JP2001135081A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2001135081A
JP2001135081A JP31807099A JP31807099A JP2001135081A JP 2001135081 A JP2001135081 A JP 2001135081A JP 31807099 A JP31807099 A JP 31807099A JP 31807099 A JP31807099 A JP 31807099A JP 2001135081 A JP2001135081 A JP 2001135081A
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JP
Japan
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level
signal
circuit
control signal
potential
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JP31807099A
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Susumu Tanida
進 谷田
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which generates stable internal power source potential and is small in layout area. SOLUTION: In a VPP generating circuit of a SDRAM, when at least one side out of an active level detecting signal ϕ2 and a standby level detecting signal ϕ3 is a 'H' level, an active pump control circuit 4 makes a signal ϕ4 a 'H' level, and puts charge pumps 6a-6d, 7a-7d into an operable state. Even when only one bank is activated for a long time and the signal ϕ2 is not varied keeping a 'L' level, since the signals ϕ3, ϕ4 are made a 'H' level, the charge pump 6a-6d, 7a-7d are put into an operable state. Thus, a boosting potential VPP is stabilized, and pool capacity 10, 11 may be small.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体装置に関
し、特に、スタンバイ状態とアクティブ状態を有する内
部回路を備えた半導体装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device having an internal circuit having a standby state and an active state.

【0002】[0002]

【従来の技術】図19は、従来のシンクロナスDRAM
(以下、SDRAMと称す)の概略構成を示すブロック
図である。図19において、このSDRAMは、クロッ
クバッファ101、制御信号バッファ102、アドレス
バッファ103、モードレジスタ104、制御回路10
5、4つのメモリアレイ106〜109(バンク♯0〜
♯3)、およびI/Oバッファ110を備える。
FIG. 19 shows a conventional synchronous DRAM.
FIG. 1 is a block diagram illustrating a schematic configuration of an SDRAM (hereinafter, referred to as an SDRAM). In FIG. 19, this SDRAM comprises a clock buffer 101, a control signal buffer 102, an address buffer 103, a mode register 104, a control circuit 10
5, four memory arrays 106 to 109 (banks # 0 to # 0)
# 3), and an I / O buffer 110.

【0003】クロックバッファ101は、外部制御信号
CKEによって活性化され、外部クロック信号CLKを
制御信号バッファ102、アドレスバッファ103およ
び制御回路105に伝達させる。制御信号バッファ10
2は、クロックバッファ101からの外部クロック信号
CLKに同期して、外部制御信号/CS,/RAS,/
CAS,/WE,DQMをラッチし、制御回路105に
与える。アドレスバッファ103は、クロックバッファ
101からの外部クロック信号CLKに同期して、外部
アドレス信号A0〜Am(ただし、mは0以上の整数で
ある)およびバンク選択信号BA0,BA1をラッチ
し、制御回路105に与える。
A clock buffer 101 is activated by an external control signal CKE, and transmits an external clock signal CLK to a control signal buffer 102, an address buffer 103 and a control circuit 105. Control signal buffer 10
2 are synchronized with the external clock signal CLK from the clock buffer 101 to output the external control signals / CS, / RAS, /
CAS, / WE, and DQM are latched and applied to the control circuit 105. The address buffer 103 latches the external address signals A0 to Am (where m is an integer of 0 or more) and the bank selection signals BA0 and BA1 in synchronization with the external clock signal CLK from the clock buffer 101, and controls the control circuit. Give to 105.

【0004】モードレジスタ104は、外部アドレス信
号A0〜Amなどによって指示されたモードを記憶し、
そのモードに応じた内部コマンド信号を出力する。メモ
リアレイ106〜109の各々は、行列状に配列され、
それぞれが1ビットのデータを記憶する複数のメモリセ
ルを含む。複数のメモリセルは、予めn+1個(ただ
し、nは0以上の整数である)ずつグループ化されてい
る。
A mode register 104 stores a mode designated by external address signals A0 to Am and the like.
An internal command signal corresponding to the mode is output. Each of the memory arrays 106 to 109 is arranged in a matrix,
Each memory cell includes a plurality of memory cells each storing 1-bit data. The plurality of memory cells are grouped in advance by n + 1 (where n is an integer of 0 or more).

【0005】制御回路105は、クロックバッファ10
1、制御信号バッファ102、アドレスバッファ103
およびモードレジスタ104からの信号に従って種々の
内部信号を生成し、SDRAM全体を制御する。制御回
路105は、書込動作時および読出動作時は、バンク選
択信号BA0,BA1に従って4つのメモリアレイ10
6〜109のうちのいずれかのメモリアレイを選択し、
アドレス信号A0〜Amに従ってそのメモリアレイのう
ちのn+1個のメモリセルを選択する。選択されたn+
1のメモリセルは、活性化されてI/Oバッファ110
に結合される。
The control circuit 105 includes a clock buffer 10
1, control signal buffer 102, address buffer 103
And various internal signals are generated in accordance with signals from mode register 104 to control the entire SDRAM. Control circuit 105 controls the four memory arrays 10 according to bank select signals BA0 and BA1 during the write operation and the read operation.
Selecting one of the memory arrays from 6 to 109;
According to the address signals A0 to Am, n + 1 memory cells in the memory array are selected. Selected n +
1 is activated and the I / O buffer 110 is activated.
Is combined with

【0006】I/Oバッファ110は、書込動作時に外
部から入力されたデータD0〜Dnを選択されたn+1
個のメモリセルに与え、読出動作時はn+1個のメモリ
セルの読出データQ0〜Qnを外部に出力する。
The I / O buffer 110 converts the data D0 to Dn input from the outside during the write operation to the selected n + 1
And at the time of a read operation, read data Q0 to Qn of n + 1 memory cells are output to the outside.

【0007】図20は、図19に示したメモリアレイ1
06の一部とそれに関連する部分の構成を示す回路ブロ
ック図である。図2において、メモリアレイ106は、
行列状に配列された複数のメモリセルMCと、各行に対
応して設けられたワード線WLと、各列に対応して設け
られたビット線対BL,/BLとを含む。メモリセルM
Cは、アクセス用のNチャネルMOSトランジスタと情
報記憶用のキャパシタを含む周知のものである。
FIG. 20 shows the memory array 1 shown in FIG.
FIG. 12 is a circuit block diagram showing a configuration of a part of a part 06 and a part related thereto. In FIG. 2, the memory array 106
It includes a plurality of memory cells MC arranged in a matrix, a word line WL provided corresponding to each row, and a bit line pair BL, / BL provided corresponding to each column. Memory cell M
C is a well-known device including an N-channel MOS transistor for access and a capacitor for storing information.

【0008】メモリアレイ106に対応して行デコーダ
111、列デコーダ112およびセンスアンプ+入出力
制御回路113が設けられる。センスアンプ+入出力制
御回路113は、データ入出力線対IO,/IOと、メ
モリアレイ106の各列に対して設けられた列選択ゲー
ト114、センスアンプ115およびイコライザ116
とを含む。
A row decoder 111, a column decoder 112 and a sense amplifier + input / output control circuit 113 are provided corresponding to the memory array 106. The sense amplifier + input / output control circuit 113 includes a data input / output line pair IO, / IO, a column selection gate 114 provided for each column of the memory array 106, a sense amplifier 115, and an equalizer 116.
And

【0009】列選択ゲート114は、対応の列のビット
線対BL,BLとデータ入出力線対IO,/IOとの間
に接続された1対のNチャネルMOSトランジスタを含
む。各NチャネルMOSトランジスタのゲートは、対応
の列選択線CSLを介して列デコーダ112に接続され
る。列デコーダ112によって列選択線CSLが選択レ
ベルの「H」レベルに立上げられるとNチャネルMOS
トランジスタが導通し、ビット線対BL,/BLとデー
タ入出力線対IO,/IOとが結合される。
Column select gate 114 includes a pair of N-channel MOS transistors connected between bit line pair BL, BL of the corresponding column and data input / output line pair IO, / IO. The gate of each N-channel MOS transistor is connected to column decoder 112 via a corresponding column selection line CSL. When column select line CSL is raised to the selected level of "H" level by column decoder 112, an N-channel MOS
The transistor is turned on, and the bit line pair BL, / BL is coupled to the data input / output line pair IO, / IO.

【0010】センスアンプ115は、センスアンプ活性
化信号S0N,ZS0Pがそれぞれ「H」レベルおよび
「L」レベルになったことに応じて、ビット線BL,/
BL間の微小電位差を電源電圧VCCに増幅する。イコ
ライザ116は、ビット線イコライズ信号BLEQが活
性化レベルの「H」レベルになったことに応じてビット
線BLと/BLの電位をビット線電位VBLにイコライ
ズする。
In response to sense amplifier activation signals S0N and ZS0P attaining an "H" level and an "L" level, respectively, sense amplifier 115 provides bit lines BL and //.
The small potential difference between the BLs is amplified to the power supply voltage VCC. The equalizer 116 equalizes the potentials of the bit lines BL and / BL to the bit line potential VBL in response to the activation of the bit line equalizing signal BLEQ to the “H” level.

【0011】行デコーダ111は、行アドレス信号RA
0〜RAmに従って、複数のワード線WLのうちの1本
のワード線WLを選択レベルの「H」レベルに立上げ
る。列デコーダ112は、列アドレス信号CA0〜CA
mに従って、複数の列選択線CSLのうちの1本の列選
択線CSLを選択レベルの「H」レベルに立上げる。
The row decoder 111 receives a row address signal RA
According to 0 to RAm, one word line WL of the plurality of word lines WL is raised to the selected level “H”. Column decoder 112 includes column address signals CA0 to CA
According to m, one column select line CSL of the plurality of column select lines CSL is raised to the selected level “H”.

【0012】次に、図19および図20で示したSDR
AMの動作について説明する。SDRAMにおいては、
たとえば外部クロック信号CLKの立上がりエッジで外
部制御信号/CS,/RAS,…や外部アドレス信号A
0〜Amなどが取込まれる。アドレス信号A0〜Am
は、時分割的に多重化された行アドレス信号RA0〜R
Amと列アドレス信号CA0〜CAmを含む。
Next, the SDR shown in FIGS.
The operation of the AM will be described. In SDRAM,
For example, at the rising edge of external clock signal CLK, external control signals / CS, / RAS,.
0 to Am etc. are taken in. Address signals A0 to Am
Are row address signals RA0-R multiplexed in a time-division manner.
Am and column address signals CA0-CAm.

【0013】読出動作時は、まずビット線イコライズ信
号BLEQが非活性化レベルの「L」レベルに立下が
り、イコライザ116が非活性化されてビット線BL,
/BLのイコライズが停止される。行デコーダ111
は、行アドレス信号RA0〜RAmに対応する行のワー
ド線WLを選択レベルの「H」レベルに立上げる。ビッ
ト線BL,/BLの電位は、活性化されたメモリセルM
Cのキャパシタの電荷量に応じて微小量だけ変化する。
次いで、センスアンプ活性化信号S0N、ZS0Pがそ
れぞれ「H」レベルおよび「L」レベルになり、センス
アンプ115が活性化される。
At the time of a read operation, first, bit line equalize signal BLEQ falls to the inactive level of "L" level, and equalizer 116 is inactivated and bit lines BL,
/ BL is stopped. Row decoder 111
Raises the word line WL of the row corresponding to the row address signals RA0 to RAm to the selected level “H”. The potentials of bit lines BL and / BL are set to the level of activated memory cell M
It changes by a very small amount according to the charge amount of the capacitor of C.
Next, sense amplifier activation signals S0N and ZS0P attain "H" level and "L" level, respectively, and sense amplifier 115 is activated.

【0014】ビット線BLの電位がビット線/BLの電
位よりも微小量だけ高い場合は、ビット線BLの電位が
「H」レベルまで引上げられ、ビット線/BLの電位が
「L」レベルまで引下げられる。逆に、ビット線/BL
の電位がビット線BLの電位よりも微小量だけ高い場合
は、ビット線/BLの電位が「H」レベルまで引上げら
れ、ビット線BLの電位が「L」レベルまで引下げられ
る。
When the potential of bit line BL is slightly higher than the potential of bit line / BL, the potential of bit line BL is raised to "H" level, and the potential of bit line / BL is lowered to "L" level. Will be reduced. Conversely, bit line / BL
Is higher than the potential of bit line BL by a small amount, the potential of bit line / BL is raised to "H" level and the potential of bit line BL is lowered to "L" level.

