JP2001067891A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP2001067891A
JP2001067891A JP24617299A JP24617299A JP2001067891A JP 2001067891 A JP2001067891 A JP 2001067891A JP 24617299 A JP24617299 A JP 24617299A JP 24617299 A JP24617299 A JP 24617299A JP 2001067891 A JP2001067891 A JP 2001067891A
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redundant
semiconductor memory
memory device
word line
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豊 白井
Daisuke Kato
大輔 加藤
Munehiro Yoshida
宗博 吉田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a yield by adding a function of disabling a spare element to a redundancy control circuit for selecting which of an element and the spare element is to be used. SOLUTION: When a fuse of a disable fuse latch circuit 43 in a redundant word line-selecting circuit is cut once, it generates a state in which a (Vss) level is outputted. Irrespective of a state of the other fuse latch circuits and a state of address signals, an output signal of a logic circuit 45, namely, a signal ordering to activate a redundant word line becomes the Vss level at all times. In consequence of this, a redundant word line corresponding to the redundant word line-selecting circuit including the latch circuit 43 with the fuse cut cannot be used any more. When a redundant memory cell used as a replacement comes to fail, the failing redundant memory cell is disabled and then replaced with a different redundant memory cell not used yet.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
に関するものであり、特に冗長回路を有する半導体記憶
装置に関するものである。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a redundant circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体記憶装置に用いられている
冗長回路について説明する。
2. Description of the Related Art A redundant circuit used in a conventional semiconductor memory device will be described.

【0003】図18は、従来の冗長回路の構成を示すブ
ロック図である。
FIG. 18 is a block diagram showing a configuration of a conventional redundant circuit.

【0004】この冗長回路は、ヒューズラッチ回路10
1、イネーブルヒューズラッチ回路102、比較回路1
03、及び論理回路104から構成されている。ヒュー
ズラッチ回路101と比較回路103は、メモリセルに
対応する1本のワード線を選択する際に必要なアドレス
の数だけ用意されている。イネーブルヒューズラッチ回
路102は、イネーブルヒューズ用のヒューズラッチ回
路であり、これらヒューズラッチ回路101及び比較回
路103に1つずつ用意されている。
[0004] This redundant circuit has a fuse latch circuit 10
1, enable fuse latch circuit 102, comparison circuit 1
03 and a logic circuit 104. The fuse latch circuits 101 and the comparison circuits 103 are prepared by the number of addresses necessary for selecting one word line corresponding to a memory cell. The enable fuse latch circuit 102 is a fuse latch circuit for an enable fuse, and one is provided for each of the fuse latch circuit 101 and the comparison circuit 103.

【0005】また、比較回路103には、アドレス信号
A0、A1、…、Anのそれぞれに対応するヒューズラ
ッチ回路101の出力信号が入力される。論理回路10
4には、各比較回路103の出力信号とイネーブルヒュ
ーズラッチ回路102の出力信号が入力される。論理回
路104からは、これらの論理合成の結果が冗長メモリ
セルに対応する冗長ワード線の活性化信号RWLEjとして
出力される。そして、この冗長ワード線の活性化信号RW
LEjがVccレベルとなったときに、冗長メモリセルが活
性化される。
An output signal of the fuse latch circuit 101 corresponding to each of the address signals A0, A1,..., An is input to the comparison circuit 103. Logic circuit 10
4, the output signal of each comparison circuit 103 and the output signal of the enable fuse latch circuit 102 are input. The logic circuit 104 outputs the result of the logic synthesis as the activation signal RWLEj of the redundant word line corresponding to the redundant memory cell. Then, the activation signal RW of this redundant word line
When LEj attains the Vcc level, the redundant memory cell is activated.

【0006】図19に前記ヒューズラッチ回路101の
回路図を示す。
FIG. 19 is a circuit diagram of the fuse latch circuit 101.

【0007】このヒューズラッチ回路101では、図5
に示すような初期シーケンスをパワーオンの際に行うこ
とにより、ヒューズF101が切断されていない場合
は、第1出力端に基準電圧Vssレベル、第2出力端には
電源電圧Vccレベルが出力される。一方、ヒューズF1
01が切断されている場合は、第1出力端にVccレベ
ル、第2出力端にはVssレベルが出力される。いずれの
場合にもパワーオフしない限り、この状態が保持され
る。前記イネーブルヒューズラッチ回路102も図19
に示すように構成されており、その第1出力端からは信
号FENBLjが出力される。
In this fuse latch circuit 101, FIG.
When the fuse F101 is not blown by performing the initial sequence shown in (1) at the time of power-on, the reference voltage Vss level is output to the first output terminal, and the power supply voltage Vcc level is output to the second output terminal. . On the other hand, fuse F1
When 01 is disconnected, the Vcc level is output to the first output terminal and the Vss level is output to the second output terminal. In either case, this state is maintained unless the power is turned off. The enable fuse latch circuit 102 is also shown in FIG.
The signal FENBLj is output from the first output terminal.

【0008】図20に前記比較回路103の回路図を示
す。
FIG. 20 is a circuit diagram of the comparison circuit 103.

【0009】この比較回路103では、ヒューズラッチ
回路101の第1出力端がVssレベル、第2出力端がV
ccレベルの場合、すなわちヒューズラッチ回路のヒュー
ズF101が切断されていない場合には、転送ゲート回
路TG101が非活性化され、クロックドインバータ回
路CV101が活性化される。この結果、比較回路10
3からは、常にアドレス信号Anの反転状態が比較結果
信号FCOMPnjとして出力される。
In the comparison circuit 103, the first output terminal of the fuse latch circuit 101 is at the Vss level, and the second output terminal is at the Vss level.
In the case of the cc level, that is, when the fuse F101 of the fuse latch circuit is not blown, the transfer gate circuit TG101 is inactivated and the clocked inverter circuit CV101 is activated. As a result, the comparison circuit 10
3 always outputs the inverted state of the address signal An as the comparison result signal FCOMPnj.

【0010】一方、ヒューズラッチ回路の第1出力端が
Vccレベル、第2出力端がVssレベルの場合、すなわち
前記ヒューズラッチ回路のヒューズが切断されている場
合には、転送ゲート回路TG101が活性化され、クロ
ックドインバータ回路CV101が非活性化される。こ
の結果、アドレス信号Anがそのまま比較結果信号FCOM
Pnjとして出力される。つまり、アドレス信号A0、A
1、…、Anに対応するヒューズラッチ回路101のヒ
ューズF101が切断されていない場合には、アドレス
信号がVssレベルのときに比較結果信号FCOMPnjがVcc
レベルとなり、ヒューズF101が切断されている場合
には、アドレス信号がVccレベルのときに比較結果信号
がVccレベルとなる。
On the other hand, when the first output terminal of the fuse latch circuit is at the Vcc level and the second output terminal is at the Vss level, that is, when the fuse of the fuse latch circuit is cut, the transfer gate circuit TG101 is activated. Then, clocked inverter circuit CV101 is deactivated. As a result, the address signal An is directly used as the comparison result signal FCOM.
Output as Pnj. That is, the address signals A0, A
When the fuse F101 of the fuse latch circuit 101 corresponding to 1,..., An is not blown, the comparison result signal FCOMPnj becomes Vcc when the address signal is at the Vss level.
Level, and when the fuse F101 is blown, the comparison result signal goes to the Vcc level when the address signal is at the Vcc level.

【0011】図21に前記論理回路104の回路図を示
す。
FIG. 21 is a circuit diagram of the logic circuit 104.

【0012】この論理回路104は、多入力端を持つN
AND回路ND101と、前記NAND回路の出力端に
接続されたインバータ回路IV104から構成される。
このインバータ回路IV104の出力端からは、冗長メ
モリセルに対応する冗長ワード線の活性化信号RWLEjが
出力される。前記NAND回路ND101には、冗長メ
モリセルに対応する1本の冗長ワード線を選択する際に
必要なアドレス数に1を加えた数の入力端があり、前記
アドレス数分ある比較回路の比較結果信号FCOMP0j〜FCO
MPnjと、前記イネーブルヒューズラッチ回路102の出
力信号FENBLjが入力される。そして、全ての入力端にV
ccレベルが入力されたときのみ、前記論理回路104の
冗長ワード線の活性化信号RWLEjはVccレベルとなる。
This logic circuit 104 has N input terminals.
It comprises an AND circuit ND101 and an inverter circuit IV104 connected to the output terminal of the NAND circuit.
The output terminal of inverter circuit IV104 outputs an activation signal RWLEj for a redundant word line corresponding to the redundant memory cell. The NAND circuit ND101 has input terminals of the number obtained by adding one to the number of addresses necessary for selecting one redundant word line corresponding to a redundant memory cell. Signals FCOMP0j to FCO
MPnj and an output signal FENBLj of the enable fuse latch circuit 102 are input. Then, V is applied to all input terminals.
Only when the cc level is input, the activation signal RWLEj of the redundant word line of the logic circuit 104 becomes the Vcc level.

