JP2001126650A - 透過型ｘ線管装置 - Google Patents
透過型ｘ線管装置Info
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- JP2001126650A JP2001126650A JP30361599A JP30361599A JP2001126650A JP 2001126650 A JP2001126650 A JP 2001126650A JP 30361599 A JP30361599 A JP 30361599A JP 30361599 A JP30361599 A JP 30361599A JP 2001126650 A JP2001126650 A JP 2001126650A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 長寿命化および電子ビームのＸ線への変換効
率を向上させた透過型Ｘ線管装置を提供すること。 【解決手段】 Ｘ線管を構成する真空外囲器１１と、こ
の真空外囲器１１の一方の端部に設けられたＸ線透過窓
１２と、このＸ線透過窓１２の真空側に設けられたＸ線
ターゲット１３を形成する金属薄膜と、Ｘ線ターゲット
１３を照射する電子ビームを発生する電子銃１４とを具
備したＸ線管において、金属薄膜の膜厚ｔを場所によっ
て相違させ、かつ、電子ビームｅを偏向する偏向電極１
６を設けたことを特徴としている。
率を向上させた透過型Ｘ線管装置を提供すること。 【解決手段】 Ｘ線管を構成する真空外囲器１１と、こ
の真空外囲器１１の一方の端部に設けられたＸ線透過窓
１２と、このＸ線透過窓１２の真空側に設けられたＸ線
ターゲット１３を形成する金属薄膜と、Ｘ線ターゲット
１３を照射する電子ビームを発生する電子銃１４とを具
備したＸ線管において、金属薄膜の膜厚ｔを場所によっ
て相違させ、かつ、電子ビームｅを偏向する偏向電極１
６を設けたことを特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は透過型Ｘ線管装置
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来の技術】透過型Ｘ線管は、Ｘ線管を構成する真空
容器の一方の側にＸ線を透過する透過窓が設けられ、真
空容器内の他方の側には電子ビームを発生する電子銃が
配置されている。透過窓は、ベリリウムなどＸ線に対し
て透過率の高い材料で構成され、透過窓の真空側には、
タングステンなどの金属薄膜が直接付着され、Ｘ線を発
生する陽極ターゲットが形成されている。
容器の一方の側にＸ線を透過する透過窓が設けられ、真
空容器内の他方の側には電子ビームを発生する電子銃が
配置されている。透過窓は、ベリリウムなどＸ線に対し
て透過率の高い材料で構成され、透過窓の真空側には、
タングステンなどの金属薄膜が直接付着され、Ｘ線を発
生する陽極ターゲットが形成されている。
【０００３】上記した構成において、電子銃が発生した
電子ビームが陽極ターゲットに照射され、陽極ターゲッ
ト内に電子が侵入する。このとき、制動放射によって電
子の運動エネルギーがＸ線に変換され、透過窓を通して
Ｘ線が外部に放出される。
電子ビームが陽極ターゲットに照射され、陽極ターゲッ
ト内に電子が侵入する。このとき、制動放射によって電
子の運動エネルギーがＸ線に変換され、透過窓を通して
Ｘ線が外部に放出される。
【０００４】陽極ターゲットに侵入する電子ビームの深
さは、加速電圧や陽極ターゲットの材質で相違する。陽
極ターゲットの材質が同じ場合、電子ビームが侵入する
深さは加速電圧のＮ乗（Ｎは約１．７）に比例する。タ
ングステンの場合、電子ビームが侵入する深さは、加速
電圧が３０ｋＶで約１μｍ、加速電圧が１００ｋＶで約
８μｍとなる。
さは、加速電圧や陽極ターゲットの材質で相違する。陽
極ターゲットの材質が同じ場合、電子ビームが侵入する
深さは加速電圧のＮ乗（Ｎは約１．７）に比例する。タ
ングステンの場合、電子ビームが侵入する深さは、加速
電圧が３０ｋＶで約１μｍ、加速電圧が１００ｋＶで約
８μｍとなる。
【０００５】ところで、電子ビームの加速電圧は、撮影
する被写体のＸ線の透過量によって調整される。工業用
Ｘ線装置において、被写体が、たとえばプラスチックの
ようにＸ線透過率が高い材質では、加速電圧は２０〜４
