JP2001063114A - Manufacture of thermal head - Google Patents

Manufacture of thermal head

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JP2001063114A
JP2001063114A JP24419099A JP24419099A JP2001063114A JP 2001063114 A JP2001063114 A JP 2001063114A JP 24419099 A JP24419099 A JP 24419099A JP 24419099 A JP24419099 A JP 24419099A JP 2001063114 A JP2001063114 A JP 2001063114A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hole
driver
thermal head
insulating substrate
light
Prior art date
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Pending
Application number
JP24419099A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Shimoseki
善男 下赤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP24419099A priority Critical patent/JP2001063114A/en
Publication of JP2001063114A publication Critical patent/JP2001063114A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture with high yield a thermal head wherein a driver IC is embedded in a hole on an insulating substrate. SOLUTION: In this manufacturing method, a thermal head 11 is manufactured by a process wherein a hole la is formed on an insulating substrate 1, a process wherein a transparent film 3 having a pressure sensitive adhesive on its lower face is adhered to the upper surface of the insulating substrate 1 such that the transparent film 3 covers the hole 1a and a driver IC 6 having a terminal electrode 7 provided on its upper face is disposed in the hole 1a in a condition that the driver IC 6 is attached to the lower face of the transparent film 3, a process wherein the transparent film 3 is processed to be in a predetermined pattern such that a through-hole 3a is formed on the transparent film 3 disposed right above the terminal electrode 7 and a process wherein a thermal head pattern consisting of a heating resistor 4 and a conductive layer 5 is provided on a portion from the upper face of the insulating substrate to the upper face of the transparent film 3 such that a part of the patterns 4, 5 is connected to the terminal electrode 7 through the through-hole 3a.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ワードプロセッサ
やファクシミリ等のプリンタ機構として組み込まれるサ
ーマルヘッドの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a thermal head incorporated as a printer mechanism for a word processor, a facsimile or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、サーマルヘッドを用いてプラスチ
ックカードのような曲げることが困難なメディア等に感
熱記録を行うため、メディアと接するサーマルヘッドの
表面を出来るだけ平坦になす試みがなされている。
2. Description of the Related Art In recent years, attempts have been made to make the surface of a thermal head in contact with a medium as flat as possible in order to perform thermal recording on a medium such as a plastic card which is difficult to bend using a thermal head.

【0003】このような従来のサーマルヘッドとして
は、例えば図4に示すように、複数個の発熱抵抗体12及
び導電層13から成るサーマルヘッドパターンが被着され
ている絶縁基板11の上面に穴部11a を設けるとともに、
該穴部11a 内に前記発熱抵抗体12の発熱を制御するため
のドライバーIC14を埋設した構造のものが知られてお
り、かかる図4のサーマルヘッドによればドライバーI
C14を絶縁基板11の穴部11a に埋設させていることか
ら、絶縁基板11の上面には大きく突出するものが何ら存
在せず、プラスチックカードのような曲げることが困難
なメディアに印画を行なう場合であってもメディアを略
フラットな形状のまま発熱抵抗体12上に搬送して感熱記
録を良好に行うことができる。
As such a conventional thermal head, for example, as shown in FIG. 4, a hole is formed on the upper surface of an insulating substrate 11 on which a thermal head pattern comprising a plurality of heating resistors 12 and a conductive layer 13 is attached. A part 11a is provided,
A structure in which a driver IC 14 for controlling heat generation of the heating resistor 12 is embedded in the hole 11a is known. According to the thermal head shown in FIG.
Since C14 is buried in the hole 11a of the insulating substrate 11, there is no large protrusion on the upper surface of the insulating substrate 11, and printing is performed on a hard-to-bend medium such as a plastic card. Even in this case, the medium can be conveyed onto the heating resistor 12 in a substantially flat shape, and the thermal recording can be performed satisfactorily.

【0004】また前記ドライバーIC14の穴部11a への
固定には、エポキシ樹脂等の接着剤16が使用されてお
り、その固定作業は、まず、端子電極15が設けられてい
るドライバーIC14の上面を固定治具等を用いて絶縁基
板11の上面と同一平面内に配置し、次に穴部11a の内壁
とドライバーIC14の側面との間に接着剤16を充填した
上、これを硬化させることにより行なわれる。
An adhesive 16 such as an epoxy resin is used for fixing the driver IC 14 to the hole 11a. First, the upper surface of the driver IC 14 on which the terminal electrode 15 is provided is fixed. It is arranged in the same plane as the upper surface of the insulating substrate 11 using a fixing jig or the like, and then the adhesive 16 is filled between the inner wall of the hole 11a and the side surface of the driver IC 14, and then cured. Done.

【0005】その後、絶縁基板11の上面、接着剤16の上
面及びドライバーIC14の上面に、発熱抵抗体12及び導
電層13から成るサーマルヘッドパターンを従来周知の薄
膜形成技術等によって被着・形成することにより製品と
してのサーマルヘッドが完成する。尚、導電層13とドラ
イバーIC14との接続は、サーマルヘッドパターンを薄
膜形成技術等によって形成する際、導電層13の一端をド
ライバーIC上面の端子電極15上まで延在させておくこ
とにより行なわれる。
Thereafter, a thermal head pattern including a heating resistor 12 and a conductive layer 13 is attached and formed on the upper surface of the insulating substrate 11, the upper surface of the adhesive 16, and the upper surface of the driver IC 14 by a conventionally known thin film forming technique or the like. This completes the thermal head as a product. The connection between the conductive layer 13 and the driver IC 14 is performed by extending one end of the conductive layer 13 to the terminal electrode 15 on the upper surface of the driver IC when the thermal head pattern is formed by a thin film forming technique or the like. .

