JP2001092959A - Method for setting and registering reference pattern and pattern matching recognizing method - Google Patents

Method for setting and registering reference pattern and pattern matching recognizing method

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JP2001092959A
JP2001092959A JP26470199A JP26470199A JP2001092959A JP 2001092959 A JP2001092959 A JP 2001092959A JP 26470199 A JP26470199 A JP 26470199A JP 26470199 A JP26470199 A JP 26470199A JP 2001092959 A JP2001092959 A JP 2001092959A
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pattern
recognition
coarse
detected
reference pattern
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JP26470199A
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Kimiaki Sano
公昭 佐野
Atsushi Tanabe
敦 田邉
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for setting and registering reference pattern, with which the position of a reference pattern can be exactly set and registered even when thinning processing is performed, and a pattern matching recognizing method for improving recognition accuracy. SOLUTION: Concerning this method for setting and registering reference pattern, a reference pattern 2 is displayed in the area of at least one part in the image of a pattern 1 to be detected, for which the image of an object is picked up, and a coarse recognition pattern 3 thinning the image data of this reference pattern 3 and a fine recognition pattern 4 highly accurately processing image data in the area of at least one part in the coarse recognition pattern 3 with this coarse recognition pattern 3 are displayed together and on the basis of both the displayed coarse and fine recognition patterns 3 and 4, the reference pattern 2 is set and registered on a characteristic part in the image of the pattern 1 to be detected.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基準パターン設定
登録方法とパターンマッチング認識方法に関するもので
ある。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a reference pattern setting registration method and a pattern matching recognition method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子部品実装装置などで電子部品
の実装前に行われる電子部品及び基板マークの位置検出
方法においては、基準となる基準パターンを予め設定登
録しておき、この設定済みの基準パターンと認識しよう
とする被検出パターンとをパターンマッチング比較して
この被検出パターンの位置を特定するパターンマッチン
グ認識方法が用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a method of detecting the position of an electronic component and a board mark performed before mounting an electronic component by an electronic component mounting apparatus or the like, a reference pattern to be a reference is set and registered in advance, A pattern matching recognition method is used in which a reference pattern and a detected pattern to be recognized are compared by pattern matching to specify the position of the detected pattern.

【0003】このパターンマッチング認識方法は、現在
の電子部品実装において用いられており、電子部品のリ
ードや基板マークなどの様々な検出対象となる被検出パ
ターンの位置を認識する方法として正規相関係数を用い
たものである。ここで、このパターンマッチング認識方
法について説明する。例えば、図4に示すような被検出
パターン101の画像データ102を考える。これはパ
ターンマッチング認識で用いる基準パターン103を作
成するための教示画像であり、図4(b)に示す基準パ
ターン103は、被検出パターン101の上に指定され
図4(a)に示した基準パターンウインドウ104の内
部の画像データとして保存されている。(教示工程) 次に被検出パターン101の位置を検出する方法を説明
する。
This pattern matching recognition method is used in current electronic component mounting, and has a normal correlation coefficient as a method for recognizing the positions of various patterns to be detected such as leads of electronic components and board marks. Is used. Here, the pattern matching recognition method will be described. For example, consider image data 102 of a detected pattern 101 as shown in FIG. This is a teaching image for creating a reference pattern 103 used in pattern matching recognition. The reference pattern 103 shown in FIG. 4B is designated on the pattern 101 to be detected and shown in FIG. It is stored as image data inside the pattern window 104. (Teaching Step) Next, a method of detecting the position of the detected pattern 101 will be described.

【0004】図5において被検出パターン101がサー
チエリア105の内部に存在するとき、基準パターン1
03をサーチエリア105内に順次移動して(数式1)
に示す正規相関係数を各座標毎に演算を行う。サーチエ
リア105の内部のすべての座標で中で正規相関係数が
最大値を示す座標が被検出パターン101のサーチエリ
ア105の内部での位置となる。この(数式1)は、正
規相関係数の演算内容を示した演算式である。
In FIG. 5, when the detected pattern 101 exists inside the search area 105, the reference pattern 1
03 is sequentially moved into the search area 105 (Equation 1).
Is calculated for each coordinate. Among all the coordinates inside the search area 105, the coordinate at which the normal correlation coefficient has the maximum value is the position of the detected pattern 101 inside the search area 105. This (Equation 1) is an operation expression showing the operation content of the normal correlation coefficient.

