JP2001100643A - Electro-optic device and projection type display device - Google Patents

Electro-optic device and projection type display device

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JP2001100643A
JP2001100643A JP28082199A JP28082199A JP2001100643A JP 2001100643 A JP2001100643 A JP 2001100643A JP 28082199 A JP28082199 A JP 28082199A JP 28082199 A JP28082199 A JP 28082199A JP 2001100643 A JP2001100643 A JP 2001100643A
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JP
Japan
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substrate
light
electro
optical device
liquid crystal
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JP28082199A
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Takeshi Inoue
健 井上
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Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure which lessens the color irregularity occurring in the local heat elevation of substrates by the light from a light source of an electro-optic device used for a projection type display device. SOLUTION: A liquid crystal device 100 as the electro-optic device is constituted by holding a liquid crystal layer 50 between a counter substrate 80 and an active matrix substrate 10. Further, a substrate 101 of -10×10-7 to 10×10-7/ deg.C in coefficient of thermal expansion at 0 to 75 deg.C is arranged adjacently to the counter substrate 80 on which the light from the light source is made incident. As a result, the unevenness in the coefficient of thermal expansion within the substrate surface of the substrate 101 may be reduced, the color irregularity prevented and a display grade improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも3つの
基板よりなる電気光学装置に属し、更に、投射型表示装
置等に用いられる電気光学装置の技術分野に属する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to an electro-optical device comprising at least three substrates, and furthermore to a technical field of an electro-optical device used for a projection display device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気光学装置としての液晶装置が用いら
れた投射型表示装置では、光源から出射された光を集光
光源系によって集光しながら液晶装置に導き、この光を
液晶で光変調することにより、所定の画像を拡大投射光
学系によってスクリーンなどの投射面に投射して表示を
行う。液晶装置は、画素電極及びこの画素電極と電気的
に接続されたスイッチング素子とが配置されたアクティ
ブマトリクス基板と、対向電極が形成された対向基板と
の間に液晶を挟持した液晶セルを有する。
2. Description of the Related Art In a projection type display device using a liquid crystal device as an electro-optical device, light emitted from a light source is condensed by a condensing light source system and guided to the liquid crystal device, and this light is modulated by a liquid crystal. By doing so, a predetermined image is projected on a projection surface such as a screen by an enlarged projection optical system and displayed. The liquid crystal device has a liquid crystal cell in which liquid crystal is sandwiched between an active matrix substrate on which pixel electrodes and switching elements electrically connected to the pixel electrodes are arranged, and a counter substrate on which a counter electrode is formed.

【0003】投射型表示装置では、光源からの光を液晶
装置の液晶に焦点がおかれるように集光させている。そ
のため、焦点位置である液晶層から基板厚み分の約1m
mに位置するアクティブマトリクス基板または対向基板
の外面に付いた傷や塵は、焦点距離範囲となり、フォー
カス状態となる。その結果、10〜20μm程度の小さ
な傷や塵も投射画像に映し出され、表示品位を低下させ
てしまう。このような問題を回避するため、液晶セルに
隣接し、これを挟むように一対の厚さ約1mmのNA3
5(商品名、NHテクノ製)の透明基板が配置される。
これにより、液晶セルの基板の外面に傷や塵がつくこと
を防止する。更に、透明基板の基板厚みを約1mm程度
とすることにより、透明基板の液晶セルと接しない側の
面に傷や塵がついても、これらは確実に焦点距離範囲外
に位置することとなって、デフォーカス状態となるた
め、表示品位を低下させることはない。
In a projection display device, light from a light source is focused so that the liquid crystal of the liquid crystal device is focused. Therefore, about 1 m of the substrate thickness from the liquid crystal layer which is the focal position
Scratches and dust on the outer surface of the active matrix substrate or the opposing substrate located at m are within the focal length range and are in a focus state. As a result, small scratches and dust of about 10 to 20 μm are also projected on the projected image, which degrades display quality. In order to avoid such a problem, a pair of NA3s having a thickness of about 1 mm
5 (trade name, manufactured by NH Techno) transparent substrate.
This prevents the outer surface of the liquid crystal cell substrate from being scratched or dusted. Further, by setting the thickness of the transparent substrate to about 1 mm, even if the surface of the transparent substrate that is not in contact with the liquid crystal cell has scratches or dust, these are surely located outside the focal length range. , The display quality is not degraded.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような構造の投射型表示装置においては色むらが発生し
ていた。色むらとは、投射型表示装置によりラスター画
面をスクリーン上に表示投射させた時のスクリーン上の
色差のことである。投射型表示装置では、光源から強い
光が液晶装置に照射されるため、透明基板の中央部と四
隅で温度上昇に差が生じるため色むらが発生する。詳細
には、透明基板の中央部と四隅で温度上昇に差が生じる
と、透明基板の基板面内における熱膨張の割合が異な
り、このような透明基板に入射した光は、その出射光が
基板面内で位相が異なる光として出射される。その結
果、投射される画像に色むらが生じ、表示品位を著しく
低下させてしまっていた。特に上述の構成の投射型表示
装置の場合、黒い画面におけるむらが生じていた。
However, in the projection type display device having the above-described structure, color unevenness has occurred. The color unevenness is a color difference on the screen when a projection screen displays and displays a raster screen on the screen. In the projection display device, since the liquid crystal device is irradiated with strong light from a light source, there is a difference in temperature rise between the central portion and the four corners of the transparent substrate, so that color unevenness occurs. Specifically, when a difference in temperature rise occurs between the center and the four corners of the transparent substrate, the rate of thermal expansion within the substrate surface of the transparent substrate is different, and light incident on such a transparent substrate has its outgoing light reflected by the substrate. The light is emitted as light having a different phase in the plane. As a result, color unevenness occurs in the projected image, and the display quality is significantly reduced. In particular, in the case of the projection-type display device having the above-described configuration, unevenness has occurred in a black screen.

【0005】本発明は上述した問題点に鑑みなされたも
のであり、色むらのない表示品位の高い電気光学装置及
び投射型表示装置を提供することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above-described problems, and has as its object to provide an electro-optical device and a projection display device having high display quality without color unevenness.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の電気光学装置
は、上記課題を解決するために、第1の面と第2の面と
を有する第1基板と、第1の面と第2の面とを有する第
2基板と、前記第1基板の第2の面と隣接して配置され
る第3基板と、前記第1基板の第1の面と前記第2基板
の第1の面とが対向配置され、前記第1基板と前記第2
基板との間に挟持された電気光学物質とを有し、前記第
1基板の第2の面の方向から光を照射することにより使
用してなる電気光学装置において、前記第3基板は、0
〜75℃における熱膨張係数が−10×10−7/℃〜
10×10−7/℃であることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, an electro-optical device according to the present invention comprises a first substrate having a first surface and a second surface, a first substrate having a first surface and a second surface. A second substrate having a surface, a third substrate disposed adjacent to a second surface of the first substrate, a first surface of the first substrate, and a first surface of the second substrate. Are arranged to face each other, and the first substrate and the second substrate
An electro-optical material sandwiched between the first substrate and the electro-optical device, wherein the third substrate is used by irradiating light from a direction of a second surface of the first substrate.
Thermal expansion coefficient at 〜75 ° C. is −10 × 10 −7 / ° C.
It is characterized by 10 × 10 −7 / ° C.