【0015】次いで、列デコーダ112が、列アドレス
信号CA0〜CAmに対応する列選択線CSLを選択レ
ベルの「H」レベルに一定時間立上げて、その列の列選
択ゲート114を導通させる。選択された列のビット線
対BL,/BLのデータは、列選択ゲート114および
データ入出力線対IO,/IOを介してI/Oバッファ
110に与えられ、I/Oバッファ110によって外部
に出力される。次いで、ワード線WLが非選択レベルの
「L」レベルに引下げられ、センスアンプ115が非活
性化され、イコライザ116が活性化されてビット線B
L,/BLがビット線電位VBLにイコライズされ、次
の読出動作の準備が終了する。
Next, column decoder 112 raises column selection line CSL corresponding to column address signals CA0-CAm to the selected level "H" for a certain period of time, and makes column selection gate 114 of that column conductive. Data of the bit line pair BL, / BL of the selected column is applied to I / O buffer 110 via column select gate 114 and data input / output line pair IO, / IO, and externally provided by I / O buffer 110. Is output. Next, the word line WL is lowered to the “L” level of the non-selection level, the sense amplifier 115 is deactivated, the equalizer 116 is activated, and the bit line B
L and / BL are equalized to the bit line potential VBL, and preparation for the next read operation is completed.

【0016】書込動作時は、イコライザ116が非活性
化された後、行デコーダ111によって行アドレス信号
RA0〜RAmに応じたワード線WLが選択レベルの
「H」レベルに立上げられてメモリセルMCが活性化さ
れ、センスアンプ115が活性化される。列デコーダ1
12が列アドレス信号CA0〜CAmに対応する列選択
線CSLを活性化レベルの「H」レベルに立上げて列選
択ゲート114を導通させる。外部から与えられた書込
データは、データ入出力線対IO,/IOを介して選択
された列のビット線対BL,/BLに与えられる。書込
データは、ビット線BL,/BL間の電位差として与え
られる。選択されたメモリセルMCのキャパシタには、
ビット線BLまたは/BLの電位に応じた量の電荷が蓄
えられる。次いで、ワード線WLが非選択レベルの
「L」レベルに立下げられ、センスアンプ115が非活
性化され、イコライザ116が活性化されてビット線B
L,/BLの電位がビット線電位VBLにイコライズさ
れ、次の書込動作の準備が終了する。
In the write operation, after the equalizer 116 is inactivated, the word line WL corresponding to the row address signals RA0 to RAm is raised to the selected level "H" level by the row decoder 111 and the memory cell MC is activated, and the sense amplifier 115 is activated. Column decoder 1
Numeral 12 raises the column selection line CSL corresponding to the column address signals CA0 to CAm to the activation level "H" level to make the column selection gate 114 conductive. Externally applied write data is applied to bit line pair BL, / BL of the selected column via data input / output line pair IO, / IO. Write data is applied as a potential difference between bit lines BL and / BL. In the capacitor of the selected memory cell MC,
An amount of charge corresponding to the potential of bit line BL or / BL is stored. Next, the word line WL falls to the “L” level of the non-selection level, the sense amplifier 115 is inactivated, the equalizer 116 is activated, and the bit line B
The potentials of L and / BL are equalized to bit line potential VBL, and preparation for the next writing operation is completed.

【0017】また、リフレッシュ動作時は、イコライザ
116が非活性化され、リフレッシュカウンタによって
指定されたワード線WLは選択レベルの「H」レベルに
立上げられてメモリセルMCが活性化され、センスアン
プ115が活性化されて、メモリセルMCへのデータの
再書込が行なわれる。この後、ワード線WLは「L」レ
ベルに立下げられ、センスアンプ115は非活性化さ
れ、イコライザ116が活性化されて1本のワード線W
Lに対応する各メモリセルMCのデータのリフレッシュ
が終了する。データのリフレッシュは、所定の周期で行
なわれる。
In the refresh operation, the equalizer 116 is inactivated, the word line WL designated by the refresh counter is raised to the selected level "H", the memory cell MC is activated, and the sense amplifier is activated. 115 is activated, and data is rewritten into memory cell MC. Thereafter, word line WL falls to "L" level, sense amplifier 115 is inactivated, and equalizer 116 is activated, and one word line WL is activated.
The refresh of the data of each memory cell MC corresponding to L ends. Refreshing of data is performed at a predetermined cycle.

【0018】さて、このようなSDRAMには、電源電
位VCCを昇圧して昇圧電位VPPを生成するVPP発
生回路が設けられている。昇圧電位VPPは、主に、メ
モリセルMCに含まれるNチャネルMOSトランジスタ
のゲートに印加してNチャネルMOSトランジスタの導
通抵抗値を十分に小さくし、キャパシタを十分に充電す
るために用いられる。また、昇圧電位VPPは、イコラ
イザ116に含まれるNチャネルMOSトランジスタの
ゲートに印加してNチャネルMOSトランジスタの導通
抵抗値を十分に小さくし、ビット線対BL,/BLのイ
コライズを高速に行なうためなどに用いられる。
Now, such an SDRAM is provided with a VPP generation circuit for boosting the power supply potential VCC to generate a boosted potential VPP. Boosted potential VPP is mainly applied to the gate of an N-channel MOS transistor included in memory cell MC to sufficiently reduce the conduction resistance of the N-channel MOS transistor and sufficiently charge the capacitor. Further, boosted potential VPP is applied to the gate of an N-channel MOS transistor included in equalizer 116 to sufficiently reduce the conduction resistance of the N-channel MOS transistor and to perform high-speed equalization of bit line pair BL, / BL. Used for etc.

【0019】図21は、そのようなVPP発生回路の構
成を示す回路ブロック図である。図21において、この
VPP発生回路は、アクティブレベル検出回路制御ロジ
ック121、アクティブレベル検出回路122、スタン
バイレベル検出回路123、インバータ124a〜12
4d、チャージポンプ125a〜125d,126a〜
126d,128、発振器127およびプール容量13
0,131を備える。
FIG. 21 is a circuit block diagram showing a configuration of such a VPP generation circuit. In FIG. 21, the VPP generation circuit includes an active level detection circuit control logic 121, an active level detection circuit 122, a standby level detection circuit 123, and inverters 124a to 124a.
4d, charge pumps 125a to 125d, 126a to
126d, 128, oscillator 127 and pool capacity 13
0,131.

【0020】アクティブレベル検出回路制御ロジック1
21は、アクティブレベル検出回路122の動作頻度を
制御する回路である。アクティブレベル検出回路制御ロ
ジック121は、バンク活性化信号RAS0〜RAS3
の排他的論理和信号を生成し、その立上がりエッジに応
答して所定時間だけアクティブレベル検出回路活性化信
号φ121を活性化レベルの「H」レベルにする。バン
ク活性化信号RAS0〜RAS3が活性化レベルの
「H」レベルにされると、4つのバンク♯0〜♯3がそ
れぞれ活性化される。
Active level detection circuit control logic 1
21 is a circuit for controlling the operation frequency of the active level detection circuit 122. The active level detection circuit control logic 121 includes bank activation signals RAS0 to RAS3
And the active level detection circuit activation signal φ121 is set to the “H” level of the activation level for a predetermined time in response to the rising edge of the signal. When bank activation signals RAS0-RAS3 are set to the "H" level of the activation level, four banks # 0- # 3 are activated, respectively.

【0021】アクティブレベル検出回路122は、信号
φ121が活性化レベルの「H」レベルの期間に活性化
され、昇圧電位VPPのノードの電位VPPが目標電位
VRに到達しているか否かを検出し、到達している場合
は信号φ122を「L」レベルにし、到達していない場
合は信号φ122を「H」レベルにする。アクティブレ
ベル検出回路122は、応答速度は速いが消費電流が大
きな回路である。このため、アクティブレベル検出回路
制御ロジック121によって動作頻度が制御されてい
る。
Active level detection circuit 122 detects whether signal φ121 is activated during the activation level “H” level, and whether or not potential VPP at the node of boosted potential VPP has reached target potential VR. , The signal φ122 is set to “L” level, and if not, the signal φ122 is set to “H” level. The active level detection circuit 122 is a circuit having a high response speed but a large current consumption. For this reason, the operation frequency is controlled by the active level detection circuit control logic 121.

【0022】スタンバイレベル検出回路123は、昇圧
電位VPPのノードの電位VPPが目標電位VRに到達
しているか否かを常時検出し、到達している場合は信号
φ123を「L」レベルにし、到達していない場合は信
号123を「H」レベルにする。スタンバイレベル検出
回路123は、アクティブレベル検出回路122と比較
して、応答速度は遅いが消費電流は小さな回路である。
The standby level detection circuit 123 constantly detects whether or not the potential VPP at the node of the boosted potential VPP has reached the target potential VR, and if so, sets the signal φ123 to the “L” level, If not, the signal 123 is set to the “H” level. The standby level detection circuit 123 has a slow response speed but a small current consumption compared to the active level detection circuit 122.

【0023】バンク活性化信号RAS0〜RAS3は、
それぞれ、チャージポンプ125a〜125dに直接入
力されるとともに、インバータ124a〜124dで反
転されてチャージポンプ126a〜126dに与えられ
る。チャージポンプ125a〜125dは、アクティブ
レベル検出回路122の出力信号φ122が「H」レベ
ルの期間に活性化され、信号RAS0〜RAS3の
「H」レベルへの立上がりエッジに応答して昇圧電位V
PPのノードに正電荷を与える。チャージポンプ126
a〜126dは、アクティブレベル検出回路122の出
力信号φ122が「H」レベルの期間に活性化され、信
号RAS0〜RAS3の「L」レベルへの立下がりエッ
ジに応答して昇圧電位VPPのノードに正電荷を与え
る。
Bank activation signals RAS0-RAS3 are
These are directly input to the charge pumps 125a to 125d, respectively, inverted by inverters 124a to 124d, and supplied to the charge pumps 126a to 126d. Charge pumps 125a to 125d are activated when output signal φ122 of active level detection circuit 122 is at the “H” level, and boosted potential V in response to rising edges of signals RAS0 to RAS3 at the “H” level.
A positive charge is applied to the node of PP. Charge pump 126
a to 126d are activated during the period when the output signal φ122 of the active level detection circuit 122 is at the “H” level, and respond to the falling edges of the signals RAS0 to RAS3 to the “L” level. Give a positive charge.

【0024】発振器127は、スタンバイレベル検出回
路123の出力信号φ123が「H」レベルの期間に活
性化され、所定周波数のクロック信号φ127をチャー
ジポンプ128に与える。チャージポンプ128は、ク
ロック信号φ127の立上がりエッジに応答して昇圧電
位VPPのノードに正電荷を与える。なお、チャージポ
ンプ128だけではスタンバイ時における昇圧電位VP
Pを目標電位VRに維持できても、アクティブ時におけ
る昇圧電位VPPを目標電位VRに維持することができ
ない。
Oscillator 127 is activated while output signal φ 123 of standby level detecting circuit 123 is at “H” level, and supplies clock signal φ 127 of a predetermined frequency to charge pump 128. Charge pump 128 applies a positive charge to the node of boosted potential VPP in response to the rising edge of clock signal φ127. It should be noted that the boosted potential VP in the standby mode can be obtained only by the charge pump 128.
Even if P can be maintained at the target potential VR, the boosted potential VPP in the active state cannot be maintained at the target potential VR.

【0025】プール容量130,131は、それぞれ電
源電位VCCのラインおよび接地電位GNDのラインと
昇圧電位VPPのノードとの間に接続される。プール容
量130,131は、昇圧電位VPPのノードの電位が
急激に変化することを防止するために設けられている。
Pool capacitances 130 and 131 are connected between a line of power supply potential VCC and a line of ground potential GND, respectively, and a node of boosted potential VPP. The pool capacitors 130 and 131 are provided to prevent the potential of the node of the boosted potential VPP from suddenly changing.

【0026】次に、このVPP発生回路の動作について
説明する。スタンバイ時は、スタンバイレベル検出回路
123によって昇圧電位VPPが目標電位VRに到達し
ているか否かが検出される。昇圧電位VPPが目標電位
VRよりも低い場合は、発振器127が活性化されてク
ロック信号φ127が生成され、チャージポンプ128
から昇圧電位VPPのノードに正電荷が供給される。昇
圧電位VPPが目標電位VRよりも高い場合は、発振器
127が非活性化されてクロック信号φ127の生成が
停止され、チャージポンプ128からの正電荷の供給が
停止される。
Next, the operation of the VPP generation circuit will be described. During standby, the standby level detection circuit 123 detects whether the boosted potential VPP has reached the target potential VR. When boosted potential VPP is lower than target potential VR, oscillator 127 is activated to generate clock signal φ127, and charge pump 128
, A positive charge is supplied to the node of the boosted potential VPP. When boosted potential VPP is higher than target potential VR, oscillator 127 is inactivated, generation of clock signal φ127 is stopped, and supply of positive charges from charge pump 128 is stopped.

