JP2001133786A - Method of manufacturing liquid crystal display device - Google Patents
Method of manufacturing liquid crystal display deviceInfo
- Publication number
- JP2001133786A JP2001133786A JP31269799A JP31269799A JP2001133786A JP 2001133786 A JP2001133786 A JP 2001133786A JP 31269799 A JP31269799 A JP 31269799A JP 31269799 A JP31269799 A JP 31269799A JP 2001133786 A JP2001133786 A JP 2001133786A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- display device
- crystal display
- photomask
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の製
造方法に関するものであり、特に、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃ
ａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード［垂直配向型液晶表
示モード］の液晶表示装置をマルチドメイン化する際に
設けられる液晶分子の配向制御用の突起の製造方法に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly, to a VA (Vertic).
The present invention relates to a method for manufacturing a projection for controlling the alignment of liquid crystal molecules provided when a liquid crystal display device in an al alignment mode (vertical alignment type liquid crystal display mode) is multi-domain.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍ
ｅｎｔ）モード［垂直配向型液晶表示モード］の液晶表
示装置の視野角は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｎａｔ
ｉｃ）モードの液晶表示装置の視野角よりも改善された
ものであるが、このＶＡモードの液晶表示装置の視野角
を更に大幅に改善する技術として、「ＦＰＤ Ｉｎｔｅ
ｌｌｉｇｅｎｃｅ ５月号 ７９頁 １９９８」、「液
晶 第３巻 第２号 １１７頁 １９９９」などにＶＡ
モードのマルチドメイン化（配向分割化）が提案されて
いる。2. Description of the Related Art VA (Vertical Alignnm)
ent) mode [vertical alignment type liquid crystal display mode] has a viewing angle of TN (Twisted Nenat).
Although the viewing angle of the liquid crystal display device in the ic) mode is improved, a technique for further greatly improving the viewing angle of the liquid crystal display device in the VA mode is “FPD Integer”.
lligence, May, 79, 1998 "and" Liquid Crystal, Vol. 3, No. 117, 1999 ", etc.
A multi-domain mode (orientation division) has been proposed.
【０００３】このマルチドメイン化（配向分割化）は、
液晶表示装置の１画素を複数の領域に分割・区分し、各
領域毎に液晶分子の配向を異なったものにし、視野角の
広い液晶表示装置とする技術である。上記提案において
は、液晶分子の配向を制御する処理を従来のラビング法
ではなく、液晶表示装置を構成する２枚の基板上に設け
た突起により配向を制御する方法が示されている。[0003] This multi-domain (orientation division)
This is a technique in which one pixel of a liquid crystal display device is divided and divided into a plurality of regions, the orientation of liquid crystal molecules is different in each region, and a liquid crystal display device having a wide viewing angle is provided. In the above proposal, a method of controlling the alignment of liquid crystal molecules by a projection provided on two substrates constituting a liquid crystal display device instead of a conventional rubbing method is described.
【０００４】図５は、このようなマルチドメイン化され
たＶＡモードの液晶表示装置の断面の一部分を拡大し模
式的に示す説明図である。図５において、マルチドメイ
ン化されたＶＡモードの液晶表示装置（５）は、突起
（５１ａ）が設けられたＴＦＴ基板（５２）と突起（５
１ｂ）が設けられたカラーフィルタ基板（５３）との間
に液晶分子（５４）が挟持されたものである。（Ａ）、
（Ｂ）は、１画素内で分割・区分されたＡ領域、Ｂ領域
の２領域を示している。FIG. 5 is an explanatory diagram schematically showing a partially enlarged cross section of such a multi-domain VA mode liquid crystal display device. In FIG. 5, a multi-domain VA mode liquid crystal display device (5) includes a TFT substrate (52) provided with a projection (51a) and a projection (5).
Liquid crystal molecules (54) are sandwiched between a color filter substrate (53) provided with 1b). (A),
(B) shows two regions, an A region and a B region, which are divided and divided within one pixel.
