JP2001072833A - Resin composition for build-up process, insulating material for build-up process and build-up printed circuit - Google Patents

Resin composition for build-up process, insulating material for build-up process and build-up printed circuit

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JP2001072833A
JP2001072833A JP28681799A JP28681799A JP2001072833A JP 2001072833 A JP2001072833 A JP 2001072833A JP 28681799 A JP28681799 A JP 28681799A JP 28681799 A JP28681799 A JP 28681799A JP 2001072833 A JP2001072833 A JP 2001072833A
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JP
Japan
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build
resin composition
component
resin
epoxy resin
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Japanese (ja)
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Toshiaki Hayashi
利明 林
Nobuyuki Nakajima
伸幸 中島
Noriaki Saito
憲明 斉藤
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a resing composition of which cured material is excellent in heat resistance, and useful for an insulating material and a build-up printed circuit board by incorporating a specific epoxy resin, an epoxy resin curing agent and a polyether sulfon. SOLUTION: This resin composition contains (A) an epoxy resin of the formula [Gly is glycidyl; R is a 1-10C alkyl or the like; (i) is 0-4; (n) is 1-10], (B) an epoxy resin curing agent (e.g.; a phenol novolak) and (C) a polyether sulfon having preferably phenolic hydroxyl groups at both terminal ends of its molecule. It is preferable that the using amount of the component A is 1-80 wt.% and that of the component C is 10-70 wt.%. The ratio of the epoxy equivalent of the component A to the hydroxyl group equivalent of the component B is preferably (1:0.8)-(1:1.2). In this composition, further a curing catalyst (e.g.; triphenylphosphine) and an inorganic filler (e.g.; a silica) may be incorporated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ビルドアップ工法
用の樹脂組成物に関する。詳しくは、エポキシ樹脂、エ
ポキシ硬化剤、およびポリエーテルスルホンを含有する
樹脂組成物に関する。また、該樹脂組成物を用いてなる
ビルドアップ工法用の絶縁材料、およびビルドアッププ
リント配線板に関する。
[0001] The present invention relates to a resin composition for a build-up method. Specifically, the present invention relates to a resin composition containing an epoxy resin, an epoxy curing agent, and polyether sulfone. Further, the present invention relates to an insulating material for a build-up method using the resin composition, and a build-up printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、エレクトロニクス機器の小型化、
薄型化、軽量化が進展するにつれて高密度実装が要求さ
れている。このため、プリント配線板においては、回路
パターンのファイン化だけでなく、スルーホールやバイ
アホールの径の縮小、ブラインドバイアホールの採用が
必要となっている。そして、これらを満足するものとし
てビルドアップ工法によって得られるビルドアッププリ
ント配線板が着目されている。ビルドアッププリント配
線板用の絶縁材料には、多数のバイアホールを露光・現
像工程により一度に形成できるメリットを持つ感光性樹
脂タイプのものと、レーザープロセスを用いることによ
り、より微細なバイアホール形成が可能となる熱硬化性
樹脂タイプのものが使用されている。一般的に、感光性
樹脂タイプの絶縁材料は、用いる樹脂組成物に感光性を
付与しなければならず樹脂選択に制約があることや、露
光・現像工程に非常に多くのノウハウが含まれることか
ら、現在では熱硬化性樹脂タイプの絶縁材料により多く
の注目が集まっている。
2. Description of the Related Art In recent years, the miniaturization of electronic devices,
As the thickness and weight are reduced, high-density mounting is required. For this reason, in printed wiring boards, it is necessary to reduce the diameters of through holes and via holes and to employ blind via holes as well as to make circuit patterns finer. In order to satisfy these requirements, attention has been paid to build-up printed wiring boards obtained by a build-up method. Insulating material for build-up printed wiring boards is a photosensitive resin type that has the merit that many via holes can be formed at once by exposure and development processes, and a finer via hole is formed by using a laser process. A thermosetting resin type is used, which makes it possible. Generally, a photosensitive resin type insulating material must impart photosensitivity to a resin composition to be used, and there are restrictions on resin selection, and a very large amount of know-how is included in an exposure and development process. Therefore, much attention is now focused on thermosetting resin type insulating materials.