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のサーマルヘッドによれば、ドライバーIC14を
穴部11a 内の所定位置に固定する際、まずドライバーI
C14の上面が絶縁基板11の上面と面一になるようにドラ
イバーIC14を固定治具等を使って正確に位置決めし、
ドライバーIC14と穴部11a との隙間に接着剤16を充填
した後はドライバーIC14等が破損しないように固定治
具を慎重に取り外すといった煩雑な作業が必要となる。
そのため、サーマルヘッドの製造工程が複雑になり、サ
ーマルヘッドの量産性を著しく低下させるとともに、固
定治具等の比較的大がかりな製造設備が必要となる欠点
を有していた。
However, according to the above-described conventional thermal head, when the driver IC 14 is fixed at a predetermined position in the hole 11a, first, the driver IC 14 is fixed.
The driver IC 14 is accurately positioned using a fixing jig or the like so that the upper surface of C14 is flush with the upper surface of the insulating substrate 11,
After the gap between the driver IC 14 and the hole 11a is filled with the adhesive 16, a complicated operation such as carefully removing the fixing jig is required so that the driver IC 14 and the like are not damaged.
Therefore, the manufacturing process of the thermal head becomes complicated, the mass productivity of the thermal head is remarkably reduced, and relatively large manufacturing equipment such as a fixing jig is required.

【0007】また上述した従来のサーマルヘッドによれ
ば、絶縁基板11と接着剤16とドライバーIC14のそれぞ
れの上面を同じ高さに設定するのに、接着剤16の充填量
を精度良く制御しなければならない。このとき、接着剤
16の充填量が多すぎたり、少なすぎたりすると、絶縁基
板上面、接着剤上面、ドライバーIC上面の間に大きな
段差が形成され、導電層13を薄膜形成技術等によって形
成した際に導電層13が段差付近で断線し易くなるという
欠点が誘発される。
Further, according to the above-described conventional thermal head, the filling amount of the adhesive 16 must be accurately controlled in order to set the upper surfaces of the insulating substrate 11, the adhesive 16, and the driver IC 14 at the same height. Must. At this time, the adhesive
If the filling amount of 16 is too large or too small, a large step is formed between the upper surface of the insulating substrate, the upper surface of the adhesive, and the upper surface of the driver IC, and when the conductive layer 13 is formed by a thin film forming technique or the like, the conductive layer 13 However, there is a disadvantage that the wire is easily broken near the step.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は上記欠点に鑑み
案出されたもので、本発明のサーマルヘッドの製造方法
は、絶縁基板に穴部を設ける工程と、下面に粘着剤が被
着されている透光性フィルムを絶縁基板上面に前記穴部
を覆うようにして貼着するとともに、前記穴部内に、上
面に端子電極を有するドライバーICを、透光性フィル
ムの下面に取着した状態で配置させる工程と、前記端子
電極の真上に位置する透光性フィルムにスルーホールが
形成されるように透光性フィルムを所定パターンに加工
する工程と、前記絶縁基板上面から前記透光性フィルム
上面にかけて、発熱抵抗体及び導電層から成るサーマル
ヘッドパターンを、該パターンの一部が前記透光性フィ
ルムのスルーホールを介して端子電極に接続されるよう
にして被着させる工程と、を含むことを特徴とするもの
である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised in view of the above-mentioned drawbacks, and a method of manufacturing a thermal head according to the present invention comprises the steps of providing a hole in an insulating substrate and adhering an adhesive on the lower surface. A light-transmitting film is attached to the upper surface of the insulating substrate so as to cover the hole, and a driver IC having a terminal electrode on the upper surface is attached to the lower surface of the light-transmitting film in the hole. Disposing in a state, processing the light-transmitting film into a predetermined pattern so that a through-hole is formed in the light-transmitting film located directly above the terminal electrode, and transmitting the light from the upper surface of the insulating substrate. A thermal head pattern composed of a heating resistor and a conductive layer is applied to the upper surface of the transparent film such that a part of the pattern is connected to a terminal electrode through a through hole of the translucent film. It is characterized in that comprises a degree, the.

【0009】また本発明のサーマルヘッドの製造方法
は、前記透光性フィルムが感光性樹脂により形成されて
いることを特徴とするものである。
[0009] The method of manufacturing a thermal head according to the present invention is characterized in that the translucent film is formed of a photosensitive resin.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づい
て詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0011】図1は本発明の製造方法により製作したサ
ーマルヘッドの平面図、図2は図1のサーマルヘッドの
断面図であり、1 は絶縁基板、1aは穴部、3 は透光性フ
ィルム、3aはスルーホール、4 は発熱抵抗体、5 は導電
層、6 はドライバーIC、7は端子電極である。
FIG. 1 is a plan view of a thermal head manufactured by the manufacturing method of the present invention, FIG. 2 is a sectional view of the thermal head of FIG. 1, 1 is an insulating substrate, 1a is a hole, and 3 is a translucent film. , 3a are through holes, 4 is a heating resistor, 5 is a conductive layer, 6 is a driver IC, and 7 is a terminal electrode.

