JP2001075117A - Production of liquid crystal device - Google Patents

Production of liquid crystal device

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JP2001075117A
JP2001075117A JP25220099A JP25220099A JP2001075117A JP 2001075117 A JP2001075117 A JP 2001075117A JP 25220099 A JP25220099 A JP 25220099A JP 25220099 A JP25220099 A JP 25220099A JP 2001075117 A JP2001075117 A JP 2001075117A
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liquid crystal
wiring
substrate
alignment film
forming
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Naoki Makino
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the electrolytic corrosion, oxidation, mechanical damage, etc., of wiring by forming alignment layers even on the wiring formed on external junctures on overhanging regions and removing the alignment layers in the external junctures, then immediately packaging electronic parts or wiring members without executing other treatments. SOLUTION: The alignment layers 16 on the mother substrate 11 are extended and formed from liquid crystal sealing regions 11A to the overhanging regions 11B to completely cover the wiring (b). The mother substrates 11 and 12 are stuck together cut into strips, and filled with liquid crystals (c and d). The substrates are partly cut away to form the mother substrate 11 to an overhanging state, and the substrates are separated to individual liquid crystal panels 100 (e). The alignment layers 16 cover the wiring on the surfaces of the overhanging regions 11B. The entire part of the liquid crystal panels 100 is washed with pure water, etc., and voltage is impressed thereto. Lighting is inspected (f) and the electronic parts, etc., are packaged in other places. The alignment layers 16 on the overhanging regions 11B are decomposed away (g) and thereafter the electronic parts 140 are packaged on the overhanging regions 11B without executing any treatment at all (h).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶装置の製造方法
に係り、特に、一方の基板の表面上に反射電極を有する
反射型の液晶装置に適した製造技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal device, and more particularly to a manufacturing technique suitable for a reflection type liquid crystal device having a reflective electrode on a surface of one substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、従来の液晶装置は、2枚の透明
基板の表面上にそれぞれ電極を形成し、この2枚の透明
基板を、シール材を介した状態で貼り合わせ、基板間に
液晶を封入することによって形成される。このような液
晶装置の中には、外光の反射によって表示が視認できる
ように構成される反射型液晶装置がある。
2. Description of the Related Art In general, in a conventional liquid crystal device, electrodes are formed on the surfaces of two transparent substrates, respectively, and these two transparent substrates are bonded together with a sealing material interposed therebetween. Is formed by encapsulating. Among such liquid crystal devices, there is a reflection type liquid crystal device configured so that a display can be visually recognized by reflection of external light.

【0003】反射型液晶装置においては、一方の基板の
表面上に反射電極と、この反射電極に接続され、基板上
の外部端子部まで延長する配線とが金属、例えばアルミ
ニウムなどによって形成される。また、上記の電極や配
線の上には、液晶を所定方向に配向させるための配向膜
が形成される。配向膜の表面はラビング処理が施され
る。一方、他方の基板には透明電極及び配線が形成さ
れ、その上に上記と同様の配向膜が形成される。このよ
うにして形成された2枚の基板は、シール材を介して相
互に貼りあわされて液晶パネルとして構成される。この
液晶パネルにおいては、多くの場合、一方の基板が他方
の基板よりも側方へ張り出した張出領域を有し、この張
出領域の表面上に電子部品や配線部材等を導電接続する
ための外部接続部を備えた構造になる。
In a reflection type liquid crystal device, a reflection electrode and a wiring connected to the reflection electrode and extending to an external terminal on the substrate are formed of metal, for example, aluminum on the surface of one substrate. Further, an alignment film for aligning the liquid crystal in a predetermined direction is formed on the electrodes and the wirings. The surface of the alignment film is subjected to a rubbing treatment. On the other hand, a transparent electrode and a wiring are formed on the other substrate, and an alignment film similar to the above is formed thereon. The two substrates thus formed are adhered to each other via a sealing material to form a liquid crystal panel. In many cases, in this liquid crystal panel, one of the substrates has an overhanging region that extends laterally more than the other substrate, and electronic components and wiring members are electrically connected to the surface of the overhanging region. The structure has an external connection portion.

【0004】上記の液晶パネルにおける張出領域の表面
上には、一方の基板に形成された反射電極から伸びる配
線が引き出されるとともに、他方の基板に形成された透
明電極に導電接続された配線もまた引き出される。そし
て、これらの配線の端部が外部接続部に配置され、例え
ば、液晶駆動回路を内蔵した集積回路チップなどの電子
部品が実装されたり、或いは、他の回路部品に接続され
るフレキシブル配線基板などの配線部材が接続されたり
するようになっている。そして、電子部品や配線部材な
どを実装した後、シリコーン樹脂などによって外部端子
部が樹脂モールドされる。
On the surface of the overhang region in the above-mentioned liquid crystal panel, a wiring extending from a reflective electrode formed on one substrate is drawn, and a wiring conductively connected to a transparent electrode formed on the other substrate is also provided. It will be drawn again. Then, the ends of these wirings are arranged in an external connection portion, for example, electronic components such as an integrated circuit chip having a built-in liquid crystal driving circuit are mounted thereon, or a flexible wiring board connected to other circuit components is provided. Are connected. Then, after mounting the electronic components and the wiring members, the external terminals are resin-molded with a silicone resin or the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
反射型液晶装置において、基板の張出領域上に形成され
た配線が露出した状態で製造工程を流れる場合、製造工
程中において配線に異物が付着したり、損傷を受けたり
する可能性があり、異物の付着や損傷が発生すると、最
終的に上記の集積回路チップや配線部材を実装した後に
樹脂モールドを施しても、電触などが発生しやすくなる
という問題点がある。
However, in the above-mentioned reflection type liquid crystal device, when the wiring formed on the overhanging area of the substrate flows through the manufacturing process in a state where the wiring is exposed, foreign matter adheres to the wiring during the manufacturing process. If foreign matter adheres or is damaged, even if resin molding is performed after the above-mentioned integrated circuit chip or wiring member is finally mounted, electrical contact etc. may occur. There is a problem that it becomes easier.