【0013】例えば、DRAMにおいて1本のワード線
を選択するのに必要なアドレスが4ビット(A0、A
1、A2、A3)であり、不良メモリセルに対応するワ
ード線のアドレスがA0=Vcc、A1=Vss、A2=V
ss、A3=Vccであるとする。この場合、不良メモリセ
ルを冗長ワード線に置き換える場合には、その冗長ワー
ド線に対応するヒューズセット中のイネーブル用ヒュー
ズを切断するとともに、4つのアドレス用ヒューズのう
ち、A0とA3に対応するものを切断する。すなわち、
イネーブルヒューズラッチ回路102ではヒューズが切
断されているので、常に第1出力端にVccレベルが保持
される。A1、A2に対応する比較回路103では、対
応するヒューズラッチ回路101のヒューズが切断され
ていないので、アドレスがVssレベルの場合に比較結果
信号FCOMPnjがVccレベルになる。A0、A3に対応す
る比較回路103では、対応するヒューズラッチ回路1
01のヒューズが切断されているので、アドレスがVcc
レベルの場合に比較結果信号がVccレベルになる。
For example, the address required to select one word line in a DRAM is 4 bits (A0, A0).
1, A2, A3), and the address of the word line corresponding to the defective memory cell is A0 = Vcc, A1 = Vss, A2 = V
ss, A3 = Vcc. In this case, when replacing a defective memory cell with a redundant word line, the enable fuse in the fuse set corresponding to the redundant word line is cut off, and among the four address fuses, those corresponding to A0 and A3 Disconnect. That is,
Since the fuse is blown in the enable fuse latch circuit 102, the Vcc level is always held at the first output terminal. In the comparison circuit 103 corresponding to A1 and A2, since the fuse of the corresponding fuse latch circuit 101 is not blown, the comparison result signal FCOMPnj goes to the Vcc level when the address is at the Vss level. In the comparison circuit 103 corresponding to A0 and A3, the corresponding fuse latch circuit 1
01 is blown, the address is Vcc
In the case of the level, the comparison result signal becomes the Vcc level.

【0014】これにより、ヒューズ切断以降は、不良ワ
ード線のアドレス信号(A0=Vcc、A1=Vss、A2
=Vss、A3=Vcc)を入力した場合のみ、前記NAN
D回路ND101の入力全てがVccレベルで揃う。この
結果、前記論理回路104から出力される冗長ワード線
の活性化信号RWLEjがVccレベルとなって、冗長ワード
線が活性化される。
Thus, after the fuse is blown, the address signals of the defective word line (A0 = Vcc, A1 = Vss, A2
= Vss, A3 = Vcc)
All inputs of the D circuit ND101 are aligned at the Vcc level. As a result, the activation signal RWLEj of the redundant word line output from the logic circuit 104 becomes the Vcc level, and the redundant word line is activated.

【0015】このように冗長ワード線を使用する場合、
置き換えるべき不良ワード線のアドレス情報はヒューズ
を切断することにより永久に保持される。このため、一
旦、ヒューズが切断され使用が決まった冗長ワード線
は、一義的に対応する不良ワード線と結びつき、それ以
降は対応する不良ワード線を選択するアドレス信号が入
力されたときのみ活性化されることになる。
When the redundant word line is used as described above,
The address information of the defective word line to be replaced is permanently retained by cutting the fuse. For this reason, the redundant word line whose fuse has been cut once and decided to be used is uniquely connected to the corresponding defective word line, and thereafter activated only when an address signal for selecting the corresponding defective word line is input. Will be done.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】この冗長メモリセルの
使用に際しては、置き換えを行う前に予め冗長メモリセ
ル自体のテストを行い、そこに不良がないことを確認し
た上でヒューズを切り、不良メモリセルとの置き換えを
行うのが通常である。
In using this redundant memory cell, a test of the redundant memory cell itself is performed before replacement, and after confirming that there is no defect, the fuse is blown. Normally, replacement with a cell is performed.

【0017】しかしながら、冗長メモリセルの中に不良
のメモリセルが含まれていることもあり、そのような場
合を考慮すると、そのチップが最終的に良品か不良品か
決着が付くまでは、誤って前記テストで不良だった冗長
メモリセルを使ってしまうことがないように、冗長メモ
リセルのテスト結果を保持しておかなければならないと
いう問題がある。
However, a defective memory cell may be included in a redundant memory cell. In consideration of such a case, an erroneous memory cell is determined until the chip is finally determined to be a good or defective product. Therefore, there is a problem that the test result of the redundant memory cell must be held so that the redundant memory cell which is defective in the test is not used.

【0018】また、正常な冗長メモリセルを選んで置き
換えを行うので、通常置き換え後に不良は出ないはずで
ある。しかし、前述したように、実際には不良メモリセ
ルと置き換えた後に、テストでは正常だった冗長メモリ
セルが様々なテストを経るうち不良のメモリセルとなる
こともある。このため、せっかく不良メモリセルを冗長
メモリセルに置き換えたにも係わらず、最終的にはその
チップが不良品となり、歩留まりを下げることもあり得
る。
Since replacement is performed by selecting a normal redundant memory cell, no defect should normally occur after replacement. However, as described above, after actually replacing a defective memory cell, a redundant memory cell that was normal in a test may become a defective memory cell after undergoing various tests. For this reason, although the defective memory cell is replaced with the redundant memory cell, the chip may eventually become defective and the yield may be reduced.

【0019】こうした冗長メモリセルへの置き換えを行
ったにも係わらず、最終的に不良品となってしまうチッ
プの中には、他の未使用の冗長メモリセルが残っている
こともしばしばあるが、前記のような従来の冗長回路で
は、ヒューズを切断し、一旦不良メモリセルと冗長メモ
リセルとの結びつきが決まってしまうと、別の冗長メモ
リセルに置き換え直すことはできない。したがって、結
局は未使用の冗長メモリセルを使い切らないまま不良品
となり、歩留まりを下げてしまうという問題がある。
In spite of the replacement with such redundant memory cells, other unused redundant memory cells often remain in a chip that eventually becomes defective. In the conventional redundant circuit as described above, the fuse is blown, and once the connection between the defective memory cell and the redundant memory cell is determined, it cannot be replaced with another redundant memory cell. Therefore, there is a problem in that an unused product is defective without using up unused redundant memory cells, thereby lowering the yield.

【0020】そこでこの発明は、前記課題に鑑みてなさ
れたものであり、これまでの冗長回路に冗長メモリセル
の使用を不可能にする機能を追加することにより、予め
行った冗長メモリセルのテスト結果を冗長回路自体に記
憶させることができ、さらに一旦使用することになった
冗長メモリセルに不良が生じた場合でも、そのメモリセ
ルを使用不可能にし、未使用の正常な冗長メモリセルに
置き換え直すことを可能にして、歩留まりを向上させる
ことができる半導体記憶装置を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problem, and has been made in advance to test a redundant memory cell by adding a function of disabling the use of the redundant memory cell to a conventional redundant circuit. The result can be stored in the redundant circuit itself, and even if a redundant memory cell once used becomes defective, the memory cell is disabled and replaced with an unused normal redundant memory cell It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device capable of improving the yield and improving the yield.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、この発明に係る半導体記憶装置は、データを記憶す
るために通常使用されるエレメントと、前記エレメント
が不良エレメントである場合に、代わりに使用される予
備エレメントと、プログラム可能な読み出し専用記憶部
に記憶されるアドレスと外部から入力されるアドレスの
比較結果に応じて、前記エレメントと前記予備エレメン
トのいずれを使用するかを選択する冗長制御回路とを具
備し、前記冗長制御回路が、前記予備エレメントを使用
不可能にする機能を有することを特徴とする。
In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention comprises an element normally used for storing data and an element used when the element is a defective element. And a redundant element for selecting which of the element and the spare element to use in accordance with a result of comparison between an address stored in a programmable read-only storage unit and an externally input address. And a control circuit, wherein the redundant control circuit has a function of disabling the spare element.

【0022】このように構成された半導体記憶装置で
は、冗長回路に予備エレメントの使用を不可能にする機
能を追加することにより、予め行った冗長メモリセルの
テスト結果を冗長回路自体に記憶させることができ、さ
らに一旦使用することになった予備エレメントに不良が
生じた場合でも、その予備エレメントを使用不可能に
し、未使用の正常な予備エレメントに置き換え直すこと
を可能にして、歩留まりを向上させることができる。
In the semiconductor memory device configured as described above, by adding a function of disabling the use of the spare element to the redundant circuit, the test result of the redundant memory cell performed in advance can be stored in the redundant circuit itself. Even if a spare element once used becomes defective, the spare element is made unusable and replaced with an unused normal spare element, thereby improving the yield. be able to.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0024】[第1の実施の形態]図1は、この発明の
第1の実施の形態の半導体記憶装置の構成を示すブロッ
ク図である。
[First Embodiment] FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【0025】図1に示すように、外部よりアドレス信号
が入力されるアドレスバッファ11は、行デコーダ1
2、列デコーダ13、及び冗長制御回路14にそれぞれ
接続されている。前記行デコーダ12は、ワード線を立
ち上げるワード線ドライバ15に接続され、前記列デコ
ーダ13はI/Oゲート16にそれぞれ接続されてい
る。また、前記冗長制御回路14は、ワード線を立ち上
げる前記ワード線ドライバ15、冗長ワード線を立ち上
げる冗長ワード線ドライバ17にそれぞれ接続されてい
る。
As shown in FIG. 1, an address buffer 11 to which an address signal is input from the outside is provided with a row decoder 1.
2, the column decoder 13 and the redundancy control circuit 14, respectively. The row decoder 12 is connected to a word line driver 15 for raising a word line, and the column decoder 13 is connected to an I / O gate 16. The redundancy control circuit 14 is connected to the word line driver 15 for raising a word line and the redundant word line driver 17 for raising a redundant word line.