【0027】アクティブ時は、信号RAS0〜RAS3
のうちの1つまたは3つの信号が「H」レベルになった
ことに応じて所定の時間だけアクティブレベル検出回路
122が活性化され、アクティブレベル検出回路122
によって昇圧電位VPPのノードが目標電位VRに到達
しているか否かが検出される。昇圧電位VPPが目標電
位VRよりも低い場合は、チャージポンプ125a〜1
25d,126a〜126dが動作可能状態にされ、信
号RAS0〜RAS3の立上がりエッジおよび立下がり
エッジに同期してチャージポンプ125a〜125d,
126a〜126dから昇圧電位VPPのノードに正電
荷が供給される。昇圧電位VPPが目標電位VRよりも
高い場合は、チャージポンプ125a〜125d,12
6a〜126dは動作不能状態にされる。したがって、
スタンバイ時およびアクティブ時において、低い消費電
力で昇圧電位VPPのノードが目標電位VRに維持され
る。
When active, signals RAS0-RAS3
Active level detection circuit 122 is activated for a predetermined time in response to one or three of the signals attaining an "H" level, and active level detection circuit 122
Thereby, it is detected whether or not the node of boosted potential VPP has reached target potential VR. When boosted potential VPP is lower than target potential VR, charge pumps 125a to 125a
25d, 126a-126d are made operable, and charge pumps 125a-125d, 125d are synchronized with rising and falling edges of signals RAS0-RAS3.
Positive charges are supplied from 126a to 126d to the node of the boosted potential VPP. When boosted potential VPP is higher than target potential VR, charge pumps 125a to 125d, 12
6a to 126d are disabled. Therefore,
In the standby mode and the active mode, the node of boosted potential VPP is maintained at target potential VR with low power consumption.

【0028】[0028]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のVPP
発生回路には、以下のような問題があった。今、SDR
AMの4つのバンク♯0〜♯3のうちの1つのバンク♯
0のみが長時間活性化され、図22に示すように、バン
ク活性化信号RAS0〜RAS3のうちの信号RAS0
のみが長時間「H」レベルにされるものとする。
However, the conventional VPP
The generator has the following problems. Now, SDR
Four banks of AM {one bank of 0 to 3}
0 is activated for a long time, and as shown in FIG. 22, the signal RAS0 of the bank activation signals RAS0-RAS3 is activated.
Only the “H” level is set to the “H” level for a long time.

【0029】信号RAS0が「H」レベルに立上げられ
たとき(時刻t1)、信号φ121が所定時間だけ活性
化レベルの「H」レベルになってアクティブレベル検出
回路122が活性化される。このとき昇圧電位VPPは
目標電位VRに到達しており、信号φ122,φ123
がともに「L」レベルになったものとする。信号RAS
0が「H」レベルの期間(時刻t1〜t3)は、再びア
クティブレベル検出回路122が活性化されることはな
い。
When signal RAS0 rises to the "H" level (time t1), signal .phi.121 attains the "H" level of the activation level for a predetermined time, and active level detection circuit 122 is activated. At this time, boosted potential VPP has reached target potential VR, and signals φ122, φ123
Are both at the “L” level. Signal RAS
During the period when 0 is at the “H” level (time t1 to t3), the active level detection circuit 122 is not activated again.

【0030】昇圧電位VPPのノードの電位VPPは、
何らかの原因によるリークにより徐々に低下し、ある時
刻t2において昇圧電位VPPが目標電位VRよりも低
くなったものとする。このとき、スタンバイレベル検出
回路123の出力信号φ123は「H」レベルになって
チャージポンプ128が駆動されるが、アクティブレベ
ル検出回路122の出力信号φ122は「L」レベルの
まま変化せずチャージポンプ125a〜125d,12
6a〜126dは動作不能状態に固定される。
The potential VPP at the node of the boosted potential VPP is
It is assumed that the voltage gradually decreases due to leakage due to some cause, and the boosted potential VPP becomes lower than the target potential VR at a certain time t2. At this time, the output signal φ123 of the standby level detection circuit 123 goes to “H” level to drive the charge pump 128, but the output signal φ122 of the active level detection circuit 122 remains at “L” level and remains unchanged. 125a-125d, 12
6a to 126d are fixed in an inoperative state.

【0031】時刻t3においてバンク活性化信号RAS
0が「L」レベルに立下げられると、バンク♯0が活性
化状態から非活性化状態に移行するために昇圧電位VP
Pが使用され、昇圧電位VPPのノードの電位VPPが
急激に低下する。
At time t3, bank activation signal RAS
0 falls to the "L" level, bank # 0 shifts from the active state to the inactive state, so that boosted potential VP is applied.
P is used, and the potential VPP at the node of the boosted potential VPP drops sharply.

【0032】従来は、このような昇圧電位VPPの低下
を抑制するため極めて大きなプール容量130,131
を設けていたので、VPP発生回路のレイアウト面積が
大きくなるという問題があった。
Conventionally, in order to suppress such a decrease in the boosted potential VPP, extremely large pool capacitances 130 and 131 are used.
Is provided, there is a problem that the layout area of the VPP generation circuit becomes large.

【0033】それゆえに、この発明の主たる目的は、安
定した内部電源電位を生成することが可能で、レイアウ
ト面積が小さな半導体装置を提供することである。
Therefore, a main object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of generating a stable internal power supply potential and having a small layout area.

【0034】[0034]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
スタンバイ状態とアクティブ状態を有する内部回路を備
えた半導体装置であって、内部回路に内部電源電位を与
えるための内部電源ノードと、内部電源ノードの電位が
予め定められた目標電位に到達しているか否かを常時検
出し、到達していない場合は第1の制御信号を活性化レ
ベルにする第1の検出回路と、内部回路がアクティブ状
態にされたことに応じて予め定められた時間だけ活性化
され、内部電源ノードの電位が予め定められた目標電位
に到達しているか否かを検出し、到達していない場合は
第2の制御信号を活性化レベルにする第2の検出回路
と、第1の制御信号が活性化レベルの場合に活性化さ
れ、予め定められた周期で内部電源ノードに電荷を供給
する電荷供給能力が小さな第1のチャージポンプと、第
1および第2の制御信号のうちの少なくとも一方が活性
化レベルにされている場合に第3の制御信号を活性化レ
ベルにする制御回路と、第3の制御信号が活性化レベル
の場合に活性化され、内部回路がスタンバイ状態にされ
たことに応じて内部電源ノードに電荷を供給する電荷供
給能力が大きな第2のチャージポンプを備えたものであ
る。
The invention according to claim 1 is
A semiconductor device having an internal circuit having a standby state and an active state, wherein an internal power supply node for applying an internal power supply potential to the internal circuit, and whether a potential of the internal power supply node has reached a predetermined target potential And a first detection circuit for constantly detecting whether or not the internal circuit has been activated and setting the first control signal to an activation level when the internal circuit has not been reached, and activating the internal circuit for a predetermined time in response to activation of the internal circuit. A second detection circuit that detects whether or not the potential of the internal power supply node has reached a predetermined target potential, and if not, sets a second control signal to an activation level; A first charge pump that is activated when the first control signal is at the activation level and has a small charge supply capability to supply charges to the internal power supply node at a predetermined cycle; and a first and second control signal. And a control circuit for setting the third control signal to the activation level when at least one of them is at the activation level, and the internal circuit is activated when the third control signal is at the activation level. A second charge pump having a large charge supply capability for supplying charges to the internal power supply node in response to the state being set is provided.

【0035】請求項2に係る発明では、請求項1に係る
発明の制御回路は、内部回路がスタンバイ状態にされた
ことに応じて第1の制御信号のレベルをラッチするラッ
チ回路を含み、ラッチ回路にラッチされた第1の制御信
号と第2の制御信号のうちの少なくとも一方が活性化レ
ベルにされている場合に第3の制御信号を活性化レベル
にする。
According to a second aspect of the present invention, the control circuit according to the first aspect of the present invention includes a latch circuit for latching a level of a first control signal in response to the internal circuit being set to a standby state. The third control signal is set to the activation level when at least one of the first control signal and the second control signal latched by the circuit is set to the activation level.

【0036】請求項3に係る発明では、請求項1に係る
発明の第2のチャージポンプは、第3の制御信号が活性
化レベルにされ、かつ内部回路がスタンバイ状態にされ
ている場合にポンプ信号を活性化レベルにする信号発生
回路と、予め定められた容量値のキャパシタを有し、ポ
ンプ信号が非活性化レベルにされたことに応じてキャパ
シタを充電させ、ポンプ信号が活性化レベルにされたこ
とに応じてキャパシタの電荷を内部電源ノードに放電さ
せる充放電回路とを含む。また、制御回路は、第1の制
御信号が活性化レベルにされたことに応じて第4の制御
信号を活性化レベルにし、ポンプ信号が非活性化レベル
にされたことに応じて第4の制御信号を非活性化レベル
にするフリップフロップを含み、第2および第4の制御
信号のうちの少なくとも一方が活性化レベルにされてい
る場合に第3の制御信号を活性化レベルにする。
According to the third aspect of the present invention, the second charge pump according to the first aspect of the present invention is configured such that when the third control signal is at an activation level and the internal circuit is in a standby state, A signal generation circuit for setting a signal to an activation level; and a capacitor having a predetermined capacitance value, the capacitor is charged in response to the pump signal being set to an inactivation level, and the pump signal is set to an activation level. And a charge / discharge circuit for discharging the charge of the capacitor to the internal power supply node in response to the operation. The control circuit sets the fourth control signal to the activation level in response to the first control signal being set to the activation level, and sets the fourth control signal to the fourth level in response to the pump signal being set to the inactivation level. A flip-flop for setting the control signal to an inactive level is included, and when at least one of the second and fourth control signals is set to the active level, the third control signal is set to the active level.

【0037】請求項4に係る発明では、請求項1から3
のいずれかに係る発明に、第3の制御信号が活性化レベ
ルの場合に活性化され、内部回路がアクティブ状態にさ
れたことに応じて内部電源ノードに電荷を供給する電荷
供給能力が大きな第3のチャージポンプがさらに設けら
れる。
In the invention according to claim 4, claims 1 to 3
In the invention according to any one of the first to third aspects, the third control signal is activated when the activation level is at the activation level, and has a large charge supply capability for supplying charges to the internal power supply node in response to the activation of the internal circuit. Three charge pumps are further provided.

【0038】請求項5に係る発明では、請求項1から4
のいずれかに係る発明の内部回路はメモリアレイを含
み、半導体装置は半導体記憶装置である。
According to the fifth aspect of the present invention, the first to fourth aspects are described.
The internal circuit according to any one of the above aspects includes a memory array, and the semiconductor device is a semiconductor storage device.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1は、この発
明の実施の形態1によるSDRAMのVPP発生回路の
構成を示す回路ブロック図である。
[First Embodiment] FIG. 1 is a circuit block diagram showing a configuration of a VPP generating circuit of an SDRAM according to a first embodiment of the present invention.

【0040】図1において、このVPP発生回路は、ア
クティブレベル検出回路制御ロジック1、アクティブレ
ベル検出回路2、スタンバイレベル検出回路3、アクテ
ィブポンプ制御回路4、インバータ5a〜5d、チャー
ジポンプ6a〜6d,7a〜7d,9、発振器8および
プール容量10,11を備える。
In FIG. 1, the VPP generation circuit includes an active level detection circuit control logic 1, an active level detection circuit 2, a standby level detection circuit 3, an active pump control circuit 4, inverters 5a to 5d, charge pumps 6a to 6d, 7a to 7d, 9; an oscillator 8;

【0041】アクティブレベル検出回路制御ロジック1
は、アクティブレベル検出回路2の動作頻度を制御する
回路である。すなわちアクティブレベル検出回路制御ロ
ジック1は、図2に示すように、EX−ORゲート1
2、遅延回路13およびANDゲート15を含み、遅延
回路13は直列接続された奇数段のインバータ14を含
む。EX−ORゲート12は、バンク活性化信号RAS
0〜RAS0を受け、その出力信号φ12は遅延回路1
3を介してANDゲート15の一方入力ノードに入力さ
れるとともに、ANDゲート15の他方入力ノードに直
接入力される。遅延回路13およびANDゲート15
は、パルス発生器を構成する。ANDゲート15の出力
信号はアクティブレベル検出回路活性化信号φ1とな
る。
Active level detection circuit control logic 1
Is a circuit for controlling the operation frequency of the active level detection circuit 2. That is, as shown in FIG. 2, the active level detection circuit control logic 1
2. It includes a delay circuit 13 and an AND gate 15, and the delay circuit 13 includes an odd number of stages of inverters 14 connected in series. The EX-OR gate 12 outputs the bank activation signal RAS
0 to RAS0, and the output signal φ12
3 and is input to one input node of the AND gate 15 and directly input to the other input node of the AND gate 15. Delay circuit 13 and AND gate 15
Constitutes a pulse generator. The output signal of AND gate 15 becomes active level detection circuit activation signal φ1.