【0012】前記絶縁基板1 は例えば0.5mm〜1.
5mmの厚みを有するアルミナセラミックス等から成
り、その上面には、絶縁基板1 を厚み方向に貫通する穴
部1aが設けられ、該穴部1aを覆うようにして透光性フィ
ルム3 が貼着されている。
The insulating substrate 1 is, for example, 0.5 mm to 1.
A hole 1a penetrating the insulating substrate 1 in the thickness direction is provided on the upper surface thereof, and a translucent film 3 is attached so as to cover the hole 1a. ing.

【0013】前記絶縁基板1 の上面には、部分グレーズ
層2 や透光性フィルム3 ,発熱抵抗体4 ,導電層5 が所
定パターンに被着され、穴部1aにはドライバーIC5 が
埋設されている。
On the upper surface of the insulating substrate 1, a partial glaze layer 2, a translucent film 3, a heating resistor 4, and a conductive layer 5 are adhered in a predetermined pattern, and a driver IC 5 is embedded in the hole 1a. I have.

【0014】前記部分グレーズ層2 は、絶縁基板1 の一
部上面に帯状に被着されており、該グレーズ層2 はガラ
ス等の低熱伝導性材料によって断面山状をなすように形
成されているため、その頂部付近に被着される多数の発
熱抵抗体4 を上方に突出させて記録媒体に対する印圧を
有効に高めるとともに、部分グレーズ層2 の内部で発熱
抵抗体4 の発する熱を蓄積及び放散することによりサー
マルヘッドの熱応答特性を良好に維持する作用を為す。
The partial glaze layer 2 is applied in a strip shape on a part of the upper surface of the insulating substrate 1, and the glaze layer 2 is formed of a low heat conductive material such as glass so as to form a mountain-like cross section. Therefore, a large number of heating resistors 4 attached near the top are projected upward to effectively increase the printing pressure on the recording medium, and the heat generated by the heating resistors 4 in the partial glaze layer 2 is stored and accumulated. By dissipating the heat, the thermal response of the thermal head is maintained satisfactorily.

【0015】また、前記多数の発熱抵抗体4 は、先に述
べた部分グレーズ層2 の頂部付近に例えば300dpi
のドット密度で直線状に被着・配列されており、該発熱
抵抗体4 はTaSiOやTiSiO等の電気抵抗材料か
ら成っているため、後述する導電層5 を介して電源電力
が印加されるとジュール発熱を起こし、例えばインクリ
ボンを用いて印画を行なう場合、インクリボンのインク
を溶融させるのに必要な所定の温度となる。
Further, the plurality of heat generating resistors 4 are provided, for example, at 300 dpi near the top of the partial glaze layer 2 described above.
Since the heating resistors 4 are made of an electric resistance material such as TaSiO or TiSiO, when the power is applied via a conductive layer 5 described later, When Joule heat is generated and printing is performed using, for example, an ink ribbon, a predetermined temperature required to melt the ink on the ink ribbon is reached.

【0016】尚、前記導電層5 は、電源電力や印画制御
信号をドライバーIC6 に供給したり、或いは、ドライ
バーIC6 の出力を発熱抵抗体3 に供給したりするため
のものであり、絶縁基板1 や部分グレーズ層2 ,透光性
フィルム3 等の上面に所定パターンをなすように被着・
形成される。
The conductive layer 5 is for supplying power supply power or printing control signals to the driver IC 6 or for supplying the output of the driver IC 6 to the heating resistor 3. And a predetermined pattern on the upper surface of the partial glaze layer 2, the translucent film 3, etc.
It is formed.

【0017】一方、前記透光性フィルム3 は、その下面
に粘着剤が被着させてあり、該透光性フィルム3 は、ド
ライバーIC6 を穴部1a内に固定する際、穴部1aを完全
に覆うようにして絶縁基板1 の上面に貼着されるととも
に、前記粘着剤でもってドライバーIC6 を穴部1a内の
所定位置に保持(仮止め)する作用を為す。
On the other hand, the light-transmitting film 3 has an adhesive adhered to the lower surface thereof. When the driver IC 6 is fixed in the hole 1a, the light-transmitting film 3 completely covers the hole 1a. The adhesive is adhered to the upper surface of the insulating substrate 1 to hold the driver IC 6 at a predetermined position in the hole 1a with the adhesive.

【0018】また、透光性フィルム3 の下面に取着され
ているドライバーIC6 は、発熱抵抗体4 を選択的にジ
ュール発熱させる作用、具体的には外部(プリンタ本
体)より供給される画像データ及び印画制御信号に基づ
いて発熱抵抗体4 への通電を個々に制御する作用を為
し、その上面には複数の端子電極7 やスイッチングトラ
ンジスタ,ラッチ,シフトレジスタ等の電子回路が形成
されている。
The driver IC 6 attached to the lower surface of the translucent film 3 has a function of selectively causing the heating resistor 4 to generate Joule heat, specifically, image data supplied from the outside (printer main body). And a function of individually controlling the energization of the heating resistor 4 based on the printing control signal. On the upper surface, a plurality of terminal electrodes 7 and electronic circuits such as switching transistors, latches, and shift registers are formed. .

