００７８】特に、スピンコート等の塗布法により樹脂
を設けると、薄くて均一な樹脂層を形成することができ
る。このため、高い光学性能を有するマイクロレンズ基
板１を製造しやすい。In particular, when a resin is provided by a coating method such as spin coating, a thin and uniform resin layer can be formed. Therefore, it is easy to manufacture the microlens substrate 1 having high optical performance.
【００７９】なお、上記工程またはにおいて、樹脂
（１）の層または樹脂（２）の層上に、カップリング剤
を設けてもよい。カップリング剤は、例えばスピンコー
ト等の塗布法などにより設けることができる。In the above step or the above, a coupling agent may be provided on the resin (1) layer or the resin (2) layer. The coupling agent can be provided by a coating method such as spin coating.
【００８０】本発明のマイクロレンズ基板は、本発明の
技術思想を逸脱しない範囲内であれば、上記実施の形態
に限定されないことは言うまでもない。Needless to say, the microlens substrate of the present invention is not limited to the above-described embodiment as long as it does not deviate from the technical idea of the present invention.
【００８１】例えば、第２の層４２は、マイクロレンズ
基板１のマイクロレンズ形成領域９９内もしくはマイク
ロレンズ非形成領域１００内のみ、または、マイクロレ
ンズ形成領域９９とマイクロレンズ非形成領域１００の
境界部付近だけに設けられていてもよい。なお、マイク
ロレンズ形成領域９９とは、マイクロレンズ７が形成さ
れている領域をいう。また、マイクロレンズ非形成領域
１００とは、マイクロレンズ７が形成されていない領
域、図１に示す例では、マイクロレンズ形成領域９９の
外側の領域をいう。For example, the second layer 42 is formed only in the microlens formation region 99 or the microlens non-formation region 100 of the microlens substrate 1 or at the boundary between the microlens formation region 99 and the microlens non-formation region 100. It may be provided only in the vicinity. The microlens formation region 99 is a region where the microlens 7 is formed. The microlens-free region 100 is a region where the microlens 7 is not formed, and in the example shown in FIG. 1, a region outside the microlens-forming region 99.
【００８２】また、例えば、樹脂層４とガラス基板２、
または、樹脂層４とガラス層３との界面に、カップリン
グ剤を設けてもよい。Further, for example, the resin layer 4 and the glass substrate 2,
Alternatively, a coupling agent may be provided at the interface between the resin layer 4 and the glass layer 3.
【００８３】また、例えば、樹脂層４は、多層構造であ
ってもよい。この場合、第１の層４１は、ガラス基板２
に積層して設けることができ、第２の層４２は、第１の
層４１とガラス層３との間の任意の層に設けることがで
きる。Further, for example, the resin layer 4 may have a multilayer structure. In this case, the first layer 41 is formed of the glass substrate 2
The second layer 42 can be provided on any layer between the first layer 41 and the glass layer 3.
【００８４】以上述べたように、本発明のマイクロレン
ズ基板１は、高温環境を経るような場合でも、そり、た
わみ、剥離等の欠陥が生じにくい。ゆえに、本発明のマ
イクロレンズ基板１は、ＴＦＴ液晶パネルのような、製
造時に加熱工程を得るものの構成部材として最適であ
る。As described above, the microlens substrate 1 of the present invention hardly causes defects such as warpage, bending, and peeling even in a high-temperature environment. Therefore, the microlens substrate 1 of the present invention is most suitable as a constituent member of a TFT liquid crystal panel for which a heating step is obtained during manufacturing.
【００８５】本発明のマイクロレンズ基板は、以下に述
べる液晶パネル用対向基板および液晶パネル以外にも、
ＣＣＤ用マイクロレンズ基板、光通信素子用マイクロレ
ンズ基板等の各種基板、各種用途に用いることができる
ことは言うまでもない。The microlens substrate of the present invention can be used in addition to a liquid crystal panel counter substrate and a liquid crystal panel described below.
Needless to say, it can be used for various substrates such as a microlens substrate for a CCD and a microlens substrate for an optical communication element, and various uses.
【００８６】以上述べたようなマイクロレンズ基板１の
ガラス層３上に、例えば、開口１１１を有するブラック
マトリックス（遮光膜）１１を形成し、次いで、かかる
ブラックマトリックス１１を覆うように透明導電膜１２
を形成することにより、液晶パネル用対向基板１０を製
造することができる（図２参照）。For example, a black matrix (light shielding film) 11 having an opening 111 is formed on the glass layer 3 of the microlens substrate 1 as described above, and then a transparent conductive film 12 is formed so as to cover the black matrix 11.
Is formed, the counter substrate 10 for a liquid crystal panel can be manufactured (see FIG. 2).
【００８７】ブラックマトリックス１１は、例えば、C
r、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti等の金属、カーボンやチタ
ン等を分散した樹脂などで構成されている。The black matrix 11 is made of, for example, C
r, Al, Al alloy, metals such as Ni, Zn, Ti, etc., and resins in which carbon, titanium, etc. are dispersed.
【００８８】透明導電膜１２は、例えば、インジウムテ
ィンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（Ｉ
Ｏ）、酸化スズ（SnO2）などで構成されている。The transparent conductive film 12 is made of, for example, indium tin oxide (ITO), indium oxide (I
O), tin oxide (SnO 2 ) and the like.
【００８９】ブラックマトリックス１１は、例えば、ガ
ラス層３上に気相成膜法（例えば蒸着、スパッタリング
等）によりブラックマトリックス１１となる薄膜を成膜
し、次いで、かかる薄膜上に開口１１１のパターンを有
するレジスト膜（図示せず）を形成し、次いで、ウエッ
トエッチングを行い前記薄膜に開口１１１を形成し、次
いで、前記レジスト膜を除去することにより設けること
ができる。The black matrix 11 is formed, for example, by forming a thin film to be the black matrix 11 on the glass layer 3 by a vapor phase film forming method (for example, vapor deposition, sputtering, etc.) A resist film (not shown) is formed, followed by wet etching to form an opening 111 in the thin film, and then removing the resist film.