【0042】バンク活性化信号RAS0〜RAS3が図
3に示すように活性化レベルの「H」レベルになると、
バンク活性化信号RAS0〜RAS3に対応する4つの
バンク♯0〜♯3がそれぞれ活性化される。EX−OR
ゲート12の出力信号φ12は、4つのバンク活性化信
号RAS0〜RAS3のうちの1つまたは3つの信号が
活性化レベルの「H」レベルになった場合に「H」レベ
ルになり、他の場合は「L」レベルになる。アクティブ
レベル検出回路活性化信号φ1は、EX−ORゲート1
2の出力信号φ12の立上がりエッジに応答して遅延回
路13の遅延時間だけパルス的に「H」レベルになる。
アクティブレベル検出回路活性化信号φ1は、アクティ
ブレベル検出回路2に与えられる。
When bank activation signals RAS0-RAS3 attain the activation level "H" as shown in FIG.
Four banks # 0- # 3 corresponding to bank activation signals RAS0-RAS3 are activated, respectively. EX-OR
Output signal .phi.12 of gate 12 attains "H" level when one or three of four bank activation signals RAS0-RAS3 attain an "H" level of the activation level, and in other cases. Becomes "L" level. The active level detection circuit activation signal φ1 is supplied to the EX-OR gate 1
In response to the rising edge of the second output signal φ12, the pulse signal goes to the “H” level for the delay time of the delay circuit 13.
Active level detection circuit activation signal φ1 is applied to active level detection circuit 2.

【0043】アクティブレベル検出回路2は、信号φ1
が「H」レベルの期間に活性化され、昇圧電位VPPの
ノードが目標電位VRになっているか否かを検出し、検
出結果に応じたレベルの信号φ2をアクティブポンプ制
御回路4に与える。すなわちアクティブレベル検出回路
2は、図4に示すように、PチャネルMOSトランジス
タ21〜24、NチャネルMOSトランジスタ25〜3
0、インバータ31〜34およびトランスファーゲート
35を含む。
The active level detection circuit 2 outputs the signal φ1
Is activated during the period of “H” level, detects whether the node of boosted potential VPP is at target potential VR or not, and provides signal φ 2 of a level corresponding to the detection result to active pump control circuit 4. That is, as shown in FIG. 4, the active level detection circuit 2 includes P-channel MOS transistors 21 to 24 and N-channel MOS transistors 25 to 3
0, inverters 31 to 34 and a transfer gate 35.

【0044】MOSトランジスタ21,22,25,2
6は、昇圧電位VPPのノードと接地電位GNDのライ
ンとの間に直列接続され、MOSトランジスタ23,2
7,28およびMOSトランジスタ24,29,30は
それぞれ電源電位VCCのラインと接地電位GNDとの
ラインとの間に直列接続される。PチャネルMOSトラ
ンジスタ21のゲートは接地され、PチャネルMOSト
ランジスタ22,29のゲートはそれぞれ定電圧VC
1,VC2を受ける。PチャネルMOSトランジスタ2
1,22,29の各々は、抵抗素子として動作する。N
チャネルMOSトランジスタ25,27のゲートはとも
にNチャネルMOSトランジスタ25のドレインに接続
され、PチャネルMOSトランジスタ23,24のゲー
トはともにPチャネルMOSトランジスタ24のドレイ
ンに接続される。NチャネルMOSトランジスタ25,
27とPチャネルMOSトランジスタ23,24は、そ
れぞれカレントミラー回路を構成する。NチャネルMO
Sトランジスタ26,28,30のゲートは、信号φ1
を受ける。
MOS transistors 21, 22, 25, 2
6 is connected in series between the node of the boosted potential VPP and the line of the ground potential GND, and MOS transistors 23 and 2
7, 28 and MOS transistors 24, 29, 30 are connected in series between a line of power supply potential VCC and a line of ground potential GND, respectively. The gate of P-channel MOS transistor 21 is grounded, and the gates of P-channel MOS transistors 22 and 29 are each connected to a constant voltage VC.
1, VC2. P channel MOS transistor 2
Each of 1, 22, and 29 operates as a resistance element. N
The gates of channel MOS transistors 25 and 27 are both connected to the drain of N channel MOS transistor 25, and the gates of P channel MOS transistors 23 and 24 are both connected to the drain of P channel MOS transistor 24. N-channel MOS transistor 25,
27 and P-channel MOS transistors 23 and 24 each constitute a current mirror circuit. N-channel MO
The gates of the S transistors 26, 28, and 30 are connected to the signal φ1
Receive.

【0045】インバータ31、トランスファーゲート3
5およびインバータ33は、PチャネルMOSトランジ
スタ23のドレイン(ノードN23)と出力ノードN2
との間に直列接続される。信号φ1は、インバータ32
を介してトランスファーゲート35のPチャネルMOS
トランジスタ側のゲートに入力されるとともに、トラン
スファーゲート35のNチャネルMOSトランジスタ側
のゲートに直接入力される。インバータ34は、インバ
ータ33に逆並列に接続される。インバータ33と34
は、ラッチ回路を構成する。
Inverter 31, transfer gate 3
5 and inverter 33 are connected to the drain (node N23) of P-channel MOS transistor 23 and output node N2.
Are connected in series. The signal φ1 is output from the inverter 32
P-channel MOS of transfer gate 35
The signal is input to the gate on the transistor side and is also input directly to the gate of the transfer gate 35 on the N-channel MOS transistor side. Inverter 34 is connected to inverter 33 in anti-parallel. Inverters 33 and 34
Constitute a latch circuit.

【0046】信号φ1が活性化レベルの「H」レベルに
なるとNチャネルMOSトランジスタ26,28,30
およびトランスファーゲート35が導通してアクティブ
レベル検出回路2が活性化される。MOSトランジスタ
21,22,25,26には、昇圧電位VPPのノード
の電位VPPに応じた値の電流が流れる。MOSトラン
ジスタ27,28は、MOSトランジスタ25に流れる
電流に応じた値の電流を流し得る。MOSトランジスタ
23,24,29,30には、定電圧VC2に応じた値
の定電流が流れる。
When signal .phi.1 attains the "H" level of the activation level, N-channel MOS transistors 26, 28, 30
In addition, the transfer gate 35 becomes conductive, and the active level detection circuit 2 is activated. A current having a value corresponding to the potential VPP at the node of the boosted potential VPP flows through the MOS transistors 21, 22, 25, and 26. MOS transistors 27 and 28 can flow a current having a value corresponding to the current flowing through MOS transistor 25. A constant current having a value corresponding to the constant voltage VC2 flows through the MOS transistors 23, 24, 29, and 30.

【0047】昇圧電流VPPが目標電位VRよりも高い
場合は、MOSトランジスタ23に流れる電流がMOS
トランジスタ27,28が流し得る電流よりも小さくな
ってノードN27が「L」レベルになり、図5に示すよ
うに、信号φ2は「L」レベルになる。昇圧電位VPP
が目標電位VRよりも低い場合は、MOSトランジスタ
23に流れる電流がMOSトランジスタ27,28が流
し得る電流よりも大きくなってノードN23が「H」レ
ベルになり、信号φ2は「H」レベルになる。信号φ1
が非活性化レベルの「L」レベルになると、Nチャネル
MOSトランジスタ26,28,30およびトランスフ
ァーゲート35が非導通になってアクティブレベル検出
回路2が非活性化される。信号φ2は、インバータ3
3,34からなるラッチ回路によってラッチされる。
When boosted current VPP is higher than target potential VR, the current flowing through MOS transistor 23
The current becomes smaller than the current that can be passed by transistors 27 and 28, and node N27 attains "L" level, and signal φ2 attains "L" level as shown in FIG. Boosted potential VPP
Is lower than the target potential VR, the current flowing through the MOS transistor 23 becomes larger than the current that can flow through the MOS transistors 27 and 28, the node N23 goes high, and the signal φ2 goes high. . Signal φ1
Is at the inactive level of "L", N channel MOS transistors 26, 28, 30 and transfer gate 35 are rendered non-conductive, and active level detecting circuit 2 is inactivated. The signal φ2 is output from the inverter 3
It is latched by a latch circuit composed of 3, 34.

【0048】なお、アクティブレベル検出回路2は応答
性はよいが消費電力が大きいので、信号φ1が活性化レ
ベルの「H」レベルになったときだけアクティブレベル
検出回路2を活性化させることにより消費電力の低減化
が図られている。
The active level detecting circuit 2 has good responsiveness but consumes a large amount of power. Therefore, the active level detecting circuit 2 consumes power only by activating the active level detecting circuit 2 when the signal .phi.1 attains the activation level "H". Power consumption is being reduced.

【0049】スタンバイレベル検出回路3は、昇圧電位
VPPのノードの電位VPPを常時モニタし、モニタ結
果に応じたレベルの信号φ3をアクティブポンプ制御回
路4および発振器8に与える。すなわちスタンバイレベ
ル検出回路3は、図6に示すように、PチャネルMOS
トランジスタ41〜43、NチャネルMOSトランジス
タ44,45およびインバータ46,47を含む。MO
Sトランジスタ41,42,44は昇圧電位VPPのノ
ードと接地電位GNDのラインとの間に直列接続され、
MOSトランジスタ43,45は電源電位VCCのライ
ンと接地電位GNDのラインとの間に直列接続される。
The standby level detection circuit 3 constantly monitors the potential VPP of the node of the boosted potential VPP, and supplies a signal φ3 having a level corresponding to the monitored result to the active pump control circuit 4 and the oscillator 8. That is, as shown in FIG. 6, the standby level detection circuit 3
Transistors 41 to 43, N-channel MOS transistors 44 and 45, and inverters 46 and 47 are included. MO
S transistors 41, 42, and 44 are connected in series between a node of boosted potential VPP and a line of ground potential GND,
MOS transistors 43 and 45 are connected in series between the line of power supply potential VCC and the line of ground potential GND.

【0050】PチャネルMOSトランジスタ41のゲー
トは接地され、PチャネルMOSトランジスタ42,4
3のゲートはそれぞれ定電圧VC3,VC4を受ける。
PチャネルMOSトランジスタ41〜43の各々は、抵
抗素子として動作する。NチャネルMOSトランジスタ
44,45のゲートはともにNチャネルMOSトランジ
スタ44のドレインに接続される。NチャネルMOSト
ランジスタ44と45は、カレントミラー回路を構成す
る。インバータ46,47は、PチャネルMOSトラン
ジスタ43のドレイン(ノードM43)と出力ノードN
3との間に直列接続される。出力ノードN3に現われる
信号はスタンバイレベル検出信号φ3となる。
The gate of P channel MOS transistor 41 is grounded, and P channel MOS transistors 42 and 4
Gates 3 receive constant voltages VC3 and VC4, respectively.
Each of P channel MOS transistors 41 to 43 operates as a resistance element. The gates of N-channel MOS transistors 44 and 45 are both connected to the drain of N-channel MOS transistor 44. N-channel MOS transistors 44 and 45 form a current mirror circuit. Inverters 46 and 47 include a drain (node M43) of P-channel MOS transistor 43 and an output node N
3 is connected in series. The signal appearing at output node N3 becomes standby level detection signal φ3.

【0051】MOSトランジスタ41,42,44に
は、昇圧電位VPPのノードの電位VPPに応じた値の
電流が流れる。NチャネルMOSトランジスタ45は、
NチャネルMOSトランジスタ44に流れる電流に応じ
た値の電流を流し得る。PチャネルMOSトランジスタ
43には、定電圧VC4に応じた値の定電流が流れる。
昇圧電位VPPが目標電位VRよりも高い場合は、Pチ
ャネルMOSトランジスタ43に流れる電流はNチャネ
ルMOSトランジスタ45が流し得る電流よりも小さく
なってノードN43が「L」レベルになり、図7に示す
ように、信号φ3が「L」レベルになる。昇圧電位VP
Pが目標電位VRよりも低い場合は、PチャネルMOS
トランジスタ43に流れる電流がNチャネルMOSトラ
ンジスタ45が流し得る電流よりも大きくなってノード
N43が「H」レベルになり、信号φ3が「H」レベル
になる。
A current having a value corresponding to the potential VPP at the node of the boosted potential VPP flows through the MOS transistors 41, 42, and 44. N channel MOS transistor 45
A current having a value corresponding to the current flowing through N-channel MOS transistor 44 can flow. A constant current having a value corresponding to constant voltage VC4 flows through P channel MOS transistor 43.
When boosted potential VPP is higher than target potential VR, the current flowing through P-channel MOS transistor 43 is smaller than the current that can be passed by N-channel MOS transistor 45, and node N43 attains "L" level, as shown in FIG. Thus, signal φ3 attains the “L” level. Boosted potential VP
When P is lower than target potential VR, P-channel MOS
The current flowing through transistor 43 becomes larger than the current that can be passed by N-channel MOS transistor 45, so that node N43 attains "H" level and signal φ3 attains "H" level.