【0019】このとき、ドライバーIC6 は絶縁基板1
の穴部1aに完全に埋設されていることから、メディアと
接するサーマルヘッドの表面は略平坦になっており、プ
ラスチックカードのような曲げることが困難なメディア
に印画を行なう場合であってもメディアを略フラットな
形状のまま発熱抵抗体4 上に搬送して感熱記録を良好に
行うことができる。
At this time, the driver IC 6 is connected to the insulating substrate 1
Because it is completely buried in the hole 1a, the surface of the thermal head in contact with the media is almost flat, and even when printing on hard-to-bend media such as a plastic card, Can be conveyed onto the heating resistor 4 in a substantially flat shape to perform good thermal recording.

【0020】尚、前記導電層5 とドライバーIC6 の端
子電極7 との電気的接続は、導電層5 の一端を、絶縁基
板1 の上面から透光性フィルム3 の上面を介して端子電
極7上まで延在し、この延在部を透光性フィルム3 に設
けた貫通穴3aを介して端子電極7 と接触させておくこと
によりなされている。
The electrical connection between the conductive layer 5 and the terminal electrode 7 of the driver IC 6 is made by connecting one end of the conductive layer 5 from the upper surface of the insulating substrate 1 to the terminal electrode 7 via the upper surface of the light transmitting film 3. This is achieved by extending the extended portion to a terminal electrode 7 through a through hole 3 a provided in the light transmitting film 3.

【0021】また前記透光性フィルム3 と前記ドライバ
ーIC6 の側面と前記穴部1aの内壁とで囲まれる領域に
は接着剤9 が充填されており、この接着剤9 によってド
ライバーIC6 が穴部1a内の所定位置に強固に固定され
る。
A region surrounded by the translucent film 3, the side surface of the driver IC 6 and the inner wall of the hole 1a is filled with an adhesive 9, and the adhesive 9 allows the driver IC 6 to be inserted into the hole 1a. It is firmly fixed at a predetermined position inside.

【0022】かくして上述したサーマルヘッドは、例え
ばインクリボンを用いて印画を行なう場合、インクリボ
ン及びメディアをインクリボンがサーマルヘッド側とな
るように重ね合わせた状態で両者を発熱抵抗体4 上に搬
送しながら、発熱抵抗体4 をドライバーIC6 の駆動に
伴って個々に選択的にジュール発熱させるとともに該発
熱した熱によってインクリボンのインクを加熱・溶融さ
せ、これをメディアに対して付着・転写させることによ
って所定の印画を形成する。
In the above-described thermal head, for example, when printing is performed using an ink ribbon, the ink ribbon and the medium are conveyed onto the heating resistor 4 in a state where the ink ribbon and the medium are overlapped so that the ink ribbon is on the thermal head side. In addition, the heating resistors 4 are individually and selectively heated in accordance with the driving of the driver IC 6, and the heat of the ink ribbon is heated and melted by the generated heat, and the ink is adhered and transferred to the medium. Thus, a predetermined print is formed.

【0023】次に上述したサーマルヘッドの製造方法に
ついて図3(a)〜(e)を用いて説明する。
Next, a method for manufacturing the above-described thermal head will be described with reference to FIGS.

【0024】(1)まず、図3(a)に示す如く、部分
グレーズ層2 を有する絶縁基板1 の上面に穴部1aを形成
する。
(1) First, as shown in FIG. 3A, a hole 1a is formed on the upper surface of an insulating substrate 1 having a partial glaze layer 2.

【0025】前記絶縁基板1 は、例えばアルミナセラミ
ックスから成る場合、アルミナ、シリカ、マグネシア等
のセラミックス原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加
混合して泥漿状と成すとともにこれを従来周知のドクタ
ーブレード法やカレンダーロール法等を採用することに
よってセラミックグリーンシートを形成し、しかる後、
前記セラミックグリーンシートを所定形状に打ち抜いた
上、これを高温で焼成することによって製作され、この
ようにして得た絶縁基板1 の上面にガラスペーストを従
来周知のスクリーン印刷等によって帯状に塗布し、これ
を高温で焼き付けることによって部分グレーズ層2 が形
成される。
When the insulating substrate 1 is made of, for example, alumina ceramics, a ceramic material powder of alumina, silica, magnesia or the like is mixed with an appropriate organic solvent and a solvent to form a slurry, which is formed into a slurry by a conventionally known doctor blade. The ceramic green sheet is formed by adopting the method or the calendar roll method, and then
The ceramic green sheet is punched into a predetermined shape, and is manufactured by baking it at a high temperature. A glass paste is applied to the upper surface of the insulating substrate 1 thus obtained in a band shape by screen printing or the like, which is conventionally known, By baking this at a high temperature, a partial glaze layer 2 is formed.

【0026】また前記穴部1aは、絶縁基板1 を前述のよ
うにして製作した後で絶縁基板1 の上面にレーザーを照
射して穴空けを行なったり、或いは、絶縁基板1 を前述
の製法によって製作する際にセラミックグリーンシート
の状態で穴部1aを打ち抜いておくことにより、絶縁基板
1 を厚み方向に貫通するように形成される。
The hole 1a is formed by irradiating a laser on the upper surface of the insulating substrate 1 after manufacturing the insulating substrate 1 as described above, or by forming the insulating substrate 1 by the above-described manufacturing method. By punching out the hole 1a in the state of a ceramic green sheet when manufacturing it,
1 in the thickness direction.