【００９０】また、透明導電膜１２は、例えば、蒸着、
スパッタリング等の気相成膜法により設けることができ
る。The transparent conductive film 12 is formed, for example, by evaporation,
It can be provided by a vapor phase film forming method such as sputtering.
【００９１】なお、ブラックマトリックス１１および透
明導電膜１２は、ガラス層３上ではなく、ガラス基板２
上に設けてもよい。The black matrix 11 and the transparent conductive film 12 are provided not on the glass layer 3 but on the glass substrate 2.
It may be provided above.
【００９２】なお、ブラックマトリックス１１は、設け
なくてもよい。Note that the black matrix 11 need not be provided.
【００９３】以下、このような液晶パネル用対向基板を
用いた液晶パネル（液晶光シャッター）について、図２
に基づいて説明する。Hereinafter, a liquid crystal panel (liquid crystal optical shutter) using such a counter substrate for a liquid crystal panel will be described with reference to FIG.
It will be described based on.
【００９４】図２に示すように、本発明の液晶パネル
（ＴＦＴ液晶パネル）１６は、ＴＦＴ基板（液晶駆動基
板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された液晶パネル用
対向基板１０と、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基
板１０との空隙に封入された液晶よりなる液晶層１８と
を有している。As shown in FIG. 2, the liquid crystal panel (TFT liquid crystal panel) 16 of the present invention comprises a TFT substrate (liquid crystal driving substrate) 17, an opposite substrate 10 for a liquid crystal panel joined to the TFT substrate 17, and a TFT substrate. 17 and a liquid crystal layer 18 made of liquid crystal sealed in a gap between the opposing substrate 10 for a liquid crystal panel.
【００９５】液晶パネル用対向基板１０は、マイクロレ
ンズ基板１と、かかるマイクロレンズ基板１のガラス層
３上に設けられ、開口１１１が形成されたブラックマト
リックス１１と、ガラス層３上にブラックマトリックス
１１を覆うように設けられた透明導電膜（共通電極）１
２とを有している。The opposing substrate 10 for a liquid crystal panel is provided on the microlens substrate 1, the black matrix 11 provided on the glass layer 3 of the microlens substrate 1 and having the opening 111 formed thereon, and the black matrix 11 Transparent conductive film (common electrode) 1 provided so as to cover
And 2.
【００９６】ＴＦＴ基板１７は、液晶層１８の液晶を駆
動するための基板であり、ガラス基板１７１と、かかる
ガラス基板１７１上に設けられた多数の個別電極１７２
と、かかる個別電極１７２の近傍に設けられ、各個別電
極１７２に対応する多数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
１７３とを有している。なお、図では、シール材、配向
膜、配線などの記載は省略した。The TFT substrate 17 is a substrate for driving the liquid crystal of the liquid crystal layer 18, and includes a glass substrate 171 and a large number of individual electrodes 172 provided on the glass substrate 171.
And a number of thin film transistors (TFTs) provided near the individual electrodes 172 and corresponding to the individual electrodes 172.
173. In the drawings, illustration of a seal material, an alignment film, wiring, and the like are omitted.
【００９７】この液晶パネル１６では、液晶パネル用対
向基板１０の透明導電膜１２と、ＴＦＴ基板１７の個別
電極１７２とが対向するように、ＴＦＴ基板１７と液晶
パネル用対向基板１０とが、一定距離離間して接合され
ている。In the liquid crystal panel 16, the TFT substrate 17 and the liquid crystal panel counter substrate 10 are fixed so that the transparent conductive film 12 of the liquid crystal panel counter substrate 10 and the individual electrode 172 of the TFT substrate 17 face each other. They are joined at a distance.
【００９８】ガラス基板１７１は、前述したような理由
から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。The glass substrate 171 is preferably made of quartz glass for the reasons described above.
【００９９】個別電極１７２は、透明導電膜（共通電
極）１２との間で充放電を行うことにより、液晶層１８
の液晶を駆動する。この個別電極１７２は、例えば、前
述した透明導電膜１２と同様の材料で構成されている。The individual electrodes 172 are charged and discharged with the transparent conductive film (common electrode) 12 to form the liquid crystal layer 18.
To drive the liquid crystal. The individual electrode 172 is made of, for example, the same material as the transparent conductive film 12 described above.
【０１００】薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応す
る個別電極１７２に接続されている。また、薄膜トラン
ジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、個別
電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、個
別電極１７２の充放電が制御される。The thin film transistor 173 is connected to the corresponding individual electrode 172 in the vicinity. Further, the thin film transistor 173 is connected to a control circuit (not shown) and controls a current supplied to the individual electrode 172. Thereby, the charge and discharge of the individual electrode 172 are controlled.
【０１０１】液晶層１８は液晶分子（図示せず）を含有
しており、個別電極１７２の充放電に対応して、かかる
液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。The liquid crystal layer 18 contains liquid crystal molecules (not shown), and the orientation of the liquid crystal molecules, that is, the liquid crystal changes in accordance with the charging and discharging of the individual electrodes 172.
【０１０２】この液晶パネル１６では、通常、１個のマ
イクロレンズ７と、かかるマイクロレンズ７の光軸Ｑに
対応したブラックマトリックス１１の１個の開口１１１
と、１個の個別電極１７２と、かかる個別電極１７２に
接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素
に対応している。In the liquid crystal panel 16, one micro lens 7 and one opening 111 of the black matrix 11 corresponding to the optical axis Q of the micro lens 7 are usually provided.
And one individual electrode 172 and one thin film transistor 173 connected to the individual electrode 172 correspond to one pixel.