【0007】本発明のこのような構成によれば、ある特
定の熱膨張係数を有する第3基板を配置することによ
り、光源からの光の照射に起因する局部的な温度上昇に
よる第3基板面内における熱膨張むらを減少させること
ができ、色むら表示品位の高い電気光学装置を得るとい
う効果を有する。更に、第3基板を第1基板に隣接して
配置することにより、第1基板の第2の面に傷がついた
り塵などが付着することを防止するという、防塵基板と
して第3基板は機能する。また、ここで第3基板の厚み
が1.0mm以上であれば、第3基板の第1基板と接す
る面と対向する面に傷や塵がついても、それらは焦点距
離範囲外に位置することとなり、表示に影響を及ぼすこ
とがない。ここで、上述の熱膨張係数を有する基板とし
ては、例えばネオセラム(商品名、日本電気硝子製)や
クリアセラム(商品名、オハラ製)などを用いることが
できる。電気光学装置を用いた投射型表示装置において
は、動作時に、常温使用で40〜55°C、少し高い温
度環境(40°C)で55〜70℃ぐらいまで温度上昇
するため、第3基板は、0〜70℃における熱膨張係数
が−10×10−7〜10×10−7/℃であることが
望ましく、更に好ましくは2.0×10−7/℃である
ことが望ましい。このように特定の熱膨張係数を有する
第3基板を用いることにより、色むらの発生を防止する
ことができる。
According to such a configuration of the present invention, by disposing the third substrate having a specific thermal expansion coefficient, the third substrate surface due to a local temperature rise caused by the irradiation of light from the light source. This has the effect of reducing uneven thermal expansion in the interior, and obtaining an electro-optical device with high display quality of uneven color. Further, by arranging the third substrate adjacent to the first substrate, the third substrate functions as a dust-proof substrate, which prevents the second surface of the first substrate from being scratched or adhering dust. I do. Also, if the thickness of the third substrate is 1.0 mm or more, even if there is a flaw or dust on the surface of the third substrate facing the surface in contact with the first substrate, they are located outside the focal length range. And does not affect the display. Here, as the substrate having the above-described coefficient of thermal expansion, for example, Neoceram (trade name, manufactured by Nippon Electric Glass), Clear Serum (trade name, manufactured by OHARA), or the like can be used. In the projection type display device using the electro-optical device, the temperature of the third substrate is raised to 40 to 55 ° C. in normal temperature use and to 55 to 70 ° C. in a slightly high temperature environment (40 ° C.) during operation. , The coefficient of thermal expansion at 0 to 70 ° C. is preferably −10 × 10 −7 to 10 × 10 −7 / ° C., more preferably 2.0 × 10 −7 / ° C. By using the third substrate having a specific thermal expansion coefficient as described above, it is possible to prevent the occurrence of color unevenness.

【0008】また、前記第3基板は1.0mm以上の厚
みを有することを特徴とする。このような構成とするこ
とにより、電気光学装置を投射型表示装置のライトバル
ブとして用いる際、第3基板の第1基板と接する面とは
対向する面上に傷がついたり、塵が付着しても、これら
の傷や塵は確実に焦点距離範囲外に位置することとな
り、第3基板のデフォーカス機能が十分に高められると
いう効果を有する。
Further, the third substrate has a thickness of 1.0 mm or more. With this configuration, when the electro-optical device is used as a light valve of a projection display device, the surface of the third substrate facing the first substrate is damaged or dust adheres. However, these scratches and dust are surely located outside the focal length range, and the defocus function of the third substrate is sufficiently enhanced.

【0009】また、前記第3基板は380nm以下の波
長の光を吸収または反射することを特徴とする。このよ
うな構成によれば、電気光学物質として液晶を用いた場
合、380nm以下の波長、すなわち紫外線光の液晶層
への入射を遮断し、紫外線光による液晶配向膜の劣化を
防止するという効果を有する。
The third substrate absorbs or reflects light having a wavelength of 380 nm or less. According to such a configuration, when liquid crystal is used as the electro-optical material, the effect of blocking the wavelength of 380 nm or less, that is, ultraviolet light from entering the liquid crystal layer, and preventing deterioration of the liquid crystal alignment film due to ultraviolet light is prevented. Have.

【0010】また、前記第2基板には、スイッチング素
子が配置されることを特徴とする。このような構成によ
れば、第3基板により紫外線がスイッチング素子に入射
されることを防止でき、スイッチング素子の劣化を防止
するという効果を有する。
Further, a switching element is provided on the second substrate. According to such a configuration, it is possible to prevent the ultraviolet rays from being incident on the switching element by the third substrate, and it is possible to prevent the switching element from being deteriorated.

【0011】また、前記第1基板は、前記第3基板と同
じ膨張率係数を有する基板であることを特徴とする。こ
のような構成とすることにより、第1基板においても、
光源からの光の照射に起因する局部的な温度上昇による
基板面内における熱膨張むらを減少させることができ、
更に色むら表示品位の高い電気光学装置を得るという効
果を有する。また、第1基板と第3基板に同じ種類の基
板を用いることにより、第1基板と第3基板とのそれぞ
れの屈折率を等しくすることができるため、光源から導
かれる光は、効率良く、電気光学装置を透過し、光量損
失が極めて小さいという効果を有する。
Further, the first substrate is a substrate having the same expansion coefficient as the third substrate. With such a configuration, even in the first substrate,
It is possible to reduce uneven thermal expansion in the substrate surface due to local temperature rise caused by irradiation of light from the light source,
Further, there is an effect that an electro-optical device having high display quality of color unevenness is obtained. In addition, by using the same type of substrate as the first substrate and the third substrate, the respective refractive indexes of the first substrate and the third substrate can be made equal. This has the effect of transmitting light through the electro-optical device and having a very small loss of light quantity.