【0006】特に、反射電極及びその配線がアルミニウ
ムによって形成されている場合、アルミニウムは露出し
ているだけで酸化されやすいとともに電触もきわめて発
生しやすく、また、柔らかいために傷が付きやすく簡単
に断線してしまい、しかも、製造工程中において60度
程度の温水によって洗浄すると溶解してしまうことがあ
るため、液晶パネルの洗浄処理が困難になるなど、製造
工程における取り扱いが難しいという問題点がある。
In particular, when the reflective electrode and its wiring are formed of aluminum, the aluminum is easily oxidized and exposed to electric contact very easily because it is exposed, and is easily damaged due to its softness. There is a problem that handling is difficult in the manufacturing process, for example, since the wire is broken and may be dissolved when washed with warm water of about 60 degrees during the manufacturing process, so that the liquid crystal panel is difficult to clean. .

【0007】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、アルミニウム等の金属で形成され
た配線を有する液晶装置の製造方法において、配線の電
触、酸化、損傷等を防止することができるとともに、洗
浄処理を容易に行うことができる製造方法を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a liquid crystal device having a wiring formed of a metal such as aluminum to prevent the wiring from being contacted, oxidized and damaged. It is another object of the present invention to provide a manufacturing method that can perform the cleaning process easily.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の液晶装置の製造方法は、表面上に反射電極を
備えた第1基板と、該第1基板に対向する透明な第2基
板とを有し、前記第1基板と前記第2基板との間に液晶
を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、前記第1
基板の表面上に前記反射電極を形成するとともに前記反
射電極に接続された配線を前記第1基板の張出領域上に
設定された外部接続部まで延長するように形成する電極
形成工程と、前記反射電極及び前記配線の上に直接若し
くは間接的に配向膜を被覆形成する配向膜形成工程と、
前記第1基板と前記第2基板とをシール材を介して貼り
合わせ、基板間に液晶を封入して液晶セル構造を形成す
る液晶セル形成工程と、前記配向膜のうち前記外部接続
部を覆う部分を除去した後、他の処理を施すことなく直
ちに前記配線に電子部品若しくは配線部材を実装する実
装工程とを有することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention comprises a first substrate having a reflective electrode on a surface thereof, and a transparent second substrate facing the first substrate. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: a substrate; and a liquid crystal sandwiched between the first substrate and the second substrate.
An electrode forming step of forming the reflective electrode on a surface of a substrate and forming a wiring connected to the reflective electrode so as to extend to an external connection portion set on an overhang region of the first substrate; An alignment film forming step of forming a coating directly or indirectly on the reflective electrode and the wiring,
A liquid crystal cell forming step of bonding the first substrate and the second substrate via a sealant, sealing liquid crystal between the substrates to form a liquid crystal cell structure, and covering the external connection portion of the alignment film And a mounting step of mounting an electronic component or a wiring member on the wiring immediately after removing the portion without performing other processing.

【0009】この発明によれば、配向膜形成工程におい
て張出領域上の外部接続部まで延長するように形成され
た配線の上にも配向膜を形成し、この外部接続部におけ
る配向膜を除去した後に他の処理を施すことなく直ちに
電子部品若しくは配線部材を実装するようにしたので、
配線が露出した状態で他の製造工程や洗浄処理等が実施
されることがないため、配線上に異物が付着したり、配
線に損傷を受けたり、配線が溶出したりする危険性を低
減できるから、配線の電触や酸化、機械的損傷などを防
止できる。
According to the present invention, the alignment film is formed also on the wiring formed so as to extend to the external connection portion on the overhang region in the alignment film forming step, and the alignment film at the external connection portion is removed. After that, electronic components or wiring members were immediately mounted without performing other processing,
Since no other manufacturing process or cleaning process is performed in a state where the wiring is exposed, it is possible to reduce a risk that foreign matter adheres to the wiring, the wiring is damaged, and the wiring is eluted. Therefore, it is possible to prevent contact, oxidation, and mechanical damage of the wiring.

【0010】本発明において、前記液晶セル形成工程の
後であって前記実装工程の前に、前記配線に対して前記
配向膜を介して電圧を印加することにより電気的検査を
行う検査工程を有することが好ましい。
In the present invention, after the liquid crystal cell forming step and before the mounting step, there is provided an inspection step of performing an electrical inspection by applying a voltage to the wiring via the alignment film. Is preferred.

【0011】この発明によれば、配向膜によって被覆さ
れた状態のまま、配線に電位を付与して電気的検査を行
うようにしたので、検査時に配線に異物を付着させた
り、それによって電触が発生しやすくなったりすること
を防止することができる。
According to the present invention, the electrical test is performed by applying a potential to the wiring while the wiring is covered with the alignment film. Can be prevented from easily occurring.