【０１０３】液晶パネル用対向基板１０側から入射した
入射光Ｌは、ガラス基板２を通り、マイクロレンズ７を
通過する際に集光されつつ、樹脂層４（第１の層４１、
第２の層４２）、ガラス層３、ブラックマトリックス１
１の開口１１１、透明導電膜１２、液晶層１８、個別電
極１７２、ガラス基板１７１を透過する。なお、このと
き、マイクロレンズ基板１の入射側には通常偏光板（図
示せず）が配置されているので、入射光Ｌが液晶層１８
を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。そ
の際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層１８の液晶分
子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶
パネル１６を透過した入射光Ｌを、偏光板（図示せず）
に透過させることにより、出射光の輝度を制御すること
ができる。The incident light L entered from the liquid crystal panel counter substrate 10 side passes through the glass substrate 2 and is condensed when passing through the microlens 7 while the resin layer 4 (the first layer 41,
Second layer 42), glass layer 3, black matrix 1
1 through the opening 111, the transparent conductive film 12, the liquid crystal layer 18, the individual electrode 172, and the glass substrate 171. At this time, since a polarizing plate (not shown) is usually arranged on the incident side of the microlens substrate 1, the incident light L is
, The incident light L is linearly polarized. At this time, the polarization direction of the incident light L is controlled according to the alignment state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 18. Therefore, the incident light L transmitted through the liquid crystal panel 16 is converted into a polarizing plate (not shown).
, It is possible to control the brightness of the emitted light.
【０１０４】このように、液晶パネル１６は、マイクロ
レンズ７を有しており、しかも、マイクロレンズ７を通
過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス１
１の開口１１１を通過する。一方、ブラックマトリック
ス１１の開口１１１が形成されていない部分では、入射
光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１６では、
画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、
かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。この
ため、液晶パネル１６は、画素部で高い光の透過率を有
し、比較的小さい光量で明るく鮮明な画像を形成するこ
とができる。しかも、マイクロレンズ基板１は、前述し
た効果を有しているので、各画素ごとの出射光の輝度
は、均一なものとなる。As described above, the liquid crystal panel 16 has the microlenses 7, and the incident light L passing through the microlenses 7 is condensed to form the black matrix 1.
1 through the opening 111. On the other hand, in a portion of the black matrix 11 where the opening 111 is not formed, the incident light L is blocked. Therefore, in the liquid crystal panel 16,
Leakage of unnecessary light from parts other than pixels is prevented,
In addition, attenuation of the incident light L at the pixel portion is suppressed. Therefore, the liquid crystal panel 16 has a high light transmittance in the pixel portion, and can form a bright and clear image with a relatively small amount of light. Moreover, since the microlens substrate 1 has the above-described effects, the brightness of the emitted light for each pixel becomes uniform.
【０１０５】この液晶パネル１６は、例えば、公知の方
法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向
基板１０とを配向処理した後、シール材（図示せず）を
介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空
隙部の封入孔（図示せず）より液晶を空隙部内に注入
し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造するこ
とができる。その後、必要に応じて、液晶パネル１６の
入射側や出射側に偏光板を貼り付けてもよい。The liquid crystal panel 16 is, for example, subjected to an orientation treatment of a TFT substrate 17 manufactured by a known method and a counter substrate 10 for a liquid crystal panel, and then joined together via a sealing material (not shown). Next, a liquid crystal can be injected into the gap from a sealing hole (not shown) in the gap formed by this, and then the sealing hole can be closed to produce a liquid crystal display. Thereafter, if necessary, a polarizing plate may be attached to the entrance side or the exit side of the liquid crystal panel 16.
【０１０６】なお、上記液晶パネル１６では、液晶駆動
基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦ
Ｔ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、
ＳＴＮ基板などを用いてもよい。In the liquid crystal panel 16, a TFT substrate is used as a liquid crystal driving substrate.
A liquid crystal driving substrate other than the T substrate, for example, a TFD substrate,
An STN substrate or the like may be used.
【０１０７】以下、上記液晶パネル１６を用いた投射型
表示装置について説明する。Hereinafter, a projection type display device using the liquid crystal panel 16 will be described.
【０１０８】図３は、本発明の投射型表示装置の光学系
を模式的に示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing the optical system of the projection display device of the present invention.
【０１０９】同図に示すように、投射型表示装置３００
は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備え
た照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備え
た色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤
色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）
２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ
（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した
（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレ
イ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラ
ー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイック
ミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム
（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２
２とを有している。As shown in FIG.
Is a light source 301, an illumination optical system including a plurality of integrator lenses, a color separation optical system (a light guiding optical system) including a plurality of dichroic mirrors, and a liquid crystal light valve corresponding to red (for red). (Liquid crystal optical shutter array)
24, a liquid crystal light valve (for liquid crystal shutter array) 25 for green (for green), a liquid crystal light valve (for liquid crystal shutter array) 26 for blue (for blue), and reflects only red light Dichroic prism (color synthesizing optical system) 21 having a dichroic mirror surface 211 and a dichroic mirror surface 212 that reflects only blue light, and a projection lens (projection optical system) 2
And 2.
【０１１０】また、照明光学系は、インテグレータレン
ズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、
ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を
反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラ
ー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー
３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー
（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ
３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有し
ている。Further, the illumination optical system has integrator lenses 302 and 303. The color separation optics
Mirrors 304, 306, 309, dichroic mirror 305 that reflects blue light and green light (transmits only red light), dichroic mirror 307 that reflects only green light, dichroic mirror that reflects only blue light (or blue light (Reflecting mirror) 308 and condensing lenses 310, 311, 312, 313 and 314.
【０１１１】液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パ
ネル１６と、液晶パネル１６の入射面側（マイクロレン
ズ基板が位置する面側、すなわちダイクロイックプリズ
ム２１と反対側）に接合された第１の偏光板（図示せ
ず）と、液晶パネル１６の出射面側（マイクロレンズ基
板と対向する面側、すなわちダイクロイックプリズム２
１側）に接合された第２の偏光板（図示せず）とを備え
ている。液晶ライトバルブ２４および２６も、液晶ライ
トバルブ２５と同様の構成となっている。これら液晶ラ
イトバルブ２４、２５および２６が備えている液晶パネ
ル１６は、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されてい
る。The liquid crystal light valve 25 is composed of the above-described liquid crystal panel 16 and a first polarizing plate joined to the incident surface side of the liquid crystal panel 16 (the surface side where the microlens substrate is located, ie, the side opposite to the dichroic prism 21). (Not shown) and the exit surface side of the liquid crystal panel 16 (the surface side facing the microlens substrate, ie, the dichroic prism 2).
1) and a second polarizing plate (not shown) bonded to the first polarizing plate. The liquid crystal light valves 24 and 26 have the same configuration as the liquid crystal light valve 25. The liquid crystal panel 16 included in each of the liquid crystal light valves 24, 25, and 26 is connected to a drive circuit (not shown).