０ｋＶ程度に設定される。アルミ缶などＸ線透過率の低
い材質では１００ｋＶ程度に設定される。
する被写体のＸ線の透過量によって調整される。工業用
Ｘ線装置において、被写体が、たとえばプラスチックの
ようにＸ線透過率が高い材質では、加速電圧は２０〜４
０ｋＶ程度に設定される。アルミ缶などＸ線透過率の低
い材質では１００ｋＶ程度に設定される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来の透過型Ｘ線管
は、１つのＸ線管には１つの電子銃が搭載されている。
このため、電子ビームはアノード面の一点に入力し、ア
ノード面上の電子ビームの焦点が破壊されるとＸ線管は
寿命となり、使用できなくなる。
は、１つのＸ線管には１つの電子銃が搭載されている。
このため、電子ビームはアノード面の一点に入力し、ア
ノード面上の電子ビームの焦点が破壊されるとＸ線管は
寿命となり、使用できなくなる。
【０００７】また、透過型Ｘ線管では、電子ビームの加
速電圧の大きさに対応して、陽極ターゲットの厚みの最
適値が変化する。陽極ターゲットの厚さが電子が侵入す
る深さより厚いと、陽極ターゲット内で発生したＸ線が
減衰する。電子が侵入する深さよりも薄いと、電子は運
動エネルギを保持したまま陽極ターゲットを貫通し、Ｘ
線への変換効率が低下する。したがって、陽極ターゲッ
トの厚みは電子が侵入する深さと一致することが望まし
い。
速電圧の大きさに対応して、陽極ターゲットの厚みの最
適値が変化する。陽極ターゲットの厚さが電子が侵入す
る深さより厚いと、陽極ターゲット内で発生したＸ線が
減衰する。電子が侵入する深さよりも薄いと、電子は運
動エネルギを保持したまま陽極ターゲットを貫通し、Ｘ
線への変換効率が低下する。したがって、陽極ターゲッ
トの厚みは電子が侵入する深さと一致することが望まし
い。
【０００８】従来の透過型Ｘ線管装置は、陽極ターゲッ
トの厚みが一定であるため、封じ切りのＸ線管の場合、
加速電圧の変化には対応できない。真空ポンプを内蔵し
たＸ線管の場合は、真空を大気に曝し、陽極ターゲット
の厚さが相違する他の透過窓と交換し、その後、真空引
きすれば対応できる。しかし、透過窓を交換する時間や
大気状態から真空状態への真空引きの時間が必要とな
り、短時間での変更は困難である。
トの厚みが一定であるため、封じ切りのＸ線管の場合、
加速電圧の変化には対応できない。真空ポンプを内蔵し
たＸ線管の場合は、真空を大気に曝し、陽極ターゲット
の厚さが相違する他の透過窓と交換し、その後、真空引
きすれば対応できる。しかし、透過窓を交換する時間や
大気状態から真空状態への真空引きの時間が必要とな
り、短時間での変更は困難である。
【０００９】この発明は、上記した欠点を解決し、長寿
命化および電子ビームのＸ線への変換効率を向上させた
透過型Ｘ線管装置を提供することを目的とする。
命化および電子ビームのＸ線への変換効率を向上させた
透過型Ｘ線管装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｘ線管を構成
する真空外囲器と、この真空外囲器の一方の端部に設け
られたＸ線透過窓と、このＸ線透過窓の真空側に設けら
れたＸ線ターゲットを形成する金属薄膜と、前記Ｘ線タ
ーゲットを照射する電子ビームを発生する電子銃とを具
備したＸ線管において、前記金属薄膜の膜厚を場所によ
って相違させ、かつ、前記電子ビームを偏向する偏向装
置を設けたことを特徴としている。
する真空外囲器と、この真空外囲器の一方の端部に設け
られたＸ線透過窓と、このＸ線透過窓の真空側に設けら
れたＸ線ターゲットを形成する金属薄膜と、前記Ｘ線タ
ーゲットを照射する電子ビームを発生する電子銃とを具
備したＸ線管において、前記金属薄膜の膜厚を場所によ
って相違させ、かつ、前記電子ビームを偏向する偏向装
置を設けたことを特徴としている。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態について図１を
参照して説明する。符号１１は、透過型Ｘ線管を構成す
る真空外囲器で、真空外囲器１１の一方の側にＸ線を透
過する透過窓１２が設けられている。透過窓１２は、ベ
リリウムなどＸ線透過率の高い材料で構成されている。
透過窓１２の真空側の面には、タングステンなどの金属