【0027】(2)次に、図3(b)に示す如く、透光
性フィルム3 を絶縁基板1 の上面に貼着する。
(2) Next, as shown in FIG. 3B, a light-transmitting film 3 is attached to the upper surface of the insulating substrate 1.

【0028】前記透光性フィルム3 は、例えば、厚み3
μm〜50μmの紫外線硬化型樹脂等によって形成さ
れ、その下面には透光性を有する粘着剤(図示せず)が
被着されている。
The light transmitting film 3 has a thickness of, for example, 3
It is formed of a UV-curable resin or the like having a thickness of from 50 μm to 50 μm, and a light-transmitting adhesive (not shown) is adhered to the lower surface thereof.

【0029】前記透光性フィルム3 としては、少なくと
も穴部1aの開口部より大きな面積のものであれば良い
が、ここでは絶縁基板1 と略同じ大きさのものを使用す
る。
The light-transmitting film 3 has only to have an area at least larger than the opening of the hole 1a. Here, a film having substantially the same size as the insulating substrate 1 is used.

【0030】前記透光性フィルム3 は穴部1aを完全に覆
うようにして絶縁基板1 の上面に貼着され、これによっ
て穴部1aの一方の開口部が透光性フィルム3 で完全に塞
がれた形となる。
The translucent film 3 is adhered to the upper surface of the insulating substrate 1 so as to completely cover the hole 1a, whereby one opening of the hole 1a is completely closed by the translucent film 3. It has a loose shape.

【0031】尚、前記透光性フィルム3 には後述する
(3)の工程でドライバーIC6 を位置合わせするため
の位置決めマーカーが形成されており、該マーカーは例
えばドライバーIC6 の端子電極7 と同じパターンにて
形成される。
Incidentally, a positioning marker for positioning the driver IC 6 in the step (3) described later is formed on the translucent film 3, and the marker has the same pattern as the terminal electrode 7 of the driver IC 6, for example. Is formed.

【0032】(3)次に、図3(c)に示す如く、ドラ
イバーIC6 を穴部1a内の所定位置に配置させる。
(3) Next, as shown in FIG. 3C, the driver IC 6 is arranged at a predetermined position in the hole 1a.

【0033】前記ドライバーIC6 は、真空吸着コレッ
ト等を用いて穴部1aの他方の開口部(絶縁基板1 の下面
側の開口部)より穴部1a内に挿入され、透光性フィルム
下面の所定位置に仮止めされる。
The driver IC 6 is inserted into the hole 1a through the other opening (opening on the lower surface side of the insulating substrate 1) of the hole 1a by using a vacuum suction collet or the like, and a predetermined portion of the lower surface of the translucent film is formed. Temporarily fixed in position.

【0034】この仮止めは、ドライバーIC6 の上面を
透光性フィルム3 の下面に対し粘着剤を介して当接させ
ることにより行なわれ、これによってドライバーIC6
が透光性フィルム下面で保持されることとなる。
This temporary fixing is performed by bringing the upper surface of the driver IC 6 into contact with the lower surface of the light-transmitting film 3 via an adhesive.
Is held on the lower surface of the light-transmitting film.

【0035】また、透光性フィルム3 に対するドライバ
ーIC6 の位置決めは、例えば、位置決めマーカーがド
ライバーIC6 の端子電極7 と同じパターンにて形成さ
れている場合、CCDカメラ等を用いてドライバーIC
上面の端子電極7 の位置を位置決めマーカーと合致させ
ることにより行なわれる。
The positioning of the driver IC 6 with respect to the translucent film 3 is performed, for example, by using a CCD camera or the like when the positioning marker is formed in the same pattern as the terminal electrode 7 of the driver IC 6.
This is performed by matching the position of the terminal electrode 7 on the upper surface with the positioning marker.

【0036】このとき、透光性フィルム3 は透光性材料
により形成されており、その上面側より下面側を透視す
ることができるため、ドライバーIC6 を穴部1a内に仮
止めする際、ドライバーIC6 の位置を絶縁基板1 の上
面側より透光性フィルム3 を通して容易に認識すること
ができ、ドライバーIC6 の位置合わせを正確に行なう
ことができる。
At this time, since the light transmitting film 3 is formed of a light transmitting material and the lower surface side can be seen through from the upper surface side, when the driver IC 6 is temporarily fixed in the hole 1a, the driver IC 6 is temporarily fixed. The position of the IC 6 can be easily recognized from the upper surface side of the insulating substrate 1 through the translucent film 3, and the driver IC 6 can be accurately positioned.

【0037】(4)次に、ドライバーIC6 の側面と穴
部1aの内壁との間に接着剤9 を充填してドライバーIC
6 を固定する。
(4) Next, an adhesive 9 is filled between the side surface of the driver IC 6 and the inner wall of the hole 1a to form a driver IC 6
Fix 6.

【0038】前記接着剤9 としてはエポキシ樹脂等が使
用され、該接着剤9 の充填は、液状に成したエポキシ樹
脂等の前駆体を穴部1aの他方の開口部よりディスペンサ
ー等を用いて流し込み、これを透光性フィルム3 を形成
するポリイミド樹脂の熱分解温度よりも低い温度、例え
ば100℃〜200℃の温度で加熱・重合させることに
より行なわれ、これによってドライバーIC6 が穴部1a
内の所定位置に固定されることとなる。
An epoxy resin or the like is used as the adhesive 9, and the adhesive 9 is filled by pouring a precursor such as an epoxy resin in a liquid form from the other opening of the hole 1a using a dispenser or the like. This is carried out by heating and polymerizing at a temperature lower than the thermal decomposition temperature of the polyimide resin forming the light-transmitting film 3, for example, at a temperature of 100 ° C. to 200 ° C., whereby the driver IC 6 is formed in the hole 1a.
Is fixed at a predetermined position in the inside.