【0012】次に、本発明の液晶装置の製造方法は、表
面上に反射電極を備えた第1基板と、該第1基板に対向
する透明な第2基板とを有し、前記第1基板と前記第2
基板との間に液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法で
あって、前記第1基板の表面上に前記反射電極を形成す
るとともに前記反射電極に接続された配線を前記第1基
板の張出領域上に設定された外部接続部まで延長するよ
うに形成する電極形成工程と、前記反射電極及び前記配
線の上に直接若しくは間接的に配向膜を被覆形成する配
向膜形成工程と、前記第1基板と前記第2基板とをシー
ル材を介して貼り合わせ、基板間に液晶を封入して液晶
セル構造を形成する液晶セル形成工程と、前記配線に対
して前記配向膜を介して電圧を印加することにより電気
的検査を行う検査工程とを有することを特徴とする。
Next, a method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention includes a first substrate having a reflective electrode on a surface thereof, and a transparent second substrate opposed to the first substrate. And the second
A method for manufacturing a liquid crystal device comprising a liquid crystal interposed between a substrate and a substrate, wherein the reflective electrode is formed on a surface of the first substrate, and a wiring connected to the reflective electrode is attached to the first substrate. An electrode forming step of forming an extension to an external connection portion set on the output region; an alignment film forming step of forming an alignment film directly or indirectly on the reflective electrode and the wiring; and A liquid crystal cell forming step of laminating the first substrate and the second substrate via a sealing material, sealing liquid crystal between the substrates to form a liquid crystal cell structure, and applying a voltage to the wiring via the alignment film. And performing an electrical inspection by applying the voltage.

【0013】この発明によれば、配向膜によって被覆さ
れた状態のまま、配線に電位を付与して電気的検査を行
うようにしたので、検査時に配線に異物を付着させた
り、それによって電触が発生しやすくなったりすること
を防止することができる。
According to the present invention, the electrical inspection is performed by applying a potential to the wiring while the wiring is covered with the alignment film. Can be prevented from easily occurring.

【0014】なお、上記のように配向膜を介して印加さ
れる電圧は、直接配線に接触した状態で印加される電圧
に比べて高くする必要があり、例えば、配線上に介在す
る所定厚さの配向膜を誘電体とするコンデンサが存在す
るものとして決定される。
The voltage applied through the alignment film as described above needs to be higher than the voltage applied in a state in which the wiring is in direct contact with the wiring. It is determined that there is a capacitor using the alignment film as a dielectric.

【0015】本発明において、前記配線をアルミニウム
若しくはアルミニウムを主体とする合金によって形成す
ることが好ましい。
In the present invention, it is preferable that the wiring is made of aluminum or an alloy mainly containing aluminum.

【0016】この発明によれば、配線がアルミニウム若
しくはアルミニウムを主体とする合金は、酸化されやす
く、電触も発生しやすく、しかも機械的損傷を受けやす
く断線しやすく、その上、温水などに溶出する特性を有
するので、特に大きな効果を得ることができる。この場
合、製造工程上の要請によって反射電極と配線が共に同
材質で形成されている場合に特に効果的である。
According to the present invention, aluminum or an alloy mainly composed of aluminum is liable to be oxidized, easily eroded, easily damaged by mechanical damage, and easily eluted in hot water or the like. Therefore, a particularly great effect can be obtained. In this case, it is particularly effective when both the reflective electrode and the wiring are formed of the same material due to a request in a manufacturing process.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る液晶装置の製造方法の実施形態について詳細に説
明する。図1は本実施形態の液晶装置における液晶パネ
ル完成時の状態を模式的に示す概略断面図(a)及び当
該装置の張出領域近傍の平面構造を示す拡大平面図
(b)である。また、図2(a)〜(h)は、本実施形
態の製造工程の概略を示す概略工程説明図である。さら
に、図3(a)及び(b)は、後述する母基板11と1
2の表面構造の概略を示す概略平面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view (a) schematically showing a state when a liquid crystal panel is completed in the liquid crystal device of the present embodiment, and an enlarged plan view (b) showing a planar structure near an overhang region of the device. 2 (a) to 2 (h) are schematic process explanatory views showing the outline of the manufacturing process of the present embodiment. FIGS. 3A and 3B show mother substrates 11 and 1 to be described later.
FIG. 2 is a schematic plan view showing an outline of a surface structure of No. 2;

【0018】本実施形態では、図2(a)に示すような
母基板11に、図3(a)にも示すように縦横に配列さ
れた複数の液晶封入領域11Aを設定し、この液晶封入
領域11A毎に図1(a)に示す多数の反射電極13及
び配線14を形成する。個々の反射電極13はそれぞれ
ストライプ状に延長形成され、液晶封入領域11A内に
おいて相互に並列するように形成される。反射電極13
及び配線14はアルミニウムをスパッタリング法によっ
て母基板11上に形成した後、フォトリソグラフィ法な
どを用い、不要部分をエッチングしてパターニングする
ことによって形成される。
In this embodiment, as shown in FIG. 3A, a plurality of liquid crystal sealing regions 11A arranged vertically and horizontally are set on a mother substrate 11 as shown in FIG. A large number of reflective electrodes 13 and wirings 14 shown in FIG. 1A are formed for each region 11A. Each of the reflective electrodes 13 is formed to extend in a stripe shape, and is formed so as to be parallel to each other in the liquid crystal enclosure region 11A. Reflective electrode 13
The wiring 14 is formed by forming aluminum on the mother substrate 11 by a sputtering method, and then etching and patterning an unnecessary portion using a photolithography method or the like.