【0012】本発明の他の電気光学装置は、第1の面と
第2の面とを有する第1基板と、第1の面と第2の面と
を有する第2基板と、前記第1基板の第2の面と隣接し
て配置される第3基板と、前記第1基板の第1の面と前
記第2基板の第1の面とが対向配置され、前記第1基板
と前記第2基板との間に挟持された電気光学物質とを有
し、前記第1基板の第2の面の方向から光を照射するこ
とにより使用してなる電気光学装置において、前記第3
基板は、ネオセラムからなることを特徴とする。
Another electro-optical device according to the present invention includes a first substrate having a first surface and a second surface; a second substrate having a first surface and a second surface; A third substrate disposed adjacent to a second surface of the substrate; a first surface of the first substrate and a first surface of the second substrate disposed opposite to each other; An electro-optical material sandwiched between the first substrate and the second substrate, wherein the electro-optical device is used by irradiating light from the second surface of the first substrate.
The substrate is made of neoceram.

【0013】本発明のこのような構成によれば、ネオセ
ラム(商品名、日本電気硝子製)からなる第3基板を配
置することにより、光源からの光の照射に起因する局部
的な温度上昇による第3基板面内における熱膨張むらを
減少させることができ、色むら表示品位の高い電気光学
装置を得るという効果を有する。更に、第3基板は、第
1基板の第2の面に傷がついたり塵などが付着すること
を防止するという、防塵基板としても機能する。特に、
電気光学装置を用いた投射型表示装置においては、動作
時に、常温使用で40〜55°C、少し高い温度環境
(40°C)で55〜70℃ぐらいまで温度上昇するた
め、第3基板としてネオセラムを用いることにより、基
板の熱膨張率を特定の範囲内に抑え、色むらの発生を防
止することができ、有効である。
According to such a configuration of the present invention, by disposing the third substrate made of Neoceram (trade name, manufactured by Nippon Electric Glass), local temperature rise caused by irradiation of light from the light source is achieved. Thermal expansion unevenness in the third substrate surface can be reduced, and an effect of obtaining an electro-optical device having high color unevenness display quality can be obtained. Furthermore, the third substrate also functions as a dust-proof substrate that prevents the second surface of the first substrate from being scratched or dust-adhering. In particular,
In a projection display device using an electro-optical device, the temperature rises to about 40 to 55 ° C. in normal temperature use and to about 55 to 70 ° C. in a slightly high temperature environment (40 ° C.) during operation. The use of neoceram is effective because the coefficient of thermal expansion of the substrate can be suppressed within a specific range and the occurrence of color unevenness can be prevented.

【0014】また、前記第1基板はネオセラムからなる
ことを特徴とする。このような構成とすることにより、
第1基板においても、光源からの光の照射に起因する局
部的な温度上昇による基板面内における熱膨張むらを減
少させることができ、更に色むら表示品位の高い電気光
学装置を得るという効果を有する。また、第1基板と第
3基板にネオセラムを用いることにより、第1基板と第
3基板とのそれぞれの屈折率を等しくすることができる
ため、光源から導かれる光は、効率良く、電気光学装置
を透過し、光量損失が極めて小さいという効果を有す
る。
Further, the first substrate is made of neoceram. With such a configuration,
Also in the first substrate, it is possible to reduce uneven thermal expansion in the substrate surface due to a local temperature rise caused by irradiation of light from the light source, and to obtain an electro-optical device with high color unevenness display quality. Have. Further, by using neoceram for the first substrate and the third substrate, the respective refractive indices of the first substrate and the third substrate can be made equal, so that light guided from the light source can be efficiently transmitted to the electro-optical device. And the light amount loss is extremely small.

【0015】また、前記第2基板の第2の面に隣接して
配置された第4基板を更に具備し、前記第2基板及び前
記第4基板は石英基板からなることを特徴とする。この
ように第2基板及び第4基板に石英基板を用いることに
より、第2基板及び第4基板を通過することによる光量
損失が小さいという効果を有する。また、第2基板と第
4基板とが同じ材質なので、2つの基板の膨張係数が同
一となり色むらの少ない表示をすることができる。
[0015] Further, the semiconductor device further includes a fourth substrate disposed adjacent to a second surface of the second substrate, wherein the second substrate and the fourth substrate are made of a quartz substrate. By using a quartz substrate as the second substrate and the fourth substrate in this manner, there is an effect that a light amount loss caused by passing through the second substrate and the fourth substrate is small. In addition, since the second substrate and the fourth substrate are made of the same material, the two substrates have the same expansion coefficient and display with less color unevenness can be performed.

【0016】また、前記第3基板の第2の面に隣接して
配置された第4基板を更に具備し、前記第2基板及び第
4基板は0〜70℃における熱膨張係数が−10×10
−7/℃〜10×10−7/℃であることを特徴とす
る。このような構成とすることにより、第2基板及び第
3基板においても、光源からの光の照射に起因する局部
的な温度上昇による基板面内における熱膨張むらを減少
させることができ、更に色むら表示品位の高い電気光学
装置を得るという効果を有する。
The semiconductor device may further include a fourth substrate disposed adjacent to the second surface of the third substrate, wherein the second substrate and the fourth substrate have a coefficient of thermal expansion of -10 × at 0 to 70 ° C. 10
−7 / ° C. to 10 × 10 −7 / ° C. With such a configuration, even in the second substrate and the third substrate, it is possible to reduce uneven thermal expansion in the substrate surface due to a local temperature rise due to irradiation of light from the light source, and furthermore, This has the effect of obtaining an electro-optical device with high display quality.

【0017】また、前記第1基板、第2基板及び第3基
板を挟むように配置された一対の偏光板を更に具備する
ことを特徴とする。ここで、光源からの光の熱を吸収し
やすい偏光板を用いる場合においては、この偏光板に挟
まれる局部的な第3基板の温度上昇による色むらの発生
も顕著となる。このような偏光板が用いられる電気光学
装置においても、一対の偏光板に挟まれる第3基板とし
て、特定の熱膨張率を有する基板を用いる構成とするこ
とにより、色むらを防止し、表示品位の高い電気光学装
置を得るという効果を有する。
[0017] The liquid crystal display further includes a pair of polarizing plates arranged so as to sandwich the first substrate, the second substrate, and the third substrate. Here, when a polarizing plate that easily absorbs the heat of light from the light source is used, color unevenness due to a local temperature rise of the third substrate sandwiched between the polarizing plates becomes remarkable. Also in an electro-optical device using such a polarizing plate, by using a substrate having a specific coefficient of thermal expansion as a third substrate sandwiched between a pair of polarizing plates, color unevenness can be prevented and display quality can be reduced. This has the effect of obtaining an electro-optical device having a high density.