【0052】アクティブポンプ制御回路4は、図8に示
すように、ORゲート47を含む。ORゲート47は、
アクティブレベル検出回路2で生成されたアクティブレ
ベル検出信号φ2とスタンバイレベル検出回路3で生成
されたスタンバイレベル検出信号φ3とを受け、その出
力信号φ4はチャージポンプ6a〜6d,7a〜7dに
与えられる。
Active pump control circuit 4 includes an OR gate 47, as shown in FIG. The OR gate 47
An active level detection signal φ2 generated by the active level detection circuit 2 and a standby level detection signal φ3 generated by the standby level detection circuit 3 are received, and an output signal φ4 thereof is supplied to the charge pumps 6a to 6d and 7a to 7d. .

【0053】バンク活性化信号RAS0〜RAS3は、
それぞれ、チャージポンプ6a〜6dに直接入力される
とともに、インバータ5a〜5dを介してチャージポン
プ7a〜7dに入力される。チャージポンプ6a〜6d
は、それぞれ4つのバンク♯0〜♯3に対応して設けら
れ、信号φ4が「H」レベルの場合に動作可能状態にな
り、対応のバンクが活性化されたことに応じて昇圧電位
VPPのノードに正電荷を供給する。チャージポンプ7
a〜7dは、それぞれ4つのバンク♯0〜♯3に対応し
て設けられ、信号φ4が「H」レベルの場合に動作可能
状態になり、対応のバンクが非活性化されたことに応じ
て昇圧電位VPPのノードに正電荷を供給する。
The bank activation signals RAS0-RAS3 are
The signals are directly input to the charge pumps 6a to 6d, respectively, and input to the charge pumps 7a to 7d via the inverters 5a to 5d. Charge pumps 6a to 6d
Are provided corresponding to the four banks # 0 to # 3, respectively, become operable when signal φ4 is at "H" level, and boosted potential VPP in response to activation of the corresponding bank. Supply positive charge to the node. Charge pump 7
a to 7d are provided corresponding to the four banks # 0 to # 3, respectively, become operable when signal φ4 is at the "H" level, and in response to the corresponding bank being inactivated. A positive charge is supplied to the node of the boosted potential VPP.

【0054】チャージポンプ6aは、図9に示すよう
に、ANDゲート51、キャパシタ52およびNチャネ
ルMOSトランジスタ53,54を含む。ANDゲート
51は、信号RAS0,φ4を受ける。キャパシタ52
は、ANDゲート51の出力ノードとノードN53との
間に接続される。NチャネルMOSトランジスタ53
は、電源電位VCCのラインとノードN53の間にダイ
オード接続される。NチャネルMOSトランジスタ54
は、ノードN53と昇圧電位VPPのノードとの間にダ
イオード接続される。
Charge pump 6a includes an AND gate 51, a capacitor 52 and N-channel MOS transistors 53 and 54, as shown in FIG. AND gate 51 receives signals RAS0, φ4. Capacitor 52
Is connected between the output node of AND gate 51 and node N53. N channel MOS transistor 53
Is diode-connected between the line of the power supply potential VCC and the node N53. N channel MOS transistor 54
Is diode-connected between the node N53 and the node of the boosted potential VPP.

【0055】チャージポンプ6aは、アクティブポンプ
制御信号φ4が「H」レベルの期間に活性化される。信
号RAS0が「L」レベル(接地電位GND)の期間
は、ANDゲート51の出力信号φPは「L」レベルに
なり、電源電位VCCのラインからNチャネルMOSト
ランジスタ53を介してノードN53に電流が流入し、
キャパシタ52がVCC−Vthn(ただし、Vthn
はNチャネルMOSトランジスタのしきい値電圧であ
る)に充電される。信号RAS0が「H」レベル(電源
電位VCC)に立上げられると、ノードN53は2VC
C−Vthnとなり、ノードN53からNチャネルMO
Sトランジスタ54を介して昇圧電位VPPのノードに
正電荷が供給される。したがって、信号φ4が「H」レ
ベルの期間において信号RAS0が「L」レベルから
「H」レベルに立上がるごとに昇圧電位VPPのノード
に正電荷が供給され、昇圧電位VPPのノードの電位が
上昇する。他のチャージポンプ6b〜6d,7a〜7d
もチャージポンプ6aと同じ構成である。
Charge pump 6a is activated while active pump control signal φ4 is at "H" level. While signal RAS0 is at the “L” level (ground potential GND), output signal φP of AND gate 51 is at the “L” level, and current flows from power supply potential VCC line to node N53 via N-channel MOS transistor 53. Inflow,
When the capacitor 52 is connected to VCC-Vthn (Vthn
Is the threshold voltage of the N-channel MOS transistor). When signal RAS0 is raised to the "H" level (power supply potential VCC), node N53 is set at 2VC
C-Vthn, and N-channel MO
A positive charge is supplied to the node of the boosted potential VPP via the S transistor 54. Therefore, whenever signal RAS0 rises from "L" level to "H" level while signal φ4 is at "H" level, a positive charge is supplied to the node of boosted potential VPP, and the potential of the node of boosted potential VPP rises. I do. Other charge pumps 6b-6d, 7a-7d
Has the same configuration as the charge pump 6a.

【0056】ただし、チャージポンプ7a〜7dにはバ
ンク活性化信号RAS0〜RAS3の反転信号が入力さ
れるので、チャージポンプ7a〜7dは、それぞれ信号
φ4が「H」レベルの期間において信号RAS0〜RA
S3が「H」レベルから「L」レベルに立下がるごとに
昇圧電位VPPのノードに正電荷を供給する。
However, since the charge pumps 7a to 7d receive the inverted signals of the bank activation signals RAS0 to RAS3, the charge pumps 7a to 7d respectively output the signals RAS0 to RAS while the signal φ4 is at the “H” level.
Each time S3 falls from "H" level to "L" level, a positive charge is supplied to the node of boosted potential VPP.

【0057】発振器8は、図10に示すように、NAN
Dゲート55と直列接続された偶数段のインバータ56
とを含む。スタンバイレベル検出回路3で生成されたス
タンバイレベル検出信号φ3は、NANDゲート55の
一方入力ノードに入力される。NANDゲート55の出
力信号は、偶数段のインバータ56を介してNAND5
5の他方入力ノードに入力される。最終段のインバータ
56の出力信号が発振器8の出力信号φ8となる。スタ
ンバイレベル検出信号φ3が活性化レベルの「H」レベ
ルになると、NANDゲート55は信号φ8に対してイ
ンバータとして動作し、NANDゲート55および偶数
段のインバータ56によってリングオシレータが構成さ
れる。このリングオシレータは、所定周波数のクロック
信号φ8を生成する。クロック信号φ8は、チャージポ
ンプ9に入力される。
The oscillator 8 has a NAN as shown in FIG.
Even-numbered inverter 56 connected in series with D gate 55
And Standby level detection signal φ3 generated by standby level detection circuit 3 is input to one input node of NAND gate 55. An output signal of the NAND gate 55 is supplied to the NAND gate 55 through an even-numbered inverter 56.
5 is input to the other input node. The output signal of the final-stage inverter 56 becomes the output signal φ8 of the oscillator 8. When standby level detection signal φ3 attains the “H” level of the activation level, NAND gate 55 operates as an inverter with respect to signal φ8, and NAND gate 55 and even-numbered stage inverter 56 constitute a ring oscillator. This ring oscillator generates a clock signal φ8 of a predetermined frequency. Clock signal φ8 is input to charge pump 9.

【0058】チャージポンプ9は、図11に示すよう
に、インバータ61、キャパシタ62およびNチャネル
MOSトランジスタ63,64を含む。クロック信号φ
8は、インバータ61を介してキャパシタ62の一方電
極に入力される。NチャネルMOSトランジスタ63
は、電源電位VCCのラインとキャパシタ62の他方電
極(ノードN63)との間にダイオード接続される。N
チャネルMOSトランジスタ64は、ノードN63と昇
圧電位VPPのノードとの間にダイオード接続される。
Charge pump 9 includes an inverter 61, a capacitor 62 and N-channel MOS transistors 63 and 64, as shown in FIG. Clock signal φ
8 is input to one electrode of a capacitor 62 via an inverter 61. N channel MOS transistor 63
Is diode-connected between the power supply potential VCC line and the other electrode of the capacitor 62 (node N63). N
Channel MOS transistor 64 is diode-connected between node N63 and a node of boosted potential VPP.

【0059】クロック信号φ8が「H」レベルの期間
は、インバータ61の出力ノードが「L」レベルにな
り、電源電位VCCのラインからNチャネルMOSトラ
ンジスタ63を介してノードN63に電流が流入し、キ
ャパシタ62がVCC−Vthnに充電される。クロッ
ク信号φ8が「L」レベルに立下がると、ノードN63
は2VCC−Vthnとなり、ノードN63からNチャ
ネルMOSトランジスタ64を介して昇圧電位VPPの
ノードに電流が流入する。したがって、クロック信号φ
8が「H」レベルから「L」レベルに立下がるごとに昇
圧電位VPPのノードに正電荷が供給される。
While clock signal φ8 is at “H” level, the output node of inverter 61 is at “L” level, and current flows from power supply potential VCC line to node N63 via N-channel MOS transistor 63. Capacitor 62 is charged to VCC-Vthn. When clock signal φ8 falls to "L" level, node N63
Becomes 2VCC-Vthn, and a current flows from the node N63 to the node of the boosted potential VPP via the N-channel MOS transistor 64. Therefore, the clock signal φ
Each time 8 falls from "H" level to "L" level, a positive charge is supplied to the node of boosted potential VPP.

【0060】なお、チャージポンプ9はスタンバイ時に
おける昇圧電位VPPのノードの電位を維持するための
ものであり、その電荷供給能力は小さいので、このチャ
ージポンプ9によってアクティブ期間における昇圧電位
VPPを目標電位VRに維持することができない。
The charge pump 9 is for maintaining the potential of the node of the boosted potential VPP in the standby state, and has a small charge supply capability. Therefore, the charge pump 9 reduces the boosted potential VPP in the active period to the target potential. Cannot be maintained at VR.

【0061】プール容量10,11は、それぞれ電源電
位VCCのラインおよび接地電位GNDのラインと昇圧
電位VPPのノードとの間に接続される。プール容量1
0,11は、昇圧電位VPPのノードの電位の急激な変
化を防止するために設けられている。
The pool capacitors 10 and 11 are connected between the power supply potential VCC line and the ground potential GND line and the boosted potential VPP node, respectively. Pool capacity 1
0 and 11 are provided to prevent a sudden change in the potential of the node of the boosted potential VPP.

【0062】次に、図1〜図11で示したVPP発生回
路の動作について説明する。バンク活性化信号RAS0
〜RAS3のうちの1つのまたは3つの信号が活性化レ
ベルの「H」レベルになると、アクティブレベル検出回
路制御ロジック1の出力信号φ1が所定時間だけ活性化
レベルの「H」レベルになり、アクティブレベル検出回
路2が活性化される。アクティブレベル検出回路2によ
って昇圧電位VPPが目標電位VRに到達したか否かが
検出され、昇圧電位VPPが目標電位VRに到達してい
ない場合は信号φ2が活性化レベルの「H」レベルにな
る。また、スタンバイレベル検出回路3によって昇圧電
位VPPのノードの電位が目標電位VRに到達している
か否かが検出され、昇圧電位VPPが目標電位VRに到
達していない場合は信号φ3が活性化レベルの「H」レ
ベルになる。信号φ2とφ3の論理和信号φ4が、アク
ティブポンプ制御回路4からチャージポンプ6a〜6
d,7a〜7dの各々に入力される。
Next, the operation of the VPP generation circuit shown in FIGS. 1 to 11 will be described. Bank activation signal RAS0
When one or three of the signals RAS3 to RAS3 attain the activation level "H" level, the output signal .phi.1 of the active level detection circuit control logic 1 attains the activation level "H" level for a predetermined time, and The level detection circuit 2 is activated. The active level detection circuit 2 detects whether or not the boosted potential VPP has reached the target potential VR. If the boosted potential VPP has not reached the target potential VR, the signal φ2 goes to the activation level “H” level . The standby level detection circuit 3 detects whether or not the potential of the node of the boosted potential VPP has reached the target potential VR. If the boosted potential VPP has not reached the target potential VR, the signal φ3 changes to the activation level. "H" level. The logical sum signal φ4 of the signals φ2 and φ3 is supplied from the active pump control circuit 4 to the charge pumps 6a to 6a.
d, 7a to 7d.

