JP2001133330A - Temperature detector for semiconductor module - Google Patents
Temperature detector for semiconductor moduleInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の素子からな
る半導体モジュールの温度を検出する、半導体モジュー
ルの温度検出装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor module temperature detecting device for detecting the temperature of a semiconductor module comprising a plurality of elements.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、電気自動車等のモータをインバー
タ装置で駆動する場合、並列接続した複数のIGBT素
子でインバータ回路における各相のアームを構成し、各
相のアームを構成するIGBT素子をスイッチング動作
させて、例えば3相の交流出力を得るようにしたものが
ある。2. Description of the Related Art Conventionally, when a motor of an electric vehicle or the like is driven by an inverter device, an arm of each phase in an inverter circuit is constituted by a plurality of IGBT elements connected in parallel, and an IGBT element constituting the arm of each phase is switched. There is one that is operated to obtain, for example, a three-phase AC output.
【0003】このようなインバータ回路において過電流
が流れると、IGBT素子の温度が上昇して破壊に至る
おそれがあるため、IGBT素子の破壊が起こる前に、
IGBT素子をカットオフさせるなどして、保護を行う
必要がある。このような制御を行うためには、IGBT
素子の温度を正確に検出する必要がある。[0003] When an overcurrent flows in such an inverter circuit, the temperature of the IGBT element may be increased to cause destruction.
It is necessary to protect the IGBT element by, for example, cutting off the IGBT element. In order to perform such control, an IGBT
It is necessary to accurately detect the temperature of the element.
【0004】特開平10−38964号公報には、複数
のIGBT素子からなる半導体モジュールにおいて、各
IGBT素子に温度検出用のダイオードを設け、それら
のダイオードを並列接続し、その出力電圧から温度検出
回路にて半導体モジュールの温度を検出するものが記載
されている。すなわち、並列接続された温度検出用ダイ
オードに定電流を流したとき、ダイオードの端子間に発
生する電圧VFが、温度の上昇とともに低下する負の温
度係数を有することを利用して、並列接続された温度検
出用ダイオードの出力電圧が閾値以下になると、複数の
IGBT素子の少なくとも1つが所定温度以上になった
ことを検出する。Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 10-38964 discloses a semiconductor module comprising a plurality of IGBT elements, each of which has a diode for temperature detection, and these diodes are connected in parallel. Discloses a technique for detecting the temperature of a semiconductor module. That is, when a constant current is applied to the temperature detecting diodes connected in parallel, the voltage VF generated between the terminals of the diodes has a negative temperature coefficient that decreases as the temperature increases. When the output voltage of the temperature detecting diode becomes equal to or lower than the threshold, it is detected that at least one of the plurality of IGBT elements has reached a predetermined temperature or higher.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上記した特開平10−
38964号公報に記載された技術について、本発明者
らがさらに検討を行ったところ、複数(例えば3つ)の
IGBT素子のうちの1つが高温になった場合、並列接
続された温度検出用ダイオードに供給される電流が1つ
のダイオードに集中して流れるため、所望の検出温度よ
り高い温度で異常を検出することになり、検出温度に誤
差が生じることがわかった。すなわち、本発明者らの実
測によれば、ダイオードに流れる電流IFと、ダイオー
ドの端子間に発生する電圧VFは、図6に示すように約
−3mV/℃の温度係数を有しているが、ダイオードの
順方向電流が、2倍、3倍と増えていくにつれ、VF−
T(温度)特性が図の上側に移動するため、温度検出用
ダイオードの出力電圧が基準電圧(図では0.84V)
以下になるときの検出温度が図の右側に移動し、順方向
電流が3倍になると、検出温度に27℃もの誤差が生じ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No.