【0019】次に、上記の反射電極13の上にSi
、TiOなどの硬質無機被膜を形成することによ
って図1(a)に示すトップコート膜15を形成する。
このトップコート膜15は、基板から不純物が溶出した
り、後述する母基板12に形成された透明電極との間に
塵埃などが混入して電極間が短絡したりすることを防止
するためのものである。したがって、このような必要が
ない場合には形成しなくてもよい。
Next, Si is placed on the reflective electrode 13.
A top coat film 15 shown in FIG. 1A is formed by forming a hard inorganic film such as O 2 and TiO 2 .
The top coat film 15 is used to prevent impurities from being eluted from the substrate, or to prevent short-circuiting between the electrodes due to dust or the like being mixed with a transparent electrode formed on the mother substrate 12 described later. It is. Therefore, when such a necessity is not required, it may not be formed.

【0020】次に、上記トップコート膜15の上に配向
膜16を形成する。この配向膜16は、ポリイミド樹脂
を塗布し、焼成することによって形成され、その表面に
ラビング処理が施される。配向膜16は通常、反射電極
13の上だけに形成すればよいが、本実施形態では、図
3(a)に示すように、液晶封入領域11Aからはみ出
すように形成され、配線14が形成される、図1に示す
張出領域11Bにまで延長形成される。配向膜16は配
線14を完全に被覆するように形成される。
Next, an alignment film 16 is formed on the top coat film 15. The alignment film 16 is formed by applying and baking a polyimide resin, and the surface thereof is subjected to a rubbing treatment. Normally, the alignment film 16 may be formed only on the reflective electrode 13, but in the present embodiment, as shown in FIG. 3A, the alignment film 16 is formed so as to protrude from the liquid crystal sealing region 11A, and the wiring 14 is formed. As shown in FIG. The alignment film 16 is formed so as to completely cover the wiring 14.

【0021】一方、図2(b)に示す母基板12につい
ても、図3(b)に示すように、上記液晶封入領域11
Aと対応した液晶封入領域12Aが複数設定され、この
各領域12A内に、ITO(インジウムスズ酸化物)な
どからなる透明導電体で構成される多数の透明電極17
が形成される。透明電極17はそれぞれストライプ状に
形成され、相互に並列した状態で各領域にパターニング
される。また、透明電極17の上には上記と同様の配向
膜18が形成され、ラビング処理が施される。
On the other hand, as shown in FIG. 3B, the mother substrate 12 shown in FIG.
A is provided with a plurality of liquid crystal enclosing regions 12A corresponding to a plurality of transparent electrodes 17 made of a transparent conductor made of ITO (indium tin oxide) or the like.
Is formed. The transparent electrodes 17 are each formed in a stripe shape, and are patterned in respective regions in a state where they are arranged in parallel with each other. An alignment film 18 similar to the above is formed on the transparent electrode 17 and subjected to a rubbing process.

【0022】上記のように形成された母基板11上には
シール材19が図3(a)に示すように配置され、この
シール材19を介して母基板11と母基板12とが図2
(c)に示すように貼り合わせられる。そして、その貼
り合わせ状態が所定の基板間ギャップ(例えば5〜10
μm程度)になるように加圧され、この状態で、加熱若
しくは光照射等が施されてシール材19が硬化される。
このようにして母パネル10が形成される。
A seal member 19 is disposed on the mother substrate 11 formed as described above, as shown in FIG. 3A, and the mother substrate 11 and the mother substrate 12 are connected via the seal member 19 in FIG.
It is bonded as shown in FIG. Then, the bonding state is a predetermined gap between the substrates (for example, 5 to 10).
(approximately μm), and in this state, heating or light irradiation is performed to cure the sealing material 19.
Thus, mother panel 10 is formed.

【0023】次に、図2(d)に示すように、母パネル
10を短冊状に切断(スクライブ・ブレイク)して、短
冊状パネル20にする。この短冊状パネル20にするこ
とによって、図3(a)に示すシール材19の液晶注入
口19aが露出するので、液晶注入口19aから液晶を
注入する。液晶の注入は、公知のように減圧下にて液晶
注入口19aを液晶中に浸漬するか又は液晶注入口19
aに液晶を滴下することにより、液晶注入口19aを液
晶によって閉鎖し、この状態で周囲圧力を大気圧に向け
て上昇させることにより、内外圧力差によって液晶をパ
ネル内に進入させることによって行う。そして、液晶注
入が完了すると、上記の液晶注入口19aを封止して液
晶をシール材19の内側に閉じ込める。
Next, as shown in FIG. 2D, the mother panel 10 is cut into a strip shape (scribe-break) to form a strip-shaped panel 20. By forming the strip-shaped panel 20, the liquid crystal injection port 19a of the sealing material 19 shown in FIG. 3A is exposed, and the liquid crystal is injected from the liquid crystal injection port 19a. The liquid crystal can be injected by immersing the liquid crystal injection port 19a in the liquid crystal under reduced pressure or
The liquid crystal is injected into the panel by closing the liquid crystal injection port 19a with the liquid crystal by dropping the liquid crystal into the liquid crystal a, and increasing the ambient pressure toward the atmospheric pressure in this state, thereby causing the liquid crystal to enter the panel by the difference between the inside and outside pressures. When the liquid crystal injection is completed, the liquid crystal injection port 19a is sealed to confine the liquid crystal inside the sealing material 19.

