JP2001068620A - Semiconductor device and its manufacture, circuit board and electronic equipment - Google Patents

Semiconductor device and its manufacture, circuit board and electronic equipment

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JP2001068620A
JP2001068620A JP24452099A JP24452099A JP2001068620A JP 2001068620 A JP2001068620 A JP 2001068620A JP 24452099 A JP24452099 A JP 24452099A JP 24452099 A JP24452099 A JP 24452099A JP 2001068620 A JP2001068620 A JP 2001068620A
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Japan
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wiring pattern
substrate
pair
portions
semiconductor device
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Nobuaki Hashimoto
伸晃 橋元
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Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device, wherein wiring distance is shortened, and a method for manufacturing it, a circuit board and an electronic equipment. SOLUTION: A semiconductor device contains a board 10 wherein a wiring pattern 12 is formed on one surface thereof, and a plurality of semiconductor chips 20 and 30 that are mounted on the board 10 and connected electrically to the wiring pattern 12. A pair of parts 15 and 17 of the wiring pattern 12 are joined to each other. That is, since a pair of parts 15 and 17 of the wiring pattern 12 are joined, electrical connection is accomplished with the joint part in between. As a result, wiring distance is shortened.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置及びそ
の製造方法、回路基板並びに電子機器に関する。
The present invention relates to a semiconductor device and a method of manufacturing the same, a circuit board, and an electronic device.

【0002】[0002]

【発明の背景】インターポーザに複数の半導体チップを
搭載して構成されたマルチチップモジュールが知られて
いる。インターポーザを折り曲げて、複数の半導体チッ
プを積み重ねたスタック構造のパッケージも開発されて
いる。従来のスタック構造では、一枚のインターポーザ
に複数の半導体チップを搭載していたので、インターポ
ーザの両端部間の配線距離が長くなるという問題があっ
た。
2. Description of the Related Art There is known a multichip module in which a plurality of semiconductor chips are mounted on an interposer. A package having a stack structure in which a plurality of semiconductor chips are stacked by bending an interposer has also been developed. In the conventional stack structure, since a plurality of semiconductor chips are mounted on one interposer, there is a problem that a wiring distance between both ends of the interposer becomes long.

【0003】本発明は、この問題点を解決するものであ
り、その目的は、配線距離を短くする半導体装置及びそ
の製造方法、回路基板並びに電子機器を提供することに
ある。
An object of the present invention is to solve this problem, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same, a circuit board, and an electronic device, which reduce the wiring distance.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】(1)本発明に係る半導
体装置は、一方の面に配線パターンが形成された基板
と、前記基板に搭載されて、前記配線パターンに電気的
に接続された少なくとも1つの半導体チップと、を含
み、前記配線パターンのうち、前記半導体チップに接続
された部分以外の第1及び第2の領域からなる一対の部
分が接合されてなる。
(1) A semiconductor device according to the present invention includes a substrate having a wiring pattern formed on one surface, and a semiconductor device mounted on the substrate and electrically connected to the wiring pattern. And at least one semiconductor chip, wherein a pair of portions including first and second regions other than the portion connected to the semiconductor chip in the wiring pattern are joined.

【0005】本発明によれば、配線パターンの一対の部
分が接合されているので、接合部分を介して、電気的な
接続が図られる。その結果、配線距離を短くすることが
できる。
[0005] According to the present invention, since the pair of portions of the wiring pattern are joined, electrical connection can be achieved via the joined portions. As a result, the wiring distance can be reduced.

【0006】(2)この半導体装置において、前記基板
が屈曲して、配線パターンの前記一対の部分が対向して
接合されていてもよい。
(2) In this semiconductor device, the substrate may be bent and the pair of portions of the wiring pattern may be joined to face each other.

【0007】これによれば、片面に配線パターンが形成
された基板を使用して、配線距離が長くならないスタッ
ク構造を構成することできる。
[0007] According to this, it is possible to use a substrate having a wiring pattern formed on one side to form a stack structure in which the wiring distance does not increase.

【0008】(3)この半導体装置において、屈曲した
状態で前記基板は、対向して接合される一対の部分と、
前記対向する一対の部分のそれぞれから相互に間隔をあ
ける方向に延びる部分と、を含み、前記配線パターンの
接合される前記一対の部分は、前記基板の前記一対の部
分に形成されていてもよい。
(3) In this semiconductor device, in a bent state, the substrate has a pair of portions which are joined to face each other;
A portion extending in a direction spaced from each of the pair of opposing portions, wherein the pair of portions to which the wiring pattern is bonded may be formed on the pair of portions of the substrate. .

【0009】(4)この半導体装置において、前記基板
の、前記対向する一対の部分から延びる前記部分に、ス
リットが形成されていてもよい。
(4) In this semiconductor device, a slit may be formed in the portion of the substrate extending from the pair of opposing portions.

【0010】このように、スリットを形成することで、
基板を屈曲させやすくなる。
As described above, by forming the slit,
The substrate is easily bent.

【0011】(5)この半導体装置において、複数の前
記半導体チップが前記基板に搭載され、前記基板は、2
つの前記半導体チップの間で屈曲し、前記配線パターン
の接合される前記一対の部分は、前記2つの半導体チッ
プの間を除く部分であってもよい。
(5) In this semiconductor device, a plurality of the semiconductor chips are mounted on the substrate, and
The pair of portions bent between two semiconductor chips and joined to the wiring pattern may be portions other than between the two semiconductor chips.

【0012】(6)この半導体装置において、前記配線
パターンの、第1の半導体チップに電気的に接続される
第1の部分と、第2の半導体チップに電気的に接続され
る第2の部分とは、ミラー対称の形状をなし、前記第1
及び第2の半導体チップは、ミラー対称の回路構造を有
してもよい。
(6) In this semiconductor device, a first portion of the wiring pattern electrically connected to the first semiconductor chip and a second portion electrically connected to the second semiconductor chip. Means a mirror-symmetrical shape, and the first
The second semiconductor chip may have a mirror-symmetric circuit structure.

【0013】これによれば、ミラー対称の形状をなす第
1及び第2の部分に、ミラー対称の回路構造を有する一
対の半導体チップが搭載される。したがって、それぞれ
の半導体チップについての配線設計が簡単になる。
According to this, a pair of semiconductor chips having a mirror symmetrical circuit structure are mounted on the first and second portions having a mirror symmetrical shape. Therefore, the wiring design for each semiconductor chip is simplified.

【0014】(7)本発明に係る半導体装置は、一方の
面に第1の配線パターンが形成された第1の基板と、一
方の面に第2の配線パターンが形成された第2の基板
と、前記第1の基板に搭載されて前記第1の配線パター
ンに電気的に接続された半導体チップと、を含み、前記
第1の配線パターンにおける前記半導体チップを挟んで
形成される第1及び第2の領域からなる一対の部分と、
前記第2の配線パターンの第3及び第4の領域からなる
一対の部分とが接合されてなる。
(7) A semiconductor device according to the present invention comprises a first substrate having a first wiring pattern formed on one surface and a second substrate having a second wiring pattern formed on one surface. And a semiconductor chip mounted on the first substrate and electrically connected to the first wiring pattern, wherein the first and the second wiring patterns are formed with the semiconductor chip interposed therebetween. A pair of portions comprising a second region,
The second wiring pattern is joined to a pair of portions including third and fourth regions.

【0015】本発明によれば、第1の配線パターンの一
対の部分と、第2の配線パターンの一対の部分とが接合
されているので、接合部分を介して、電気的な接続が図
られる。その結果、配線距離を短くすることができる。
According to the present invention, since the pair of portions of the first wiring pattern and the pair of portions of the second wiring pattern are joined, electrical connection is achieved via the joining portion. . As a result, the wiring distance can be reduced.

【0016】(8)この半導体装置において、前記第2
の基板に搭載されて前記第2の配線パターンに電気的に
接続された半導体チップをさらに含んでもよい。
(8) In this semiconductor device, the second
And a semiconductor chip mounted on the substrate and electrically connected to the second wiring pattern.

【0017】(9)この半導体装置において、前記第1
の配線パターンの前記一対の部分と、前記第2の配線パ
ターンの前記一対の部分と、が対向して接合されていて
もよい。
(9) In this semiconductor device, the first
And the pair of portions of the second wiring pattern may be joined to face each other.

【0018】これによれば、片面に配線パターンが形成
された第1及び第2の基板を使用して、配線距離が長く
ならないスタック構造を構成することできる。
According to this, it is possible to configure a stack structure in which the wiring distance is not long by using the first and second substrates having the wiring pattern formed on one side.

【0019】(10)この半導体装置において、前記第
1及び第2の基板のそれぞれは、相互に対向して接合さ
れる部分と、前記対向する部分から相互に間隔をあける
方向に延びる部分と、を含み、前記第1の配線パターン
の前記一対の部分は、前記第1の基板の前記対向する部
分に形成されていてもよい。
(10) In this semiconductor device, each of the first and second substrates has a portion joined to face each other, a portion extending from the facing portion in a direction spaced from each other, And the pair of portions of the first wiring pattern may be formed on the opposed portion of the first substrate.