【0005】但し、γ(m,n)はサーチエリアの座標
(m,n)における相関係数であり、R(i,j)は基
準パターンの画像データであり、S(m+i,n+j)
はサーチエリアの画像データであり、aは基準パターン
サイズである。
Where γ (m, n) is a correlation coefficient at the coordinates (m, n) of the search area, R (i, j) is image data of the reference pattern, and S (m + i, n + j)
Is the image data of the search area, and a is the reference pattern size.

【0006】[0006]

【数1】 しかし、基準パターン103を1ピクセルごとに移動し
て正規相関係数を演算すると処理時間が多くなるという
問題が発生する。この問題を解決するために基準パター
ンを間引きする方法が広く用いられている。
(Equation 1) However, when the normal correlation coefficient is calculated by moving the reference pattern 103 for each pixel, there is a problem that the processing time increases. In order to solve this problem, a method of thinning out reference patterns is widely used.

【0007】以下、間引きによる被検出パターン101
の位置を検出する方法を説明する。図6に示すような粗
認識パターン106を考える。粗認識パターン106は
基準パターン103の、X方向およびY方向の偶数位置
のピットデータを省略した物である。この粗認識パター
ン106をサーチエリア105の内部に順次移動して
(数式1)に示す正規相関係数を各座標毎に演算を行
う。なお、これは(数式2)で示す正規相関係数の演算
を行う事と同じになる。この(数式2)は間引きピクセ
ル=2での正規相関係数の演算内容を示した演算式であ
る。その値が最小となる粗認識座標107を検出する。
この演算では、演算回数は1/4となり、それにともな
い処理時間も減少する。しかしこの算出位置だけではX
方向、Y方向で最大1ピクセルの誤差が存在する事にな
る。(粗認識工程) この後、間引きの間隔分の精認識サーチエリア108を
設定し、その内部で基準パターン103により各座標毎
に正規相関係数を演算して認識座標を検出する方法もあ
るが、図7に示すような基準パターン103の一部によ
り構成された精認識パターン109を用いてをサーチエ
リア108内に順次移動して正規相関係数を演算すれば
処理時間は更に減少することになる。(精認識工程) 但し、Lは基準パターンサイズ/2である。
A detected pattern 101 by thinning will be described below.
A method for detecting the position of the image will be described. Consider a coarse recognition pattern 106 as shown in FIG. The coarse recognition pattern 106 is obtained by omitting the pit data of the reference pattern 103 at even positions in the X and Y directions. The coarse recognition pattern 106 is sequentially moved inside the search area 105, and the normal correlation coefficient shown in (Equation 1) is calculated for each coordinate. Note that this is the same as calculating the normal correlation coefficient represented by (Equation 2). This (Equation 2) is an operation expression showing the contents of the operation of the normal correlation coefficient at the thinned pixel = 2. The coarse recognition coordinates 107 having the minimum value are detected.
In this calculation, the number of calculations is reduced to 1/4, and the processing time is accordingly reduced. However, using this calculated position alone, X
There will be a maximum of one pixel error in the Y direction. (Coarse Recognition Step) After that, there is a method of setting a fine recognition search area 108 corresponding to a thinning interval, and calculating a normal correlation coefficient for each coordinate based on the reference pattern 103 therein to detect the recognized coordinates. If the fine correlation pattern 109 composed of a part of the reference pattern 103 as shown in FIG. 7 is sequentially moved into the search area 108 to calculate the normal correlation coefficient, the processing time is further reduced. Become. (Fine Recognition Step) Here, L is reference pattern size / 2.

【0008】[0008]

【数2】 なお、前記従来例では間引きの間隔を1ピットとした
が、間引きの間隔をNピットとすれは正規相関係数の演
算式は(数式3)のようになり、それ以外の処理は前記
従来例と同様に処理される。この(数式3)は間引きピ
クセル=N正規相関係数の演算内容を示した演算式であ
る。
(Equation 2) In the above-described conventional example, the thinning interval is set to one pit. However, when the thinning interval is set to N pits, the equation for calculating the normal correlation coefficient is as shown in (Equation 3). Is processed in the same way as This (Equation 3) is an operation expression showing the operation contents of the thinned pixel = N normal correlation coefficient.

【0009】但し、Nは間引きピクセル+1であり、L
は基準パターンサイズ/Nである。
Here, N is a thinned pixel + 1, and L is
Is the reference pattern size / N.