The present inventors have further studied the technology described in Japanese Patent No. 38964, and found that when one of a plurality of (for example, three) IGBT elements becomes high in temperature, a temperature detecting diode connected in parallel is used. Since the current supplied to the diode flows intensively into one diode, an abnormality is detected at a temperature higher than a desired detection temperature, and it has been found that an error occurs in the detection temperature. That is, according to actual measurements by the present inventors, the current IF flowing through the diode and the voltage VF generated between the terminals of the diode have a temperature coefficient of about −3 mV / ° C. as shown in FIG. As the forward current of the diode increases twice and three times, VF−
Since the T (temperature) characteristic moves to the upper side of the figure, the output voltage of the temperature detecting diode becomes the reference voltage (0.84 V in the figure).
If the detected temperature moves to the right side in the figure when the temperature becomes below, and the forward current is tripled, an error of as much as 27 ° C. occurs in the detected temperature.
【0006】本発明は上記問題に鑑みたもので、検出温
度に生じる誤差を低減することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to reduce an error occurring in a detected temperature.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明では、半導体モジュールを構
成する複数の素子(11、21、31)のそれぞれの温
度を検出する温度検出素子として、ダイオード(12)
を形成するPN接合したP型領域(121a)およびN
型領域(122a)と、P型領域およびN型領域のうち
の一方の領域から延びて形成された抵抗領域(131)
とを有し、ダイオードと抵抗領域による抵抗(13)と
が電気的に直列接続された構成のものとし、抵抗領域の
抵抗値が、P型領域およびN型領域による抵抗値よりも
大きくなっていることを特徴としている。According to the first aspect of the present invention, there is provided a temperature detecting element for detecting a temperature of each of a plurality of elements (11, 21, 31) constituting a semiconductor module. As a diode (12)
PN junction P-type region (121a) and N
Type region (122a) and a resistance region (131) formed to extend from one of the P-type region and the N-type region.
Having a configuration in which a diode and a resistor (13) formed by a resistance region are electrically connected in series, and the resistance value of the resistance region becomes larger than the resistance value formed by the P-type region and the N-type region. It is characterized by having.
【0008】このようにダイオードに抵抗を直列に接続
することにより、抵抗によって電流制限が行われ他の素
子とのバランスがとられて、複数の素子のうちの1つが
高温になった場合でも、その素子に設けられた温度検出
素子に電流が集中して流れることがないため、検出温度
に生じる誤差を少なくすることができる。By connecting the resistor in series with the diode in this way, even if one of the plurality of elements becomes hot, the current is limited by the resistance and the other elements are balanced. Since the current does not flow intensively to the temperature detecting element provided in the element, an error occurring in the detected temperature can be reduced.
【0009】請求項2に記載の発明では、温度検出素子
として、ダイオード(12)を形成するPN接合したP
型領域(121a)およびN型領域(122a)と、P
型領域およびN型領域のうちの一方の領域から延びて形
成された抵抗領域(131)とを有し、一方の領域は、
その領域全体を等電位化するために第1のコンタクト
(123a)を介して金属膜(127)に接続され、抵
抗領域は、第2のコンタクト(132)を介して取り出
し電極(133)に接続されており、ダイオードと抵抗
領域による抵抗(13)とが電気的に直列接続された構
成になっていることを特徴としている。According to the second aspect of the present invention, as the temperature detecting element, a PN-joined P which forms a diode (12) is used.
P-type region (121a) and N-type region (122a)
And a resistance region (131) formed to extend from one of the mold region and the N-type region.
The entire region is connected to the metal film (127) via the first contact (123a) to make the entire region equipotential, and the resistance region is connected to the extraction electrode (133) via the second contact (132). This is characterized in that a diode and a resistor (13) formed by a resistance region are electrically connected in series.