【０００５】図５に示すように、その断面が三角形状の
突起は、両基板で互い違いの位置に配置されており、こ
の突起が液晶分子の配向を制御するものである。電圧無
印加時には、液晶分子は基板表面に対し垂直に配向し、
電圧印加時には、突起の傾斜部の液晶分子が傾斜をする
ので、両基板間の液晶分子は１領域内は同一の配向を
し、Ａ領域とＢ領域とは互いに異なった配向をするよう
になっている。図５は、電圧印加時の液晶分子の傾斜を
模式的に示している。As shown in FIG. 5, projections having a triangular cross section are arranged at alternate positions on both substrates, and the projections control the alignment of liquid crystal molecules. When no voltage is applied, the liquid crystal molecules are oriented perpendicular to the substrate surface,
When a voltage is applied, the liquid crystal molecules in the inclined portions of the projections are inclined, so that the liquid crystal molecules between the two substrates have the same orientation in one region, and the A region and the B region have different orientations from each other. ing. FIG. 5 schematically shows the tilt of liquid crystal molecules when a voltage is applied.
【０００６】各領域内の液晶分子の配向を均一にするた
めの好ましい突起の断面形状は、三角形状の頂点部（稜
線部）が狭く平坦であり、且つ辺部が直線状に傾斜した
ものである。しかし、このような突起をフォトリソグラ
フィによって作製すると、突起の断面の頂点部（稜線
部）は丸味を帯び、且つ辺部は直線状ではなくなる傾向
になるものである。この突起の稜線部が丸味を帯び、且
つ辺部の直線状が崩れると、１画素を複数の領域に分割
・区分した各領域内の液晶分子の配向の均一性が乱れて
しまい、液晶表示装置としては表示品質が悪化したもの
となる。[0006] A preferable cross-sectional shape of the projection for making the alignment of the liquid crystal molecules in each region uniform is such that the apex (ridge) of the triangle is narrow and flat, and the sides are inclined linearly. is there. However, when such projections are produced by photolithography, the apexes (ridges) of the cross sections of the projections tend to be rounded and the sides tend to be non-linear. If the ridge portion of the projection is rounded and the linear shape of the side portion is broken, the uniformity of the orientation of the liquid crystal molecules in each region obtained by dividing and dividing one pixel into a plurality of regions is disturbed. As a result, the display quality is degraded.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
解決するためになされたものであり、マルチドメイン化
されたＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）
モードの液晶表示装置の製造において、液晶表示装置を
構成する基板上に設けられる液晶分子の配向制御用の突
起を、その稜線部は狭く平坦であり、且つ辺部は直線状
に傾斜した形状の突起に作製して、マルチドメイン化さ
れたＶＡモードの液晶表示装置を製造する液晶表示装置
の製造方法を提供することを課題とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and is intended to provide a multi-domain VA (Vertical Alignment).
In the manufacture of a liquid crystal display device of the mode, a projection for controlling the alignment of liquid crystal molecules provided on a substrate constituting the liquid crystal display device has a narrow and flat ridge portion, and a linearly inclined side portion. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device in which a multi-domain VA mode liquid crystal display device is manufactured by forming protrusions.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、マルチドメイ
ン化されたＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎ
ｔ）モードの液晶表示装置の製造において、液晶表示装
置を構成する基板上に設けられる液晶分子の配向制御用
の突起をフォトリソグラフィによって作製する際に、遮
光部の端部に光透過のグラデーションを有するフォトマ
スクを用い、該基板上に塗布された突起形成用のフォト
レジストを露光し、現像・後処理を行って該突起を作製
することを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a multi-domain VA (Vertical Alignmen).
In the manufacture of the t) mode liquid crystal display device, when a projection for controlling alignment of liquid crystal molecules provided on a substrate constituting the liquid crystal display device is manufactured by photolithography, light transmission gradation is applied to an end portion of the light shielding portion. A method for manufacturing a liquid crystal display device, which comprises exposing a photoresist for forming projections applied on the substrate using a photomask having the photomask and performing development and post-processing to produce the projections.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】以下に本発明による液晶表示装置
の製造方法を、その実施形態に基づいて説明する。図１
は、本発明による液晶表示装置の製造方法の一実施例に
おいて、液晶表示装置を構成する基板上に設ける突起の
作製に用いるフォトマスクの一例の一部分を拡大して示
す断面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described based on its embodiments. FIG.