【0024】次に、図2(d)に示す短冊状パネル20
に対して、母基板12に相当する基板の一部を図示のよ
うに切断除去し、図2(e)に示すように母基板11に
相当する基板が張り出した状態に形成し、さらに、この
短冊状パネル20を個々の液晶封入領域毎に切断して、
個々の液晶パネル100に分離する。この状態では、図
1(a)に示されているように、母基板11の一部であ
る基板110の外縁部が母基板12の一部である基板1
20の外縁部よりも外側に張り出して張出領域11Bと
なっている。そして、この張出領域11Bの表面上で
は、上述のように配線14を配向膜16が被覆してい
る。
Next, the strip-shaped panel 20 shown in FIG.
On the other hand, a part of the substrate corresponding to the mother substrate 12 is cut and removed as shown in the figure, and the substrate corresponding to the mother substrate 11 is formed in a protruding state as shown in FIG. The strip-shaped panel 20 is cut into individual liquid crystal filled areas,
It is separated into individual liquid crystal panels 100. In this state, as shown in FIG. 1A, the outer edge of the substrate 110, which is a part of the motherboard 11, is a substrate 1 which is a part of the motherboard 12.
The overhanging region 11 </ b> B extends beyond the outer edge portion 20. Then, on the surface of the overhang region 11B, the wiring 14 is covered with the alignment film 16 as described above.

【0025】上記のように液晶パネル100が完成する
と、液晶パネル100全体を純水等によって洗浄し、次
に、図2(f)に示すように、張出領域11B上に形成
された配線14に対して電圧を印加し、検査装置130
によって液晶パネルの点灯検査を行う。上述のように配
線14は基板110上の反射電極13及び基板120上
の透明電極17にそれぞれ導電接続されているので、張
出領域11Bに引き出されている配線14に所定の電圧
を印加することによって、反射電極13と透明電極14
との間に挟持された液晶部分(画素領域)が所定の電界
を受け、あらかじめ設計した通りに動作するか否か(す
なわち点灯するか否か)を試験することができる。
When the liquid crystal panel 100 is completed as described above, the entire liquid crystal panel 100 is washed with pure water or the like, and then, as shown in FIG. 2 (f), the wiring 14 formed on the overhang region 11B is formed. To the inspection device 130
To perform a lighting inspection of the liquid crystal panel. As described above, since the wiring 14 is conductively connected to the reflective electrode 13 on the substrate 110 and the transparent electrode 17 on the substrate 120, it is necessary to apply a predetermined voltage to the wiring 14 drawn to the overhang region 11B. The reflection electrode 13 and the transparent electrode 14
It is possible to test whether or not the liquid crystal portion (pixel region) sandwiched between and receives a predetermined electric field and operates as designed in advance (that is, whether or not to light).

【0026】図4は、この点灯検査時の張出領域11B
の近傍を示す拡大断面図である。この図において、張出
領域11Bには、前述の通り、基板110の表面上に配
線14が所定間隔で配列配置されており、この配線14
の表面上にさらに配向膜16が形成されている。
FIG. 4 shows the overhang area 11B during the lighting inspection.
3 is an enlarged sectional view showing the vicinity of FIG. In this figure, in the overhang region 11B, the wirings 14 are arranged at predetermined intervals on the surface of the substrate 110 as described above.
An alignment film 16 is further formed on the surface of the substrate.

【0027】一方、検査装置130に接続された検査プ
ローブには、プローブ基板131と、このプローブ基板
131の表面上に形成され、プローブ基板131内の図
示しない配線パターンの先端部に形成された検査パッド
132と、プローブ基板131の表面上に固着された異
方性導電ゴム133とが設けられている。検査パッド1
32は上記の配線パターンを介して検査装置130内の
回路に接続されている。異方性導電ゴム133は検査プ
ローブが張出領域11B上に押し付けられ、加圧された
とき、その厚さ方向にのみ導電性を有するように、例え
ば弾性を有する合成ゴム中に多数の導電性粒子(図示せ
ず)が分散配置されたものである。この異方性導電ゴム
133によって、検査プローブが張出領域11Bの表面
上に押し付けられたとき、検査パッド132と異方性導
電ゴム133の表面との間は導通状態となる。
On the other hand, the inspection probe connected to the inspection apparatus 130 includes a probe substrate 131 and an inspection probe formed on the surface of the probe substrate 131 and formed at the tip of a wiring pattern (not shown) in the probe substrate 131. A pad 132 and an anisotropic conductive rubber 133 fixed on the surface of the probe substrate 131 are provided. Inspection pad 1
Reference numeral 32 is connected to a circuit in the inspection apparatus 130 via the above wiring pattern. The anisotropic conductive rubber 133 is provided with a large number of conductive materials in an elastic synthetic rubber, for example, so that when the test probe is pressed onto the overhang region 11B and pressed, the conductive material is conductive only in its thickness direction. Particles (not shown) are dispersed and arranged. When the inspection probe is pressed onto the surface of the overhang region 11B by the anisotropic conductive rubber 133, a conductive state is established between the inspection pad 132 and the surface of the anisotropic conductive rubber 133.

