JP2001057086A - Non-volatile semiconductor memory device and storage medium stored with program - Google Patents
Non-volatile semiconductor memory device and storage medium stored with programInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電気的に書き替え
可能な不揮発性半導体記憶素子からなるフューズセルを
有する不揮発性半導体記憶装置及びそれに用いられるプ
ログラムを記憶した記憶媒体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device having a fuse cell composed of an electrically rewritable nonvolatile semiconductor memory element and a storage medium storing a program used therein.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の不揮発性半導体記憶装置において
は、電気的に書き替え可能な不揮発性半導体記憶素子を
用いたフューズセルが設けられている。このフューズセ
ルは、リダンダンシ切り替え情報や製品機能の切り替え
情報の記憶を目的として設けられている。2. Description of the Related Art In a conventional nonvolatile semiconductor memory device, a fuse cell using an electrically rewritable nonvolatile semiconductor memory element is provided. This fuse cell is provided for the purpose of storing redundancy switching information and product function switching information.
【0003】図6は従来のフューズセルを有する不揮発
性半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。ここ
では、フューズセルの記憶情報を判定する回路の構成、
及び不揮発性半導体記憶装置を「電気的書き込み消去可
能な製品」として出荷するか、あるいは「電気的書き込
みが一度だけ可能な製品」として出荷するかという機能
切り替え用に、フューズセルの記憶情報を用いる場合の
構成を示している。FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a conventional nonvolatile semiconductor memory device having a fuse cell. Here, the configuration of the circuit for determining the storage information of the fuse cell,
The storage information of the fuse cell is used for switching the function between shipping the nonvolatile semiconductor memory device as an “electrically erasable and erasable product” or shipping as an “electrically writable and erasable product”. The configuration in the case is shown.
【0004】図6において、フューズセル601は、電
気的に書き替え可能な不揮発性半導体記憶素子からな
り、自身のしきい値レベルが高いか低いかという違いを
記憶情報として保持する。センス回路602は、フュー
ズセル601に接続され、フューズセル601のしきい
値レベルが高い状態(オフセル)か低い状態(オンセ
ル)かを検知して、フューズセル601の記憶情報を出
力する。ゲートドライバ603は、フューズセル601
のゲート端子に接続され、フューズセル601の読み出
し時に電源電圧VCCでフューズセル601のゲート端子
を駆動する。[0006] In FIG. 6, a fuse cell 601 is made of an electrically rewritable nonvolatile semiconductor memory element, and holds a difference as to whether its own threshold level is high or low as storage information. The sense circuit 602 is connected to the fuse cell 601, detects whether the threshold level of the fuse cell 601 is high (off cell) or low (on cell), and outputs information stored in the fuse cell 601. The gate driver 603 includes a fuse cell 601.
The gate terminal of the fuse cell 601 is driven by the power supply voltage VCC when reading the fuse cell 601.
【0005】フューズ書き込み回路604は、フューズ
セル601に接続され、フューズセル601のしきい値
レベルを上げる機能を有する。フューズ消去回路605
は、フューズセル601に接続され、フューズセル60
1のしきい値レベルを下げる機能を有する。The fuse writing circuit 604 is connected to the fuse cell 601 and has a function of increasing the threshold level of the fuse cell 601. Fuse erase circuit 605
Is connected to the fuse cell 601, and the fuse cell 60
It has a function of lowering the threshold level of 1.
【0006】メインメモリ領域消去活性制御回路606
は、センス回路602に接続され、メインメモリ領域6
08を消去するための消去フラグが成立したとき、フュ
ーズセル601の記憶情報に応じて消去動作を開始する
かどうかの判断をし、メインメモリ領域消去活性信号を
成立させる。メインメモリ領域消去回路607は、メイ
ンメモリ領域消去活性信号を受けて、メインメモリ領域
608の消去動作を行う。Main memory area erase activation control circuit 606
Is connected to the sense circuit 602 and the main memory area 6
When the erase flag for erasing 08 is established, it is determined whether or not the erase operation is to be started according to the information stored in the fuse cell 601, and the main memory area erase activation signal is established. The main memory area erasing circuit 607 performs an erasing operation of the main memory area 608 in response to the main memory area erasing activation signal.