【０１１２】なお、投射型表示装置３００では、ダイク
ロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロ
ック２０が構成されている。また、この光学ブロック２
０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設
置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、
表示ユニット２３が構成されている。In the projection display device 300, the dichroic prism 21 and the projection lens 22 constitute the optical block 20. Also, this optical block 2
0, and liquid crystal light valves 24, 25 and 26 fixedly mounted on the dichroic prism 21,
The display unit 23 is configured.
【０１１３】以下、投射型表示装置３００の作用を説明
する。The operation of the projection display device 300 will be described below.
【０１１４】光源３０１から出射された白色光（白色光
束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透
過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグ
レータレンズ３０２および３０３により均一にされる。The white light (white light beam) emitted from the light source 301 passes through the integrator lenses 302 and 303. The light intensity (luminance distribution) of this white light is made uniform by the integrator lenses 302 and 303.
【０１１５】インテグレータレンズ３０２および３０３
を透過した白色光は、ミラー３０４で図３中左側に反射
し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光
（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図３
中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラ
ー３０５を透過する。Integrator lenses 302 and 303
3 is reflected by the mirror 304 to the left in FIG. 3, and the blue light (B) and the green light (G) of the reflected light are respectively reflected by the dichroic mirror 305 in FIG.
The red light (R) reflected toward the middle and lower sides is transmitted through the dichroic mirror 305.
【０１１６】ダイクロイックミラー３０５を透過した赤
色光は、ミラー３０６で図３中下側に反射し、その反射
光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶
ライトバルブ２４に入射する。The red light transmitted through the dichroic mirror 305 is reflected by the mirror 306 downward in FIG. 3, and the reflected light is shaped by the condenser lens 310 and enters the liquid crystal light valve 24 for red.
【０１１７】ダイクロイックミラー３０５で反射した青
色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミ
ラー３０７で図３中左側に反射し、青色光は、ダイクロ
イックミラー３０７を透過する。The green light of the blue light and the green light reflected by the dichroic mirror 305 is reflected by the dichroic mirror 307 to the left in FIG. 3, and the blue light passes through the dichroic mirror 307.
【０１１８】ダイクロイックミラー３０７で反射した緑
色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液
晶ライトバルブ２５に入射する。The green light reflected by the dichroic mirror 307 is shaped by the condenser lens 311 and enters the liquid crystal light valve 25 for green.
【０１１９】また、ダイクロイックミラー３０７を透過
した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）
３０８で図３中左側に反射し、その反射光は、ミラー３
０９で図３中上側に反射する。前記青色光は、集光レン
ズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用
の液晶ライトバルブ２６に入射する。Further, the blue light transmitted through the dichroic mirror 307 is reflected by the dichroic mirror (or mirror).
At 308, the light is reflected to the left in FIG.
At 09, the light is reflected upward in FIG. The blue light is shaped by the condenser lenses 312, 313, and 314, and enters the liquid crystal light valve 26 for blue.
【０１２０】このように、光源３０１から出射された白
色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の
三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバ
ルブに導かれ、入射する。As described above, the white light emitted from the light source 301 is color-separated into the three primary colors of red, green and blue by the color separation optical system, respectively, guided to the corresponding liquid crystal light valves, and entered.
【０１２１】この際、液晶ライトバルブ２４が有する液
晶パネル１６の各画素（薄膜トランジスタ１７３とこれ
に接続された個別電極１７２）は、赤色用の画像信号に
基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッ
チング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。At this time, each pixel (the thin film transistor 173 and the individual electrode 172 connected to the thin film transistor 173) of the liquid crystal panel 16 included in the liquid crystal light valve 24 is driven by a driving circuit (driving means) that operates based on a red image signal. , Switching control (ON / OFF), that is, modulation.
【０１２２】同様に、緑色光および青色光は、それぞ
れ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞ
れの液晶パネル１６で変調され、これにより緑色用の画
像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライ
トバルブ２５が有する液晶パネル１６の各画素は、緑色
用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッ
チング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パ
ネル１６の各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動
する駆動回路によりスイッチング制御される。Similarly, the green light and the blue light enter the liquid crystal light valves 25 and 26, respectively, and are modulated by the respective liquid crystal panels 16, whereby a green image and a blue image are formed. At this time, each pixel of the liquid crystal panel 16 included in the liquid crystal light valve 25 is switching-controlled by a drive circuit that operates based on an image signal for green, and each pixel of the liquid crystal panel 16 included in the liquid crystal light valve 26 is controlled for blue. The switching is controlled by a drive circuit that operates based on the image signal.
【０１２３】これにより赤色光、緑色光および青色光
は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６
で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用
の画像がそれぞれ形成される。As a result, the red light, green light and blue light are respectively transmitted to the liquid crystal light valves 24, 25 and 26.
, And a red image, a green image, and a blue image are respectively formed.
【０１２４】前記液晶ライトバルブ２４により形成され
た赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの
赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に
入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図３中左側に
反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出
射面２１６から出射する。The image for red color formed by the liquid crystal light valve 24, that is, the red light from the liquid crystal light valve 24 enters the dichroic prism 21 from the surface 213 and is reflected by the dichroic mirror surface 211 to the left in FIG. The light passes through the dichroic mirror surface 212 and exits from the exit surface 216.
【０１２５】また、前記液晶ライトバルブ２５により形
成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５
からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム
２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２
１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。The image for green color formed by the liquid crystal light valve 25, that is, the liquid crystal light valve 25
From the surface 214 enters the dichroic prism 21 from the surface 214, and the dichroic mirror surfaces 211 and 2
12 respectively, and exit from the exit surface 216.
【０１２６】また、前記液晶ライトバルブ２６により形
成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６
からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム
２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図３中
左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過し
て、出射面２１６から出射する。The blue image formed by the liquid crystal light valve 26, that is, the liquid crystal light valve 26
From the surface 215 enters the dichroic prism 21, is reflected on the dichroic mirror surface 212 to the left in FIG. 3, passes through the dichroic mirror surface 211, and exits from the emission surface 216.