【0003】熱硬化性樹脂タイプの絶縁材料に用いる樹
脂組成物については、樹脂成分として、エポキシ樹脂や
フェノキシ樹脂等の熱硬化性樹脂のみを含有するものの
他に、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂を含有するものも提
案されている。例えば、エポキシ樹脂とポリエーテルス
ルホンを含有する樹脂組成物が、特開平7-33991号公報
や特開平7-34048号公報に記載されている。しかしなが
ら、従来の樹脂組成物を用いた場合、耐熱性の点で満足
できるビルドアップ工法用の絶縁材料を得ることは困難
であった。
A resin composition used for a thermosetting resin-type insulating material contains not only a thermosetting resin such as an epoxy resin or a phenoxy resin as a resin component, but also a thermosetting resin and a thermoplastic resin. Some have been proposed. For example, a resin composition containing an epoxy resin and polyether sulfone is described in JP-A-7-33991 and JP-A-7-34048. However, when a conventional resin composition is used, it has been difficult to obtain an insulating material for a build-up method that is satisfactory in terms of heat resistance.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、その
硬化物が耐熱性に優れた、ビルドアップ工法用の樹脂組
成物を提供すること、該樹脂組成物を用いてなるビルド
アップ工法用の絶縁材料を提供すること、および、該絶
縁材料を用いてなるビルドアッププリント配線板を提供
することである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a resin composition for a build-up method, the cured product of which is excellent in heat resistance, and a resin composition for a build-up method using the resin composition. And to provide a build-up printed wiring board using the insulating material.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するため鋭意研究を続けた結果、特定のエポキシ
樹脂、エポキシ樹脂硬化剤、およびポリエーテルスルホ
ンを含有する樹脂組成物が、上記目的を達成することを
見いだし、本発明を完成させるに至った。すなわち、本
発明は、(I).(A)下記一般式(1)で示されるエ
ポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、および(C)
ポリエーテルスルホンを含有するビルドアップ工法用の
樹脂組成物に係るものである。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, a resin composition containing a specific epoxy resin, an epoxy resin curing agent, and polyether sulfone has been developed. The inventors have found that the above objects have been achieved, and have completed the present invention. That is, the present invention relates to (I). (A) an epoxy resin represented by the following general formula (1), (B) an epoxy resin curing agent, and (C)
The present invention relates to a resin composition for a build-up method containing polyether sulfone.

【化2】 (式中、Glyはグリシジル基を表し、Rはそれぞれ独
立に、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜7のシ
クロアルキル基、または炭素数5〜7のシクロアルキル
基を含む炭素数6〜20の炭化水素基を表し、iはそれ
ぞれ独立に0〜4の数であり、iが2以上の場合、Rは
それぞれ同一であっても異なってもよく、nは1〜10
の繰り返し数である。) また、本発明は、(II).上記(I)記載の樹脂組成
物を用いてなるビルドアップ工法用の絶縁材料に係るも
のである。さらに、本発明は、(III).上記(I
I)記載の絶縁材料を用いてなるビルドアッププリント
配線板に係るものである。
Embedded image (In the formula, Gly represents a glycidyl group, and R is each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, or a carbon number containing a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group of 6 to 20, i is independently a number of 0 to 4, and when i is 2 or more, R may be the same or different, and n is 1 to 10
Is the number of repetitions of In addition, the present invention relates to (II). The present invention relates to an insulating material for a build-up method using the resin composition described in the above (I). Further, the present invention provides (III). The above (I
The present invention relates to a build-up printed wiring board using the insulating material described in I).

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の樹脂組成物は、ビルドアップ工法用の樹脂組成
物であって、(A)一般式(1)で示されるエポキシ樹
脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、および(C)ポリエー
テルスルホンを含有する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The resin composition of the present invention is a resin composition for a build-up method, comprising (A) an epoxy resin represented by the general formula (1), (B) an epoxy resin curing agent, and (C) a polyether sulfone. contains.

【0007】本発明において、(A)成分である下記一
般式(1)
In the present invention, the following general formula (1), which is the component (A), is used.

【化3】 (式中、Glyはグリシジル基を表し、Rはそれぞれ独
立に、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜7のシ
クロアルキル基、または炭素数5〜7のシクロアルキル
基を含む炭素数6〜20の炭化水素基を表し、iはそれ
ぞれ独立に0〜4の数であり、iが2以上の場合、Rは
それぞれ同一であっても異なってもよく、nは1〜10
の繰り返し数である。)で示されるエポキシ樹脂として
は、硬化性の観点から、式中、好ましくは、Rはメチル
基、エチル基、プロピル基(異性体を含む)、ブチル基
(異性体を含む)、ヘキシル基(異性体を含む)、シク
ロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、iは0
〜3の数であり、nは1〜5の繰り返し数である。より
好ましくは、Rはメチル基、エチル基、またはt−ブチ
ル基であり、iは0〜2の数であり、nは1〜3の繰り
返し数である。該エポキシ樹脂は必要に応じてその2種
以上を用いることもできる。
Embedded image (In the formula, Gly represents a glycidyl group, and R is each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, or a carbon number containing a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group of 6 to 20, i is independently a number of 0 to 4, and when i is 2 or more, R may be the same or different, and n is 1 to 10
Is the number of repetitions of In the formula, from the viewpoint of curability, R is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group (including isomers), a butyl group (including isomers), a hexyl group ( Isomer), a cyclopentyl group or a cyclohexyl group, and i is 0
And n is the number of repetitions of 1 to 5. More preferably, R is a methyl group, an ethyl group, or a t-butyl group, i is a number of 0 to 2, and n is a repeating number of 1 to 3. If necessary, two or more epoxy resins can be used.

【0008】(A)成分の使用量は、他の成分との関係
に応じて適宜選択することができ、通常、本発明の樹脂
組成物全量に対して1重量%以上、好ましくは、1〜8
0重量%である。
The amount of the component (A) can be appropriately selected according to the relationship with the other components, and is usually 1% by weight or more, preferably 1% by weight, based on the total amount of the resin composition of the present invention. 8
0% by weight.