【0007】図7は、フューズセル601のしきい値レ
ベルと読み出し時にフューズセル601のゲート端子に
印加する電圧レベルとの関係を示す図である。フューズ
セル601は、拡散上がりでイニシャルしきい値レベル
Vthinit(3V程度)というしきい値レベルを持ってい
る。FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the threshold level of the fuse cell 601 and the voltage level applied to the gate terminal of the fuse cell 601 at the time of reading. Fuse cell 601 has a threshold level of initial threshold level Vthinit (about 3 V) after diffusion.
【0008】従来、電源電圧VCCが5Vであったときに
は、フューズセル601のゲート端子に電源電圧VCCを
印加することによって、イニシャルしきい値レベルを持
つフューズセルを確実にオンセルとすることができた
が、近年、低電圧化が進み電源電圧VCCが2〜4Vとな
ったため、フューズセル601のゲート端子に電源電圧
VCCを印加しても、イニシャルしきい値レベルVthinit
を持つフューズセル601を確実にオンセル又はオフセ
ルとすることができなくなってきた。Conventionally, when the power supply voltage VCC is 5 V, by applying the power supply voltage VCC to the gate terminal of the fuse cell 601, the fuse cell having the initial threshold level can be reliably turned on. However, since the power supply voltage VCC has been reduced to 2 to 4 V in recent years, even if the power supply voltage VCC is applied to the gate terminal of the fuse cell 601, the initial threshold level Vthinit
It is no longer possible to reliably turn on or off cells the fuse cell 601 having.
【0009】そこで、まずフューズセル601に対して
フューズ消去回路605を用いて消去動作を行うことに
よりしきい値レベルを1V程度まで下げ、このしきい値
レベルをデフォルトしきい値レベルVthdef とする。フ
ューズセル601の持つしきい値レベルが上記デフォル
トしきい値レベルVthdef のとき、ゲートドライバ60
3を介してフューズセル601のゲート端子に2〜4V
の電源電圧VCCを印加すると、フューズセル601はオ
ンセルとなり、このときセンス回路602は「High」情
報を出力する。Therefore, first, an erase operation is performed on fuse cell 601 using fuse erase circuit 605 to lower the threshold level to about 1 V, and this threshold level is set to default threshold level Vthdef. When the threshold level of the fuse cell 601 is the default threshold level Vthdef, the gate driver 60
2 to 4 V to the gate terminal of the fuse cell 601
When the power supply voltage VCC is applied, the fuse cell 601 is turned on, and at this time, the sense circuit 602 outputs "High" information.
【0010】フューズ記憶情報の変更を行う場合は、フ
ューズセル601に対してフューズ書き込み回路604
を用いて書き込み動作を行うことによりしきい値レベル
を5V程度に上げ、このしきい値レベルをトリミング後
しきい値レベルVthtrimとする。フューズセル601の
持つしきい値レベルが上記トリミング後しきい値レベル
Vthtrimのとき、フューズセル601のゲート端子に電
源電圧VCCを印加すると、フューズセル601はオフセ
ルとなり、このときセンス回路602は「Low」情報を
出力する。When the fuse storage information is changed, the fuse write circuit 604 is applied to the fuse cell 601.
, The threshold level is raised to about 5 V, and this threshold level is set to a threshold level Vthtrim after trimming. When the power supply voltage VCC is applied to the gate terminal of the fuse cell 601 when the threshold level of the fuse cell 601 is the above-trimmed threshold level Vthtrim, the fuse cell 601 is turned off. At this time, the sense circuit 602 becomes “Low”. Output information.