【0010】[0010]

【数3】 (Equation 3)

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のパ
ターンマッチング認識方法では、基準パターン103を
設定登録する(教示工程)に際し、オペレータは画像の
粗い粗認識パターン106をモニタしながら被検出パタ
ーン101の特徴のある部分と思われる箇所にこの粗認
識パターン106を設定し、この粗認識パターン106
の中央部分にこの粗認識パターン106に替えて精認識
パターン109が自動的に表示され設定されるが、基準
パターン103の一部であるこの精認識パターン109
が図8に示すような平坦な部分に設定されていると正し
く認識位置を検出できないし、自動的に特徴のある部分
に精認識パターン109を設定できたとしてもこの特徴
のある部分が精度の低い部分であったりするなど電子部
品の精度等の問題により検出位置に問題がある場合に
は、再度、画像の粗い粗認識パターン106を頼りにモ
ニタしながらこの粗認識パターン106を設定しこのと
きの精認識パターン109を確認しこの精認識パターン
109が被検出パターン101の特徴のある部分で精度
の高い箇所に設定されているかを確認する作業が繰り返
し必要になり、非常に手間がかかり、基準パターン10
3の設定登録に時間がかかるという問題がある。
However, in the conventional pattern matching recognition method, when setting and registering the reference pattern 103 (teaching step), the operator monitors the coarse recognition pattern 106 with a rough image and monitors the characteristic of the detected pattern 101. This coarse recognition pattern 106 is set in a portion considered to be
The fine recognition pattern 109 is automatically displayed and set in the center portion of the reference pattern 103 instead of the coarse recognition pattern 106. The fine recognition pattern 109 which is a part of the reference pattern 103 is set.
However, if it is set to a flat part as shown in FIG. 8, the recognition position cannot be detected correctly, and even if the fine recognition pattern 109 can be automatically set to a characteristic part, this characteristic part is not accurate. If there is a problem in the detection position due to a problem such as the accuracy of the electronic component, such as a low portion, the coarse recognition pattern 106 is set again while monitoring the coarse recognition pattern 106 with a coarse image. It is necessary to repeatedly check the fine recognition pattern 109 and check whether the fine recognition pattern 109 is set at a high-accuracy portion in the characteristic portion of the pattern 101 to be detected. Pattern 10
There is a problem that it takes time to register the setting of No. 3.

【0012】また、この基準パターン103を被検出パ
ターン101の特徴のある部分で精度の高い箇所に設定
登録されていないと、被検出パターン101の認識に誤
差が生じ、最悪の場合には電子部品や実装を受ける基板
などが破損するという問題がある。本発明は、間引き処
理を行った場合でも基準パターンの位置を正確に設定登
録が可能な基準パターン設定登録方法と認識精度を向上
させるパターンマッチング認識方法を提供することを目
的とする。
If the reference pattern 103 is not set and registered in a characteristic part of the detected pattern 101 at a highly accurate location, an error occurs in the recognition of the detected pattern 101, and in the worst case, the electronic component There is a problem that the substrate receiving the mounting and the like is damaged. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a reference pattern setting / registration method capable of accurately setting and registering the position of a reference pattern even when a thinning process is performed, and a pattern matching recognition method for improving recognition accuracy.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の基準パターン設
定登録方法は、被対象物を撮像した被検出パターンの画
像の少なくとも一部の領域に基準パターンを表示し、前
記基準パターンの画像データを間引き処理した粗認識パ
ターンと、前記粗認識パターンの少なくとも一部の領域
の画像データをこの粗認識パターンより高精度に処理し
た精認識パターンとを共に表示し、表示されている前記
粗,精認識パターンに基づいて、前記被検出パターンの
画像のうちで特徴のある部分に前記基準パターンを設定
登録するものである。
According to a reference pattern setting / registering method of the present invention, a reference pattern is displayed in at least a partial area of an image of a detected pattern obtained by capturing an object, and image data of the reference pattern is displayed. The coarse recognition pattern and the fine recognition pattern obtained by processing the image data of at least a part of the coarse recognition pattern with higher precision than the coarse recognition pattern are displayed together. Based on the pattern, the reference pattern is set and registered in a characteristic part in the image of the detected pattern.