【0009】(A)成分の製造方法としては、公知の方
法を採用することができ、例えば、フェノール類とアル
デヒド類との重縮合物と、エピハロヒドリンとを、苛性
ソーダ等のアルカリの存在下で反応させる方法等が挙げ
られる。
As the method for producing the component (A), a known method can be adopted. For example, a polycondensate of a phenol and an aldehyde is reacted with epihalohydrin in the presence of an alkali such as caustic soda. And the like.

【0010】本発明において、(B)成分であるエポキ
シ樹脂硬化剤としては、公知のものを採用することがで
き、例えば、フェノールノボラック、クレゾールノボラ
ック、フェノール変性ポリブタジエン、等の多価フェノ
ール系のエポキシ樹脂硬化剤;ジシアンジアミド、ジア
ミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォ
ン、等のアミン系のエポキシ樹脂硬化剤;無水ピロメリ
ット酸、無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、等の酸無水物系のエポキシ樹脂硬化
剤;が挙げられ、必要に応じてその2種以上を用いるこ
ともできる。中でも、硬化物の低吸水性の観点から、フ
ェノールノボラック等の多価フェノール系のエポキシ樹
脂硬化剤が好ましい。
In the present invention, as the epoxy resin curing agent as the component (B), known epoxy resin curing agents can be used. For example, polyphenol-based epoxy resins such as phenol novolak, cresol novolak, and phenol-modified polybutadiene can be used. Resin curing agent; amine epoxy resin curing agent such as dicyandiamide, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone; acid anhydride epoxy resin such as pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, etc. And a curing agent; if necessary, two or more of them can be used. Among them, a polyphenol-based epoxy resin curing agent such as phenol novolak is preferred from the viewpoint of low water absorption of the cured product.

【0011】(B)成分の使用量は、通常、本発明の樹
脂組成物から得られる硬化物のガラス転移温度が高くな
るように設定することができる。例えば、(B)成分と
してフェノールノボラックを用いる場合、(A)成分の
エポキシ当量と(B)成分の水酸基当量が、通常1:
0.8〜1:1.2、好ましくは、1:1である。
The amount of the component (B) can be usually set so that the cured product obtained from the resin composition of the present invention has a high glass transition temperature. For example, when phenol novolak is used as the component (B), the epoxy equivalent of the component (A) and the hydroxyl equivalent of the component (B) are usually 1:
0.8 to 1: 1.2, preferably 1: 1.

【0012】本発明において、(C)成分であるポリエ
ーテルスルホンとしては、公知のものを採用することが
できる。ポリエーテルスルホン分子の末端の基として
は、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、フェノール
性水酸基、等が挙げられるが、硬化物の耐熱性の観点か
らは、ハロゲン原子が好ましく、硬化物の耐溶剤性、強
靭性の観点からは、フェノール性水酸基が好ましく、そ
の場合、両末端の両方がフェノール性水酸基であるのが
好ましい。また、ポリエーテルスルホン分子において、
両末端以外の構造単位については、特に限定されない。
In the present invention, known polyether sulfones can be used as the component (C). Examples of the terminal group of the polyethersulfone molecule include, for example, a halogen atom, an alkoxy group, a phenolic hydroxyl group, and the like.From the viewpoint of heat resistance of the cured product, a halogen atom is preferable, and the solvent resistance of the cured product is preferable. From the viewpoint of toughness, a phenolic hydroxyl group is preferable, and in that case, it is preferable that both ends are phenolic hydroxyl groups. In the polyether sulfone molecule,
The structural units other than both ends are not particularly limited.

【0013】(C)成分の使用量は、通常、本発明の樹
脂組成物全体に対して、10〜70重量%である。10
重量%未満であると、硬化物の靭性が低下する恐れがあ
り、70重量%を越えると、組成物の加工性が低下した
り、硬化物の吸水率が上昇する恐れがある。
The amount of the component (C) used is usually 10 to 70% by weight based on the whole resin composition of the present invention. 10
If the amount is less than 70% by weight, the toughness of the cured product may decrease. If the amount exceeds 70% by weight, the processability of the composition may decrease or the water absorption of the cured product may increase.

【0014】(C)成分の製造方法としては、公知の方
法を採用することができ、また、市販品の例としては、
住友化学工業(株)製、商品名:スミカエクセル、アモ
コ社製、商品名:REDEL、等が挙げられる。
As the method for producing the component (C), known methods can be employed. Examples of commercially available products include:
Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name: SUMIKAEXCEL, Amoco Co., trade name: REDEL, and the like.