【0011】メインメモリ領域608に対する消去動作
を行う場合は、メインメモリ領域消去活性制御回路60
6における消去フラグが成立したときにセンス回路60
2の出力情報を確認し、センス回路602が「High」情
報を出力していた場合にはメインメモリ領域消去活性信
号を成立させ、「Low 」情報を出力していたときには不
成立とする。When an erasing operation is performed on main memory area 608, main memory area erasing activation control circuit 60
6 when the erase flag is established.
2 is confirmed, if the sense circuit 602 has output "High" information, the main memory area erasure activation signal is established, and if the "Low" information is output, it is not established.
【0012】このメインメモリ領域消去活性信号の成立
を受けて、メインメモリ領域消去回路607が活性化さ
れ、メインメモリ領域608の消去動作を開始するとい
う制御を行う。In response to the establishment of the main memory area erasing activation signal, control is performed such that the main memory area erasing circuit 607 is activated and the erasing operation of the main memory area 608 is started.
【0013】上記のようにフューズセル601を、まず
フューズ消去回路605を用いてイニシャルしきい値レ
ベルを持つフューズセル601をオンセル(デフォルト
しきい値レベルVthdef )とする。これにより、出荷直
前までの工程においては、メインメモリ領域608を電
気的に書き込み消去可能な領域としてテストすることが
可能となる。As described above, the fuse cell 601 is first turned on using the fuse erase circuit 605 to turn on the fuse cell 601 having the initial threshold level (default threshold level Vthdef). This makes it possible to test the main memory area 608 as an electrically writable and erasable area in the process immediately before shipment.
【0014】従って、この不揮発性半導体記憶装置を電
気的書き込み消去可能な製品として出荷する場合はその
まま出荷する。また、電気的書き込みを一度だけ可能な
製品として出荷する場合は、フューズセル601を書き
込み回路604を用いて、オフセル(トリミング後しき
い値レベルVthtrim)とし、メインメモリ領域消去回路
607を活性化しない状態にした後、出荷するという手
順をとっていた。Therefore, when this nonvolatile semiconductor memory device is shipped as a product that can be electrically written and erased, it is shipped as it is. Further, when the product is shipped as a product in which electrical writing can be performed only once, the fuse cell 601 is turned off using the writing circuit 604 (the threshold level Vthtrim after trimming), and the main memory area erasing circuit 607 is not activated. After the state, it was taking the procedure of shipping.
【0015】[0015]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術には、次のような問題点があった。第1の問題点
は、フューズセルを設定するための制御回路が大規模に
なるということである。その理由は、拡散上がりのしき
い値Vthinitを持つフューズセルがオンセルであるかオ
フセルであるかを容易に判定することができないことか
ら、フューズセルのしきい値レベルを完全にオンセルと
するための消去回路と、完全にオフセルとするための書
き込み回路との両方を必要とするためである。However, the above-mentioned prior art has the following problems. The first problem is that the control circuit for setting the fuse cell becomes large-scale. The reason is that it is not possible to easily determine whether the fuse cell having the diffusion rise threshold Vthinit is an on cell or an off cell, so that the threshold level of the fuse cell must be completely turned on. This is because both an erase circuit and a write circuit for completely turning off cells are required.
【0016】第2の問題点は、フューズセルを設定する
ために時間がかかるということである。その理由は、拡
散上がりのしきい値Vthinitを持つフューズセルがオン
セルであるかオフセルであるかを容易に判定することが
できないことから、完全にオンセルであると判定できる
デフォルトしきい値レベルまでフューズセルを一旦消去
するという工程が必要となるためである。The second problem is that it takes time to set a fuse cell. The reason is that it is not possible to easily determine whether the fuse cell having the diffusion rise threshold value Vthinit is an on-cell or an off-cell, so that the fuse cell reaches a default threshold level at which it can be completely determined to be an on-cell. This is because a step of once erasing the cell is required.