【0010】この発明においても、ダイオードに抵抗を
直列に接続することにより、請求項1に記載の発明と同
様、検出温度に生じる誤差を少なくすることができる。
また、抵抗領域を、第2のコンタクトを介して取り出し
電極に接続し、ダイオードを形成するP型領域およびN
型領域のうちの一方の領域を、その領域全体を等電位化
する第1のコンタクトを介して金属膜に接続しているか
ら、ダイオードとしての機能を良好に維持したまま、ダ
イオードに抵抗を直列接続した構成にすることができ
る。この場合、請求項3に記載の発明のように、第1の
コンタクトを介して一方の領域に接続する金属膜を、電
気的にオープンな状態にしておくことが好ましい。[0010] In the present invention as well, by connecting a resistor in series with the diode, errors occurring in the detected temperature can be reduced as in the first aspect of the present invention.
Further, the resistance region is connected to the extraction electrode via the second contact to form a P-type region and an N-type region for forming a diode.
Since one of the mold regions is connected to the metal film via the first contact for making the entire region equipotential, a resistor is connected in series with the diode while maintaining good diode function. The configuration can be connected. In this case, it is preferable that the metal film connected to the one region via the first contact be electrically open, as in the invention described in claim 3.
【0011】また、請求項4に記載の発明のように、抵
抗領域を、平面的に見て蛇行した形状にすれば、小さな
面積で大きな抵抗値を得ることができる。Further, when the resistance region is formed in a meandering shape as viewed in plan, a large resistance value can be obtained with a small area.
【0012】なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述
する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すも
のである。The reference numerals in parentheses of the above-mentioned means indicate the correspondence with the concrete means described in the embodiments described later.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示す実施形態
について説明する。図1に、本発明の一実施形態にかか
る半導体モジュールの温度検出装置の概略構成を示す。
この半導体モジュールは、3つのIGBT素子11、2
1、31で構成され、3つのIGBT素子11、21、
31が並列接続されて、電気自動車のモータを駆動する
インバータ回路における1つの相のアームを構成してい
る。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a schematic configuration of a semiconductor module temperature detecting device according to an embodiment of the present invention.
This semiconductor module has three IGBT elements 11, 2
1, IGBT elements 11, 21,
31 are connected in parallel to form one phase arm in the inverter circuit that drives the motor of the electric vehicle.
【0014】IGBT素子11には、その近傍にIGB
T素子11の温度を検出する温度検出用のダイオード
(2つのダイオード12a、12bで構成)12と抵抗
13が配置され、IGBT素子21には、その近傍にI
GBT素子21の温度を検出する温度検出用のダイオー
ド(2つのダイオード22a、22bで構成)22と抵
抗23が配置され、IGBT素子31には、その近傍に
IGBT素子31の温度を検出する温度検出用のダイオ
ード(2つのダイオード32a、32bで構成)32と
抵抗33が配置されている。The IGBT element 11 has an IGB
A temperature detecting diode (constituted of two diodes 12a and 12b) 12 for detecting the temperature of the T element 11 and a resistor 13 are arranged, and the IGBT element 21 has an I
A temperature detecting diode (comprising two diodes 22a and 22b) 22 for detecting the temperature of the GBT element 21 and a resistor 23 are arranged. The IGBT element 31 has a temperature detector for detecting the temperature of the IGBT element 31 near the IGBT element 31. (Consisting of two diodes 32a and 32b) 32 and a resistor 33 are arranged.
【0015】IGBT素子11(21、31)に配置さ
れたダイオード12(22、32)と抵抗13(23、
33)は直列に接続されて温度検出素子を構成してお
り、それぞれの温度検出素子は、並列接続されて定電流
源40から定電流iTが供給されるようになっている。The diode 12 (22, 32) and the resistor 13 (23, 23) arranged in the IGBT element 11 (21, 31)
33) are connected in series to form a temperature detecting element, and the respective temperature detecting elements are connected in parallel so that a constant current i T is supplied from a constant current source 40.
