JP2001057399A - Metal cap insulating film forming method - Google Patents
Metal cap insulating film forming methodInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、コンデンサ基板な
どの基板表面上に搭載された圧電セラミック素子などの
素子を覆い封止するための電子部品封止用金属キャップ
の表面に絶縁膜を形成する方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming an insulating film on a surface of a metal cap for sealing electronic parts for covering and sealing elements such as piezoelectric ceramic elements mounted on the surface of a substrate such as a capacitor substrate. It is about the method.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】圧電共
振素子などの素子を基板上に搭載したチップ型電子部品
においては、圧電振動部が振動するため、振動を妨げな
いように素子をパッケージ内に収納した構造が用いられ
ている。具体的には、基板表面上に素子を搭載した後、
該素子を覆い封止するため基板表面上にキャップが取り
付けられる。2. Description of the Related Art In a chip-type electronic component in which an element such as a piezoelectric resonance element is mounted on a substrate, a piezoelectric vibrating portion vibrates. Is used. Specifically, after mounting the element on the substrate surface,
A cap is mounted on the substrate surface to cover and seal the device.
【0003】図13は、このようなキャップにより封止
される従来の電子部品の一例を示す断面図である。図1
3に示す従来の電子部品においては、絶縁性キャップ3
0が用いられている。これは、基板10上に形成された
端子電極11及び12の上にキャップ30が取り付けら
れるので、端子電極11及び12の間における短絡を防
止するためには絶縁性が必要とされるからである。基板
10の上面側には、圧電共振素子などの素子20が搭載
されている。素子20は半田21により端子電極11に
接合されており、半田22により端子電極12に接合さ
れている。基板10の下面側の端子電極11及び12の
間には、これらの端子電極11及び12との間でコンデ
ンサを形成するための端子電極13が設けられている。FIG. 13 is a cross-sectional view showing an example of a conventional electronic component sealed with such a cap. FIG.
In the conventional electronic component shown in FIG.
0 is used. This is because the cap 30 is mounted on the terminal electrodes 11 and 12 formed on the substrate 10, so that insulation is required to prevent a short circuit between the terminal electrodes 11 and 12. . An element 20 such as a piezoelectric resonance element is mounted on the upper surface side of the substrate 10. The element 20 is joined to the terminal electrode 11 by solder 21, and is joined to the terminal electrode 12 by solder 22. A terminal electrode 13 for forming a capacitor between the terminal electrodes 11 and 12 is provided between the terminal electrodes 11 and 12 on the lower surface side of the substrate 10.
【0004】絶縁性キャップ30としては、セラミック
製キャップや樹脂製キャップなどが用いられる。しかし
ながら、これらのキャップは成形性を考慮すると、厚み
として0.25mm以上が必要となり、このため低背化
を達成することができず、また基板面積も大きくなると
いう問題がある。As the insulating cap 30, a ceramic cap or a resin cap is used. However, these caps need to have a thickness of 0.25 mm or more in consideration of moldability, so that a reduction in height cannot be achieved, and there is a problem that the substrate area increases.
【0005】低背化を図り回路基板の集積度を上げるた
めには、キャップとして金属製キャップを用いることが
好ましい。しかしながら、金属製キャップをそのまま基
板上に取り付けると、上述のように端子電極間での短絡
が生じる。In order to reduce the height and increase the degree of integration of the circuit board, it is preferable to use a metal cap as the cap. However, if the metal cap is directly mounted on the substrate, a short circuit occurs between the terminal electrodes as described above.
【0006】このような端子電極間での短絡を防止する
ため、図14に示すように、金属キャップ32が載置さ
れる基板10及び端子電極11,12の上に絶縁層31
を形成し、この絶縁層31の上にキャップ32を載せる
方法が考えられる。なお、図14においては基板10上
に搭載する圧電共振素子などの素子を図示省略してい
る。In order to prevent such a short circuit between the terminal electrodes, as shown in FIG. 14, an insulating layer 31 is formed on the substrate 10 on which the metal cap 32 is mounted and the terminal electrodes 11 and 12.
Is formed, and a cap 32 is placed on the insulating layer 31. In FIG. 14, elements such as a piezoelectric resonance element mounted on the substrate 10 are not shown.