【0020】(11)上述した半導体装置において、前
記第1及び第2の配線パターンは、ミラー対称の形状を
なし、前記第1及び第2の配線パターンに電気的に接続
される前記半導体チップは、ミラー対称の回路構造を有
する半導体装置。
(11) In the above-described semiconductor device, the first and second wiring patterns have a mirror-symmetric shape, and the semiconductor chip electrically connected to the first and second wiring patterns is Semiconductor device having a mirror-symmetric circuit structure.

【0021】これによれば、ミラー対称の形状をなす第
1及び第2の配線パターンに、ミラー対称の回路構造を
有する一対の半導体チップが搭載される。したがって、
それぞれの半導体チップについての配線設計が簡単にな
る。
According to this, a pair of semiconductor chips having a mirror-symmetrical circuit structure are mounted on the first and second wiring patterns having a mirror-symmetrical shape. Therefore,
Wiring design for each semiconductor chip is simplified.

【0022】(12)本発明に係る半導体装置は、一方
の面に配線パターンが形成された基板と、前記基板に搭
載されて、前記配線パターンに電気的に接続された少な
くとも1つの半導体チップと、を含み、前記配線パター
ンのうち、前記半導体チップに接続された部分を挟んで
形成される一対の部分が接合されてなる。
(12) A semiconductor device according to the present invention includes a substrate having a wiring pattern formed on one surface, and at least one semiconductor chip mounted on the substrate and electrically connected to the wiring pattern. And a pair of portions of the wiring pattern formed with a portion connected to the semiconductor chip interposed therebetween.

【0023】本発明によれば、配線パターンの一対の部
分が接合されているので、接合部分を介して、電気的な
接続が図られる。その結果、配線距離を短くすることが
できる。
According to the present invention, since the pair of portions of the wiring pattern are joined, electrical connection is achieved through the joined portions. As a result, the wiring distance can be reduced.

【0024】(13)本発明に係る回路基板には、上記
半導体装置が搭載されてなる。
(13) The semiconductor device described above is mounted on a circuit board according to the present invention.

【0025】(14)本発明に係る電子機器は、上記半
導体装置を備える。
(14) An electronic apparatus according to the present invention includes the above semiconductor device.

【0026】(15)本発明に係る半導体装置の製造方
法は、一方の面に配線パターンが形成された基板に、少
なくとも1つの半導体チップを搭載し、前記半導体チッ
プと前記配線パターンとを電気的に接続する第1工程
と、前記基板を屈曲させて、前記配線パターンが対向す
る部分を接合する第2工程と、を含む。
(15) In a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, at least one semiconductor chip is mounted on a substrate having a wiring pattern formed on one surface, and the semiconductor chip and the wiring pattern are electrically connected. And a second step in which the substrate is bent to join a portion facing the wiring pattern.

【0027】本発明によれば、配線パターンの対向する
部分を接合するので、接合部分を介して、電気的な接続
を図ることができる。その結果、配線距離を短くするこ
とができる。
According to the present invention, since the opposing portions of the wiring pattern are joined, electrical connection can be achieved via the joining portions. As a result, the wiring distance can be reduced.

【0028】(16)この半導体装置の製造方法におい
て、前記第1工程で、複数の前記半導体チップを前記基
板に搭載し、前記第2工程で、2つの前記半導体チップ
の間で前記基板を屈曲させ、前記2つの半導体チップの
間を除く部分で、前記配線パターンの前記一対の部分を
接合してもよい。
(16) In this method of manufacturing a semiconductor device, in the first step, the plurality of semiconductor chips are mounted on the substrate, and in the second step, the substrate is bent between the two semiconductor chips. The pair of portions of the wiring pattern may be joined at a portion except between the two semiconductor chips.

【0029】(17)本発明に係る半導体装置の製造方
法は、一方の面に第1の配線パターンが形成された第1
の基板に、半導体チップを搭載し、前記半導体チップと
前記第1の配線パターンとを電気的に接続する第1工程
と、一方の面に第2の配線パターンが形成された第2の
基板を用意し、前記第1の配線パターンにおける前記半
導体チップを挟む一対の部分と、前記第2の配線パター
ンの一対の部分とを接合する第2工程と、を含む。
(17) In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the first method in which the first wiring pattern is formed on one surface is provided.
A first step of mounting a semiconductor chip on the substrate and electrically connecting the semiconductor chip and the first wiring pattern; and a second substrate having a second wiring pattern formed on one surface. A second step of preparing and joining a pair of portions of the first wiring pattern that sandwich the semiconductor chip and a pair of portions of the second wiring pattern.

【0030】本発明によれば、第1の配線パターンの一
対の部分と、第2の配線パターンの一対の部分とを接合
するので、接合部分を介して、電気的な接続を図ること
ができる。その結果、配線距離を短くすることができ
る。
According to the present invention, since the pair of portions of the first wiring pattern and the pair of portions of the second wiring pattern are joined, electrical connection can be achieved via the joining portions. . As a result, the wiring distance can be reduced.

【0031】(18)この半導体装置の製造方法におい
て、前記第2工程前に、前記第2の基板に半導体チップ
を搭載する工程を含んでもよい。
(18) The method of manufacturing a semiconductor device may include a step of mounting a semiconductor chip on the second substrate before the second step.

【0032】(19)この半導体装置の製造方法におい
て、前記第1の配線パターンの前記一対の部分と、前記
第2の配線パターンの前記一対の部分と、を対向させて
接合してもよい。
(19) In this method of manufacturing a semiconductor device, the pair of portions of the first wiring pattern and the pair of portions of the second wiring pattern may be joined to face each other.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0034】(第1の実施の形態)図1は、本発明を適
用した第1の実施の形態に係る半導体装置を示す図であ
る。図1で、半導体装置1は、回路基板2に実装されて
いる。回路基板2には例えばガラスエポキシ基板等を用
いることが一般的である。回路基板2には例えば銅から
なる配線パターン3が所望の回路となるように形成され
ていて、それらの配線パターン3と半導体装置1の外部
端子とを接続することでそれらの電気的導通が図られて
いる。
(First Embodiment) FIG. 1 is a diagram showing a semiconductor device according to a first embodiment to which the present invention is applied. In FIG. 1, a semiconductor device 1 is mounted on a circuit board 2. For example, a glass epoxy substrate or the like is generally used for the circuit board 2. A wiring pattern 3 made of, for example, copper is formed on the circuit board 2 so as to form a desired circuit. By connecting the wiring pattern 3 and an external terminal of the semiconductor device 1, their electrical continuity is improved. Have been.

【0035】半導体装置1は、基板10と、少なくとも
1つの又は複数の半導体チップ20、30と、を含む。
基板10は、半導体チップ20、30を搭載するための
インターポーザとして使用され、少なくとも1つ又は複
数の搭載領域を有する。基板10の材料として、有機系
又は無機系のいずれの材料であってもよく、これらの複
合構造からなるものであってもよい。有機系の材料から
形成された基板10として、例えばポリイミド樹脂から
なるフレキシブル基板が挙げられる。基板10は、屈曲
させるときには、柔軟性のあるフレキシブル基板を使用
することが好ましい。フレキシブル基板として、FPC
(Flexible Printed Circuit)と呼ばれる基板やガラス
エポキシテープと呼ばれる基板や、TAB(Tape Autom
ated Bonding)技術で使用されるテープ基板を使用して
もよい。また、無機系の材料から形成された基板10と
して、例えばセラミック基板やガラス基板が挙げられ
る。有機系及び無機系の材料の複合構造として、例えば
ガラスエポキシ基板が挙げられている。
The semiconductor device 1 includes a substrate 10 and at least one or a plurality of semiconductor chips 20 and 30.
The substrate 10 is used as an interposer for mounting the semiconductor chips 20 and 30, and has at least one or a plurality of mounting areas. The material of the substrate 10 may be an organic or inorganic material, or may have a composite structure thereof. As the substrate 10 formed of an organic material, for example, a flexible substrate made of a polyimide resin is exemplified. When the substrate 10 is bent, it is preferable to use a flexible substrate having flexibility. FPC as flexible substrate
(Flexible Printed Circuit), glass epoxy tape, and TAB (Tape Automated Circuit).
ated Bonding) may be used. Further, as the substrate 10 formed from an inorganic material, for example, a ceramic substrate or a glass substrate can be used. As a composite structure of an organic material and an inorganic material, for example, a glass epoxy substrate is mentioned.

【0036】基板10の一方の面には、配線パターン1
2が形成されている。配線パターン12は、銅などの導
電材料で形成することができる。配線パターン12は、
ハンダ、スズ、金、ニッケルやこれらの複合材料などで
メッキされていることが好ましい。
On one surface of the substrate 10, the wiring pattern 1
2 are formed. The wiring pattern 12 can be formed of a conductive material such as copper. The wiring pattern 12
It is preferable to be plated with solder, tin, gold, nickel or a composite material thereof.