【0016】このように温度検出用のダイオード12
(22、32)に抵抗13(23、33)を直列に接続
することにより、抵抗13(23、33)によって電流
制限が行われ、3つのIGBT素子11、21、31の
うちの1つが高温になった場合でも、そのIGBT素子
に配置された温度検出素子に、定電流源40からの電流
が集中して流れることがなく、IGBT素子11、2
1、31の温度検出を精度よく行うことができる。As described above, the temperature detecting diode 12
By connecting the resistor 13 (23, 33) in series with (22, 32), the current is limited by the resistor 13 (23, 33), and one of the three IGBT elements 11, 21, 31 has a high temperature. , The current from the constant current source 40 does not flow intensively to the temperature detecting element disposed in the IGBT element, and the IGBT element 11, 2
The temperature detections 1 and 31 can be accurately performed.
【0017】なお、各温度検出素子の接続点の電圧、す
なわち並列接続された温度検出素子の出力電圧Tは、温
度検出回路50に入力され、この温度検出回路50から
半導体モジュールの温度を示す信号Oが出力される。The voltage at the connection point between the temperature detecting elements, that is, the output voltage T of the temperature detecting elements connected in parallel is input to a temperature detecting circuit 50, and a signal indicating the temperature of the semiconductor module is output from the temperature detecting circuit 50. O is output.
【0018】各温度検出素子を構成するダイオード12
(22、32)と抵抗13(23、33)は同一構成の
ものである。図2に、ダイオード12と抵抗13を例に
とって、その平面構成を示す。また、ダイオード12を
構成する2つのダイオード12a、12bのうちの一方
のダイオード12aの断面構成を図3に示す。Diode 12 constituting each temperature detecting element
(22, 32) and the resistor 13 (23, 33) have the same configuration. FIG. 2 shows a plan configuration of the diode 12 and the resistor 13 as an example. FIG. 3 shows a cross-sectional configuration of one of the two diodes 12a and 12b constituting the diode 12.
【0019】ダイオード12aは、平面的に見て長方形
状のもので、PN接合したP型領域121aとN型領域
122aで構成されている。P型領域121aとN型領
域122aは、図3に示すように、半導体基板125の
表面に形成された絶縁膜126の上に、多結晶シリコン
で形成されている。また、P型領域121aとN型領域
122aには、コンタクト123a、124aがそれぞ
れ形成されており、P型領域121aは、コンタクト1
23aを介して金属膜(例えば、アルミ膜、以下同じ)
127に接続され、N型領域122aは、コンタクト1
24aを介して金属膜128に接続されている。The diode 12a has a rectangular shape in plan view, and includes a PN junction P-type region 121a and an N-type region 122a. As shown in FIG. 3, the P-type region 121a and the N-type region 122a are formed of polycrystalline silicon on the insulating film 126 formed on the surface of the semiconductor substrate 125. Further, contacts 123a and 124a are formed in the P-type region 121a and the N-type region 122a, respectively.
Metal film (for example, aluminum film, the same applies hereinafter) through 23a
127, and the N-type region 122a
It is connected to the metal film 128 via 24a.
【0020】また、ダイオード12bは、図2に示すよ
うに、平面的に見て長方形状のもので、PN接合したP
型領域121bとN型領域122b(それぞれ多結晶シ
リコンで形成されたもの)で構成されている。また、P
型領域121bとN型領域122bには、コンタクト1
23b、124bがそれぞれ形成されている。ダイオー
ド12bのN型領域122bに形成されたコンタクト1
24bは、取り出し端子(図1に示す端子14b)に接
続された金属膜(取り出し電極)に接続され、ダイオー
ドの12bのP型領域121bは、コンタクト123b
を介してダイオード12aのN型領域122aに接続さ
れた金属膜128に接続されている。このことにより、
ダイオード12bとダイオード12aは、直列に接続さ
れる。As shown in FIG. 2, the diode 12b has a rectangular shape in plan view and has a PN junction.
It is composed of a type region 121b and an N-type region 122b (each formed of polycrystalline silicon). Also, P
The contact 1 is formed in the mold region 121b and the N-type region 122b.
23b and 124b are respectively formed. Contact 1 formed in N-type region 122b of diode 12b
24b is connected to the metal film (extraction electrode) connected to the extraction terminal (terminal 14b shown in FIG. 1), and the P-type region 121b of the diode 12b is connected to the contact 123b.