【0007】このような方法によれば、金属キャップを
用いることができるので、低背化を図ることができる
が、電子部品を小型化していくと、基板上に絶縁層を精
度良く形成することが困難になるという問題を生じる。According to such a method, a metal cap can be used, so that the height can be reduced. However, as electronic components become smaller, it is necessary to form an insulating layer on a substrate with high precision. The problem arises that it becomes difficult.
【0008】ところで、実開昭62−158828号公
報及び特開平8−204491号公報においては、表面
に陽極酸化被膜を形成したアルミニウム板を用いて形成
した金属キャップを用いた電子部品が開示されている。
しかしながら、これらの金属キャップは板材の状態で陽
極酸化処理が施されたものであるので、キャップ状に成
形すると、基板の端子電極と接触する端面には陽極酸化
被膜が形成されておらず、端子電極間の短絡を防止する
ことができないものである。Japanese Utility Model Application Laid-Open No. Sho 62-158828 and JP-A-8-204449 disclose electronic components using a metal cap formed by using an aluminum plate having an anodic oxide film formed on its surface. I have.
However, since these metal caps have been subjected to anodizing treatment in the state of a plate material, when formed into a cap shape, an anodic oxide film is not formed on the end face of the substrate that contacts the terminal electrode, and the terminal It is not possible to prevent a short circuit between the electrodes.
【0009】本発明の目的は、基板の端子電極と金属キ
ャップとの間の絶縁を簡易な方法で実現することができ
る金属キャップの絶縁膜形成方法を提供することにあ
る。It is an object of the present invention to provide a method for forming an insulating film of a metal cap, which can realize insulation between a terminal electrode of a substrate and a metal cap by a simple method.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は、端子電極が形
成された基板表面上に搭載された素子を覆い封止するた
め基板表面上に取り付けられる電子部品封止用金属キャ
ップの表面に、端子電極と金属キャップとの間を電気的
に絶縁するための絶縁膜を形成する方法であり、金属キ
ャップがアルミニウムまたはその合金からなり、キャッ
プ形状に成形された状態で陽極酸化処理を施すことによ
り、金属キャップ表面に絶縁膜を形成することを特徴と
している。According to the present invention, there is provided a metal cap for electronic component sealing which is mounted on a substrate surface for covering and sealing an element mounted on the substrate surface on which a terminal electrode is formed. A method of forming an insulating film for electrically insulating between a terminal electrode and a metal cap.The metal cap is made of aluminum or an alloy thereof, and is subjected to anodizing treatment in a state of being formed in a cap shape. In addition, an insulating film is formed on the surface of the metal cap.
【0011】本発明によれば、キャップ形状に成形され
た状態で陽極酸化処理を施しているので、基板表面上に
取り付けられる際、端子電極と接する箇所の表面上に陽
極酸化処理による絶縁膜を形成することができる。従っ
て、このような金属キャップを用いれば、接着剤等を用
いてそのまま基板表面上に取り付けて封止することがで
きる。According to the present invention, since the anodizing treatment is performed in the state of being formed into a cap shape, when it is mounted on the substrate surface, the insulating film by the anodizing treatment is formed on the surface in contact with the terminal electrode. Can be formed. Therefore, if such a metal cap is used, it can be mounted and sealed on the substrate surface as it is using an adhesive or the like.
【0012】本発明における陽極酸化処理は、一般的な
陽極酸化処理の条件で行うことができるものであり、金
属キャップを陽極として電解することにより酸化被膜を
形成することができる。電解液としては、硫酸、しゅう
酸、クロム酸など一般的な酸性電解液を用いることがで
きる。The anodic oxidation treatment in the present invention can be performed under general anodic oxidation treatment conditions, and an oxide film can be formed by electrolysis using a metal cap as an anode. As the electrolyte, a common acidic electrolyte such as sulfuric acid, oxalic acid, and chromic acid can be used.
【0013】本発明に従う好ましい実施形態の1つにお
いては、金属キャップを治具で保持し電気的に導通させ
た状態で陽極酸化処理を行う。治具としては導電性の治
具を用い、金属キャップと電気的に導通させ、金属キャ
ップを陽極として電解処理する。この方法は、金属キャ
ップが個々に分離され、バラバラの状態の場合に適して
いる。In one preferred embodiment according to the present invention, the anodizing treatment is performed while the metal cap is held by a jig and is electrically connected. A conductive jig is used as the jig, and is electrically connected to the metal cap, and electrolytic treatment is performed using the metal cap as an anode. This method is suitable for the case where the metal caps are individually separated and are in a disjointed state.