【0014】本発明によると、間引き処理を行った場合
でも基準パターンの位置を正確に短時間で効率良く設定
登録する基準パターン設定登録方法を提供することがで
きる。
According to the present invention, it is possible to provide a reference pattern setting / registering method for setting and registering the position of a reference pattern accurately and efficiently in a short time even when a thinning process is performed.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、被対象物を撮像した被検出パターンの画像の少なく
とも一部の領域に基準パターンを表示し、前記基準パタ
ーンの画像データを間引き処理した粗認識パターンと、
前記粗認識パターンの少なくとも一部の領域の画像デー
タをこの粗認識パターンより高精度に処理した精認識パ
ターンとを共に表示し、表示されている前記粗,精認識
パターンに基づいて、前記被検出パターンの画像のうち
で特徴のある部分に前記基準パターンを設定登録する基
準パターン設定登録方法としたものであり、間引き処理
を行った場合でも基準パターンの位置を正確に短時間で
効率良く設定登録する基準パターン設定登録方法を提供
することができる。
According to the first aspect of the present invention, a reference pattern is displayed in at least a part of an image of a detected pattern obtained by capturing an object, and image data of the reference pattern is displayed. A coarse recognition pattern that has been thinned,
The image data of at least a part of the coarse recognition pattern is displayed together with a fine recognition pattern obtained by processing the coarse recognition pattern with higher accuracy than the coarse recognition pattern. This is a reference pattern setting and registration method in which the reference pattern is set and registered in a characteristic portion of a pattern image. Even when thinning processing is performed, the position of the reference pattern is accurately and efficiently set and registered in a short time. A reference pattern setting registration method can be provided.

【0016】本発明の請求項2に記載の発明は、被対象
物を撮像した被検出パターンの画像の少なくとも一部の
領域に基準パターンを表示し、前記基準パターンの画像
データを間引き処理した粗認識パターンと、前記粗認識
パターンの少なくとも一部の領域の画像データをこの粗
認識パターンより高精度に処理した精認識パターンとを
共に表示し、表示されている前記粗,精認識パターンに
基づいて、前記被検出パターンの画像のうちで特徴のあ
る部分に前記基準パターンを設定登録し、設定登録済み
の前記基準パターンと認識しようとする被対象物を撮像
した被検出パターンとをパターンマッチング比較してこ
の被検出パターンの位置を特定するパターンマッチング
認識方法としたものであり、間引き処理を行った場合で
も基準パターンの位置を被検出パターンの特徴のある部
分で精度の高い箇所に正確に短時間で効率良く設定登録
でき、被検出パターンを認識する際の誤差を低減するこ
とができ、認識精度を向上させるパターンマッチング認
識方法を提供することができる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a rough pattern obtained by displaying a reference pattern in at least a partial area of an image of a detected pattern obtained by capturing an object, and performing thinning processing on the image data of the reference pattern. A recognition pattern and a fine recognition pattern obtained by processing image data of at least a part of the coarse recognition pattern with higher accuracy than the coarse recognition pattern are displayed together, and based on the displayed coarse and fine recognition patterns. Setting and registering the reference pattern in a characteristic portion of the image of the detected pattern, and performing pattern matching comparison between the set and registered reference pattern and a detected pattern obtained by imaging an object to be recognized. This is a pattern matching recognition method that specifies the position of the detected pattern, and even if the thinning process is performed, the reference pattern Pattern matching that can be set and registered accurately and efficiently in a short period of time at a high-accuracy location in the characteristic portion of the detected pattern, reducing errors in recognizing the detected pattern and improving recognition accuracy A recognition method can be provided.