【0017】第3の問題点は、上記のようなフューズセ
ルの記憶情報の使い方をしたとき、フューズセルを消去
するテスト方法を解析することによって、出荷した後に
フューズデータが書き戻されてしまい、メインメモリ領
域に記憶されている情報を書き替えられてしまうという
安全対策上の問題である。その理由は、工場でのテスト
機能として、フューズセルのしきい値レベルを制御する
ための書き込み回路と消去回路との両方を有しているこ
とにある。A third problem is that, when the storage information of the fuse cell is used as described above, the fuse data is written back after shipment by analyzing a test method for erasing the fuse cell. This is a problem in safety measures that information stored in the main memory area can be rewritten. The reason is that the semiconductor device has both a write circuit and an erase circuit for controlling a threshold level of a fuse cell as a test function in a factory.
【0018】従って、本発明は、以上の問題点を解決す
ることのできる不揮発性半導体記憶装置を提供するもの
である。Accordingly, the present invention provides a nonvolatile semiconductor memory device which can solve the above problems.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明による不揮発性半導体記憶装置は、電気的
に書き込み消去可能な不揮発性半導体記憶素子からなる
フューズセルと、フューズセルのしきい値レベルを検知
してフューズセルがオンセルであるかオフセルであるか
を判定するセンス手段と、フューズセルのゲート端子を
駆動するゲートドライバ手段と、フューズセルの読み出
し時にゲートドライバ手段がゲート端子に印加する読み
出し電圧を発生する読み出し電圧発生手段と、フューズ
セルを消去しフューズセルの持つしきい値レベルを低下
させるフューズセル消去手段とを設けてなり、読み出し
電圧発生手段が出力する読み出し電圧は、フューズセル
が拡散直後を示すイニシャルしきい値レベルを持つとき
フューズセルをセンス手段がオフセルと判定できる電圧
であることを特徴とするものである。In order to achieve the above object, a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention comprises a fuse cell comprising an electrically erasable nonvolatile semiconductor memory element, and a fuse cell threshold. Sensing means for detecting a value level to determine whether a fuse cell is an on cell or an off cell; a gate driver means for driving a gate terminal of the fuse cell; and a gate driver means for applying a voltage to the gate terminal when reading the fuse cell. Read voltage generating means for generating a read voltage to be read, and fuse cell erasing means for erasing a fuse cell and lowering the threshold level of the fuse cell. When the cell has an initial threshold level indicating immediately after diffusion, the fuse cell is Scan means is characterized in that a voltage can be determined as an OFF cell.
【0020】また、本発明による他の不揮発性半導体記
憶装置は、電気的に書き込み消去可能な不揮発性半導体
記憶素子を用いたフューズセルと、フューズセルのしき
い値レベルを検知してフューズセルがオンセルであるか
オフセルであるかを判定するセンス手段と、フューズセ
ルのゲート端子を駆動するゲートドライバ手段と、フュ
ーズセルのデジット線に接続されフューズセルの読み出
し時に電源電圧から電流を供給する読み出し時電流源手
段と、フューズセルを消去しフューズセルの持つしきい
値レベルを低下させるフューズセル消去手段とを設けて
なり、読み出し時電流源手段の出力する電流量は、イニ
シャルしきい値レベルを持つフューズセルをセンス手段
がオフセルと判定できる電流量に設定されていることを
特徴とするものである。Further, in another nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, a fuse cell using an electrically erasable nonvolatile semiconductor memory element and a fuse cell detecting a threshold level of the fuse cell are used. Sensing means for determining whether the cell is an on-cell or off-cell, gate driver means for driving a gate terminal of the fuse cell, and read-out which is connected to a digit line of the fuse cell and supplies current from a power supply voltage when reading the fuse cell Current source means; and fuse cell erasing means for erasing the fuse cell and lowering the threshold level of the fuse cell. The amount of current output from the current source means at the time of reading has an initial threshold level. The fuse cell is set to a current amount by which the sensing means can be determined as an off cell. That.