【0014】本発明に従う他の好ましい実施形態におい
ては、金属キャップがフープとして連なっている状態で
陽極酸化処理を行う。このフープの状態とは、板材を打
ち抜いてキャップ状に成形加工した後であって、一部に
おいて板材とキャップとが連結している状態である。In another preferred embodiment according to the present invention, the anodizing treatment is performed in a state where the metal cap is connected as a hoop. The state of the hoop is a state after the plate material is punched out and formed into a cap shape, and the plate material and the cap are partially connected.
【0015】このようなフープの状態であれば、連続的
に陽極酸化処理を行うことができる。すなわち、一方の
ロール等に巻き付けたフープを引き出して、陽極酸化処
理浴に送り出し、陽極酸化処理後、フープを他方のロー
ル等に巻き取ることにより連続的に陽極酸化処理を行う
ことができる。この場合、フープを電気的に導通させる
ための接点は、フープの移動とともに移動させて導通状
態を保つことができる。In such a hoop state, anodic oxidation treatment can be continuously performed. That is, the hoop wound around one roll or the like is pulled out, sent out to an anodizing treatment bath, and after the anodizing treatment, the hoop can be wound around the other roll or the like to continuously perform anodizing treatment. In this case, the contact for electrically conducting the hoop can be moved together with the movement of the hoop to maintain the conduction state.
【0016】また、所定の単位毎に切断されたフープを
陽極酸化処理浴に浸漬して陽極酸化処理を行ってもよ
い。この場合、フープを保持する部分を接点として電気
的に導通させることができる。Further, the hoop cut in predetermined units may be immersed in an anodizing bath to perform anodizing. In this case, the portion holding the hoop can be electrically connected as a contact.
【0017】本発明の金属キャップは、端子電極が形成
された基板表面上に搭載された素子を覆い封止するため
基板上に取り付けられる電子部品封止用金属キャップで
あり、金属キャップがアルミニウムまたはその合金から
なり、少なくとも端子電極と接する箇所の表面に、陽極
酸化処理による絶縁膜が形成されていることを特徴とし
ている。The metal cap of the present invention is a metal cap for sealing electronic components mounted on a substrate to cover and seal an element mounted on the surface of the substrate on which the terminal electrode is formed, wherein the metal cap is made of aluminum or aluminum. It is characterized in that an insulating film is formed by anodic oxidation treatment on at least the surface of the portion made of the alloy and in contact with the terminal electrode.
【0018】本発明の金属キャップは、上記本発明の絶
縁膜形成方法により形成することができるキャップであ
る。本発明の金属キャップは少なくとも端子電極と接す
る箇所の表面に絶縁膜が形成されているので、そのまま
接着剤等を用いて基板表面上に取り付けても、基板の端
子電極と金属キャップとの間の絶縁性を確保することが
できる。従って、低背化された電子部品を効率良く製造
することができる。The metal cap of the present invention is a cap that can be formed by the above-described method of forming an insulating film of the present invention. Since the metal cap of the present invention has an insulating film formed at least on the surface in contact with the terminal electrode, even if it is mounted on the substrate surface using an adhesive or the like as it is, the gap between the terminal electrode of the substrate and the metal cap Insulation can be ensured. Therefore, it is possible to efficiently manufacture a low-profile electronic component.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施例の絶縁
膜が形成された金属キャップを用いた電子部品を示す断
面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an electronic component using a metal cap on which an insulating film is formed according to one embodiment of the present invention.
【0020】誘電体基板などの基板10の両端部の端
面、上面及び下面の上には端子電極11及び端子電極1
2が形成されている。基板10の下面の中央にはさらに
端子電極13が形成されており、端子電極11と端子電
極13及び端子電極12と端子電極13の間でそれぞれ
コンデンサが構成されている。また端子電極11と端子
電極12との間で別個のコンデンサが構成されている。
また、基板10内には、端部が端子電極11または端子
電極12に接するような内部電極が形成されていてもよ
く、このような内部電極間でコンデンサが構成されてい
てもよい。A terminal electrode 11 and a terminal electrode 1 are provided on an end surface, an upper surface, and a lower surface of both ends of a substrate 10 such as a dielectric substrate.