【0063】信号φ4が活性化レベルの「H」レベルの
期間において信号RAS0〜RAS3が活性化レベルの
「H」レベルに立上げられると、それぞれチャージポン
プ6a〜6dが活性化され、チャージポンプ6a〜6d
から昇圧電位VPPのノードに正電荷が供給される。信
号φ4が活性化レベルの「H」レベルの期間において信
号RAS0〜RAS3が非活性化レベルの「L」レベル
に立下げられると、それぞれチャージポンプ7a〜7d
が活性化され、チャージポンプ7a〜7dから昇圧電位
VPPのノードに正電荷が供給される。
When signals RAS0 to RAS3 are raised to the "H" level of the activation level while signal φ4 is at the "H" level of the activation level, charge pumps 6a to 6d are activated and charge pump 6a, respectively. ~ 6d
, A positive charge is supplied to the node of the boosted potential VPP. When signals RAS0-RAS3 fall to an inactive level of "L" level while signal φ4 is at an active level of "H" level, charge pumps 7a-7d respectively
Is activated, and positive charges are supplied from charge pumps 7a to 7d to the node of boosted potential VPP.

【0064】また、信号φ3が活性化レベルの「H」レ
ベルになると、発振器8が活性化され、発振器8からチ
ャージポンプ9にクロック信号φ8が入力され、チャー
ジポンプ9から昇圧電位VPPのノードに正電荷が供給
される。これにより、昇圧電位VPPのノードの電位が
上昇する。
When signal .phi.3 attains the "H" level of the activation level, oscillator 8 is activated, clock signal .phi.8 is input from oscillator 8 to charge pump 9, and charge pump 9 supplies the boosted potential VPP to the node of boosted potential VPP. A positive charge is provided. Thus, the potential of the node of boosted potential VPP increases.

【0065】一方、昇圧電位VPPが目標電位VRに到
達している場合は、信号φ2〜φ4がともに「L」レベ
ルになってチャージポンプ6a〜6d,7a〜7d,9
が非活性化され、チャージポンプ6a〜6d,7a〜7
d,9から昇圧電位VPPのノードへの電荷の供給が停
止される。したがって、昇圧電位VPPは目標電位VR
に維持される。
On the other hand, when boosted potential VPP has reached target potential VR, both signals φ2 to φ4 attain “L” level and charge pumps 6a to 6d, 7a to 7d, 9
Are deactivated, and the charge pumps 6a to 6d and 7a to 7
The supply of charges from d and 9 to the node of the boosted potential VPP is stopped. Therefore, boosted potential VPP is equal to target potential VR.
Is maintained.

【0066】次に、1つのバンク♯0のみが長時間活性
化された場合について説明する。この場合は、図12に
示すように、信号RAS0〜RAS3のうちの信号RA
S0のみが長時間「H」レベルにされる。信号RAS0
が「H」レベルに立上げられたとき(時刻t1)、信号
φ1が所定時間だけ活性化レベルの「H」レベルになっ
てアクティブレベル検出回路2が活性化される。このと
き昇圧電位VPPが目標電位VRに到達しており、信号
φ2,φ4が「L」レベルになったものとする。信号R
AS0が「H」レベルの期間(時刻t1〜t3)は、再
びアクティブレベル検出回路2が活性化されることはな
い。
Next, a case where only one bank # 0 is activated for a long time will be described. In this case, as shown in FIG. 12, the signal RA among the signals RAS0-RAS3 is output.
Only S0 is set to the "H" level for a long time. Signal RAS0
Rises to the "H" level (time t1), signal .phi.1 attains the "H" level of the activation level for a predetermined time, and active level detection circuit 2 is activated. At this time, it is assumed that boosted potential VPP has reached target potential VR, and signals φ2 and φ4 have become “L” level. Signal R
While AS0 is at the “H” level (time t1 to t3), the active level detection circuit 2 is not activated again.

【0067】昇圧電位VPPのノードの電位VPPは、
何らかの原因によるリークにより徐々に低下し、ある時
刻t2において昇圧電位VPPが目標電位VRよりも低
くなったものとする。このとき、スタンバイレベル検出
回路3の出力信号φ3が「H」レベルになり信号φ4が
「H」レベルになる。信号φ4が「H」レベルになる
と、チャージポンプ6a〜6d,7a〜7dが動作可能
状態になる。
The potential VPP at the node of the boosted potential VPP is
It is assumed that the voltage gradually decreases due to leakage due to some cause, and the boosted potential VPP becomes lower than the target potential VR at a certain time t2. At this time, the output signal φ3 of the standby level detection circuit 3 goes high and the signal φ4 goes high. When signal φ4 attains an “H” level, charge pumps 6a to 6d and 7a to 7d enter an operable state.

【0068】時刻t3において信号RAS0が非活性化
レベルの「L」レベルに立下げられると、チャージポン
プ7a〜7dから昇圧電位VPPのノードに正電荷が供
給され、昇圧電位VPPのノードが昇圧される。したが
って、時刻t3において昇圧電位VPPのノードの電位
が低下することがないので、プール容量10,11が小
さくてすみ、VPP発生回路のレイアウト面積が小さく
てすむ。
When signal RAS0 falls to the inactive level of "L" at time t3, positive charges are supplied from charge pumps 7a to 7d to the node of boosted potential VPP, and the node of boosted potential VPP is boosted. You. Therefore, since the potential of the node of boosted potential VPP does not decrease at time t3, pool capacitances 10 and 11 can be small, and the layout area of the VPP generation circuit can be small.

【0069】なお、この実施の形態では、SDRAMの
バンクが4つの場合について説明したが、バンク数は4
つに限るものではなく、何個でもよいことは言うまでも
ない。
Although this embodiment has been described with reference to the case where the SDRAM has four banks, the number of banks is four.
Needless to say, the number is not limited to one.

【0070】[実施の形態2]図13は、この発明の実
施の形態2によるSDRAMのVPP発生回路の構成を
示す回路ブロック図であって、図1と対比される図であ
る。
[Second Embodiment] FIG. 13 is a circuit block diagram showing a configuration of a VPP generation circuit of an SDRAM according to a second embodiment of the present invention, which is compared with FIG.

【0071】図13を参照して、このVPP発生回路が
図1のVPP発生回路と異なる点は、アクティブポンプ
制御回路4がアクティブポンプ制御回路70a〜70
d,71a〜71dと置換されている点である。アクテ
ィブポンプ制御回路70a〜70dは、それぞれ、信号
RAS0〜RAS3と信号φ2,φ3に従ってチャージ
ポンプ6a〜6dを制御する。アクティブポンプ制御回
路71a〜71dは、それぞれ、インバータ5a〜5d
の出力信号/RAS0〜/RAS3と信号φ2,φ3に
従ってチャージポンプ7a〜7dを制御する。アクティ
ブポンプ制御回路70a〜70d,71a〜71dの出
力信号は、それぞれ信号φ4の代わりにチャージポンプ
6a〜6d,7a〜7dに入力される。
Referring to FIG. 13, the difference between this VPP generation circuit and the VPP generation circuit of FIG. 1 is that active pump control circuit 4 includes active pump control circuits 70a-70.
d, 71a to 71d. Active pump control circuits 70a to 70d control charge pumps 6a to 6d according to signals RAS0 to RAS3 and signals φ2 and φ3, respectively. The active pump control circuits 71a to 71d include inverters 5a to 5d, respectively.
The charge pumps 7a to 7d are controlled according to the output signals / RAS0 to / RAS3 and the signals φ2 and φ3. Output signals of the active pump control circuits 70a to 70d and 71a to 71d are input to charge pumps 6a to 6d and 7a to 7d instead of the signal φ4, respectively.

【0072】アクティブポンプ制御回路71aは、図1
4に示すように、ORゲート72、トランスファーゲー
ト73およびインバータ74〜77を含む。信号φ2
は、ORゲート72の一方入力ノードに入力される。信
号φ3は、トランスファーゲート73およびインバータ
75,77を介してORゲート72の他方入力ノードに
入力される。インバータ5aの出力信号/RAS0は、
インバータ74を介してトランスファーゲート73のN
チャネルMOSトランジスタ側のゲートに入力されると
ともに、トランスファーゲート73のPチャネルMOS
トランジスタ側のゲートに直接入力される。インバータ
76は、インバータ75に逆並列に接続される。ORゲ
ート72の出力信号φ72は、図15に示すように、信
号φ4の代わりにチャージポンプ7aに与えられる。
The active pump control circuit 71a has the configuration shown in FIG.
4, an OR gate 72, a transfer gate 73, and inverters 74 to 77 are included. Signal φ2
Is input to one input node of the OR gate 72. Signal φ3 is input to the other input node of OR gate 72 via transfer gate 73 and inverters 75 and 77. The output signal / RAS0 of the inverter 5a is
N of the transfer gate 73 via the inverter 74
The signal is input to the gate on the channel MOS transistor side, and the P-channel MOS
It is directly input to the gate on the transistor side. Inverter 76 is connected to inverter 75 in anti-parallel. As shown in FIG. 15, output signal φ72 of OR gate 72 is applied to charge pump 7a instead of signal φ4.

【0073】信号/RAS0が活性化レベルの「L」レ
ベルの場合は、トランスファーゲート73が導通し、信
号φ3はトランスファーゲート73およびインバータ7
5,77を介してORゲート72の他方入力ノードに入
力される。ある時刻t3に信号/RAS0が「H」レベ
ルに立上がるとトランスファーゲートゲート73が非導
通になり、信号φ3のレベルはインバータ75〜77か
らなるラッチ回路にラッチされる。したがって、図16
に示すように、時刻t3に信号RAS0が「L」レベル
に立下がって昇圧電位VPPが目標電位VRよりも高く
なり、信号φ3が「L」レベルになっても信号φ72は
「H」レベルのまま変化しない。このため、チャージポ
ンプ7aのキャパシタ52に充電された正電荷を昇圧電
位VPPのノードに十分に供給させることができ、チャ
ージポンプ7aの使用効率が高くなる。
When signal / RAS0 is at the "L" level of the activation level, transfer gate 73 is turned on, and signal φ3 is applied to transfer gate 73 and inverter 7
5, 77 are input to the other input node of the OR gate 72. When signal / RAS0 rises to "H" level at a certain time t3, transfer gate 73 is rendered non-conductive, and the level of signal φ3 is latched by a latch circuit including inverters 75-77. Therefore, FIG.
At time t3, the signal RAS0 falls to the "L" level, the boosted potential VPP becomes higher than the target potential VR, and even when the signal .phi.3 goes to the "L" level, the signal .phi.72 remains at the "H" level. It does not change. Therefore, the positive charge charged in the capacitor 52 of the charge pump 7a can be sufficiently supplied to the node of the boosted potential VPP, and the use efficiency of the charge pump 7a increases.

【0074】すなわち、図15において、信号φ72が
「H」レベルの期間において信号/RAS0が「L」レ
ベルになり(時刻t2〜t3)、キャパシタ52がVC
C−Vthnに充電されているものとする。ある時刻t
3に信号/RAS0が「H」レベルになるとノードN5
3が2VCC−Vthnになり、ノードN53からNチ
ャネルMOSトランジスタ54を介して昇圧電位VPP
のノードに正電荷が流れる。もしノードN53から昇圧
電位VPPのノードに正電荷が流入している途中で信号
φ72が「L」レベルになると、キャパシタ52に充電
された正電荷が十分に流出せず、チャージポンプ7aの
使用効率が悪くなる。しかし、この実施の形態2では信
号φ72を「H」レベルのまま保持するので、キャパシ
タ52に充電された正電荷を十分に流出させることがで
き、チャージポンプ7aの使用効率を高めることができ
る。他のアクティブポンプ制御回路71b〜71d,7
0a,70dもアクティブポンプ制御回路71aと同様
である。
More specifically, in FIG. 15, while signal φ72 is at the “H” level, signal / RAS0 attains the “L” level (time t2 to t3), and capacitor 52 becomes VC.
It is assumed that C-Vthn is charged. A certain time t
3 when signal / RAS0 attains "H" level.
3 becomes 2VCC-Vthn, and the boosted potential VPP from the node N53 via the N-channel MOS transistor 54
A positive charge flows through the node. If signal φ72 attains the “L” level while positive charges are flowing from node N53 to the node of boosted potential VPP, the positive charges charged in capacitor 52 do not sufficiently flow out, and the use efficiency of charge pump 7a is reduced. Gets worse. However, in the second embodiment, since signal φ72 is held at the “H” level, the positive charges charged in capacitor 52 can be sufficiently discharged, and the use efficiency of charge pump 7a can be increased. Other active pump control circuits 71b to 71d, 7
0a and 70d are the same as the active pump control circuit 71a.