【0015】本発明の樹脂組成物には、硬化反応促進の
目的で、(D)硬化触媒を含有させてもよい。(D)成
分としては、公知のものを用いることができ、例えば、
トリフェニルホスフィン、トリ−4−メチルフェニルホ
スフィン、トリ−4−メトキシフェニルホスフィン、ト
リブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリ−
2−シアノエチルホスフィン、等の有機ホスフィン化合
物およびそのトリフェニルボラン錯体;テトラフェニル
ホスホニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルホ
スホニウムテトラフェニルボレート、等の四級ホスホニ
ウム塩;トリブチルアミン、トリエチルアミン、1,8−
ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリアミルアミ
ン、等の三級アミン;塩化ベンジルトリメチルアンモニ
ウム、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム、トリエ
チルアンモニウムテトラフェニルボレート、等の四級ア
ンモニウム塩;2−エチルイミダゾール、2−エチル−
4−メチルイミダゾール、等のイミダゾール類;等が挙
げられ、必要に応じてその2種以上を用いることもでき
る。中でも、有機ホスフィン化合物やイミダゾール類が
好ましい。
The resin composition of the present invention may contain (D) a curing catalyst for the purpose of accelerating the curing reaction. As the component (D), known components can be used.
Triphenylphosphine, tri-4-methylphenylphosphine, tri-4-methoxyphenylphosphine, tributylphosphine, trioctylphosphine, tri-
Organic phosphine compounds such as 2-cyanoethylphosphine and triphenylborane complexes thereof; quaternary phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium tetrafluoroborate and tetrabutylphosphonium tetraphenylborate; tributylamine, triethylamine and 1,8-
Tertiary amines such as diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 and triamylamine; quaternary ammonium salts such as benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium hydroxide, triethylammonium tetraphenylborate; 2-ethylimidazole , 2-ethyl-
Imidazoles such as 4-methylimidazole; and the like, and if necessary, two or more of them can be used. Among them, organic phosphine compounds and imidazoles are preferable.

【0016】(D)成分の使用量は、本発明の樹脂組成
物のゲルタイムが所望の値となるように適宜選択するこ
とができる。通常、樹脂組成物のゲルタイムが80℃〜
250℃の範囲で1分〜15分となるのが好ましい。
The amount of the component (D) can be appropriately selected so that the gel time of the resin composition of the present invention becomes a desired value. Usually, the gel time of the resin composition is from 80 ° C.
It is preferably 1 minute to 15 minutes in the range of 250 ° C.

【0017】本発明の樹脂組成物には、硬化物の低熱膨
張性、低吸水性の観点から、(E)無機充填材を含有さ
せてもよい。(E)成分としては、例えば、シリカ、酸
化チタン、アルミナ、等が挙げられ、必要に応じてその
2種以上を用いることもできる。(E)成分の種類は、
その含有させる目的に応じて適宜選択することができ、
例えば、本発明の樹脂組成物を硬化させてなる樹脂含有
層に、低誘電性を付与することに重点を置く場合はシリ
カが好ましく、熱放散性を付与することに重点を置く場
合はアルミナが好ましい。通常、前者の観点からシリカ
が好適に用いられる。
The resin composition of the present invention may contain (E) an inorganic filler from the viewpoint of low thermal expansion and low water absorption of the cured product. Examples of the component (E) include silica, titanium oxide, and alumina, and two or more of them can be used as needed. (E) The type of component is
It can be appropriately selected depending on the purpose to be contained,
For example, when the resin-containing layer obtained by curing the resin composition of the present invention, silica is preferred when emphasis is given to imparting low dielectric property, and when emphasis is given to imparting heat dissipation, alumina is preferred. preferable. Usually, silica is preferably used from the viewpoint of the former.

【0018】(E)成分の粒度については、絶縁材料に
おける樹脂含有層の厚さ(通常、一層あたり10〜30
0μm程度)やバイア径(通常、30〜150μm程
度)に応じて、(E)成分の配合前の最大粒径を適宜選
択することができる。例えば、所望の絶縁材料における
樹脂含有層の厚さが一層あたり50μmの場合、絶縁材
料の強度や平滑性の観点から、(E)成分の配合前の最
大粒径は、30μm以下であることが好ましく、10μ
m以下であることがより好ましい。
Regarding the particle size of the component (E), the thickness of the resin-containing layer in the insulating material (generally, 10 to 30 per layer)
Depending on the via diameter (about 0 μm) and the via diameter (generally about 30 to 150 μm), the maximum particle size before the component (E) is blended can be appropriately selected. For example, when the thickness of the resin-containing layer in a desired insulating material is 50 μm per layer, the maximum particle size before blending of the component (E) may be 30 μm or less from the viewpoint of strength and smoothness of the insulating material. Preferably 10μ
m is more preferable.

【0019】(E)成分の含有割合は、通常、樹脂組成
物全体に対して10〜80重量%である。10重量%未
満の場合、硬化物の低吸水性や低熱膨張率の効果が小さ
くなることがあり、一方、80重量%を越えると、レー
ザー加工性が低下することがある。なお、一般的なガラ
スクロス基材積層板と同等の低熱膨張率を得ようとする
のであれば、シリカの場合、通常50重量%以上、好ま
しくは70重量%以上が必要となる。
The content ratio of the component (E) is usually 10 to 80% by weight based on the whole resin composition. When the amount is less than 10% by weight, the effect of low water absorption and low coefficient of thermal expansion of the cured product may be reduced. On the other hand, when the amount exceeds 80% by weight, laser processability may be reduced. In order to obtain a low coefficient of thermal expansion equivalent to that of a general glass cloth substrate laminate, silica is usually required to be 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more.