【0021】また、本発明による記憶媒体は、電気的に
書き込み消去可能な不揮発性半導体記憶素子からなるフ
ューズセルのしきい値レベルを検知してフューズセルが
オンセルであるかオフセルであるかを判定する判定処理
と、フューズセルのゲート端子を駆動する駆動処理と、
フューズセルの読み出し時に駆動処理によりゲート端子
に印加する読み出し電圧を発生する読み出し電圧発生処
理と、フューズセルを消去しフューズセルの持つしきい
値レベルを低下させるフューズセル消去処理とを実行す
るためのプログラムを記憶し、読み出し電圧発生処理に
より発生する読み出し電圧は、フューズセルが拡散直後
にイニシャルしきい値レベルを持つとき、このフューズ
セルをセンス手段がオフセルであると判定できる電圧で
あることを特徴とする。Further, in the storage medium according to the present invention, it is determined whether the fuse cell is an ON cell or an OFF cell by detecting a threshold level of a fuse cell composed of an electrically erasable nonvolatile semiconductor memory element. And a driving process for driving the gate terminal of the fuse cell;
A read voltage generation process for generating a read voltage to be applied to the gate terminal by a driving process when reading the fuse cell, and a fuse cell erasing process for erasing the fuse cell and lowering the threshold level of the fuse cell. A read voltage generated by storing a program and generating a read voltage is a voltage that can determine that the fuse cell is an off-cell when the fuse cell has an initial threshold level immediately after diffusion. And
【0022】また、本発明による他の記憶媒体は、電気
的に書き込み消去可能な不揮発性半導体記憶素子を用い
たフューズセルのしきい値レベルを検知してフューズセ
ルがオンセルであるかオフセルであるかを判定する判定
処理と、フューズセルのゲート端子を駆動する駆動処理
と、フューズセルのデジット線に接続されフューズセル
の読み出し時に電源電圧から電流を供給する電流供給処
理と、フューズセルを消去しフューズセルの持つしきい
値レベルを低下させる機能を有するフューズセル消去処
理とを実行するためのプログラムを記憶し、電流供給処
理により供給する電流量は、拡散直後を示すイニシャル
しきい値レベルを持つフューズセルを判定処理がオフセ
ルであると判定できる電流量に設定されているものであ
る。Further, another storage medium according to the present invention detects the threshold level of a fuse cell using an electrically erasable nonvolatile semiconductor memory element and determines whether the fuse cell is an on cell or an off cell. A determination process of determining whether the fuse cell is driven, a drive process of driving the gate terminal of the fuse cell, a current supply process connected to the digit line of the fuse cell and supplying a current from the power supply voltage when reading the fuse cell, and erasing the fuse cell. A program for executing a fuse cell erasing process having a function of lowering the threshold level of the fuse cell is stored, and the amount of current supplied by the current supply process has an initial threshold level indicating immediately after diffusion. The fuse cell is set to an amount of current that can be determined to be an off cell in the determination process.
【0023】さらに、不揮発性半導体記憶装置及び記憶
媒体においては、判定に応じてメインメモリ領域の消去
を制御するようにしてよい。Further, in the nonvolatile semiconductor memory device and the storage medium, erasing of the main memory area may be controlled according to the judgment.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
と共に説明する。図1は本発明の第1の実施の形態によ
るフューズセルを有する不揮発性半導体記憶装置の構成
を示すブロック図である。ここでは、フューズセルの記
憶情報を判定する回路の構成、及び不揮発性半導体記憶
装置を「電気的書き込み消去可能な製品」として出荷す
るか、あるいは「電気的書き込みが一度だけ可能な製
品」として出荷するかという機能切り替え用に、フュー
ズセルの記憶情報を用いる場合の構成を示している。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device having a fuse cell according to a first embodiment of the present invention. Here, the configuration of the circuit for determining the storage information of the fuse cell and the non-volatile semiconductor memory device are shipped as "products that can be written and erased electrically" or as "products that can be written only once". The configuration in the case of using the storage information of the fuse cell for the function switching of whether to perform the function is shown.