【0026】また、メモリセル部は、通常用いられるメ
モリセルが配列されたメモリセルアレイ18、前記メモ
リセルが不良の場合に置き換えるために設けられた冗長
メモリセルが配列された冗長メモリセルアレイ19、セ
ンスアンプ20、I/Oゲート16を有し構成されてい
る。メモリセルアレイ18内のメモリセルには、ワード
線WL0、WL1、…、WLiが接続され、冗長メモリ
セルアレイ19内のメモリセルには冗長ワード線RWL
0、RWL1、…、RWLjが接続されている。また、
前記I/Oゲート16には、データの入力時に用いられ
る入力バッファ21、及びデータの出力時に用いられる
出力バッファ22が接続されている。
The memory cell section includes a memory cell array 18 in which memory cells which are normally used are arranged, a redundant memory cell array 19 in which redundant memory cells provided for replacing the memory cells in case of failure are arranged, and a sense cell. It has an amplifier 20 and an I / O gate 16. The memory cells in the memory cell array 18 are connected to word lines WL0, WL1,..., WLi, and the memory cells in the redundant memory cell array 19 are connected to a redundant word line RWL.
, RWL1,..., RWLj are connected. Also,
The I / O gate 16 is connected to an input buffer 21 used when inputting data and an output buffer 22 used when outputting data.

【0027】次に、このように構成された前記半導体記
憶装置の動作について説明する。
Next, the operation of the semiconductor memory device thus configured will be described.

【0028】前記アドレスバッファ11は、外部から入
力されたアドレス信号を一時的に記憶し、前記行デコー
ダ12、列デコーダ13、及び冗長制御回路14に出力
する。行デコーダ12は、入力されたアドレス信号に基
づいてワード線を選択し、このワード線を選択するため
のワード線選択信号をワード線ドライバ15に出力す
る。列デコーダ13は、入力されたアドレス信号に基づ
いてカラムセレクトライン(CSL)を選択し、このカ
ラムセレクトライン(CSL)を選択するカラム選択信
号をI/Oゲート16に出力する。
The address buffer 11 temporarily stores an externally input address signal and outputs it to the row decoder 12, the column decoder 13, and the redundancy control circuit 14. The row decoder 12 selects a word line based on the input address signal, and outputs a word line selection signal for selecting the word line to the word line driver 15. The column decoder 13 selects a column select line (CSL) based on the input address signal, and outputs a column select signal for selecting the column select line (CSL) to the I / O gate 16.

【0029】前記冗長制御回路14では、入力されたア
ドレス信号とヒューズによりプログラムされたアドレス
とが比較され、比較結果に応じた選択信号を出力する。
この選択信号は、ワード線ドライバ15、冗長ワード線
ドライバ17のそれぞれに入力され、ワード線ドライバ
15あるいは冗長ワード線ドライバ17のいずれかを活
性化する。これにより、ワード線あるいは冗長ワード線
のいずれかが立ち上げられる。この冗長制御回路14に
ついては後で詳述する。
The redundancy control circuit 14 compares the input address signal with the address programmed by the fuse and outputs a selection signal according to the comparison result.
This selection signal is input to each of the word line driver 15 and the redundant word line driver 17, and activates either the word line driver 15 or the redundant word line driver 17. As a result, either the word line or the redundant word line is activated. The redundancy control circuit 14 will be described later in detail.

【0030】また、書き込みでは前記入力バッファ22
から入力されたデータがI/Oゲート16を介してメモ
リセルあるいは冗長メモリセルに書き込まれる。読み出
しでは、メモリセルあるいは冗長メモリセルより読み出
されたデータが前記出力バッファ22から出力される。
In writing, the input buffer 22
Is written to a memory cell or a redundant memory cell via an I / O gate 16. In reading, data read from a memory cell or a redundant memory cell is output from the output buffer 22.

【0031】次に、半導体記憶装置に設けられた前記冗
長制御回路14について説明する。
Next, the redundancy control circuit 14 provided in the semiconductor memory device will be described.

【0032】図2は、前記冗長制御回路の構成を示す回
路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of the redundancy control circuit.

【0033】この冗長制御回路14は、アドレス信号に
基づいて活性化する冗長ワード線RWL0、RWL1、
…、RWLjをそれぞれ選択する冗長ワード線選択回路
31-0、31-1、…、31-jと、この冗長ワード線選択回路か
ら出力される信号より正規のワード線WL0、WL1、
…、WLiを立ち上げるか否かを選択するNOR回路3
2とを有している。
The redundancy control circuit 14 includes redundant word lines RWL0, RWL1,.
, Redundant word line selection circuit for selecting RWLj
.., 31-j and the normal word lines WL0, WL1,.
... NOR circuit 3 for selecting whether to start WLi
And 2.

【0034】外部から入力されるアドレス信号をA0、
A1、A2、…、Anとする。前記冗長ワード線選択回
路31-0〜31-jは、冗長ワード線RWL0〜RWLjの1
つのラインに対応して1個ずつ設けられている。なおこ
こでは、1つの冗長ワード線選択回路に、1ラインの冗
長ワード線が設けられている場合を説明するが、1つの
冗長ワード線選択回路に、複数の冗長ワード線が設けら
れている場合でも同様である。
An externally input address signal is A0,
A1, A2,..., An. The redundant word line selection circuits 31-0 to 31-j are connected to one of the redundant word lines RWL0 to RWLj.
One line is provided corresponding to one line. Here, a case will be described in which one redundant word line selecting circuit is provided with one redundant word line. However, a case where one redundant word line selecting circuit is provided with a plurality of redundant word lines is described. But the same is true.

【0035】アドレス信号A0〜Anが入力される冗長
ワード線選択回路31-0は、アドレス信号に基づいて冗長
ワード線RWL0を活性化するか否を選択し、信号RW
LE0を出力する。アドレス信号A0〜Anが入力され
る冗長ワード線選択回路31-1は、アドレス信号に基づい
て冗長ワード線RWL1を活性化するか否を選択し、信
号RWLE1を出力する。同様に、冗長ワード線選択回
路31-2〜31-jも前述と同様の処理を行い、信号RWLE
2〜RWLEjをそれぞれ出力する。ここでは、信号R
WLE1〜RWLEjは、活性化するとき“H”(Vcc
レベル)、活性化しないとき“L”(Vssレベル)とな
るものとする。
The redundant word line selecting circuit 31-0 to which the address signals A0 to An are input selects whether or not to activate the redundant word line RWL0 based on the address signal, and outputs a signal RW.
LE0 is output. The redundant word line selection circuit 31-1 to which the address signals A0 to An are input selects whether to activate the redundant word line RWL1 based on the address signal, and outputs a signal RWLE1. Similarly, the redundant word line selection circuits 31-2 to 31-j perform the same processing as described above, and
2 to RWLEj are output. Here, the signal R
WLE1 to RWLEj are set to “H” (Vcc
Level) and "L" (Vss level) when not activated.

【0036】さらに、信号RWLE0〜RWLEjは、
NOR回路32の入力端にそれぞれ入される。NOR回
路32は、信号RWLE0〜RWLEjが全て“L”の
とき、すなわち冗長ワード線がいずれも活性化されない
とき、信号NWLE=“H”をワード線ドライバ15に
出力する。信号NWLEが“H”のとき、正規のワード
線がイネーブルになる。
Further, the signals RWLE0 to RWLEj are
The signals are input to the input terminals of the NOR circuit 32, respectively. The NOR circuit 32 outputs the signal NWLE = “H” to the word line driver 15 when the signals RWLE0 to RWLEj are all “L”, that is, when none of the redundant word lines is activated. When the signal NWLE is "H", the normal word line is enabled.

【0037】次に、冗長制御回路内14の前記冗長ワー
ド線選択回路の詳細について説明する。
Next, details of the redundant word line selection circuit in the redundancy control circuit 14 will be described.

【0038】図3は、前記冗長ワード線選択回路の構成
を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the redundant word line selection circuit.

【0039】この冗長ワード線選択回路31-0〜31-jは、
それぞれヒューズラッチ回路41-0、41-1、…、41-n、イ
ネーブルヒューズラッチ回路42、ディスエイブルヒュ
ーズラッチ回路43、比較回路44-0、44-1、…、44-n、
及び論理回路45から構成される。
The redundant word line selection circuits 31-0 to 31-j
, 41-n, enable fuse latch circuit 42, disable fuse latch circuit 43, comparison circuits 44-0, 44-1, ..., 44-n, respectively.
And a logic circuit 45.

【0040】前記ヒューズラッチ回路41-0〜41-nと前記
比較回路44-0〜44-nは、前記アドレス信号A0〜Anの
ビット数と同じ数だけ用意されている。
The fuse latch circuits 41-0 to 41-n and the comparison circuits 44-0 to 44-n are prepared by the same number as the number of bits of the address signals A0 to An.