【０１２７】このように、前記液晶ライトバルブ２４、
２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバ
ルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、
ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによ
りカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ
２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３
２０上に投影（拡大投射）される。As described above, the liquid crystal light valve 24,
Light of each color from 25 and 26, ie, each image formed by the liquid crystal light valves 24, 25 and 26,
The images are synthesized by the dichroic prism 21, whereby a color image is formed. This image is projected on the screen 3 installed at a predetermined position by the projection lens 22.
20 is projected (enlarged projection).
【０１２８】このとき、投射型表示装置３００は、前述
したマイクロレンズ基板を有しているので、均一で明る
さむらのない画像をスクリーンに投射することができ
る。At this time, since the projection display device 300 has the above-described microlens substrate, it is possible to project a uniform and uniform image on the screen.
【０１２９】[0129]
【実施例】（実施例１〜６）樹脂層が下記表１に示すよ
うな構成のマイクロレンズ基板を、それぞれ製造した。EXAMPLES (Examples 1 to 6) Microlens substrates having resin layers having the constitutions shown in Table 1 below were manufactured.
【０１３０】樹脂、、、、の材料、諸特性
は、下記表２に示す通りである。補足すると、樹脂〜
は、紫外線硬化性樹脂であり、樹脂は、熱硬化性樹
脂である。なお、表１中のカップリング剤とは、第１の
層と第２の層との間のカップリング剤である。The materials and characteristics of the resins are as shown in Table 2 below. To supplement, resin ~
Is an ultraviolet curable resin, and the resin is a thermosetting resin. Note that the coupling agent in Table 1 is a coupling agent between the first layer and the second layer.
【０１３１】[0131]
【表１】 [Table 1]
【表２】 [Table 2]
【０１３２】まず、母材として、厚さ１mmの未加工の石
英ガラス基板を用意した。次に、この石英ガラス基板を
８５℃の洗浄液（硫酸と過酸化水素水との混合液）に浸
漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。First, an unprocessed quartz glass substrate having a thickness of 1 mm was prepared as a base material. Next, this quartz glass substrate was immersed in a cleaning liquid (a mixed liquid of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution) at 85 ° C. to perform cleaning, thereby cleaning the surface.
【０１３３】−１− この石英ガラス基板の表面および
裏面に、ＣＶＤ法により、厚さ０．４μｍの多結晶シリ
コンの膜を形成した。-1- A 0.4 μm-thick polycrystalline silicon film was formed on the front and back surfaces of the quartz glass substrate by a CVD method.
【０１３４】これは、石英ガラス基板を、６００℃、８
０Paに設定したＣＶＤ炉内に入れ、SiH4を３００mL／分
の速度で供給することにより行った。In this method, a quartz glass substrate was heated at 600 ° C. for 8 hours.
This was carried out by placing the sample in a CVD furnace set to 0 Pa and supplying SiH 4 at a rate of 300 mL / min.
【０１３５】−２− 次に、形成した多結晶シリコン膜
に、形成する凹部に対応した開口を形成した。-2- Next, an opening corresponding to the concave portion to be formed was formed in the formed polycrystalline silicon film.
【０１３６】これは、次のようにして行った。まず、多
結晶シリコン膜上に、フォトレジストにより、形成する
凹部のパターンを有するレジスト層を形成した。次に、
多結晶シリコン膜に対してＣＦガスによるドライエッチ
ングを行ない、開口を形成した。次に、前記レジスト層
を除去した。This was performed as follows. First, a resist layer having a pattern of a concave portion to be formed was formed on a polycrystalline silicon film using a photoresist. next,
An opening was formed in the polycrystalline silicon film by performing dry etching using CF gas. Next, the resist layer was removed.
【０１３７】−３− 次に、石英ガラス基板をエッチン
グ液（１０％フッ酸＋１０％グリセリンの混合水溶液）
に浸漬してウエットエッチングを行い、石英ガラス基板
上に凹部を形成した。-3- Next, the quartz glass substrate is etched with an etching solution (a mixed aqueous solution of 10% hydrofluoric acid + 10% glycerin).
To form a recess on the quartz glass substrate.
【０１３８】−４− 次に、石英ガラス基板を、１５％
テトラメチル水酸化アンモニウム水溶液に浸漬して、表
面および裏面に形成した多結晶シリコン膜を除去した。-4- Next, the quartz glass substrate was
The polycrystalline silicon film formed on the front and back surfaces was removed by immersion in an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide.
【０１３９】−５− 次に、かかる石英ガラス基板の凹
部が形成された面に、ディスペンサーを用いて、硬化後
の厚さが５μｍとなるように、未硬化の上記樹脂、
または（樹脂（１））を塗布した。-5. Next, on the surface of the quartz glass substrate on which the concave portions are formed, use a dispenser so that the cured resin has a thickness of 5 μm,
Or (Resin (1)) was applied.
【０１４０】−６− 次に、別途用意した石英ガラス製
カバーガラス上に、スピンコートにより、硬化後の厚さ
が５μｍとなるように、未硬化の上記樹脂または
（樹脂（２））を塗布した。このとき、必要に応じ（表
１参照）、塗布した樹脂上に、シラン系カップリング剤
（信越化学工業（株）製「ＫＢＭ−５０３」）をスピン
コートにより塗布した（厚さ０．０５μｍ）。-6 Next, the uncured resin or (resin (2)) is applied onto a separately prepared quartz glass cover glass by spin coating so that the thickness after curing becomes 5 μm. did. At this time, if necessary (see Table 1), a silane coupling agent (“KBM-503” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was applied onto the applied resin by spin coating (thickness: 0.05 μm). .
【０１４１】−７− 次に、石英ガラス基板とカバーガ
ラスとを接合し、上記樹脂またはと上記樹脂、
またはとを密着させた。-7- Next, the quartz glass substrate and the cover glass are joined, and the above resin or the above resin,
Or was brought into close contact.
【０１４２】−８− 次に、樹脂を硬化させ、第１の層
と第２の層とを有する樹脂層を形成した。-8- Next, the resin was cured to form a resin layer having a first layer and a second layer.