【0037】配線パターン12は、第1の半導体チップ
20に電気的に接続される第1の部分22と、第2の半
導体チップ30に電気的に接続される第2の部分32と
を含む。第1及び第2の部分22、32は、ミラー対称
の形状になっていてもよい。あるいは、配線パターン1
2の第1及び第2の部分22、32は、同一形状であっ
てもよい。この様にすることによって、基板10の製造
時に用いる設計データ、マスクを共用でき、基板の製造
初期費用を抑えることができる。
The wiring pattern 12 includes a first portion 22 electrically connected to the first semiconductor chip 20 and a second portion 32 electrically connected to the second semiconductor chip 30. The first and second portions 22, 32 may have a mirror-symmetric shape. Alternatively, wiring pattern 1
The two first and second portions 22, 32 may have the same shape. By doing so, the design data and mask used when manufacturing the substrate 10 can be shared, and the initial cost of manufacturing the substrate can be reduced.

【0038】配線パターン12は、半導体チップ20、
30の搭載領域では、半導体チップ20、30の電極2
4、34に対応したパターンを有し、電極24、34と
の接続のためにランド部が形成されてもよい。配線パタ
ーン12が接着剤(図示せず)を介して基板10に貼り
付けられて、3層基板を構成してもよい。あるいは、配
線パターン12を、接着剤なしで基板10に形成して2
層基板を構成してもよい。配線パターン12は、ランド
部等の電気的な接続部分を除いて、図示しないレジスト
等の保護膜にて覆われていることが好ましい。
The wiring pattern 12 includes a semiconductor chip 20,
In the mounting area 30, the electrodes 2 of the semiconductor chips 20 and 30
4 and 34, and a land portion may be formed for connection with the electrodes 24 and 34. The wiring pattern 12 may be attached to the substrate 10 via an adhesive (not shown) to form a three-layer substrate. Alternatively, the wiring pattern 12 is formed on the substrate 10 without an adhesive and
A layer substrate may be configured. The wiring pattern 12 is preferably covered with a protective film such as a resist (not shown) except for an electrical connection portion such as a land portion.

【0039】基板10には、複数の貫通穴14が形成さ
れている。貫通穴14は、配線パターン12に複数の外
部端子16を電気的に接続するためのものである。すな
わち、基板10における配線パターン12が形成された
面とは反対側の面に突出する外部端子16を、貫通穴1
4を介して配線パターン12に電気的に接続することが
できる。例えば、配線パターン12が貫通穴14上を通
るようになっていれば、貫通穴14を介して、配線パタ
ーン12上に外部端子16を設けることができる。
A plurality of through holes 14 are formed in the substrate 10. The through holes 14 are for electrically connecting the plurality of external terminals 16 to the wiring pattern 12. That is, the external terminals 16 protruding from the surface of the substrate 10 opposite to the surface on which the wiring pattern 12 is formed are connected to the through holes 1.
4 can be electrically connected to the wiring pattern 12. For example, if the wiring pattern 12 passes over the through hole 14, the external terminals 16 can be provided on the wiring pattern 12 through the through hole 14.

【0040】外部端子16は、ハンダ等で形成される。
貫通穴14に充填されたハンダを溶融させて表面張力で
ボールを形成してもよいし、貫通穴14に設けられた導
電材料にハンダボールを載せてもよい。貫通穴14の内
面をメッキしてスルーホールを形成してもよい。外部端
子16は、基板10において、配線パターン12の第1
及び第2の部分22、32のうち一方(例えば第1の部
分22)が形成された領域に設けられてもよい。
The external terminals 16 are formed of solder or the like.
The solder filled in the through hole 14 may be melted to form a ball with surface tension, or the solder ball may be placed on a conductive material provided in the through hole 14. The through hole 14 may be formed by plating the inner surface of the through hole 14. The external terminal 16 is connected to the first
And one of the second portions 22 and 32 (for example, the first portion 22) may be provided in a region where the first portion 22 is formed.

【0041】また、貫通穴14上に形成された配線パタ
ーン12を、貫通穴14中に屈曲させて外部端子として
使用してもよい。更に、積極的に外部端子を形成せずマ
ザーボード実装時にマザーボード側に塗布されるハンダ
クリームを利用し、その溶融時の表面張力で結果的に外
部端子を形成してもよい。この半導体装置は、いわゆる
ランドグリッドアレイ型の半導体装置である。
The wiring pattern 12 formed on the through hole 14 may be bent into the through hole 14 and used as an external terminal. Further, instead of actively forming the external terminals, a solder cream applied to the motherboard at the time of mounting the motherboard may be used, and the external terminals may be eventually formed by the surface tension at the time of melting. This semiconductor device is a so-called land grid array type semiconductor device.

【0042】本実施の形態では、基板10が屈曲してい
る。詳しくは、基板10における半導体チップ20、3
0が搭載される面を内側にして、基板10が屈曲してい
る。基板10は、一対の半導体チップ20、30の間で
屈曲している。さらに、基板10の一対の部分(例えば
端部)11、13が対向して接合されている。屈曲した
基板10の内側に半導体チップ20、30が配置されて
いるので、基板10は、接合された一対の部分11、1
3から相互に間隔をあける方向に屈曲して延びている。
すなわち、一対の半導体チップ20、30の間を除く部
分においても、基板10は屈曲している。具体的には、
接合された一対の部分11、13のうち、外部端子16
に近い部分11からの延設部分は平面的に延びており、
外部端子16から離れた部分13からの延設部分が屈曲
している。この延設部分に、スリット18が形成されて
いる。スリット18が形成されていることで、延設部分
が屈曲しやすくなっている。スリット18は、他の屈曲
部に形成されていても良く、屈曲しやすい樹脂で覆われ
ていても良い。
In this embodiment, the substrate 10 is bent. Specifically, the semiconductor chips 20, 3
The substrate 10 is bent with the surface on which the “0” is mounted facing inside. The substrate 10 is bent between the pair of semiconductor chips 20 and 30. Furthermore, a pair of portions (for example, ends) 11 and 13 of the substrate 10 are joined to face each other. Since the semiconductor chips 20 and 30 are arranged inside the bent substrate 10, the substrate 10 is joined to the pair of portions 11 and 1.
3 and extends in a direction spaced apart from each other.
That is, the substrate 10 is bent at a portion other than between the pair of semiconductor chips 20 and 30. In particular,
The external terminal 16 of the pair of joined portions 11 and 13
The extending portion from the portion 11 close to
A portion extending from the portion 13 distant from the external terminal 16 is bent. A slit 18 is formed in this extended portion. Since the slit 18 is formed, the extended portion is easily bent. The slit 18 may be formed in another bent portion, or may be covered with a resin that is easily bent.

【0043】配線パターン12において、基板10の接
合される一対の部分11、13に形成された一対の部分
15、17が接合されている。したがって、配線パター
ン12における離れた一対の部分11、13が電気的に
接続されるので、配線距離を短くすることができる。接
合の手段としては、異方性導電膜、異方性導電接着剤、
導電樹脂ペースト(銀ペーストを含有する樹脂など)を
使用してもよい。あるいは、Au−Au、Au−Sn、
ハンダなどによる金属接合や、絶縁樹脂の収縮力によっ
て、配線パターン12を接合してもよい。金属接合は、
シングルポイントボンディングを適用してもよく、超音
波、熱又は圧力を加えて行ってもよい。さらに、カシメ
などによる機械的な圧接を適用してもよい。配線パター
ン12の接合される一対の部分11、13は、配線のた
めの部分よりも面積が大きいランド部を含むことが好ま
しい。後述する半導体チップの実装方式と同じ方式を採
用すれば、一部の工程を簡略化できる。
In the wiring pattern 12, a pair of portions 15, 17 formed on a pair of portions 11, 13 of the substrate 10 to be bonded are bonded. Therefore, the pair of separated portions 11 and 13 in the wiring pattern 12 are electrically connected, so that the wiring distance can be reduced. As means for bonding, anisotropic conductive film, anisotropic conductive adhesive,
A conductive resin paste (eg, a resin containing a silver paste) may be used. Alternatively, Au-Au, Au-Sn,
The wiring pattern 12 may be joined by metal joining with solder or the contraction force of the insulating resin. Metal bonding is
Single point bonding may be applied, or ultrasonic wave, heat or pressure may be applied. Further, mechanical pressure welding such as caulking may be applied. It is preferable that the pair of portions 11 and 13 to which the wiring pattern 12 is bonded include a land portion having an area larger than a portion for wiring. If the same method as the semiconductor chip mounting method described later is adopted, some steps can be simplified.