【0041】前記比較回路44-0の第1入力端にはアドレ
スA0が入力され、その第2入力端にはアドレスA0に
対応するヒューズラッチ回路41-0の出力信号が入力され
る。同様に、比較回路44-1〜44-nの第1入力端にはアド
レスA1〜Anがそれぞれ入力され、それらの第2入力
端にはアドレスA1〜Anに対応するヒューズラッチ回
路44-1〜44-nの出力信号がそれぞれ入力される。
An address A0 is input to a first input terminal of the comparison circuit 44-0, and an output signal of the fuse latch circuit 41-0 corresponding to the address A0 is input to a second input terminal. Similarly, addresses A1 to An are input to first input terminals of the comparison circuits 44-1 to 44-n, respectively, and fuse latch circuits 44-1 to 4 corresponding to the addresses A1 to An are input to their second input terminals. 44-n output signals are input.

【0042】前記論理回路45には、比較回路44-0〜44
-nのそれぞれの出力信号、イネーブルヒューズラッチ回
路42の出力信号、及びディスエイブルヒューズラッチ
回路43の出力信号がそれぞれ入力される。そして、入
力された信号の論理合成を行い、冗長ワード線RWL0
〜RWLjの活性化の有無を指示する信号RWLE0〜
RWLEjをそれぞれ出力する。そして、この冗長ワー
ド線の活性化信号が“H”レベルとなったとき、その冗
長ワード線が活性化される。
The logic circuit 45 includes comparison circuits 44-0 to 44
-n, the output signal of the enable fuse latch circuit 42, and the output signal of the disable fuse latch circuit 43, respectively. Then, the input signal is logically synthesized, and the redundant word line RWL0 is synthesized.
RWLE0 to RWLE0 that indicate whether to activate RWLj.
RWLEj are output. When the activation signal of the redundant word line attains the "H" level, the redundant word line is activated.

【0043】次に、冗長ワード線選択回路内の前記ヒュ
ーズラッチ回路の詳細について説明する。
Next, details of the fuse latch circuit in the redundant word line selection circuit will be described.

【0044】図4は、前記ヒューズラッチ回路の構成を
示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of the fuse latch circuit.

【0045】前記ヒューズラッチ回路41-0、41-1、…、
41-nは、それぞれ図4に示すように、一方の端子に基準
電圧Vssが供給されたヒューズF1と、ゲートにセット
信号FSET、ソースにヒューズF1の他方の端子が接続さ
れたnチャネルMOSトランジスタ(以下nMOSトラ
ンジスタ)NT1と、ゲートにリセット信号bFRST、ソ
ースに電源電圧Vccが供給され、ドレインに前記nMO
SトランジスタNT1のドレインが接続されたpチャネ
ルMOSトランジスタ(以下pMOSトランジスタ)P
T1と、入力端に前記nMOSトランジスタNT1とp
MOSトランジスタPT1との接続点が接続されたイン
バータ回路IV1と、入力端に前記インバータ回路IV
1の出力端が接続され、出力端に前記インバータ回路I
V1の入力端が接続されたインバータ回路IV2と、入
力端に前記インバータ回路IV1の出力端が接続され、
出力端をこのヒューズラッチ回路の第1出力端とするイ
ンバータ回路IV3から構成される。インバータ回路I
V1の出力端は、このヒューズラッチ回路の第2出力端
となる。そして、第1の出力端からは信号FLATnjが出力
され、第2の出力端からは信号bFLATnjが出力される。
前記ヒューズF1は、プログラム可能な読み出し専用記
憶装置であり、具体的には電気的に回路状態(接続また
は遮断)を変更できる電気フューズ、あるいはレーザな
どにより回路切断が可能なレーザヒューズ、あるいはE
EPROMなどからなっている。
The fuse latch circuits 41-0, 41-1,...
41-n are, as shown in FIG. 4, an n-channel MOS transistor having one terminal supplied with the reference voltage Vss, a set signal FSET at the gate, and a source connected to the other terminal of the fuse F1. (Hereinafter referred to as nMOS transistor) NT1, a reset signal bFRST is supplied to the gate, the power supply voltage Vcc is supplied to the source, and the nMO transistor is supplied to the drain.
P-channel MOS transistor (hereinafter referred to as pMOS transistor) P to which the drain of S transistor NT1 is connected
T1 and the nMOS transistors NT1 and p
An inverter circuit IV1 to which a connection point with the MOS transistor PT1 is connected;
1 is connected to the output terminal of the inverter circuit I.
An inverter circuit IV2 to which an input terminal of V1 is connected, an output terminal of the inverter circuit IV1 to an input terminal,
An inverter circuit IV3 having an output terminal as a first output terminal of the fuse latch circuit is provided. Inverter circuit I
The output terminal of V1 becomes the second output terminal of the fuse latch circuit. Then, the signal FLATnj is output from the first output terminal, and the signal bFLATnj is output from the second output terminal.
The fuse F1 is a programmable read-only storage device, specifically, an electric fuse capable of electrically changing a circuit state (connection or disconnection), a laser fuse capable of cutting a circuit by a laser or the like, or E.
It consists of an EPROM or the like.

【0046】これらヒューズラッチ回路41-0〜41-nは、
図5に示すような初期シーケンスをパワーオンの際に行
うことにより、ヒューズF1が切断されていない場合
は、第1出力端にVssレベルを出力し、第2出力端には
Vccレベルを出力する。ヒューズF1が切断されている
場合は、第1出力端にVccレベルを出力し、第2出力端
にはVssレベルを出力する。いずれの場合にもパワーオ
フしない限り、この状態が保持される。
These fuse latch circuits 41-0 to 41-n are
By performing the initial sequence as shown in FIG. 5 at the time of power-on, if the fuse F1 is not blown, the Vss level is output to the first output terminal and the Vcc level is output to the second output terminal. . When the fuse F1 is cut, the Vcc level is output to the first output terminal, and the Vss level is output to the second output terminal. In either case, this state is maintained unless the power is turned off.

【0047】また、イネーブルヒューズラッチ回路42
は、図6に示すように、前記ヒューズラッチ回路と同様
に構成されており、第1出力端からは信号FENBLjが出力
される。なお、第2出力端からは出力を取らない。
The enable fuse latch circuit 42
Is configured in the same manner as the fuse latch circuit as shown in FIG. 6, and a signal FENBLj is output from a first output terminal. No output is taken from the second output terminal.

【0048】次に、冗長ワード線選択回路内の前記ディ
スエイブルヒューズラッチ回路43の詳細について説明
する。
Next, the details of the disable fuse latch circuit 43 in the redundant word line selection circuit will be described.

【0049】図7は、前記ディスエイブルヒューズラッ
チ回路の構成を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of the disable fuse latch circuit.

【0050】前記ディスエイブルヒューズラッチ回路4
3は、図7に示すように、一方の端子に基準電圧Vssが
供給されたヒューズF2と、ゲートにセット信号FSET、
ソースにヒューズF2の他方の端子が接続されたnMO
SトランジスタNT2と、ゲートにリセット信号bFRS
T、ソースに電源電圧Vccが供給され、ドレインに前記
nMOSトランジスタNT2のドレインが接続されたp
MOSトランジスタPT2と、入力端に前記nMOSト
ランジスタNT2とpMOSトランジスタPT2との接
点が接続されたインバータ回路IV4と、入力端に前記
インバータ回路IV4の出力端が接続され、出力端に前
記インバータ回路IV4の入力端が接続されたインバー
タ回路IV5から構成される。そして、インバータ回路
IV4の出力端は、このディスエイブルヒューズラッチ
回路の出力端となる。この出力端からは信号bFDISjが出
力される。
The disable fuse latch circuit 4
3, a fuse F2 having one terminal supplied with the reference voltage Vss and a set signal FSET at the gate, as shown in FIG.
NMO with the other terminal of the fuse F2 connected to the source
The reset signal bFRS is applied to the S transistor NT2 and the gate.
T, the source voltage Vcc is supplied to the source, and the drain is connected to the drain of the nMOS transistor NT2.
A MOS transistor PT2, an inverter circuit IV4 having an input terminal connected to the contact point of the nMOS transistor NT2 and the pMOS transistor PT2, an input terminal connected to an output terminal of the inverter circuit IV4, and an output terminal connected to the inverter circuit IV4. It comprises an inverter circuit IV5 to which an input terminal is connected. Then, the output terminal of the inverter circuit IV4 becomes the output terminal of the disable fuse latch circuit. The signal bFDISj is output from this output terminal.

【0051】前記ディスエイブルヒューズラッチ回路4
3は、アドレス用の前記ヒューズラッチ回路41-0〜41-
n、またはイネーブル用の前記イネーブルヒューズラッ
チ回路42からインバータ回路IV3を外した構成であ
る。このディスエイブルヒューズラッチ回路43の出力
信号は、前記ヒューズラッチ回路の第2出力端からの出
力信号と同様である。よって、ヒューズF2が切断され
ていない場合はVccレベル、ヒューズF2が切断されて
いる場合はVssレベルが出力される。
The disable fuse latch circuit 4
3 is an address fuse latch circuit 41-0 to 41-
n, or a configuration in which the inverter circuit IV3 is removed from the enable fuse latch circuit 42 for enabling. The output signal of the disable fuse latch circuit 43 is the same as the output signal from the second output terminal of the fuse latch circuit. Therefore, when the fuse F2 is not cut, the Vcc level is output, and when the fuse F2 is cut, the Vss level is output.

【0052】次に、冗長ワード線選択回路内の前記比較
回路の詳細について説明する。
Next, the details of the comparison circuit in the redundant word line selection circuit will be described.