【0020】また、本発明の樹脂組成物には、必要に応
じて、(A)成分以外の熱硬化性樹脂を含有させてもよ
い。例えば、(A)成分以外のエポキシ樹脂、シアネー
ト樹脂類、ビスマレイミド類、ビスマレイミド類とジア
ミンとの付加重合物、ビスフェノールAのビスビニルベ
ンジルエーテル化物などのアルケニルアリールエーテ
ル、ジアミノジフェニルメタンのビニルベンジル化物な
どのアルケニルアミン樹脂、ビスフェノールAのジプロ
パギルエーテルなどのアルキニルエーテル、ジアミノジ
フェニルメタンのプロパギル化物などのアルキニルアミ
ン樹脂、フェノール樹脂、レゾール樹脂、アリルエーテ
ル系化合物、アリルアミン系化合物、イソシアネート、
トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレー
ト、ビニル基含有ポリオレフィン化合物、等が挙げられ
る。
The resin composition of the present invention may contain a thermosetting resin other than the component (A), if necessary. For example, epoxy resins other than the component (A), cyanate resins, bismaleimides, addition polymers of bismaleimides and diamines, alkenyl aryl ethers such as bisvinylbenzyl etherified bisphenol A, and vinylbenzylated diaminodiphenylmethane Such as alkenylamine resins, alkynyl ethers such as dipropargyl ether of bisphenol A, alkynylamine resins such as propargylated diaminodiphenylmethane, phenolic resins, resole resins, allyl ether compounds, allylamine compounds, isocyanates,
Triallyl isocyanurate, triallyl cyanurate, vinyl group-containing polyolefin compounds, and the like.

【0021】(A)成分以外のエポキシ樹脂としては、
例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、テトラ
ブロモビスフェノールA、ビスフェノールS、ジヒドロ
キシビフェニル、ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキ
シスチルベン、アルキル置換ハイドロキノン、等の二価
フェノール類から誘導される二官能エポキシ樹脂;フェ
ノールノボラック、クレゾールノボラック、ナフトール
ノボラック、ビスフェノールAノボラック、等のノボラ
ック類から誘導されるノボラック型エポキシ樹脂;フェ
ノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、等のフ
ェノール類とテレフタルアルデヒド、アルキル置換テレ
フタルアルデヒド、等の二価アルデヒド類との重縮合物
から誘導される多官能エポキシ樹脂;フェノール類とシ
クロペンタジエンとの重付加物から誘導されるエポキシ
樹脂;等が挙げられる。
The epoxy resin other than the component (A) includes:
For example, bifunctional epoxy resins derived from dihydric phenols such as bisphenol A, bisphenol F, tetrabromobisphenol A, bisphenol S, dihydroxybiphenyl, dihydroxynaphthalene, dihydroxystilbene, and alkyl-substituted hydroquinone; phenol novolak, cresol novolak, Novolak-type epoxy resins derived from novolaks such as naphthol novolak, bisphenol A novolak, etc .; Polyfunctional epoxy resins derived from condensates; epoxy resins derived from polyadducts of phenols and cyclopentadiene; and the like. That.

【0022】また、本発明の樹脂組成物には、必要に応
じて、(C)成分以外の熱可塑性樹脂を含有させてもよ
い。例えば、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリ
フェニレンエーテル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポ
リブタジエン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリア
クリレート、ポリメタクリレート、末端アミンおよび末
端カルボキシル基変性ポリブタジエンーアクリロニトリ
ルゴム、およびそれらの変性物、等が挙げられる。
Further, the resin composition of the present invention may contain, if necessary, a thermoplastic resin other than the component (C). Examples thereof include polysulfone, polyetherimide, polyphenylene ether, polystyrene, polyethylene, polybutadiene, polyimide, polycarbonate, polyacrylate, polymethacrylate, terminal amine and terminal carboxyl group-modified polybutadiene-acrylonitrile rubber, and modified products thereof.

【0023】さらに、本発明の樹脂組成物には、必要に
応じて光硬化性を付与してもよく、例えば、アクリレー
ト類、メタクリレート類、スチレン類、等を含有させて
もよい。
Further, the resin composition of the present invention may be provided with photocurability, if necessary, and may contain, for example, acrylates, methacrylates, styrenes and the like.