【0017】本発明の請求項3に記載の発明は、被検出
パターンの画像から検出に使用する全体もしくは一部の
パターンである基準パターンを登録する教示工程と、前
記被検出パターンを含むカメラ画像にサーチエリアを設
定し登録済みの前記基準パターンの画像データを間引い
た粗認識パターンの前記サーチエリアとの相関係数が最
大となる粗認識座標を検出する粗認識工程と、登録済み
の前記基準パターンの全体もしくは一部である精認識パ
ターンの前記粗認識工程で求められた座標の近傍領域と
の相関係数が最大となる座標を検出する精認識工程とを
有し、前記被検出パターンの位置を特定するに際し、前
記教示工程において前記粗認識パターンの領域と前記精
認識パターンの領域とを同時に表示して前記基準パター
ンを設定登録し、登録済みの前記基準パターンと認識し
ようとする前記被検出パターンとを前記粗,精認識工程
とでパターンマッチング比較してこの被検出パターンの
位置を特定するパターンマッチング認識方法としたもの
であり、間引き処理を行った場合でも基準パターンの位
置を被検出パターンの特徴のある部分で精度の高い箇所
に正確に短時間で効率良く設定登録でき、被検出パター
ンを認識する際の誤差を低減することができ、認識精度
を向上させるパターンマッチング認識方法を提供するこ
とができる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a teaching step of registering a reference pattern which is a whole or a part of a pattern to be detected from an image of a detected pattern, and a camera image including the detected pattern. A coarse recognition step of detecting a coarse recognition coordinate having a maximum correlation coefficient with the search area of the coarse recognition pattern obtained by setting a search area and thinning out the registered reference pattern image data; and A fine recognition step of detecting a coordinate at which a correlation coefficient with a neighborhood area of the coordinate obtained in the coarse recognition step of the fine or full pattern of the pattern is a maximum, and In specifying the position, the rough recognition pattern area and the fine recognition pattern area are simultaneously displayed and the reference pattern are set and registered in the teaching step, A pattern matching recognition method for specifying the position of the detected pattern by comparing the recorded reference pattern and the detected pattern to be recognized with the coarse / fine recognition step in the pattern matching. Even when processing is performed, the position of the reference pattern can be set and registered accurately and in a short time with high accuracy in the characteristic part of the detected pattern, and errors in recognizing the detected pattern can be reduced. Thus, a pattern matching recognition method that improves recognition accuracy can be provided.

【0018】以下、本発明の基準パターン設定登録方法
とパターンマッチング認識方法を具体的な実施の形態に
基づいて説明する。 (実施の形態)本発明の実施の形態に記載のパターンマ
ッチング認識装置は、図1,図2に示すように、認識し
ようとする被対象物を撮像した被検出パターン1と設定
登録済みの基準パターン2とをパターンマッチング比較
してこの被検出パターン1の位置を特定するパターンマ
ッチング認識装置であって、被対象物を撮像した被検出
パターン1の画像の少なくとも一部の領域に基準パター
ン2を表示し、この基準パターン2の画像データを間引
き処理した粗認識パターン3と、この粗認識パターン3
の少なくとも一部の領域の画像データをこの粗認識パタ
ーン3より高精度に処理した精認識パターン4とを共に
表示し、指示された箇所に基準パターン2を設定登録す
る画像処理装置5を設けたものである。
Hereinafter, a reference pattern setting registration method and a pattern matching recognition method according to the present invention will be described based on specific embodiments. (Embodiment) As shown in FIGS. 1 and 2, a pattern matching recognition apparatus according to an embodiment of the present invention includes a detected pattern 1 obtained by capturing an image of an object to be recognized and a reference whose setting is registered. A pattern matching recognizing device that specifies a position of the detected pattern 1 by performing pattern matching with a pattern 2, wherein a reference pattern 2 is placed on at least a part of an image of the detected pattern 1 obtained by capturing an object. A coarse recognition pattern 3 which is displayed and thinned out from the image data of the reference pattern 2;
And an image processing device 5 for displaying the image data of at least a part of the region together with the fine recognition pattern 4 which has been processed with higher precision than the coarse recognition pattern 3 and setting and registering the reference pattern 2 at the designated location. Things.

【0019】なお、基準パターン2は、基準パターンウ
インドウ2aで囲まれたパターンであり、粗認識パター
ン3は、粗認識パターンウインドウ3aで囲まれたパタ
ーンであり、精認識パターン4は、精認識パターンウイ
ンドウ4aで囲まれたパターンである。ここで、このパ
ターンマッチング認識装置の動作について説明する。
The reference pattern 2 is a pattern surrounded by a reference pattern window 2a, the coarse recognition pattern 3 is a pattern surrounded by a coarse recognition pattern window 3a, and the fine recognition pattern 4 is a fine recognition pattern. This is a pattern surrounded by a window 4a. Here, the operation of the pattern matching recognition device will be described.

【0020】図1に示すように、教示対象となる被検出
パターン1が基板6の上に配置されている。なお、被検
出パターン1は電子部品ないしは基板パターンを表す物
である。カメラ7から撮像された画像データが画像処理
装置5に転送する画像入力工程が行われる。図2(a)
は教示対象となる画像を表した正面図である。図2
(a)に示す画像データ8において、被検出パターン1
のサイズ等の条件から求められた検査対象となる領域で
あるサーチエリア9を設定するサーチエリア設定工程が
行われる。
As shown in FIG. 1, a detection target pattern 1 to be taught is arranged on a substrate 6. The detected pattern 1 represents an electronic component or a substrate pattern. An image input step of transferring image data taken from the camera 7 to the image processing device 5 is performed. FIG. 2 (a)
FIG. 4 is a front view showing an image to be taught. FIG.
In the image data 8 shown in FIG.
A search area setting step of setting a search area 9 which is an area to be inspected obtained from conditions such as the size of the search area is performed.