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a part of an example of a photomask used for manufacturing a projection provided on a substrate constituting a liquid crystal display device in one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
【００１０】図１に示すフォトマスク（１）は、フォト
マスク基板（１１）上に遮光部（１２）が形成されたも
のである。遮光部（１２）には、その端部の膜厚に傾斜
が設けられおり、この傾斜によってＵＶ光の透過にグラ
デーションの効果をもたらし、このようなフォトマスク
で突起形成用のフォトレジストを露光すると、ＵＶ光の
透過量の変化に伴ってフォトレジストの残膜量が変化す
るため、直線状の傾斜を有する突起が作製できるものと
なる。The photomask (1) shown in FIG. 1 has a light shielding portion (12) formed on a photomask substrate (11). The light-shielding portion (12) is provided with a gradient in the film thickness at the end portion, and this gradient has a gradation effect on the transmission of UV light. Since the amount of remaining photoresist changes with the change in the amount of transmission of UV light, a protrusion having a linear inclination can be manufactured.
【００１１】図１に示すフォトマスクの遮光部（１２）
はオーバーハング状である。このような遮光部は光学濃
度の比較的低い材料を用い、比較的厚い膜厚の膜を設け
て、腐食液を用いる湿式パターンエッチング法のサイド
エッチング現象を利用して、このような形状に形成する
のが好ましいものである。遮光部を形成する材料として
は、例えば、酸化クロム（ＣｒＯx ）、酸化鉄（ＦｅＯ
x ）などがあげられる。尚、図１に示すフォトマスク
は、突起形成用のフォトレジストとしてポジ型フォトレ
ジストを用いる際のフォトマスクである。The light shielding portion (12) of the photomask shown in FIG.
Is overhanging. Such a light-shielding portion is formed of a material having a relatively low optical density, a film having a relatively thick film thickness is formed in such a shape by utilizing a side etching phenomenon of a wet pattern etching method using a corrosive liquid. Is preferred. Examples of a material for forming the light shielding portion include chromium oxide (CrO x ) and iron oxide (FeO
x ). Note that the photomask shown in FIG. 1 is a photomask when a positive photoresist is used as a photoresist for forming projections.
【００１２】図２（イ）〜（ニ）は、本発明による液晶
表示装置の製造方法の一実施例を示す説明図である。図
２（イ）に示すように、所要の処理工程を経た基板（２
１）上に、突起形成用のフォトレジスト（２２）が塗布
された突起作製時の基板（２）に、図１に示すフォトマ
スク（１）を重ね、ＵＶ光（２３）を露光することによ
り、図２（イ）に示すＵＶ光（２３）は実線矢印で示す
ように、遮光部（１２）の端部の膜厚の傾斜部分でＵＶ
光の透過に直線的なグラデーションが生じ、点線矢印で
示すように、フォトレジスト（２２）に照射されるＵＶ
光は直線的なグラデーションを有するものとなる。FIGS. 2A to 2D are explanatory views showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention. As shown in FIG. 2A, the substrate (2
1) A photomask (1) shown in FIG. 1 is superimposed on a substrate (2) at the time of forming a protrusion on which a photoresist (22) for forming a protrusion is applied, and is exposed to UV light (23). The UV light (23) shown in FIG. 2 (a) is irradiated with UV light at the inclined portion of the film thickness at the end of the light shielding portion (12) as shown by the solid arrow.
A linear gradation occurs in the transmission of light, and the UV irradiated on the photoresist (22) as indicated by a dotted arrow.
The light has a linear gradation.
【００１３】図２（ロ）は、突起形成用のフォトレジス
ト（２２）へのＵＶ光照射量の直線的なグラデーション
を模式的に示した図である。図２（ロ）において、突起
形成用のフォトレジスト（２２）はポジ型フォトレジス
トであるが、フォトレジストとしては、フォトレジスト
内で光の散乱が起こり易く、また、現像・水洗、及び焼
成などの後処理においてフォトレジストが収縮し易いも
のが好ましい。FIG. 2B is a diagram schematically showing a linear gradation of the amount of UV light irradiation on the photoresist (22) for forming a projection. In FIG. 2B, the photoresist (22) for forming the protrusions is a positive photoresist. However, as the photoresist, light scattering easily occurs in the photoresist, and development, washing, baking, etc. It is preferable that the photoresist easily shrinks in the post-treatment.