【0053】図8は、前記比較回路の構成を示す回路図
である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing the configuration of the comparison circuit.

【0054】前記比較回路44-0〜44-nは、それぞれ図8
に示すように、電流通路の一端にアドレス信号が入力さ
れ、pMOSトランジスタ側のゲートには前記ヒューズ
ラッチ回路の第2出力端の出力信号bFLATnj、nMOS
トランジスタ側のゲートには前記ヒューズラッチ回路の
第1出力端の出力信号FLATnjが入力される転送ゲート回
路TG1と、入力端にアドレス信号、出力端に前記転送
ゲート回路の電流通路の他端が接続されたクロックドイ
ンバータ回路CV1から構成される。
The comparison circuits 44-0 to 44-n correspond to FIG.
As shown in the figure, an address signal is input to one end of the current path, and the output signal bFLATnj of the second output terminal of the fuse latch circuit and the nMOS
A transfer gate circuit TG1 to which the output signal FLATnj of the first output terminal of the fuse latch circuit is input is connected to the gate on the transistor side, an address signal is connected to the input terminal, and the other end of the current path of the transfer gate circuit is connected to the output terminal. And a clocked inverter circuit CV1.

【0055】前記クロックドインバータ回路CV1の回
路構成を図9に示す。このクロックドインバータ回路C
V1では、pMOSトランジスタPT3のクロックゲー
トに前記ヒューズラッチ回路の第1出力端の出力信号FL
ATnjが入力され、nMOSトランジスタNT3のクロッ
クゲートには前記ヒューズラッチ回路の第2出力端の出
力信号bFLATnjが入力される。さらに、pMOSトラン
ジスタPT4とnMOSトランジスタNT4からなるイ
ンバータ回路の入力端にはアドレス信号が入力される。
そして、転送ゲート回路TG1の出力端とクロックドイ
ンバータ回路CV1の出力端の接続点からは比較結果を
示す信号FCOMPnjが出力される。
FIG. 9 shows a circuit configuration of the clocked inverter circuit CV1. This clocked inverter circuit C
At V1, the output signal FL of the first output terminal of the fuse latch circuit is applied to the clock gate of the pMOS transistor PT3.
ATnj is input, and the output signal bFLATnj of the second output terminal of the fuse latch circuit is input to the clock gate of the nMOS transistor NT3. Further, an address signal is input to an input terminal of an inverter circuit including the pMOS transistor PT4 and the nMOS transistor NT4.
Then, a signal FCOMPnj indicating a comparison result is output from a connection point between the output terminal of the transfer gate circuit TG1 and the output terminal of the clocked inverter circuit CV1.

【0056】前記比較回路では、ヒューズラッチ回路の
第1出力端がVssレベルで第2出力端がVccレベルの場
合、すなわちヒューズラッチ回路のヒューズF1が切断
されていない場合には、転送ゲート回路TG1が非活性
化され、クロックドインバータ回路CV1が活性化され
て、常にアドレス信号の反転状態が比較結果信号FCOMPn
jとして出力される。
In the comparison circuit, when the first output terminal of the fuse latch circuit is at the Vss level and the second output terminal is at the Vcc level, that is, when the fuse F1 of the fuse latch circuit is not blown, the transfer gate circuit TG1 Is deactivated, the clocked inverter circuit CV1 is activated, and the inverted state of the address signal is always changed to the comparison result signal FCOMPn.
Output as j.

【0057】一方、前記ヒューズラッチ回路の第1出力
端がVccレベルで第2出力端がVssレベルの場合、すな
わち前記ヒューズラッチ回路のヒューズF1が切断され
ている場合には、転送ゲート回路TG1が活性化され、
クロックドインバータ回路CV1が非活性化されて、常
にアドレス信号がそのまま比較結果信号FCOMPnjとして
出力される。
On the other hand, when the first output terminal of the fuse latch circuit is at the Vcc level and the second output terminal is at the Vss level, that is, when the fuse F1 of the fuse latch circuit is cut, the transfer gate circuit TG1 is turned off. Activated,
The clocked inverter circuit CV1 is inactivated, and the address signal is always output as it is as the comparison result signal FCOMPnj.

【0058】つまり、アドレス信号A0〜Anのそれぞ
れに対応するヒューズラッチ回路41-0〜41-nでは、前記
のヒューズF1が切断されていない場合には、アドレス
信号がVssレベルのときに比較結果信号FCOMPnjがVcc
レベルとなり、ヒューズが切断されている場合には、ア
ドレス信号がVccレベルのときに比較結果信号FCOMPnj
がVccレベルとなる。
That is, in the fuse latch circuits 41-0 to 41-n corresponding to the address signals A0 to An, if the fuse F1 is not cut, the comparison result is obtained when the address signal is at the Vss level. Signal FCOMPnj is Vcc
Level, and when the fuse is blown, the comparison result signal FCOMPnj when the address signal is at the Vcc level.
Becomes the Vcc level.

【0059】次に、冗長ワード線選択回路内の前記論理
回路の詳細について説明する。
Next, details of the logic circuit in the redundant word line selection circuit will be described.

【0060】図10は、前記論理回路の構成を示す回路
図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a configuration of the logic circuit.

【0061】前記論理回路45は、図10に示すよう
に、複数の入力端を有するNAND回路ND1と、入力
端が前記NAND回路ND1の出力端に接続され、出力
端が冗長ワード線の活性化を指示する信号RWLEjとなる
インバータ回路IV6から構成される。
As shown in FIG. 10, the logic circuit 45 has a NAND circuit ND1 having a plurality of input terminals, an input terminal connected to an output terminal of the NAND circuit ND1, and an output terminal activating a redundant word line. RWLEj.

【0062】前記NAND回路ND1には、1本のワー
ド線を選択する際に必要なアドレス数に2を加えた数の
入力端があり、前記アドレス数分ある比較回路44-0〜44
-nの比較結果信号FCOMP0j〜FCOMPnjと、前記イネーブル
ヒューズラッチ回路42の出力信号FENBLjと、前記ディ
スエイブルヒューズラッチ回路43の出力信号bFDISjと
が入力される。NAND回路ND1に入力されるこれら
の信号が全てにVccレベルであるときのみ、前記論理回
路から出力される冗長ワード線の活性化を指示する信号
RWLEjはVccレベルとなる。
The NAND circuit ND1 has input terminals of the number obtained by adding 2 to the number of addresses required to select one word line, and the comparison circuits 44-0 to 44 corresponding to the number of addresses.
-n comparison result signals FCOMP0j to FCOMPnj, the output signal FENBLj of the enable fuse latch circuit 42, and the output signal bFDISj of the disable fuse latch circuit 43 are input. A signal instructing activation of a redundant word line output from the logic circuit only when all of these signals input to NAND circuit ND1 are at Vcc level.
RWLEj is at the Vcc level.

【0063】このように構成された冗長制御回路14の
動作を説明する。
The operation of the thus configured redundancy control circuit 14 will be described.

【0064】前記冗長制御回路14では、冗長ワード線
選択回路内のディスエイブルヒューズラッチ回路43の
出力信号bFDISjが、論理回路を構成するNAND回路N
D1の入力端に入力される。このため、ディスエイブル
ヒューズラッチ回路43のヒューズF2が切断されてい
ない場合、すなわち出力信号bFDISjとしてVccレベルが
出力されている場合、冗長制御回路14は、図18に示
す従来の回路と全く同じ動作をすることになる。
In the redundancy control circuit 14, the output signal bFDISj of the disable fuse latch circuit 43 in the redundancy word line selection circuit is connected to the NAND circuit N constituting a logic circuit.
It is input to the input terminal of D1. Therefore, when the fuse F2 of the disable fuse latch circuit 43 is not blown, that is, when the Vcc level is output as the output signal bFDISj, the redundancy control circuit 14 operates in exactly the same manner as the conventional circuit shown in FIG. Will do.

【0065】しかし、一旦、ヒューズF2が切断される
と、すなわち常に出力信号bFDISjとしてVssレベルが出
力される状態になると、他のヒューズラッチ回路の状態
やアドレス信号の状態に係わらず、論理回路45の出力
信号RWLEj、すなわち冗長ワード線の活性化を指示する
信号は常にVssレベルとなる。この結果、ヒューズF2
が切断されたディスエイブルヒューズラッチ回路43を
有する冗長ワード線選択回路(ヒューズセット)に対応
する冗長ワード線は、もはや2度と使用できなくなる。
However, once the fuse F2 is cut, that is, when the Vss level is always output as the output signal bFDISj, regardless of the state of the other fuse latch circuits and the state of the address signal, the logic circuit 45 is switched off. RWLEj, that is, a signal instructing activation of the redundant word line is always at the Vss level. As a result, the fuse F2
The redundant word line corresponding to the redundant word line selection circuit (fuse set) having the disabled fuse latch circuit 43 whose fuse has been cut off can no longer be used again.