【0024】さらに、本発明の樹脂組成物には、必要に
応じて、ブロモ含有ポリカーボネート、ブロモ含有ポリ
フェニレンオキサイド、ブロモ含有ポリアクリレート、
ブロモ含有ポリスチレン、等の有機系難燃剤;三酸化ア
ンチモン、水酸化アルミニウム、赤リン、等の、無機系
難燃剤;ワックス類、ステアリン酸亜鉛、等の離型剤;
シランカップリング剤等の表面処理剤;エポキシ樹脂粉
末、メラミン樹脂粉末、尿素樹脂粉末、グアナミン樹脂
粉末、ポリエステル樹脂粉末、等の有機系充填剤;等、
公知の添加剤を含有させてもよい。
Further, the resin composition of the present invention may contain, if necessary, a bromo-containing polycarbonate, a bromo-containing polyphenylene oxide, a bromo-containing polyacrylate,
Organic flame retardants such as bromo-containing polystyrene; inorganic flame retardants such as antimony trioxide, aluminum hydroxide and red phosphorus; release agents such as waxes and zinc stearate;
Surface treatment agents such as silane coupling agents; organic fillers such as epoxy resin powder, melamine resin powder, urea resin powder, guanamine resin powder, polyester resin powder;
Known additives may be contained.

【0025】本発明の樹脂組成物は、その硬化物が耐熱
性に優れ、ビルドアップ工法用の樹脂組成物として好適
に用いられる。具体的には、主にビルドアップ工法用の
絶縁材料として、インク状材料、樹脂付き銅箔、等の樹
脂成分、樹脂層、等に用いられる。ここで、インク状材
料とは、本発明の樹脂組成物を溶媒と混合してインク状
にしたものを意味し、樹脂付き銅箔とは、本発明の樹脂
組成物を溶媒と混合し、銅箔上に塗布した後、溶媒留
去、半硬化させたものを意味する。通常、インク状材料
は、下記(i)の方法で調製、使用され、樹脂付き銅箔
は、下記(ii)の方法で、調製、使用される。
The cured product of the resin composition of the present invention has excellent heat resistance and is suitably used as a resin composition for a build-up method. Specifically, it is mainly used as an insulating material for a build-up method, a resin component such as an ink-like material, a copper foil with resin, a resin layer, and the like. Here, the ink-like material means a resin composition of the present invention mixed with a solvent to form an ink, and a resin-coated copper foil is a mixture of the resin composition of the present invention with a solvent and copper. After coating on foil, the solvent is evaporated and semi-cured. Usually, the ink-like material is prepared and used by the following method (i), and the copper foil with resin is prepared and used by the following method (ii).

【0026】(i)本発明の樹脂組成物の各成分を、γ
−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド(DMF)、
N−メチルピロリドン(NMP)、等の溶媒と混合し、
インク状材料にする。このインク状材料をロールコータ
ーやテーブルコーター等を使用して直接コア基板上に塗
布し、溶媒を留去した後、加熱硬化させ絶縁層を形成さ
せる。この後、レーザー加工、メッキプロセスを経てバ
イア形成、配線層形成を行い、これを繰り返すことによ
り、ビルドアッププリント配線板を作製する。
(I) Each component of the resin composition of the present invention is represented by γ
-Butyrolactone, dimethylformamide (DMF),
Mixed with a solvent such as N-methylpyrrolidone (NMP),
Use ink-like material. This ink-like material is directly applied onto a core substrate using a roll coater, a table coater, or the like, and after distilling off the solvent, is heated and cured to form an insulating layer. Thereafter, via formation and wiring layer formation are performed through laser processing and a plating process, and these steps are repeated to produce a build-up printed wiring board.

【0027】(ii)本発明の樹脂組成物の各成分を、
γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド(DM
F)、N−メチルピロリドン(NMP)、等の溶媒と混
合し、ワニスとした後、銅箔上にテーブルコーター等を
利用し銅箔上に塗布、薄膜化させ、溶媒留去、半硬化さ
せて樹脂付き銅箔とする。この樹脂付き銅箔をコア基板
上に積層させプレス成形した後、銅箔をエッチングして
回路形成を行う。これを繰り返すことにより、ビルドア
ッププリント配線板を作製する。
(Ii) Each component of the resin composition of the present invention is
γ-butyrolactone, dimethylformamide (DM
F), mixed with a solvent such as N-methylpyrrolidone (NMP), etc. to form a varnish, and then coated on a copper foil using a table coater or the like, thinned, evaporated, and semi-cured. To make a copper foil with resin. After laminating the copper foil with resin on the core substrate and press-molding, the copper foil is etched to form a circuit. By repeating this, a build-up printed wiring board is manufactured.

【0028】上記(i)の方法において、溶媒の留去の
条件は、使用する樹脂組成物の各成分や溶媒の種類や使
用量に応じて適宜選択されるが、通常、60℃〜200
℃、1分〜30分の範囲である。また、加熱硬化の条件
は、通常、熱風オーブン中、60℃〜200℃、30分
〜5時間の範囲である。
In the above method (i), the conditions for distilling off the solvent are appropriately selected according to the components of the resin composition to be used and the type and amount of the solvent used.
C, in the range of 1 minute to 30 minutes. The conditions for heat curing are usually in a hot air oven at 60 ° C. to 200 ° C. for 30 minutes to 5 hours.