2 are formed. Terminal electrodes 13 are further formed in the center of the lower surface of the substrate 10, and capacitors are respectively formed between the terminal electrodes 11 and 13 and between the terminal electrodes 12 and 13. Separate capacitors are formed between the terminal electrodes 11 and 12.
In the substrate 10, an internal electrode whose end is in contact with the terminal electrode 11 or the terminal electrode 12 may be formed, and a capacitor may be formed between such internal electrodes.
【0021】基板の上面側には、圧電共振素子などの素
子20が搭載されている。素子20の一方端は半田21
により端子電極11に接合されており、他方端は半田2
2により端子電極12に接合されている。さらに、基板
10の上面側には、素子20を覆い封止するように金属
キャップ1が取り付けられている。金属キャップ1はア
ルミニウムまたはその合金から形成されている。金属キ
ャップ1の表面には絶縁膜2が形成されている。この絶
縁膜2は、金属キャップ1の表面を陽極酸化処理するこ
とにより形成された絶縁膜である。絶縁膜の厚みとして
は、3〜30μm程度であることが好ましい。An element 20 such as a piezoelectric resonance element is mounted on the upper surface side of the substrate. One end of the element 20 is solder 21
To the terminal electrode 11 and the other end is solder 2
2 are joined to the terminal electrode 12. Further, a metal cap 1 is attached to the upper surface side of the substrate 10 so as to cover and seal the element 20. The metal cap 1 is made of aluminum or its alloy. An insulating film 2 is formed on the surface of the metal cap 1. This insulating film 2 is an insulating film formed by subjecting the surface of the metal cap 1 to an anodic oxidation treatment. The thickness of the insulating film is preferably about 3 to 30 μm.
【0022】図1に示すように、端子電極11及び12
と金属キャップ1との間には絶縁膜2が介在しているの
で、金属キャップ1が直接端子電極11または12に接
触することはなく、良好な絶縁性が確保される。金属キ
ャップ1は、適当な接着剤等を用いて基板10上に接着
することができる。As shown in FIG. 1, the terminal electrodes 11 and 12
Since the insulating film 2 is interposed between the metal cap 1 and the metal cap 1, the metal cap 1 does not come into direct contact with the terminal electrode 11 or 12, and good insulation is secured. The metal cap 1 can be bonded onto the substrate 10 using a suitable adhesive or the like.
【0023】図2〜図6は、金属キャップの表面におい
て絶縁膜が形成される箇所の例を示す図である。各図に
おいて(a)は斜視図を示しており、(b)は(a)に
示すA−A線に沿う断面図を示しており、(c)は金属
キャップの底面すなわち基板と接触する面を示してい
る。各図において絶縁膜が形成されている箇所にはハッ
チッグを付している。FIGS. 2 to 6 are views showing examples of locations where an insulating film is formed on the surface of the metal cap. In each figure, (a) is a perspective view, (b) is a cross-sectional view taken along the line AA shown in (a), and (c) is the bottom surface of the metal cap, that is, the surface in contact with the substrate. Is shown. In each drawing, a portion where an insulating film is formed is hatched.
【0024】図2に示すように、絶縁膜12は金属キャ
ップ1の全面に形成してもよい。図2に示す実施例で
は、金属キャップ1の外側表面及び内側表面並びに基板
に取り付けられる際接する底面の全てに絶縁膜2が形成
されている。このように金属キャップ1の全面に絶縁膜
2を設けることにより、この電子部品を回路基板に実装
した際、他の部品と接しても電気的絶縁性を保つことが
でき、電気的特性の劣化を防ぐことができる。また金属
キャップ1の内面にも絶縁膜2が形成されているので、
内部における素子や半田等との絶縁性も保つことができ
る。As shown in FIG. 2, the insulating film 12 may be formed on the entire surface of the metal cap 1. In the embodiment shown in FIG. 2, the insulating film 2 is formed on all of the outer and inner surfaces of the metal cap 1 and the bottom surface which is in contact with the metal cap 1 when it is attached to the substrate. By providing the insulating film 2 on the entire surface of the metal cap 1 as described above, when this electronic component is mounted on a circuit board, electrical insulation can be maintained even when the electronic component comes into contact with other components, and the electrical characteristics deteriorate. Can be prevented. Since the insulating film 2 is also formed on the inner surface of the metal cap 1,
Insulation with elements, solder, and the like inside can be maintained.