【０１４３】樹脂は、紫外線の照射または加熱により硬
化させた。このとき、紫外線の照射量、加熱温度等の硬
化条件は、樹脂メーカー推奨の硬化条件に準じたものと
した。The resin was cured by irradiation with ultraviolet light or heating. At this time, the curing conditions such as the irradiation amount of the ultraviolet rays and the heating temperature were based on the curing conditions recommended by the resin manufacturer.
【０１４４】−９− 最後に、カバーガラスを厚さ５０
μｍに研削、研磨して、図１に示すような構造のマイク
ロレンズ基板を得た。-9- Lastly, cover glass was applied to a thickness of 50
By grinding and polishing to a micrometer, a microlens substrate having a structure as shown in FIG. 1 was obtained.
【０１４５】（比較例１〜３）第２の層を形成しなかっ
た以外は、前記実施例と同様にしてマイクロレンズ基板
を製造した。すなわち、カバーガラス上に樹脂を塗布し
なかった以外は、前記実施例と同様にしてマイクロレン
ズ基板を製造した。なお、石英ガラス基板上に塗布した
樹脂については、表１に示す通りである。(Comparative Examples 1 to 3) A microlens substrate was manufactured in the same manner as in the above example, except that the second layer was not formed. That is, a microlens substrate was manufactured in the same manner as in the above example except that the resin was not applied on the cover glass. The resin applied on the quartz glass substrate is as shown in Table 1.
【０１４６】（評価）各実施例および各比較例で得られ
たマイクロレンズ基板に、スパッタリング法およびフォ
トリソグラフィー法を用いて、カバーガラスのマイクロ
レンズに対応した位置に開口が設けられた厚さ０．１６
μｍの遮光膜（Ｃｒ膜）、すなわち、ブラックマトリッ
クスを形成した。さらに、ブラックマトリックス上に厚
さ０．１５μｍのＩＴＯ膜（透明導電膜）をスパッタリ
ング法により形成し、液晶パネル用対向基板を製造し
た。(Evaluation) Using a sputtering method and a photolithography method, the microlens substrates obtained in each of the examples and the comparative examples were formed by a sputtering method and a photolithography method. .16
A light-shielding film (Cr film) of μm, that is, a black matrix was formed. Further, an ITO film (transparent conductive film) having a thickness of 0.15 μm was formed on the black matrix by a sputtering method, thereby manufacturing a counter substrate for a liquid crystal panel.
【０１４７】そして、これら各液晶パネル用対向基板に
ついて、それぞれ、石英ガラス基板側から光を透過させ
た。このとき、各画素ごとに出射光の輝度にむら（バラ
ツキ）があるか否かを、目視および光量測定装置により
確認した。その結果を表３に示す。なお、評価基準は以
下の通りである。 ○：出射光の輝度にむらは確認されなかった。 △：出射光の輝度にむらが若干確認された。 ×：出射光の輝度にむらがはっきりと確認された。Light was transmitted from the quartz glass substrate side to each of the opposing substrates for liquid crystal panels. At this time, whether or not the brightness of the emitted light was uneven (variable) for each pixel was checked visually and by a light quantity measuring device. Table 3 shows the results. The evaluation criteria are as follows. ：: No unevenness was observed in the luminance of the emitted light. Δ: Some unevenness was observed in the luminance of the emitted light. ×: Unevenness was clearly confirmed in the luminance of the emitted light.
【０１４８】さらに、これらの液晶パネル用対向基板
を、１５０℃×１時間加熱した。加熱後、歪み測定装置
（ＺＹＧＯ社製「ＧＰＩ−ＸＰＨＲ」）を用いて、カバ
ーガラスのゆがみを測定した。それらの結果を併せて下
記表３に示す。なお、評価基準は以下の通りである。こ
こで、基準面とは、カバーガラスの平均厚さから求めら
れるカバーガラス表面の位置をいう。 ◎：カバーガラス表面で、基準面から最大高さを有する
部分の高さおよび最大深さを有する部分の深さが±０．
５μｍ以内のもの ○：カバーガラス表面で、基準面から最大高さを有する
部分の高さおよび最大深さを有する部分の深さが±０．
５μｍを超え、±１．５μｍ以内のもの △：カバーガラス表面で、基準面から最大高さを有する
部分の高さおよび最大深さを有する部分の深さが±１．
５μｍを超え、±２．０μｍ以内のもの ×：カバーガラス表面で、基準面から最大高さを有する
部分の高さおよび最大深さを有する部分の深さが±２．
０μｍを超えるものFurther, these counter substrates for liquid crystal panels were heated at 150 ° C. × 1 hour. After the heating, the distortion of the cover glass was measured using a strain measurement device (“GPI-XPHR” manufactured by ZYGO). The results are shown in Table 3 below. The evaluation criteria are as follows. Here, the reference plane refers to the position of the surface of the cover glass obtained from the average thickness of the cover glass. ：: The height of the portion having the maximum height from the reference surface and the depth of the portion having the maximum depth on the surface of the cover glass were ± 0.
Within 5 μm ○: On the surface of the cover glass, the height of the portion having the maximum height from the reference surface and the depth of the portion having the maximum depth are ± 0.
More than 5 μm and within ± 1.5 μm Δ: On the surface of the cover glass, the height of the portion having the maximum height from the reference surface and the depth of the portion having the maximum depth are ± 1.
× 5 μm and within ± 2.0 μm ×: The height of the portion having the maximum height from the reference surface and the depth of the portion having the maximum depth from the reference surface are ± 2.
Thickness exceeding 0 μm
【０１４９】[0149]
【表３】 表３の結果から分かるように、本発明によれば、マイク
ロレンズ基板のそり、たわみ等の欠陥が防止でき、出射
光の輝度が均一なマイクロレンズ基板を得られることが
分かる。[Table 3] As can be seen from the results shown in Table 3, according to the present invention, defects such as warpage and deflection of the microlens substrate can be prevented, and a microlens substrate having uniform luminance of emitted light can be obtained.