【0066】以上により、通常はこのディスエイブルヒ
ューズラッチ回路43のヒューズF2を切断しないが、
置き換えに使用した冗長メモリセルが不良状態となった
ときに、この冗長メモリセルに対応するディスエイブル
ヒューズラッチ回路43のヒューズF2を切断する。こ
うして不良の冗長メモリセルを使用不可能にした上で、
改めて本来置き換えを行わなければならない不良メモリ
セルを、別の未使用の冗長メモリセルに置き換える。こ
のような置き換えを行うことにより、前記半導体記憶装
置の歩留まりを向上させることができる。
As described above, although the fuse F2 of the disable fuse latch circuit 43 is not normally cut,
When the redundant memory cell used for replacement becomes defective, the fuse F2 of the disable fuse latch circuit 43 corresponding to the redundant memory cell is blown. After making the defective redundant memory cell unusable,
A defective memory cell which should be replaced anew is replaced with another unused redundant memory cell. By performing such replacement, the yield of the semiconductor memory device can be improved.

【0067】また、置き換えを行う前の冗長メモリセル
のテストにより不良であることがわかったときに、不良
の冗長メモリセルに対応するディスエイブルヒューズラ
ッチ回路43のヒューズF2を切断し、この不良の冗長
メモリセルを2度と使用できなくする。このように冗長
制御回路自体にテスト結果を記憶させることにより、テ
スト結果を外部に記憶させておく必要がなくなり、作業
効率を向上させることができる。
When a test of a redundant memory cell before replacement is found to be defective, the fuse F2 of the disable fuse latch circuit 43 corresponding to the defective redundant memory cell is cut off, and Making the redundant memory cell unusable again. By storing the test results in the redundancy control circuit itself in this way, it is not necessary to store the test results externally, and the work efficiency can be improved.

【0068】以上説明したようにこの第1の実施の形態
によれば、冗長回路に冗長メモリセルの使用を不可能に
する機能を追加することにより、冗長回路自体にテスト
結果を記憶させることができ、さらに一旦使用すること
になった冗長メモリセルに不良が生じた場合でも、その
メモリセルを使用不可能にし、未使用の正常な冗長メモ
リセルに置き換え直すことを可能にして、歩留まりを向
上させることができる半導体記憶装置を提供することが
可能である。
As described above, according to the first embodiment, the test result can be stored in the redundant circuit itself by adding the function of disabling the use of the redundant memory cell to the redundant circuit. Even if a redundant memory cell that is once used becomes defective, it can be disabled and replaced with an unused normal redundant memory cell to improve the yield. It is possible to provide a semiconductor memory device that can be operated.

【0069】なお、前記第1の実施の形態では、冗長メ
モリセルに対応する冗長ワード線を使用不可能にする場
合を説明したが、冗長メモリセルに対応する冗長ビット
線対に対しても同様の手法にて使用不可能にすることが
できる。
In the first embodiment, the case where the redundant word line corresponding to the redundant memory cell is disabled has been described. However, the same applies to the redundant bit line pair corresponding to the redundant memory cell. It can be made unusable by the method of.

【0070】次に、前記第1の実施の形態の変形例とし
て、アドレス信号が供給される比較回路の入力部の前段
に、インバータ回路を追加してアドレス信号が供給され
る信号線(アドレス)から見た容量が一定になるような
回路構成としてもよい。その他の構成は、前記第1の実
施の形態と同様である。
Next, as a modification of the first embodiment, a signal line (address) to which an address signal is supplied by adding an inverter circuit in front of an input section of a comparison circuit to which an address signal is supplied. The circuit configuration may be such that the capacitance seen from the viewpoint becomes constant. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

【0071】図11に示すように、各冗長メモリセルを
選択するための冗長ワード線RWL0〜RWLjごとに
対応するヒューズセット0〜ヒューズセットjが存在
し、アドレスA0〜Anがそれぞれのヒューズセットに
入力される方式の場合、ヒューズF1を切断するかまた
は切断しないか(転送ゲート回路TG1が活性化または
クロックドインバータCV1が活性化)で、アドレス線
から見た容量は異なる。すなわち、転送ゲート回路TG
1が活性化されているときは、その後段の多数の入力端
を持つNAND回路ND1のゲート容量も付加される。
As shown in FIG. 11, there are fuse sets 0 to fuse set j corresponding to redundant word lines RWL0 to RWLj for selecting each redundant memory cell, and addresses A0 to An are assigned to the respective fuse sets. In the case of the input method, the capacity seen from the address line differs depending on whether the fuse F1 is cut or not (the transfer gate circuit TG1 is activated or the clocked inverter CV1 is activated). That is, the transfer gate circuit TG
When 1 is activated, the gate capacitance of the NAND circuit ND1 having many input terminals at the subsequent stage is also added.

【0072】このような容量の変化は、アドレス線が接
続される個所が1つであるならば、実質的に気にならな
いはずである。しかし、この方式のように複数個所に1
本のアドレス線が接続されているときは、1個所での容
量の変化が小さくても、複数個所ではそれらを合わせた
ものとなるため、無視できなくなる。
Such a change in the capacitance should be substantially unnoticeable if only one address line is connected. However, as in this method, one
When a single address line is connected, even if the change in capacitance at one location is small, it is not negligible because it is the sum of the changes at multiple locations.

【0073】例えば、アドレス線が接続される個所が1
つであるとして、クロックドインバータ回路CV1が活
性化されている場合にはアドレス線に付加される容量が
10fF、一方、転送ゲート回路TG1が活性化されて
いる場合にはその後段のゲート容量5fFも加算されて
計15fFであるとする。
For example, if the address line is connected to 1
If the clocked inverter circuit CV1 is activated, the capacitance added to the address line is 10 fF, while if the transfer gate circuit TG1 is activated, the gate capacitance of the subsequent stage is 5 fF. Is also added, so that the total is 15 fF.

【0074】この場合、一個所での容量差はたった5f
Fだが、チップ全体で100本の冗長ワード線が存在す
る(1つのアドレス線が100個所に接続される)場合
を考えてみる。ここで、仮にアドレスA0は対応するヒ
ューズF1が全て切断され、アドレスA1はヒューズF
1が全て切断されていないとする。すると、A0のアド
レス線には15fF×100=1.5pF、A1のアド
レス線には10fF×100=1pFの容量が付加され
る。このとき、容量の差は0.5pFとなり、もはや無
視できないものとなる。
In this case, the capacitance difference at one location is only 5f
F, but consider the case where there are 100 redundant word lines in the entire chip (one address line is connected to 100 locations). Here, suppose that the fuse A1 corresponding to the address A0 is completely cut and the fuse A1 is
It is assumed that all 1s are not cut. Then, a capacitance of 15 fF × 100 = 1.5 pF is added to the address line of A0, and a capacitance of 10 fF × 100 = 1 pF is added to the address line of A1. At this time, the difference in capacitance is 0.5 pF, which can no longer be ignored.

【0075】これを解決するために、図12に示すよう
に、前記転送ゲート回路TG1及びクロックドインバー
タ回路CV1の前段に2つのインバータ回路IV71、
IV72を追加し、ヒューズ切断の影響がアドレス線に
及ばないようにする。また、これらインバータ回路を入
れることで、1個所あたりでの付加される容量が削減で
きる。
In order to solve this, as shown in FIG. 12, two inverter circuits IV71, IV71 are provided before the transfer gate circuit TG1 and the clocked inverter circuit CV1.
An IV 72 is added so that the fuse blowing does not affect the address lines. Further, by adding these inverter circuits, the added capacity per one place can be reduced.

【0076】すなわち、インバータ回路が無い場合に
は、クロックドインバータ回路CV1と転送ゲート回路
TG1で生じる容量がアドレス線に付加されるが、イン
バータ回路を追加した場合には、アドレス線にそのイン
バータ回路のみの容量しか付加されなくなる。複数個所
でこのように容量を削減できるため、その削減効果は大
きなものとなる。このように、インバータ回路を追加す
ることにより、アドレス線から見た(アドレス線に付加
される)容量を一定することができる。その他の作用及
び効果については、前記第1の実施の形態と同様であ
る。
That is, when there is no inverter circuit, the capacitance generated by the clocked inverter circuit CV1 and the transfer gate circuit TG1 is added to the address line. When an inverter circuit is added, the inverter circuit is added to the address line. Only capacity is added. Since the capacity can be reduced at a plurality of locations in this way, the effect of the reduction is significant. In this way, by adding the inverter circuit, the capacity seen from the address line (added to the address line) can be made constant. Other functions and effects are the same as those of the first embodiment.

【0077】以上説明したようにこの第1の実施の形態
の変形例によれば、冗長回路に冗長メモリセルの使用を
不可能にする機能を追加することにより、冗長回路自体
にテスト結果を記憶させることができ、さらに一旦使用
することになった冗長メモリセルに不良が生じた場合で
も、そのメモリセルを使用不可能にし、未使用の正常な
冗長メモリセルに置き換え直すことを可能にして、歩留
まりを向上させることができる半導体記憶装置を提供す
ることが可能である。
As described above, according to the modification of the first embodiment, the function of disabling the use of the redundant memory cell is added to the redundant circuit, so that the test result is stored in the redundant circuit itself. Even if a redundant memory cell that has been used once becomes defective, the memory cell can be disabled and replaced with an unused normal redundant memory cell. It is possible to provide a semiconductor memory device capable of improving the yield.

【0078】さらに、アドレス信号が供給される比較回
路の入力部の前段に、インバータ回路を追加することに
より、アドレス線に付加される容量を一定に削減するこ
とができる。
Further, by adding an inverter circuit before the input section of the comparison circuit to which the address signal is supplied, the capacity added to the address line can be reduced to a certain level.