【0025】図3に示す実施例では、金属キャップ1の
外側上面を除く表面に絶縁膜2が形成されている。この
ように金属キャップ1の外側上面に絶縁膜が形成されな
い場合、この部分を用いて金属キャップと端子電極とが
絶縁されているかどうかをチェックすることができる。In the embodiment shown in FIG. 3, an insulating film 2 is formed on the surface of the metal cap 1 except for the outer upper surface. When the insulating film is not formed on the outer upper surface of the metal cap 1 as described above, it is possible to check whether the metal cap and the terminal electrode are insulated by using this portion.
【0026】図4に示す実施例では、金属キャップ1の
側面の中央の下方に絶縁膜2が形成されない箇所が設け
られている。この部分においては、金属キャップ1の底
面においても絶縁膜2が形成されていない。このような
絶縁膜が形成されない領域は、端子電極と接触しない領
域となるように注意しなければならない。なおこのよう
な金属キャップの絶縁膜パターンは、例えば、後述する
ようなフープ状態での陽極酸化処理の場合に製造するこ
とが可能である。絶縁膜2が形成されない領域にアース
を接続することにより、金属キャップ1にシールド機能
を付与することができる。In the embodiment shown in FIG. 4, a portion where the insulating film 2 is not formed is provided below the center of the side surface of the metal cap 1. In this portion, the insulating film 2 is not formed even on the bottom surface of the metal cap 1. Care must be taken that the region where such an insulating film is not formed is a region that does not contact the terminal electrode. In addition, such an insulating film pattern of the metal cap can be manufactured, for example, in the case of anodic oxidation in a hoop state as described later. By connecting the ground to a region where the insulating film 2 is not formed, the metal cap 1 can be provided with a shielding function.
【0027】図5に示す実施例においては、側面の中央
部に絶縁膜2が形成されていない領域が設けられてい
る。このような金属キャップにおいても、絶縁膜2が形
成されていない領域をアースに接続して、金属キャップ
1にシールド機能を付与することができる。In the embodiment shown in FIG. 5, a region where the insulating film 2 is not formed is provided at the center of the side surface. In such a metal cap as well, a region where the insulating film 2 is not formed can be connected to the ground to provide the metal cap 1 with a shielding function.
【0028】図6に示す実施例においては、金属キャッ
プ1の下方端部にのみ絶縁膜2が形成されている。絶縁
膜2は、金属キャップ1の下方端部の外側及び内側並び
に底面上に形成されている。これらの金属キャップにお
いても、絶縁膜2が形成されていない部分をアースに接
続してシールド機能を付与することができる。In the embodiment shown in FIG. 6, the insulating film 2 is formed only on the lower end of the metal cap 1. The insulating film 2 is formed outside and inside the lower end of the metal cap 1 and on the bottom surface. Also in these metal caps, a portion where the insulating film 2 is not formed can be connected to the ground to provide a shielding function.
【0029】以上のように、本発明において絶縁膜が形
成される領域は特に限定されるものではなく、少なくと
も端子電極と接触する箇所の表面に絶縁膜が設けられて
いればよい。As described above, the region where the insulating film is formed in the present invention is not particularly limited, as long as the insulating film is provided at least on the surface in contact with the terminal electrode.
【0030】図7は、本発明に従う第1の実施形態にお
ける絶縁膜形成方法を説明するための断面図である。本
実施形態では、金属キャップ1を治具3で保持した状態
で電気的に導通させ、金属キャップ1を陽極として陽極
酸化処理を施す。治具3としては、金属キャップ1を内
側から固定できるような金属製のバネ状部材などを用い
ることができる。このような状態での陽極酸化処理は、
金属キャップ1が分離されバラバラの状態であるときに
適している。FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining a method of forming an insulating film in the first embodiment according to the present invention. In the present embodiment, the metal cap 1 is electrically conducted while being held by the jig 3, and anodization is performed using the metal cap 1 as an anode. As the jig 3, a metal spring-like member that can fix the metal cap 1 from the inside can be used. Anodizing treatment in such a state,
It is suitable when the metal cap 1 is separated and in a disjointed state.