【0018】本発明の投射型表示装置は、光源と、入射
光を投射する光学系と、前記光源と前記光学系との間に
介挿され、前記光源からの光を変調して前記光学系に導
く、上述の電気光学装置を有するライトバルブとを具備
することを特徴とする。
The projection type display device according to the present invention includes a light source, an optical system for projecting incident light, and an optical system interposed between the light source and the optical system for modulating the light from the light source to form the optical system. And a light valve having the above-described electro-optical device.

【0019】本発明のこのような作用及び他の利得は次
に説明する実施の形態から明らかにする。
The operation and other advantages of the present invention will become more apparent from the embodiments explained below.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。尚、本発明の実施の形態では、電気光学装置とし
て液晶装置を用いた投射型表示装置を例として説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described below. In the embodiments of the present invention, a projection display device using a liquid crystal device as an electro-optical device will be described as an example.

【0021】図1を用いて投射型表示装置の構成につい
て説明する。
The configuration of the projection display device will be described with reference to FIG.

【0022】投射型表示装置1100は、光学系として
の光源装置920と均一照明光学系923と、均一照明
光学系923から出射される光束Wを赤(R)、緑
(G)、青(B)に色分離する色分離光学系924と、
青色光束Bを対応するライトバルブ925Bに導く導光
系927を備えている。更に、色分離光学系924及び
導光系927により色分離された各色光束R、G、Bを
変調する変調手段としての3つの液晶装置からなるライ
トバルブ925R、925G、925Bと、変調された
後の色光束を再合成する色合成手段としての色合成プリ
ズム910と、合成された光束を投射面100の表面に
拡大投射する投射手段としての投射レンズユニット90
6を備えている。
The projection display apparatus 1100 includes a light source device 920 as an optical system, a uniform illumination optical system 923, and a light beam W emitted from the uniform illumination optical system 923 for red (R), green (G), and blue (B). A) a color separation optical system 924 for color separation;
A light guide system 927 for guiding the blue light flux B to the corresponding light valve 925B is provided. Further, light valves 925R, 925G, and 925B each composed of three liquid crystal devices as modulation means for modulating each color light beam R, G, and B color-separated by the color separation optical system 924 and the light guide system 927, and after being modulated. A color synthesizing prism 910 as a color synthesizing unit for re-synthesizing the color luminous flux, and a projection lens unit 90 as a projection unit for expanding and projecting the synthesized luminous flux onto the surface of the projection surface 100
6 is provided.

【0023】均一照明光学系923は、2つのレンズ板
921、922と反射ミラー931を備えており、反射
ミラー931を挟んで2つのレンズ板921、922が
直交する状態に配置されている。均一照明光学系923
の2つのレンズ板921、922は、それぞれマトリク
ス状に配置された複数の矩形レンズを備えている。光源
装置920から出射された光束は、第1のレンズ板92
1の矩形レンズによって複数の部分光束に分割される。
そして、これらの部分光束は、第2のレンズ板922の
矩形レンズによって3つのライトバルブ925R、92
5G、925B付近で重畳される。従って、均一照明光
学系923を用いることにより、光源装置920が出射
光束の断面内で不均一な照度分布を有している場合で
も、3つのライトバルブ925R、925G、925B
を均一な照明光で照明することが可能となる。
The uniform illumination optical system 923 includes two lens plates 921 and 922 and a reflection mirror 931. The two lens plates 921 and 922 are arranged so as to be orthogonal to each other with the reflection mirror 931 interposed therebetween. Uniform illumination optical system 923
The two lens plates 921 and 922 each include a plurality of rectangular lenses arranged in a matrix. The light beam emitted from the light source device 920 is transmitted to the first lens plate 92.
The light is split into a plurality of partial light beams by one rectangular lens.
Then, these partial light beams are divided into three light valves 925R and 925R by the rectangular lens of the second lens plate 922.
Superimposed around 5G and 925B. Therefore, by using the uniform illumination optical system 923, even when the light source device 920 has an uneven illuminance distribution in the cross section of the emitted light beam, the three light valves 925R, 925G, and 925B are used.
Can be illuminated with uniform illumination light.

【0024】各色分離光学系924は、青緑反射ダイク
ロイックミラー941と、緑反射ダイクロイックミラー
942と、反射ミラー943から構成される。まず、青
緑反射ダイクロイックミラー941において、光束Wに
含まれている青色光束Bおよび緑色光束Gが直角に反射
され、緑反射ダイクロイックミラー942の側に向か
う。赤色光束Rはこのミラー941を通過して、後方の
反射ミラー943で直角に反射されて、赤色光束Rの出
射部944からプリズムユニット910の側に出射され
る。
Each color separation optical system 924 includes a blue-green reflecting dichroic mirror 941, a green reflecting dichroic mirror 942, and a reflecting mirror 943. First, in the blue-green reflecting dichroic mirror 941, the blue light beam B and the green light beam G included in the light beam W are reflected at right angles, and head toward the green reflecting dichroic mirror 942. The red light beam R passes through the mirror 941, is reflected at a right angle by the rear reflection mirror 943, and is emitted from the emission unit 944 of the red light beam R to the prism unit 910 side.

【0025】次に、緑反射ダイクロイックミラー942
において、青緑反射ダイクロイックミラー941におい
て反射された青色、緑色光束B、Gのうち、緑色光束G
のみが直角に反射されて、緑色光束Gの出射部945か
ら色合成光学系の側に出射される。緑反射ダイクロイッ
クミラー942を通過した青色光束Bは、青色光束Bの
出射部946から導光系927の側に出射される。本例
では、均一照明光学素子の光束Wの出射部から、色分離
光学系924における各色光束の出射部944、94
5、946までの距離がほぼ等しくなるように設定され
ている。
Next, a green reflecting dichroic mirror 942
Of the blue and green light fluxes B and G reflected by the blue-green reflection dichroic mirror 941,
Only the green light beam G is reflected at a right angle, and is emitted from the emission unit 945 of the green light beam G to the color combining optical system side. The blue light flux B that has passed through the green reflection dichroic mirror 942 is emitted from the emission section 946 of the blue light flux B to the light guide system 927 side. In this example, the emission portions 944 and 94 of the color light beams in the color separation optical system 924 from the emission portion of the light beam W of the uniform illumination optical element.
The distances to 5,946 are set to be substantially equal.

【0026】色分離光学系924の赤色、緑色光束R、
Gの出射部944、945の出射側には、それぞれ集光
レンズ951、952が配置されている。したがって、
各出射部から出射した赤色、緑色光束R、Gは、これら
の集光レンズ951、952に入射して平行化される。
The red and green luminous flux R of the color separation optical system 924,
Condensing lenses 951 and 952 are arranged on the emission sides of the G emission sections 944 and 945, respectively. Therefore,
The red and green luminous fluxes R and G emitted from the respective emission sections are incident on these condenser lenses 951 and 952 and are parallelized.

