JP2001066810A - Electrophotographic photoreceptor - Google Patents
Electrophotographic photoreceptorInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は有機電子写真感光体
に関し、詳しくは、電子写真複写機、プリンターなどに
用いられる電子写真感光体に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electrophotographic photosensitive member, and more particularly, to an electrophotographic photosensitive member used for an electrophotographic copying machine, a printer, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】複写機、ファクシミリ、レーザープリン
タ、ダイレクトデジタル製版機等に応用されている電子
写真感光体を用いた電子写真方法とは、少なくとも電子
写真感光体に帯電、画像露光、現像の過程を経た後、画
像保持体(転写紙)へのトナー画像の転写、定着及び電
子写真感光体表面のクリーニングというプロセスよりな
る方法である。2. Description of the Related Art An electrophotographic method using an electrophotographic photosensitive member applied to a copying machine, a facsimile, a laser printer, a direct digital plate making machine, etc. is at least a process of charging, image exposing, and developing the electrophotographic photosensitive member. After that, the toner image is transferred to an image carrier (transfer paper), fixed, and the surface of the electrophotographic photosensitive member is cleaned.
【0003】電子写真感光体が、この電子写真法におい
て要求される基本的な特性としては 暗所で適当な電位に帯電できること 暗所に於いて電荷の散逸が少ないこと 光照射によって速やかに電荷を散逸できること 等が挙げられる。The basic characteristics required of an electrophotographic photoreceptor in this electrophotographic method include that it can be charged to an appropriate potential in a dark place and that there is little dissipation of electric charge in a dark place. It can be dissipated.
【0004】更にこれらの特性以外に画質特性等の長期
信頼性や低公害性、コストの低さ等も要求される。従
来、電子写真方式に於いて使用される感光体としては導
電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とする光
導電層を設けたもの、酸化亜鉛・硫化カドミウム等の無
機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの、及び
非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般的に知られ
ているが、近年ではコストの低さ、感光体設計の自由度
の高さ、無公害性等から有機系感光体が広く利用される
ようになってきている。Further, in addition to these characteristics, long-term reliability such as image quality characteristics, low pollution, and low cost are required. Conventionally, as a photoreceptor used in the electrophotographic method, a photoconductive layer mainly composed of selenium or a selenium alloy is provided on a conductive support, and an inorganic photoconductive material such as zinc oxide and cadmium sulfide is used. Those dispersed in a binder and those using an amorphous silicon-based material are generally known, but in recent years, the cost is low, the degree of freedom in photoconductor design is high, and there is no pollution. For this reason, organic photoconductors have been widely used.
【0005】有機系の電子写真感光体には、ポリビニル
カルバゾール(PVK)に代表される光導電性樹脂、P
VK−TNF(2,4,7−トリニトロフルオレノン)
に代表される電荷移動錯体型、フタロシアニン−バイン
ダーに代表される顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送
物質とを組み合わせて用いる機能分離型の感光体などが
知られており、特に機能分離型の感光体が注目されてい
る。[0005] Organic electrophotographic photoreceptors include a photoconductive resin represented by polyvinyl carbazole (PVK), P
VK-TNF (2,4,7-trinitrofluorenone)
A charge-transfer complex type represented by, a pigment dispersion type represented by a phthalocyanine-binder, a function-separated type photoconductor using a combination of a charge-generating substance and a charge-transporting substance, and the like are known. Photoreceptors are receiving attention.
【0006】この機能分離型の感光体における静電潜像
形成のメカニズムは、感光体を帯電した後光照射する
と、光は透明な電荷輸送層を通過し、電荷発生層中の電
荷発生物質により吸収され、光を吸収した電荷発生物質
は電荷担体を発生し、この電荷担体は電荷輸送層に注入
され、帯電によって生じている電界にしたがって電荷輸
送層中を移動し、感光体表面の電荷を中和することによ
り静電潜像を形成するものである。機能分離型感光体に
おいては、主に紫外部に吸収を持つ電荷輸送物質と、主
に可視部に吸収を持つ電荷発生物質とを組み合わせて用
いることが知られており、かつ有用である。The mechanism of the formation of an electrostatic latent image in a function-separated type photoreceptor is that, when the photoreceptor is charged and irradiated with light, the light passes through a transparent charge transport layer and is charged by the charge generating substance in the charge generation layer. The absorbed charge-generating substance, which has absorbed light, generates charge carriers, which are injected into the charge-transporting layer, move in the charge-transporting layer in accordance with the electric field generated by the charging, and charge the photoreceptor surface. The latent image is formed by neutralization. In a function-separated type photoreceptor, it is known and useful to use a charge transport material having absorption mainly in the ultraviolet region and a charge generation material having absorption mainly in the visible region.
【0007】ところが、電子写真方法に用いられる有機
系電子写真感光体の電荷輸送物質は多くが低分子化合物
として開発されており、低分子化合物は単独で成膜性が
ないため、通常、不活性高分子に分散・混合して用いら
れる。しかるに、低分子電荷輸送物質と不活性高分子か
らなる電荷輸送層は一般に柔らかく、電子写真プロセス
において繰り返し使用された場合に現像システムやクリ
ーニングシステムによる機械的な感光体表面への負荷に
より膜削れを生じやすいという耐摩耗性の低さが短所と
して挙げられる。However, most of the charge transporting materials of the organic electrophotographic photoreceptor used in the electrophotographic method have been developed as low molecular weight compounds, and since the low molecular weight compounds alone do not have a film forming property, they are usually inactive. It is used by being dispersed and mixed in a polymer. However, the charge transport layer composed of a low-molecular charge transport material and an inert polymer is generally soft, and when repeatedly used in an electrophotographic process, the film is abraded by a mechanical load on the photoreceptor surface by a developing system or a cleaning system. A disadvantage is the low abrasion resistance, which tends to occur.
【0008】更に、この構成の電荷輸送層は電荷移動度
に限界があり、電子写真プロセスの高速化あるいは小型
化の障害となっていた。これは通常低分子電荷輸送物質
の含有量が50重量%以下で使用されることに起因して
いる。即ち低分子電荷輸送物質の含有量を増すことで確
かに電荷移動度は上げられるが、このとき逆に製膜性や
耐摩耗性が劣化するためである。Further, the charge transport layer of this structure has a limit in charge mobility, which has been an obstacle to speeding up or miniaturizing the electrophotographic process. This is due to the fact that the content of the low-molecular charge transporting substance is usually used at 50% by weight or less. That is, the charge mobility can be certainly increased by increasing the content of the low-molecular charge transport material, but at the same time, the film-forming property and the abrasion resistance deteriorate.
【0009】この有機系感光体の特性を改善する技術と
して有機系感光体のバインダー樹脂を改良したもの(特
開平5−216250公報)や高分子型の電荷輸送物質
(特開昭51−73888号公報、特開昭54−852
7号公報、特開昭54−11737号公報、特開昭56
−150749号公報、特開昭57−78402号公
報、特開昭63−285552号公報、特開平64−1
728号公報、特開平64−13061号公報、特開平
64−19049号公報、特開平3−50555号公
報、特開平4−175337号公報、特開平4−225
014号公報、特開平4−230767号公報、特開平
5−232727号公報、特開平5−310904号公
報等)が注目され開示されている。As a technique for improving the characteristics of the organic photoreceptor, a technique in which a binder resin of the organic photoreceptor is improved (JP-A-5-216250) and a polymer type charge transport material (JP-A-51-73888). Gazette, JP-A-54-852
7, JP-A-54-11737, JP-A-56
JP-A-150749, JP-A-57-78402, JP-A-63-285552, JP-A-64-1
728, JP-A-64-13061, JP-A-64-19049, JP-A-3-50555, JP-A-4-175337, JP-A-4-225
No. 014, JP-A-4-230767, JP-A-5-232727, JP-A-5-310904 and the like have been noticed and disclosed.
【0010】上記公報において、電荷輸送層のバインダ
ー樹脂を改良したものは低分子電荷輸送物質の組成分割
合から著しい耐摩耗性の向上が発揮されない。一方、高
分子型電荷輸送物質を用いたものは電荷輸送層成分をほ
とんど高分子化したことにより膜削れの改善がみられる
が、用いる高分子電荷輸送物質の構造により効果が著し
く低下し期待される耐久性が得られないことがある。In the above publication, the improved binder resin of the charge transporting layer does not exhibit remarkable improvement in abrasion resistance due to the composition ratio of the low molecular charge transporting substance. On the other hand, in the case of using the polymer type charge transporting material, the film abrasion is improved because the charge transporting layer component is almost polymerized, but the effect is expected to be significantly reduced depending on the structure of the polymer charge transporting material used. Endurance may not be obtained.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高性能、長
寿命、高信頼性を高いレベルで達成する有機系電子写真
用感光体を提供することであり、特に画質再現性、耐摩
耗性に優れ、耐久性及び光感度に優れた有機系電子写真
用感光体を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an organic electrophotographic photoreceptor which achieves high performance, long life, and high reliability at a high level. It is an object of the present invention to provide an organic electrophotographic photoreceptor which is excellent in durability and photosensitivity.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明者らが上記目的に
対し鋭意検討を重ねた結果、導電性支持体上に少なくと
も感光層を有する電子写真感光体において、この感光層
が少なくとも高分子電荷輸送物質を含有し、且つこの高
分子電荷輸送物質が高分子電荷輸送物質全分子量の30
重量%以上、70重量%以下の電荷輸送構造を有するこ
とにより、前記目的が達成できることが発見され本発明
に到った。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies on the above objects by the present inventors, in an electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer on a conductive support, this photosensitive layer has at least a polymer charge. The polymer charge transport material has a total molecular weight of 30.
It has been discovered that the above object can be achieved by having a charge transport structure of not less than 70% by weight and not more than 70% by weight, and the present invention has been accomplished.
【0013】また、上記高分子電荷輸送物質の重合構造
としてポリカーボネート、ポリウレタン、ポリエステ
ル、ポリエーテルが有用であり、中でも特に電荷輸送構
造としてトリアリールアミン構造を有するポリカーボネ
ートが良好であることが明らかとなった。Further, it is clear that polycarbonate, polyurethane, polyester and polyether are useful as the polymerized structure of the high molecular charge transporting material, and particularly preferable is a polycarbonate having a triarylamine structure as the charge transporting structure. Was.
【0014】従来の電子写真感光体は、光減衰の感度の
制約から低分子電荷輸送物質を高分子樹脂バインダー中
に50重量%程度分散させた電荷輸送層を表層に用いて
おり、このため繰り返し使用における膜削れが生じやす
いと言う欠点を有している。この電荷輸送層の摩耗によ
り感光体の帯電電位の低下、異常画像の発生が問題とな
っている。これに対し、近年高分子電荷輸送物質を感光
層の主成分とする検討がなされてきた。これにより感光
層中に多量の低分子成分(従来の低分子電荷輸送物質)
を含有させる必要がなく、感光層の強度の向上にともな
う膜削れの低減がなされた。しかし、用いる高分子電荷
輸送物質の構造により効果が著しく低下し期待される耐
久性が得られない状況が発生していた。A conventional electrophotographic photoreceptor uses a charge transport layer in which a low-molecular charge transport material is dispersed in a polymer resin binder by about 50% by weight due to the restriction of the sensitivity of light attenuation. It has a drawback that film shaving is likely to occur during use. Due to the abrasion of the charge transport layer, there is a problem that the charge potential of the photoreceptor decreases and an abnormal image is generated. On the other hand, in recent years, studies have been made to use a polymer charge transport material as a main component of the photosensitive layer. As a result, a large amount of low molecular components (conventional low molecular charge transport material)
Need not be contained, and film abrasion accompanying the improvement in the strength of the photosensitive layer has been reduced. However, there has been a situation in which the effect is significantly reduced due to the structure of the polymer charge transporting material used, and the expected durability cannot be obtained.
【0015】本発明では上記問題に対し鋭意検討した結
果、感光層に用いられる高分子電荷輸送物質の構造の中
で、電荷輸送構造の占める割合が耐摩耗性に対して重要
な因子であり、高分子電荷輸送物質中の電荷輸送構造を
高分子電荷輸送物質全分子量の30重量%以上、70重
量%以下することにより耐摩耗性に優れた高性能、長寿
命な感光体が得られることが見いだされた。In the present invention, as a result of intensive studies on the above problem, the proportion of the charge transport structure in the structure of the polymer charge transport material used in the photosensitive layer is an important factor for abrasion resistance. By setting the charge transport structure in the polymer charge transporting material to 30% by weight or more and 70% by weight or less of the total molecular weight of the polymer charge transporting material, a high-performance, long-life photoreceptor having excellent wear resistance can be obtained. Was found.
【0016】感光層は電荷輸送上の制約から一定以上の
移動度が必要があり、移動度が低いと感度低下、繰り返
し使用時の露光部電位の蓄積が生じ、画像濃度低下等の
複写品質の劣化が発生する。感光層中では電荷は電荷輸
送構造間をホッピングにより移動していくため移動度は
電荷輸送構造の濃度に依存する。従って安定した光減衰
特性を長期間維持するためには感光層中の電荷輸送構造
が一定量必要で、その量は感光層全量の約40重量%で
ある。本発明の高分子電荷輸送物質からなる感光層は低
分子電荷輸送物質を添加することが可能であるが、その
添加量が感光層全量の10%以上では著しく摩耗が増加
する。従って耐摩耗性と安定した光減衰特性を維持する
ためには、高分子電荷輸送物質中の電荷輸送構造は少な
くとも高分子電荷輸送物質全分子量の30重量%以上が
必要である。The photosensitive layer needs to have a certain level of mobility due to the restrictions on charge transport. If the mobility is low, the sensitivity is reduced, the potential of the exposed portion is repeatedly accumulated during repeated use, and the copy quality such as the image density is lowered. Deterioration occurs. In the photosensitive layer, the charge moves between the charge transport structures by hopping, so that the mobility depends on the concentration of the charge transport structures. Therefore, in order to maintain a stable light attenuation characteristic for a long period of time, a certain amount of the charge transport structure in the photosensitive layer is required, and the amount is about 40% by weight of the whole photosensitive layer. The photosensitive layer comprising the polymer charge transporting material of the present invention can be added with a low molecular weight charge transporting material. However, when the amount of addition is 10% or more of the total amount of the photosensitive layer, wear is significantly increased. Therefore, in order to maintain abrasion resistance and stable light attenuation characteristics, the charge transport structure in the polymer charge transport material needs to be at least 30% by weight or more of the total molecular weight of the polymer charge transport material.