【0031】図8は、本発明に従う第2の実施形態にお
ける陽極酸化処理の状態を示す斜視図である。本実施形
態では、キャップ1がフープ4中に連結して連なってい
る。このようなフープ4は、板材を打ち抜いてキャップ
状に成形加工した後であって、打ち抜いた部分からキャ
ップ1を取り外す前の状態である。このようなフープ4
において金属キャップ1を電気的に導通させるため、例
えば、図8に示すような導通ロール5をフープ4に接触
させる。FIG. 8 is a perspective view showing a state of the anodic oxidation treatment in the second embodiment according to the present invention. In the present embodiment, the cap 1 is connected to and connected to the hoop 4. Such a hoop 4 is in a state after the plate material has been punched and formed into a cap shape and before the cap 1 is removed from the punched portion. Such a hoop 4
For example, in order to electrically conduct the metal cap 1 in (1), for example, a conduction roll 5 as shown in FIG.
【0032】図9は、図8に示す状態のフープ4を連続
的に陽極酸化処理する実施例を示している。フープ4は
送り出しロール6に巻き付けられており、この送り出し
ロール6からフープ4が陽極酸化処理浴8に送り出され
る。フープ4は、導通ロール5と接することにより電気
的に導通されている。陽極酸化処理浴8では、フープ4
すなわち金属キャップ1が陽極酸化処理され、その表面
に酸化被膜が形成される。陽極酸化処理後のフープ4
は、巻き取りロール7に巻き取られる。このようにして
金属キャップ1をフープ4の状態で連続的に陽極酸化処
理することができる。FIG. 9 shows an embodiment in which the hoop 4 in the state shown in FIG. 8 is continuously anodized. The hoop 4 is wound around a delivery roll 6, from which the hoop 4 is delivered to an anodizing bath 8. The hoop 4 is electrically conducted by being in contact with the conduction roll 5. In the anodizing bath 8, the hoop 4
That is, the metal cap 1 is anodized, and an oxide film is formed on the surface. Hoop after anodizing 4
Is taken up by a take-up roll 7. In this manner, the metal cap 1 can be continuously anodized in the state of the hoop 4.
【0033】図10は、本発明に従う第3の実施形態に
おける陽極酸化処理の状態を示す正面図である。本実施
形態では、所定単位毎に切断されたフープ4を用い、こ
れを陽極酸化処理浴に浸漬して陽極酸化処理を行う。す
なわち、フープ4をバッチ方式で陽極酸化処理する。フ
ープ4は電気的な導通が保たれた保持具9によって保持
し、この状態で陽極酸化処理浴中に浸漬され、陽極酸化
処理が施され、表面に酸化被膜からなる絶縁膜が設けら
れる。FIG. 10 is a front view showing a state of the anodic oxidation treatment in the third embodiment according to the present invention. In the present embodiment, the hoop 4 cut into predetermined units is used, and the hoop 4 is immersed in an anodizing bath to perform anodizing. That is, the hoop 4 is anodized in a batch mode. The hoop 4 is held by a holder 9 that maintains electrical continuity. In this state, the hoop 4 is immersed in an anodizing bath, anodized, and an insulating film made of an oxide film is provided on the surface.
【0034】以上のようにフープの状態で陽極酸化処理
を行った後、フープ4から金属キャップ1を取り外す。
この際、フープ4における連結箇所で切り離されるが、
この切り離しがなされた箇所においては絶縁膜が形成さ
れていない。従って、図4に示すような絶縁膜パターン
を有する金属キャップを製造することができる。After performing the anodic oxidation treatment in the state of the hoop as described above, the metal cap 1 is removed from the hoop 4.
At this time, it is cut off at the connection point in the hoop 4,
No insulating film is formed at the location where the separation was performed. Therefore, a metal cap having an insulating film pattern as shown in FIG. 4 can be manufactured.
【0035】図11は、フープ4内において金属キャッ
プ1との連結部に切り込み4a及び4bが形成された状
態を示す断面図である。このように切り込み4a及び4
bを形成し連結部の厚みを予め薄くしておくことによ
り、陽極酸化処理後において容易に金属キャップ1をフ
ープ4から取り外すことができる。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state in which cuts 4a and 4b are formed in a connection portion between the hoop 4 and the metal cap 1. As shown in FIG. The cuts 4a and 4
By forming b and reducing the thickness of the connecting portion in advance, the metal cap 1 can be easily removed from the hoop 4 after the anodizing treatment.