【０１５０】各実施例で得られたマイクロレンズ基板か
ら得た液晶パネル用対向基板より、図２に示すような構
造の液晶パネル、さらには、図３に示すような構造の液
晶プロジェクター（投射型表示装置）を製造したとこ
ろ、得られた各液晶プロジェクターは、いずれも、スク
リーン上に、明るく鮮明で、明るさむらのない画像を投
射できた。A liquid crystal panel having a structure as shown in FIG. 2 and a liquid crystal projector (projection type) having a structure as shown in FIG. 3 were obtained from the counter substrate for a liquid crystal panel obtained from the microlens substrate obtained in each of the examples. Display device), each of the obtained liquid crystal projectors could project a bright, clear, and uniform image on the screen.
【０１５１】[0151]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、そ
り、たわみ、剥離等の欠陥が生じにくいマイクロレンズ
基板を提供することができる。これにより、出射光の明
るさむらを抑制することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a microlens substrate in which defects such as warpage, deflection, and peeling are less likely to occur. Thereby, uneven brightness of the emitted light can be suppressed.
【０１５２】さらには、本発明によれば、明るさむらの
ない画像を投射可能な液晶パネル、さらには、投射型表
示装置を提供することができる。Further, according to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal panel capable of projecting an image without uneven brightness, and a projection display device.
【図１】本発明のマイクロレンズ基板の実施形態を示す
模式的な縦断面図である。FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view showing an embodiment of a microlens substrate of the present invention.
【図２】本発明の液晶パネルの実施例を示す模式的な縦
断面図である。FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view showing an embodiment of the liquid crystal panel of the present invention.
【図３】本発明の実施例における投射型表示装置の光学
系を模式的に示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically illustrating an optical system of a projection display device according to an embodiment of the present invention.
【図４】従来のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断
面図である。FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view showing a conventional microlens substrate.
１ マイクロレンズ基板 ２ ガラス基板 ３ ガラス層 ４ 樹脂層 ４１ 第１の層 ４２ 第２の層 ６ 凹部 ７ マイクロレンズ ９９ マイクロレンズ形成領域 １００ マイクロレンズ非形成領域 １０ 液晶パネル用対向基板 １１ ブラックマトリックス １１１ 開口 １２ 透明導電膜 １６ 液晶パネル １７ ＴＦＴ基板 １７１ ガラス基板 １７２ 個別電極 １７３ 薄膜トランジスタ １８ 液晶層 ２０ 光学ブロック ２１ ダイクロイックプリズム ２１１、２１２ ダイクロイックミラー面 ２１３〜２１５ 面 ２１６ 出射面 ２２ 投射レンズ ２３ 表示ユニット ２４〜２６ 液晶ライトバルブ ３００ 投射型表示装置 ３０１ 光源 ３０２、３０３ インテグレータレンズ ３０４、３０６、３０９ ミラー ３０５、３０７、３０８ ダイクロイックミラー ３１０〜３１４ 集光レンズ ３２０ スクリーン ９００ マイクロレンズ基板 ９０２ ガラス基板 ９０３ ガラス層 ９０４ 樹脂層 ９０６ 凹部 ９０７ マイクロレンズ ９０８ マイクロレンズ非形成領域 ９０９ マイクロレンズ形成領域 Reference Signs List 1 microlens substrate 2 glass substrate 3 glass layer 4 resin layer 41 first layer 42 second layer 6 concave portion 7 microlens 99 microlens forming region 100 microlens non-forming region 10 counter substrate for liquid crystal panel 11 black matrix 111 opening Reference Signs List 12 transparent conductive film 16 liquid crystal panel 17 TFT substrate 171 glass substrate 172 individual electrode 173 thin film transistor 18 liquid crystal layer 20 optical block 21 dichroic prism 211, 212 dichroic mirror surface 213 to 215 surface 216 emission surface 22 projection lens 23 display unit 24 to 26 liquid crystal Light valve 300 Projection display device 301 Light source 302, 303 Integrator lens 304, 306, 309 Mirror 305, 307, 308 Dichroic mirror 310 to 31 A condenser lens 320 screen 900 microlens substrate 902 glass substrate 903 of glass layer 904 a resin layer 906 recess 907 micro-lenses 908 microlens unformed regions 909 forming microlenses region
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山下 秀人 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H091 FA29Z FA35Y FB02 FC25 FD06 FD15 GA03 GA13 LA02 LA03 LA04 MA07 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hideto Yamashita 3-5-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko Epson Corporation F-term (reference) 2H091 FA29Z FA35Y FB02 FC25 FD06 FD15 GA03 GA13 LA02 LA03 LA04 MA07
Claims (16)
該ガラス基板に樹脂層を介して接合されたガラス層とを
有し、前記凹部内に充填された樹脂によりマイクロレン
ズが構成されたマイクロレンズ基板であって、 前記樹脂層は、少なくともその一部が前記マイクロレン
ズを構成する第１の層と、該第１の層を構成する樹脂よ
り柔らかい樹脂で構成された第２の層とを有することを
特徴とするマイクロレンズ基板。1. A glass substrate provided with a number of concave portions,
A microlens substrate having a glass layer bonded to the glass substrate via a resin layer, wherein a microlens is formed by a resin filled in the concave portion, wherein the resin layer has at least a part thereof. Is a microlens substrate comprising: a first layer forming the microlens; and a second layer formed of a resin softer than the resin forming the first layer.
硬度は、５０〜１５０である請求項１に記載のマイクロ
レンズ基板。2. Shore D of a resin constituting the first layer
The microlens substrate according to claim 1, wherein the hardness is 50 to 150.
硬度は、５〜１００である請求項１または２に記載のマ
イクロレンズ基板。3. Shore D of a resin constituting the second layer
The microlens substrate according to claim 1, wherein the hardness is 5 to 100.
硬度をＡ、前記第２の層を構成する樹脂のショアＤ硬度
をＢとしたとき、Ｂ／Ａは、０．０３〜０．９である請
求項１ないし３のいずれかに記載のマイクロレンズ基
板。4. Shore D of the resin constituting the first layer
The microlens according to any one of claims 1 to 3, wherein B / A is 0.03 to 0.9 when the hardness is A and the Shore D hardness of the resin constituting the second layer is B. substrate.
移点Ｔｇが５０℃以下である請求項１ないし４のいずれ
かに記載のマイクロレンズ基板。5. The microlens substrate according to claim 1, wherein the resin constituting the second layer has a glass transition point Tg of 50 ° C. or less.