【0027】このように平行化された赤色、緑色光束
R、Gは、ライトバルブ925R、925Gに入射して
変調され、各色光に対応した画像情報が付加される。す
なわち、これらの液晶装置は、画像情報に応じてスイッ
チング制御されて、これにより、ここを通過する各色光
の変調が行われる。一方、青色光束Bは、導光系927
を介して対応するライトバルブ925Bに導かれ、ここ
において、同様に画像情報に応じて変調が施される。
尚、本例のライトバルブ925R、925G、925B
は、それぞれさらに入射側偏光手段960R、960
G、960Bと、出射側偏光手段961R、961G、
961Bと、これらの間に配置された液晶装置962
R、962G、962Bとからなる液晶ライトバルブで
ある。
The red and green luminous fluxes R and G thus collimated enter the light valves 925R and 925G and are modulated to add image information corresponding to each color light. That is, the switching of these liquid crystal devices is controlled in accordance with the image information, whereby each color light passing therethrough is modulated. On the other hand, the blue luminous flux B is
To the corresponding light valve 925B, where it is similarly modulated according to image information.
The light valves 925R, 925G, and 925B of this example
Are incident-side polarizing means 960R and 960R, respectively.
G, 960B, and exit-side polarization means 961R, 961G,
961B and a liquid crystal device 962 disposed therebetween.
R, 962G and 962B.

【0028】導光系927は、青色光束Bの出射部94
6の出射側に配置した集光レンズ954と、入射側反射
ミラー971と、出射側反射ミラー972と、これらの
反射ミラーの間に配置した中間レンズ973と、ライト
バルブ925Bの手前側に配置した集光レンズ953と
から構成されている。集光レンズ946から出射された
青色光束Bは、導光系927を介して液晶装置962B
に導かれて変調される。各色光束の光路長、すなわち、
光束Wの出射部から各液晶装置962R、962G、9
62Bまでの距離は青色光束Bが最も長くなり、したが
って、青色光束の光量損失が最も多くなる。しかし、導
光系927を介在させることにより、光量損失を抑制す
ることができる。
The light guide system 927 is a light emitting section 94 for the blue light flux B.
No. 6, a condenser lens 954 disposed on the exit side, an incident-side reflection mirror 971, an exit-side reflection mirror 972, an intermediate lens 973 disposed between these reflection mirrors, and a front side of the light valve 925B. And a condenser lens 953. The blue light flux B emitted from the condenser lens 946 is transmitted through the light guide system 927 to the liquid crystal device 962B.
And modulated. The optical path length of each color beam, that is,
Each liquid crystal device 962R, 962G, 9
The distance to 62B is the longest for the blue luminous flux B, and therefore the loss of light quantity of the blue luminous flux is the largest. However, by interposing the light guide system 927, the loss of light amount can be suppressed.

【0029】各ライトバルブ925R、925G、92
5Bを通って変調された各色光束R、G、Bは、色合成
プリズム910に入射され、ここで合成される。そし
て、この色合成プリズム910によって合成された光が
投射レンズユニット906を介して所定の位置にある投
射面100の表面に拡大投射されるようになっている。
Each light valve 925R, 925G, 92
The color light fluxes R, G, and B modulated through 5B are incident on a color combining prism 910, where they are combined. The light combined by the color combining prism 910 is enlarged and projected on the surface of the projection surface 100 at a predetermined position via the projection lens unit 906.

【0030】次に、各ライトバルブに用いられる液晶装
置について、図2を用いて説明する。尚、図2は液晶装
置の概略縦断面図である。
Next, a liquid crystal device used for each light valve will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic vertical sectional view of the liquid crystal device.

【0031】液晶装置100は、第1基板としての対向
基板80と、第1基板と対向配置された第2基板として
のアクティブマトリクス基板10と、両基板が所定の間
隙を介して貼りあわすために基板の周縁部にそって配置
されたシール53と、両基板間に挟持された液晶層50
とを備えている。対向基板80は液晶層50に接する第
1の面と第1の面と対向する第2の面と有し、アクティ
ブマトリクス基板10は液晶層50に接する第1の面と
第1の面と対向する第2の面とを有する。更に、対向基
板80及びアクティブマトリクス基板10のそれぞれ第
2の面に隣接して、透明基板101、102が配置され
る。そして、この液晶装置100は、対向基板80側に
光源からの分光が入射されるように、投射型表示装置に
配置される。
The liquid crystal device 100 includes a counter substrate 80 as a first substrate, an active matrix substrate 10 as a second substrate opposed to the first substrate, and a liquid crystal device 100 for bonding both substrates with a predetermined gap therebetween. A seal 53 disposed along the periphery of the substrate; and a liquid crystal layer 50 sandwiched between the substrates.
And The opposing substrate 80 has a first surface in contact with the liquid crystal layer 50 and a second surface in opposition to the first surface, and the active matrix substrate 10 has a first surface in contact with the liquid crystal layer 50 and opposing the first surface. And a second surface. Further, transparent substrates 101 and 102 are arranged adjacent to the second surfaces of the opposing substrate 80 and the active matrix substrate 10, respectively. Then, the liquid crystal device 100 is arranged in the projection display device such that the spectrum from the light source is incident on the counter substrate 80 side.

【0032】アクティブマトリクス基板10は、厚さ
1.2mmの石英基板上に、互いに交差して配置される
複数の走査線及び複数のデータ線と、交差部毎に配置さ
れたスイッチング素子及び画素電極とを備え、これら配
線やスイッチング素子などはアクティブマトリクス基板
10の第1の面に配置されている。このアクティブマト
リクス基板10に隣接して配置される透明基板102と
しては、厚さ約1.1mmの石英基板が用いられる。
The active matrix substrate 10 is composed of a plurality of scanning lines and a plurality of data lines arranged crossing each other on a quartz substrate having a thickness of 1.2 mm, and a switching element and a pixel electrode arranged at each intersection. These wirings and switching elements are arranged on the first surface of the active matrix substrate 10. As the transparent substrate 102 disposed adjacent to the active matrix substrate 10, a quartz substrate having a thickness of about 1.1 mm is used.