薄膜によって陽極ターゲット１３が形成されている。こ
の場合、金属薄膜の厚さｔは、たとえば陽極ターゲット
１３一方の側で薄く形成され、他方の側に向って徐々に
厚くなるように形成されている。
参照して説明する。符号１１は、透過型Ｘ線管を構成す
る真空外囲器で、真空外囲器１１の一方の側にＸ線を透
過する透過窓１２が設けられている。透過窓１２は、ベ
リリウムなどＸ線透過率の高い材料で構成されている。
透過窓１２の真空側の面には、タングステンなどの金属
薄膜によって陽極ターゲット１３が形成されている。こ
の場合、金属薄膜の厚さｔは、たとえば陽極ターゲット
１３一方の側で薄く形成され、他方の側に向って徐々に
厚くなるように形成されている。
【００１２】真空外囲器１１の他方の端部には、電子ビ
ームｅを発生する電子銃１４が配置されている。陽極タ
ーゲット１３と電子銃１４との間で、電子銃１４に近い
領域には、電子ビームｅを集束する複数の集束電極１５
ａ〜１５ｃが配置されている。陽極ターゲット１３に近
い領域、たとえば陽極ターゲット１３と集束電極１５ｃ
との間に、電子ビームｅを偏向する偏向電極１６が配置
されている。偏向電極１６は、たとえば対向する一対の
電極板１６ａ、１６ｂから構成されている。
ームｅを発生する電子銃１４が配置されている。陽極タ
ーゲット１３と電子銃１４との間で、電子銃１４に近い
領域には、電子ビームｅを集束する複数の集束電極１５
ａ〜１５ｃが配置されている。陽極ターゲット１３に近
い領域、たとえば陽極ターゲット１３と集束電極１５ｃ
との間に、電子ビームｅを偏向する偏向電極１６が配置
されている。偏向電極１６は、たとえば対向する一対の
電極板１６ａ、１６ｂから構成されている。
【００１３】上記した構成において、電子銃１４から発
生した電子ビームｅが陽極ターゲット１３に照射され
る。このとき、陽極ターゲット１３からＸ線が発生し、
透過窓１２を通してＸ線が外部に出力される。
生した電子ビームｅが陽極ターゲット１３に照射され
る。このとき、陽極ターゲット１３からＸ線が発生し、
透過窓１２を通してＸ線が外部に出力される。
【００１４】この場合、電子銃１４から発生する電子ビ
ームｅの加速電圧に対応させて、偏向電極１６に印加さ
れる偏向電圧を変化させ、符号Ａ、Ｂ、Ｃで示すよう
に、陽極ターゲット１３の厚さｔが加速電圧に対して最
適場所、たとえば、陽極ターゲット１３の金属薄膜の厚
さと電子が侵入する深さとが一致する場所に入力させ
る。
ームｅの加速電圧に対応させて、偏向電極１６に印加さ
れる偏向電圧を変化させ、符号Ａ、Ｂ、Ｃで示すよう
に、陽極ターゲット１３の厚さｔが加速電圧に対して最
適場所、たとえば、陽極ターゲット１３の金属薄膜の厚
さと電子が侵入する深さとが一致する場所に入力させ
る。
【００１５】この構成によれば、加速電圧に対応して最
適な厚さをもつ陽極ターゲット１３部分に電子を照射さ
せることができ、照射位置も瞬時に変更できる。また、
Ｘ線管が大気に曝されることもない。
適な厚さをもつ陽極ターゲット１３部分に電子を照射さ
せることができ、照射位置も瞬時に変更できる。また、
Ｘ線管が大気に曝されることもない。
【００１６】図１では、偏向電極１６を一対の電極板１
６ａ、１６ｂで構成している。しかし、もう１つの一対
の電極板を直交する方向に設け、電子ビームｅを２次元
方向に偏向させることもできる。この構成によれば、陽
極ターゲット１３面を広く利用でき、Ｘ線管をより長寿
命化できる。
６ａ、１６ｂで構成している。しかし、もう１つの一対
の電極板を直交する方向に設け、電子ビームｅを２次元
方向に偏向させることもできる。この構成によれば、陽
極ターゲット１３面を広く利用でき、Ｘ線管をより長寿
命化できる。
【００１７】次に、本発明の他の実施形態について図２
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【００１８】符号２１は、透過型Ｘ線管を構成する真空
外囲器で、真空外囲器２１の一方の側にＸ線を透過する
透過窓２２が設けられている。透過窓２２は、通常、ベ
リリウムなどＸ線透過率の高い材料で構成される。透過
窓２２の真空側の面には、タングステンなどの金属薄膜
によって陽極ターゲット２３が構成されている。この場
合、金属薄膜の厚さは、陽極ターゲット２３の一方の側
が薄く、他方の側に向って徐々に厚くなるように形成さ