である請求項１ないし５のいずれかに記載のマイクロレ
ンズ基板。6. The thickness of the second layer is 0.1 to 50 μm.
The microlens substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein
移点Ｔｇ以上の温度における熱膨張係数をＨ、前記第２
の層を構成する樹脂のガラス転移点Ｔｇ以上の温度にお
ける熱膨張係数をＩとしたとき、Ｈ／Ｉは、０．１〜１
０である請求項１ないし６のいずれかに記載のマイクロ
レンズ基板。7. The resin constituting the first layer has a thermal expansion coefficient H at a temperature equal to or higher than the glass transition point Tg,
When the coefficient of thermal expansion at a temperature equal to or higher than the glass transition point Tg of the resin constituting the layer is represented by I, H / I is 0.1 to 1
The microlens substrate according to claim 1, wherein the value is 0.
分に、カップリング剤が設けられた部分を有する請求項
１ないし７のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。8. The microlens substrate according to claim 1, further comprising a portion provided with a coupling agent at a boundary between the first layer and the second layer.
りも、前記第２の層を構成する樹脂の屈折率の方が小さ
い請求項１ないし８のいずれかに記載のマイクロレンズ
基板。9. The microlens substrate according to claim 1, wherein the refractive index of the resin forming the second layer is smaller than the refractive index of the resin forming the first layer. .
マイクロレンズ基板と、前記ガラス層上または前記ガラ
ス基板上に設けられた透明導電膜とを有することを特徴
とする液晶パネル用対向基板。10. A counter substrate for a liquid crystal panel, comprising: the microlens substrate according to claim 1; and a transparent conductive film provided on the glass layer or the glass substrate. .
マイクロレンズ基板と、前記ガラス層上または前記ガラ
ス基板上に設けられたブラックマトリックスと、該ブラ
ックマトリックスを覆う透明導電膜とを有することを特
徴とする液晶パネル用対向基板。11. A microlens substrate according to claim 1, comprising: a black matrix provided on the glass layer or the glass substrate; and a transparent conductive film covering the black matrix. A counter substrate for a liquid crystal panel.
ネル用対向基板を備えたことを特徴とする液晶パネル。12. A liquid crystal panel comprising the counter substrate for a liquid crystal panel according to claim 10.
液晶駆動基板に接合された請求項１０または１１に記載
の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と前記液
晶パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有す
ることを特徴とする液晶パネル。13. A liquid crystal driving substrate provided with individual electrodes, the liquid crystal panel opposing substrate according to claim 10 bonded to the liquid crystal driving substrate, the liquid crystal driving substrate and the liquid crystal panel opposing substrate. And a liquid crystal sealed in the voids.
請求項１３に記載の液晶パネル。14. The liquid crystal panel according to claim 13, wherein the liquid crystal driving substrate is a TFT substrate.
載の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライト
バルブを少なくとも１個用いて画像を投射することを特
徴とする投射型表示装置。15. A projection type display device comprising a light valve provided with the liquid crystal panel according to claim 12, wherein at least one light valve is used to project an image.
に対応した３つのライトバルブと、光源と、該光源から
の光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記各光を
対応する前記ライトバルブに導く色分離光学系と、前記
各画像を合成する色合成光学系と、前記合成された画像
を投射する投射光学系とを有する投射型表示装置であっ
て、 前記ライトバルブは、請求項１２ないし１４のいずれか
に記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする投射型表
示装置。16. A light valve corresponding to red, green, and blue for forming an image, a light source, and light from the light source is separated into red, green, and blue light, and each of the lights is divided into the corresponding light. A projection type display device having a color separation optical system for leading to a light valve, a color synthesis optical system for synthesizing the images, and a projection optical system for projecting the synthesized image, wherein the light valve is Item 15. A projection display device comprising the liquid crystal panel according to any one of Items 12 to 14.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32701599A JP2001141909A (en) | 1999-11-17 | 1999-11-17 | Microlens substrate, counter substrate for liquid crystal panel, liquid crystal panel and projection display device |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP32701599A JP2001141909A (en) | 1999-11-17 | 1999-11-17 | Microlens substrate, counter substrate for liquid crystal panel, liquid crystal panel and projection display device |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001141909A true JP2001141909A (en) | 2001-05-25 |
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| JP32701599A Withdrawn JP2001141909A (en) | 1999-11-17 | 1999-11-17 | Microlens substrate, counter substrate for liquid crystal panel, liquid crystal panel and projection display device |
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| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1732362A1 (en) * | 2004-03-31 | 2006-12-13 | Dainippon Printing Co., Ltd. | Liquid crystal panel-use base film, liquid crystal panel-use functional film, production method of functional film, production device of functional film |
| CN103941373A (en) * | 2013-01-22 | 2014-07-23 | 奇景光电股份有限公司 | Wafer level optical lens structure |
| US9279964B2 (en) | 2013-01-22 | 2016-03-08 | Himax Technologies Limited | Wafer level optical lens structure |
| JP2017181787A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | ソニー株式会社 | Display device, optical element, and electronic apparatus |
-
1999
- 1999-11-17 JP JP32701599A patent/JP2001141909A/en not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1732362A1 (en) * | 2004-03-31 | 2006-12-13 | Dainippon Printing Co., Ltd. | Liquid crystal panel-use base film, liquid crystal panel-use functional film, production method of functional film, production device of functional film |
| EP1732362A4 (en) * | 2004-03-31 | 2009-02-25 | Dainippon Printing Co Ltd | Liquid crystal panel-use base film, liquid crystal panel-use functional film, production method of functional film, production device of functional film |
| CN103941373A (en) * | 2013-01-22 | 2014-07-23 | 奇景光电股份有限公司 | Wafer level optical lens structure |
| JP2014142640A (en) * | 2013-01-22 | 2014-08-07 | Himax Optelectronics Corp | Wafer level optical lens structure |
| US9279964B2 (en) | 2013-01-22 | 2016-03-08 | Himax Technologies Limited | Wafer level optical lens structure |
| JP2017181787A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | ソニー株式会社 | Display device, optical element, and electronic apparatus |
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