【００１４】図２（ハ）は、ＵＶ光が露光されたフォト
レジストが現像・水洗された後の状態を示している。こ
の状態のフォトレジストは、パターン化され、そのパタ
ーンの断面形状（２２’）は、その上部に平坦な部分が
設けられるように形成する。現像・水洗後に行われる焼
成により得られるパターンの断面形状（２２’’）は、
フォトレジストの収縮により図２（ニ）に示すように、
その上部の平坦な部分が更に小さなものとなっている。
すなわち、上記のようにして得られた液晶分子の配向制
御用の突起は、その稜線部は狭く平坦であり、且つ辺部
は直線状に傾斜した形状のものである。FIG. 2C shows a state after the photoresist exposed to the UV light is developed and washed with water. The photoresist in this state is patterned, and the cross-sectional shape (22 ') of the pattern is formed such that a flat portion is provided thereon. The cross-sectional shape (22 ″) of the pattern obtained by baking performed after development and washing is
Due to the shrinkage of the photoresist, as shown in FIG.
The flat part on the top is smaller.
That is, the projection for controlling the alignment of the liquid crystal molecules obtained as described above has a shape in which the ridge is narrow and flat, and the sides are linearly inclined.
【００１５】図３は、本発明による液晶表示装置の製造
方法において、液晶表示装置を構成する基板上に設ける
突起の作製に用いるフォトマスクの他の例の一部分を拡
大して示す断面図である。図３に示すフォトマスク
（３）は、フォトマスク基板（３１）上に遮光部（３
２）が形成されたものである。この遮光部（３２）に
は、その端部の膜厚に傾斜が設けられおり、この傾斜に
よってＵＶ光の透過にグラデーションの効果をもたら
す。この図３に示すフォトマスクは、突起形成用のフォ
トレジストとしてネガ型フォトレジストを用いる際のフ
ォトマスクである。FIG. 3 is an enlarged sectional view showing a part of another example of a photomask used for manufacturing a projection provided on a substrate constituting a liquid crystal display device in a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention. . The photomask (3) shown in FIG. 3 includes a light shielding portion (3) on a photomask substrate (31).
2) is formed. The light-shielding portion (32) is provided with a gradient in the film thickness at the end portion, and this gradient has a gradation effect on the transmission of UV light. The photomask shown in FIG. 3 is a photomask when a negative photoresist is used as a photoresist for forming a projection.
【００１６】[0016]
【実施例】＜実施例１＞ （フォトマスクの作製）フォトマスク基板としては石英
ガラスを用い、遮光部を形成する材料としてはＣｒＯX
を用いた。図４に示すように、フォトマスクの遮光部の
幅（ａ）は約１０μｍ、厚さ（ｂ）は約５μｍ、遮光部
の膜厚の傾斜部分（ｃ）は約３μｍに形成した。得られ
た遮光部の傾斜部分の光学濃度は、０〜３．０の範囲を
直線的に変化するグラデーションを有するものであっ
た。EXAMPLES <Example 1> CrO X as the material as the (photo mask fabrication) photomask substrate using the quartz glass, to form a light shielding portion
Was used. As shown in FIG. 4, the width (a) of the light shielding portion of the photomask was about 10 μm, the thickness (b) was about 5 μm, and the inclined portion (c) of the light shielding portion was about 3 μm. The obtained optical density of the inclined portion of the light-shielding portion had a gradation that linearly changed in a range of 0 to 3.0.
【００１７】（突起の作製）液晶表示装置を構成する基
板としては無アルカリガラス（コーニング製：７０５
９）を用い、この基板上にポジ型フォトレジスト（チッ
ソ（株）製：ＡＺ−１３５０）を膜厚約２．２μｍ塗布
した。ＵＶ光の露光量は約２５０ｍＪ／ｃｍ2 にて行
い、現像・水洗、及び焼成により、高さ約１．８μｍの
突起を得た。得られた突起は、その稜線部は狭く平坦で
あり、且つ辺部は直線状に傾斜した形状のものであっ
た。(Preparation of Protrusions) A non-alkali glass (Corning: 705) is used as a substrate constituting a liquid crystal display device.
Using 9), a positive photoresist (AZ-1350, manufactured by Chisso Corporation) was applied on the substrate to a thickness of about 2.2 μm. The exposure amount of UV light was about 250 mJ / cm 2 , and development, washing with water and baking yielded a projection with a height of about 1.8 μm. The obtained protrusion had a narrow and flat ridge line, and a linearly inclined side.