【0079】[第2の実施の形態]次に、この発明の第
2の実施の形態の半導体記憶装置について説明する。
[Second Embodiment] Next, a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention will be described.

【0080】メモリとロジックを混載する混載LSIで
は、用途によって必要となるメモリ容量が異なる。この
ため、メモリ容量が異なる混載LSIをいくつも設計し
なければならないが、メモリ容量を除きその他のロジッ
クや冗長回路などは共通に使用できる場合が少なくな
い。このような場合、メモリ部分のみを新規に設計し、
その他のロジックや冗長回路を共用できるようにすれ
ば、設計時の負担を軽減することができる。
In a mixed LSI in which a memory and a logic are mixed, the required memory capacity differs depending on the application. For this reason, it is necessary to design a number of embedded LSIs having different memory capacities. However, in many cases, other than the memory capacities, other logic and redundant circuits can be commonly used. In such a case, only the memory part is newly designed,
If other logics and redundant circuits can be shared, the burden on the design can be reduced.

【0081】この第2の実施の形態は、メモリ容量が異
なる複数の半導体装置に対し、冗長回路を共用して本発
明を適用した一例を示すものである。ここでは、容量が
2MBと1MBのメモリセルアレイに対し、同じ冗長回
路、同じ冗長メモリセルアレイを用いる場合を例に取り
説明する。
The second embodiment is an example in which the present invention is applied to a plurality of semiconductor devices having different memory capacities by sharing a redundant circuit. Here, a case where the same redundant circuit and the same redundant memory cell array are used for the memory cell arrays having a capacity of 2 MB and 1 MB will be described as an example.

【0082】図13は、2MBの容量を持つ半導体記憶
装置のメモリ部の簡単な構成を示す図である。図14
は、前記半導体記憶装置における冗長制御回路内の冗長
ワード線選択回路の構成を示すブロック図である。
FIG. 13 is a diagram showing a simple configuration of a memory portion of a semiconductor memory device having a capacity of 2 MB. FIG.
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a redundant word line selection circuit in a redundancy control circuit in the semiconductor memory device.

【0083】この半導体記憶装置では、メモリセルアレ
イ51内の正規のワード線WL0〜WL1023の各々
を区別するために、10ビットのアドレス信号A0〜A
9が必要となる。正規のワード線を冗長メモリセルアレ
イ52内の冗長ワード線RWL0〜RWL15に置き換
える場合に、置き換えたいワード線の情報を記録(プロ
グラム)するには当然10ビットのデータ(ヒューズ)
が必要である。よって、この冗長ワード線選択回路に
は、ヒューズラッチ回路41-0〜41-9が備えられ、これら
ヒューズラッチ回路41-0〜41-9に置き換えたいワード線
の情報が記録(プログラム)されている。その他の構成
は、ディスエイブルヒューズラッチ回路43を除いて図
3に示した冗長ワード線選択回路を有する半導体記憶装
置と同様である。
In this semiconductor memory device, in order to distinguish each of normal word lines WL0 to WL1023 in memory cell array 51, 10-bit address signals A0 to A10 are used.
9 is required. When the normal word line is replaced with the redundant word lines RWL0 to RWL15 in the redundant memory cell array 52, the information of the word line to be replaced is naturally recorded (programmed) by 10-bit data (fuse).
is necessary. Therefore, the redundant word line selection circuit is provided with fuse latch circuits 41-0 to 41-9, and the information of the word line to be replaced with these fuse latch circuits 41-0 to 41-9 is recorded (programmed). I have. Except for the disable fuse latch circuit 43, the other configuration is the same as that of the semiconductor memory device having the redundant word line selection circuit shown in FIG.

【0084】このように構成された前記2MBの半導体
記憶装置内の冗長制御回路を、1MBの半導体記憶装置
に用いる場合を説明する。
The case where the redundancy control circuit in the 2 MB semiconductor memory device thus configured is used for a 1 MB semiconductor memory device will be described.

【0085】図15は、1MBの容量を持つ半導体記憶
装置のメモリ部の簡単な構成を示す図である。図16
は、前記半導体記憶装置における冗長制御回路内の冗長
ワード線選択回路の構成を示すブロック図である。
FIG. 15 is a diagram showing a simple configuration of a memory section of a semiconductor memory device having a capacity of 1 MB. FIG.
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a redundant word line selection circuit in a redundancy control circuit in the semiconductor memory device.

【0086】1MBの半導体記憶装置では、メモリセル
アレイ53内の正規のワード線WL0〜WL511の各
々を区別するために9ビットのアドレス信号A0〜A8
があればよく、2MBの場合に用いていたA9はワード
線のデコードに用いられず不必要である。正規のワード
線を、冗長メモリセルアレイ54内の冗長ワード線RW
L0〜RWL15と置き換える際にも、9ビットのヒュ
ーズラッチ回路41-0〜41-8があればよく、A9に対応す
る10ビット目のヒューズラッチ回路41-9が余ってしま
う。このヒューズラッチ回路41-9と比較回路44-9を、図
16に示すように、ディスエイブルヒューズラッチ回路
55に利用する。
In a 1 MB semiconductor memory device, 9-bit address signals A0 to A8 are used to distinguish each of normal word lines WL0 to WL511 in memory cell array 53.
A9 used in the case of 2 MB is not used for decoding the word line and is unnecessary. The normal word line is connected to the redundant word line RW in the redundant memory cell array 54.
When replacing L0 to RWL15, 9-bit fuse latch circuits 41-0 to 41-8 only need to be provided, and the 10-bit fuse latch circuit 41-9 corresponding to A9 is left. The fuse latch circuit 41-9 and the comparison circuit 44-9 are used for a disable fuse latch circuit 55 as shown in FIG.

【0087】図17は、前記ディスエイブルヒューズラ
ッチ回路の構成を示す回路図である。このディスエイブ
ルヒューズラッチ回路は、前記ヒューズラッチ回路と前
記比較回路を接続した構成であり、本来はアドレスが入
力される比較回路部分の入力端にVssを供給することで
ディスエイブルヒューズラッチ回路として活用するもの
である。その他の構成は、図1に示した第1の実施の形
態の半導体記憶装置と同様である。
FIG. 17 is a circuit diagram showing a configuration of the disable fuse latch circuit. This disable fuse latch circuit has a configuration in which the fuse latch circuit and the comparison circuit are connected, and is originally used as a disable fuse latch circuit by supplying Vss to an input terminal of a comparison circuit portion to which an address is input. Is what you do. Other configurations are the same as those of the semiconductor memory device according to the first embodiment shown in FIG.

【0088】このように、第1のメモリ容量(2MB)
の半導体記憶装置でヒューズラッチ回路と比較回路に使
用していた回路を、第1のメモリ容量と異なる第2のメ
モリ容量(1MB)の半導体記憶装置でディスエイブル
ヒューズラッチ回路として利用すれば、新規に冗長制御
回路の設計作業を行う必要がなく、設計時の負担を軽減
することができる。
As described above, the first memory capacity (2 MB)
If the circuit used for the fuse latch circuit and the comparison circuit in the semiconductor memory device of the above is used as a disable fuse latch circuit in a semiconductor memory device of a second memory capacity (1 MB) different from the first memory capacity, Therefore, there is no need to carry out the design work of the redundant control circuit, and the burden on the design can be reduced.

【0089】[0089]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、冗長
回路に冗長メモリセルの使用を不可能にする機能を追加
することにより、予め行った冗長メモリセルのテスト結
果を冗長回路自体に記憶させることができ、さらに一旦
使用することになった冗長メモリセルに不良が生じた場
合でも、そのメモリセルを使用不可能にし、未使用の正
常な冗長メモリセルに置き換え直すことを可能にして、
歩留まりを向上させることができる半導体記憶装置を提
供することが可能である。
As described above, according to the present invention, by adding a function of disabling the use of a redundant memory cell to a redundant circuit, a test result of a redundant memory cell performed in advance is stored in the redundant circuit itself. Even if a redundant memory cell that has been used once becomes defective, the memory cell can be made unusable and replaced with an unused normal redundant memory cell. ,
It is possible to provide a semiconductor memory device capable of improving the yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の第1の実施の形態の半導体記憶装置
の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】前記半導体記憶装置に設けられた冗長制御回路
の構成を示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a redundancy control circuit provided in the semiconductor memory device.

【図3】前記冗長制御回路内の冗長ワード線選択回路の
構成を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a redundant word line selection circuit in the redundancy control circuit.

【図4】前記冗長ワード線選択回路内のヒューズラッチ
回路の構成を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a fuse latch circuit in the redundant word line selection circuit.

【図5】パワーオンの際に行われる初期シーケンスを示
すタイミングチャートである。
FIG. 5 is a timing chart showing an initial sequence performed at the time of power-on.

【図6】前記冗長ワード線選択回路内のイネーブルヒュ
ーズラッチ回路の構成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of an enable fuse latch circuit in the redundant word line selection circuit.

【図7】前記冗長ワード線選択回路内のディスエイブル
ヒューズラッチ回路の構成を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a disable fuse latch circuit in the redundant word line selection circuit.

【図8】前記冗長ワード線選択回路内の比較回路の構成
を示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of a comparison circuit in the redundant word line selection circuit.

【図9】前記比較回路内のクロックドインバータ回路の
構成を示す回路図である。
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of a clocked inverter circuit in the comparison circuit.