【0033】一方、対向基板80は、厚さ1.1mmの
ネオセラム(商品名、日本電気硝子製)上に、アクティ
ブマトリクス基板上の走査線、データ線及びスイッチン
グ素子に対応して形成された遮光膜と、この遮光膜を覆
って形成された透明電極とを備え、これら透明電極等は
対向基板80の第1の面に配置されている。この対向基
板80に隣接して配置される透明基板101としては、
厚さ1.1mmのネオセラムが用いられる。ネオセラム
は、0℃〜380℃における熱膨張係数が約−6.0×
10−7/℃の特性を有する。ライトバルブ等の電気光
学装置の動作保証は通常0°C〜75°Cなので、この
熱膨張係数は、動作保証温度内で有効である。また、ネ
オセラムは、約400nm以上の波長光に対する光透過
率は約90%であり、約400nm付近からそれ以下の
波長に対する光透過率は急激に減少し、波長340nm
の付近ではほぼ光透過率は0となる特性を有しており、
光源からの紫外線を遮蔽するのに有効である。本実施形
態では、対向基板80に遮光層が設けられることによ
り、光源からの光が直接スイッチング素子に入射され
ず、スイッチング素子の誤動作を防止できる。更に、透
明基板101により、や液晶配向膜50を劣化させる紫
外線の入射を制御することができる。
On the other hand, the opposing substrate 80 is a light shielding formed on a 1.1 mm thick neoceram (trade name, manufactured by Nippon Electric Glass) corresponding to the scanning lines, data lines and switching elements on the active matrix substrate. A transparent electrode formed so as to cover the light-shielding film. These transparent electrodes and the like are arranged on the first surface of the counter substrate 80. As the transparent substrate 101 disposed adjacent to the counter substrate 80,
Neoceram having a thickness of 1.1 mm is used. Neoceram has a thermal expansion coefficient of about −6.0 × at 0 ° C. to 380 ° C.
It has a characteristic of 10 −7 / ° C. Since the operation guarantee of an electro-optical device such as a light valve is usually 0 ° C. to 75 ° C., this coefficient of thermal expansion is effective within the operation guarantee temperature. Also, neoceram has a light transmittance of about 90% for light having a wavelength of about 400 nm or more, and a light transmittance for light having a wavelength of about 400 nm or less rapidly decreases to about 340 nm.
Has a characteristic that the light transmittance is almost 0 near
It is effective for shielding ultraviolet rays from a light source. In this embodiment, since the light-blocking layer is provided on the counter substrate 80, light from the light source is not directly incident on the switching element, and malfunction of the switching element can be prevented. Furthermore, the transparent substrate 101 can control the incidence of ultraviolet light that degrades the liquid crystal alignment film 50.

【0034】ここで、透明基板101、102は、それ
ぞれ対向基板やアクティブマトリクス基板に直接、接着
剤などにより貼りつけても良いし、貼りつけずに固定器
具などで固定することもできる。また、対向基板やアク
ティブマトリクス基板と所定の距離をおいて真空空間が
配置されるように防塵ガラス101、102を配置して
も良い。このように空間をあけることにより、対向基
板、アクティブマトリクス基板、そして透明基板に蓄積
される熱を放出することができ、温度上昇を押さえるこ
とができる。
Here, the transparent substrates 101 and 102 may be directly adhered to the opposing substrate or the active matrix substrate by an adhesive or the like, or may be fixed by a fixing device without attaching. Further, the dust-proof glasses 101 and 102 may be arranged such that a vacuum space is arranged at a predetermined distance from the opposing substrate or the active matrix substrate. By providing such a space, heat accumulated in the counter substrate, the active matrix substrate, and the transparent substrate can be released, and a rise in temperature can be suppressed.

【0035】本実施形態においては、光源が入射される
側の対向基板80に隣接して特定の熱膨張係数を有する
透明基板を配置101することにより、基板面内におけ
る熱膨張むらによる色むらを減少させることができる。
In the present embodiment, by disposing 101 a transparent substrate having a specific thermal expansion coefficient adjacent to the opposite substrate 80 on the side where the light source is incident, color unevenness due to uneven thermal expansion in the substrate surface is reduced. Can be reduced.

【0036】更に、出射される側のアクティブマトリク
ス基板10及びこれに隣接して配置される透明基板とし
て石英基板を用いることにより、光量損失を小さくする
ことができる。
Further, by using a quartz substrate as the active matrix substrate 10 on the light emitting side and the transparent substrate disposed adjacent to the active matrix substrate 10, loss of light quantity can be reduced.

【0037】ここで、図3に、透明基板として種々の熱
膨張係数を有する基板を用いた場合の色むら発生の度合
いについて示す。測定は図1に示す投射型表示装置とし
た状態での色むらの度合いを測定し、ライトバルブに用
いられる液晶装置の防塵基板を変えて測定した。液晶装
置としては、アクティブマトリクス基板に用いられる基
板に石英基板、対向基板に用いられる基板にネオセラム
を用いた。そして、透明基板は、アクティブマトリクス
基板及び対向基板に接着剤により接着させている。液晶
装置は、対向基板が光源側(入射側)となるように配置
される。色むらの測定は、後述の方法で行い、数値が大
きいほど色むらの度合いが大きい。透明基板は、ネオセ
ラム、石英基板、NA35から選択したものを用いた。
各基板の50℃における熱膨張係数は、ネオセラムは約
−6.0×10−7/℃、石英基板は約5.8×10
−7/℃、NA35は約37×10−7/℃である。
FIG. 3 shows the degree of occurrence of color unevenness when substrates having various coefficients of thermal expansion are used as transparent substrates. The measurement was performed by measuring the degree of color unevenness in the state of the projection type display device shown in FIG. 1 and changing the dustproof substrate of the liquid crystal device used for the light valve. As a liquid crystal device, a quartz substrate was used as a substrate used as an active matrix substrate, and neoceram was used as a substrate used as a counter substrate. The transparent substrate is bonded to the active matrix substrate and the counter substrate with an adhesive. The liquid crystal device is arranged so that the opposing substrate is on the light source side (incident side). The measurement of color unevenness is performed by a method described later, and the larger the numerical value, the greater the degree of color unevenness. As the transparent substrate, one selected from neoceram, a quartz substrate, and NA35 was used.
The thermal expansion coefficient of each substrate at 50 ° C. was about −6.0 × 10 −7 / ° C. for neoceram, and about 5.8 × 10 for quartz substrate.
−7 / ° C., NA 35 is about 37 × 10 −7 / ° C.