【0044】また、スリット18内部で配線パターン1
2の一対の部分同士を接合するようにしてもよい。こう
することで、接合時に、接合される一対の部分に効率的
に接合エネルギーを印加することができる。この場合、
基板10の一対の部分の両方にスリットが形成されてい
てもよい。
Further, the wiring pattern 1 is formed inside the slit 18.
The pair of two parts may be joined to each other. By doing so, it is possible to efficiently apply bonding energy to a pair of portions to be bonded at the time of bonding. in this case,
Slits may be formed in both of the pair of portions of the substrate 10.

【0045】基板10の一対の部分11、13は、配線
パターン12の一対の部分15、17の接合によって、
接合状態が維持されている。あるいは、接着剤、粘着
剤、かしめ等の機械的な方法で基板10の一対の部分1
1、13の接合状態を維持してもよい。
The pair of portions 11 and 13 of the substrate 10 are joined by joining the pair of portions 15 and 17 of the wiring pattern 12.
The joined state is maintained. Alternatively, the pair of portions 1 of the substrate 10 may be formed by a mechanical method such as an adhesive, an adhesive, and caulking.
The joined state of 1 and 13 may be maintained.

【0046】基板10に搭載される半導体チップ20、
30は、配線パターン12の第1及び第2の部分22、
32に電気的に接続されている。フェースダウンボンデ
ィングが適用される場合には、半導体チップ20、30
は、配線パターン12上に搭載される。そして、半導体
チップ20、30の電極24、34が配線パターン12
に接合される。接合の手段としては、異方性導電膜、異
方性導電接着剤、導電樹脂ペースト(銀ペーストを含有
する樹脂など)を使用してもよい。あるいは、Au−A
u、Au−Sn、ハンダなどによる金属接合や、絶縁樹
脂の収縮力によって、配線パターン12を接合してもよ
い。もちろん、上述したようなフェースダウン型の実装
方法に限らず、ワイヤーボンディングを用いたフェース
アップ型の実装でも良いし、フィンガーを接続するよう
なTAB実装方式を適用してもよい。
A semiconductor chip 20 mounted on the substrate 10,
Reference numeral 30 denotes the first and second portions 22 of the wiring pattern 12,
32. When face-down bonding is applied, the semiconductor chips 20, 30
Are mounted on the wiring pattern 12. The electrodes 24 and 34 of the semiconductor chips 20 and 30 are connected to the wiring pattern 12.
Joined to. As a joining means, an anisotropic conductive film, an anisotropic conductive adhesive, or a conductive resin paste (eg, a resin containing a silver paste) may be used. Alternatively, Au-A
The wiring pattern 12 may be bonded by metal bonding using u, Au-Sn, solder, or the like, or by the contraction force of an insulating resin. Of course, the present invention is not limited to the face-down type mounting method described above, but may be a face-up type mounting using wire bonding, or a TAB mounting method for connecting fingers.

【0047】配線パターン12の第1及び第2の部分2
2、32がミラー対称の形状であるときには、半導体チ
ップ20、30も、ミラー対称の回路構造を有すること
が好ましい。こうすることで、例えば半導体チップ2
0、30がメモリである場合、同一の外部端子16で、
アドレス端子やデータ端子を共有化することが容易にな
る。
First and second portions 2 of wiring pattern 12
When the mirrors 2 and 32 have a mirror-symmetric shape, the semiconductor chips 20 and 30 also preferably have a mirror-symmetric circuit structure. By doing so, for example, the semiconductor chip 2
When 0 and 30 are memories, the same external terminal 16
Address terminals and data terminals can be easily shared.

【0048】上述したように、基板10が屈曲してお
り、図1に示すように、半導体チップ20、30は、積
み重なった状態になっている。こうすることで、半導体
装置1を小型化することができる。半導体チップ20、
30は、接着剤26等で接合されているか、機械的な方
法で固定されていることが好ましい。
As described above, the substrate 10 is bent, and the semiconductor chips 20 and 30 are stacked as shown in FIG. By doing so, the semiconductor device 1 can be downsized. Semiconductor chip 20,
It is preferable that 30 is bonded with an adhesive 26 or the like or fixed by a mechanical method.

【0049】本実施の形態に係る半導体装置は、上述し
たように構成されており、以下その製造方法を説明す
る。
The semiconductor device according to the present embodiment is configured as described above, and a method of manufacturing the semiconductor device will be described below.

【0050】本実施の形態に係る製造方法は、一方の面
に配線パターン12が形成された基板10に、少なくと
も1つ又は複数の半導体チップ20、30を搭載し、半
導体チップ20、30と配線パターン12とを電気的に
接続する工程を含む。この工程は、基板10を、平面的
状態すなわち屈曲させない状態で行う。詳細について
は、構成について上述した内容を適用することができ
る。
In the manufacturing method according to the present embodiment, at least one or a plurality of semiconductor chips 20 and 30 are mounted on a substrate 10 having a wiring pattern 12 formed on one surface, and the semiconductor chips 20 and 30 are interconnected. And a step of electrically connecting the pattern 12. This step is performed in a planar state, that is, in a state where the substrate 10 is not bent. For details, the contents described above for the configuration can be applied.

【0051】また、複数の外部端子16を設ける工程を
含んでもよい。例えば、基板10に形成された貫通穴1
4を介して、配線パターン12が形成された面とは反対
側に突出する外部端子16を設ける。外部端子16は、
ハンダ等で形成することができる。貫通穴14にハンダ
を設け、これを溶融させて表面張力でボールを形成して
もよいし、貫通穴14に導電材料を設け、これにハンダ
ボールを載せてもよい。貫通穴14の内面をメッキして
スルーホールを形成してもよい。
Further, a step of providing a plurality of external terminals 16 may be included. For example, the through hole 1 formed in the substrate 10
An external terminal 16 is provided via the terminal 4 so as to protrude on the opposite side to the surface on which the wiring pattern 12 is formed. The external terminal 16
It can be formed of solder or the like. Solder may be provided in the through hole 14 and the ball may be melted to form a ball with surface tension. Alternatively, a conductive material may be provided in the through hole 14 and a solder ball may be placed thereon. The through hole 14 may be formed by plating the inner surface of the through hole 14.

【0052】次に、基板10を屈曲させて、配線パター
ン12のいずれかの一対の部分15、17を対向させて
接合する。このときに、金型を使用してもよい。また、
複数の半導体チップ20、30を積み重ねてもよい。
Next, the substrate 10 is bent, and one of the paired portions 15 and 17 of the wiring pattern 12 is joined to face each other. At this time, a mold may be used. Also,
A plurality of semiconductor chips 20, 30 may be stacked.

【0053】例えば、一対の半導体チップ20、30間
で基板10を屈曲させ、半導体チップ20、30におけ
る電極24、34が形成された面とは反対側の面同士
を、接着剤26等で接着する。また、一対の半導体チッ
プ20、30間を除く一対の部分11、13を対向させ
て接合する。このとき、配線パターン12の一対の部分
15、17も対向させて接合する。なお、接合の方法に
ついては、構成について上述した内容を適用することが
できる。
For example, the substrate 10 is bent between a pair of semiconductor chips 20 and 30, and the surfaces of the semiconductor chips 20 and 30 opposite to the surfaces on which the electrodes 24 and 34 are formed are bonded with an adhesive 26 or the like. I do. In addition, the pair of portions 11 and 13 except for between the pair of semiconductor chips 20 and 30 are joined to face each other. At this time, the pair of portions 15 and 17 of the wiring pattern 12 are also joined to face each other. Note that as for the joining method, the contents described above for the configuration can be applied.

【0054】本実施の形態によれば、安価な片面基板を
使用して、スタック構造の半導体装置を製造することが
できるので、コストを下げることができる。本実施の形
態で説明した内容は、可能な限り以下の実施の形態でも
適用することができる。
According to the present embodiment, a semiconductor device having a stacked structure can be manufactured using an inexpensive single-sided substrate, so that the cost can be reduced. The contents described in the present embodiment can be applied to the following embodiments as much as possible.

【0055】本実施の形態では、外部端子を有する半導
体装置について述べてきたが、基板の一部を延出し、そ
こから外部接続を図るようにしても良い。基板の一部を
コネクタのリードとしたり、コネクタを基板上に実装し
たり、基板の配線パターンそのものを他の電子機器に接
続してもよい。
In this embodiment, the semiconductor device having the external terminal has been described. However, a part of the substrate may be extended, and the external connection may be made therefrom. A part of the board may be used as a lead of the connector, the connector may be mounted on the board, or the wiring pattern itself of the board may be connected to another electronic device.

【0056】また、さらに折り重なる基板の部分に、一
方の基板の配線パターンをまたぐように(ジャンパーリ
ードのように)、配線パターンを設けてもよい。その場
合、半導体チップは実装されていてもいなくてもよい。
これらの内容は、以下の実施の形態でも同様である。
Further, a wiring pattern may be provided on a portion of the substrate which is further folded so as to straddle the wiring pattern of one of the substrates (like a jumper lead). In that case, the semiconductor chip may or may not be mounted.
The same applies to the following embodiments.