【００１８】[0018]
【発明の効果】本発明は、マルチドメイン化されたＶＡ
モードの液晶表示装置の製造において、液晶表示装置を
構成する基板上に設けられる液晶分子の配向制御用の突
起をフォトリソグラフィによって作製する際に、遮光部
の端部に光透過のグラデーションを有するフォトマスク
を用い、該基板上に塗布された突起形成用のフォトレジ
ストを露光し、現像・後処理を行って該突起を作製する
ので、その突起の稜線部は狭く平坦であり、且つ辺部は
直線状に傾斜した形状の突起となり、１画素を複数の領
域に分割・区分した各領域の液晶分子の配向は均一なも
のになり、表示品質の優れたマルチドメイン化されたＶ
Ａモードの液晶表示装置の製造方法となる。According to the present invention, a multi-domain VA
In the manufacture of a liquid crystal display device of the mode, when a projection for controlling the alignment of liquid crystal molecules provided on a substrate constituting the liquid crystal display device is manufactured by photolithography, a light having a gradation of light transmission at an end of a light shielding portion. Using a mask, the projection-forming photoresist applied on the substrate is exposed and developed and post-processed to produce the projections, so that the ridges of the projections are narrow and flat, and the sides are The projections have a linearly inclined shape, and the orientation of the liquid crystal molecules in each of the areas where one pixel is divided and divided into a plurality of areas becomes uniform, and a multi-domain V with excellent display quality is obtained.
This is a method for manufacturing an A-mode liquid crystal display device.
【図１】本発明による液晶表示装置の製造方法において
設ける突起の作製に用いるフォトマスクを拡大して示す
断面図である。FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view showing a photomask used for manufacturing a projection provided in a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
【図２】（イ）〜（ニ）は、本発明による液晶表示装置
の製造方法の一実施例を示す説明図である。FIGS. 2A to 2D are explanatory views showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
【図３】フォトマスクの他の例を拡大して示す断面図で
ある。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing another example of a photomask.
【図４】実施例１におけるフォトマスクの寸法を示す説
明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating dimensions of a photomask in the first embodiment.
【図５】マルチドメイン化されたＶＡモードの液晶表示
装置の断面の一部分を拡大し模式的に示す説明図であ
る。FIG. 5 is an explanatory view schematically showing a partially enlarged cross-section of a multi-domain VA mode liquid crystal display device.
１、３…フォトマスク ２…突起作製時の基板 ５…マルチドメイン化されたＶＡモードの液晶表示装置 １１、３１…フォトマスク基板 １２、３２…遮光部 ２１…所要の処理工程を経た基板 ２２…フォトレジスト ２２’…パターン化されたフォトレジストの断面形状 ２２’’…焼成後のパターンの断面形状 ２３…ＵＶ光 ５１ａ、５１ｂ…突起 ５２…ＴＦＴ基板 ５３…カラーフィルタ基板 ５４…液晶分子 Ａ…１画素内で分割・区分されたＡ領域 Ｂ…１画素内で分割・区分されたＢ領域 ａ…フォトマスクの遮光部の幅 ｂ…フォトマスクの遮光部の厚さ ｃ…フォトマスクの遮光部の膜厚の傾斜部分 1, 3 ... Photomask 2 ... Substrate at the time of forming protrusions 5 ... Multi-domain VA mode liquid crystal display device 11, 31 ... Photomask substrate 12, 32 ... Light shielding unit 21 ... Substrate after required processing steps 22 ... Photoresist 22 '... Cross-sectional shape of patterned photoresist 22 "... Cross-sectional shape of pattern after baking 23 ... UV light 51a, 51b ... Protrusion 52 ... TFT substrate 53 ... Color filter substrate 54 ... Liquid crystal molecule A ... 1 A region divided / divided in pixel B: B region divided / divided in one pixel a: width of light shielding part of photomask b: thickness of light shielding part of photomask c: light shielding part of photomask Slope of film thickness
Claims (1)
ｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの液晶表示装置の
製造において、液晶表示装置を構成する基板上に設けら
れる液晶分子の配向制御用の突起をフォトリソグラフィ
によって作製する際に、遮光部の端部に光透過のグラデ
ーションを有するフォトマスクを用い、該基板上に塗布
された突起形成用のフォトレジストを露光し、現像・後
処理を行って該突起を作製することを特徴とする液晶表
示装置の製造方法。1. A multi-domain VA (Verti)
In the manufacture of a liquid crystal display device of a cal alignment mode, when a projection for controlling the alignment of liquid crystal molecules provided on a substrate constituting the liquid crystal display device is manufactured by photolithography, light transmission gradation is applied to an end of the light shielding portion. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: exposing a photoresist for forming projections applied on the substrate using a photomask having the above, and performing development and post-processing to produce the projections.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31269799A JP4374681B2 (en) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | Manufacturing method of liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31269799A JP4374681B2 (en) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | Manufacturing method of liquid crystal display device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001133786A true JP2001133786A (en) | 2001-05-18 |