【0021】次に、基準パターン2を設定登録する教示
工程を実施する。オペレータがサーチエリア9の内部の
被検出パターン1の特徴的な部分に基準パターンウイン
ドウ2aを設定する。基準パターンウインドウ2aは粗
認識ウインドウ3aと精認識ウインドウ4aとで構成さ
れており、これらの粗認識ウインドウ3aと精認識ウイ
ンドウ4aとは同時に画像処理装置5の画像表示部(図
示せず)に表示されており、粗認識ウインドウ3aと精
認識ウインドウ4aは同期して移動する。図2(b)は
基準パターンウインドウ2aの内容を表した正面図であ
る。図3は、粗認識ウインドウ3aの粗認識パターン3
と精認識ウインドウ4aの精認識パターン4の内部デー
タの構造を表した正面図である。なお、粗認識パターン
3は、粗認識ウインドウ3aの内部のX方向およびY方
向の任意の間引き分ピットデータを省略した物であり、
精認識パターン4は、精認識ウインドウ4aのデータを
間引きなしで作成したデータである。
Next, a teaching step of setting and registering the reference pattern 2 is performed. An operator sets a reference pattern window 2a in a characteristic portion of the detected pattern 1 inside the search area 9. The reference pattern window 2a is composed of a coarse recognition window 3a and a fine recognition window 4a, and the coarse recognition window 3a and the fine recognition window 4a are simultaneously displayed on an image display unit (not shown) of the image processing device 5. The coarse recognition window 3a and the fine recognition window 4a move in synchronization. FIG. 2B is a front view showing the contents of the reference pattern window 2a. FIG. 3 shows the coarse recognition pattern 3 in the coarse recognition window 3a.
FIG. 7 is a front view showing the structure of internal data of a fine recognition pattern 4 in a fine recognition window 4a. The coarse recognition pattern 3 is obtained by omitting any thinned pit data in the X and Y directions inside the coarse recognition window 3a.
The fine recognition pattern 4 is data created without thinning out the data of the fine recognition window 4a.

【0022】このようにオペレータは、同時に表示され
ている粗認識ウインドウ3aと精認識ウインドウ4aと
をモニタしながら、基準パターン2を被検出パターン1
の特徴のある部分で精度の高い箇所に設定しこれを登録
する。前記のように基準パターン2を設定登録した後
に、前述の従来例と同様の認識工程を行う。具体的に
は、登録済みの基準パターン2と認識しようとする被検
出パターン1とを、前述の従来例で説明した粗,精認識
工程でパターンマッチング比較してこの被検出パターン
1の位置を特定する。
As described above, the operator monitors the rough recognition window 3a and the fine recognition window 4a which are simultaneously displayed, and sets the reference pattern 2 to the detected pattern 1
Is set at a high-precision part in the characteristic part of and registered. After setting and registering the reference pattern 2 as described above, the same recognition process as in the above-described conventional example is performed. Specifically, the registered reference pattern 2 and the detected pattern 1 to be recognized are subjected to pattern matching in the coarse / fine recognition step described in the above-described conventional example, and the position of the detected pattern 1 is specified. I do.

【0023】このように構成したため、教示工程におい
て間引き処理を行った粗認識パターンを使用する場合で
も基準パターン2の位置を被検出パターン1の特徴のあ
る部分で精度の高い箇所に正確に短時間で効率良く設定
登録でき、粗,精認識工程において被検出パターン1を
認識する際の誤差を低減することができ認識精度を向上
させることができ、電子部品や実装を受ける基板などが
破損するという問題を解消することができる。
With this configuration, even when a coarsely-recognized pattern subjected to the thinning process is used in the teaching process, the position of the reference pattern 2 can be accurately and quickly shifted to a high-accuracy portion in the characteristic portion of the detected pattern 1. Can efficiently register settings, reduce errors in recognizing the pattern 1 to be detected in the coarse / fine recognition process, improve recognition accuracy, and damage electronic components and the board on which they are mounted. The problem can be solved.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上のように本発明の基準パターン設定
登録方法によれば、被対象物を撮像した被検出パターン
の画像の少なくとも一部の領域に基準パターンを表示
し、前記基準パターンの画像データを間引き処理した粗
認識パターンと、前記粗認識パターンの少なくとも一部
の領域の画像データをこの粗認識パターンより高精度に
処理した精認識パターンとを共に表示し、表示されてい
る前記粗,精認識パターンに基づいて、前記被検出パタ
ーンの画像のうちで特徴のある部分に前記基準パターン
を設定登録することにより、間引き処理を行った場合で
も基準パターンの位置を正確に短時間で効率良く設定登
録する基準パターン設定登録方法を提供することができ
る。
As described above, according to the reference pattern setting / registering method of the present invention, the reference pattern is displayed in at least a part of the image of the detected pattern obtained by imaging the object, and the image of the reference pattern is displayed. A coarse recognition pattern obtained by thinning data and a fine recognition pattern obtained by processing image data of at least a part of the coarse recognition pattern with higher accuracy than the coarse recognition pattern are displayed together. By setting and registering the reference pattern in a characteristic portion of the image of the detected pattern based on the fine recognition pattern, the position of the reference pattern can be accurately and efficiently obtained in a short time even when the thinning process is performed. A reference pattern setting registration method for setting and registering can be provided.

【0025】また、本発明のパターンマッチング認識方
法によれば、被対象物を撮像した被検出パターンの画像
の少なくとも一部の領域に基準パターンを表示し、前記
基準パターンの画像データを間引き処理した粗認識パタ
ーンと、前記粗認識パターンの少なくとも一部の領域の
画像データをこの粗認識パターンより高精度に処理した
精認識パターンとを共に表示し、表示されている前記
粗,精認識パターンに基づいて、前記被検出パターンの
画像のうちで特徴のある部分に前記基準パターンを設定
登録し、設定登録済みの前記基準パターンと認識しよう
とする被対象物を撮像した被検出パターンとをパターン
マッチング比較してこの被検出パターンの位置を特定す
ることにより、間引き処理を行った場合でも基準パター
ンの位置を正確に設定登録でき、被検出パターンを認識
する際の誤差を低減することができ、認識精度を向上さ
せるパターンマッチング認識方法を提供することができ
る。
According to the pattern matching recognition method of the present invention, a reference pattern is displayed in at least a part of an area of an image of a detected pattern obtained by capturing an object, and the image data of the reference pattern is thinned out. A coarse recognition pattern and a fine recognition pattern obtained by processing image data of at least a part of the coarse recognition pattern with higher accuracy than the coarse recognition pattern are displayed together, and based on the displayed coarse and fine recognition patterns. Setting and registering the reference pattern in a characteristic portion of the image of the detected pattern, and comparing the set and registered reference pattern with a detected pattern obtained by capturing an object to be recognized by pattern matching. Then, by specifying the position of the detected pattern, the position of the reference pattern can be accurately set even when the thinning process is performed. Registration can, it is possible to reduce the error in recognizing the detected pattern, the pattern matching recognition method to improve the recognition accuracy can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態のパターンマッチング認識
装置の構成を示すブロック図
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a pattern matching recognition device according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態の教示対象となる画像を表した正
面図
FIG. 2 is an exemplary front view showing an image to be taught according to the embodiment;

【図3】同実施の形態の粗認識パターンと精認識パター
ンとを表した正面図
FIG. 3 is an exemplary front view showing a coarse recognition pattern and a fine recognition pattern according to the embodiment;

【図4】従来の認識対象となる画像を表した正面図FIG. 4 is a front view showing a conventional image to be recognized.

【図5】従来の被検出パターンと基準パターンを表した
正面図
FIG. 5 is a front view showing a conventional detected pattern and a reference pattern.

【図6】従来の粗認識パターンを表した正面図FIG. 6 is a front view showing a conventional coarse recognition pattern.

【図7】従来の精認識パターンを表した正面図FIG. 7 is a front view showing a conventional fine recognition pattern.

【図8】従来の精認識パターンを表した正面図FIG. 8 is a front view showing a conventional fine recognition pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被検出パターン 2 基準パターン 2a 基準パターンウインドウ 3 粗認識パターン 3a 粗認識ウインドウ 4 精認識パターン 4a 精認識ウインドウ 5 画像処理装置 6 基板 7 カメラ 8 画像データ 9 サーチエリア Reference Signs List 1 detected pattern 2 reference pattern 2a reference pattern window 3 coarse recognition pattern 3a coarse recognition window 4 fine recognition pattern 4a fine recognition window 5 image processing device 6 substrate 7 camera 8 image data 9 search area

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】被対象物を撮像した被検出パターンの画像
の少なくとも一部の領域に基準パターンを表示し、 前記基準パターンの画像データを間引き処理した粗認識
パターンと、前記粗認識パターンの少なくとも一部の領
域の画像データをこの粗認識パターンより高精度に処理
した精認識パターンとを共に表示し、 表示されている前記粗,精認識パターンに基づいて、前
記被検出パターンの画像のうちで特徴のある部分に前記
基準パターンを設定登録する基準パターン設定登録方
法。
1. A rough recognition pattern in which a reference pattern is displayed in at least a part of an image of a detected pattern obtained by imaging an object, and a coarse recognition pattern obtained by thinning out image data of the reference pattern; A fine recognition pattern obtained by processing image data of a part of the region with higher precision than the coarse recognition pattern is displayed together, and based on the displayed coarse and fine recognition patterns, the image of the detected pattern is displayed. A reference pattern setting registration method for setting and registering the reference pattern in a characteristic portion.
【請求項2】被対象物を撮像した被検出パターンの画像
の少なくとも一部の領域に基準パターンを表示し、 前記基準パターンの画像データを間引き処理した粗認識
パターンと、前記粗認識パターンの少なくとも一部の領
域の画像データをこの粗認識パターンより高精度に処理
した精認識パターンとを共に表示し、 表示されている前記粗,精認識パターンに基づいて、前
記被検出パターンの画像のうちで特徴のある部分に前記
基準パターンを設定登録し、 設定登録済みの前記基準パターンと認識しようとする被
対象物を撮像した被検出パターンとをパターンマッチン
グ比較してこの被検出パターンの位置を特定するパター
ンマッチング認識方法。
2. A coarse recognition pattern in which a reference pattern is displayed in at least a part of an area of an image of a detected pattern obtained by capturing an object, and a coarse recognition pattern obtained by thinning out image data of the reference pattern; A fine recognition pattern obtained by processing image data of a part of the region with higher precision than the coarse recognition pattern is displayed together, and based on the displayed coarse and fine recognition patterns, the image of the detected pattern is displayed. The reference pattern is set and registered in a characteristic portion, and the position of the detected pattern is specified by performing pattern matching comparison between the set and registered reference pattern and a detected pattern obtained by imaging an object to be recognized. Pattern matching recognition method.
【請求項3】被検出パターンの画像から検出に使用する
全体もしくは一部のパターンである基準パターンを登録
する教示工程と、前記被検出パターンを含むカメラ画像
にサーチエリアを設定し登録済みの前記基準パターンの
画像データを間引いた粗認識パターンの前記サーチエリ
アとの相関係数が最大となる粗認識座標を検出する粗認
識工程と、登録済みの前記基準パターンの全体もしくは
一部である精認識パターンの前記粗認識工程で求められ
た座標の近傍領域との相関係数が最大となる座標を検出
する精認識工程とを有し、前記被検出パターンの位置を
特定するに際し、 前記教示工程において前記粗認識パターンの領域と前記
精認識パターンの領域とを同時に表示して前記基準パタ
ーンを設定登録し、 登録済みの前記基準パターンと認識しようとする前記被
検出パターンとを前記粗,精認識工程とでパターンマッ
チング比較してこの被検出パターンの位置を特定するパ
ターンマッチング認識方法。
3. A teaching step of registering a reference pattern which is a whole or a part of a pattern to be detected from an image of a pattern to be detected, and a search area is set by registering a search area in a camera image including the pattern to be detected. A coarse recognition step of detecting a coarse recognition coordinate at which a correlation coefficient of the coarse recognition pattern obtained by thinning out the image data of the reference pattern with the search area is maximized; and a fine recognition that is a whole or a part of the registered reference pattern. A fine recognizing step of detecting a coordinate at which a correlation coefficient between the pattern and the vicinity area of the coordinate obtained in the coarse recognizing step is the maximum, and in specifying the position of the detected pattern, The area of the coarse recognition pattern and the area of the fine recognition pattern are simultaneously displayed, and the reference pattern is set and registered. Wherein the object detection pattern roughness, pattern matching recognition method and pattern matching compared with the seminal recognition process identifies the position of the detection target pattern to be.
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