【0039】このとき、穴部1aの一方の開口部(絶縁基
板1 の上面側の開口部) は透光性フィルム3 によって完
全に塞がれているため、接着剤9 の充填量が多すぎた
り、少なすぎたりしたとしても、絶縁基板1 の上面から
ドライバーIC6 の上面にかけて大きな段差が出来るこ
とはない。
At this time, one opening of the hole 1a (opening on the upper surface side of the insulating substrate 1) is completely closed by the translucent film 3, so that the filling amount of the adhesive 9 is too large. Even if it is too small or too small, no large step is formed from the upper surface of the insulating substrate 1 to the upper surface of the driver IC 6.

【0040】(5)次に、図3(d)に示す如く、透光
性フィルム3 を所定パターンに加工する。
(5) Next, as shown in FIG. 3D, the light transmitting film 3 is processed into a predetermined pattern.

【0041】前記透光性フィルム3 の加工は従来周知の
フォトリソグラフィー技術及びエッチング技術を採用す
ることによって行なわれ、この加工によりドライバーI
C6の端子電極7 の真上にはスルーホール3aが形成さ
れる。
The processing of the light-transmitting film 3 is performed by employing a conventionally known photolithography technique and etching technique.
A through hole 3a is formed directly above the terminal electrode 7 of C6.

【0042】このとき、透光性フィルム3 の材質として
紫外線硬化型樹脂を使用しておけば、透光性フィルム3
に対して所定波長の紫外線を所定パターンに照射するこ
とで透光性フィルム3 を部分的に硬化させた後、これを
所定の溶剤に浸漬して未硬化の部分を除去することによ
り簡単にパターニングすることができるため、透光性フ
ィルム3 のパターニングに伴って、透光性フィルム3 の
上に透光性フィルム3をパターニングするためのフォト
レジスト層を別途形成したり、更にはこれを加工後に剥
離させるといった煩雑な工程が不要となり、生産性の向
上に供することができる利点がある。
At this time, if an ultraviolet curable resin is used as the material of the light transmitting film 3, the light transmitting film 3
The transparent film 3 is partially cured by irradiating it with ultraviolet light of a predetermined wavelength in a predetermined pattern, and then immersed in a predetermined solvent to remove uncured parts, thereby easily patterning. Therefore, with the patterning of the light-transmitting film 3, a photoresist layer for patterning the light-transmitting film 3 may be separately formed on the light-transmitting film 3, or further processed after processing. There is an advantage that a complicated process such as peeling is not required, and the productivity can be improved.

【0043】(6)そして最後に、図3(e)に示す如
く、絶縁基板1 の上面から透光性フィルム3 の上面にか
けて、発熱抵抗体4 及び導電層5 から成るサーマルヘッ
ドパターンを被着させ、更にこれらを保護膜8 でもって
被覆する。
(6) Finally, as shown in FIG. 3 (e), a thermal head pattern comprising a heating resistor 4 and a conductive layer 5 is applied from the upper surface of the insulating substrate 1 to the upper surface of the translucent film 3. Then, these are covered with a protective film 8.

【0044】前記発熱抵抗体4 及び導電層5 は従来周知
の薄膜形成技術、具体的には発熱抵抗体4 となるTaS
iOと、導電層5 となるAlとをスパッタリング法等に
よって順次被着させ、TaSiO層とAl層をフォトリ
ソグラフィー技術及びエッチング技術により所定パター
ンに微細加工することにより形成される。
The heating resistor 4 and the conductive layer 5 are made of a conventionally known thin film forming technique, specifically, TaS which becomes the heating resistor 4.
It is formed by sequentially depositing iO and Al to be the conductive layer 5 by a sputtering method or the like, and finely processing the TaSiO layer and the Al layer into a predetermined pattern by a photolithography technique and an etching technique.

【0045】このとき、サーマルヘッドパターンを構成
する導電層5 の一端を前述した透光性フィルム3 のスル
ーホール3aを介してドライバーIC6 の端子電極7 上ま
で延在させ、該延在部を端子電極7 に接触させておくこ
とによりドライバーIC6 とサーマルヘッドパターンと
が電気的に接続される。
At this time, one end of the conductive layer 5 constituting the thermal head pattern is extended to above the terminal electrode 7 of the driver IC 6 through the through hole 3a of the translucent film 3, and the extended portion is connected to the terminal. By making contact with the electrode 7, the driver IC 6 and the thermal head pattern are electrically connected.

【0046】また、前記保護膜8 は、従来周知のスパッ
タリングやプラズマCVD等を採用し、Si3 4 (窒
化珪素)やSiAlON(サイアロン)等をサーマルヘ
ッドパターン4,5 上に被着させることにより2μm〜1
5μmの厚みに形成され、これによって製品としてのサ
ーマルヘッドが完成する。
The protective film 8 is formed by applying conventionally known sputtering, plasma CVD, or the like, and depositing Si 3 N 4 (silicon nitride), SiAlON (SiAlON) or the like on the thermal head patterns 4 and 5. 2 μm to 1
It is formed to a thickness of 5 μm, whereby a thermal head as a product is completed.