【0057】(第2の実施の形態)図2は、本発明を適
用した第2の実施の形態に係る半導体装置を示す図であ
る。この半導体装置は、基板40と、複数の半導体チッ
プ20、30、50と、を含む。半導体チップ20、3
0は、第1の実施の形態で説明したものを使用してもよ
く、半導体チップ50も同じものを使用してよい。
(Second Embodiment) FIG. 2 is a diagram showing a semiconductor device according to a second embodiment to which the present invention is applied. This semiconductor device includes a substrate 40 and a plurality of semiconductor chips 20, 30, 50. Semiconductor chips 20, 3
For 0, the one described in the first embodiment may be used, and the same semiconductor chip 50 may be used.

【0058】基板40の一方の面には、配線パターン4
2が形成されている。基板40の材質及び配線パターン
42の材質は、第1の実施の形態で基板10及び配線パ
ターン12について説明した内容を適用することができ
る。基板40には、複数の貫通穴44が形成されてお
り、外部端子46が設けられている。貫通穴44及び外
部端子46には、第1の実施の形態で貫通穴14及び外
部端子16について説明した内容を適用することができ
る。
The wiring pattern 4 is formed on one surface of the substrate 40.
2 are formed. The material described for the substrate 10 and the wiring pattern 12 in the first embodiment can be applied to the material of the substrate 40 and the material of the wiring pattern 42. A plurality of through holes 44 are formed in the substrate 40, and external terminals 46 are provided. The contents described for the through hole 14 and the external terminal 16 in the first embodiment can be applied to the through hole 44 and the external terminal 46.

【0059】本実施の形態では、基板40の一対の部分
41、43が接合されている。外部端子46が設けられ
た部分から、接合された一対の部分41、43に至るま
での基板40の構成は、第1の実施の形態で説明した外
部端子16が設けられた部分から、接合された一対の部
分11、13に至るまでの基板10の構成と同じであ
る。また、半導体チップ20、30の実装形態について
も、第1の実施の形態で説明した内容を適用することが
でき、半導体チップ50の実装形態についてもこれらの
内容を適用することができる。
In this embodiment, the pair of portions 41 and 43 of the substrate 40 are joined. The configuration of the substrate 40 from the portion where the external terminal 46 is provided to the pair of joined portions 41 and 43 is the same as that of the portion where the external terminal 16 is provided as described in the first embodiment. The configuration of the substrate 10 up to the pair of portions 11 and 13 is the same. Also, the contents described in the first embodiment can be applied to the mounting form of the semiconductor chips 20 and 30, and these contents can also be applied to the mounting form of the semiconductor chip 50.

【0060】本実施の形態では、配線パターン42の一
対の部分45、47が接合されている。その詳細は、第
1の実施の形態で説明した配線パターン12の接合され
た一対の部分15、17の内容が適用される。
In this embodiment, a pair of portions 45 and 47 of the wiring pattern 42 are joined. For details, the contents of the pair of portions 15 and 17 of the joined wiring pattern 12 described in the first embodiment are applied.

【0061】本実施の形態では、基板40は、接合され
た一対の部分の一方の部分43からさらに延設された部
分48を有する。この延設された部分48は、屈曲し
て、基板40の他の部分に固定されている。固定には、
接着剤、粘着剤、かしめ等の機械的な方法を適用しても
よい。また、配線パターン42は、基板40の接合され
た一対の部分の一方の部分43から延設された部分48
上に至るまで形成されている。この延設された部分48
に半導体チップ50が搭載され、半導体チップ50は配
線パターン42に電気的に接続されている。その接続手
段には、半導体チップ20、30と配線パターン42と
の電気的な接続手段を適用することができる。
In this embodiment, the substrate 40 has a portion 48 further extending from one portion 43 of the joined pair of portions. The extended portion 48 is bent and fixed to another portion of the substrate 40. For fixing,
A mechanical method such as an adhesive, an adhesive, and caulking may be applied. Further, the wiring pattern 42 includes a portion 48 extending from one of the paired portions 43 of the substrate 40.
It is formed up to the top. This extended portion 48
A semiconductor chip 50 is mounted, and the semiconductor chip 50 is electrically connected to the wiring pattern 42. As the connecting means, an electric connecting means between the semiconductor chips 20 and 30 and the wiring pattern 42 can be applied.

【0062】本実施の形態によれば、第1の実施の形態
で説明した効果に加えて、さらに多段のスタック構造を
構成することができる。
According to the present embodiment, in addition to the effects described in the first embodiment, a multi-stage stack structure can be formed.

【0063】本実施の形態に係る半導体装置の製造方法
では、基板40を平面的に拡げた状態で、基板40の同
じ面に複数の半導体チップ20、30、50を搭載す
る。そして、第1の実施の形態で説明した方法を適用
し、さらに、基板40における、接合された一対の部分
の一方の部分43から延設された部分48を屈曲させ
て、基板40の他の部分に固定する。こうして、複数の
半導体チップ20、30、50を積み重ねてスタック構
造を構成する。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment, a plurality of semiconductor chips 20, 30, and 50 are mounted on the same surface of substrate 40 while substrate 40 is expanded in a plane. Then, the method described in the first embodiment is applied, and further, a portion 48 of the substrate 40 extending from one portion 43 of the joined pair of portions is bent, and another portion of the substrate 40 is bent. Secure to the part. Thus, a plurality of semiconductor chips 20, 30, and 50 are stacked to form a stack structure.

【0064】本実施の形態に関しては、第1の実施の形
態で説明した内容が、可能な限り適用される。
As for this embodiment, the contents described in the first embodiment are applied as much as possible.

【0065】(第3の実施の形態)図3は、本発明を適
用した第3の実施の形態に係る半導体装置を示す図であ
る。この半導体装置は、第1及び第2の基板60、70
と、複数の半導体チップ20、30と、を含む。半導体
チップ20、30は、第1の実施の形態で説明したもの
を使用してもよい。
(Third Embodiment) FIG. 3 is a view showing a semiconductor device according to a third embodiment to which the present invention is applied. This semiconductor device includes first and second substrates 60, 70
And a plurality of semiconductor chips 20 and 30. As the semiconductor chips 20 and 30, those described in the first embodiment may be used.

【0066】第1及び第2の基板60、70の一方の面
には、第1及び第2の配線パターン62、72が形成さ
れている。第1及び第2の基板60、70の材質及び第
1及び第2の配線パターン62、72の材質は、第1の
実施の形態で説明した基板10及び配線パターン12の
内容を適用することができる。第1の基板60には、複
数の貫通穴64が形成されており、複数の外部端子66
が設けられている。貫通穴64及び外部端子66には、
第1の実施の形態で説明した内容を適用することができ
る。
On one surface of the first and second substrates 60 and 70, first and second wiring patterns 62 and 72 are formed. For the material of the first and second substrates 60 and 70 and the material of the first and second wiring patterns 62 and 72, the contents of the substrate 10 and the wiring pattern 12 described in the first embodiment can be applied. it can. The first substrate 60 has a plurality of through holes 64 formed therein, and a plurality of external terminals 66.
Is provided. In the through hole 64 and the external terminal 66,
The contents described in the first embodiment can be applied.

【0067】第1の基板60には、半導体チップ20が
搭載され、第1の配線パターン62と半導体チップ20
とが電気的に接続されている。第2の基板70には、半
導体チップ30が搭載され、第2の配線パターン72と
半導体チップ30とが電気的に接続されている。半導体
チップ20、30と第1及び第2の配線パターン62、
72との電気的な接続についても、第1の実施の形態で
説明した内容を適用することができる。また、半導体チ
ップ20、30は、電極24、34が形成された面とは
反対側の面が接着されている点でも、第1の実施の形態
と同じである。さらに、第1及び第2の配線パターン6
2、72がミラー対称の形状をなし、それぞれに電気的
に接続される半導体チップ20、30がミラー対称の回
路構造を有してもよい。この点も第1の実施の形態で説
明した内容が適用される。
The semiconductor chip 20 is mounted on the first substrate 60, and the first wiring pattern 62 and the semiconductor chip 20
And are electrically connected. The semiconductor chip 30 is mounted on the second substrate 70, and the second wiring pattern 72 and the semiconductor chip 30 are electrically connected. The semiconductor chips 20 and 30 and the first and second wiring patterns 62;
The contents described in the first embodiment can be applied to the electrical connection with the switch 72. Further, the semiconductor chips 20 and 30 are the same as the first embodiment in that the surface opposite to the surface on which the electrodes 24 and 34 are formed is bonded. Further, the first and second wiring patterns 6
The semiconductor chips 20 and 30 electrically connected to each other may have a mirror-symmetric circuit structure. Also in this regard, the contents described in the first embodiment are applied.