Through the metal film 128 connected to the N-type region 122a of the diode 12a. This allows
Diode 12b and diode 12a are connected in series.
【0021】上記したコンタクト123a、124a、
123b、124bは、図2に示すように、平面的に見
てPN接合をそれぞれ囲むように形成され、それぞれの
領域を、金属膜と接続して等電位化するために設けられ
ている。なお、コンタクト123aを介してP型領域1
21aに接続された金属膜127は、所定の電位に接続
してもよいが、図3に示すように、電気的にオープンな
状態とするのが好ましい。The contacts 123a, 124a,
As shown in FIG. 2, 123b and 124b are formed so as to surround the PN junction in plan view, and are provided for connecting the respective regions to a metal film to make them equal potential. Note that the P-type region 1 is
The metal film 127 connected to 21a may be connected to a predetermined potential, but is preferably in an electrically open state as shown in FIG.
【0022】また、図2に示すように、ダイオード12
aのP型領域121aからP型の多結晶シリコンの抵抗
領域131が延びて形成されている。この抵抗領域13
1は、その端部に形成されたコンタクト132を介し
て、図3に示すように、取り出し端子(図1に示す端子
14a)に接続された金属膜(取り出し電極)133に
接続されている。この場合、温度検出素子の感温特性を
向上させるためには、抵抗領域131の抵抗温度特性を
0(ほぼ0)に設定しておくのが好ましい。この設定
は、多結晶シリコンへのインプラ条件により行うことが
できる。また、抵抗領域131は、P型領域121aと
同一導電型であるのが好ましいが、異なる導電型であっ
てもよい。Also, as shown in FIG.
A P-type polycrystalline silicon resistance region 131 extends from the P-type region 121a. This resistance region 13
3, is connected to a metal film (extraction electrode) 133 connected to an extraction terminal (terminal 14a shown in FIG. 1) via a contact 132 formed at an end thereof, as shown in FIG. In this case, in order to improve the temperature sensing characteristics of the temperature detecting element, it is preferable to set the resistance temperature characteristics of the resistance region 131 to 0 (almost 0). This setting can be performed according to implantation conditions for polycrystalline silicon. The resistance region 131 preferably has the same conductivity type as the P-type region 121a, but may have a different conductivity type.
【0023】なお、ダイオード12a、12bを形成す
るP型領域121a、121bとN型領域122a、1
22bにおいても抵抗成分があるが、両者の抵抗値(合
計)は、例えばシート抵抗値の1割以下の約20Ω以下
程度のものであるのに対し、上記した抵抗領域131の
抵抗値は、数百Ω(例えば、500Ω以上)であり、こ
のような大きな抵抗値を有することによって、高温にな
ったIGBT素子の温度検出素子への電流集中を効果的
に防止することができる。この場合、抵抗領域131
を、図2に示すように、平面的に蛇行した形状とするこ
とにより、小さな面積で大きな抵抗値を得ることができ
る。The P-type regions 121a and 121b forming the diodes 12a and 12b and the N-type regions 122a and
22b also has a resistance component. The resistance value (total) of both is, for example, about 20Ω or less, which is 10% or less of the sheet resistance value, whereas the resistance value of the above-described resistance region 131 is a number. By having such a large resistance value, it is possible to effectively prevent current concentration of the high temperature IGBT element on the temperature detection element. In this case, the resistance region 131
Has a meandering shape in a plane as shown in FIG. 2, so that a large resistance value can be obtained with a small area.
【0024】次に、図1に示す温度検出回路50につい
て説明する。図4にその具体的な構成を示す。また、図
5にそのタイミングチャートを示す。Next, the temperature detecting circuit 50 shown in FIG. 1 will be described. FIG. 4 shows the specific configuration. FIG. 5 shows a timing chart thereof.