【0047】以上のような本形態のサーマルヘッドの製
造方法によれば、ドライバーIC6を穴部1a内の所定位
置に固定する際、固定治具等の大がかりな製造設備を使
用することなく、ドライバーIC6 の位置合わせを透光
性フィルム3 を通して容易に、かつ正確に行なうことが
できる。従って、ドライバーIC6 を絶縁基板1 の穴部
1a内に埋め込んだサーマルヘッドの製造工程が簡略化さ
れ、サーマルヘッドの量産性向上に供することができ
る。
According to the method of manufacturing a thermal head of the present embodiment as described above, when the driver IC 6 is fixed at a predetermined position in the hole 1a, the driver IC 6 can be used without using a large-scale manufacturing facility such as a fixing jig. The alignment of the IC 6 can be easily and accurately performed through the translucent film 3. Therefore, connect the driver IC6 to the hole
The manufacturing process of the thermal head embedded in 1a is simplified, and the thermal head can be mass-produced.

【0048】また本形態のサーマルヘッドの製造方法に
よれば、穴部1aの一方の開口部(絶縁基板1 の上面側の
開口部) は透光性フィルム3 によって塞がれており、ド
ライバーIC6 を固定するのに使用される接着剤9 の一
部が穴部1aの開口部より上方に溢れだしたりすることは
ないことから、サーマルヘッドパターン4,5 が被着され
る領域に大きな段差が形成されることはなく、サーマル
ヘッドパターン4,5 を薄膜形成技術等により良好な連続
膜として形成することができる。従ってサーマルヘッド
の製造歩留りが向上される。
According to the method of manufacturing a thermal head of this embodiment, one opening of the hole 1a (the opening on the upper surface side of the insulating substrate 1) is closed by the translucent film 3, and the driver IC 6 Since part of the adhesive 9 used to fix the thermal head pattern does not overflow above the opening of the hole 1a, a large step is formed in the area where the thermal head patterns 4 and 5 are applied. No thermal head patterns 4 and 5 can be formed as a good continuous film by a thin film forming technique or the like. Therefore, the production yield of the thermal head is improved.

【0049】更に本形態のサーマルヘッドの製造方法に
よれば、ドライバーIC6 の仮止め等に使用する透光性
フィルム3 はその後も絶縁基板1 上にそのまま残すよう
になっていることから、透光性フィルム3 を剥離させる
工程が不要である上に、発熱抵抗体4 や導電層5 等のサ
ーマルヘッドパターンを前述の薄膜形成技術によって形
成する際に、電子回路等が設けられているドライバーI
C6 の上面がエッチング液等に接触して腐食されるのが
有効に防止され、これによってもサーマルヘッドの製造
歩留りが向上される。
Further, according to the method of manufacturing a thermal head of this embodiment, the light-transmitting film 3 used for temporarily fixing the driver IC 6 is left on the insulating substrate 1 as it is thereafter. The step of peeling the conductive film 3 is unnecessary, and the driver I, which is provided with an electronic circuit and the like when forming the thermal head pattern such as the heating resistor 4 and the conductive layer 5 by the thin film forming technique described above, is not necessary.
Corrosion of the upper surface of C6 by contact with an etching solution or the like is effectively prevented, thereby also improving the production yield of the thermal head.

【0050】尚、本発明は上述した形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種
々の変更、改良等が可能である。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be made without departing from the gist of the present invention.

【0051】例えば上述の形態においては絶縁基板1 の
上面に透光性フィルム3 を貼着した後でドライバーIC
6 を穴部1aの下方側開口部より挿入することにより透光
性フィルム3 の下面に取着させるようにしたが、これに
代えて透光性フィルム3 の下面に最初からドライバーI
C6 を取着させておき、これをドライバーIC6 が穴部
1a内に埋設されるようにして絶縁基板1 の上面に貼着さ
せるようにしても良く、この場合も上述の形態と同様の
効果を奏する。
For example, in the above-described embodiment, after the light transmitting film 3 is attached to the upper surface of the insulating substrate 1, the driver IC
6 is attached to the lower surface of the translucent film 3 by inserting it through the lower opening of the hole 1a, but instead of this, the driver I is attached to the lower surface of the translucent film 3 from the beginning.
C6 is attached and driver IC6 is inserted into the hole.
It may be attached to the upper surface of the insulating substrate 1 so as to be embedded in 1a, and in this case, the same effect as in the above-described embodiment can be obtained.

【0052】また上述の形態において、接着剤9 が充填
されるドライバーIC5の側面と穴部1aの内壁との間
に、平均粒径20μm〜300μmの無機質フィラーを
予め充填させておけば、この領域に接着剤9 を流し込ん
で硬化させる際に接着剤9 の表面に体積収縮に起因した
割れ等が発生するのを有効に防止することができる。
In the above-described embodiment, if the inorganic filler having an average particle diameter of 20 μm to 300 μm is previously filled between the side surface of the driver IC 5 filled with the adhesive 9 and the inner wall of the hole 1 a, this region can be obtained. When the adhesive 9 is poured into and cured, it is possible to effectively prevent the surface of the adhesive 9 from being cracked due to volume shrinkage.