【0017】一方、高分子電荷輸送物質中の電荷輸送構
造が非常に多い場合電荷の移動に関しては良好である
が、耐摩耗性において問題が発生する。高分子電荷輸送
構造中で嵩高い電荷輸送構造を有する繰り返し単位が非
常に多く存在すると感光層中に歪み、内部応力が増加
し、その結果膜削れが促進する。また、感光層の塗工上
の液粘度の制限から、繰り返し単位の分子量が増加する
と主鎖長が短くなり、感光層の剛性が低下し摩耗が増加
する。加えて、嵩高い電荷輸送性構造が多く存在すると
コロナ放電等で発生するオゾン、窒素酸化物が感光層内
部まで浸透しやすくなり、長期にわたる繰り返し使用で
帯電性低下による地肌汚れなどの異常画像が発生しやす
くなる。これらの点より、高分子電荷輸送物質中の電荷
輸送構造を高分子電荷輸送物質全分子量の70重量%以
下に抑えることが必要である。On the other hand, when the charge transport structure in the polymer charge transport material is very large, the charge transfer is good, but a problem arises in abrasion resistance. If there are too many repeating units having a bulky charge transport structure in the polymer charge transport structure, the photosensitive layer will be distorted and the internal stress will increase, and as a result, film scraping will be accelerated. Further, due to the limitation of the liquid viscosity in the coating of the photosensitive layer, when the molecular weight of the repeating unit increases, the length of the main chain becomes shorter, the rigidity of the photosensitive layer decreases, and the abrasion increases. In addition, if there are many bulky charge-transporting structures, ozone and nitrogen oxides generated by corona discharge etc. will easily penetrate into the photosensitive layer, and abnormal images such as background stains due to deterioration of chargeability due to repeated use over a long period of time. More likely to occur. From these points, it is necessary to suppress the charge transport structure in the polymer charge transport material to 70% by weight or less of the total molecular weight of the polymer charge transport material.
【0018】また、本発明において高分子電荷輸送物質
は電荷輸送層の主成分の一つであるため、それ自身で高
強度、強靱性を有している必要がある。この点で高分子
電荷輸送物質の重合構造としてポリカーボネート、ポリ
ウレタン、ポリエステル、ポリエーテルが良好であり、
その中でも特にポリカーボネートが最適である。In the present invention, since the polymer charge transporting material is one of the main components of the charge transporting layer, it needs to have high strength and toughness by itself. In this regard, polycarbonate, polyurethane, polyester, and polyether are preferable as the polymerized structure of the polymer charge transport material,
Among them, polycarbonate is particularly optimal.
【0019】また、高分子電荷輸送物質の機能として、
電荷発生物質から注入された電荷を高速に移動させる必
要がある。この電荷の移動が遅い場合、露光部電位が上
昇し画像濃度の低下が起こる。本発明では、高分子電荷
輸送物質の電荷輸送構造として高移動度構造単位である
トリアリールアミン構造を有することにより良好な画像
が継続して得られる。The function of the polymer charge transport material is
It is necessary to move the charge injected from the charge generating material at high speed. If the movement of the charges is slow, the potential of the exposed portion rises and the image density decreases. In the present invention, good images can be continuously obtained by having a triarylamine structure, which is a high-mobility structural unit, as the charge transport structure of the polymer charge transport material.
【0020】以上のようなことが見いだされ本発明に至
った。次に、本発明に用いられる高分子電荷輸送物質に
ついて述べる。高分子電荷輸送物質としては、一般的な
以下のような高分子物質を用いることができるThe above findings have been found, and the present invention has been accomplished. Next, the polymer charge transport material used in the present invention will be described. As the polymer charge transport material, the following general polymer materials can be used.
【0021】(a)カルバゾール環を有する重合体 例えば、ポリ−N−ビニルカルバゾール、特開昭50−
82056号公報、特開昭54−9632号公報、特開
昭54−11737号公報、特開平4−175337号
公報、特開平4−183719号公報、特開平6−23
4841号公報に記載の化合物等が例示される。(A) Polymer having a carbazole ring For example, poly-N-vinyl carbazole,
No. 82056, JP-A-54-9632, JP-A-54-11737, JP-A-4-175337, JP-A-4-183719, JP-A-6-23
Compounds described in JP-A-4841 are exemplified.
【0022】(b)ヒドラゾン構造を有する重合体 例えば、特開昭57−78402号公報、特開昭61−
20953号公報、特開昭61−296358号公報、
特開平1−134456号公報、特開平1−17916
4号公報、特開平3−180851号公報、特開平3−
180852号公報、特開平3−50555号公報、特
開平5−310904号公報、特開平6−234840
号公報に記載の化合物等が例示される。(B) Polymer having a hydrazone structure For example, JP-A-57-78402 and JP-A-61-78402
JP-A-20953, JP-A-61-296358,
JP-A-1-134456, JP-A-1-17916
No. 4, JP-A-3-180851, JP-A-3-180851
180852, JP-A-3-50555, JP-A-5-310904, JP-A-6-234840
And the like.
【0023】(c)トリアリールアミン構造を有する重
合体 例えば、N,N−ビス(4−メチルフェニル)−4−ア
ミノポリスチレン、特開平1−134457号公報、特
開平2−282264号公報、特開平2−304456
号公報、特開平4−133065号公報、特開平4−1
33066号公報、特開平5−40350号公報、特開
平5−202135号公報に記載の化合物等が例示され
る。(C) Polymer having triarylamine structure For example, N, N-bis (4-methylphenyl) -4-aminopolystyrene, JP-A-1-134457, JP-A-2-282264, Kaihei 2-304456
JP, JP-A-4-133065, JP-A-4-13-1
Compounds described in JP-A-33066, JP-A-5-40350, and JP-A-5-202135 are exemplified.
【0024】(d)その他の重合体 例えば、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特
開昭51−73888号公報、特開昭56−15074
9号公報、特開平6−234836号公報、特開平6−
234837号公報に記載の化合物等が例示される。(D) Other Polymers For example, a formaldehyde condensation polymer of nitropyrene, JP-A-51-73888, JP-A-56-15074
9, JP-A-6-234836 and JP-A-6-34836.
Compounds described in JP-A-234837 are exemplified.
【0025】本発明に使用される電子供与性基を有する
重合体は、上記重合体だけでなく、公知単量体の共重合
体や、ブロック重合体、グラフト重合体、スターポリマ
ーや、また、例えば特開平3−109406号公報に開
示されているような電子供与性基を有する架橋重合体等
を用いることも可能である。The polymer having an electron donating group used in the present invention includes not only the above-mentioned polymer but also a copolymer of a known monomer, a block polymer, a graft polymer, a star polymer, For example, it is also possible to use a crosslinked polymer having an electron donating group as disclosed in JP-A-3-109406.
【0026】また、本発明に用いられる高分子電荷輸送
物質として更に有用なトリアリールアミン構造を有する
ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリエステル、ポリ
エーテルとしては以下に記載の化合物が例示される。例
えば、特開昭64−1728号公報、特開昭64−13
061号公報、特開昭64−19049号公報、特開平
4−11627号公報、特開平4−225014号公
報、特開平4−230767号公報、特開平4−320
420号公報、特開平5−232727号公報、特開平
6−234838号公報、特開平6−234839号公
報、特開平6−295077号公報、特開平7−563
74号公報、特開平7−325409号公報、特開平9
−80772号公報、特開平9−80783号公報、特
開平9−80784号公報、特開平9−127713号
公報、特開平9−211877号公報、特開平9−22
2740号公報、特開平9−265197号公報、特開
平9−265201号公報、特開平9−297419号
公報、特開平9−304956号公報等がある。The following compounds are exemplified as polycarbonates, polyurethanes, polyesters, and polyethers having a triarylamine structure, which are more useful as the polymer charge transporting material used in the present invention. For example, JP-A-64-1728 and JP-A-64-13
No. 061, JP-A-64-19049, JP-A-4-11627, JP-A-4-225014, JP-A-4-230767, JP-A-4-320
No. 420, JP-A-5-232727, JP-A-6-234838, JP-A-6-234839, JP-A-6-295077, JP-A-7-563
74, JP-A-7-325409, JP-A-9
-80772, JP-A-9-80783, JP-A-9-80784, JP-A-9-127713, JP-A-9-212877, JP-A-9-22
No. 2,740, JP-A-9-265197, JP-A-9-265201, JP-A-9-297419, JP-A-9-309495, and the like.
【0027】また、本発明に用いられる高分子電荷輸送
物質としてより更に有用なトリアリールアミン構造有す
るポリカーボネートとしては以下の一般式1〜10で表
されるトリアリールアミン構造を有するポリカーボネー
トが挙げられる。一般式1〜10で表される高分子電荷
輸送物質を以下に例示し、具体例を示す。Further, as a polycarbonate having a triarylamine structure, which is more useful as a polymer charge transporting material used in the present invention, a polycarbonate having a triarylamine structure represented by the following general formulas 1 to 10 can be mentioned. The polymer charge transport materials represented by the general formulas 1 to 10 are exemplified below, and specific examples are shown.
【0028】[0028]
【化1】 Embedded image
【0029】式中、R1,R2,R3 はそれぞれ独立して
置換もしくは無置換のアルキル基又はハロゲン原子、R
4は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基、R5
,R6は置換もしくは無置換のアリール基、o,p,q
はそれぞれ独立して0〜4の整数、k,jは組成を表し
電荷輸送構造が30重量%以上70重量%以下にるよう
に調節される。nは繰り返し単位数を表し5〜5000
の整数である。Xは脂肪族の2価基、環状脂肪族の2価
基、または下記一般式で表される2価基を表す。In the formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group or halogen atom,
4 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, R 5
, R 6 are a substituted or unsubstituted aryl group, o, p, q
Are each independently an integer from 0 to 4, and k and j each represent a composition and are adjusted so that the charge transport structure is 30% by weight or more and 70% by weight or less. n represents the number of repeating units;
Is an integer. X represents an aliphatic divalent group, a cycloaliphatic divalent group, or a divalent group represented by the following general formula.
【0030】[0030]
【化2】 Embedded image
【0031】式中、R101,R102 は各々独立して置換
もしくは無置換のアルキル基、アリール基またはハロゲ
ン原子を表す。l、mは0〜4の整数、Yは単結合、炭
素原子数1〜12の直鎖状、分岐状もしくは環状のアル
キレン基、−O−,−S−,−SO−,−SO2−,−
CO−,−CO−O−Z−O−CO−(式中Zは脂肪族
の2価基を表す。)または、In the formula, R 101 and R 102 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or halogen atom. l, m is an integer of 0 to 4, Y is a single bond, a linear C1-12, branched or cyclic alkylene group, -O -, - S -, - SO -, - SO 2 - , −
CO—, —CO—O—Z—O—CO— (wherein Z represents an aliphatic divalent group) or
【0032】[0032]
【化3】 Embedded image
【0033】(式中、aは1〜20の整数、bは1〜2
000の整数、R103、R104は置換または無置換のアル
キル基又はアリール基を表す。)を表す。ここで、 R
101 とR102,R103とR104は、それぞれ同一でも異な
ってもよい。(Where a is an integer of 1 to 20, b is 1 to 2
An integer of 000, R 103 and R 104 represent a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. ). Where R
101 and R 102 and R 103 and R 104 may be the same or different.
【0034】一般式1の具体例R1,R2,R3 はそれぞ
れ独立して置換もしくは無置換のアルキル基又はハロゲ
ン原子を表すが、その具体例としては以下のものを挙げ
ることができ、同一であっても異なってもよい。Specific examples of the general formula 1 R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group or a halogen atom. Specific examples thereof include the following. They may be the same or different.
【0035】アルキル基として好ましくは、C1〜 C
12 とりわけC1〜 C8、さらに好ましくはC1〜 C4 の
直鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキ
ル基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、 C1〜
C4のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜 C4 のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロ
ピル基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-
ブチル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル
基、2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキ
シエチル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチ
ルベンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベン
ジル基等が挙げられる。The alkyl group is preferably C 1 -C
12 is a C 1 -C 8 , more preferably a C 1 -C 4 , linear or branched alkyl group, and these alkyl groups are furthermore a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 4
A C 4 alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom,
It may contain a phenyl group substituted with a C 1 -C 4 alkyl group or a C 1 -C 4 alkoxy group. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, t-butyl, s-butyl, n-butyl, i-
Butyl, trifluoromethyl, 2-hydroxyethyl, 2-cyanoethyl, 2-ethoxyethyl, 2-methoxyethyl, benzyl, 4-chlorobenzyl, 4-methylbenzyl, 4-methoxybenzyl Group, 4-phenylbenzyl group and the like.
【0036】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
【0037】R4は水素原子又は置換もしくは無置換の
アルキル基を表すがそのアルキル基の具体例としては上
記のR1, R2, R3 と同様のものが挙げられる。R 4 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and specific examples of the alkyl group are the same as those described above for R 1 , R 2 and R 3 .
【0038】R5, R6 は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げる
ことができ、同一であっても異なってもよい。R 5 and R 6 each represent a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples thereof include the following, which may be the same or different.
【0039】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレ
ニル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ
[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。As the aromatic hydrocarbon group, a phenyl group,
As a condensed polycyclic group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo
[A, d] Cycloheptenylidenephenyl group, biphenylyl group, terphenylyl group and the like as non-fused polycyclic group.
【0040】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0041】上述のアリール基は以下に示す基を置換基
として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、上記のR1, R2, R3 と同
様のものが挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR105)としては、R105は
(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-シ
アノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジル
オキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜 C
4 のアルコキシ基、C1〜 C4 のアルキル基またはハロ
ゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、
フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ
基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、
4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオキシ
基等が挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基と
しては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、p-メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
(2)で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル-N−プ
ロピルアミノ基、N,N-ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 (7)アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。The above-mentioned aryl group may have the following groups as substituents. (1) Halogen atom, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group. (2) Examples of the alkyl group include the same as those described above for R 1 , R 2 and R 3 . (3) As the alkoxy group (-OR 105 ), R 105 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-cyano Examples include an ethoxy group, a benzyloxy group, a 4-methylbenzyloxy group, and a trifluoromethoxy group. (4) Examples of the aryloxy group include a phenyl group and a naphthyl group as the aryl group. These are C 1 -C
It may contain a 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkyl group or a halogen atom as a substituent. In particular,
Phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group,
4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy group and the like. (5) Specific examples of the substituted mercapto group or arylmercapto group include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, and a p-methylphenylthio group. (6) As the alkyl-substituted amino group, the alkyl group represents the alkyl group defined in (2). Specific examples include a dimethylamino group, a diethylamino group, an N-methyl-N-propylamino group, and an N, N-dibenzylamino group. (7) Specific examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a malonyl group, and a benzoyl group.