【図10】前記冗長ワード線選択回路内の論理回路の構
成を示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a configuration of a logic circuit in the redundant word line selection circuit.

【図11】前記冗長制御回路におけるアドレス線の接続
を示す回路図である。
FIG. 11 is a circuit diagram showing connection of address lines in the redundancy control circuit.

【図12】前記冗長制御回路におけるアドレス線から見
た容量が一定になる回路構成の一例を示す回路図であ
る。
FIG. 12 is a circuit diagram showing an example of a circuit configuration in which the capacitance as viewed from an address line in the redundancy control circuit is constant.

【図13】2MBの容量を持つ半導体記憶装置のメモリ
部の簡単な構成を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a simple configuration of a memory unit of a semiconductor storage device having a capacity of 2 MB.

【図14】前記半導体記憶装置における冗長制御回路内
の冗長ワード線選択回路の構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 14 is a block diagram showing a configuration of a redundant word line selection circuit in a redundancy control circuit in the semiconductor memory device.

【図15】1MBの容量を持つ半導体記憶装置のメモリ
部の簡単な構成を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a simple configuration of a memory unit of a semiconductor memory device having a capacity of 1 MB.

【図16】前記半導体記憶装置における冗長制御回路内
の冗長ワード線選択回路の構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 16 is a block diagram showing a configuration of a redundant word line selection circuit in a redundancy control circuit in the semiconductor memory device.

【図17】前記冗長ワード線選択回路内のディスエイブ
ルヒューズラッチ回路の構成を示す回路図である。
FIG. 17 is a circuit diagram showing a configuration of a disable fuse latch circuit in the redundant word line selection circuit.

【図18】従来の冗長回路の構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 18 is a block diagram showing a configuration of a conventional redundant circuit.

【図19】前記冗長回路内のヒューズラッチ回路の構成
を示す回路図である。
FIG. 19 is a circuit diagram showing a configuration of a fuse latch circuit in the redundant circuit.

【図20】前記冗長回路内の比較回路の構成を示す回路
図である。
FIG. 20 is a circuit diagram showing a configuration of a comparison circuit in the redundant circuit.

【図21】前記冗長回路内の論理回路の構成を示す回路
図である。
FIG. 21 is a circuit diagram showing a configuration of a logic circuit in the redundant circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…アドレスバッファ 12…行デコーダ 13…列デコーダ 14…冗長制御回路 15…ワード線ドライバ 16…I/Oゲート 17…冗長ワード線ドライバ 18…メモリセルアレイ 19…冗長メモリセルアレイ 20…センスアンプ 21…入力バッファ 22…出力バッファ 31-0、31-1、〜、31-j…冗長ワード線選択回路 32…NOR回路 41-0、41-1、〜、41-n…ヒューズラッチ回路 42…イネーブルヒューズラッチ回路 43…ディスエイブルヒューズラッチ回路 44-0、44-1、〜、44-n…比較回路 45…論理回路 51…メモリセルアレイ 52…冗長メモリセルアレイ 53…メモリセルアレイ 54…冗長メモリセルアレイ WL0、WL1、〜、WLi…ワード線 RWL0、RWL1、〜、RWLj…冗長ワード線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Address buffer 12 ... Row decoder 13 ... Column decoder 14 ... Redundancy control circuit 15 ... Word line driver 16 ... I / O gate 17 ... Redundant word line driver 18 ... Memory cell array 19 ... Redundant memory cell array 20 ... Sense amplifier 21 ... Input Buffer 22 Output buffer 31-0, 31-1, ..., 31-j Redundant word line selection circuit 32 NOR circuit 41-0, 41-1, ..., 41-n Fuse latch circuit 42 Enable fuse latch Circuit 43: Disable fuse latch circuit 44-0, 44-1,..., 44-n Comparison circuit 45: Logic circuit 51: Memory cell array 52: Redundant memory cell array 53: Memory cell array 54: Redundant memory cell array WL0, WL1, ..., WLi ... word lines RWL0, RWL1, ..., RWLj ... redundant word lines

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉田 宗博 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 Fターム(参考) 5L106 CC04 CC17 CC31 CC38 EE02 EE07 GG05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Munehiro Yoshida 1st address, Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term in the Toshiba Microelectronics Center Co., Ltd. 5L106 CC04 CC17 CC31 CC38 EE02 EE07 GG05

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】データを記憶するために通常使用されるエ
レメントと、 前記エレメントが不良エレメントである場合に、代わり
に使用される予備エレメントと、 プログラム可能な読み出し専用記憶部に記憶されるアド
レスと外部から入力されるアドレスの比較結果に応じ
て、前記エレメントと前記予備エレメントのいずれを使
用するかを選択する冗長制御回路とを具備し、 前記冗長制御回路は、前記予備エレメントを使用不可能
にする機能を有することを特徴とする半導体記憶装置。
An element commonly used to store data; a spare element used instead if the element is a bad element; and an address stored in a programmable read-only memory. A redundancy control circuit that selects which of the element and the spare element to use in accordance with a comparison result of an address input from the outside, wherein the redundancy control circuit disables the spare element A semiconductor memory device having a function of performing
【請求項2】前記予備エレメントを使用不可能にする機
能は、前記予備エレメントを不良エレメントと置き換え
る以前に機能させる事ができることを特徴とする請求項
1に記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the function of disabling the spare element can be performed before replacing the spare element with a defective element.
【請求項3】前記予備エレメントを使用不可能にする機
能は、前記予備エレメントを不良エレメントと置き換え
た後に機能させる事ができることを特徴とする請求項1
に記載の半導体記憶装置。
3. The function of making the spare element unusable can be performed after the spare element is replaced with a defective element.
3. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項4】前記予備エレメントを使用不可能にする機
能は、前記予備エレメントを不良エレメントと置き換え
る以前、置き換えた後のいずれでも機能させる事ができ
ることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory according to claim 1, wherein the function of disabling the spare element can be performed before or after replacing the spare element with a defective element. apparatus.
【請求項5】前記予備エレメントを使用不可能にする機
能は、前記予備エレメントごとに設けられていることを
特徴とする請求項1乃至4のいずれか1つに記載の半導
体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the function of disabling the spare element is provided for each spare element.
【請求項6】前記エレメントはメモリセルに対応する1
本または複数のワード線であり、前記予備エレメントは
冗長メモリセルに対応する1本または複数の冗長ワード
線であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1
つに記載の半導体記憶装置。
6. An element according to claim 1, wherein said element corresponds to a memory cell.
6. The memory device according to claim 1, wherein the spare element is one or a plurality of redundant word lines corresponding to a redundant memory cell.
6. A semiconductor memory device according to any one of the preceding claims.
【請求項7】前記エレメントはメモリセルに対応する1
対または複数対のビット線対であり、前記予備エレメン
トは冗長メモリセルに対応する1対または複数対の冗長
ビット線対であることを特徴とする請求項1乃至5のい
ずれか1つに記載の半導体記憶装置。
7. The device according to claim 1, wherein said element corresponds to a memory cell.
6. A pair or a plurality of pairs of bit lines, wherein the spare element is one or a plurality of pairs of redundant bit lines corresponding to a redundant memory cell. Semiconductor storage device.
【請求項8】前記プログラム可能な読み出し専用記憶部
は、ヒューズであることを特徴とする請求項1に記載の
半導体記憶装置。
8. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said programmable read-only memory is a fuse.
【請求項9】前記プログラム可能な読み出し専用記憶部
は、パッケージング後においても記憶情報の変更が可能
であることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装
置。
9. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said programmable read-only storage section can change storage information even after packaging.
【請求項10】前記プログラム可能な読み出し専用記憶
部は、電気的に回路の接続状態を変更できる電気ヒュー
ズであることを特徴とする請求項9に記載の半導体記憶
装置。
10. The semiconductor memory device according to claim 9, wherein said programmable read-only memory is an electric fuse capable of electrically changing a connection state of a circuit.
【請求項11】容量の異なる2種類以上の半導体記憶装
置に対し、同じ冗長制御回路および同じ予備エレメント
を採用する際、容量が最も大きい半導体記憶装置でのみ
活用され、それ以外の半導体記憶装置では使用しないア
ドレスに対応するプログラム可能な読み出し専用記憶部
を、前記それ以外の半導体記憶装置において、前記予備
エレメントを使用不可能にする手段として用いることを
特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
11. When the same redundancy control circuit and the same spare element are employed for two or more types of semiconductor memory devices having different capacities, only the semiconductor memory device having the largest capacity is used. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a programmable read-only memory corresponding to an unused address is used as means for disabling the spare element in the other semiconductor memory devices. .
【請求項12】前記冗長制御回路において、アドレスが
供給される信号線に付加される寄生容量は前記プログラ
ム可能な読み出し専用記憶部に不良エレメントのアドレ
スを記憶する前後で一定であることを特徴とする請求項
1乃至11のいずれか1つに記載の半導体記憶装置。
12. The redundancy control circuit, wherein a parasitic capacitance added to a signal line to which an address is supplied is constant before and after storing an address of a defective element in the programmable read-only storage unit. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項13】前記半導体記憶装置は、前記予備エレメ
ントを試験する手段を具備することを特徴とする請求項
1乃至12のいずれか1つに記載の半導体記憶装置。
13. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said semiconductor memory device includes means for testing said spare element.
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