【0036】図12は陽極酸化処理後の状態を示してい
る。図12に示すように、フープ4の表面及び裏面にそ
れぞれ酸化被膜である絶縁膜2が形成される。この絶縁
膜2は全体にほぼ均等な厚みで形成されるので、切り込
み4a及び4bが形成された箇所においては、金属板の
厚みが非常に薄くなる。従って、外部からの弱い力で金
属キャップ1を取り外すことが可能になる。FIG. 12 shows a state after the anodic oxidation treatment. As shown in FIG. 12, the insulating film 2, which is an oxide film, is formed on the front and back surfaces of the hoop 4, respectively. Since the insulating film 2 is formed with a substantially uniform thickness as a whole, the thickness of the metal plate becomes extremely thin at the portions where the cuts 4a and 4b are formed. Therefore, the metal cap 1 can be removed with a weak external force.
【0037】図11において形成する切り込み4a及び
4bの深さは、例えば、金属板の厚みの半分程度となる
ような切り込みを形成することができる。以上の実施例
においては、素子を搭載する基板として誘電体基板など
の基板を例にして説明したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、例えば絶縁性基板などを用いてもよ
い。The cuts 4a and 4b formed in FIG. 11 can be formed to have a depth, for example, about half the thickness of the metal plate. In the above embodiments, a substrate such as a dielectric substrate has been described as an example of a substrate on which elements are mounted. However, the present invention is not limited to this, and for example, an insulating substrate may be used.
【0038】[0038]
【発明の効果】本発明の絶縁膜形成方法によれば、キャ
ップ形状に成形された状態で陽極酸化処理を施すことに
より、端子電極と接する箇所の表面に陽極酸化処理によ
る絶縁膜を形成することができる。このような金属キャ
ップは、そのまま接着剤等で基板上に取り付けることが
できるので、低背化可能な電子部品を効率良く製造する
ことができる。According to the method of forming an insulating film of the present invention, an anodizing treatment is performed in a state of being formed into a cap shape, so that an insulating film is formed on the surface in contact with the terminal electrode by the anodizing treatment. Can be. Since such a metal cap can be directly attached to a substrate with an adhesive or the like, an electronic component whose height can be reduced can be efficiently manufactured.
【図1】本発明に従い形成された絶縁膜を有する金属キ
ャップを用いた電子部品の一例を示す断面図。FIG. 1 is a sectional view showing an example of an electronic component using a metal cap having an insulating film formed according to the present invention.
【図2】本発明に従う一実施例の金属キャップを示す図
であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示すA−A
線に沿う断面図、(c)は底面図。FIGS. 2A and 2B are views showing a metal cap according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 2A is a perspective view and FIG.
Sectional drawing along a line, (c) is a bottom view.
【図3】本発明に従う他の実施例の金属キャップを示す
図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示すA−
A線に沿う断面図、(c)は底面図。3A and 3B are views showing a metal cap of another embodiment according to the present invention, wherein FIG. 3A is a perspective view, and FIG.
Sectional drawing along line A, (c) is a bottom view.
【図4】本発明に従うさらに他の実施例の金属キャップ
を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示
すA−A線に沿う断面図、(c)は底面図。4A and 4B are diagrams showing a metal cap of still another embodiment according to the present invention, wherein FIG. 4A is a perspective view, FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line AA shown in FIG. Bottom view.
【図5】本発明に従うさらに他の実施例の金属キャップ
を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示
すA−A線に沿う断面図、(c)は底面図。5A and 5B are views showing a metal cap of still another embodiment according to the present invention, wherein FIG. 5A is a perspective view, FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line AA shown in FIG. Bottom view.
【図6】本発明に従うさらに他の実施例の金属キャップ
を示す図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)に示
すA−A線に沿う断面図、(c)は底面図。FIGS. 6A and 6B are views showing a metal cap of still another embodiment according to the present invention, wherein FIG. 6A is a perspective view, FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line AA shown in FIG. Bottom view.
【図7】本発明に従う好ましい実施形態の1つにおける
陽極酸化処理時の金属キャップ1の保持状態を示す断面
図。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a holding state of the metal cap 1 at the time of anodizing treatment in one of preferred embodiments according to the present invention.
【図8】本発明に従う他の好ましい実施形態を説明する
ための斜視図。FIG. 8 is a perspective view for explaining another preferred embodiment according to the present invention.
【図9】本発明に従う他の好ましい実施形態を説明する
ための断面図。FIG. 9 is a sectional view for explaining another preferred embodiment according to the present invention.