【0042】Xは下記一般式(A)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(A)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is a main chain obtained by using the diol compound of the following general formula (B) together with a diol compound having a triarylamino group of the following general formula (A) when the diol compound is polymerized by a phosgene method, a transesterification method or the like. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group of the following general formula (A) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0043】[0043]
【化4】 Embedded image
【0044】一般式(B)のジオール化合物の具体例と
しては以下のものが挙げられる。1,3-プロパンジオー
ル、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,6-
ヘキサンジオール、1,8-オクタンジオール、1,10-デカ
ンジオール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、2,2-ジ
メチル-1,3-プロパンジオール、2-エチル-1,3-プロパン
ジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレンエ
ーテルグリコール等の脂肪族ジオールや1,4-シクロヘキ
サンジオール、1,3-シクロヘキサンジオール、シクロヘ
キサン-1,4-ジメタノール等の環状脂肪族ジオールが挙
げられる。The following are specific examples of the diol compound of the general formula (B). 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-
Hexanediol, 1,8-octanediol, 1,10-decanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-1,3-propane Aliphatic diols such as diol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, polytetramethylene ether glycol, and cyclic aliphatic diols such as 1,4-cyclohexanediol, 1,3-cyclohexanediol, cyclohexane-1,4-dimethanol Is mentioned.
【0045】また、芳香環を有するジオールとしては、
4,4’-ジヒドロキシジフェニル、ビス(4-ヒドロキシフ
ェニル)メタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エ
タン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-1-フェニル
エタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロペンタ
ン、2,2-ビス(3-フェニル-4-ヒドロキシフェニル)プ
ロパン、2,2-ビス(3-イソプロピル-4-ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ブ
タン、2,2-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシ
フェニル)プロパン、4,4’-ジヒドロキシジッフェニル
スルホン、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルホキシ
ド、4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3’-
ジメチル-4,4’-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、
4,4’-ジヒドロキシジフェニルオキシド、2,2-ビス(4-
ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、9,9-ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-
ヒドロキシフェニル)キサンテン、エチレングリコール
-ビス(4-ヒドロキシベンゾエート)、ジエチレングリ
コール-ビス(4-ヒドロキシベンゾエート)、トリエチ
レングリコール-ビス(4-ヒドロキシベンゾエート)1,3
-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-テトラメチルジシロキ
サン、フェノール変性シリコーンオイル等が挙げられ
る。The diol having an aromatic ring includes
4,4'-dihydroxydiphenyl, bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 2,2 -Bis (4-hydroxyphenyl) propane,
2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 2,2-bis ( 3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-isopropyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (3,5 -Dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) propane, 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, 4,4′-dihydroxydiphenylsulfoxide, 4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 3,3'-
Dimethyl-4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide,
4,4'-dihydroxydiphenyl oxide, 2,2-bis (4-
Hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-
Hydroxyphenyl) xanthene, ethylene glycol
-Bis (4-hydroxybenzoate), diethylene glycol-bis (4-hydroxybenzoate), triethylene glycol-bis (4-hydroxybenzoate) 1,3
-Bis (4-hydroxyphenyl) -tetramethyldisiloxane, phenol-modified silicone oil and the like.
【0046】[0046]
【化5】 Embedded image
【0047】式中、R7, R8は置換もしくは無置換のア
リール基、Ar1, Ar2, Ar3は同一又は異なるアリ
レン基を表す。 X,k,jおよびnは、一般式1の場
合と同じである。In the formula, R 7 and R 8 are substituted or unsubstituted aryl groups, and Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 are the same or different arylene groups. X, k, j and n are the same as in the case of the general formula 1.
【0048】一般式2の具体例 R7, R8は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、
その具体例としては以下のものを挙げることができ、同
一であっても異なってもよい。Specific Examples of General Formula 2 R 7 and R 8 each represent a substituted or unsubstituted aryl group.
Specific examples thereof include the following, which may be the same or different.
【0049】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレ
ニル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ
[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基、また
は、As the aromatic hydrocarbon group, a phenyl group,
As a condensed polycyclic group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo
[A, d] cycloheptenylidenephenyl group, biphenylyl group, terphenylyl group or non-fused polycyclic group, or
【0050】[0050]
【化6】 Embedded image
【0051】ここで、Wは−O−,−S−,−SO−,
−SO2−,−CO−及び以下の2価基を表す。Where W is -O-, -S-, -SO-,
—SO 2 —, —CO— and the following divalent groups are represented.
【0052】[0052]
【化7】 で表される。Embedded image It is represented by
【0053】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0054】また、 Ar1, Ar2およびAr3で示され
るアリレン基としてはR7 およびR8 で示したアリール
基の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。The arylene groups represented by Ar 1 , Ar 2 and Ar 3 include the divalent groups of the aryl groups represented by R 7 and R 8 , which may be the same or different.
【0055】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。また、これら置換
基は上記一般式中のR106、 R107、 R108の具体例と
して表される。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、好ましくは、 C1〜 C12
とりわけC1〜 C18、さらに好ましくはC1〜 C4 の直
鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜 C4
のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、 C1
〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜 C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的に
は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロピ
ル基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-ブ
チル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル
基、2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキ
シエチル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチ
ルベンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(− OR109)としては、R109は
(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-シ
アノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジル
オキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜 C
4 のアルコキシ基、C1〜 C4 のアルキル基またはハロ
ゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、
フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ
基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、
4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオキシ
基等が挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基と
しては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、p-メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。The above aryl group and arylene group may have the following groups as substituents. Further, these substituents are represented as specific examples of R 106 , R 107 and R 108 in the above general formula. (1) Halogen atom, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group. (2) The alkyl group is preferably C 1 -C 12
In particular, it is a C 1 -C 18 , more preferably a C 1 -C 4 linear or branched alkyl group, and these alkyl groups are furthermore a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 4 group.
An alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom, C 1
It may contain a phenyl group substituted with a C 4 to C 4 alkyl group or a C 1 to C 4 alkoxy group. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, t-butyl, s-butyl, n-butyl, i-butyl, trifluoromethyl, 2-hydroxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like. (3) an alkoxy group - The (OR 109), R 109 represents an alkyl group specified in (2). Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-cyano Examples include an ethoxy group, a benzyloxy group, a 4-methylbenzyloxy group, and a trifluoromethoxy group. (4) Examples of the aryloxy group include a phenyl group and a naphthyl group as the aryl group. These are C 1 -C
It may contain a 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkyl group or a halogen atom as a substituent. In particular,
Phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group,
4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy group and the like. (5) Specific examples of the substituted mercapto group or arylmercapto group include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, and a p-methylphenylthio group.
【0056】(6)(6)
【化8】 Embedded image
【0057】式中、R110及びR111は各々独立に(2)
で定義したアルキル基またはアリール基を表し、アリー
ル基としては例えばフェニル基、ビフェニル基、または
ナフチル基が挙げられ、これらはC1〜 C4 のアルコキ
シ基、 C1〜 C4 のアルキル基またはハロゲン原子を
置換基として含有しても良い。またアリール基上の炭素
原子と共同で環を形成しても良い。具体的には、ジエチ
ルアミノ基、N−メチル-N−フェニルアミノ基、N,
N-ジフェニルアミノ基、N,N-ジ(p-トリル)アミ
ノ基、ジベンジルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ
基、ユロリジル基等が挙げられる。 (7)メチレンジオキシ基、またはメチレンジチオ基等
のアルキレンジオキシ基またはアルキレンジチオ基、等
が挙げられる。In the formula, R 110 and R 111 are each independently (2)
Represents, for example, a phenyl group, a biphenyl group, or a naphthyl group, which is a C 1 to C 4 alkoxy group, a C 1 to C 4 alkyl group or a halogen. An atom may be contained as a substituent. Further, a ring may be formed together with a carbon atom on the aryl group. Specifically, a diethylamino group, an N-methyl-N-phenylamino group, N,
Examples include an N-diphenylamino group, an N, N-di (p-tolyl) amino group, a dibenzylamino group, a piperidino group, a morpholino group, and a uroridyl group. (7) An alkylenedioxy group or an alkylenedithio group such as a methylenedioxy group or a methylenedithio group.
【0058】Xは下記一般式(C)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(C)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is a main chain obtained by using a diol compound of the following general formula (B) in combination with a diol compound having a triarylamino group of the following general formula (C) by using a phosgene method, a transesterification method or the like. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (C) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0059】[0059]
【化9】 一般式(B)のジオール化合物は一般式1と同じものが
挙げられる。Embedded image As the diol compound of the general formula (B), the same compounds as those of the general formula 1 can be mentioned.
【0060】[0060]
【化10】 Embedded image
【0061】式中、R9, R10は置換もしくは無置換の
アリール基、Ar4 ,Ar5,Ar6 は同一又は異なる
アリレン基を表す。 X,k,jおよびnは、一般式1
の場合と同じである。In the formula, R 9 and R 10 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 4 , Ar 5 and Ar 6 represent the same or different arylene groups. X, k, j and n are represented by the general formula 1
Is the same as
【0062】一般式3の具体例 R9, R10は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。Specific Examples of General Formula 3 R 9 and R 10 each represent a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples thereof include the following, which may be the same or different.
【0063】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレ
ニル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ
[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。As the aromatic hydrocarbon group, a phenyl group,
As a condensed polycyclic group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo
[A, d] Cycloheptenylidenephenyl group, biphenylyl group, terphenylyl group and the like as non-fused polycyclic group.
【0064】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0065】また、 Ar4 ,Ar5、およびAr6で示
されるアリレン基としてはR9およびR10で示したアリ
ール基の2価基が挙げられ、同一であっても異なっても
よい。上述のアリール基及びアリレン基は以下に示す基
を置換基として有してもよい。The arylene groups represented by Ar 4 , Ar 5 and Ar 6 include the divalent groups of the aryl groups represented by R 9 and R 10 , which may be the same or different. The above-mentioned aryl group and arylene group may have the following groups as substituents.
【0066】(1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、シアノ基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、好ましくは、 C1〜 C12
とりわけC1〜 C8 、さらに好ましくはC1〜 C4 の直
鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜 C4
のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、 C1
〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜 C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的に
は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロピ
ル基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-ブ
チル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル
基、2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキ
シエチル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチ
ルベンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR112)としては、R112 は
(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-シ
アノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジル
オキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、 C1〜
C4 のアルコキシ基、 C1〜 C4 のアルキル基または
ハロゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的に
は、フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオ
キシ基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ
基、4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオ
キシ基等が挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基と
しては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、p-メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
(2)で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル-N−プ
ロピルアミノ基、N,N-ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 (7)アシル基;具体的にはアセチル基、プロピオニル
基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等が挙げら
れる。(1) Halogen atom, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group. (2) The alkyl group is preferably C 1 -C 12
In particular, it is a C 1 -C 8 , more preferably a C 1 -C 4 linear or branched alkyl group, and these alkyl groups further include a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 4 group.
An alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom, C 1
It may contain a phenyl group substituted with a C 4 to C 4 alkyl group or a C 1 to C 4 alkoxy group. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, t-butyl, s-butyl, n-butyl, i-butyl, trifluoromethyl, 2-hydroxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like. (3) As the alkoxy group (—OR 112 ), R 112 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-cyano Examples include an ethoxy group, a benzyloxy group, a 4-methylbenzyloxy group, and a trifluoromethoxy group. (4) Examples of the aryloxy group include a phenyl group and a naphthyl group as the aryl group. This is C 1-
A C 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkyl group or a halogen atom may be contained as a substituent. Specifically, phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group, 4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy group and the like can be mentioned. Can be (5) Specific examples of the substituted mercapto group or arylmercapto group include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, and a p-methylphenylthio group. (6) As the alkyl-substituted amino group, the alkyl group represents the alkyl group defined in (2). Specific examples include a dimethylamino group, a diethylamino group, an N-methyl-N-propylamino group, and an N, N-dibenzylamino group. (7) acyl group; specific examples include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a malonyl group, and a benzoyl group.
【0067】Xは下記一般式(D)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(D)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is a main chain obtained by using a diol compound of the following general formula (B) together with a diol compound having a triarylamino group of the following general formula (D) when the diol compound is polymerized by a phosgene method, a transesterification method or the like. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (D) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0068】[0068]
【化11】 一般式(B)のジオール化合物は一般式1と同じものが挙
げられる。Embedded image As the diol compound of the general formula (B), the same compounds as those of the general formula 1 can be mentioned.
【0069】[0069]
【化12】 Embedded image
【0070】式中、R11, R12 は置換もしくは無置換
のアリール基、Ar7, Ar8, Ar9は同一又は異なる
アリレン基、sは1〜5の整数を表す。 X,k,jお
よびnは、一般式1の場合と同じである。In the formula, R 11 and R 12 represent a substituted or unsubstituted aryl group, Ar 7 , Ar 8 and Ar 9 represent the same or different arylene groups, and s represents an integer of 1 to 5. X, k, j and n are the same as in the case of the general formula 1.
【0071】一般式4の具体例 R11, R12 は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。Specific examples of general formula 4 R 11 and R 12 represent a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples thereof include the following, which may be the same or different.
【0072】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレ
ニル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ
[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。As the aromatic hydrocarbon group, a phenyl group,
As a condensed polycyclic group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo
[A, d] Cycloheptenylidenephenyl group, biphenylyl group, terphenylyl group and the like as non-fused polycyclic group.
【0073】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0074】また、Ar7, Ar8、およびAr9で示さ
れるアリレン基としてはR11およびR12で示したアリー
ル基の2価基が挙げられ、同一であっても異なってもよ
い。The arylene groups represented by Ar 7 , Ar 8 , and Ar 9 include the divalent groups of the aryl groups represented by R 11 and R 12 , which may be the same or different.
【0075】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、好ましくは、 C1〜 C12
とりわけC1〜 C8 、さらに好ましくはC1〜 C4 の直
鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜 C4
のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、 C1
〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜 C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的に
は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロピ
ル基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-ブ
チル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル
基、2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキ
シエチル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチ
ルベンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR113 )としては、R113は
(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-シ
アノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジル
オキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜 C
4 のアルコキシ基、C1〜 C4 のアルキル基またはハロ
ゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、
フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ
基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、
4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオキシ
基等が挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基と
しては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、p-メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
(2)で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル-N−プ
ロピルアミノ基、N,N-ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 (7)アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。The above aryl group and arylene group may have the following groups as substituents. (1) Halogen atom, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group. (2) The alkyl group is preferably C 1 -C 12
In particular, it is a C 1 -C 8 , more preferably a C 1 -C 4 linear or branched alkyl group, and these alkyl groups further include a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 4 group.
An alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom, C 1
It may contain a phenyl group substituted with a C 4 to C 4 alkyl group or a C 1 to C 4 alkoxy group. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, t-butyl, s-butyl, n-butyl, i-butyl, trifluoromethyl, 2-hydroxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like. (3) As the alkoxy group (—OR 113 ), R 113 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-cyano Examples include an ethoxy group, a benzyloxy group, a 4-methylbenzyloxy group, and a trifluoromethoxy group. (4) Examples of the aryloxy group include a phenyl group and a naphthyl group as the aryl group. These are C 1 -C
It may contain a 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkyl group or a halogen atom as a substituent. In particular,
Phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group,
4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy group and the like. (5) Specific examples of the substituted mercapto group or arylmercapto group include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, and a p-methylphenylthio group. (6) As the alkyl-substituted amino group, the alkyl group represents the alkyl group defined in (2). Specific examples include a dimethylamino group, a diethylamino group, an N-methyl-N-propylamino group, and an N, N-dibenzylamino group. (7) Specific examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a malonyl group, and a benzoyl group.
【0076】Xは下記一般式(E)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(E)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is the main chain of a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (E) when the diol compound having the triarylamino group is polymerized by a phosgene method, a transesterification method, or the like. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (E) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0077】[0077]
【化13】 一般式(B)のジオール化合物は一般式1と同じものが
挙げられる。Embedded image As the diol compound of the general formula (B), the same compounds as those of the general formula 1 can be mentioned.
【0078】[0078]
【化14】 Embedded image
【0079】式中、R13, R14は置換もしくは無置換
のアリール基、Ar10, Ar11, Ar12は同一又は異
なるアリレン基、 X1, X2 は置換もしくは無置換の
エチレン基、又は置換もしくは無置換のビニレン基を表
す。 X,k,jおよびnは、一般式1の場合と同じで
ある。In the formula, R 13 and R 14 are substituted or unsubstituted aryl groups, Ar 10 , Ar 11 , and Ar 12 are the same or different arylene groups; X 1 and X 2 are substituted or unsubstituted ethylene groups; Represents a substituted or unsubstituted vinylene group. X, k, j and n are the same as in the case of the general formula 1.
【0080】一般式5の具体例 R13, R14 は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。Specific examples of general formula 5 R 13 and R 14 represent a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples thereof include the following, which may be the same or different.
【0081】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレ
ニル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ
[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。As the aromatic hydrocarbon group, a phenyl group,
As a condensed polycyclic group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo
[A, d] Cycloheptenylidenephenyl group, biphenylyl group, terphenylyl group and the like as non-fused polycyclic group.
【0082】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0083】また、Ar10, Ar11 およびAr12で示
されるアリレン基としてはR13およびR14 で示したア
リール基の2価基が挙げられ、同一であっても異なって
もよい。The arylene groups represented by Ar 10 , Ar 11 and Ar 12 include the divalent groups of the aryl groups represented by R 13 and R 14 , which may be the same or different.
【0084】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、好ましくは、 C1〜 C12
とりわけC1〜 C8 、さらに好ましくはC1〜 C4の直
鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、 C1〜 C
4 のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、
C1〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜 C4 のアルコキ
シ基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的
には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロ
ピル基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-
ブチル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル
基、2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキ
シエチル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチ
ルベンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR114 )としては、 R114
は(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、
メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロ
ポキシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブト
キシ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-
シアノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジ
ルオキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜 C
4 のアルコキシ基、C1〜 C4 のアルキル基またはハロ
ゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、
フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ
基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、
4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオキシ
基等が挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基と
しては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、p-メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
(2)で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル-N−プ
ロピルアミノ基、N,N-ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 (7)アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。The above aryl group and arylene group are as follows:
It may have the group shown as a substituent. (1) halogen atom, trifluoromethyl group, cyano
Group, nitro group. (2) The alkyl group is preferably C 11~ C12
Especially C1~ C8And more preferably C1~ CFourDirectly
A chain or branched chain alkyl group;
The group further includes a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group,1~ C
FourAn alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom,
C1~ CFourAlkyl group or C1~ CFour Alcoqui
It may contain a phenyl group substituted with a thio group. concrete
Include methyl, ethyl, n-propyl, i-pro
Pill, t-butyl, s-butyl, n-butyl, i-
Butyl group, trifluoromethyl group, 2-hydroxyethyl
Group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxy
Siethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methyl
Benzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-phenylben
And a ziryl group. (3) alkoxy group (-OR114) Is R114
Represents an alkyl group defined in (2). In particular,
Methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-pro
Oxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy
Xy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-
Cyanoethoxy group, benzyloxy group, 4-methylbenzyl
And a oxy group and a trifluoromethoxy group. (4) As the aryloxy group, as an aryl group,
And a phenyl group and a naphthyl group. This is C1~ C
FourAn alkoxy group of C1~ CFourAlkyl group or halo
A gen atom may be contained as a substituent. In particular,
Phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy
Group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group,
4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy
And the like. (5) a substituted mercapto group or an arylmercapto group;
Specifically, methylthio, ethylthio,
Nilthio group, p-methylphenylthio group and the like.
You. (6) As the alkyl-substituted amino group, the alkyl group is
Represents an alkyl group defined in (2). Specifically,
Tylamino group, diethylamino group, N-methyl-N-propyl
Propylamino group, N, N-dibenzylamino group and the like
Can be (7) As the acyl group, specifically, an acetyl group,
Pionyl group, butyryl group, malonyl group, benzoyl group, etc.
Is mentioned.
【0085】X1,X2 は置換もしくは無置換のエチレ
ン基、置換もしくは無置換のビニレン基を表し、この置
換基としては、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、上
記R 13,R14のアリール基、上記(2)のアルキル基が
挙げられる。X1, XTwoIs substituted or unsubstituted ethyl
Represents a substituted or unsubstituted vinylene group.
As the substituent, a cyano group, a halogen atom, a nitro group,
Note R 13, R14And the alkyl group of the above (2) is
No.
【0086】Xは下記一般式(F)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(F)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is the main chain of a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (F) when the diol compound is polymerized by a phosgene method, a transesterification method, or the like. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (F) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0087】[0087]
【化15】 一般式(B)のジオール化合物は一般式1と同じものが
挙げられる。Embedded image As the diol compound of the general formula (B), the same compounds as those of the general formula 1 can be mentioned.
【0088】[0088]
【化16】 Embedded image
【0089】式中、R15,R16,R17,R18は置換もし
くは無置換のアリール基、Ar13,Ar14,Ar15,A
r16は同一又は異なるアリレン基、 Y1,Y2,Y3は単
結合、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしく
は無置換のシクロアルキレン基、置換もしくは無置換の
アルキレンエーテル基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン
基を表し同一であっても異なってもよい。 X,k,j
およびnは、一般式1の場合と同じである。In the formula, R 15 , R 16 , R 17 and R 18 are a substituted or unsubstituted aryl group, Ar 13 , Ar 14 , Ar 15 and A
r 16 is the same or different arylene group, Y 1 , Y 2 and Y 3 are a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether group, an oxygen atom, It represents a sulfur atom or a vinylene group and may be the same or different. X, k, j
And n are the same as in the case of the general formula 1.
【0090】一般式6の具体例 R15,R16,R17,R18は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げる
ことができ、同一であっても異なってもよい。Specific Examples of General Formula 6 R 15 , R 16 , R 17 , and R 18 represent a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples thereof include the following. May also be different.
【0091】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレ
ニル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ
[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。As the aromatic hydrocarbon group, a phenyl group,
As a condensed polycyclic group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo
[A, d] Cycloheptenylidenephenyl group, biphenylyl group, terphenylyl group and the like as non-fused polycyclic group.
【0092】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0093】また、Ar13,Ar14,Ar15および A
r16で示されるアリレン基としては、R15,R16,R
17 およびR18 で示した上記のアリール基の2価基が挙
げられ、同一であっても異なってもよい。Ar 13 , Ar 14 , Ar 15 and A
The arylene group represented by r 16 includes R 15 , R 16 , R
Examples of the above-mentioned divalent group of the aryl group represented by 17 and R 18 are the same or different.
【0094】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、好ましくは、C1〜 C12
とりわけC1〜 C8 、さらに好ましくはC1〜 C4 の直
鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、 C1〜 C
4 のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、C
1〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜 C4のアルコキシ
基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的に
は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロピ
ル基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-ブ
チル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル
基、2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキ
シエチル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチ
ルベンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR115)としては、 R115は
(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-シ
アノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジル
オキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜 C
4 のアルコキシ基、C1〜 C4 のアルキル基またはハロ
ゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、
フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ
基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、
4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオキシ
基等が挙げられる。The above aryl group and arylene group may have the following groups as substituents. (1) Halogen atom, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group. (2) The alkyl group is preferably C 1 -C 12
Particularly, it is a C 1 -C 8 , more preferably a C 1 -C 4 linear or branched alkyl group, and these alkyl groups are furthermore a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 4 group.
4, an alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom, C
It may contain a phenyl group substituted with 1 ~ C 4 alkyl or alkoxy group of C 1 ~ C 4. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, t-butyl, s-butyl, n-butyl, i-butyl, trifluoromethyl, 2-hydroxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like. (3) As the alkoxy group (—OR 115 ), R 115 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-cyano Examples include an ethoxy group, a benzyloxy group, a 4-methylbenzyloxy group, and a trifluoromethoxy group. (4) Examples of the aryloxy group include a phenyl group and a naphthyl group as the aryl group. These are C 1 -C
It may contain a 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkyl group or a halogen atom as a substituent. In particular,
Phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group,
4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy group and the like.
【0095】Y1,Y2,Y3 は単結合、置換もしくは無
置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のシクロアル
キレン基、置換もしくは無置換のアルキレンエーテル
基、酸素原子、硫黄原子、ビニレン基、を表し同一であ
っても異なってもよい。Y 1 , Y 2 and Y 3 are a single bond, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted alkylene ether group, an oxygen atom, a sulfur atom, a vinylene group, And may be the same or different.
【0096】アルキレン基としては、上記(2)で示し
たアルキル基より誘導される2価基を表す。具体的に
は、メチレン基、エチレン基、1,3-プロピレン基、1,4-
ブチレン基、2-メチル-1,3-プロピレン基、ジフルオロ
メチレン基、ヒドロキシエチレン基、シアノエチレン
基、メトキシエチレン基、フェニルメチレン基、4-メチ
ルフェニルメチレン基、2,2-プロピレン基、2,2-ブチレ
ン基、ジフェニルメチレン基等を挙げることができる。The alkylene group represents a divalent group derived from the alkyl group shown in the above (2). Specifically, methylene group, ethylene group, 1,3-propylene group, 1,4-
Butylene group, 2-methyl-1,3-propylene group, difluoromethylene group, hydroxyethylene group, cyanoethylene group, methoxyethylene group, phenylmethylene group, 4-methylphenylmethylene group, 2,2-propylene group, 2, Examples thereof include a 2-butylene group and a diphenylmethylene group.
【0097】シクロアルキレン基としては、1,1-シクロ
ペンチレン基、1,1-シクロへキシレン基、1,1-シクロオ
クチレン基等を挙げることができる。Examples of the cycloalkylene group include a 1,1-cyclopentylene group, a 1,1-cyclohexylene group, and a 1,1-cyclooctylene group.
【0098】アルキレンエーテル基としては、ジメチレ
ンエーテル基、ジエチレンエーテル基、エチレンメチレ
ンエーテル基、ビス(トリエチレン)エーテル基、ポリ
テトラメチレンエーテル基等が挙げられる。Examples of the alkylene ether group include a dimethylene ether group, a diethylene ether group, an ethylene methylene ether group, a bis (triethylene) ether group, and a polytetramethylene ether group.
【0099】Xは下記一般式(G)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(G)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is a main chain of a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (G) when the diol compound is polymerized by a phosgene method, a transesterification method, or the like. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (G) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0100】[0100]
【化17】 一般式(B)のジオール化合物は一般式1と同じものが挙
げられる。Embedded image As the diol compound of the general formula (B), the same compounds as those of the general formula 1 can be mentioned.
【0101】[0101]
【化18】 Embedded image
【0102】式中、R19,R20 は水素原子、置換もし
くは無置換のアリール基を表し,R19とR20は環を形成
していてもよい。Ar17,Ar18,Ar19 は同一又は
異なるアリレン基を表す。 X,k,jおよびnは、一
般式1の場合と同じである。In the formula, R 19 and R 20 represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted aryl group, and R 19 and R 20 may form a ring. Ar 17 , Ar 18 and Ar 19 represent the same or different arylene groups. X, k, j and n are the same as in the case of the general formula 1.
【0103】一般式7の具体例 R19,R20 は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。Specific Examples of General Formula 7 R 19 and R 20 each represent a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples thereof include the following, which may be the same or different.
【0104】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレ
ニル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ[a,
d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多環基と
してビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙げられ
る。As the aromatic hydrocarbon group, a phenyl group,
As a condensed polycyclic group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo [a ,
d] A cycloheptenylidenephenyl group and a non-fused polycyclic group include a biphenylyl group and a terphenylyl group.
【0105】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0106】また、R19,R20 は環を形成する場合、9
-フルオリニリデン、5H-ジベンゾ[a,d]シクロヘブ
テニリデンなどが挙げられる。When R 19 and R 20 form a ring, 9
-Fluorinylidene, 5H-dibenzo [a, d] cyclohebutenylidene and the like.
【0107】また、Ar17,Ar18 およびAr19で示
されるアリレン基としてはR19およびR20で示したアリ
ール基の2価基が挙げられ、同一であっても異なっても
よい。The arylene groups represented by Ar 17 , Ar 18 and Ar 19 include the divalent groups of the aryl groups represented by R 19 and R 20 , which may be the same or different.
【0108】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、好ましくは、C1〜 C12
とりわけC1〜 C8 、さらに好ましくはC1〜 C4 の直
鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜 C4
のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、C1
〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜 C4 のアルコキシ
基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的に
は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロピ
ル基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-ブ
チル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル
基、2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキ
シエチル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチ
ルベンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR116)としては、R116 は
(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-シ
アノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジル
オキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜 C
4 のアルコキシ基、C1〜 C4 のアルキル基またはハロ
ゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、
フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ
基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、
4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオキシ
基等が挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基と
しては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、p-メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
(2)で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル-N−プ
ロピルアミノ基、N,N-ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 (7)アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。The above aryl group and arylene group may have the following groups as substituents. (1) Halogen atom, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group. (2) The alkyl group is preferably C 1 -C 12
In particular, it is a C 1 -C 8 , more preferably a C 1 -C 4 linear or branched alkyl group, and these alkyl groups further include a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 4 group.
An alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom, C 1
It may contain a phenyl group substituted with a C 4 to C 4 alkyl group or a C 1 to C 4 alkoxy group. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, t-butyl, s-butyl, n-butyl, i-butyl, trifluoromethyl, 2-hydroxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like. (3) As the alkoxy group (-OR 116 ), R 116 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-cyano Examples include an ethoxy group, a benzyloxy group, a 4-methylbenzyloxy group, and a trifluoromethoxy group. (4) Examples of the aryloxy group include a phenyl group and a naphthyl group as the aryl group. These are C 1 -C
It may contain a 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkyl group or a halogen atom as a substituent. In particular,
Phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group,
4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy group and the like. (5) Specific examples of the substituted mercapto group or arylmercapto group include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, and a p-methylphenylthio group. (6) As the alkyl-substituted amino group, the alkyl group represents the alkyl group defined in (2). Specific examples include a dimethylamino group, a diethylamino group, an N-methyl-N-propylamino group, and an N, N-dibenzylamino group. (7) Specific examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a malonyl group, and a benzoyl group.
【0109】Xは下記一般式(H)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(H)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is the main chain of the diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (H) when the diol compound is polymerized by a phosgene method, a transesterification method, or the like. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (H) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0110】[0110]
【化19】 一般式(B)のジオール化合物は一般式1と同じものが
挙げられる。Embedded image As the diol compound of the general formula (B), the same compounds as those of the general formula 1 can be mentioned.
【0111】[0111]
【化20】 Embedded image
【0112】式中、R21は置換もしくは無置換のアリー
ル基、Ar20,Ar21,Ar22,Ar 23 は同一又は異
なるアリレン基を表す。 X,k,jおよびnは、一般
式1の場合と同じである。Where Rtwenty oneIs substituted or unsubstituted ally
Group, Ar20, Artwenty one, Artwenty two, Ar twenty threeAre the same or different
Represents an arylene group. X, k, j and n are general
This is the same as in the case of Expression 1.
【0113】一般式8の具体例 R21 は置換もしくは無置換のアリール基を表すが、そ
の具体例としては以下のものを挙げることができ、同一
であっても異なってもよい。Specific Examples of General Formula 8 R 21 represents a substituted or unsubstituted aryl group, and specific examples thereof include the following, which may be the same or different.
【0114】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレ
ニル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ
[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。As the aromatic hydrocarbon group, a phenyl group,
As a condensed polycyclic group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo
[A, d] Cycloheptenylidenephenyl group, biphenylyl group, terphenylyl group and the like as non-fused polycyclic group.
【0115】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0116】また、Ar20,Ar21,Ar22 およびA
r23 で示されるアリレン基としてはR21で示したアリ
ール基の2価基が挙げられ、同一であっても異なっても
よい。Ar 20 , Ar 21 , Ar 22 and A
The arylene group represented by r 23 includes the divalent group of the aryl group represented by R 21 , and may be the same or different.
【0117】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、好ましくは、C1〜 C12
とりわけC1〜 C8 、さらに好ましくはC1〜 C4 の直
鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜 C4
のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、 C1
〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜 C4のアルコキシ基
で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的に
は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロピ
ル基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-ブ
チル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル
基、2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキ
シエチル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチ
ルベンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR117)としては、 R117 は
(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-シ
アノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジル
オキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜 C
4 のアルコキシ基、C1〜 C4 のアルキル基またはハロ
ゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、
フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ
基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、
4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオキシ
基等が挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基と
しては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、p-メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
(2)で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル-N−プ
ロピルアミノ基、N,N-ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 (7)アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。The above aryl group and arylene group may have the following groups as substituents. (1) Halogen atom, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group. (2) The alkyl group is preferably C 1 -C 12
In particular, it is a C 1 -C 8 , more preferably a C 1 -C 4 linear or branched alkyl group, and these alkyl groups further include a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 4 group.
An alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom, C 1
It may contain a phenyl group substituted with a C 4 to C 4 alkyl group or a C 1 to C 4 alkoxy group. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, t-butyl, s-butyl, n-butyl, i-butyl, trifluoromethyl, 2-hydroxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like. (3) As the alkoxy group (—OR 117 ), R 117 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-cyano Examples include an ethoxy group, a benzyloxy group, a 4-methylbenzyloxy group, and a trifluoromethoxy group. (4) Examples of the aryloxy group include a phenyl group and a naphthyl group as the aryl group. These are C 1 -C
It may contain a 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkyl group or a halogen atom as a substituent. In particular,
Phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group,
4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy group and the like. (5) Specific examples of the substituted mercapto group or arylmercapto group include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, and a p-methylphenylthio group. (6) As the alkyl-substituted amino group, the alkyl group represents the alkyl group defined in (2). Specific examples include a dimethylamino group, a diethylamino group, an N-methyl-N-propylamino group, and an N, N-dibenzylamino group. (7) Specific examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a malonyl group, and a benzoyl group.
【0118】Xは下記一般式(J)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(J)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is a main chain of a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (J) when the diol compound is polymerized by a phosgene method, a transesterification method, or the like. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (J) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0119】[0119]
【化21】 一般式(B)のジオール化合物は一般式1と同じものが
挙げられる。Embedded image As the diol compound of the general formula (B), the same compounds as those of the general formula 1 can be mentioned.
【0120】[0120]
【化22】 Embedded image
【0121】式中、R22,R23,R24,R25は置換もし
くは無置換のアリール基、Ar24,Ar25,Ar26,A
r27,Ar28は同一又は異なるアリレン基を表す。
X,k,jおよびnは、一般式1の場合と同じである。In the formula, R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are substituted or unsubstituted aryl groups, Ar 24 , Ar 25 , Ar 26 and A
r 27 and Ar 28 represent the same or different arylene groups.
X, k, j and n are the same as in the case of the general formula 1.
【0122】一般式9の具体例 R22,R23,R24,R25は置換もしくは無置換のアリー
ル基を表すが、その具体例としては以下のものを挙げる
ことができ、同一であっても異なってもよい。Specific Examples of General Formula 9 R 22 , R 23 , R 24 , and R 25 each represent a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples thereof include the following. May also be different.
【0123】芳香族炭化水素基としては、フェニル基、
縮合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレ
ニル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ
[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。As the aromatic hydrocarbon group, a phenyl group,
As a condensed polycyclic group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo
[A, d] Cycloheptenylidenephenyl group, biphenylyl group, terphenylyl group and the like as non-fused polycyclic group.
【0124】複素環基としては、チエニル基、ベンゾチ
エニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル
基などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0125】また、 Ar24,Ar25,Ar26,Ar27
およびAr28で示されるアリレン基としては、R22,R
23,R24 およびR25で示した上記のアリール基の2価
基が挙げられ、同一であっても異なってもよい。Further, Ar 24 , Ar 25 , Ar 26 , Ar 27
And arylene groups represented by Ar 28 include R 22 , R
The divalent groups of the above aryl groups represented by 23 , R 24 and R 25 may be mentioned, and may be the same or different.
【0126】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、好ましくは、 C1〜 C12
とりわけC1〜 C8 、さらに好ましくはC1〜 C4 の直
鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜 C4
のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、C1
〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜 C4 のアルコキシ
基で置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的に
は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロピ
ル基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-ブ
チル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル
基、2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキ
シエチル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチ
ルベンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベン
ジル基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR118)としては、R118は
(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-シ
アノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジル
オキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜 C
4 のアルコキシ基、C1〜 C4 のアルキル基またはハロ
ゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、
フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ
基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、
4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオキシ
基等が挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基と
しては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、p-メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
(2)で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル-N−プ
ロピルアミノ基、N,N-ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 (7)アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。The above aryl group and arylene group may have the following groups as substituents. (1) Halogen atom, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group. (2) The alkyl group is preferably C 1 -C 12
In particular, it is a C 1 -C 8 , more preferably a C 1 -C 4 linear or branched alkyl group, and these alkyl groups further include a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 4 group.
An alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom, C 1
It may contain a phenyl group substituted with a C 4 to C 4 alkyl group or a C 1 to C 4 alkoxy group. Specifically, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, t-butyl, s-butyl, n-butyl, i-butyl, trifluoromethyl, 2-hydroxyethyl Group, 2-cyanoethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxyethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group, 4-methoxybenzyl group, 4-phenylbenzyl group and the like. (3) As the alkoxy group (—OR 118 ), R 118 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-cyano Examples include an ethoxy group, a benzyloxy group, a 4-methylbenzyloxy group, and a trifluoromethoxy group. (4) Examples of the aryloxy group include a phenyl group and a naphthyl group as the aryl group. These are C 1 -C
It may contain a 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkyl group or a halogen atom as a substituent. In particular,
Phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group,
4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy group and the like. (5) Specific examples of the substituted mercapto group or arylmercapto group include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, and a p-methylphenylthio group. (6) As the alkyl-substituted amino group, the alkyl group represents the alkyl group defined in (2). Specific examples include a dimethylamino group, a diethylamino group, an N-methyl-N-propylamino group, and an N, N-dibenzylamino group. (7) Specific examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a malonyl group, and a benzoyl group.
【0127】Xは下記一般式(L)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(L)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is the main chain of the diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (L) when the diol compound is polymerized by a phosgene method, a transesterification method or the like. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (L) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0128】[0128]
【化23】 一般式(B)のジオール化合物は一般式1と同じものが
挙げられる。Embedded image As the diol compound of the general formula (B), the same compounds as those of the general formula 1 can be mentioned.
【0129】[0129]
【化24】 Embedded image
【0130】式中、R26,R27 は置換もしくは無置換
のアリール基、 Ar29,Ar30,Ar 31は同一又は異
なるアリレン基を表す。 X,k,jおよびnは、一般
式1の場合と同じである。In the formula, R26, R27Is substituted or unsubstituted
Aryl group of Ar29, Ar30, Ar 31Are the same or different
Represents an arylene group. X, k, j and n are general
This is the same as in the case of Expression 1.
【0131】一般式10の具体例 R26,R27 は置換もしくは無置換のアリール基を表す
が、その具体例としては以下のものを挙げることがで
き、同一であっても異なってもよい。Specific examples of general formula 10 R 26 and R 27 each represent a substituted or unsubstituted aryl group. Specific examples thereof include the following, which may be the same or different.
【0132】芳香族炭化水素基として、フェニル基、縮
合多環基としてナフチル基、ピレニル基、2-フルオレニ
ル基、9,9-ジメチル-2-フルオレニル基、アズレニル
基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル
基、フルオレニリデンフェニル基、5H-ジベンゾ
[a,d]シクロヘプテニリデンフェニル基、非縮合多
環基としてビフェニリル基、ターフェニリル基などが挙
げられる。Phenyl group as aromatic hydrocarbon group, naphthyl group, pyrenyl group, 2-fluorenyl group, 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, azulenyl group, anthryl group, triphenylenyl group, chrysenyl as condensed polycyclic group Group, fluorenylidenephenyl group, 5H-dibenzo
[A, d] Cycloheptenylidenephenyl group, biphenylyl group, terphenylyl group and the like as non-fused polycyclic group.
【0133】複素環基として、チエニル基、ベンゾチエ
ニル基、フリル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基
などが挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a thienyl group, a benzothienyl group, a furyl group, a benzofuranyl group and a carbazolyl group.
【0134】また、Ar29,Ar30 およびAr31 で示
されるアリレン基としてはR26 およびR27で示したア
リール基の2価基が挙げられ、同一であっても異なって
もよい。The arylene groups represented by Ar 29 , Ar 30 and Ar 31 include the divalent groups of the aryl groups represented by R 26 and R 27 , which may be the same or different.
【0135】上述のアリール基及びアリレン基は以下に
示す基を置換基として有してもよい。 (1)ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シアノ
基、ニトロ基。 (2)アルキル基としては、好ましくは、C1〜 C12
とりわけC1〜 C8 、さらに好ましくはC1〜 C4 の直
鎖または分岐鎖のアルキル基であり、これらのアルキル
基はさらにフッ素原子、水酸基、シアノ基、C1〜 C4
のアルコキシ基、フェニル基、又はハロゲン原子、C1
〜 C4 のアルキル基もしくはC1〜C4のアルコキシ基で
置換されたフェニル基を含有しても良い。具体的には、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、i-プロピル
基、t-ブチル基、s-ブチル基、n-ブチル基、i-ブチ
ル基、トリフルオロメチル基、2-ヒドロキシエチル基、
2-シアノエチル基、2-エトキシエチル基、2-メトキシエ
チル基、ベンジル基、4-クロロベンジル基、4-メチルベ
ンジル基、4-メトキシベンジル基、4-フェニルベンジル
基等が挙げられる。 (3)アルコキシ基(−OR119)としては、 R119は
(2)で定義したアルキル基を表わす。具体的には、メ
トキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポ
キシ基、t−ブトキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキ
シ基、i−ブトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-シ
アノエトキシ基、ベンジルオキシ基、4-メチルベンジル
オキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。 (4)アリールオキシ基としては、アリール基としてフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。これは、C1〜 C
4 のアルコキシ基、C1〜 C4 のアルキル基またはハロ
ゲン原子を置換基として含有しても良い。具体的には、
フェノキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ
基、4-メチルフェノキシ基、4-メトキシフェノキシ基、
4-クロロフェノキシ基、6-メチル−2−ナフチルオキシ
基等が挙げられる。 (5)置換メルカプト基またはアリールメルカプト基と
しては、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、p-メチルフェニルチオ基等が挙げられ
る。 (6)アルキル置換アミノ基としては、アルキル基は
(2)で定義したアルキル基を表す。具体的には、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、N−メチル-N−プ
ロピルアミノ基、N,N-ジベンジルアミノ基等が挙げ
られる。 (7)アシル基としては、具体的にはアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、マロニル基、ベンゾイル基等
が挙げられる。The above aryl group and arylene group may have the following groups as substituents. (1) Halogen atom, trifluoromethyl group, cyano group, nitro group. (2) The alkyl group is preferably C 1 -C 12
In particular, it is a C 1 -C 8 , more preferably a C 1 -C 4 linear or branched alkyl group, and these alkyl groups further include a fluorine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 4 group.