【0068】本実施の形態では、第1の基板60の一対
の部分(例えば端部)61、63と、第2の基板70の
一対の部分(例えば端部)71、73と、が接合されて
いる。詳しくは、第1の基板60の一対の部分61、6
3の一方と、第2の基板70の一対の部分71、73の
一方と、が対向して接合され、かつ、第1の基板60の
一対の部分61、63の他方と、第2の基板70の一対
の部分71、73の他方と、が対向して接合されてい
る。
In the present embodiment, a pair of portions (for example, ends) 61 and 63 of the first substrate 60 and a pair of portions (for example, ends) 71 and 73 of the second substrate 70 are joined. ing. Specifically, the pair of portions 61 and 6 of the first substrate 60
3 and one of the pair of portions 71 and 73 of the second substrate 70 are joined to face each other, and the other of the pair of portions 61 and 63 of the first substrate 60 and the second substrate 70 and the other of the pair of portions 71 and 73 are joined to face each other.

【0069】第1の基板60の一対の部分61、63
は、半導体チップ20を挟む両側に位置する。第2の基
板70の一対の部分71、73は、半導体チップ30を
挟む両側に位置する。
A pair of portions 61 and 63 of the first substrate 60
Are located on both sides of the semiconductor chip 20. The pair of portions 71 and 73 of the second substrate 70 are located on both sides of the semiconductor chip 30.

【0070】第1の基板60の一対の部分の61、63
の一方から延設された部分65と、第2の基板70の一
対の部分71、73の一方から延設された部分75と、
は相互に間隔をあける方向に延びている。図3に示す例
では、第2の基板70の一対の部分71、73の一方か
ら延設された部分75が、第1の基板60の一対の部分
61、63の一方から延設された部分65から離れる方
向に屈曲している。屈曲部にはスリットを形成してもよ
い。
The pair of portions 61 and 63 of the first substrate 60
A portion 65 extending from one of the pair of portions 71 and 73 of the second substrate 70;
Extend in directions spaced from each other. In the example illustrated in FIG. 3, a portion 75 extending from one of the pair of portions 71 and 73 of the second substrate 70 is a portion extending from one of the pair of portions 61 and 63 of the first substrate 60. It is bent in a direction away from 65. A slit may be formed in the bent portion.

【0071】第1の基板60の一対の部分61、63の
他方から延設された部分67と、第2の基板70の一対
の部分71、73の他方から延設された部分77と、は
相互に間隔をあける方向に延びている。図3に示す例で
は、第2の基板70の一対の部分71、73の他方から
延設された部分77が、第1の基板60の一対の部分6
1、63の他方から延設された部分67から離れる方向
に屈曲している。屈曲部には、第1の実施の形態で説明
したスリットを形成してもよい。
A portion 67 extending from the other of the pair of portions 61 and 63 of the first substrate 60 and a portion 77 extending from the other of the pair of portions 71 and 73 of the second substrate 70 are: They extend in directions spaced from each other. In the example shown in FIG. 3, a portion 77 extending from the other of the pair of portions 71 and 73 of the second substrate 70 corresponds to the pair of portions 6 of the first substrate 60.
It is bent in a direction away from a portion 67 extending from the other of the first and the third 63. The slit described in the first embodiment may be formed in the bent portion.

【0072】第1の配線パターン62のうち第1の基板
60の一対の部分61、63上に位置する一対の部分8
2、84と、第2の配線パターン72のうち第2の基板
70の一対の部分71、73上に位置する一対の部分8
6、88とが接合されている。
A pair of portions 8 of the first wiring pattern 62 located on the pair of portions 61 and 63 of the first substrate 60
2 and 84 and a pair of portions 8 of the second wiring pattern 72 located on the pair of portions 71 and 73 of the second substrate 70.
6, 88 are joined.

【0073】詳しくは、第1の配線パターン62のうち
第1の基板60の一対の部分の一方の部分61上に位置
する部分82と、第2の配線パターン72のうち第2の
基板70の一対の部分の一方の部分71上に位置する部
分86とが対向して接合されている。また、第1の配線
パターン62のうち第1の基板60の一対の部分の他方
の部分63上に位置する部分84と、第2の配線パター
ン72のうち第2の基板70の一対の部分の他方の部分
73上に位置する部分88とが対向して接合されてい
る。なお、接合の手段については、第1の実施の形態で
説明した内容を適用することができる。もちろん、形成
されたスリット内部で、第1及び第2の配線パターン6
2、72の一対の部分82、84、86、88同士を接
合してもよい。
More specifically, a portion 82 of the first wiring pattern 62 located on one of the paired portions 61 of the first substrate 60 and a portion 82 of the second substrate 70 of the second wiring pattern 72 A part 86 of the pair of parts located on one part 71 is opposed and joined. Further, a portion 84 of the first wiring pattern 62 located on the other portion 63 of the pair of portions of the first substrate 60 and a portion 84 of the second wiring pattern 72 A portion 88 located on the other portion 73 is joined to be opposed. Note that the contents described in the first embodiment can be applied to the joining means. Of course, the first and second wiring patterns 6 are formed inside the formed slit.
The pair of portions 82, 84, 86, 88 of 2, 72 may be joined together.

【0074】第1の配線パターン62のうち第1の基板
60の一対の部分61、63上に位置する一対の部分8
2、84は、半導体チップ20を挟んで位置している。
第2の配線パターン72のうち第2の基板70の一対の
部分71、73上に位置する一対の部分86、88は、
半導体チップ30を挟んで位置している。
A pair of portions 8 of the first wiring pattern 62 located on the pair of portions 61 and 63 of the first substrate 60
2, 84 are located with the semiconductor chip 20 interposed therebetween.
A pair of portions 86 and 88 of the second wiring pattern 72 located on the pair of portions 71 and 73 of the second substrate 70 are:
It is located with the semiconductor chip 30 in between.

【0075】図3には、片面に配線パターン62、72
が形成された基板60、70を接合する例が示されてい
るが、2つの基板を接合する方がコストが安い範囲内に
おいて、ビルドアップ基板を含む多層基板同士、多層基
板と片面基板とを接合する構造をとってもよい。本実施
の形態において、基板60、70のそれぞれの上に複数
の半導体チップを実装してもよい。
In FIG. 3, wiring patterns 62 and 72 are provided on one side.
An example is shown in which the substrates 60 and 70 formed with are formed. However, as long as the cost of joining the two substrates is lower, the multilayer substrates including the build-up substrate, and the multilayer substrate and the single-sided substrate may be connected. A bonding structure may be employed. In the present embodiment, a plurality of semiconductor chips may be mounted on each of the substrates 60 and 70.

【0076】図3では、半導体チップ20、30を挟む
両側で、第1又は第2の基板60、70の一部又は第1
及び第2の配線パターン62、72の一部が接合されて
いる。本発明はこれに限定されず、半導体チップ20、
30の3辺又は4辺側で、第1又は第2の基板60、7
0の一部又は第1及び第2の配線パターン62、72の
一部が接合されていてもよい。
In FIG. 3, a part of the first or second substrate 60, 70 or the first
And a part of the second wiring patterns 62 and 72 are joined. The present invention is not limited to this, and the semiconductor chip 20,
The first or second substrate 60, 7 on three or four sides of
0 or a part of the first and second wiring patterns 62 and 72 may be joined.

【0077】また、本実施の形態において、外部端子6
6は必ずしも必要ではなく、基板の延出部をコネクタと
したり、コネクタを実装するなどの手段で配線を外部へ
拡張させてもよいし、他のパッシブパーツを基板上に実
装して半導体モジュールとして完結させてもよい。
In this embodiment, the external terminals 6
6 is not always necessary, and the extension of the board may be used as a connector, or the wiring may be extended to the outside by means such as mounting the connector, or other passive parts may be mounted on the board as a semiconductor module. It may be completed.

【0078】本実施の形態に係る半導体装置の製造方法
は、一方の面に第1の配線パターン62が形成された第
1の基板60に、半導体チップ20を搭載し、半導体チ
ップ20と第1の配線パターン62とを電気的に接続す
る工程を含む。半導体チップ20の実装形態について
は、第1の実施の形態で説明した内容を適用することが
できる。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment, the semiconductor chip 20 is mounted on the first substrate 60 having the first wiring pattern 62 formed on one surface, and the semiconductor chip 20 and the first Electrically connecting the wiring pattern 62 to the wiring pattern 62. Regarding the mounting form of the semiconductor chip 20, the contents described in the first embodiment can be applied.

【0079】また、一方の面に第2の配線パターン72
が形成された第2の基板70を用意し、第2の基板70
に半導体チップ30を搭載し、半導体チップ30と第2
の配線パターン72とを電気的に接続する。半導体チッ
プ30の実装形態については、第1の実施の形態で説明
した内容を適用することができる。
The second wiring pattern 72 is provided on one surface.
Is prepared, and the second substrate 70 is formed.
The semiconductor chip 30 is mounted on the
Is electrically connected to the wiring pattern 72. Regarding the mounting form of the semiconductor chip 30, the contents described in the first embodiment can be applied.