【0029】一方、上記(ii)の方法において、溶媒
留去、半硬化の条件は、使用する樹脂組成物の各成分や
溶媒の種類や使用量に応じて適宜選択されるが、通常、
60℃〜200℃、1分〜30分の範囲である。また、
樹脂付き銅箔をプレス成形する条件は、成形圧10Kg
/cm2〜100Kg/cm2、80℃〜250℃、20
分〜300分の範囲である。
On the other hand, in the above method (ii), the conditions for distilling off and semi-curing the solvent are appropriately selected depending on the components of the resin composition used and the type and amount of the solvent used.
The temperature ranges from 60 ° C to 200 ° C for 1 minute to 30 minutes. Also,
The conditions for press-molding copper foil with resin are a molding pressure of 10 kg.
/ Cm 2 -100 kg / cm 2 , 80 ° C.-250 ° C., 20
Minutes to 300 minutes.

【0030】ビルドアッププリント配線板の作製におい
ては、上記(i)の様なインク状材料を用いる方法が、
厚み制御が容易であることや、配線層形成に無電解メッ
キプロセスを用いるためファインパターン形成が可能と
なることから、好ましい。一方、上記(ii)の様な樹
脂付き銅箔を用いる方法は、取り扱いが容易であるとい
う利点がある。
In the production of a build-up printed wiring board, a method using an ink-like material as described in the above (i),
It is preferable because the thickness can be easily controlled and a fine pattern can be formed because an electroless plating process is used for forming the wiring layer. On the other hand, the method using the resin-coated copper foil as in the above (ii) has an advantage that handling is easy.

【0031】本発明の樹脂組成物は、その硬化物が耐熱
性に優れることから、該硬化物を絶縁層として有するビ
ルドアッププリント配線板は有用である。該絶縁層1層
の厚さは、通常、10〜300μmの範囲である。な
お、本発明の樹脂組成物の他の用途としては、ガラス基
材プリント配線板等のビルドアッププリント配線板以外
の絶縁材料、複合材料、接着剤材料、塗料材料、等を挙
げることができる。
Since the cured product of the resin composition of the present invention is excellent in heat resistance, a build-up printed wiring board having the cured product as an insulating layer is useful. The thickness of one insulating layer is usually in the range of 10 to 300 μm. Other uses of the resin composition of the present invention include insulating materials other than build-up printed wiring boards such as glass-based printed wiring boards, composite materials, adhesive materials, paint materials, and the like.

【0032】[0032]

【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらに限定されない。 実施例1〜5、比較例1、2 表1に記載の各成分および溶媒を表1に記載の組成(重
量部)で混合し、得られた混合物をテフロンシート上に
厚さが200ミクロン程度となるように敷き詰めた。こ
れを100℃で10分間真空乾燥させ、半硬化状態とし
た。この半硬化物を50kg/cm2にて表1に記載の
硬化条件で熱プレスし、硬化物を得た。得られた硬化物
について、以下の方法でガラス転移温度(Tg)および
熱膨張率を測定した。結果を表1に示す。 ・ガラス転移温度(Tg):セイコー電子工業(株)
製、熱分析装置TMA120を用いて測定した。 ・熱膨張率:セイコー電子工業(株)製、熱分析装置T
MA120を用いて、50〜100℃の範囲で測定し
た。
EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited thereto. Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 Each component and the solvent described in Table 1 were mixed with the composition (parts by weight) described in Table 1, and the resulting mixture was placed on a Teflon sheet to a thickness of about 200 microns. I laid it down. This was vacuum-dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a semi-cured state. This semi-cured product was hot-pressed at 50 kg / cm 2 under the curing conditions shown in Table 1 to obtain a cured product. About the obtained hardened | cured material, the glass transition temperature (Tg) and the coefficient of thermal expansion were measured by the following methods. Table 1 shows the results. -Glass transition temperature (Tg): Seiko Electronic Industry Co., Ltd.
Was measured using a thermal analyzer TMA120. -Thermal expansion coefficient: manufactured by Seiko Electronic Industry Co., Ltd., thermal analyzer T
The measurement was performed in the range of 50 to 100 ° C. using MA120.

【0033】[0033]

【表1】 ・エポキシ樹脂−1:2−t−ブチル−5−メチルフェ
ノールと4−ヒドロキシベンズアルデヒドとの重縮合物
から誘導されるエポキシ樹脂(特公平7−121979
号公報、参考例1に準じて合成) ・エポキシ樹脂−2:クレゾールノボラックから誘導さ
れるエポキシ樹脂(住友化学工業(株)製) ・フェノールノボラック:荒川化学工業(株)製 ・PES4800P:末端Clタイプのポリエーテルス
ルホン(住友化学工業(株)製、商品名:スミカエクセ
ル4800P) ・PES5003P:末端フェノール性水酸基タイプの
ポリエーテルスルホン(住友化学工業(株)製、商品
名:スミカエクセル5003P) ・2E4MZ:2−エチル−4−メチルイミダゾール ・SO−C1:シリカ(アドマテックス社製、商品名:
アドマファインSO−C1)
[Table 1] Epoxy resin-1: an epoxy resin derived from a polycondensation product of 2-t-butyl-5-methylphenol and 4-hydroxybenzaldehyde (Japanese Patent Publication No. 7-121979)
No. 4, pp. 139-334, 1988. Epoxy resin-2: epoxy resin derived from cresol novolak (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Phenol novolak: manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd. PES4800P: terminal Cl -Type polyether sulfone (Sumitomo Chemical Industries, Ltd., trade name: Sumika Excel 4800P)-PES5003P: terminal phenolic hydroxyl group type polyether sulfone (Sumitomo Chemical Industries, Ltd., trade name: Sumika Excel 5003P) 2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole SO-C1: silica (trade name, manufactured by Admatechs Co., Ltd.)
Admafine SO-C1)