An alkoxy group, a phenyl group, or a halogen atom, C 1
It may contain a phenyl group substituted with a C 4 to C 4 alkyl group or a C 1 to C 4 alkoxy group. In particular,
Methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, t-butyl group, s-butyl group, n-butyl group, i-butyl group, trifluoromethyl group, 2-hydroxyethyl group,
Examples include a 2-cyanoethyl group, a 2-ethoxyethyl group, a 2-methoxyethyl group, a benzyl group, a 4-chlorobenzyl group, a 4-methylbenzyl group, a 4-methoxybenzyl group, and a 4-phenylbenzyl group. (3) As the alkoxy group (—OR 119 ), R 119 represents the alkyl group defined in (2). Specifically, methoxy, ethoxy, n-propoxy, i-propoxy, t-butoxy, n-butoxy, s-butoxy, i-butoxy, 2-hydroxyethoxy, 2-cyano Examples include an ethoxy group, a benzyloxy group, a 4-methylbenzyloxy group, and a trifluoromethoxy group. (4) Examples of the aryloxy group include a phenyl group and a naphthyl group as the aryl group. These are C 1 -C
It may contain a 4 alkoxy group, a C 1 -C 4 alkyl group or a halogen atom as a substituent. In particular,
Phenoxy group, 1-naphthyloxy group, 2-naphthyloxy group, 4-methylphenoxy group, 4-methoxyphenoxy group,
4-chlorophenoxy group, 6-methyl-2-naphthyloxy group and the like. (5) Specific examples of the substituted mercapto group or arylmercapto group include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, and a p-methylphenylthio group. (6) As the alkyl-substituted amino group, the alkyl group represents the alkyl group defined in (2). Specific examples include a dimethylamino group, a diethylamino group, an N-methyl-N-propylamino group, and an N, N-dibenzylamino group. (7) Specific examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a malonyl group, and a benzoyl group.
【0136】Xは下記一般式(M)のトリアリールアミ
ノ基を有するジオール化合物をホスゲン法、エステル交
換法等を用い重合するとき、下記一般式(B)のジオー
ル化合物を併用することにより主鎖中に導入される。こ
の場合、製造されるポリカーボネート樹脂はランダム共
重合体、又はブロック共重合体となる。また、Xは下記
一般式(M)のトリアリールアミノ基を有するジオール
化合物と下記一般式(B)から誘導されるビスクロロホ
ーメートとの重合反応によっても繰り返し単位中に導入
される。この場合、製造されるポリカーボネートは交互
共重合体となる。X is the main chain when a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (M) is polymerized by a phosgene method, a transesterification method or the like, by using a diol compound represented by the following general formula (B) in combination. Introduced inside. In this case, the produced polycarbonate resin becomes a random copolymer or a block copolymer. X is also introduced into the repeating unit by a polymerization reaction between a diol compound having a triarylamino group represented by the following general formula (M) and a bischloroformate derived from the following general formula (B). In this case, the polycarbonate produced is an alternating copolymer.
【0137】[0137]
【化25】 一般式(B)のジオール化合物は一般式1と同じものが
挙げられる。Embedded image As the diol compound of the general formula (B), the same compounds as those of the general formula 1 can be mentioned.
【0138】次に、本発明に用いられる高分子電荷輸送
物質の電荷輸送構造について述べる。電荷輸送構造とは
以下のような構造単位を指す。 カルバゾール構造、ヒドラゾン構造、ピラゾリン
構造、トリアリールアミン構造、アミジン構造、
ジアルキルアミノ基等の電子供与性基又はニトロ基、シ
アノ基等の電子吸引性基を有するアントラセン、ピレ
ン、フェナンスレン等の縮合多環構造、電子吸引性基
又は電子供与性基を有するヘテロ環構造、また、この
〜の構造にアリル基、アリール基等のπ電子共役系が
直接拡張した置換基、窒素原子、酸素原子等の不対電子
を介在し共役系が拡張した置換基が存在した場合これら
の置換基も電荷輸送構造として上記構造単位に含める。
また上記共役系にアルキル基が存在した場合、第一個目
の炭化水素部も電荷輸送構造単位に含める。Next, the charge transport structure of the polymer charge transport material used in the present invention will be described. The charge transport structure refers to the following structural unit. Carbazole structure, hydrazone structure, pyrazoline structure, triarylamine structure, amidine structure,
An electron-donating group such as a dialkylamino group or a nitro group, anthracene having an electron-withdrawing group such as a cyano group, pyrene, a fused polycyclic structure such as phenanthrene, a heterocyclic structure having an electron-withdrawing group or an electron-donating group, In addition, when a π-electron conjugate system such as an allyl group or an aryl group is directly extended in a structure of the above-described structure, or a substituent whose conjugate system is expanded by intervening an unpaired electron such as a nitrogen atom or an oxygen atom, these Is included in the above structural unit as a charge transport structure.
When an alkyl group is present in the conjugated system, the first hydrocarbon portion is also included in the charge transporting structural unit.
【0139】これらの電荷輸送構造の中で、高移動度構
造単位であるトリアリールアミン構造が特に有用であ
る。具体例としてはトリフェニルアミン、ジフェニルア
ミノビフェニル、テトラフェニルベンジジン、テトラフ
ェニルフェニレンジアミン、またこれらにスチリル基、
アリールエーテル基等で共役系を拡張させた構造が挙げ
られる。Among these charge transport structures, a triarylamine structure, which is a high-mobility structural unit, is particularly useful. Specific examples include triphenylamine, diphenylaminobiphenyl, tetraphenylbenzidine, tetraphenylphenylenediamine, and styryl groups,
A structure in which a conjugated system is expanded by an aryl ether group or the like can be given.
【0140】本発明においては高分子電荷輸送物質の電
荷輸送構造が高分子電荷輸送物質全分子量の30重量%
以上、70重量%以下であることを特徴としたものであ
るが、かかる電荷輸送構造の割合は高分子電荷輸送性物
質の全分子量に対し上記電荷輸送構造単位の分子量がこ
の範囲にあることを指している。In the present invention, the charge transport structure of the polymer charge transport material is 30% by weight of the total molecular weight of the polymer charge transport material.
As described above, the content of the charge transporting structure is not more than 70% by weight, and the ratio of the charge transporting structure is such that the molecular weight of the charge transporting structural unit is in this range with respect to the total molecular weight of the polymer charge transporting substance. pointing.
【0141】以下図面に沿って本発明で用いられる電子
写真感光体を詳細に説明する。本発明において感光層
は、電荷発生物質が電荷輸送層中に分散された単層型電
子写真感光体、導電性支持体側より電荷発生層、電荷輸
送層が順次積層された積層型電子写真感光体のいずれか
の構成で用いられる。これらの構成のうち、まず積層型
感光体について説明する。The electrophotographic photosensitive member used in the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In the present invention, the photosensitive layer is a single-layer type electrophotographic photoreceptor in which a charge generating substance is dispersed in a charge transporting layer, and a laminated type electrophotographic photoreceptor in which a charge generating layer and a charge transporting layer are sequentially laminated from the conductive support side. Used in any one of the above configurations. Of these configurations, the laminated photoconductor will be described first.
【0142】図1は、本発明の電子写真感光体の一例を
模式的に示す断面図であり、導電性支持体21上に電荷
発生層22と電荷輸送層23との積層からなる感光層2
4が設けられている。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing one example of the electrophotographic photosensitive member of the present invention, in which a photosensitive layer 2 comprising a charge generating layer 22 and a charge transporting layer 23 on a conductive support 21 is shown.
4 are provided.
【0143】図2は、他の構成の電子写真感光体を模式
的に示す断面図であり、導電性支持体21と感光層24
の間に下引き層25が設けられている。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an electrophotographic photosensitive member having another structure, in which a conductive support 21 and a photosensitive layer 24 are provided.
An undercoating layer 25 is provided between them.
【0144】図3は、別の構成の電子写真感光体を模式
的に示す断面図であり、感光層24上に保護層26が設
けられている。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an electrophotographic photosensitive member having another structure, in which a protective layer 26 is provided on the photosensitive layer 24.
【0145】図4は、さらに別の構成の電子写真感光体
を模式的に示す断面図であり、導電性支持体21と感光
層24の間に下引き層25が設けられ、感光層24の上
に保護層26が設けられている。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an electrophotographic photosensitive member having still another configuration. An undercoat layer 25 is provided between a conductive support 21 and a photosensitive layer 24. A protective layer 26 is provided thereon.
【0146】導電性支持体21としては、体積抵抗10
10Ω・cm以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウ
ム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、
鉄などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの酸化物
を、蒸着またはスパッタリングによりフィルム状もしく
は円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、あるい
はアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステン
レスなどの板およびそれらをD.I.,I.I.,押出
し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、
研磨などで表面処理した管などを使用することが出来
る。As the conductive support 21, a volume resistance of 10
Those exhibiting conductivity of 10 Ωcm or less, such as aluminum, nickel, chromium, nichrome, copper, silver, gold, platinum,
Metals such as iron, oxides such as tin oxide and indium oxide coated on film or cylindrical plastic or paper by evaporation or sputtering, or plates made of aluminum, aluminum alloy, nickel, stainless steel, etc. D. I. , I .; I. , Extrusion, drawing, etc., after forming into a tube, cutting, super finishing,
A tube or the like that has been surface-treated by polishing or the like can be used.
【0147】次に、電荷発生層22について説明する。
電荷発生層2は、電荷発生物質を主成分とする層で、必
要に応じてバインダ−樹脂を用いることもある。電荷発
生物質としては、無機系材料と有機系材料を用いること
ができる。Next, the charge generation layer 22 will be described.
The charge generation layer 2 is a layer containing a charge generation substance as a main component, and may use a binder resin as needed. As the charge generation substance, an inorganic material and an organic material can be used.
【0148】無機系材料には、結晶セレン、アモルファ
ス・セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−ハロゲ
ン、セレン−ヒ素化合物や、アモルファス・シリコン等
が挙げられる。アモルファス・シリコンにおいては、ダ
ングリングボンドを水素原子、ハロゲン原子でタ−ミネ
−トしたものや、ホウ素原子、リン原子等をド−プした
ものが良好に用いられる。Examples of the inorganic material include crystalline selenium, amorphous selenium, selenium-tellurium, selenium-tellurium-halogen, selenium-arsenic compounds, and amorphous silicon. In the case of amorphous silicon, a material obtained by terminating a dangling bond with a hydrogen atom or a halogen atom, or a material obtained by doping a boron atom, a phosphorus atom or the like is preferably used.
【0149】一方、有機系材料としては、公知の材料を
用いることが出来る。例えば、金属フタロシアニン、無
金属フタロシアニンなどのフタロシアニン系顔料、アズ
レニウム塩顔料、スクエアリック酸メチン顔料、カルバ
ゾ−ル骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格
を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ
顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フル
オレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾ−ル骨格
を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔
料、ジスチリルオキサジアゾ−ル骨格を有するアゾ顔
料、ジスチリルカルバゾ−ル骨格を有するアゾ顔料、ペ
リレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔
料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフ
ェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系
顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系
顔料、ビスベンズイミダゾ−ル系顔料などが挙げられ
る。これらの電荷発生物質は、単独または2種以上の混
合物として用いることができる。On the other hand, known materials can be used as the organic material. For example, phthalocyanine pigments such as metal phthalocyanine and metal-free phthalocyanine, azulhenium salt pigments, methine squaric acid pigments, azo pigments having a carbazole skeleton, azo pigments having a triphenylamine skeleton, azo pigments having a diphenylamine skeleton, dibenzo Azo pigment having a thiophene skeleton, azo pigment having a fluorenone skeleton, azo pigment having an oxadiazol skeleton, azo pigment having a bisstilbene skeleton, azo pigment having a distyryl oxadiazol skeleton, distyryl carbazole skeleton Azo pigments, perylene pigments, anthraquinone pigments or polycyclic quinone pigments, quinone imine pigments, diphenylmethane and triphenylmethane pigments, benzoquinone and naphthoquinone pigments, cyanine and azomethine pigments, Jigoido pigments, bisbenzimidazo - such as Le based pigments. These charge generating substances can be used alone or as a mixture of two or more.
【0150】電荷発生層22に必要に応じて用いられる
バインダ−樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、
エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカ−ボネ−ト、シリコ
−ン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラ−ル、ポリ
ビニルホルマ−ル、ポリビニルケトン、ポリスチレン、
ポリ−N−ビニルカルバゾ−ル、ポリアクリルアミドな
どが用いられる。これらのバインダ−樹脂は、単独また
は2種以上の混合物として用いることができる。また、
電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹
脂の他に、先述の高分子電荷輸送物質を用いることがで
きる。更に、必要に応じて低分子電荷輸送物質を添加し
てもよい。The binder resin optionally used for the charge generation layer 22 includes polyamide, polyurethane,
Epoxy resin, polyketone, polycarbonate, silicone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl ketone, polystyrene,
Poly-N-vinyl carbazole, polyacrylamide and the like are used. These binder resins can be used alone or as a mixture of two or more. Also,
As the binder resin for the charge generation layer, the above-described polymer charge transport material can be used in addition to the binder resin described above. Further, a low molecular charge transport material may be added as needed.
【0151】電荷発生層22に併用できる低分子電荷輸
送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。The low-molecular-weight charge transporting material that can be used in combination with the charge generating layer 22 includes a hole transporting material and an electron transporting material.
【0152】電子輸送物質としては、たとえばクロルア
ニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシ
アノキノジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−フル
オレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオ
レノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン、
2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8−
トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェン
−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフェ
ン−5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げ
られる。これらの電子輸送物質は、単独または2種以上
の混合物として用いることが出来る。Examples of the electron transporting material include chloranil, bromanil, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitroxanthone,
2,4,8-trinitrothioxanthone, 2,6,8-
Electron accepting substances such as trinitro-4H-indeno [1,2-b] thiophen-4-one and 1,3,7-trinitrodibenzothiophene-5,5-dioxide are exemplified. These electron transport materials can be used alone or as a mixture of two or more.
【0153】正孔輸送物質としては、以下に表わされる
電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。たとえ
ば、オキサゾ−ル誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、イ
ミダゾ−ル誘導体、トリフェニルアミン誘導体、9−
(p−ジエチルアミノスチリルアントラセン)、1,1
−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニル)プロパン、
スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニル
ヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾ
−ル誘導体、トリアゾ−ル誘導体、フェナジン誘導体、
アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダ
ゾ−ル誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。こ
れらの正孔輸送物質は、単独または2種以上の混合物と
して用いることが出来る。As the hole transporting material, the following electron donating materials can be used, and are preferably used. For example, oxazole derivatives, oxadiazol derivatives, imidazole derivatives, triphenylamine derivatives, 9-
(P-diethylaminostyrylanthracene), 1,1
-Bis- (4-dibenzylaminophenyl) propane,
Styryl anthracene, styryl pyrazoline, phenylhydrazones, α-phenylstilbene derivatives, thiazole derivatives, triazole derivatives, phenazine derivatives,
Examples include acridine derivatives, benzofuran derivatives, benzimidazole derivatives, and thiophene derivatives. These hole transport materials can be used alone or as a mixture of two or more.