【0080】そして、第1の配線パターン62の一対の
部分82、84と、第2の配線パターン72の一対の部
分86、88と、を対向させて接合する。この場合、第
1及び第2の基板60、70を対向させるので、第1及
び第2の基板60、70のうち少なくとも一方を、半導
体チップ20、30が搭載された面の方向に屈曲させる
ことが好ましい。屈曲部にはスリットを形成して曲げや
すくしてもよい。さらに、スリット内部で第1及び第2
の配線パターン62、72の一対の部分82、84、8
6、88同士を接合してもよい。接合の手段は第1の実
施の形態で説明した内容を適用できる。図3では、第1
及び第2の配線パターン62、72同士が対向するよう
に接合されているが、第1及び第2の配線パターン6
2、72間に基板が存在するようにして接合するように
してもよい。その際、形成したスリット内部で、第1及
び第2の配線パターン62、72の一対の部分同士を接
合した方がよい。こうすれば、複数の半導体チップを積
層して実装密度を上げることができる。
Then, the pair of portions 82 and 84 of the first wiring pattern 62 and the pair of portions 86 and 88 of the second wiring pattern 72 are joined to face each other. In this case, since the first and second substrates 60 and 70 face each other, at least one of the first and second substrates 60 and 70 is bent in the direction of the surface on which the semiconductor chips 20 and 30 are mounted. Is preferred. A slit may be formed in the bent portion to make it easier to bend. In addition, the first and second
Pair of portions 82, 84, 8 of the wiring patterns 62, 72 of FIG.
6, 88 may be joined together. As the joining means, the contents described in the first embodiment can be applied. In FIG. 3, the first
And the second wiring patterns 62 and 72 are joined so as to face each other.
The bonding may be performed such that the substrate exists between the substrates 2 and 72. At this time, it is better to join the pair of portions of the first and second wiring patterns 62 and 72 inside the formed slit. In this case, the mounting density can be increased by stacking a plurality of semiconductor chips.

【0081】図4は、第2の基板70を屈曲させる工程
を示す図である。上述したように半導体チップ30が搭
載された第2の基板70を、金型90、92によって屈
曲させる。詳しくは、一方の金型90は凹型であり、他
方の金型92は凸型である。金型90の凹部と金型92
の凸部とが対向して配置されており、半導体チップ30
を金型92側に向けて配置する。そして、金型90、9
2によって、第2の基板60を曲げ加工することができ
る。半導体チップが基板に実装される前に基板単品で曲
げ加工を施した後、半導体チップを基板に実装してもよ
い。こうすれば、半導体チップの実装部に曲げ加工時の
ストレスが加わることを抑えられる。
FIG. 4 is a view showing a step of bending the second substrate 70. As described above, the second substrate 70 on which the semiconductor chip 30 is mounted is bent by the dies 90 and 92. Specifically, one mold 90 is concave, and the other mold 92 is convex. Recess of mold 90 and mold 92
Of the semiconductor chip 30
Are arranged toward the mold 92 side. And the molds 90 and 9
By using 2, the second substrate 60 can be bent. Before the semiconductor chip is mounted on the substrate, the semiconductor chip may be mounted on the substrate after bending processing is performed on the substrate alone. By doing so, it is possible to suppress the stress at the time of bending processing from being applied to the mounting portion of the semiconductor chip.

【0082】続いて、第1及び第2の基板60、70の
一部を接合する。このときに、第1及び第2の配線パタ
ーン62、72も接合する。その詳細は、上述した通り
である。
Subsequently, parts of the first and second substrates 60 and 70 are joined. At this time, the first and second wiring patterns 62 and 72 are also joined. The details are as described above.

【0083】本実施の形態でも、安価な片面基板を使用
してスタック構造を構成することができる。
Also in the present embodiment, a stack structure can be formed using an inexpensive single-sided substrate.

【0084】本発明を適用した半導体装置を有する電子
機器として、図5には、ノート型パーソナルコンピュー
タ100及び携帯電話200が示されている。
FIG. 5 shows a notebook personal computer 100 and a mobile phone 200 as electronic devices having a semiconductor device to which the present invention is applied.

【0085】以上述べた実施の形態で、1つの基板に複
数の半導体チップが搭載されていてもよいし、使用され
る基板も一方向へ延出された基板だけではなく複数方向
へ延出されたものを使用しても良い。また、トータルコ
ストが上昇しない範囲内で、基板として、ビルドアップ
基板又は多層基板を使用してもよい。
In the above-described embodiment, a plurality of semiconductor chips may be mounted on one substrate, and a substrate to be used is not limited to a substrate extending in one direction, but may be extended in a plurality of directions. May be used. Further, a build-up substrate or a multilayer substrate may be used as the substrate within a range where the total cost does not increase.

【0086】なお、上記本発明の構成要件で「半導体チ
ップ」を「電子素子」に置き換えて、半導体チップと同
様に電子素子(能動素子か受動素子かを問わない)を、
基板に実装して電子部品を製造することもできる。この
ような電子素子を使用して製造される電子部品として、
例えば、光素子、抵抗器、コンデンサ、コイル、発振
器、フィルタ、温度センサ、サーミスタ、バリスタ、ボ
リューム又はヒューズなどがある。
In the above-described constitutional requirements of the present invention, the “semiconductor chip” is replaced with the “electronic element”, and the electronic element (whether an active element or a passive element) is replaced in the same manner as the semiconductor chip.
An electronic component can also be manufactured by mounting it on a substrate. As electronic components manufactured using such electronic elements,
For example, there are an optical element, a resistor, a capacitor, a coil, an oscillator, a filter, a temperature sensor, a thermistor, a varistor, a volume or a fuse.

【0087】さらに、前述した全ての実施の形態は、半
導体チップとその他の電子素子とが基板上で混載される
半導体装置(実装モジュール)であっても良い。
Further, in all the embodiments described above, a semiconductor device (mounting module) in which a semiconductor chip and other electronic elements are mixedly mounted on a substrate may be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る半導体装置を示す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a semiconductor device according to a first embodiment to which the present invention is applied;

【図2】図2は、本発明を適用した第2の実施の形態に
係る半導体装置を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a semiconductor device according to a second embodiment to which the present invention is applied;

【図3】図3は、本発明を適用した第3の実施の形態に
係る半導体装置を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a semiconductor device according to a third embodiment to which the present invention is applied.

【図4】図4は、本発明を適用した第3の実施の形態に
係る半導体装置の製造工程を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a manufacturing process of a semiconductor device according to a third embodiment to which the present invention is applied.

【図5】図5は、本発明に係る方法を適用して製造され
た半導体装置を備える電子機器を示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating an electronic apparatus including a semiconductor device manufactured by applying the method according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 基板 12 配線パターン 11、13 一対の部分 14 貫通穴 15、17 一対の部分 16 外部端子 20 半導体チップ 22 第1の部分 30 半導体チップ 32 第2の部分 40 基板 41、43 一対の部分 42 配線パターン 44 貫通穴 45、47 一対の部分 46 外部端子 50 半導体チップ 60 基板 61、63 一対の部分 62 配線パターン 64 貫通穴 65 延設された部分 66 外部端子 67 延設された部分 70 基板 71、73 一対の部分 72 配線パターン 75 延設された部分 77 延設された部分 82、84 一対の部分 86、88 一対の部分 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 12 Wiring pattern 11, 13 A pair of parts 14 Through hole 15, 17 A pair of parts 16 External terminal 20 Semiconductor chip 22 First part 30 Semiconductor chip 32 Second part 40 Substrate 41, 43 A pair of parts 42 Wiring pattern 44 through hole 45, 47 a pair of parts 46 external terminal 50 semiconductor chip 60 substrate 61, 63 a pair of parts 62 wiring pattern 64 through hole 65 extended part 66 external terminal 67 extended part 70 substrate 71, 73 pair No. 72 Wiring pattern 75 Extended portion 77 Extended portion 82, 84 A pair of portions 86, 88 A pair of portions