れている。
外囲器で、真空外囲器２１の一方の側にＸ線を透過する
透過窓２２が設けられている。透過窓２２は、通常、ベ
リリウムなどＸ線透過率の高い材料で構成される。透過
窓２２の真空側の面には、タングステンなどの金属薄膜
によって陽極ターゲット２３が構成されている。この場
合、金属薄膜の厚さは、陽極ターゲット２３の一方の側
が薄く、他方の側に向って徐々に厚くなるように形成さ
れている。
【００１９】真空外囲器１１内の他方の端部には、たと
えば３個の電子銃１４、１５、１６が一列に配置されて
いる。３個の電子銃１４、１５、１６は、それぞれカソ
ード１４Ｋ、１５Ｋ、１６Ｋや第１グリッド１４Ｇ１、
１５Ｇ１、１６Ｇ１、第２グリッド１４Ｇ２、１５Ｇ
２、１６Ｇ２などから構成されている。なお、３個の電
子銃１４、１５、１６の外側にはシールド円筒１７が配
置されている。
えば３個の電子銃１４、１５、１６が一列に配置されて
いる。３個の電子銃１４、１５、１６は、それぞれカソ
ード１４Ｋ、１５Ｋ、１６Ｋや第１グリッド１４Ｇ１、
１５Ｇ１、１６Ｇ１、第２グリッド１４Ｇ２、１５Ｇ
２、１６Ｇ２などから構成されている。なお、３個の電
子銃１４、１５、１６の外側にはシールド円筒１７が配
置されている。
【００２０】上記した構成において、３個の電子銃１
４、１５、１６から発生する電子ビームは、それぞれ陽
極ターゲット１３に照射される。このとき、陽極ターゲ
ット１３からＸ線が発生し、透過窓１２を通してＸ線が
外部に出力される。
４、１５、１６から発生する電子ビームは、それぞれ陽
極ターゲット１３に照射される。このとき、陽極ターゲ
ット１３からＸ線が発生し、透過窓１２を通してＸ線が
外部に出力される。
【００２１】この場合、３個の電子銃１４、１５、１６
は、たとえば、カソード１４Ｋ、１５Ｋ、１６Ｋや第１
グリッド１４Ｇ１、１５Ｇ１、１６Ｇ１、第２グリッド
１４Ｇ２、１５Ｇ２、１６Ｇ２に印加する電圧が相違
し、３個の電子銃１４、１５、１６で発生する電子ビー
ムの加速電圧が相違するように設定されている。そし
て、たとえば、それぞれの電子銃１４、１５、１６の真
正面に位置し正対する部分の陽極ターゲット１３の金属
薄膜の厚さが加速電圧に対応して最適な値に選ばれてい
る。
は、たとえば、カソード１４Ｋ、１５Ｋ、１６Ｋや第１
グリッド１４Ｇ１、１５Ｇ１、１６Ｇ１、第２グリッド
１４Ｇ２、１５Ｇ２、１６Ｇ２に印加する電圧が相違
し、３個の電子銃１４、１５、１６で発生する電子ビー
ムの加速電圧が相違するように設定されている。そし
て、たとえば、それぞれの電子銃１４、１５、１６の真
正面に位置し正対する部分の陽極ターゲット１３の金属
薄膜の厚さが加速電圧に対応して最適な値に選ばれてい
る。
【００２２】この構成によれば、加速電圧に対応して最
適な厚さをもつ陽極ターゲット１３部分に電子を照射さ
せることができる。また、照射位置を瞬時に変更でき、
Ｘ線管内が大気に曝されることもない。また、複数の電
子銃を設けているため、陽極ターゲット１３に入力する
電子ビームが集中しなくなりＸ線管を長寿命化できる。
適な厚さをもつ陽極ターゲット１３部分に電子を照射さ
せることができる。また、照射位置を瞬時に変更でき、
Ｘ線管内が大気に曝されることもない。また、複数の電
子銃を設けているため、陽極ターゲット１３に入力する
電子ビームが集中しなくなりＸ線管を長寿命化できる。
【００２３】また、電子ビームを偏向する偏向装置を設
ければ、陽極ターゲットに入力する電子ビームの領域が
分散し、Ｘ線管をより長寿命化できる。また、１つの電
子銃の電子ビームによって照射されるアノード面上の１
つの焦点が破壊されても、他の電子銃を利用してアノー
ド面上の他の場所に電子ビームを入力することができ、
Ｘ線管の使用時間を長期化できる。
ければ、陽極ターゲットに入力する電子ビームの領域が
分散し、Ｘ線管をより長寿命化できる。また、１つの電
子銃の電子ビームによって照射されるアノード面上の１
つの焦点が破壊されても、他の電子銃を利用してアノー
ド面上の他の場所に電子ビームを入力することができ、
Ｘ線管の使用時間を長期化できる。
【００２４】なお、上記した構成は、真空外囲器内部を
真空引きする真空ポンプが設けられた構造のＸ線管にも
適用できる。この場合、真空外囲器内を大気に曝して
も、その後、真空引きすることによって内部を真空にで