【0154】電荷発生層22を形成する方法には、真空
薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大
きく挙げられる。The method for forming the charge generation layer 22 includes a vacuum thin film preparation method and a casting method from a solution dispersion system.
【0155】前者の方法には、真空蒸着法、グロ−放電
分解法、イオンプレ−ティング法、スパッタリング法、
反応性スパッタリング法、CVD法等が用いられ、上述
した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。The former method includes a vacuum deposition method, a glow discharge decomposition method, an ion plating method, a sputtering method,
Reactive sputtering, CVD, or the like is used, and the above-described inorganic and organic materials can be formed favorably.
【0156】また、後述のキャスティング法によって電
荷発生層を設けるには、上述した無機系もしくは有機系
電荷発生物質を必要ならばバインダ−樹脂と共にテトラ
ヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロ
ロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボ−ルミル、アト
ライタ−、サンドミル等により分散し、分散液を適度に
希釈して塗布することにより、形成できる。塗布は、浸
漬塗工法やスプレ−コ−ト、ビ−ドコ−ト法などを用い
て行なうことができる。In order to form a charge generation layer by the casting method described later, the above-mentioned inorganic or organic charge generation material is used together with a binder resin if necessary using a solvent such as tetrahydrofuran, cyclohexanone, dioxane, dichloroethane or butanone. It can be formed by dispersing with a ball mill, an attritor, a sand mill, or the like, diluting the dispersion liquid appropriately, and applying. The coating can be performed by a dip coating method, a spray coating method, a bead coating method, or the like.
【0157】以上のようにして設けられる電荷発生層の
膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であり、好ましく
は0.05〜2μmである。The thickness of the charge generation layer provided as described above is suitably about 0.01 to 5 μm, and preferably 0.05 to 2 μm.
【0158】次に、電荷輸送層23について説明する。
電荷輸送層23は、高分子電荷輸送物質を主成分とする
層であり、高分子電荷輸送物質を適当な溶剤に溶解ない
し分散し、これを塗布、乾燥することにより形成でき
る。高分子電荷輸送物質は前述の化合物が使用される
が、前述したように高分子電荷輸送物質中の電荷輸送構
造の高分子電荷輸送物質全分子量に対する割合が電荷輸
送層の耐摩耗性及び使用時の帯電安定性に重要である。
高分子電荷輸送物質の電荷輸送層全成分に対する割合は
60重量部以上である。また、電荷輸送層23には必要
により適当な低分子電荷輸送物質、バインター樹脂、可
塑剤やレベリング剤を添加することもできる。Next, the charge transport layer 23 will be described.
The charge transporting layer 23 is a layer containing a polymer charge transporting material as a main component, and can be formed by dissolving or dispersing the polymer charge transporting material in a suitable solvent, coating and drying. The above-mentioned compound is used as the polymer charge transporting material. As described above, the ratio of the charge transporting structure in the polymer charge transporting material to the total molecular weight of the polymer charge transporting material depends on the abrasion resistance of the charge transporting layer and the time of use. Is important for the charge stability of the toner.
The ratio of the polymer charge transport material to all components of the charge transport layer is 60 parts by weight or more. If necessary, a suitable low-molecular charge transport material, a binder resin, a plasticizer, and a leveling agent can be added to the charge transport layer 23.
【0159】電荷輸送層23に併用できる低分子電荷輸
送物質は、電荷発生層22の説明に記載したものと同じ
ものを用いることができる。低分子電荷輸送物質の使用
量は、電荷輸送層全成分に対する0〜10重量部程度が
適当でこれ以上であると電荷輸送層の耐摩耗性が損なわ
れる。As the low-molecular charge transporting substance that can be used in combination with the charge transporting layer 23, the same substance as described in the description of the charge generating layer 22 can be used. The amount of the low molecular weight charge transporting substance to be used is suitably about 0 to 10 parts by weight based on all components of the charge transporting layer, and if it is more than this, the wear resistance of the charge transporting layer is impaired.
【0160】電荷輸送層23に併用できるバインダ−樹
脂としては、ポリカ−ボネ−ト(ビスフェノ−ルAタイ
プ、ビスフェノ−ルZタイプ)、ポリエステル、メタク
リル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル、酢酸ビニル、ポ
リスチレン、フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド樹脂、シリコン
樹脂、ポリビニルカルバゾ−ル、ポリビニルブチラ−
ル、ポリビニルホルマ−ル、ポリアクリレ−ト、ポリア
クリルアミド、フェノキシ樹脂などが用いられる。これ
らのバインダ−は、単独または2種以上の混合物として
用いることが出来る。バインダー樹脂の使用量は、高分
子電荷輸送物質100重量部に対して0〜70重量部程
度が適当である。Examples of the binder resin that can be used in combination with the charge transport layer 23 include polycarbonate (bisphenol A type, bisphenol Z type), polyester, methacrylic resin, acrylic resin, vinyl chloride, vinyl acetate, and polystyrene. , Phenol resin, epoxy resin, polyurethane, polyvinylidene chloride, alkyd resin, silicone resin, polyvinyl carbazole, polyvinyl butyral
, Polyvinyl formal, polyacrylate, polyacrylamide, phenoxy resin and the like. These binders can be used alone or as a mixture of two or more. An appropriate amount of the binder resin is about 0 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer charge transporting substance.
【0161】電荷輸送層23に併用できる可塑剤として
は、ジブチルフタレ−ト、ジオクチルフタレ−ト等の一
般の樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま
使用でき、その使用量は、高分子電荷輸送物質100重
量部に対して0〜30重量部程度が適当である。As the plasticizer that can be used in combination with the charge transport layer 23, those used as plasticizers for general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate can be used as they are, About 0 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the charge transporting material is appropriate.
【0162】電荷輸送層23に併用できるレベリング剤
としては、ジメチルシリコ−ンオイル、メチルフェニル
シリコ−ンオイル等のシリコ−ンオイル類や、側鎖にパ
−フルオロアルキル基を有するポリマ−あるいはオリゴ
マ−が使用され、その使用量は、バインダ−樹脂100
重量部に対して0〜1重量部程度が適当である。電荷輸
送層23の膜厚は、5〜100μm程度が適当であり、
好ましくは、10〜40μm程度が適当である。Examples of the leveling agent which can be used in combination with the charge transport layer 23 include silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, and polymers or oligomers having a perfluoroalkyl group in the side chain. The amount of the binder resin 100
About 0 to 1 part by weight based on parts by weight is appropriate. The thickness of the charge transport layer 23 is suitably about 5 to 100 μm,
Preferably, about 10 to 40 μm is appropriate.
【0163】本発明に用いられる電子写真感光体には、
導電性支持体21と感光層24との間に下引き層25を
設けることができ下引き層25は、接着性を向上する、
モワレなどを防止する、上層の塗工性を改良する、残留
電位を低減する、導電性支持体からの電荷注入を防止す
るなどの目的で設けられる。下引き層25は一般に樹脂
を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶
剤でもって塗布することを考えると、一般の有機溶剤に
たいして耐溶解性の高い樹脂であることが望ましい。こ
のような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイ
ン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合
ナイロン、メトキシメチル化ナイロン、等のアルコール
可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド
−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形
成する硬化型樹脂などが挙げられる。また、酸化チタ
ン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、
酸化インジウム等で例示できる金属酸化物、あるいは金
属硫化物、金属窒化物などの微粉末を加えてもよい。こ
れらの下引き層25は、前術の感光層のごとく適当な溶
媒、塗工法を用いて形成することができる。The electrophotographic photosensitive member used in the present invention includes:
An undercoat layer 25 can be provided between the conductive support 21 and the photosensitive layer 24, and the undercoat layer 25 improves adhesion.
It is provided for the purpose of preventing, for example, moiré, improving the coatability of the upper layer, reducing the residual potential, and preventing charge injection from the conductive support. The undercoat layer 25 generally contains a resin as a main component. However, considering that a photosensitive layer is coated thereon with a solvent, these resins are preferably resins having high solubility resistance to general organic solvents. . Examples of such a resin include water-soluble resins such as polyvinyl alcohol, casein, and sodium polyacrylate, alcohol-soluble resins such as copolymerized nylon and methoxymethylated nylon, polyurethane, melamine resin, alkyd-melamine resin, and epoxy resin. And a curable resin that forms a three-dimensional network structure. Also, titanium oxide, silica, alumina, zirconium oxide, tin oxide,
A fine powder such as a metal oxide exemplified by indium oxide or a metal sulfide or a metal nitride may be added. These undercoat layers 25 can be formed using an appropriate solvent and a coating method as in the case of the photosensitive layer in the previous operation.
【0164】更に本発明の下引き層5として、シランカ
ップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリ
ング剤等を使用して、例えばゾル−ゲル法等により形成
した金属酸化物層も有用である。Further, as the undercoat layer 5 of the present invention, a metal oxide layer formed by a sol-gel method using a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a chromium coupling agent or the like is also useful. .
【0165】この他に、本発明の下引き層25には A
l2O3 を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリ
レン(パリレン)等の有機物や、SiO,SnO2,T
iO2,ITO,CeO2等の無機物を真空薄膜作製法に
て設けたものも良好に使用できる。下引き層の膜厚は0
〜5μmが適当である。In addition, the undercoat layer 25 of the present invention has A
l 2 O 3 provided by anodic oxidation, organic substances such as polyparaxylylene (parylene), SiO, SnO 2 , T
Those provided with an inorganic substance such as iO 2 , ITO, CeO 2 by a vacuum thin film manufacturing method can also be used favorably. The thickness of the undercoat layer is 0
55 μm is appropriate.
【0166】本発明の電子写真感光体には、感光層保護
の目的で、保護層26が感光層24の上に設けられるこ
ともある。これに使用される材料としては、ABS樹
脂、ACS樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合
体、塩素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹
脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、
ポリアクリレート、ポリアリルスルホン、ポリブチレ
ン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチル
ペンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、
ポリスルホン、AS樹脂、AB樹脂、BS樹脂、ポリウ
レタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキ
シ樹脂等の樹脂が挙げられる。保護層にはその他、耐摩
耗性を向上する目的で、ポリテトラフルオロエチレンの
ような弗素樹脂、シリコーン樹脂およびこれら樹脂に酸
化チタン、酸化スズ、チタン酸カリウム等の無機材料を
分散したもの等を添加することができる。In the electrophotographic photosensitive member of the present invention, a protective layer 26 may be provided on the photosensitive layer 24 for the purpose of protecting the photosensitive layer. Materials used for this include ABS resin, ACS resin, olefin-vinyl monomer copolymer, chlorinated polyether, allyl resin, phenol resin, polyacetal, polyamide, polyamideimide,
Polyacrylate, polyallyl sulfone, polybutylene, polybutylene terephthalate, polycarbonate,
Polyether sulfone, polyethylene, polyethylene terephthalate, polyimide, acrylic resin, polymethylpentene, polypropylene, polyphenylene oxide,
Resins such as polysulfone, AS resin, AB resin, BS resin, polyurethane, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and epoxy resin. For the purpose of improving abrasion resistance, the protective layer may be made of a fluororesin such as polytetrafluoroethylene, a silicone resin, or a material in which an inorganic material such as titanium oxide, tin oxide or potassium titanate is dispersed in these resins. Can be added.
【0167】保護層26の形成法としては、通常の塗布
法が採用される。なお、保護層の厚さは、0.5〜10
μm程度が適当である。また、以上のほかに真空薄膜作
製法にて形成したi−C,a−SiCなど公知の材料も
保護層として用いることができる。As a method for forming the protective layer 26, an ordinary coating method is employed. The thickness of the protective layer is 0.5 to 10
About μm is appropriate. In addition to the above, known materials such as iC and a-SiC formed by a vacuum thin film manufacturing method can also be used as the protective layer.
【0168】また、本発明においては、耐環境性の改善
のため、とりわけ、感度低下、残留電位の上昇を防止す
る目的で、酸化防止剤を添加することができる。酸化防
止剤は、有機物を含む層ならばいずれに添加してもよい
が、電荷輸送層に添加すると良好な結果が得られる。In the present invention, an antioxidant can be added for the purpose of improving environmental resistance, especially for the purpose of preventing a decrease in sensitivity and an increase in residual potential. The antioxidant may be added to any layer containing an organic substance, but good results are obtained when it is added to the charge transport layer.
【0169】本発明に用いることができる酸化防止剤と
して、下記のものが挙げられる。 フェノ−ル系化合物 2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾ−ル、ブチル化ヒ
ドロキシアニソ−ル、2,6−ジ−t−ブチル−4−エ
チルフェノ−ル、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−ト、
2,2’−メチレン−ビス−(4−メチル−6−t−ブ
チルフェノ−ル)、2,2’−メチレン−ビス−(4−
エチル−6−t−ブチルフェノ−ル)、4,4’−チオ
ビス−(3−メチル−6−t−ブチルフェノ−ル)、
4,4’−ブチリデンビス−(3−メチル−6−t−ブ
チルフェノ−ル)、1,1,3−トリス−(2−メチル
−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、
1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼ
ン、テトラキス−[メチレン−3−(3’,5’−ジ−
t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−
ト]メタン、ビス[3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ
−3’−t−ブチルフェニル)ブチリックアッシド]ク
リコ−ルエステル、トコフェロ−ル類など。Examples of the antioxidants that can be used in the present invention include the following. Phenol compounds 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-tert-butyl-4-ethylphenol, stearyl-β- (3 , 5-di-t-
Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate,
2,2'-methylene-bis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylene-bis- (4-
Ethyl-6-t-butylphenol), 4,4'-thiobis- (3-methyl-6-t-butylphenol),
4,4′-butylidenebis- (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1,3-tris- (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane,
1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5
-Di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene-3- (3 ', 5'-di-
t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propione-
G] methane, bis [3,3'-bis (4'-hydroxy-3'-t-butylphenyl) butyric acid] cricol ester, tocopherols and the like.
【0170】パラフェニレンジアミン類 N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジ
アミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレ
ンジアミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−
フェニレンジアミン、N,N’−ジ−イソプロピル−p
−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−N,N’
−ジ−t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。Paraphenylenediamines N-phenyl-N'-isopropyl-p-phenylenediamine, N, N'-di-sec-butyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-N-sec-butyl-p-
Phenylenediamine, N, N'-di-isopropyl-p
-Phenylenediamine, N, N'-dimethyl-N, N '
-Di-t-butyl-p-phenylenediamine and the like.