【0025】温度検出回路50は、三角波の基準電圧A
(図5(a)参照)を発生する三角波電圧発生回路51
と、温度検出素子の出力電圧Tと基準電圧Aとを比較
し、その大小関係に応じたデューティ比の信号Oを出力
する比較回路52とから構成されている。出力信号Oを
デューティ比の信号で出力するのは、例えばホトカプラ
を介して信号Oを出力するためである。The temperature detecting circuit 50 has a triangular wave reference voltage A.
(See FIG. 5A) Triangular Wave Voltage Generating Circuit 51
And a comparison circuit 52 that compares the output voltage T of the temperature detection element with the reference voltage A and outputs a signal O having a duty ratio according to the magnitude relationship. The output signal O is output as a signal having a duty ratio in order to output the signal O via a photocoupler, for example.
【0026】上記した温度検出素子の出力電圧Tは、ダ
イオード2個分で約1.4Vと低いため、比較回路52
では、出力電圧Tと基準信号Aのそれぞれに対してヒス
テリシスをもたせ、出力信号Oを、耐ノイズ性を向上さ
せた信号としている。Since the output voltage T of the above temperature detecting element is as low as about 1.4 V for two diodes, the comparison circuit 52
In the above, each of the output voltage T and the reference signal A has a hysteresis, and the output signal O is a signal having improved noise resistance.
【0027】このため、比較回路52は以下のように構
成されている。すなわち、比較回路52の出力信号O
(図5(e)参照)がハイレベルになるタイミングで、
スイッチ52aを、図5(b)に示すように一定期間オ
フさせる。スイッチ52aがオフすると、定電流源52
bからの電流がトランジスタ52cを介して抵抗52d
に流れ込むため、基準電圧A’との比較に用いる温度検
出素子の出力電圧T’(図4および図5(d)参照)が
一定期間上昇する。このことにより、外乱ノイズに対し
てチャタリングを起こさないようにすることができる。For this reason, the comparison circuit 52 is configured as follows. That is, the output signal O of the comparison circuit 52
(See FIG. 5E) at the high level,
The switch 52a is turned off for a certain period as shown in FIG. When the switch 52a is turned off, the constant current source 52
b from the resistor 52d through the transistor 52c.
, The output voltage T ′ (see FIGS. 4 and 5D) of the temperature detection element used for comparison with the reference voltage A ′ increases for a certain period. As a result, chattering can be prevented from occurring with respect to disturbance noise.
【0028】また、比較回路52の出力信号O(図5
(e)参照)がローレベルになるタイミングで、スイッ
チ52eを、図5(b)に示すように一定期間オフさせ
る。スイッチ52eがオフすると、定電流源52fから
の電流がトランジスタ52gを介して抵抗52hに流れ
込むため、出力電圧T’との比較に用いる基準電圧A’
(図4および図5(d)参照)が一定期間上昇する。こ
のことにより、基準電圧A’≫出力電圧T’となるた
め、耐ノイズ性を向上させることができる。The output signal O of the comparison circuit 52 (FIG. 5)
At a timing when (e) becomes low level, the switch 52e is turned off for a certain period as shown in FIG. When the switch 52e is turned off, the current from the constant current source 52f flows into the resistor 52h via the transistor 52g, so that the reference voltage A 'used for comparison with the output voltage T'.
(See FIG. 4 and FIG. 5 (d).) As a result, the reference voltage A′≫the output voltage T ′, so that the noise resistance can be improved.
【0029】そして、出力電圧T’と基準電圧A’の比
較により、図5(e)に示す信号Oが出力される。な
お、3つのIGBT素子11、21、31のいずれかが
高温になって、温度検出素子の出力電圧Tが図5(a)
示すようにTHになると、出力電圧Oは図5(f)に示
すように、ローレベルの長いデューティ信号になる。こ
の信号を用いてIGBT素子の加熱を判定することがで
きる。Then, a signal O shown in FIG. 5E is output by comparing the output voltage T 'with the reference voltage A'. It should be noted that any one of the three IGBT elements 11, 21, 31 becomes high temperature, and the output voltage T of the temperature detecting element is changed as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, when the signal level becomes TH, the output voltage O becomes a long low-level duty signal as shown in FIG. Using this signal, the heating of the IGBT element can be determined.