きるため、陽極ターゲットが設けられた透過窓や電子銃
などの部品の交換に対応できる。
真空引きする真空ポンプが設けられた構造のＸ線管にも
適用できる。この場合、真空外囲器内を大気に曝して
も、その後、真空引きすることによって内部を真空にで
きるため、陽極ターゲットが設けられた透過窓や電子銃
などの部品の交換に対応できる。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、Ｘ線への変換効率のよ
い透過型Ｘ線管装置を実現できる。
い透過型Ｘ線管装置を実現できる。
【図１】本発明の実施形態を説明するための概略の断面
構造図である。
構造図である。
【図２】本発明の他の実施形態を説明するための概略の
断面構造図である。
断面構造図である。
１１…真空外囲器 １２…透過窓 １３…陽極ターゲット １４…電子銃 １５ａ、１５ｂ、１５ｃ…集束電極 １６…偏向電極 １６ａ、１６ｂ…偏向電極の偏向板 ｅ…電子ビーム ｔ…陽極ターゲットを形成する金属薄膜の膜厚
Claims (7)
- 【請求項１】 Ｘ線管を構成する真空外囲器と、この真
空外囲器の一方の端部に設けられたＸ線透過窓と、この
Ｘ線透過窓の真空側に設けられたＸ線ターゲットを形成
する金属薄膜と、前記Ｘ線ターゲットを照射する電子ビ
ームを発生する電子銃とを具備したＸ線管において、前
記金属薄膜の膜厚を場所によって相違させ、かつ、前記
電子ビームを偏向する偏向装置を設けたことを特徴とす
る透過型Ｘ線管装置。 - 【請求項２】 電子ビームを偏向する大きさが前記電子
ビームの加速電圧に対応している請求項１記載の透過型
Ｘ線管装置。 - 【請求項３】 真空外囲器内部を真空引きする真空ポン
プが設けられた請求項１記載の透過型Ｘ線管装置。 - 【請求項４】 金属薄膜の膜厚は、Ｘ線ターゲットの一
方の側から他方の側へ徐々に厚くなっている請求項１記
載の透過型Ｘ線管装置。 - 【請求項５】 Ｘ線管を構成する真空外囲器と、この真
空外囲器の一方の端部に設けられたＸ線透過窓と、この
Ｘ線透過窓の真空側に設けられたＸ線ターゲットを形成
する金属薄膜と、前記Ｘ線ターゲットを照射する電子ビ
ームを発生する電子銃とを具備したＸ線管において、前
記金属薄膜の膜厚を場所によって相違させ、かつ、前記
電子銃を複数設けたことを特徴とする透過型Ｘ線管装
置。 - 【請求項６】 複数の電子銃が発生する電子ビームの加
速電圧がそれぞれ相違する請求項４記載の透過型Ｘ線管
装置。 - 【請求項７】 複数の電子銃が正対する部分の金属薄膜
の膜厚がそれぞれ相違する請求項５記載の透過型Ｘ線管
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30361599A JP4204717B2 (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | 透過型ｘ線管装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30361599A JP4204717B2 (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | 透過型ｘ線管装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001126650A true JP2001126650A (ja) | 2001-05-11 |
| JP4204717B2 JP4204717B2 (ja) | 2009-01-07 |
Family
ID=17923130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30361599A Expired - Fee Related JP4204717B2 (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | 透過型ｘ線管装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4204717B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020084664A1 (ja) * | 2018-10-22 | 2020-04-30 | キヤノンアネルバ株式会社 | Ｘ線発生装置及びｘ線撮影システム |