【0038】図3に示すように、入射側の防塵基板とし
てネオセラムを用いる場合、防塵基板として石英基板や
NA35を用いる場合と比較し、色むらを大幅に減少さ
せることができ、基板として熱膨張係数が低い基板を用
いるほど色むらを減少させることができ、結果的に表示
品位を向上させることができる。また、入射側の防塵基
板としてネオセラムを用い、出射側の防塵基板として石
英基板を用いることにより、入射側と出射側の両方にネ
オセラムを用いるよりも、色むらを減少させることがで
きる。
As shown in FIG. 3, when neoceram is used as the dust-proof substrate on the incident side, color unevenness can be greatly reduced and thermal expansion can be reduced as compared with the case where a quartz substrate or NA35 is used as the dust-proof substrate. The use of a substrate having a lower coefficient can reduce color unevenness, and as a result, display quality can be improved. Further, by using neoceram as the dustproof substrate on the incident side and using a quartz substrate as the dustproof substrate on the output side, color unevenness can be reduced as compared with using neoceram on both the incident side and the output side.

【0039】次に、図4に光源からの光が入射する側に
配置する防塵基板の熱膨張係数と色むらとの関係を示
す。図4において、横軸は50℃における熱膨張係数、
縦軸は色差Δu’v’を示す。色むらの測定は、図1に
示す投射型表示装置とした状態で、光源からの光が入射
する側の防塵基板の熱膨張係数を変えて測定した。投射
型表示装置のライトバルブに用いる液晶装置としては、
アクティブマトリクス基板に用いられる基板に石英基
板、対向基板に用いられる基板にネオセラム、出射側と
なるアクティブマトリクス基板側に配置される透明基板
として石英基板を用いた。透明基板は、アクティブマト
リクス基板及び対向基板に接着剤により接着させてい
る。液晶装置は、対向基板が光源側(入射側)となるよ
うに配置される。
Next, FIG. 4 shows the relationship between the thermal expansion coefficient and the color unevenness of the dustproof substrate arranged on the side where the light from the light source is incident. In FIG. 4, the horizontal axis represents the coefficient of thermal expansion at 50 ° C.,
The vertical axis indicates the color difference Δu'v '. The color unevenness was measured by changing the thermal expansion coefficient of the dust-proof substrate on the side where light from the light source was incident in the state of the projection display device shown in FIG. As a liquid crystal device used for a light valve of a projection display device,
A quartz substrate was used as a substrate used as an active matrix substrate, neoceram was used as a substrate used as a counter substrate, and a quartz substrate was used as a transparent substrate disposed on an active matrix substrate side which is an emission side. The transparent substrate is bonded to the active matrix substrate and the counter substrate with an adhesive. The liquid crystal device is arranged so that the opposing substrate is on the light source side (incident side).

【0040】色むらの測定は、以下の方法で行う。The measurement of color unevenness is performed by the following method.

【0041】図1の投射型表示装置に駆動回路を付け、
ラスター画面をスクリーン上に投射させ、スクリーン上
の最も色の異なる2点を選び出す。そして、この2点の
CIE1976USC表色系の色座標(u,v)、
(u,v)を求め、色差Δu’v’=((u+v
+(u+v1/2を導き出す。色差Δ
u’v’が大きいほど色むらの度合いが大きく逆に、色
差Δu’v’が小さいほど色むらが小さい。なお、スク
リーン上の最も色の異なる2点とは、色差Δu’v’が
最も大きくなるようなスクリーン上の2点のことであ
る。
A driving circuit is attached to the projection type display device of FIG.
The raster screen is projected on the screen, and two points with the most different colors on the screen are selected. Then, the color coordinates (u 1 , v 1 ) of these two points in the CIE1976 USC color system,
(U 2 , v 2 ) is obtained, and the color difference Δu′v ′ = ((u 1 + v)
1 ) 2 + (u 2 + v 2 ) 2 ) 1/2 is derived. Color difference Δ
The greater the value of u'v ', the greater the degree of color unevenness. Conversely, the smaller the color difference Δu'v', the smaller the color unevenness. The two points having the most different colors on the screen are the two points on the screen where the color difference Δu'v 'is the largest.

【0042】図4に示すように、防塵基板として熱膨張
係数が−10×10−7〜10×10−7/℃の基板を
用いることにより、表示上、問題となる色むらとはなら
ない。
As shown in FIG. 4, by using a substrate having a coefficient of thermal expansion of −10 × 10 −7 to 10 × 10 −7 / ° C. as a dust-proof substrate, color unevenness which is a problem in display does not occur.

【0043】以上、本実施形態においては、光源からの
光が入射される側の基板に隣接して、特定の熱膨張係数
を有する基板を用いることにより、基板面内における熱
膨張率むらの大きさを小さくすることができ、温度上昇
が顕著となる投射型表示装置において、色むらが減少さ
れた表示品位の高い表示装置を得ることができる。
As described above, in the present embodiment, by using a substrate having a specific coefficient of thermal expansion adjacent to the substrate on which light from the light source is incident, the unevenness of the coefficient of thermal expansion in the plane of the substrate is increased. In a projection display device in which the temperature rise is remarkable, it is possible to obtain a display device with reduced color unevenness and high display quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本実施形態における投射型表示装置の概略図で
ある。
FIG. 1 is a schematic diagram of a projection display device according to an embodiment.

【図2】本実施形態の液晶装置の概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal device of the present embodiment.

【図3】投射型表示装置の液晶装置に用いられる透明基
板として種種変えたときのそれぞれの色むらの割合を示
す表である。
FIG. 3 is a table showing the ratio of each color unevenness when a transparent substrate used in a liquid crystal device of a projection type display device is changed.

【図4】投射型表示装置の液晶装置に用いられる光源か
らの光が入射される側に配置された透明基板の熱膨張係
数と色むらとの関係を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a relationship between a thermal expansion coefficient and color unevenness of a transparent substrate disposed on a side on which light from a light source used in a liquid crystal device of a projection display device is incident.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…アクティブマトリクス基板 50…液晶層 80…対向基板 100…液晶装置 101、102…透明基板 906…投射レンズユニット 920…光源装置 925R、925G、925B…ライトバルブ 1100…投射型表示装置 Reference Signs List 10 active matrix substrate 50 liquid crystal layer 80 opposed substrate 100 liquid crystal device 101, 102 transparent substrate 906 projection lens unit 920 light source device 925R, 925G, 925B light valve 1100 projection display device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03B 21/00 G03B 21/00 D G09F 9/30 316 G09F 9/30 316D Fターム(参考) 2H088 EA14 HA01 HA08 HA13 HA24 HA28 MA04 MA05 2H090 JB02 JD18 LA04 LA12 LA15 5C094 AA03 AA08 AA55 AA60 BA03 BA16 BA43 CA19 CA24 DA12 EA04 EA05 EB02 ED01 ED03 ED05 ED11 ED14 FA02 FB02 FB15 JA20 5G435 AA04 AA12 BB12 BB15 BB17 CC09 CC12 DD05 DD10 DD12 EE25 GG02 GG03 GG04 GG08 GG16 GG28 HH02 LL15 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03B 21/00 G03B 21/00 D G09F 9/30 316 G09F 9/30 316D F-term (Reference) 2H088 EA14 HA01 HA08 HA13 HA24 HA28 MA04 MA05 2H090 JB02 JD18 LA04 LA12 LA15 5C094 AA03 AA08 AA55 AA60 BA03 BA16 BA43 CA19 CA24 DA12 EA04 EA05 EB02 ED01 ED03 ED05 ED11 ED14 FA02 FB02 FB15 JA20 5G435 BB12 DD12 BB12 DD12 GG08 GG16 GG28 HH02 LL15