【0171】ハイドロキノン類 2,5−ジ−t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジ
ドデシルハイドロキノン、2−ドデシルハイドロキノ
ン、2−ドデシル−5−クロロハイドロキノン、2−t
−オクチル−5−メチルハイドロキノン、2−(2−オ
クタデセニル)−5−メチルハイドロキノンなど。Hydroquinones 2,5-di-t-octylhydroquinone, 2,6-didodecylhydroquinone, 2-dodecylhydroquinone, 2-dodecyl-5-chlorohydroquinone, 2-t
-Octyl-5-methylhydroquinone, 2- (2-octadecenyl) -5-methylhydroquinone and the like.
【0172】有機硫黄化合物類 ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネ−ト、ジステ
アリル−3,3’−チオジプロピオネ−ト、ジテトラデ
シル−3,3’−チオジプロピオネ−トなど。Organic sulfur compounds: dilauryl-3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,3'-thiodipropionate, ditetradecyl-3,3'-thiodipropionate and the like.
【0173】有機燐化合物類 トリフェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホス
フィン、トリ(ジノニルフェニル)ホスフィン、トリク
レジルホスフィン、トリ(2,4−ジブチルフェノキ
シ)ホスフィンなど。Organic phosphorus compounds Triphenylphosphine, tri (nonylphenyl) phosphine, tri (dinonylphenyl) phosphine, tricresylphosphine, tri (2,4-dibutylphenoxy) phosphine and the like.
【0174】これら化合物は、ゴム、プラスチック、油
脂類などの酸化防止剤として知られており、市販品を容
易に入手できる。These compounds are known as antioxidants for rubbers, plastics, fats and oils, and commercially available products can be easily obtained.
【0175】本発明における酸化防止剤の添加量は、高
分子電荷輸送物質100重量部に対して0.1〜30重
量部である。In the present invention, the addition amount of the antioxidant is 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer charge transporting substance.
【0176】次に本発明の感光層が単層構成からなる電
子写真感光体について説明する。単層構成の感光体と
は、前記図1〜4の電荷発生層と電荷輸送層の積層構成
からなる感光層が単独層になったもので、電荷発生物質
が高分子電荷輸送物質を主成分としする電荷輸送層中に
分散されたものを指す。この構成において電荷発生物質
は前記のしたものと同様なものを用いることができ、そ
の使用量は感光層全盛分に対し0.1〜10重量部であ
る。また、単層構成の感光層へは前記電荷輸送層23に
記載した添加物を同様に併用することができ、電荷輸送
層と同様な膜厚で用いられる。Next, an electrophotographic photosensitive member having a single-layered photosensitive layer according to the present invention will be described. The photoreceptor having a single layer structure is a single layer of the photosensitive layer having the laminated structure of the charge generation layer and the charge transport layer shown in FIGS. 1 to 4, wherein the charge generation material is mainly composed of a polymer charge transport material. And dispersed in the charge transport layer. In this configuration, the same charge generation substance as described above can be used, and the amount of the charge generation substance is 0.1 to 10 parts by weight with respect to the whole photosensitive layer. Further, the additive described in the charge transport layer 23 can be similarly used in the single-layered photosensitive layer, and is used in the same thickness as the charge transport layer.
【0177】更に、必要に応じて単層構成の感光層に前
記下引き層25、保護層26を設けることができる。Further, if necessary, the undercoat layer 25 and the protective layer 26 can be provided on a single-layer photosensitive layer.
【0178】[0178]
【発明の実施の形態】次に、実施例によって本発明を更
に詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定され
るものではない。尚、実施例中使用する部は、すべて重
量部を表わす。Now, the present invention will be described in further detail with reference to Examples. However, it should be understood that the present invention is by no means restricted to such specific Examples. All parts used in the examples are parts by weight.
【0179】実施例1 φ30mmのアルミニウムドラム上に、下記組成の下引
き層用塗工液、電荷発生層用塗工液、電荷輸送層用塗工
液を順次、塗布乾燥することにより、3.5μmの下引
き層、0.2μmの電荷発生層、22μmの電荷輸送層
を形成して、本発明の電子写真感光体を得た。Example 1 A coating liquid for an undercoat layer, a coating liquid for a charge generation layer, and a coating liquid for a charge transport layer were sequentially coated and dried on an aluminum drum having a diameter of 30 mm. An electrophotographic photoreceptor of the present invention was obtained by forming a 5 μm undercoat layer, a 0.2 μm charge generation layer, and a 22 μm charge transport layer.
【0180】〔下引き層用塗工液〕 アルキッド樹脂(ベッコゾール 1307−60−E
L,大日本インキ化学工業製) 6部 メラミン樹脂(スーパーベッカミン G−821−6
0,大日本インキ化学工業製) 4部 酸化チタン40部 メチルエチルケトン
50部[Coating liquid for undercoat layer] Alkyd resin (Veccosol 1307-60-E)
L, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 6 parts Melamine resin (Super Beckamine G-821-6)
0, Dainippon Ink and Chemicals) 4 parts Titanium oxide 40 parts Methyl ethyl ketone
50 copies
【0181】〔電荷発生層用塗工液〕 オキソチタニウムフタロシアニン顔料
3部 ポリビニルブチラール(XYHL,UCC製)
2部 テトラヒドロフラン
120部[Coating Liquid for Charge Generating Layer] Oxo titanium phthalocyanine pigment
3 parts polyvinyl butyral (XYHL, UCC)
2 parts tetrahydrofuran
120 copies
【0182】〔電荷輸送層用塗工液〕 高分子電荷輸送物質:[Coating Solution for Charge Transport Layer] Polymer charge transport material:
【化26】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0183】実施例2 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Example 2 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化27】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0184】実施例3 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Example 3 A photoconductor was prepared in the same manner as that of Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化28】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0185】実施例4 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Example 4 A photoconductor was prepared in the same manner as that of Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化29】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0186】実施例5 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Example 5 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化30】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0187】実施例6 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Example 6 A photoconductor was prepared in the same manner as that of Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化31】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0188】実施例7 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Example 7 A photoconductor was prepared in the same manner as that of Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化32】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0189】実施例8 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Example 8 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化33】 9部Embedded image 9 copies
【0190】低分子電荷輸送物質Low molecular charge transport material
【化34】 1部 塩化メチレン
60部Embedded image 1 part methylene chloride
60 parts
【0191】比較例1 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Comparative Example 1 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化35】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0192】比較例2 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Comparative Example 2 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化36】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0193】比較例3 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Comparative Example 3 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化37】 10部 塩化メチレン
65部Embedded image 10 parts methylene chloride
65 parts
【0194】比較例4 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Comparative Example 4 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化38】 9部Embedded image 9 copies
【0195】低分子電荷輸送物質Low molecular charge transport material
【化39】 1部 塩化メチレン
60部Embedded image 1 part methylene chloride
60 parts
【0196】比較例5 実施例1の電荷輸送塗工液を以下のように変更した以外
は実施例1と全く同様にして感光体を作製した。 高分子電荷輸送物質:Comparative Example 5 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the charge transport coating solution of Example 1 was changed as follows. Polymer charge transport material:
【化40】 8部Embedded image 8 copies
【0197】低分子電荷輸送物質Low molecular charge transport material
【化41】 2部 塩化メチレン
60部Embedded image 2 parts methylene chloride
60 parts
【0198】比較例6 実施例1における電荷輸送層用塗工液を以下のものに変
更した以外は、実施例1と全く同様に感光体を作製し
た。 〔電荷輸送層用塗工液〕 ビスフェーノルAポリカーボネート(パンライトC14
00,帝人化成製)10部Comparative Example 6 A photoconductor was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for the charge transport layer in Example 1 was changed to the following. [Coating liquid for charge transport layer] Bisphenol A polycarbonate (Panlite C14
00, Teijin Chemicals) 10 parts
【0199】低分子電荷輸送物質:Low molecular charge transport material:
【化42】 10部 塩化メチレン
100部Embedded image 10 parts methylene chloride
100 copies
【0200】以上のように作製した実施例1〜8および
比較例1〜6の電子写真感光体を実装用にした後、以下
のようにして評価を行った。 [実機ランニング特性評価方法]市販電子写真複写機イ
マジオMF2200[(株)リコ−製]により、それぞ
れの感光体について5万枚の通紙試験を行った。通紙試
験中及び通紙試験後に感光体の、画像品質特性、感光層
摩耗量の評価を適時行った。 画像品質:ベタ濃度、細線再現性、異常画像等総合的に
評価 摩耗量:実機ランニングによる感光層膜厚減少量 評価結果を表1に示す。After the electrophotographic photoreceptors of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 produced as described above were used for mounting, they were evaluated as follows. [Evaluation method of actual machine running characteristics] 50,000 sheets of each photosensitive member were subjected to a paper passing test using a commercially available electrophotographic copying machine Imagio MF2200 (manufactured by Ricoh Co., Ltd.). During and after the paper passing test, the evaluation of the image quality characteristics and the wear amount of the photosensitive layer of the photoreceptor was performed at appropriate times. Image quality: Comprehensive evaluation of solid density, fine line reproducibility, abnormal image, etc. Abrasion: Amount of decrease in photosensitive layer thickness due to actual machine running The evaluation results are shown in Table 1.
【0201】[0201]
【表1】 【table 1】
【0202】表1より明らかなように、本発明の特許請
求の範囲を満たす実施例1〜8の電子写真感光体は、感
光層の摩耗が少なく、高画質な画像を長期間安定して得
られる事がわかる。一方、比較例1、2、5、6の感光
体は摩耗による異常画像が発生し、比較例3、4の感光
体は耐摩耗性は良好であるが露光部電位が高いため画像
濃度不良が発生した。As is clear from Table 1, the electrophotographic photoreceptors of Examples 1 to 8 satisfying the claims of the present invention have low abrasion of the photosensitive layer and can stably produce high-quality images for a long period of time. I understand that it can be done. On the other hand, the photosensitive members of Comparative Examples 1, 2, 5, and 6 generate abnormal images due to abrasion, and the photosensitive members of Comparative Examples 3 and 4 have good abrasion resistance, but have high image potential failure due to a high potential of the exposed portion. Occurred.
【0203】従って、本発明の導電性支持体上に少なく
とも感光層を有する電子写真感光体において、この感光
層が少なくとも高分子電荷輸送物質を含有し、且つこの
高分子電荷輸送物質が高分子電荷輸送物質全分子量の3
0重量%以上、70重量%以下の電荷輸送構造を有する
ことにより、耐摩耗性に優れた長寿命、高信頼性を高い
レベルで達成する電子写真感光体を提供することが可能
となるAccordingly, in the electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer on the conductive support of the present invention, the photosensitive layer contains at least a polymer charge transport material, and the polymer charge transport material is a polymer charge transport material. 3 of total molecular weight of transport substance
By having a charge transport structure of 0% by weight or more and 70% by weight or less, it becomes possible to provide an electrophotographic photoreceptor that achieves a long life with excellent abrasion resistance and high reliability at a high level.
【0204】[0204]
【発明の効果】以上説明したように、本発明により耐摩
耗性に優れた長寿命、高信頼性の電子写真感光体を得る
ことができる。As described above, according to the present invention, a long-life, high-reliability electrophotographic photosensitive member having excellent wear resistance can be obtained.
【図1】本発明の電子写真感光体の構成を示す断面図。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of an electrophotographic photosensitive member of the present invention.
【図2】本発明の電子写真感光体の構成を示す断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
【図3】本発明の電子写真感光体の構成を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
【図4】本発明の電子写真感光体の構成を示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a configuration of the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
21・・・導電性支持体 22・・・電荷発生層感光層 23・・・電荷輸送層下引き層 24・・・感光層 25・・・下引き層 26・・・保護層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Conductive support 22 ... Charge generation layer photosensitive layer 23 ... Charge transport layer Undercoat layer 24 ... Photosensitive layer 25 ... Undercoat layer 26 ... Protective layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大田 勝一 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 田村 宏 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 Fターム(参考) 2H068 AA20 AA21 AA37 BB23 BB25 BB26 BB29 BB40 BB49 BB51 BB53 BB54 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Katsuichi Ota 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Inside Ricoh Company (72) Inventor Hiroshi Tamura 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Stock Company Ricoh F term (reference) 2H068 AA20 AA21 AA37 BB23 BB25 BB26 BB29 BB40 BB49 BB51 BB53 BB54
Claims (5)
する電子写真感光体において、この感光層が少なくとも
高分子電荷輸送物質を含有し、且つこの高分子電荷輸送
物質が高分子電荷輸送物質全分子量の30重量%以上、
70重量%以下の電荷輸送構造を有することを特徴とす
る電子写真感光体。1. An electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer on a conductive support, wherein the photosensitive layer contains at least a polymer charge transport material, and the polymer charge transport material is a polymer charge transport material. 30% by weight or more of the molecular weight,
An electrophotographic photosensitive member having a charge transport structure of 70% by weight or less.
ート、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテルの少
なくともいずれか1つの重合体である請求項1記載の電
子写真感光体。2. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the polymer charge transporting material is at least one polymer of polycarbonate, polyurethane, polyester, and polyether.
がトリアリールアミン構造を有する高分子化合物である
請求項1記載の電子写真感光体。3. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the charge transport structure of the polymer charge transport material is a polymer compound having a triarylamine structure.
アミン構造を有するポリカーボネートである請求項1記
載の電子写真感光体。4. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the polymer charge transporting material is a polycarbonate having a triarylamine structure.
順次積層した積層型電子写真感光体である請求項1記載
の電子写真感光体。5. The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the photosensitive layer is a laminated electrophotographic photosensitive member in which a charge generation layer and a charge transport layer are sequentially laminated.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23726199A JP2001066810A (en) | 1999-08-24 | 1999-08-24 | Electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23726199A JP2001066810A (en) | 1999-08-24 | 1999-08-24 | Electrophotographic photoreceptor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001066810A true JP2001066810A (en) | 2001-03-16 |
Family
ID=17012795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23726199A Pending JP2001066810A (en) | 1999-08-24 | 1999-08-24 | Electrophotographic photoreceptor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001066810A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003195535A (en) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Ricoh Co Ltd | Image forming apparatus |
-
1999
- 1999-08-24 JP JP23726199A patent/JP2001066810A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003195535A (en) * | 2001-12-27 | 2003-07-09 | Ricoh Co Ltd | Image forming apparatus |
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