【0028】通常、この検査プローブは、異方性導電ゴ
ム133の表面が直接に配線や電極に接触するように加
圧されるが、本実施形態の場合、異方性導電ゴム133
の表面は配向膜16に接触するため、配線14には直接
に接触しない。このため、検査パッド132に印加する
電圧を通常の点灯検査に用いる電圧(例えば4V)より
も大幅に高めて、(例えば15Vとし)、異方性導電ゴ
ム133と配線14との間に配向膜16が介在していて
も、下方に配置された配線14に所望の電位を与えるこ
とができるようにし、その結果、反射電極13と透明電
極17との間に点灯検査に必要な所定の電圧を印加でき
るようにしている。
Normally, the inspection probe is pressed so that the surface of the anisotropic conductive rubber 133 directly contacts the wiring and the electrodes.
Is not in direct contact with the wiring 14 because the surface of the substrate contacts the alignment film 16. For this reason, the voltage applied to the inspection pad 132 is greatly increased (for example, 15 V) from the voltage (for example, 4 V) used for the normal lighting inspection, and the alignment film is placed between the anisotropic conductive rubber 133 and the wiring 14. A desired potential can be applied to the wiring 14 disposed below even when the intervening wiring 16 is provided. As a result, a predetermined voltage required for lighting inspection between the reflective electrode 13 and the transparent electrode 17 is applied. It can be applied.

【0029】この印加電圧は、配向膜16が異方性導電
ゴム133と配線14との間に介在する誘電体となるコ
ンデンサが存在するものとして、所定の値に設定され
る。
This applied voltage is set to a predetermined value on the assumption that there is a capacitor serving as a dielectric in which the alignment film 16 is interposed between the anisotropic conductive rubber 133 and the wiring 14.

【0030】上記の図2(f)に示す点灯検査が終了す
ると、多くの場合、一旦、液晶パネルは梱包され、必要
があれば適宜の方法によって他の場所に輸送される。こ
のような態様は、例えば、液晶パネル100の形態で出
荷され、客先で液晶パネルを電子機器等に実装する場
合、或いは、ある工場で液晶パネル100が製造され、
この液晶パネル100のその後の処理が他の工場で行わ
れる場合などに実施される。また、工場内で液晶パネル
100のその後の処理工程が行われる場合は、液晶パネ
ルはそのまま工場内の所定の経路を搬送される。
When the lighting test shown in FIG. 2F is completed, the liquid crystal panel is often once packaged and, if necessary, transported to another place by an appropriate method. Such an aspect is, for example, when the liquid crystal panel 100 is shipped in the form of a liquid crystal panel, and the customer mounts the liquid crystal panel on an electronic device or the like, or the liquid crystal panel 100 is manufactured at a certain factory.
This process is performed when the subsequent processing of the liquid crystal panel 100 is performed in another factory. Further, when the subsequent processing step of the liquid crystal panel 100 is performed in the factory, the liquid crystal panel is transported along a predetermined route in the factory as it is.

【0031】次に、上記のように構成された液晶パネル
100に対して、電子部品や配線部材を実装する。ここ
で、通常、電子部品や配線部材の実装工程に先立って、
まず液晶パネル100が洗浄される。この場合、例えば
温水などを用いて洗浄を行っても、液晶パネル100の
張出領域11B上の配線14は配向膜16によって被覆
されているため、配線14の溶出や損傷を避けることが
できる。
Next, electronic components and wiring members are mounted on the liquid crystal panel 100 configured as described above. Here, usually, prior to the mounting process of electronic components and wiring members,
First, the liquid crystal panel 100 is cleaned. In this case, even if cleaning is performed using, for example, hot water, the wiring 14 on the overhang region 11B of the liquid crystal panel 100 is covered with the alignment film 16, so that elution or damage of the wiring 14 can be avoided.

【0032】その後、図2(g)に示すように、液晶パ
ネルにOプラズマを接触させてアッシングを行い、張
出領域11B上に露出した配向膜16を分解除去する。
この場合、図1(b)に示すように、張出領域11Bの
うち、電子部品や配線部材を導電接続するために必要な
部分は、図示の外部接続部11Cだけであるので、この
工程において、張出領域11Bに形成された配向膜16
のすべてを除去するのではなく、外部接続部11Cに形
成された配向膜16のみを除去してもよい。このように
すれば、配線14の変質や損傷をより良好に防止するこ
とができる。逆に、この工程において張出領域11B上
に露出した配向膜16のすべてを除去するようにすれ
ば、液晶パネル100をそのままアッシング装置内等に
入れて処理すれば済むので、マスク形成などの工程を省
くことができ、取り扱いが簡単になる。
Thereafter, as shown in FIG. 2 (g), ashing is performed by bringing O 2 plasma into contact with the liquid crystal panel to decompose and remove the alignment film 16 exposed on the overhang region 11B.
In this case, as shown in FIG. 1B, only the external connection portion 11C shown in the overhang region 11B is necessary for conductively connecting the electronic components and the wiring members. , Alignment film 16 formed in overhang region 11B
May be removed, but only the alignment film 16 formed on the external connection portion 11C may be removed. In this way, the quality and damage of the wiring 14 can be prevented better. Conversely, if all of the alignment film 16 exposed on the overhang region 11B is removed in this step, the liquid crystal panel 100 can be put in an ashing device or the like as it is, and the processing can be completed. Can be omitted, and handling is simplified.