【0030】なお、上記した実施形態においては、温度
検出用のダイオードを2つ備えるものを示したが、1つ
もしくは3つ以上としてもよい。また、ダイオードのP
型領域に抵抗領域を延ばして形成するものを示したが、
N型領域に抵抗領域を延ばして形成してもよく、P型領
域とN型領域の両方に抵抗領域を延ばして形成してもよ
い。In the above embodiment, two diodes for temperature detection are shown, but one or three or more diodes may be provided. Also, the diode P
Although the one formed by extending the resistance region in the mold region is shown,
The resistance region may be formed to extend in the N-type region, or the resistance region may be formed to extend in both the P-type region and the N-type region.
【図1】本発明の一実施形態にかかる半導体モジュール
の温度検出装置の概略構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor module temperature detecting device according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1中のダイオード12と抵抗13の平面構成
を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a planar configuration of a diode 12 and a resistor 13 in FIG.
【図3】ダイオード12を構成する2つのダイオード1
2a、12bのうちの一方のダイオード12aの断面構
成を示す図である。FIG. 3 shows two diodes 1 constituting a diode 12.
FIG. 3 is a diagram showing a cross-sectional configuration of one of the diodes 12a and 12b.
【図4】図1に示す温度検出回路50の具体的な構成を
示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a specific configuration of a temperature detection circuit 50 shown in FIG.
【図5】図4に示す温度検出回路50の各部の波形を示
すタイミングチャートである。5 is a timing chart showing waveforms of various parts of the temperature detection circuit 50 shown in FIG.
【図6】ダイオードに流れる電流IFと、ダイオードの
端子間に発生する電圧VFと、温度Tとの関係を示す図
である。FIG. 6 is a diagram showing a relationship between a current T flowing through a diode, a voltage VF generated between terminals of the diode, and a temperature T.
【符号の説明】 11、21、31…IGBT素子、12(12a、12
b)、22(22a、22b)、32(32a、32
b)…ダイオード、13、23、33…抵抗、40…定
電流源、50…温度検出回路、121a、121b…P
型領域、122a、122b…N型領域、123a、1
24a、123b、124b、132…コンタクト、1
27、128、133…金属膜、131…抵抗領域。[Description of References] 11, 21, 31 ... IGBT elements, 12 (12a, 12
b), 22 (22a, 22b), 32 (32a, 32)
b) Diodes, 13, 23, 33 resistors, 40 constant current sources, 50 temperature detection circuits, 121a, 121b P
Type regions, 122a, 122b... N type regions, 123a, 1
24a, 123b, 124b, 132 ... contact, 1
27, 128, 133: metal film; 131: resistance region.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 八木 賢次 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 (72)発明者 三浦 昭二 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 Fターム(参考) 2F056 JT06 JT08 5F038 AR09 AZ08 AZ10 BB02 BH02 BH04 BH16 CA02 DF01 EZ20 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Kenji Yagi 1-1-1, Showa-cho, Kariya-shi, Aichi Prefecture Inside Denso Corporation (72) Inventor Shoji Miura 1-1-1, Showa-cho, Kariya-shi, Aichi Prefecture Denso Corporation F term (reference) 2F056 JT06 JT08 5F038 AR09 AZ08 AZ10 BB02 BH02 BH04 BH16 CA02 DF01 EZ20
Claims (4)
る半導体モジュールと、各素子に設けられ互いに並列に
接続された温度検出素子(12と13、22と23、3
2と33)と、前記並列接続された温度検出素子の出力
電圧に基づいて前記半導体モジュールの温度検出を行う
温度検出回路(50)とを備えた半導体モジュールの温
度検出装置において、 前記温度検出素子のぞれぞれは、 ダイオード(12)を形成するPN接合したP型領域
(121a)およびN型領域(122a)と、前記P型
領域および前記N型領域のうちの一方の領域から延びて
形成された抵抗領域(131)とを有し、前記ダイオー
ドと前記抵抗領域による抵抗(13)とが電気的に直列
接続された構成になっており、前記抵抗領域の抵抗値
は、前記P型領域および前記N型領域による抵抗値より
も大きくなっていることを特徴とする半導体モジュール
の温度検出装置。1. A semiconductor module comprising a plurality of elements (11, 21, 31), and temperature detecting elements (12, 13, 22, 23, 3) provided in each element and connected in parallel with each other.