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明のビルドアップ工法用の樹脂組成
物は、その硬化物が耐熱性に優れ、該組成物を用いるこ
とにより、有用なビルドアップ工法用の絶縁材料、さら
にはビルドアッププリント配線板が提供される。
The resin composition for a build-up method of the present invention has a cured product having excellent heat resistance, and by using the composition, a useful insulating material for a build-up method and further a build-up print. A wiring board is provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/14 H05K 3/46 T H05K 3/46 H01L 23/14 R (72)発明者 斉藤 憲明 茨城県つくば市北原6 住友化学工業株式 会社内 Fターム(参考) 4J002 BB20X CC04X CD07W CN03Y DE138 DE148 DJ018 EF116 EN027 EN036 EN047 EU117 EW137 EW177 FD018 FD02X FD026 FD207 GQ01 4J036 AF36 DB22 DC03 DC05 DC06 DC10 DC31 DC40 DC46 DD05 DD07 FA03 FA05 FB07 FB08 FB15 GA02 GA06 GA23 JA01 JA05 JA06 JA08 5E346 AA12 AA15 AA32 BB01 CC08 CC09 CC16 CC31 DD02 DD12 DD32 EE31 GG02 GG22 GG28 HH18 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 23/14 H05K 3/46 T H05K 3/46 H01L 23/14 R (72) Inventor Noriaki Saito Ibaraki 6 Kitahara, Tsukuba Sumitomo Chemical Co., Ltd. F-term (reference) 4J002 BB20X CC04X CD07W CN03Y DE138 DE148 DJ018 EF116 EN027 EN036 EN047 EU117 EW137 EW177 FD018 FD02X FD026 FD207 GQ01 4J036 AF36 DB22 DC05 DC05 DC07 DC06 DC05 FB08 FB15 GA02 GA06 GA23 JA01 JA05 JA06 JA08 5E346 AA12 AA15 AA32 BB01 CC08 CC09 CC16 CC31 DD02 DD12 DD32 EE31 GG02 GG22 GG28 HH18

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)下記一般式(1)で示されるエポキ
シ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、および(C)ポリ
エーテルスルホンを含有することを特徴とするビルドア
ップ工法用の樹脂組成物。 【化1】 (式中、Glyはグリシジル基を表し、Rはそれぞれ独
立に、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数5〜7のシ
クロアルキル基、または炭素数5〜7のシクロアルキル
基を含む炭素数6〜20の炭化水素基を表し、iはそれ
ぞれ独立に0〜4の数であり、iが2以上の場合、Rは
それぞれ同一であっても異なってもよく、nは1〜10
の繰り返し数である。)
1. A resin composition for a build-up method, comprising (A) an epoxy resin represented by the following general formula (1), (B) an epoxy resin curing agent, and (C) polyether sulfone. object. Embedded image (In the formula, Gly represents a glycidyl group, and R is each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, or a carbon number containing a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms. Represents a hydrocarbon group of 6 to 20, i is independently a number of 0 to 4, and when i is 2 or more, R may be the same or different, and n is 1 to 10
Is the number of repetitions of )
【請求項2】(B)成分が多価フェノール系のエポキシ
樹脂硬化剤である請求項1記載の樹脂組成物。
2. The resin composition according to claim 1, wherein the component (B) is a polyphenol-based epoxy resin curing agent.
【請求項3】(C)成分が末端にフェノール性水酸基を
有するポリエーテルスルホンである請求項1または2に
記載の樹脂組成物。
3. The resin composition according to claim 1, wherein the component (C) is a polyether sulfone having a phenolic hydroxyl group at a terminal.
【請求項4】さらに(D)硬化触媒を含有する請求項1
〜3のいずれかに記載の樹脂組成物。
4. The method according to claim 1, further comprising (D) a curing catalyst.
4. The resin composition according to any one of items 1 to 3.
【請求項5】さらに(E)無機充填材を含有する請求項
1〜4のいずれかに記載の樹脂組成物。
5. The resin composition according to claim 1, further comprising (E) an inorganic filler.
【請求項6】請求項1〜5のいずれかに記載の樹脂組成
物を用いてなることを特徴とするビルドアップ工法用の
絶縁材料。
6. An insulating material for a build-up method, characterized by using the resin composition according to claim 1.
【請求項7】請求項6記載のビルドアップ工法用の絶縁
材料を用いてなることを特徴とするビルドアッププリン
ト配線板。
7. A build-up printed wiring board using the insulating material for a build-up method according to claim 6.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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