【0033】そして、この配向膜16の除去後、何らの
処理を行うことなく、図2(h)に示すように、電子部
品140を張出領域11B上に実装する。電子部品14
0は例えば液晶駆動回路を内臓した集積回路チップであ
り、図1に示す外部接続部11Cにおいて、その図示し
ない接続端子が配線14に導電接続されるように実装さ
れる。例えば、配線14の端部上に異方性導電フィルム
を接着し、この異方性導電フィルムを介して外部接続部
11Cに電子部品140を熱圧着して、異方性導電フィ
ルムの厚さ方向にのみ導電接続する性質を利用して電子
部品140の各接続端子と、多数の配線14とが確実に
導電接続されるようにする。
Then, after removing the alignment film 16, the electronic component 140 is mounted on the overhang region 11B without any processing, as shown in FIG. 2 (h). Electronic components 14
Reference numeral 0 denotes, for example, an integrated circuit chip having a built-in liquid crystal drive circuit, and is mounted in the external connection portion 11C shown in FIG. For example, an anisotropic conductive film is adhered on the end of the wiring 14, and the electronic component 140 is thermocompression-bonded to the external connection portion 11C via the anisotropic conductive film, and the thickness direction of the anisotropic conductive film is increased. The connection terminals of the electronic component 140 and the large number of wirings 14 are surely conductively connected by utilizing the property of conductive connection only to the electronic component 140.

【0034】その後、例えば、図1(b)に示す外部端
子150にフレキシブル配線基板などの配線部材を導電
接続し、最後に、電子部品140や配線部材の上から張
出領域11B上をシリコーン樹脂などによって樹脂モー
ルドする。
After that, for example, a wiring member such as a flexible wiring board is conductively connected to the external terminal 150 shown in FIG. 1B, and finally, a silicone resin is formed over the electronic component 140 and the wiring member on the overhang region 11B. Resin molding is performed by, for example,

【0035】以上説明した本実施形態によれば、配向膜
16によって張出領域11Bを被覆した状態で各製造工
程を順次実行し、最終的に張出領域11Bを他の部材
(電子部品や配線部材)に電気的に接続する直前に、少
なくとも外部接続部11Cに形成された配向膜16を除
去し、何らの処理を行うことなく直ちに部材を実装する
ようにしているので、張出領域11B上に形成された配
線に異物が付着しにくく、傷も付きにくくなるため、配
線の電触や酸化、その他の配線の損傷が起こりにくい。
特に、配線がアルミニウム或いはその合金によって形成
されている場合には電触が発生しやすく、酸化が起こり
やすく、傷が付きにくいために本実施形態は非常に有効
である。
According to the above-described embodiment, each manufacturing process is sequentially performed in a state where the overhang region 11B is covered with the alignment film 16, and finally the overhang region 11B is connected to another member (such as an electronic component or a wiring). Immediately before electrical connection to the member), at least the alignment film 16 formed on the external connection portion 11C is removed, and the member is mounted immediately without performing any processing. Since foreign matter hardly adheres to the wiring formed on the substrate and is hardly damaged, contact, oxidation, and other damage of the wiring hardly occur.
In particular, when the wiring is formed of aluminum or an alloy thereof, the present embodiment is very effective because electric contact is easily generated, oxidation is easily generated, and scratches are hardly caused.

【0036】また、アルミニウムやその合金からなる薄
膜で構成される配線は60度程度の温水によっても容易
に溶解してしまう特性を有しているため、本実施形態の
ように配線が配向膜によって被覆されている状態にある
ときには、配線が溶解する危険性を考慮することなく、
洗浄作業を十分に行うことができる。
Further, since the wiring composed of a thin film made of aluminum or an alloy thereof has a characteristic that it can be easily dissolved even by about 60 ° C. hot water, the wiring is formed by an alignment film as in this embodiment. When covered, do not consider the risk of melting the wiring,
The cleaning operation can be sufficiently performed.

【0037】さらに、本実施形態では、製造された液晶
パネルの点灯検査その他の電気的試験を、絶縁体である
配向膜を介して行うようにしていることにより、検査時
における印加電圧を高める必要はあるものの、配向膜を
除去することなく、配線の清浄性を維持したまま試験を
実施することが可能になる。
Further, in the present embodiment, the lighting test and other electrical tests of the manufactured liquid crystal panel are performed through the alignment film which is an insulator, so that it is necessary to increase the applied voltage during the test. However, the test can be performed without removing the alignment film while maintaining the cleanliness of the wiring.

【0038】尚、本発明の液晶装置の製造工程は、上述
の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨
を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは
勿論である。
It should be noted that the manufacturing process of the liquid crystal device of the present invention is not limited to the illustrated example described above, and it goes without saying that various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
配向膜形成工程において張出領域上の外部接続部まで延
長するように形成された配線の上にも配向膜を形成し、
この外部接続部における配向膜を除去した後に他の処理
を施すことなく直ちに電子部品若しくは配線部材を実装
するようにしたので、配線が露出した状態で他の製造工
程や洗浄処理等が実施されることがないため、配線上に
異物が付着したり、配線に損傷を受けたり、配線が溶出
したりする危険性を低減できるから、配線の電触や酸
化、機械的損傷などを防止できる。
As described above, according to the present invention,
Forming an alignment film on the wiring formed to extend to the external connection portion on the overhang region in the alignment film forming step,
Since the electronic component or the wiring member is immediately mounted without performing other processing after removing the alignment film in the external connection portion, another manufacturing process, a cleaning process, or the like is performed with the wiring exposed. Since there is no danger, it is possible to reduce the risk of foreign matter adhering to the wiring, damage to the wiring, and elution of the wiring, so that it is possible to prevent electrical contact, oxidation, mechanical damage, and the like of the wiring.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る液晶装置の製造方法の実施形態に
おける点灯検査前の液晶パネルの構造を模式的に示す概
略構成断面図(a)及び張出領域の近傍の平面構造の概
略を示す概略平面図(b)である。
FIG. 1A is a schematic cross-sectional view schematically showing a structure of a liquid crystal panel before lighting inspection in an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, and FIG. It is a schematic plan view (b).