2 and 33), and a temperature detection circuit (50) for detecting the temperature of the semiconductor module based on an output voltage of the temperature detection element connected in parallel. Each of the P-type region (121a) and the N-type region (122a) having a PN junction forming a diode (12) and extending from one of the P-type region and the N-type region. And a resistance region (131) formed, wherein the diode and the resistance (13) of the resistance region are electrically connected in series, and the resistance value of the resistance region is the P-type. A temperature detecting device for a semiconductor module, wherein the resistance value is larger than a resistance value of the region and the N-type region.
る半導体モジュールと、各素子に設けられ互いに並列に
接続された温度検出素子(12と13、22と23、3
2と33)と、前記並列接続された温度検出素子の出力
電圧に基づいて前記半導体モジュールの温度検出を行う
温度検出回路(50)とを備えた半導体モジュールの温
度検出装置において、 前記温度検出素子のぞれぞれは、 ダイオード(12)を形成するPN接合したP型領域
(121a)およびN型領域(122a)と、前記P型
領域および前記N型領域のうちの一方の領域から延びて
形成された抵抗領域(131)とを有し、 前記一方の領域は、その領域全体を等電位化するために
第1のコンタクト(123a)を介して金属膜(12
7)に接続され、前記抵抗領域は、第2のコンタクト
(132)を介して取り出し電極(133)に接続され
ており、 前記ダイオードと前記抵抗領域による抵抗(13)とが
電気的に直列接続された構成になっていることを特徴と
する半導体モジュールの温度検出装置。2. A semiconductor module comprising a plurality of elements (11, 21, 31), and temperature detecting elements (12, 13, 22, 23, 3) provided in each element and connected in parallel with each other.
2 and 33), and a temperature detection circuit (50) for detecting the temperature of the semiconductor module based on an output voltage of the temperature detection element connected in parallel. Each of the P-type region (121a) and the N-type region (122a) having a PN junction forming a diode (12) and extending from one of the P-type region and the N-type region. And a resistance region (131) formed. The one region is provided with a metal film (12) via a first contact (123a) to make the entire region equipotential.
7), the resistance region is connected to an extraction electrode (133) via a second contact (132), and the diode and the resistance (13) of the resistance region are electrically connected in series. A temperature detecting device for a semiconductor module, comprising:
の領域に接続された前記金属膜は、電気的にオープンな
状態になっていることを特徴とする請求項2に記載の半
導体モジュールの温度検出装置。3. The semiconductor module according to claim 2, wherein the metal film connected to the one region via the first contact is in an electrically open state. Temperature detector.
形状になっていることを特徴とする請求項1ないし3の
いずれか1つに記載の半導体モジュールの温度検出装
置。4. The semiconductor module temperature detecting device according to claim 1, wherein the resistance region has a meandering shape when viewed in plan.
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---|---|---|---|---|
WO2004068693A2 (en) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Tecumseh Products Company | Brushless and sensorless dc motor control system with locked and stopped rotor detection |
JP2005166987A (en) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor device |
JP2005354812A (en) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Hitachi Ltd | Inverter apparatus |
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WO2004068693A2 (en) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Tecumseh Products Company | Brushless and sensorless dc motor control system with locked and stopped rotor detection |
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