【図10】本発明に従うさらに他の好ましい実施形態を
説明するための正面図。FIG. 10 is a front view for explaining still another preferred embodiment according to the present invention.
【図11】本発明においてフープ内の金属キャップ1と
の連結部に切り込みを形成した時の状態を示す断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state where a cut is formed in a connection portion between the hoop and the metal cap 1 in the present invention.
【図12】図11に示す状態のフープを陽極酸化処理し
た後の状態を示す断面図。FIG. 12 is a sectional view showing a state after anodizing the hoop shown in FIG. 11;
【図13】従来の電子部品の一例を示す断面図。FIG. 13 is a sectional view showing an example of a conventional electronic component.
【図14】従来の電子部品の他の例を示す斜視図。FIG. 14 is a perspective view showing another example of a conventional electronic component.
1…金属キャップ 2…絶縁膜 3…治具 4…フープ 5…導通ロール 6…送り出しロール 7…巻き取りロール 8…陽極酸化処理浴 9…保持具 10…基板 11〜13…端子電極 20…素子 21,22…半田 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal cap 2 ... Insulating film 3 ... Jig 4 ... Hoop 5 ... Conducting roll 6 ... Sending roll 7 ... Winding roll 8 ... Anodizing bath 9 ... Holder 10 ... Substrate 11-13 ... Terminal electrode 20 ... Element 21, 22, ... solder
Claims (6)
された素子を覆い封止するため前記基板表面上に取り付
けられる電子部品封止用金属キャップの表面に、前記端
子電極と前記金属キャップとの間を電気的に絶縁するた
めの絶縁膜を形成する方法であって、 前記金属キャップがアルミニウムまたはその合金からな
り、キャップ形状に成形された状態で陽極酸化処理を施
すことにより、前記金属キャップ表面に絶縁膜を形成す
ることを特徴とする金属キャップの絶縁膜形成方法。The terminal electrode and the metal cap are provided on a surface of a metal cap for electronic component sealing mounted on the substrate surface to cover and seal an element mounted on the substrate surface on which the terminal electrode is formed. Forming an insulating film for electrically insulating between the metal cap and the metal cap, the metal cap is made of aluminum or an alloy thereof, and anodized in a state of being formed in a cap shape, the metal cap A method for forming an insulating film on a metal cap, comprising forming an insulating film on a surface of the cap.
通させた状態で陽極酸化処理を行うことを特徴とする請
求項1に記載の金属キャップの絶縁膜形成方法。2. The method for forming an insulating film on a metal cap according to claim 1, wherein the anodizing treatment is performed in a state where the metal cap is held by a jig and is electrically connected.
した後であって、一部において板材と連結しているフー
プの状態で陽極酸化処理を行うことを特徴とする請求項
1に記載の金属キャップの絶縁膜形成方法。3. The metal according to claim 1, wherein the anodic oxidation treatment is performed in a state of a hoop partially connected to the plate after the plate is punched and formed into a cap shape. A method for forming an insulating film of a cap.
極酸化処理後のフープを巻き取ることにより連続的に陽
極酸化処理を行うことを特徴とする請求項3に記載の金
属キャップの絶縁膜形成方法。4. The formation of an insulating film on a metal cap according to claim 3, wherein the hoop is sent out to an anodizing treatment bath, and the hoop after the anodizing treatment is wound up to perform anodizing treatment continuously. Method.
化処理浴に浸漬して陽極酸化処理を行うことを特徴とす
る請求項3に記載の金属キャップの絶縁膜形成方法。5. The method according to claim 3, wherein the hoop cut in predetermined units is immersed in an anodizing bath to perform anodizing.
された素子を覆い封止するため前記基板表面上に取り付
けられる電子部品封止用金属キャップであって、 前記金属キャップがアルミニウムまたはその合金からな
り、少なくとも前記端子電極と接する箇所の表面に、陽
極酸化処理による絶縁膜が形成されていることを特徴と
する電子部品封止用金属キャップ。6. A metal cap for sealing electronic components mounted on a surface of a substrate for covering and sealing an element mounted on the surface of the substrate on which a terminal electrode is formed, wherein the metal cap is made of aluminum or the same. A metal cap for electronic component sealing, wherein an insulating film is formed by an anodizing treatment at least on a surface of a portion which is in contact with the terminal electrode, which is made of an alloy.
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