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の面と第2の面とを有する第1基板
と、 第1の面と第2の面とを有する第2基板と、 前記第1基板の第2の面と隣接して配置される第3基板
と、 前記第1基板の第1の面と前記第2基板の第1の面とが
対向配置され、前記第1基板と前記第2基板との間に挟
持された電気光学物質とを有し、 前記第1基板の第2の面の方向から光を照射することに
より使用してなる電気光学装置において、 前記第3基板は、0〜75℃における熱膨張係数が−1
0×10−7/℃〜10×10−7/℃であることを特
徴とする電気光学装置。
A first substrate having a first surface and a second surface, a second substrate having a first surface and a second surface, and being adjacent to a second surface of the first substrate. A third substrate, and a first surface of the first substrate and a first surface of the second substrate are opposed to each other, and are sandwiched between the first substrate and the second substrate. An electro-optical material, wherein the third substrate is used by irradiating light from the direction of the second surface of the first substrate. Is -1
An electro-optical device having a temperature of 0 × 10 −7 / ° C. to 10 × 10 −7 / ° C.
【請求項2】 前記第3基板は1.0mm以上の厚みを
有することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装
置。
2. The electro-optical device according to claim 1, wherein the third substrate has a thickness of 1.0 mm or more.
【請求項3】 前記第3基板は380nm以下の波長の
光を吸収または反射することを特徴とする請求項1また
は請求項2に記載の電気光学装置。
3. The electro-optical device according to claim 1, wherein the third substrate absorbs or reflects light having a wavelength of 380 nm or less.
【請求項4】 前記第2基板には、スイッチング素子が
配置されることを特徴とする請求項3に記載の電気光学
装置。
4. The electro-optical device according to claim 3, wherein a switching element is disposed on the second substrate.
【請求項5】 前記第1基板は、前記第3基板と同じ膨
張率係数を有する基板であることを特徴とする請求項1
から請求項4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
5. The substrate according to claim 1, wherein the first substrate has the same coefficient of expansion as the third substrate.
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 4.
【請求項6】 第1の面と第2の面とを有する第1基板
と、 第1の面と第2の面とを有する第2基板と、 前記第1基板の第2の面と隣接して配置される第3基板
と、 前記第1基板の第1の面と前記第2基板の第1の面とが
対向配置され、前記第1基板と前記第2基板との間に挟
持された電気光学物質とを有し、 前記第1基板の第2の面の方向から光を照射することに
より使用してなる電気光学装置において、 前記第3基板は、ネオセラムからなることを特徴とする
電気光学装置。
6. A first substrate having a first surface and a second surface, a second substrate having a first surface and a second surface, and being adjacent to a second surface of the first substrate. A third substrate, and a first surface of the first substrate and a first surface of the second substrate are opposed to each other, and are sandwiched between the first substrate and the second substrate. An electro-optical material, wherein the electro-optical device is used by irradiating light from a direction of a second surface of the first substrate, wherein the third substrate is made of neoceram. Electro-optical device.
【請求項7】 前記第1基板はネオセラムからなること
を特徴とする請求項6記載の電気光学装置。
7. The electro-optical device according to claim 6, wherein the first substrate is made of neoceram.
【請求項8】 前記第2基板の第2の面に隣接して配置
された第4基板を更に具備し、前記第2基板及び前記第
4基板は石英基板からなることを特徴とする請求項1か
ら請求項7のいずれか一項に記載の電気光学装置。
8. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a fourth substrate disposed adjacent to a second surface of the second substrate, wherein the second substrate and the fourth substrate are made of a quartz substrate. The electro-optical device according to any one of claims 1 to 7.
【請求項9】 前記第3基板の第2の面に隣接して配置
された第4基板を更に具備し、前記第2基板及び第4基
板は0〜70℃における熱膨張係数が−10×10−7
/℃〜10×10−7/℃であることを特徴とする請求
項8に記載の電気光学装置。
9. The semiconductor device further comprises a fourth substrate disposed adjacent to a second surface of the third substrate, wherein the second substrate and the fourth substrate have a coefficient of thermal expansion of -10 × at 0 to 70 ° C. 10-7
The electro-optical device according to claim 8, wherein the temperature is in the range of / C to 10x10-7 / C.
【請求項10】 前記第1基板、第2基板及び第3基板
を挟むように配置された一対の偏光板を更に具備するこ
とを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか一項に
記載の電気光学装置。
10. The method according to claim 1, further comprising a pair of polarizing plates disposed so as to sandwich the first substrate, the second substrate, and the third substrate. An electro-optical device according to claim 1.
【請求項11】 光源と、 入射光を投射する光学系と、 前記光源と前記光学系との間に介挿され、前記光源から
の光を変調して前記光学系に導く、請求項1から請求項
10のいずれか一項に記載の電気光学装置を有するライ
トバルブとを具備することを特徴とする投射型表示装
置。
11. A light source, an optical system for projecting incident light, and interposed between the light source and the optical system, for modulating light from the light source to guide the light to the optical system. A projection display device, comprising: a light valve having the electro-optical device according to claim 10.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005049744A (en) * 2003-07-31 2005-02-24 Nec Corp Liquid crystal display and liquid crystal projector
JP2007293079A (en) * 2006-04-26 2007-11-08 Victor Co Of Japan Ltd Reflection type liquid crystal display element
JP2010282042A (en) * 2009-06-05 2010-12-16 Seiko Epson Corp Electro-optical display device and projector

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005049744A (en) * 2003-07-31 2005-02-24 Nec Corp Liquid crystal display and liquid crystal projector
JP2007293079A (en) * 2006-04-26 2007-11-08 Victor Co Of Japan Ltd Reflection type liquid crystal display element
JP2010282042A (en) * 2009-06-05 2010-12-16 Seiko Epson Corp Electro-optical display device and projector
US8390748B2 (en) 2009-06-05 2013-03-05 Seiko Epson Corporation Electro-optical display device and projector

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