【図2】同実施形態の概略工程を示す概略工程説明図
(a)〜(h)である。
FIGS. 2A to 2H are schematic process explanatory views showing schematic processes of the embodiment. FIGS.

【図3】同実施形態に用いる一対の母基板の平面構造を
模式的に示す概略平面図(a)及び(b)である。
FIG. 3 is schematic plan views (a) and (b) schematically showing a planar structure of a pair of mother substrates used in the embodiment.

【図4】同実施形態の点灯検査時における電気的コンタ
クト部の構造を示す拡大断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a structure of an electrical contact portion at the time of a lighting inspection of the embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11,12 母基板 11A,12A 液晶封入領域 11B 張出領域 13 反射電極 14 配線 15 トップコート膜 16 配向膜 17 透明電極 18 配向膜 19 シール材 110,120 基板 11, 12 Mother substrate 11A, 12A Liquid crystal sealing area 11B Overhanging area 13 Reflective electrode 14 Wiring 15 Top coat film 16 Alignment film 17 Transparent electrode 18 Alignment film 19 Sealing material 110, 120 Substrate

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面上に反射電極を備えた第1基板と、
該第1基板に対向する透明な第2基板とを有し、前記第
1基板と前記第2基板との間に液晶を挟持してなる液晶
装置の製造方法であって、 前記第1基板の表面上に前記反射電極を形成するととも
に前記反射電極に接続された配線を前記第1基板の張出
領域上に設定された外部接続部まで延長するように形成
する電極形成工程と、 前記反射電極及び前記配線の上に直接若しくは間接的に
配向膜を被覆形成する配向膜形成工程と、 前記第1基板と前記第2基板とをシール材を介して貼り
合わせ、基板間に液晶を封入して液晶セル構造を形成す
る液晶セル形成工程と、 前記配向膜のうち前記外部接続部を覆う部分を除去した
後、他の処理を施すことなく直ちに前記配線に電子部品
若しくは配線部材を実装する実装工程とを有することを
特徴とする液晶装置の製造方法。
A first substrate having a reflective electrode on a surface thereof;
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: a transparent second substrate facing the first substrate, wherein a liquid crystal is sandwiched between the first substrate and the second substrate. An electrode forming step of forming the reflection electrode on a surface and extending a wiring connected to the reflection electrode to an external connection portion set on an overhang region of the first substrate; And an alignment film forming step of forming an alignment film directly or indirectly on the wiring, laminating the first substrate and the second substrate via a sealing material, and sealing liquid crystal between the substrates. A liquid crystal cell forming step of forming a liquid crystal cell structure; and a mounting step of immediately mounting an electronic component or a wiring member on the wiring without performing other processing after removing a portion of the alignment film covering the external connection portion. Characterized by having A method for manufacturing a liquid crystal device.
【請求項2】 請求項1において、前記液晶セル形成工
程の後であって前記実装工程の前に、前記配線に対して
前記配向膜を介して電圧を印加することにより電気的検
査を行う検査工程を有することを特徴とする液晶装置の
製造方法。
2. The inspection according to claim 1, wherein a voltage is applied to the wiring via the alignment film after the liquid crystal cell forming step and before the mounting step. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising the steps of:
【請求項3】 表面上に反射電極を備えた第1基板と、
該第1基板に対向する透明な第2基板とを有し、前記第
1基板と前記第2基板との間に液晶を挟持してなる液晶
装置の製造方法であって、 前記第1基板の表面上に前記反射電極を形成するととも
に前記反射電極に接続された配線を前記第1基板の張出
領域上に設定された外部接続部まで延長するように形成
する電極形成工程と、 前記反射電極及び前記配線の上に直接若しくは間接的に
配向膜を被覆形成する配向膜形成工程と、 前記第1基板と前記第2基板とをシール材を介して貼り
合わせ、基板間に液晶を封入して液晶セル構造を形成す
る液晶セル形成工程と、 前記配線に対して前記配向膜を介して電圧を印加するこ
とにより電気的検査を行う検査工程とを有することを特
徴とする液晶装置の製造方法。
3. A first substrate having a reflective electrode on a surface,
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: a transparent second substrate facing the first substrate, wherein a liquid crystal is sandwiched between the first substrate and the second substrate. An electrode forming step of forming the reflection electrode on a surface and extending a wiring connected to the reflection electrode to an external connection portion set on an overhang region of the first substrate; And an alignment film forming step of forming an alignment film directly or indirectly on the wiring, laminating the first substrate and the second substrate via a sealing material, and sealing liquid crystal between the substrates. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: a liquid crystal cell forming step of forming a liquid crystal cell structure; and an inspection step of performing an electrical inspection by applying a voltage to the wiring via the alignment film.
【請求項4】 請求項1から請求項3までのいずれか1
項において、前記配線をアルミニウム若しくはアルミニ
ウムを主体とする合金で形成することを特徴とする液晶
装置の製造方法。
4. One of claims 1 to 3
3. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the wiring is formed of aluminum or an alloy mainly containing aluminum.
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US7182877B2 (en) 2002-12-10 2007-02-27 Seiko Epson Corporation Method for manufacturing electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus
WO2010143543A1 (en) * 2009-06-12 2010-12-16 シャープ株式会社 Method for fabricating display panel

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