【0075】[実施の形態3]図17は、この発明の実
施の形態3によるSDRAMのVPP発生回路の構成を
示す回路ブロック図であって、図1と対比される図であ
る。図17を参照して、このVPP発生回路が図1のV
PP発生回路と異なる点は、アクティブポンプ制御回路
4がアクティブポンプ制御回路80a〜80d,81a
〜81dと置換されている点である。アクティブポンプ
制御回路80a〜80d,81a〜81dは、それぞれ
チャージポンプ6a〜6d〜7a〜7dのポンプ信号φ
Pと信号φ2,φ3とに従ってチャージポンプ6a〜6
d,7a〜7dを制御する。アクティブポンプ制御回路
80a〜80d,81a〜81dの出力信号は、それぞ
れ信号φ4の代わりにチャージポンプ6a〜6d,7a
〜7dに入力される。
[Third Embodiment] FIG. 17 is a circuit block diagram showing a configuration of a VPP generation circuit of an SDRAM according to a third embodiment of the present invention, which is compared with FIG. Referring to FIG. 17, this VPP generation circuit is connected to VPP of FIG.
The difference from the PP generation circuit is that the active pump control circuit 4 has the active pump control circuits 80a to 80d and 81a.
-81d. The active pump control circuits 80a to 80d and 81a to 81d respectively generate pump signals φ of the charge pumps 6a to 6d to 7a to 7d.
Charge pumps 6a-6a in accordance with P and signals φ2, φ3
d, 7a to 7d are controlled. Output signals of the active pump control circuits 80a to 80d and 81a to 81d are charge pumps 6a to 6d and 7a instead of the signal φ4, respectively.
To 7d.

【0076】アクティブポンプ制御回路81aは、図1
8に示すように、ORゲート82、インバータ83およ
びNANDゲート84,85を含み、NANDゲート8
4,85はフリップフロップ86を構成する。信号φ2
は、ORゲート82の一方入力ノードに入力される。信
号φ3は、インバータ83を介してフリップフロップ8
6のセット端子86aに入力される。チャージポンプ7
aのポンプ信号φPは、フリップフロップ86のリセッ
ト端子86bに入力される。フリップフロップ86の出
力信号φ86は、ORゲート82の他方入力ノードに入
力される。ORゲート72の出力信号φ82は、信号φ
4の代わりにチャージポンプ7aに入力される。
The active pump control circuit 81a is configured as shown in FIG.
As shown in FIG. 8, the NAND gate 8 includes an OR gate 82, an inverter 83, and NAND gates 84 and 85.
Reference numerals 4 and 85 constitute a flip-flop 86. Signal φ2
Is input to one input node of the OR gate 82. The signal φ3 is supplied to the flip-flop 8 via the inverter 83.
6 is input to the set terminal 86a. Charge pump 7
The pump signal φP of “a” is input to the reset terminal 86 b of the flip-flop 86. Output signal φ86 of flip-flop 86 is input to the other input node of OR gate 82. The output signal φ82 of the OR gate 72 is the signal φ
4 is input to the charge pump 7a.

【0077】今、信号φ2,φ3がそれぞれ「L」レベ
ルおよび「H」レベルになっているものとする。このと
きフリップフロップ86の出力信号φ86は「H」レベ
ルになっているので、信号φ82は「H」レベルになり
チャージポンプ7aは動作可能状態になっている。ある
時刻t3(図16参照)に信号/RAS0が「H」レベ
ルになってチャージポンプ7aのポンプ信号φPが
「H」レベルになり、チャージポンプ7aから昇圧電位
VPPのノードに正電荷が流れる。チャージポンプ7a
のポンプ信号φPが「H」レベルになると、図18のN
ANDゲート85の出力信号は「L」レベルになる。チ
ャージポンプ7aから昇圧電位VPPのノードに正電荷
が流入して昇圧電位VPPが目標電位VRに到達し、信
号φ3が「L」レベルになってもポンプ信号φPが
「H」レベルである期間はフリップフロップ86の出力
信号φ86が「H」レベルのまま変化しない。
Now, it is assumed that signals φ2 and φ3 are at “L” level and “H” level, respectively. At this time, since the output signal φ86 of the flip-flop 86 is at the “H” level, the signal φ82 is at the “H” level, and the charge pump 7a is in an operable state. At a certain time t3 (see FIG. 16), signal / RAS0 attains “H” level, and pump signal φP of charge pump 7a attains “H” level, and positive charge flows from charge pump 7a to the node of boosted potential VPP. Charge pump 7a
Becomes high when the pump signal φP of FIG.
The output signal of AND gate 85 attains "L" level. Positive charge flows from the charge pump 7a to the node of the boosted potential VPP, the boosted potential VPP reaches the target potential VR, and the period during which the pump signal φP is at the “H” level even when the signal φ3 is at the “L” level The output signal φ86 of the flip-flop 86 remains at “H” level and does not change.

【0078】したがって、実施の形態2と同様、チャー
ジポンプ7aのキャパシタ52に充電された正電荷を昇
圧電位VPPのノードに十分に供給させることができ、
チャージポンプ7aの使用効率が高くなる。他のアクテ
ィブポンプ制御回路81b〜81d,80a〜80dも
アクティブポンプ制御回路81aと同様である。
Therefore, as in the second embodiment, the positive charge charged in capacitor 52 of charge pump 7a can be sufficiently supplied to the node of boosted potential VPP.
The use efficiency of the charge pump 7a increases. The other active pump control circuits 81b to 81d and 80a to 80d are the same as the active pump control circuit 81a.

【0079】なお、今回開示された実施の形態はすべて
の点で例示であって制限的なものではないと考えられる
べきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特
許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の
意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意
図される。
It should be understood that the embodiments disclosed this time are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上のように、請求項1に係る発明で
は、内部電源ノードの電位が目標電位に到達しているか
否かを常時検出し、到達していない場合は第1の制御信
号を活性化レベルにする第1の検出回路と、内部回路が
アクティブ状態にされたことに応じて所定時間だけ活性
化され、内部電源ノードの電位が目標電位に到達してい
るか否かを検出し、到達していない場合は第2の制御信
号を活性化レベルにする第2の検出回路と、第1の制御
信号が活性化レベルの場合に活性化され、所定周期で内
部電源ノードに電荷を供給する電荷供給能力が小さな第
1のチャージポンプと、第1および第2の制御信号のう
ちの少なくとも一方が活性化レベルにされている場合に
第3の制御信号を活性化レベルにする制御回路と、第3
の制御信号が活性化レベルの場合に活性化され、内部回
路がスタンバイ状態にされたことに応じて内部電源ノー
ドに電荷を供給する電荷供給能力が大きな第2のチャー
ジポンプとが設けられる。したがって、第1および第2
の制御信号のうちの少なくとも一方が活性化レベルにさ
れている場合は第2のチャージポンプが活性化されるの
で、内部回路が長時間アクティブ状態にされて内部電源
ノードが目標電位に到達していない場合でも、内部回路
がスタンバイ状態にされたときに第2のチャージポンプ
から内部電源ノードに電荷が供給され、内部電源ノード
の電位変化が抑制される。このため、内部電源ノードの
電位変化を抑制するためのプール容量が小さくてすみ、
レイアウト面積が小さくてすむ。
As described above, according to the first aspect of the present invention, it is always detected whether or not the potential of the internal power supply node has reached the target potential. If not, the first control signal is output. A first detection circuit for setting an activation level, and activation for a predetermined time in response to the internal circuit being activated, for detecting whether or not the potential of the internal power supply node has reached a target potential; A second detection circuit that sets the second control signal to the activation level when the signal has not reached the first detection signal; and a second detection circuit that is activated when the first control signal is at the activation level and supplies a charge to the internal power supply node at a predetermined cycle. A first charge pump having a small charge supply capability, and a control circuit for setting a third control signal to an activation level when at least one of the first and second control signals is at an activation level. , Third
Is activated when the control signal is at the activation level, and a second charge pump having a large charge supply capability for supplying charges to the internal power supply node in response to the internal circuit being set to the standby state is provided. Therefore, the first and second
When at least one of the control signals is activated, the second charge pump is activated, so that the internal circuit is activated for a long time and the internal power supply node reaches the target potential. Even when there is no internal power supply, the charge is supplied from the second charge pump to the internal power supply node when the internal circuit is set to the standby state, and the change in potential of the internal power supply node is suppressed. Therefore, the pool capacity for suppressing the potential change of the internal power supply node can be small,
The layout area is small.

【0081】請求項2に係る発明では、請求項1に係る
発明の制御回路は、内部回路がスタンバイ状態にされた
ことに応じて第1の制御信号のレベルをラッチするラッ
チ回路を含み、ラッチ回路にラッチされた第1の制御信
号と第2の制御信号のうちの少なくとも一方が活性化レ
ベルにされている場合に第3の制御信号を活性化レベル
にする。この場合は、第2のチャージポンプに充電され
た電荷が内部電源ノードに十分供給されていないときに
第3の制御信号が非活性化レベルになることを防止する
ことができ、チャージポンプの使用効率を高めることが
できる。
According to a second aspect of the present invention, the control circuit according to the first aspect of the present invention includes a latch circuit for latching a level of a first control signal in response to an internal circuit being in a standby state, The third control signal is set to the activation level when at least one of the first control signal and the second control signal latched by the circuit is set to the activation level. In this case, it is possible to prevent the third control signal from going into the inactivation level when the charge charged in the second charge pump is not sufficiently supplied to the internal power supply node. Efficiency can be increased.

【0082】請求項3に係る発明では、請求項1に係る
発明の第2のチャージポンプは、第3の制御信号が活性
化レベルにされ、かつ内部回路がスタンバイ状態にされ
ている場合にポンプ信号を活性化レベルにする信号発生
回路と、所定容量値のキャパシタを有し、ポンプ信号が
非活性化レベルにされたことに応じてキャパシタを充電
させ、ポンプ信号が非活性化レベルにされたことに応じ
てキャパシタの電荷を内部電源ノードに放電させる充放
電回路を含む。制御回路は、第1の制御信号が活性化レ
ベルにされたことに応じて第4の制御信号を活性化レベ
ルにし、ポンプ信号が非活性化レベルにされたことに応
じて第4の制御信号を非活性化レベルにするフリップフ
ロップを含み、第2および第4の制御信号のうちの少な
くとも一方が活性化レベルにされている場合に第3の制
御信号を活性化レベルにする。この場合も、第2のチャ
ージポンプに充電された電荷が内部電源ノードに十分に
供給されていないときに第3の制御信号が非活性化レベ
ルになることを防止することができ、チャージポンプの
使用効率を高めることができる。
According to the third aspect of the present invention, the second charge pump according to the first aspect of the present invention provides a pump wherein the third control signal is at an activation level and the internal circuit is in a standby state. A signal generation circuit for setting a signal to an activation level; and a capacitor having a predetermined capacitance value, wherein the capacitor is charged in response to the pump signal being set to the inactivation level, and the pump signal is set to the inactivation level. And a charge / discharge circuit for discharging the charge of the capacitor to the internal power supply node. The control circuit sets the fourth control signal to the active level in response to the first control signal being set to the active level, and sets the fourth control signal in response to the pump signal to be set to the inactive level. And a flip-flop for setting the third control signal to the activation level when at least one of the second and fourth control signals is set to the activation level. Also in this case, it is possible to prevent the third control signal from going into the inactivation level when the charge charged in the second charge pump is not sufficiently supplied to the internal power supply node. Usage efficiency can be improved.