【0053】[0053]

【発明の効果】本発明によれば、ドライバーICを穴部
内の所定位置に固定する際、固定治具等の大がかりな製
造設備を使用することなく、ドライバーICの位置合わ
せを透光性フィルムを通して容易に、かつ正確に行なう
ことができる。従って、ドライバーICを絶縁基板の穴
部内に埋め込んだサーマルヘッドの製造工程が簡略化さ
れ、サーマルヘッドの量産性向上に供することができ
る。
According to the present invention, when the driver IC is fixed at a predetermined position in the hole, the positioning of the driver IC can be performed through the translucent film without using a large-scale manufacturing facility such as a fixing jig. It can be done easily and accurately. Therefore, the manufacturing process of the thermal head in which the driver IC is embedded in the hole of the insulating substrate is simplified, and the mass production of the thermal head can be improved.

【0054】また本発明によれば、穴部の一方の開口部
が透光性フィルムによって塞がれており、ドライバーI
Cを固定するのに使用される接着剤等の一部が穴部の開
口部より上方に溢れだしたりすることはないため、サー
マルヘッドパターンが被着される領域に大きな段差が形
成されることはなく、サーマルヘッドパターンを薄膜形
成技術等によって良好な連続膜として形成することがで
きる。従ってサーマルヘッドの製造歩留りが向上する。
According to the invention, one opening of the hole is closed by the light-transmitting film.
Since a part of the adhesive or the like used to fix C does not overflow above the opening of the hole, a large step is formed in the area where the thermal head pattern is applied. However, the thermal head pattern can be formed as a good continuous film by a thin film forming technique or the like. Therefore, the production yield of the thermal head is improved.

【0055】更に本発明によれば、ドライバーICの仮
止め等に使用する透光性フィルムはその後も絶縁基板上
にそのまま残すようになっていることから、透光性フィ
ルムを剥離させる工程が不要である上に、発熱抵抗体や
導電層等のサーマルヘッドパターンを薄膜形成技術によ
って形成する際に、電子回路等が設けられているドライ
バーICの上面がエッチング液等に接触して腐食される
のが有効に防止され、これによってもサーマルヘッドの
製造歩留りが向上される。
Further, according to the present invention, since the light-transmitting film used for temporarily fixing the driver IC is left on the insulating substrate, the step of peeling the light-transmitting film is unnecessary. In addition, when a thermal head pattern such as a heating resistor or a conductive layer is formed by a thin film forming technique, the upper surface of a driver IC provided with an electronic circuit or the like is corroded by contact with an etching solution or the like. Is effectively prevented, which also improves the production yield of the thermal head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造方法により製作したサーマルヘッ
ドの平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a thermal head manufactured by a manufacturing method of the present invention.

【図2】図1のサーマルヘッドの断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the thermal head of FIG.

【図3】本発明の一形態に係る製造方法を説明するため
の工程毎の断面図である。
FIGS. 3A to 3C are cross-sectional views for illustrating steps in a manufacturing method according to one embodiment of the present invention. FIGS.

【図4】従来のサーマルヘッドの断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a conventional thermal head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ・・・絶縁基板、1a・・・穴部、3 ・・・透光性フィ
ルム、3a・・・スルーホール、4 ・・・発熱抵抗体、5
・・・導電層、6 ・・・ドライバーIC、7 ・・・端子
電極
1 ... insulating substrate, 1a ... hole, 3 ... translucent film, 3a ... through hole, 4 ... heating resistor, 5
... Conductive layer, 6 ... Driver IC, 7 ... Terminal electrode

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】絶縁基板に穴部を設ける工程と、 下面に粘着剤が被着されている透光性フィルムを絶縁基
板上面に前記穴部を覆うようにして貼着するとともに、
前記穴部内に、上面に端子電極を有するドライバーIC
を、透光性フィルムの下面に取着した状態で配置させる
工程と、 前記端子電極の真上に位置する透光性フィルムにスルー
ホールが形成されるように透光性フィルムを所定パター
ンに加工する工程と、 前記絶縁基板上面から前記透光性フィルム上面にかけ
て、発熱抵抗体及び導電層から成るサーマルヘッドパタ
ーンを、該パターンの一部が前記透光性フィルムのスル
ーホールを介して端子電極に接続されるようにして被着
させる工程と、を含むサーマルヘッドの製造方法。
A step of providing a hole in the insulating substrate; and adhering a light-transmitting film having a lower surface covered with an adhesive to the upper surface of the insulating substrate so as to cover the hole.
Driver IC having a terminal electrode on the upper surface in the hole
Disposing the light-transmitting film in a state attached to the lower surface of the light-transmitting film; and processing the light-transmitting film into a predetermined pattern so that a through-hole is formed in the light-transmitting film located directly above the terminal electrode. A thermal head pattern composed of a heating resistor and a conductive layer from the upper surface of the insulating substrate to the upper surface of the light-transmitting film, and a part of the pattern is connected to a terminal electrode through a through hole of the light-transmitting film. A method for manufacturing a thermal head, comprising the steps of:
【請求項2】前記透光性フィルムが感光性樹脂により形
成されていることを特徴とする請求項1に記載のサーマ
ルヘッドの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein said light-transmitting film is formed of a photosensitive resin.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019226627A1 (en) * 2018-05-22 2019-11-28 Corning Incorporated Glazed ceramic substrate for liquid lenses and methods for making same

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