| JP4374681B2 JP4374681B2 (en) | 2009-12-02 |
Family
ID=18032350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31269799A Expired - Fee Related JP4374681B2 (en) | 1999-11-02 | 1999-11-02 | Manufacturing method of liquid crystal display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4374681B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6455339B1 (en) * | 2000-11-30 | 2002-09-24 | Hannstar Display Corp. | Method for fabricating protrusion of liquid crystal display |
| WO2003103282A1 (en) * | 2002-06-03 | 2003-12-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and apparatus for increasing the spatial resolution of a projected pixelated display |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110187545B (en) * | 2019-04-09 | 2021-07-06 | Tcl华星光电技术有限公司 | Color film substrate and display panel |
-
1999
- 1999-11-02 JP JP31269799A patent/JP4374681B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6455339B1 (en) * | 2000-11-30 | 2002-09-24 | Hannstar Display Corp. | Method for fabricating protrusion of liquid crystal display |
| WO2003103282A1 (en) * | 2002-06-03 | 2003-12-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and apparatus for increasing the spatial resolution of a projected pixelated display |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4374681B2 (en) | 2009-12-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6262783B1 (en) | Liquid crystal display device with reflective electrodes and method for fabricating the same | |
| KR20060065978A (en) | Slit mask | |
| JP5011973B2 (en) | Photo mask | |
| JP2003173015A (en) | Method of manufacturing gray tone mask | |
| JP5163016B2 (en) | Color filter manufacturing method and photomask | |
| JP2002341355A (en) | Method of manufacturing liquid crystal display device and array substrate as well as liquid crystal display device | |
| JP4774567B2 (en) | Pattern forming method, color filter manufacturing method, and liquid crystal display device | |
| JP2007094064A (en) | Method for manufacturing color filter for liquid crystal display device and color filter for liquid crystal display device | |
| JP4374681B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display device | |
| KR20000076744A (en) | Photomask, method for producing tft substrate, and method for producing display device | |
| WO2010100920A1 (en) | Liquid crystal display apparatus and manufacturing method thereof | |
| JP2007121389A (en) | Color filter for liquid crystal display device and manufacturing method therefor, and liquid crystal display device | |
| JP4774908B2 (en) | Color filter for liquid crystal display device and liquid crystal display device | |
| JP4369543B2 (en) | Color filter and manufacturing method thereof | |
| JP4887958B2 (en) | Photo mask | |
| JP4616439B2 (en) | Manufacturing method of color filter | |
| KR100502793B1 (en) | Multi-zone vertical alignment twisted nematic liquid crystal display substrate using organic insulating film and liquid crystal display device including the same | |
| JP2010008532A (en) | Half tone photomask and color filter substrate produced by using it | |
| JP5217648B2 (en) | Photomask and color filter substrate manufactured using the same | |
| JP4968429B2 (en) | Manufacturing method of color filter forming substrate for liquid crystal display device | |
| JP2002350864A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display device | |
| JP2007121800A (en) | Method for manufacturing color filter substrate, and the color filter substrate | |
| JP2006221015A (en) | Color filter for liquid crystal display device and method for manufacturing the same | |
| JP2004240095A (en) | Method for manufacturing pattern layer forming body | |
| JP5326813B2 (en) | Photomask, color filter manufacturing method, color filter |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061024 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090721 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090818 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090831 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120918 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120918 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130918 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |