JP2001088215A - Method for producing polymeric sheet and optical polymeric sheet using the same - Google Patents

Method for producing polymeric sheet and optical polymeric sheet using the same

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JP2001088215A
JP2001088215A JP27254799A JP27254799A JP2001088215A JP 2001088215 A JP2001088215 A JP 2001088215A JP 27254799 A JP27254799 A JP 27254799A JP 27254799 A JP27254799 A JP 27254799A JP 2001088215 A JP2001088215 A JP 2001088215A
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sheet
polymer sheet
polymer
polymeric sheet
liquid crystal
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Japanese (ja)
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Toshimasa Eguchi
敏正 江口
Junji Tanaka
順二 田中
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for continuously producing a polymeric sheet excellent in surface smoothness and reduced in retardation and an optical polymeric sheet using the same. SOLUTION: An uncompleted polymeric sheet of which the temp. (T1) is 20 deg.C<=T1<TD with respect to the glass transition point (Tg) and thermal decomposition temp. (TD) of a polymer is brought into close contact with a smooth surface of which the max. surface roughness (Rmax) is Rmax<=0.1 μm in a close contact process and passed through a heating process wherein temp. (T2) is Tg<=T2<TD in the close contact state with the smooth surface to produce a polymeric sheet.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高分子シートの製
造方法に於いて、平面平滑性に優れ、リタデーションの
小さい高分子シートを効率良く製造する方法と、これを
用いて製造した光学用シートに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for efficiently producing a polymer sheet having excellent planar smoothness and small retardation, and an optical sheet produced using the same. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶表示素子用透明電極基板には
ガラス基板が採用されてきたが、ガラス基板を用いた液
晶表示素子においては、ガラス基板自体が厚いため液晶
表示素子自体の薄型化が困難であると共に、軽量化しに
くいという欠点があり、更に耐衝撃性の点で問題があっ
た。このガラス基板液晶表示素子のもつ欠点を改善する
方法として、高分子シートを用いて液晶表示素子を作製
することにより、軽量化、耐衝撃性の向上が検討されて
いる。例えば、特開昭53−68099号公報及び特開
昭54−126559号公報には、ガラス基板の代わり
に導電性酸化金属物質を蒸着した長尺のポリエステルフ
ィルムを用いて液晶表示素子を連続して製造することが
示されているが、光学的特性において優れているとは言
い難いものであった。この問題を解決するため、光学等
方性に優れた高分子シートをこれらの用途に応用すべく
研究を重ねたところ、高分子の分子配向に起因するシー
トのリタデーションが重大な欠点となることが分かっ
た。例えば、TN(Twisted Nematic)型液晶表示素子
では偏光板により直線偏光された入射光が、シートの複
屈折性及びそのシート面内の偏差から部分的に異なる楕
円偏光になるため、コントラストの低下、表示ムラを生
じさせている。更に、TN型液晶表示素子以上に高精細
な表示を得るためにSTN(Super Twisted Nematic)
型液晶表示素子とした場合には、複屈折性より発現する
光学的位相差を利用するために前記の高分子の分子配向
に起因するリタデーションによる問題がますます重大に
なっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a glass substrate has been adopted as a transparent electrode substrate for a liquid crystal display element. However, in a liquid crystal display element using a glass substrate, the thickness of the liquid crystal display element itself is reduced because the glass substrate itself is thick. It is difficult and it is difficult to reduce the weight, and there is a problem in terms of impact resistance. As a method of improving the disadvantages of the glass substrate liquid crystal display device, reduction in weight and improvement in impact resistance by manufacturing a liquid crystal display device using a polymer sheet have been studied. For example, JP-A-53-68099 and JP-A-54-126559 disclose liquid crystal display elements using a long polyester film on which a conductive metal oxide material is deposited instead of a glass substrate. Although production was shown, it was hard to say that it was excellent in optical properties. In order to solve this problem, we conducted research to apply polymer sheets with excellent optical isotropy to these applications, and found that sheet retardation due to molecular orientation of the polymer was a serious drawback. Do you get it. For example, in a TN (Twisted Nematic) type liquid crystal display device, incident light linearly polarized by a polarizing plate becomes elliptically polarized light which is partially different from the birefringence of the sheet and the deviation in the sheet plane, thereby lowering the contrast. This causes display unevenness. Furthermore, in order to obtain a higher definition display than a TN type liquid crystal display device, STN (Super Twisted Nematic)
In the case of a liquid crystal display device of the type, the problem due to the retardation caused by the molecular orientation of the polymer is becoming more and more serious because the optical retardation developed from the birefringence is used.

【0003】更に、高分子シートを用いた液晶セルが実
用化されるにつれて、表示面積が大型化し、電極同志を
均一間隔に保つ、いわゆるギャップ維持のため、基材と
して変形し難いことが要求されている。基材厚みは当初
の100μmから300μmを越える場合が出てきてい
る。シートのリタデーションは、常光と異常光の屈折率
差と厚さを掛けたものとなるため、この点でも前記問題
の早急な改善が望まれている。さらに、表示を斜め方向
から見た場合にも画面が見やすいように、リタデーショ
ンは正面方向の場合だけでなく斜め方向でも小さいこと
が求められている。光学用材料の位相差を改善する方法
として、特殊な2価フェノールを構造単位とする特殊ポ
リカーボネートを用いる方法(特開昭63−10802
3号公報)、固有複屈折が正の材料と負の材料をブレン
ドする方法(T.Inoue et al.,Journalof Polymer Scien
ce ,Part B,25,1629(1987).)、固有複屈折が正のポリ
カーボネートと負のポリスチレンをグラフト共重合させ
る方法(日経ニューマテリアル、1988年9月26日
号、60〜62頁の記事)、極性基を有したノルボルネ
ン系樹脂を用いる方法(機能材料、1993年1月号、
40〜52頁の記事)等が提案されているがいずれも実
用化には至っていない。
Further, as a liquid crystal cell using a polymer sheet is put to practical use, a display area is increased, and it is required that a substrate is hardly deformed in order to maintain a uniform gap between electrodes, that is, to maintain a so-called gap. ing. In some cases, the thickness of the base material exceeds 100 μm to 300 μm. Since the retardation of the sheet is obtained by multiplying the difference between the refractive index of ordinary light and that of extraordinary light by the thickness of the sheet, an urgent improvement of the above problem is desired in this regard. Further, it is required that the retardation is small not only in the front direction but also in the oblique direction so that the screen is easy to see even when the display is viewed from an oblique direction. As a method for improving the retardation of an optical material, a method using a special polycarbonate having a special dihydric phenol as a structural unit (JP-A-63-10802)
No. 3), a method of blending a material having a positive intrinsic birefringence and a negative material (T. Inoue et al., Journal of Polymer Scien
ce, Part B, 25, 1629 (1987)), a method of graft copolymerizing a polycarbonate having a positive intrinsic birefringence and a negative polystyrene (Nikkei New Materials, September 26, 1988, pp. 60-62). ), A method using a norbornene-based resin having a polar group (functional materials, January 1993,
Articles on pages 40 to 52) have been proposed, but none of them have been put to practical use.

【0004】これは、押し出し法にて押し出されたシー
トが、冷却ロールで冷却固化され巻き取られるまでの短
時間の間に、ダイス内で生じるせん断応力や、ダイスリ
ップから出た樹脂が延伸されることによる流れ方向及び
厚み方向に生じる温度分布によりシート内で発生する面
内及び厚み方向での分子配向を避けることが出来なかっ
たり、製造方法が煩雑であり実用的でなかったためであ
る。表面平滑性については、一般的に知られているTダ
イやコートハンガーダイを使用した溶融押し出し法で
は、溶融した高分子の通る流路内でのせん断応力や滞
留、更には、ダイスの面やリップの精度により生じると
されているダイラインと呼ばれる筋がシート面に発生
し、表面の平滑性を低下させている。表面平滑性を向上
させる手段として、熱可塑性高分子を溶剤に溶解させ、
フィルムもしくは金属ベルト等にコーティングし乾燥さ
せる溶剤キャスト法がしられているがシート厚みが厚く
なった場合の生産性及びシート中の残留溶剤が問題とな
る。他方、表面を高精度に仕上げた金型に熱可塑性高分
子を封入して成形する射出成型法も光ディスクで知られ
るようにリタデーションの制御が可能であるが、射出成
型法では数mmオーダーの厚みのシートが限界であり、
数百μmの厚みには対応できない。
[0004] This is because, during a short time from the time when the sheet extruded by the extrusion method is cooled and solidified by the cooling roll and wound up, the shear stress generated in the die and the resin discharged from the die slip are stretched. This is because the temperature distributions generated in the flow direction and the thickness direction due to the above-mentioned problems make it impossible to avoid the molecular orientation in the plane and the thickness direction generated in the sheet, and the production method is complicated and impractical. Regarding the surface smoothness, in the melt extrusion method using a generally known T die or coat hanger die, the shear stress or stagnation in the flow path through which the molten polymer passes, and further, the surface of the die and Streaks called die lines, which are said to occur due to the accuracy of the lip, are generated on the sheet surface, reducing the surface smoothness. As a means to improve the surface smoothness, a thermoplastic polymer is dissolved in a solvent,
Although a solvent casting method of coating and drying a film or a metal belt or the like is performed, productivity and a residual solvent in the sheet when the sheet thickness is increased become a problem. On the other hand, an injection molding method in which a thermoplastic polymer is sealed in a mold whose surface is finished with high precision can be used to control the retardation as is known for optical discs, but the injection molding method has a thickness of several mm. Seat is the limit,
It cannot cope with a thickness of several hundred μm.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、高分子シートの表面平滑性が優れ、リタデーシ
ョンが小さいシートであり、液晶表示素子用基板等の光
学用高分子シートとして問題なく使用出来る高分子シー
トを効率よく連続生産可能である製造方法と、この方法
に適した樹脂を用いることにより前記特性の良好な光学
用高分子シートを提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a polymer sheet having excellent surface smoothness and a small retardation, and having no problem as a polymer sheet for optics such as a substrate for a liquid crystal display device. An object of the present invention is to provide a production method capable of efficiently and continuously producing usable polymer sheets, and to provide an optical polymer sheet having good characteristics by using a resin suitable for this method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、高分子のガラ
ス転移点(Tg)及び熱分解温度(TD)に対し、シー
ト温度(T1)が20℃≦T1<TDである未完成高分
子シートを密着工程で表面粗さの最大(Rmax)がR
max≦0.1μmの平滑面に密着させ、該平滑面に密
着させた状態で、温度(T2)がTg≦T2<TDの加
熱工程を通過させること高分子シートの製造方法であ
る。好ましい実施形態としては、該平滑面がロール又は
エンドレスベルトである前記高分子シートの製造方法で
ある。更に好ましい実施形態としては、該密着工程がニ
ップロール、エンドレスベルト又は帯電固定によるもの
である前記高分子シートの製造方法である。又本発明
は、前記高分子シートの製造方法を用いて製造した光学
用高分子シートであり、好ましくは高分子がポリエーテ
ルサルホンである光学用高分子シートであるである。
The present invention relates to an unfinished polymer having a sheet temperature (T1) of 20 ° C. ≦ T1 <TD with respect to the glass transition point (Tg) and the thermal decomposition temperature (TD) of the polymer. The maximum (Rmax) of the surface roughness is R
This is a method for producing a polymer sheet, wherein the polymer sheet is adhered to a smooth surface of max ≦ 0.1 μm and passed through a heating step with a temperature (T2) of Tg ≦ T2 <TD in a state of being adhered to the smooth surface. As a preferred embodiment, there is provided a method for producing the polymer sheet, wherein the smooth surface is a roll or an endless belt. As a further preferred embodiment, there is provided the method for producing a polymer sheet, wherein the close contact step is performed by a nip roll, an endless belt, or a charging and fixing method. Further, the present invention is a polymer sheet for optics produced by the method for producing a polymer sheet, preferably a polymer sheet for optics wherein the polymer is polyethersulfone.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の高分子シートの厚みは、
50μm以上1000μm以下が好ましく、更に好まし
くは150μm以上500μm以下である。高分子シー
トの厚みが50μm未満であると取り扱いが困難であ
り、又、液晶表示素子のセルギャップ保持が難しく、特
に、大面積の液晶表示素子ではセルギャップ保持するこ
とが出来ない。1000μmを越えると液晶表示がダブ
ルイメージと呼ばれる表示不良を起こし、更に液晶表示
素子の厚みが厚くなり機能上好ましくない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The thickness of the polymer sheet of the present invention is as follows.
It is preferably from 50 μm to 1000 μm, more preferably from 150 μm to 500 μm. If the thickness of the polymer sheet is less than 50 μm, it is difficult to handle, and it is difficult to maintain the cell gap of the liquid crystal display element. In particular, it is not possible to maintain the cell gap in a large-area liquid crystal display element. When the thickness exceeds 1000 μm, the liquid crystal display causes a display defect called a double image, and the thickness of the liquid crystal display element is increased, which is not preferable in function.

【0008】本発明の高分子シートの平面のリタデーシ
ョンは、好ましくは20nm以下、更に好ましくは10
nm以下である。平面のリタデーションとは、Re=
(Nx−Ny)×dで表されるもので、Nxは高分子シ
ート内面の最大屈折率であり、Nyは高分子シート内面
の最小屈折率である。dはシートの厚みである。リタデ
ーションが20nmを越えると液晶表示のコントラスト
の低下が発生し、表示が明瞭に見えなくなる。
The planar retardation of the polymer sheet of the present invention is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less.
nm or less. Plane retardation is defined as Re =
It is expressed by (Nx−Ny) × d, where Nx is the maximum refractive index on the inner surface of the polymer sheet, and Ny is the minimum refractive index on the inner surface of the polymer sheet. d is the thickness of the sheet. If the retardation exceeds 20 nm, the contrast of the liquid crystal display decreases, and the display becomes invisible.

【0009】本発明の高分子シートの表面粗さの最大
(Rmax)は、0.1μm以下であること好ましく、
更に好ましくは0.05μm以下である。表面の粗さの
最大が0.1μmを超えると、液晶のセルギャップ異常
が発生し表示不良となる。
The maximum surface roughness (Rmax) of the polymer sheet of the present invention is preferably 0.1 μm or less,
More preferably, it is 0.05 μm or less. If the maximum surface roughness exceeds 0.1 μm, an abnormal cell gap of the liquid crystal occurs, resulting in display failure.

【0010】本発明を製造工程の順に説明すると、使用
する未完成高分子シートは、高分子のガラス転移点(T
g)及び熱分解温度(TD)に対し、シート温度(T
1)が20℃≦T1<TDの範囲で有ればいずれのシー
トも使用可能である。例えば、ポリエステル、ポリエー
テルサルホン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、ノルボルネン系高分子及びこれをブレンドし
た樹脂等をあげることができるがこれらに限定されるも
のではない。中でも液晶表示素子製造上から、耐熱性、
加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルサルフ
ォンが特に好ましい。シートの温度が20℃未満になる
と高分子シート表面の凹凸を小さくするのにエネルギー
が掛かり過ぎ経済的に現実的でなく、又、加工時に結露
して加工不良となることがある。一方、TD以上となる
と高分子が熱分解を起こすためシートを製造できない。
本発明で用いる未完成高分子シートは別工程で製造した
シートを使用してもよいし、Tダイ又はコートハンガー
ダイで押し出しながらのシートを用いてもよい。
The present invention will be described in the order of the production process. The unfinished polymer sheet to be used has a glass transition point (T
g) and thermal decomposition temperature (TD), the sheet temperature (T
Any sheet can be used if 1) is in the range of 20 ° C. ≦ T1 <TD. Examples thereof include, but are not limited to, polyester, polyethersulfone, polycarbonate, epoxy resin, acrylic resin, norbornene-based polymer, and resin blended therewith. In particular, heat resistance,
Polyether sulfone having a good balance between processability and impact resistance is particularly preferred. If the temperature of the sheet is lower than 20 ° C., it takes too much energy to reduce the irregularities on the surface of the polymer sheet, which is not economically practical. On the other hand, if the temperature exceeds TD, a sheet cannot be produced because the polymer is thermally decomposed.
As the unfinished polymer sheet used in the present invention, a sheet produced in a separate step may be used, or a sheet extruded with a T die or a coat hanger die may be used.

【0011】本発明の平滑面はロール、エンドレスベル
ト、フラットな押板等が採用される。フラットな押板で
シートをプレスし表面平滑性を向上させる方法よりも、
連続生産性の点からロール又はエンドレスベルトが好ま
しい。未完成高分子シートを密着させる平滑面の最大表
面粗さ(Rmax)はRmax≦0,1μmが必要であ
り、好ましくは0.05μm以下である。0.1μmを
越えると高分子シートの表面に転写されるため、高分子
シートの片方の表面も0.1μm以上となり光学用シー
トとしては問題となる。
The smooth surface of the present invention employs a roll, an endless belt, a flat pressing plate, or the like. Instead of pressing the sheet with a flat pressing plate to improve the surface smoothness,
Rolls or endless belts are preferred from the viewpoint of continuous productivity. The maximum surface roughness (Rmax) of the smooth surface to which the unfinished polymer sheet is adhered needs to be Rmax ≦ 0.1 μm, preferably 0.05 μm or less. If it exceeds 0.1 μm, it is transferred to the surface of the polymer sheet, so that one surface of the polymer sheet is also 0.1 μm or more, which is a problem as an optical sheet.

【0012】未完成高分子シートを平滑面に密着させる
密着工程としては各種ニップロール、エンドレスベル
ト、帯電固定、プレス等完全密着が可能な方法ならいず
れでも可能であるが、連続生産の点からニップロール、
エンドレスベルト、または帯電固定の方式が好ましい。
ここで密着が不完全の場合、未完成高分子シートへの平
滑面の表面粗さの転写が不完全となり、シートの表面凹
凸が拡大され目標の高分子シートが得られない。
As the adhesion step for bringing the unfinished polymer sheet into close contact with the smooth surface, any method capable of perfect adhesion such as various nip rolls, endless belts, charging and fixing, and pressing can be used.
An endless belt or a fixed charging system is preferred.
If the adhesion is incomplete, the transfer of the surface roughness of the smooth surface to the unfinished polymer sheet becomes incomplete, and the surface irregularities of the sheet are enlarged, so that the target polymer sheet cannot be obtained.

【0013】次に、未完成高分子シートは平滑面に密着
した状態で、温度(T2)がTg≦T2<TDの加熱工
程に移動する。ここで高分子が運動可能となるため、未
完成高分子シートの平滑面に密着している面には平滑面
の表面粗さが転写され、反対側の面はシートの自重と高
分子の表面張力によりにより平坦化し、未完成高分子シ
ート時の表面凹凸がきわめて小さくなり良好な平滑性が
得られる。同時に、未完成シート時の内部歪みは大幅に
緩和され、シートの表面と内部との分子配向が均一に近
い、即ちリタデーションの値及びその角度依存性の大幅
に低減された高分子シートが得られる。ここで加熱工程
における加熱方式としては遠赤外線ヒーター加熱、赤外
線ヒーター加熱、熱媒オイル、水蒸気、レーザー加熱、
等の加熱方法が挙げられ、これらの中から高分子シート
に合わせてTg≦T2<TDに加熱できる方法を用いる
ことができる。加熱工程の通過時間は高分子の種類、シ
ートの厚みによって異なるが2〜60秒、好ましくは3
〜10秒である。このような製造方法により得られた高
分子シートは反りが少なく、該高分子シートを用い液晶
表示素子を作成した場合、表示ムラのない、良好な表示
が得られる。即ち、良好な光学用高分子シートが得られ
る。
Next, the unfinished polymer sheet moves to a heating step in which the temperature (T2) is Tg ≦ T2 <TD, while being in close contact with the smooth surface. Here, since the polymer can move, the surface roughness of the smooth surface is transferred to the surface in close contact with the smooth surface of the unfinished polymer sheet, and the opposite surface is the weight of the sheet and the surface of the polymer. The surface is flattened by the tension, and the unevenness of the surface of the unfinished polymer sheet is extremely small, so that good smoothness can be obtained. At the same time, the internal strain at the time of the unfinished sheet is greatly relaxed, and a polymer sheet in which the molecular orientation between the surface and the inside of the sheet is nearly uniform, that is, the retardation value and the angle dependence thereof are greatly reduced is obtained. . Here, the heating method in the heating step includes far infrared heater heating, infrared heater heating, heating medium oil, water vapor, laser heating,
And the like. Among them, a method capable of heating to Tg ≦ T2 <TD in accordance with the polymer sheet can be used. The passage time of the heating step varies depending on the kind of the polymer and the thickness of the sheet, but is 2 to 60 seconds, preferably 3
10 to 10 seconds. The polymer sheet obtained by such a production method has a small warpage, and when a liquid crystal display element is prepared using the polymer sheet, good display without display unevenness can be obtained. That is, a good optical polymer sheet is obtained.

【0014】[0014]

【実施例】以下本発明を実施例、比較例によって説明す
るが、本発明は実施例により何ら限定されるものではな
い。シートの光学的物性は次の方法により測定した。 (1)シート厚み 接触式ダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に20m
m間隔で測定した平均値。 (2)高分子シートの表面粗さの最大(Rmax) 接触式の精密段差計(TENCOR INSTRUMENTS製、AlPHA-ST
EP200)により、高分子シートの幅方向に2mmのスキ
ャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。 (3)高分子シートのリタデーション 王子計測器(株)製3次元屈折率測定器を用い、法線方
向から0度と40度でのリタデーションを測定した。 (4)平滑面の表面粗さの最大(Rmax) (株)ミツトヨ製接触式表面粗さ計により、金属ベルト
の幅方向にカットオフ長さ0.8mmにて全幅を測定し
たときの凹凸の最大値。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the examples. The optical properties of the sheet were measured by the following methods. (1) Sheet thickness 20 m in the width direction of the polymer sheet with a contact type dial gauge
Average value measured at m intervals. (2) Maximum surface roughness of polymer sheet (Rmax) Contact type precision step meter (manufactured by TENCOR INSTRUMENTS, AlPHA-ST)
EP200) is the maximum value of the concavities and convexities measured over the entire width of the polymer sheet at a scan width of 2 mm in the width direction. (3) Retardation of Polymer Sheet The retardation at 0 ° and 40 ° from the normal direction was measured using a three-dimensional refractive index measuring device manufactured by Oji Scientific Instruments. (4) Maximum surface roughness of the smooth surface (Rmax) The unevenness when the entire width is measured at a cutoff length of 0.8 mm in the width direction of the metal belt using a contact type surface roughness meter manufactured by Mitutoyo Corporation. Maximum value.

【0015】《実施例1》ポリエーテルサルホン(Tg
=226℃、TD400℃以上)のペレットを押出機に
投入し、押出温度350℃で、表面粗さの最大(Rma
x)が0.4μm、リップ間隙が3mmのダイスを用い
て押出を行った。ダイから押し出された230℃の未完
成高分子シートを、平滑面として表面粗さの最大(Rm
ax)が0.05μm、直径1.5mのロール上に押し
出し、210℃のニップロールにて平滑面のロール上に
完全密着させた。次いで未完成シートをロール上に密着
させた状態で赤外線ヒーターにより300℃に加熱され
た加熱工程に移動させ、5秒間で通過させ、厚み200
μmの高分子シートを作成した。その結果、0度でのリ
タデーションが2nm、40度でのリタデーションが3
nmであり、且つ、ロール面に接した高分子シートの表
面のRmaxが0.04μmであり、ニップロールに接
した面のRmaxが0.07μmである高分子シートを
安定して、連続的に得ることができた。得られた200
μm厚みのシートを用い、分子量1540、融点70℃
のエポキシアクリレートプレポリマー(昭和高分子製、
VR−60)100重量部、酢酸ブチル400重量部、
セロソルブアセテート100重量部、ベンゾインエチル
エーテル2重量部を50℃にて撹拌、溶解して均一な溶
液としたものをグラビヤロールコーターで塗布し、80
℃で10分間加熱して溶媒を除去し、80w/cmの高
圧水銀灯により15cmの距離で30秒間照射して樹脂
を硬化させ、0.5μm厚の有機層を両面に形成した。
次ぎにこのシートの上にDCマグネトロン法により初期
真空度3×10-4Paに引き、酸素/アルゴンガス9%
の混合ガスを導入、3×10-1Paの条件下において無
機層を製膜し500Å厚のSiO2を得た。次ぎに透明
導電膜として、同じくDCマグネトロン法により初期真
空度3×10-4Paに引き、酸素/アルゴンガス4%の
混合ガスを導入し、1×10-1Paの条件下に於いて製
膜し、In/In+Snの原子比が0.98であるIn
23からなる透明導電膜を得た。測定の結果、膜厚は1
600Å、非抵抗は4×10-4Ω−cmであった。成膜
後、レジストを塗布、現像し、エッチング液として10
vol%HCL、液温40℃中でパターンエッチング
し、対角長さ3インチ、L/S=150/50μmの表
示パターンを形成した。パターン形成後、STN用配向
膜を塗布し、150℃2hrの焼成処理を行った後、2
40度ツイストの配向となるようラビング処理を行っ
た。ラビング処理後、スペーサーを散布し、シール剤を
塗布し、130℃でシール硬化させてセル化し、STN
用液晶組成物を注入した。偏光板をコントラストの最大
となる位置に貼り合わせて液晶表示素子を作製した。こ
の液晶表示素子の点灯試験を行ったところ、シートのリ
タデーションや液晶のセルギャップ異常による表示ムラ
は見られず、コントラスト比45の良好な表示を示し
た。
Example 1 Polyether sulfone (Tg)
= 226 ° C., TD 400 ° C. or more) were charged into an extruder, and at an extrusion temperature of 350 ° C., the maximum surface roughness (Rma) was obtained.
Extrusion was performed using a die having x) of 0.4 μm and a lip gap of 3 mm. The unfinished polymer sheet at 230 ° C. extruded from the die was used as a smooth surface to obtain the maximum surface roughness (Rm
ax) was extruded onto a roll having a diameter of 0.05 μm and a diameter of 1.5 m, and was brought into close contact with a smooth surface roll with a nip roll at 210 ° C. Then, the unfinished sheet was moved to a heating step heated to 300 ° C. by an infrared heater in a state where the unfinished sheet was kept in close contact with the roll, and passed through for 5 seconds to obtain a thickness of 200
A polymer sheet of μm was prepared. As a result, the retardation at 0 degree is 2 nm, and the retardation at 40 degree is 3 nm.
nm, and the Rmax of the surface of the polymer sheet in contact with the roll surface is 0.04 μm, and the Rmax of the surface in contact with the nip roll is 0.07 μm stably and continuously. I was able to. 200 obtained
μm thick sheet, molecular weight 1540, melting point 70 ° C
Epoxy acrylate prepolymer (manufactured by Showa Polymer,
VR-60) 100 parts by weight, butyl acetate 400 parts by weight,
A solution obtained by stirring and dissolving 100 parts by weight of cellosolve acetate and 2 parts by weight of benzoin ethyl ether at 50 ° C. was applied using a gravure roll coater,
The mixture was heated at 10 ° C. for 10 minutes to remove the solvent, and irradiated with a high-pressure mercury lamp of 80 w / cm at a distance of 15 cm for 30 seconds to cure the resin, thereby forming an organic layer having a thickness of 0.5 μm on both sides.
Next, an initial vacuum degree of 3 × 10 −4 Pa was applied to this sheet by a DC magnetron method, and oxygen / argon gas was 9%.
Was introduced, and an inorganic layer was formed under a condition of 3 × 10 -1 Pa to obtain 500-mm thick SiO 2 . Next, as a transparent conductive film, the initial vacuum degree was similarly set to 3 × 10 −4 Pa by a DC magnetron method, and a mixed gas of oxygen / argon gas 4% was introduced to produce a transparent conductive film under the conditions of 1 × 10 −1 Pa. In which the atomic ratio of In / In + Sn is 0.98,
A transparent conductive film made of 2 O 3 was obtained. As a result of the measurement, the film thickness was 1
600 ° and the non-resistance was 4 × 10 −4 Ω-cm. After film formation, a resist is applied and developed, and an etchant of 10
The pattern was etched in a vol% HCL solution at a liquid temperature of 40 ° C. to form a display pattern having a diagonal length of 3 inches and L / S = 150/50 μm. After pattern formation, an alignment film for STN is applied, and a baking treatment is performed at 150 ° C. for 2 hours.
A rubbing treatment was performed so as to have a 40 ° twist orientation. After the rubbing treatment, a spacer is sprayed, a sealant is applied, and the seal is cured at 130 ° C. to form a cell, and STN is applied.
Liquid crystal composition was injected. A polarizing plate was attached to a position where the contrast was maximized to produce a liquid crystal display device. When a lighting test of this liquid crystal display element was performed, no display unevenness due to sheet retardation or liquid crystal cell gap abnormality was observed, and a favorable display with a contrast ratio of 45 was shown.

【0016】《実施例2》23℃である厚さ450μ
m、Rmax=0.2μmの脂環式エポキシ樹脂(Tg
=232℃)のシートを、平滑面として表面粗さの最大
(Rmax)が0.05μm、長さ5mのエンドレスベ
ルト上に帯電固定で完全密着させた。次いで赤外線ヒー
ターにより280℃に加熱された加熱工程に移動させ、
20秒間で通過させ、厚み450μmの高分子シートを
作成した。その結果、0度でのリタデーションが3n
m、40度でのリタデーションが4nmであり、且つ、
エンドレスベルト面に接した高分子シートの表面のRm
axが0.05μmであり、反対の面のRmaxが0.
1μmである高分子シートを安定して、連続的に得るこ
とができた。以下、実施例1と同様にして液晶表示を作
製した。この液晶表示素子の点灯試験を行ったところ、
シートのリタデーションや液晶のセルギャップ異常によ
る表示ムラは見られず、コントラスト比40の良好な表
示を示した。
<< Example 2 >> A thickness of 450 μm at 23 ° C.
m, Rmax = 0.2 μm alicyclic epoxy resin (Tg
(232 ° C.) as a smooth surface, and was completely fixed by charging and fixed on an endless belt having a maximum surface roughness (Rmax) of 0.05 μm and a length of 5 m. Then, it is moved to a heating step heated to 280 ° C. by an infrared heater,
It was passed for 20 seconds to produce a polymer sheet having a thickness of 450 μm. As a result, the retardation at 0 degrees is 3n.
m, the retardation at 40 degrees is 4 nm, and
Rm of surface of polymer sheet in contact with endless belt surface
ax is 0.05 μm, and Rmax of the opposite surface is 0.5 μm.
A polymer sheet having a thickness of 1 μm was obtained stably and continuously. Hereinafter, a liquid crystal display was manufactured in the same manner as in Example 1. When a lighting test of this liquid crystal display element was performed,
No display unevenness due to sheet retardation or liquid crystal cell gap abnormality was observed, and good display with a contrast ratio of 40 was shown.

【0017】《比較例1》高分子シート作成の条件の
内、加熱工程の温度を210℃で製造した以外は実施例
1と同様に行ったところ、高分子シートの0度のリタデ
ーションは25nmであり、40度のリタデーションは
29nmであった。また、シート表面にダイライン形状
が残りRmaxは0.5μmであった。この高分子シー
トを使用し、実施例1と同様の方法で液晶表示素子を作
製したところ、ダイラインによるセルギャップ異常のた
めの表示不良が認められた。またコントラスト比は30
と実施例1より低かった。
Comparative Example 1 A polymer sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the heating step was performed at a temperature of 210 ° C. Among the conditions for preparing the polymer sheet, the 0 ° retardation of the polymer sheet was 25 nm. Yes, and the retardation at 40 degrees was 29 nm. Further, the die line shape remained on the sheet surface, and Rmax was 0.5 μm. Using this polymer sheet, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. As a result, display defects due to cell gap abnormality due to die lines were observed. The contrast ratio is 30
And lower than Example 1.

【0018】《比較例2》加熱工程を使用せず高分子シ
ートを製造した以外は実施例1と同様に行ったところ、
シートのRmaxは0.5μmであった。この高分子シ
ートを使用し、実施例1と同様の方法で液晶表示素子を
作製したところ、ダイラインによるセルギャップ異常の
ための表示不良が認められた。またコントラスト比は3
0と実施例1より低かった。
<< Comparative Example 2 >> A procedure was performed in the same manner as in Example 1 except that a polymer sheet was produced without using a heating step.
The Rmax of the sheet was 0.5 μm. Using this polymer sheet, a liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 1. As a result, display defects due to cell gap abnormality due to die lines were observed. The contrast ratio is 3
0, which was lower than Example 1.

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明の方法により、リタデーションが
小さく、表面平滑性が良好な高分子シートを安定して、
効率よく連続製造することができる。また、本発明によ
り得られたシートは光学用高分子シートとして最適で、
液晶表示素子用透明電極基板として液晶表示素子を作製
した場合、ガラス基板に比べて軽く割れにくいだけでな
く、表示ムラのない良好な表示を示した。
According to the method of the present invention, a polymer sheet having a small retardation and good surface smoothness can be stably obtained.
Continuous production can be performed efficiently. Further, the sheet obtained by the present invention is optimal as an optical polymer sheet,
When a liquid crystal display device was manufactured as a transparent electrode substrate for a liquid crystal display device, not only was the glass substrate lighter and less likely to break, but also a good display without display unevenness was exhibited.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B29L 11:00 B29L 11:00 31:34 31:34 Fターム(参考) 4F100 AK01A AK55A BA01 GB41 GB90 JK15 4F207 AA34 AG01 AH73 AK04 KA01 KK51 4F209 AA34 AG01 AH73 AK04 PA03 PA05 PB02 PC16 PG12 PH02 PH03 PJ09 PN03 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (Reference) B29L 11:00 B29L 11:00 31:34 31:34 F term (Reference) 4F100 AK01A AK55A BA01 GB41 GB90 JK15 4F207 AA34 AG01 AH73 AK04 KA01 KK51 4F209 AA34 AG01 AH73 AK04 PA03 PA05 PB02 PC16 PG12 PH02 PH03 PJ09 PN03

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子のガラス転移点(Tg)及び熱分
解温度(TD)に対し、シート温度(T1)が20℃≦
T1<TDである未完成高分子シートを密着工程で表面
粗さの最大(Rmax)がRmax≦0.1μmの平滑
面に密着させ、該平滑面に密着させた状態で、温度(T
2)がTg≦T2<TDの加熱工程を通過させることを
特徴とする高分子シートの製造方法。
1. The sheet temperature (T1) is 20 ° C. ≦ with respect to the glass transition point (Tg) and the thermal decomposition temperature (TD) of a polymer.
An unfinished polymer sheet satisfying T1 <TD is adhered to a smooth surface having a maximum surface roughness (Rmax) of Rmax ≦ 0.1 μm in the adhering step, and a temperature (T
2) passing through a heating step of Tg ≦ T2 <TD.
【請求項2】該平滑面がロール又はエンドレスベルトで
ある請求項1記載の高分子シートの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the smooth surface is a roll or an endless belt.
【請求項3】 該密着工程がニップロールによるもので
ある請求項2記載の高分子シートの製造方法。
3. The method for producing a polymer sheet according to claim 2, wherein said contacting step is performed by a nip roll.
【請求項4】 該密着工程がエンドレスベルトによるも
のである請求項2記載の高分子シートの製造方法。
4. The method for producing a polymer sheet according to claim 2, wherein the contacting step is performed by an endless belt.
【請求項5】 該密着工程が帯電固定によるものである
請求項2記載の高分子シートの製造方法。
5. The method for producing a polymer sheet according to claim 2, wherein the adhesion step is performed by charging and fixing.
【請求項6】請求項1〜5記載の高分子シートの製造方
法を用いて製造した光学用高分子シート。
6. An optical polymer sheet produced by the method for producing a polymer sheet according to claim 1.
【請求項7】高分子がポリエーテルサルホンである請求
項6記載の光学用高分子シート。
7. The optical polymer sheet according to claim 6, wherein the polymer is polyether sulfone.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009258171A (en) * 2008-04-11 2009-11-05 Mitsubishi Rayon Co Ltd Method of manufacturing rod lens, and rod lens array
CN112938954A (en) * 2021-03-19 2021-06-11 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 Preparation method, system and application of graphene aerogel with oriented structure

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