【0083】請求項4に係る発明では、請求項1から3
のいずれかに係る発明に、第3の制御信号が活性化レベ
ルの場合に活性化され、内部回路がアクティブ状態にさ
れたことに応じて内部電源ノードに電荷を供給する電荷
供給能力が大きな第3のチャージポンプがさらに設けら
れる。この場合は、内部電源ノードの電位変化を一層抑
制できる。
In the invention according to claim 4, claims 1 to 3
In the invention according to any one of the first to third aspects, the third control signal is activated when the activation level is at the activation level, and has a large charge supply capability for supplying charges to the internal power supply node in response to the activation of the internal circuit. Three charge pumps are further provided. In this case, the change in potential of the internal power supply node can be further suppressed.

【0084】請求項5に係る発明では、請求項1から4
のいずれかに係る発明の内部回路はメモリアレイを含
み、半導体装置は半導体記憶装置である。この発明は、
この場合に特に有効である。
According to the fifth aspect of the present invention, the first to fourth aspects are described.
The internal circuit according to any one of the above aspects includes a memory array, and the semiconductor device is a semiconductor storage device. The present invention
This is particularly effective in this case.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1によるSDRAMの
VPP発生回路の構成を示す回路ブロック図である。
FIG. 1 is a circuit block diagram showing a configuration of a VPP generation circuit of an SDRAM according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示したアクティブレベル検出回路制御
ロジックの構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of an active level detection circuit control logic shown in FIG.

【図3】 図2に示したアクティブレベル検出回路制御
ロジックの動作を示すタイムチャートである。
FIG. 3 is a time chart showing an operation of an active level detection circuit control logic shown in FIG. 2;

【図4】 図1に示したアクティブレベル検出回路の構
成を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of an active level detection circuit shown in FIG.

【図5】 図4に示したアクティブレベル検出回路の動
作を示すタイムチャートである。
FIG. 5 is a time chart showing an operation of the active level detection circuit shown in FIG. 4;

【図6】 図1に示したスタンバイレベル検出回路の構
成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a standby level detection circuit shown in FIG. 1;

【図7】 図6に示したスタンバイレベル検出回路の動
作を示すタイムチャートである。
FIG. 7 is a time chart illustrating an operation of the standby level detection circuit illustrated in FIG. 6;

【図8】 図1に示したアクティブポンプ制御回路の構
成を示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of an active pump control circuit shown in FIG.

【図9】 図1に示したチャージポンプ6aの構成を示
す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a charge pump 6a shown in FIG.

【図10】 図1に示した発振器の構成を示す回路図で
ある。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a configuration of the oscillator shown in FIG.

【図11】 図1に示したチャージポンプ9の構成を示
す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration of a charge pump 9 shown in FIG.

【図12】 図1〜図11に示したVPP発生回路の効
果を説明するためのタイムチャートである。
FIG. 12 is a time chart for explaining effects of the VPP generation circuit shown in FIGS. 1 to 11;

【図13】 この発明の実施の形態2によるSDRAM
のVPP発生回路の構成を示す回路ブロック図である。
FIG. 13 is an SDRAM according to a second embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit block diagram showing a configuration of a VPP generation circuit of FIG.

【図14】 図13に示したアクティブポンプ制御回路
71aの構成を示す回路図である。
FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration of an active pump control circuit 71a shown in FIG.

【図15】 図13に示したチャージポンプ7aの構成
を示す回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram showing a configuration of a charge pump 7a shown in FIG.

【図16】 図13〜図15に示したVPP発生回路の
効果を説明するためのタイムチャートである。
FIG. 16 is a time chart for explaining effects of the VPP generation circuit shown in FIGS. 13 to 15;

【図17】 この発明の実施の形態3によるSDRAM
のVPP発生回路の構成を示す回路ブロック図である。
FIG. 17 is an SDRAM according to a third embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a circuit block diagram showing a configuration of a VPP generation circuit of FIG.

【図18】 図17に示したアクティブポンプ制御回路
81aの構成を示す回路図である。
18 is a circuit diagram showing a configuration of an active pump control circuit 81a shown in FIG.

【図19】 従来のSDRAMの全体構成を示すブロッ
ク図である。
FIG. 19 is a block diagram showing an entire configuration of a conventional SDRAM.

【図20】 図19に示したメモリアレイの一部とそれ
に関連する部分の構成を示す回路ブロック図である。
20 is a circuit block diagram showing a configuration of a part of the memory array shown in FIG. 19 and a part related thereto.

【図21】 図19に示したSDRAMに含まれるVP
P発生回路の構成を示す回路ブロック図である。
FIG. 21 shows a VP included in the SDRAM shown in FIG. 19;
FIG. 3 is a circuit block diagram illustrating a configuration of a P generation circuit.

【図22】 図21に示したVPP発生回路の問題点を
説明するためのタイムチャートである。
FIG. 22 is a time chart for explaining a problem of the VPP generation circuit shown in FIG. 21;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,121 アクティブレベル検出回路制御ロジック、
2,122 アクティブレベル検出回路、3,123
スタンバイレベル検出回路、4,70a〜70d,71
a〜71d,80a〜80d,81a〜81d アクテ
ィブポンプ制御回路、5a〜5d,14,31〜34,
46,47,56,61,74〜77,83,124a
〜124d インバータ、6a〜6d,7a〜7d,
9,125a〜125d,126a〜126d,128
チャージポンプ、8,127 発振器、10,11,
130,131 プール容量、12 EX−ORゲー
ト、13 遅延回路、15,51 ANDゲート、21
〜24,41〜43 PチャネルMOSトランジスタ、
25〜30,44,45,53,54,63,64 N
チャネルMOSトランジスタ、35,73 トランスフ
ァーゲート、47,72,82 ORゲート、52,6
2 キャパシタ、55,84,85 NANDゲート、
86 フリップフロップ、101 クロックバッファ、
102 制御信号バッファ、103 アドレスバッフ
ァ、104 モードレジスタ、105 制御回路、10
6〜109 メモリアレイ、♯0〜♯3 バンク、11
0 I/Oバッファ、111 行デコーダ、112 列
デコーダ、113 センスアンプ+入出力制御回路、1
14 列選択ゲート、115 センスアンプ、116
イコライザ、MC メモリセル、WL ワード線、B
L,/BL ビット線対、CSL列選択線、IO,/I
O データ入出力線対。
1,121 active level detection circuit control logic,
2,122 Active level detection circuit, 3,123
Standby level detection circuit, 4, 70a to 70d, 71
a-71d, 80a-80d, 81a-81d Active pump control circuit, 5a-5d, 14, 31-34,
46, 47, 56, 61, 74 to 77, 83, 124a
~ 124d inverter, 6a ~ 6d, 7a ~ 7d,
9, 125a to 125d, 126a to 126d, 128
Charge pump, 8,127 oscillator, 10,11,
130, 131 pool capacity, 12 EX-OR gate, 13 delay circuit, 15, 51 AND gate, 21
~ 24,41-43 P-channel MOS transistors,
25 to 30, 44, 45, 53, 54, 63, 64 N
Channel MOS transistor, 35, 73 transfer gate, 47, 72, 82 OR gate, 52, 6
2 capacitors, 55, 84, 85 NAND gates,
86 flip-flops, 101 clock buffers,
102 control signal buffer, 103 address buffer, 104 mode register, 105 control circuit, 10
6 to 109 memory array, $ 0 to $ 3 banks, 11
0 I / O buffer, 111 row decoder, 112 column decoder, 113 sense amplifier + input / output control circuit, 1
14 column select gate, 115 sense amplifier, 116
Equalizer, MC memory cell, WL word line, B
L, / BL bit line pair, CSL column select line, IO, / I
O Data input / output line pair.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スタンバイ状態とアクティブ状態を有す
る内部回路を備えた半導体装置であって、 前記内部回路に内部電源電位を与えるための内部電源ノ
ード、 前記内部電源ノードの電位が予め定められた目標電位に
到達しているか否かを常時検出し、到達していない場合
は第1の制御信号を活性化レベルにする第1の検出回
路、 前記内部回路がアクティブ状態にされたことに応じて予
め定められた時間だけ活性化され、前記内部電源ノード
の電位が予め定められた目標電位に到達しているか否か
を検出し、到達していない場合は第2の制御信号を活性
化レベルにする第2の検出回路、 前記第1の制御信号が活性化レベルの場合に活性化さ
れ、予め定められた周期で前記内部電源ノードに電荷を
供給する電荷供給能力が小さな第1のチャージポンプ、 前記第1および第2の制御信号のうちの少なくとも一方
が活性化レベルにされている場合に第3の制御信号を活
性化レベルにする制御回路、および前記第3の制御信号
が活性化レベルの場合に活性化され、前記内部回路がス
タンバイ状態にされたことに応じて前記内部電源ノード
に電荷を供給する電荷供給能力が大きな第2のチャージ
ポンプを備える、半導体装置。
1. A semiconductor device having an internal circuit having a standby state and an active state, comprising: an internal power supply node for applying an internal power supply potential to the internal circuit; and a potential of the internal power supply node being a predetermined target. A first detection circuit that constantly detects whether or not the potential has been reached, and sets a first control signal to an activation level if the potential has not been reached; Activated for a predetermined time, detects whether the potential of the internal power supply node has reached a predetermined target potential, and if not, sets the second control signal to an activation level A second detection circuit which is activated when the first control signal is at an activation level and has a small charge supply capability for supplying charges to the internal power supply node at a predetermined cycle; A pump, a control circuit for setting a third control signal to an activation level when at least one of the first and second control signals is at an activation level, and an activation of the third control signal A semiconductor device comprising: a second charge pump that is activated when the level is at a level and has a large charge supply capability to supply charges to the internal power supply node in response to the internal circuit being in a standby state.
【請求項2】 前記制御回路は、 前記内部回路がスタンバイ状態にされたことに応じて前
記第1の制御信号のレベルをラッチするラッチ回路を含
み、 前記ラッチ回路にラッチされた前記第1の制御信号と前
記第2の制御信号のうちの少なくとも一方が活性化レベ
ルにされている場合に前記第3の制御信号を活性化レベ
ルにする、請求項1に記載の半導体装置。
2. The control circuit includes: a latch circuit that latches a level of the first control signal in response to the internal circuit being set to a standby state; and the first circuit latched by the latch circuit. The semiconductor device according to claim 1, wherein the third control signal is set to an activation level when at least one of a control signal and the second control signal is set to an activation level.
【請求項3】 前記第2のチャージポンプは、 前記第3の制御信号が活性化レベルにされ、かつ前記内
部回路がスタンバイ状態にされている場合にポンプ信号
を活性化レベルにする信号発生回路、および予め定めら
れた容量値のキャパシタを有し、前記ポンプ信号が非活
性化レベルにされたことに応じて前記キャパシタを充電
させ、前記ポンプ信号が活性化レベルにされたことに応
じて前記キャパシタの電荷を前記内部電源ノードに放電
させる充放電回路を含み、 前記制御回路は、 前記第1の制御信号が活性化レベルにされたことに応じ
て第4の制御信号を活性化レベルにし、前記ポンプ信号
が非活性化レベルにされたことに応じて前記第4の制御
信号を非活性化レベルにするフリップフロップを含み、 前記第2および第4の制御信号のうちの少なくとも一方
が活性化レベルにされている場合に前記第3の制御信号
を活性化レベルにする、請求項1に記載の半導体装置。
3. A signal generating circuit for setting a pump signal to an active level when the third control signal is at an active level and the internal circuit is in a standby state. And a capacitor having a predetermined capacitance value, and charges the capacitor in response to the pump signal being set to the inactive level, and sets the capacitor in response to the pump signal being set to the active level. A charge / discharge circuit for discharging a charge of a capacitor to the internal power supply node; wherein the control circuit sets a fourth control signal to an activation level in response to the first control signal being set to an activation level; A flip-flop for setting the fourth control signal to an inactive level in response to the pump signal being set to an inactive level; At least one of to the active level the third control signal if it is in active level, the semiconductor device according to claim 1.
【請求項4】 さらに、前記第3の制御信号が活性化レ
ベルの場合に活性化され、前記内部回路がアクティブ状
態にされたことに応じて前記内部電源ノードに電荷を供
給する電荷供給能力が大きな第3のチャージポンプを備
える、請求項1から請求項3のいずれかに記載の半導体
装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein said third control signal is activated when said third control signal is at an activation level, and said charge supply capability for supplying charges to said internal power supply node in response to said internal circuit being activated. 4. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a large third charge pump.
【請求項5】 前記内部回路はメモリアレイを含み、 前記半導体装置は半導体記憶装置である、請求項1から
請求項4のいずれかに記載の半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein said internal circuit includes a memory array, and said semiconductor device is a semiconductor memory device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008172230A (en) * 2007-01-08 2008-07-24 Samsung Electronics Co Ltd Semiconductor integrated circuit device
JP2009277291A (en) * 2008-05-14 2009-11-26 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor memory

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