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方の面に配線パターンが形成された基
板と、 前記基板に搭載されて、前記配線パターンに電気的に接
続された少なくとも1つの半導体チップと、 を含み、 前記配線パターンのうち、前記半導体チップに接続され
た部分以外の第1及び第2の領域からなる一対の部分が
接合されてなる半導体装置。
1. A substrate having a wiring pattern formed on one surface thereof; and at least one semiconductor chip mounted on the substrate and electrically connected to the wiring pattern. A semiconductor device in which a pair of portions including first and second regions other than a portion connected to the semiconductor chip is joined.
【請求項2】 請求項1記載の半導体装置において、 前記基板が屈曲して、配線パターンの前記一対の部分が
対向して接合されてなる半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the substrate is bent, and the pair of portions of the wiring pattern are joined to face each other.
【請求項3】 請求項2記載の半導体装置において、 屈曲した状態で前記基板は、対向して接合される一対の
部分と、前記対向する一対の部分のそれぞれから相互に
間隔をあける方向に延びる部分と、を含み、 前記配線パターンの接合される前記一対の部分は、前記
基板の前記一対の部分に形成されてなる半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein in a bent state, the substrate extends in a direction spaced apart from each of the pair of opposing portions and the opposing pair of portions. A semiconductor device comprising: a pair of portions; and the pair of portions to which the wiring pattern is bonded are formed on the pair of portions of the substrate.
【請求項4】 請求項3記載の半導体装置において、 前記基板の、前記対向する一対の部分から延びる前記部
分に、スリットが形成されてなる半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein a slit is formed in said portion of said substrate extending from said pair of opposed portions.
【請求項5】 請求項1から請求項4のいずれかに記載
の半導体装置において、 複数の前記半導体チップが前記基板に搭載され、 前記基板は、2つの前記半導体チップの間で屈曲し、 前記配線パターンの接合される前記一対の部分は、前記
2つの半導体チップの間を除く部分である半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein a plurality of said semiconductor chips are mounted on said substrate, said substrate being bent between two said semiconductor chips, The semiconductor device, wherein the pair of portions to which the wiring pattern is bonded is a portion except between the two semiconductor chips.
【請求項6】 請求項5記載の半導体装置において、 前記配線パターンの、第1の半導体チップに電気的に接
続される第1の部分と、第2の半導体チップに電気的に
接続される第2の部分とは、ミラー対称の形状をなし、 前記第1及び第2の半導体チップは、ミラー対称の回路
構造を有する半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 5, wherein a first portion of the wiring pattern electrically connected to a first semiconductor chip and a first portion electrically connected to a second semiconductor chip. A semiconductor device having a mirror-symmetrical circuit structure with the portion 2 having a mirror-symmetrical shape, wherein the first and second semiconductor chips have a mirror-symmetrical circuit structure.
【請求項7】 一方の面に第1の配線パターンが形成さ
れた第1の基板と、一方の面に第2の配線パターンが形
成された第2の基板と、 前記第1の基板に搭載されて前記第1の配線パターンに
電気的に接続された半導体チップと、 を含み、 前記第1の配線パターンにおける前記半導体チップを挟
んで形成される第1及び第2の領域からなる一対の部分
と、前記第2の配線パターンの第3及び第4の領域から
なる一対の部分とが接合されてなる半導体装置。
7. A first substrate having a first wiring pattern formed on one surface, a second substrate having a second wiring pattern formed on one surface, and mounted on the first substrate. And a semiconductor chip electrically connected to the first wiring pattern; and a pair of portions including first and second regions formed on both sides of the semiconductor chip in the first wiring pattern. And a pair of portions formed of third and fourth regions of the second wiring pattern.
【請求項8】 請求項7記載の半導体装置において、 前記第2の基板に搭載されて前記第2の配線パターンに
電気的に接続された半導体チップをさらに含む半導体装
置。
8. The semiconductor device according to claim 7, further comprising a semiconductor chip mounted on said second substrate and electrically connected to said second wiring pattern.
【請求項9】 請求項7又は請求項8記載の半導体装置
において、 前記第1の配線パターンの前記一対の部分と、前記第2
の配線パターンの前記一対の部分と、が対向して接合さ
れてなる半導体装置。
9. The semiconductor device according to claim 7, wherein said pair of portions of said first wiring pattern and said second portion of said first wiring pattern are provided.
A semiconductor device, wherein the pair of portions of the wiring pattern are joined to face each other.
【請求項10】 請求項9記載の半導体装置において、 前記第1及び第2の基板のそれぞれは、相互に対向して
接合される部分と、前記対向する部分から相互に間隔を
あける方向に延びる部分と、を含み、 前記第1の配線パターンの前記一対の部分は、前記第1
の基板の前記対向する部分に形成されてなる半導体装
置。
10. The semiconductor device according to claim 9, wherein each of the first and second substrates extends in a direction mutually spaced apart from a portion to be joined to and opposed to each other. And the pair of portions of the first wiring pattern,
A semiconductor device formed on the opposing portion of the substrate.
【請求項11】 請求項8、請求項8を引用する請求項
9、請求項8を引用する請求項10のいずれかに記載の
半導体装置において、 前記第1及び第2の配線パターンは、ミラー対称の形状
をなし、 前記第1及び第2の配線パターンに電気的に接続される
前記半導体チップは、ミラー対称の回路構造を有する半
導体装置。
11. The semiconductor device according to claim 8, wherein the first and second wiring patterns are mirrors. A semiconductor device having a symmetrical circuit structure, wherein the semiconductor chip electrically connected to the first and second wiring patterns has a mirror-symmetric circuit structure.
【請求項12】 一方の面に配線パターンが形成された
基板と、 前記基板に搭載されて、前記配線パターンに電気的に接
続された少なくとも1つの半導体チップと、 を含み、 前記配線パターンのうち、前記半導体チップに接続され
た部分を挟んで形成される一対の部分が接合されてなる
半導体装置。
12. A substrate having a wiring pattern formed on one surface thereof, and at least one semiconductor chip mounted on the substrate and electrically connected to the wiring pattern. A semiconductor device comprising a pair of portions formed to sandwich a portion connected to the semiconductor chip.
【請求項13】 請求項1から請求項12のいずれかに
記載の半導体装置が搭載された回路基板。
13. A circuit board on which the semiconductor device according to claim 1 is mounted.
【請求項14】 請求項1から請求項12のいずれかに
記載の半導体装置を備える電子機器。
14. An electronic apparatus comprising the semiconductor device according to claim 1.
【請求項15】 一方の面に配線パターンが形成された
基板に、少なくとも1つの半導体チップを搭載し、前記
半導体チップと前記配線パターンとを電気的に接続する
第1工程と、 前記基板を屈曲させて、前記配線パターンが対向する部
分を接合する第2工程と、 を含む半導体装置の製造方法。
15. A first step of mounting at least one semiconductor chip on a substrate having a wiring pattern formed on one surface and electrically connecting the semiconductor chip and the wiring pattern, and bending the substrate. And a second step of joining portions where the wiring patterns face each other.
【請求項16】 請求項15記載の半導体装置の製造方
法において、 前記第1工程で、複数の前記半導体チップを前記基板に
搭載し、 前記第2工程で、2つの前記半導体チップの間で前記基
板を屈曲させ、前記2つの半導体チップの間を除く部分
で、前記配線パターンの前記一対の部分を接合する半導
体装置の製造方法。
16. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 15, wherein in the first step, a plurality of the semiconductor chips are mounted on the substrate; A method of manufacturing a semiconductor device, comprising bending a substrate and joining the pair of portions of the wiring pattern at a portion except between the two semiconductor chips.
【請求項17】 一方の面に第1の配線パターンが形成
された第1の基板に、半導体チップを搭載し、前記半導
体チップと前記第1の配線パターンとを電気的に接続す
る第1工程と、 一方の面に第2の配線パターンが形成された第2の基板
を用意し、前記第1の配線パターンにおける前記半導体
チップを挟む一対の部分と、前記第2の配線パターンの
一対の部分とを接合する第2工程と、 を含む半導体装置の製造方法。
17. A first step of mounting a semiconductor chip on a first substrate having a first wiring pattern formed on one surface, and electrically connecting the semiconductor chip to the first wiring pattern. Preparing a second substrate having a second wiring pattern formed on one surface thereof, a pair of portions of the first wiring pattern sandwiching the semiconductor chip, and a pair of portions of the second wiring pattern A method of manufacturing a semiconductor device, comprising:
【請求項18】 請求項17記載の半導体装置の製造方
法において、 前記第2工程前に、前記第2の基板に半導体チップを搭
載する工程を含む半導体装置の製造方法。
18. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 17, further comprising a step of mounting a semiconductor chip on the second substrate before the second step.
【請求項19】 請求項17又は請求項18記載の半導
体装置の製造方法において、 前記第1の配線パターンの前記一対の部分と、前記第2
の配線パターンの前記一対の部分と、を対向させて接合
する半導体装置の製造方法。
19. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 17, wherein said pair of portions of said first wiring pattern and said second portion of said second wiring pattern are provided.
A method of manufacturing a semiconductor device in which the pair of portions of the wiring pattern are bonded to face each other.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007201616A (en) * 2006-01-24 2007-08-09 Epson Toyocom Corp Surface mount piezoelectric oscillator, and manufacturing method thereof
JP2013110442A (en) * 2013-03-11 2013-06-06 Fujitsu Semiconductor Ltd Method of manufacturing semiconductor device
US8748229B2 (en) 2008-06-11 2014-06-10 Fujitsu Semiconductor Limited Manufacturing method including deformation of supporting board to accommodate semiconductor device

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