| WO2023276243A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生装置 |
| WO2023276246A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生装置 |
| WO2023188338A1 (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-05 | キヤノンアネルバ株式会社 | Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、ｘ線発生装置の使用方法 |
-
1999
- 1999-10-26 JP JP30361599A patent/JP4204717B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020084664A1 (ja) * | 2018-10-22 | 2020-04-30 | キヤノンアネルバ株式会社 | Ｘ線発生装置及びｘ線撮影システム |
| JP6695011B1 (ja) * | 2018-10-22 | 2020-05-20 | キヤノンアネルバ株式会社 | Ｘ線発生装置及びｘ線撮影システム |
| KR20210057788A (ko) * | 2018-10-22 | 2021-05-21 | 캐논 아네르바 가부시키가이샤 | X선 발생 장치 및 x선 촬영 시스템 |
| KR102278305B1 (ko) | 2018-10-22 | 2021-07-19 | 캐논 아네르바 가부시키가이샤 | X선 발생 장치 및 x선 촬영 시스템 |
| US11244801B2 (en) | 2018-10-22 | 2022-02-08 | Canon Anelva Corporation | X-ray generation device and X-ray image capture system |
| WO2023276243A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生装置 |
| WO2023276246A1 (ja) * | 2021-06-30 | 2023-01-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生装置 |
| KR20240028985A (ko) | 2021-06-30 | 2024-03-05 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | X선 발생 장치 |
| KR20240028342A (ko) | 2021-06-30 | 2024-03-05 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | X선 발생 장치 |
| WO2023188338A1 (ja) | 2022-03-31 | 2023-10-05 | キヤノンアネルバ株式会社 | Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、ｘ線発生装置の使用方法 |
| US11823860B1 (en) | 2022-03-31 | 2023-11-21 | Canon Anelva Corporation | X-ray generating apparatus, method of adjusting target, and method of using X-ray generating apparatus |
| JP7395086B1 (ja) | 2022-03-31 | 2023-12-08 | キヤノンアネルバ株式会社 | Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、ｘ線発生装置の使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4204717B2 (ja) | 2009-01-07 |
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