【0025】図1において、本実施の形態による不揮発
性半導体記憶装置は、電気的に書き換え可能な不揮発性
半導体記憶素子からなるフューズセル101と、フュー
ズセル101に接続されフューズセル101のしきい値
レベルを検知してオンセル、オフセルを判定するセンス
回路102と、フューズセル101に接続されフューズ
セル101のゲート端子を駆動するゲートドライバ10
3と、ゲートドライバ103に接続されフューズセルの
読み出し時に読み出し電圧VFUSEREADを作成してゲート
ドライバ103に伝達する読み出し電圧発生回路104
と、フューズセル101に接続されフューズセル101
を電気的に消去する(しきい値レベルを低下させる)フ
ューズ消去回路105とを設けたことを特徴とする。Referring to FIG. 1, a nonvolatile semiconductor memory device according to the present embodiment includes a fuse cell 101 composed of an electrically rewritable nonvolatile semiconductor memory element and a threshold voltage of fuse cell 101 connected to fuse cell 101. A sense circuit 102 for detecting an on-cell or an off-cell by detecting a level, and a gate driver 10 connected to the fuse cell 101 and driving a gate terminal of the fuse cell 101
3 and a read voltage generating circuit 104 which is connected to the gate driver 103 and generates a read voltage VFUSEREAD when reading a fuse cell and transmits the read voltage VFUSEREAD to the gate driver 103.
And the fuse cell 101 connected to the fuse cell 101.
And a fuse erase circuit 105 for electrically erasing (reducing the threshold level).
【0026】そして、メインメモリ領域消去活性制御回
路106は、センス回路102に接続されメインメモリ
領域108を消去するための消去フラグが成立したと
き、フューズセル101の記憶情報に応じてメインメモ
リ領域108の消去動作を開始するかどうかの判断を
し、メインメモリ領域消去活性信号を出力する。When the erase flag for erasing the main memory area 108 connected to the sense circuit 102 is established, the main memory area erase activation control circuit 106 responds to the information stored in the fuse cell 101 by the main memory area 108. It is determined whether or not to start the erase operation of the main memory area, and a main memory area erase activation signal is output.
【0027】メインメモリ領域消去回路107は、メイ
ンメモリ領域消去活性信号を受けて、メインメモリ領域
108の消去動作を行う。The main memory area erasing circuit 107 performs an erasing operation of the main memory area 108 in response to the main memory area erasing activation signal.
【0028】図2は読み出し電圧発生回路104の構成
例を示すブロック図である。読み出し電圧発生回路10
4は、VCCレベル検知回路201、出力レベル制御論理
回路202、PchMOSトランジスタ203及びNchM
OSトランジスタ204から構成される。FIG. 2 is a block diagram showing a configuration example of the read voltage generation circuit 104. Read voltage generation circuit 10
4 is a VCC level detection circuit 201, an output level control logic circuit 202, a Pch MOS transistor 203 and an NchM
It comprises an OS transistor 204.
【0029】VCCレベル検知回路201は、電源電圧V
CCのレベルが高いとき、即ち、イニシャルしきい値レベ
ルを持つフューズセル101のゲート端子に電源電圧V
CCを印加してもセンス回路102がオフセルと検知でき
ないレベルのときは、出力信号CHKVCCを「High」に
し、逆に電源電圧VCCのレベルが低いときには、「Low
」にする。The VCC level detecting circuit 201 detects the power supply voltage V
When the level of CC is high, that is, the power supply voltage V is applied to the gate terminal of the fuse cell 101 having the initial threshold level.
When the level of the sense circuit 102 cannot be detected as an off cell even when CC is applied, the output signal CHKVCC is set to “High”. Conversely, when the level of the power supply voltage VCC is low, “Low” is set.
".
【0030】出力レベル制御論理回路202は、フュー
ズセル読み出し活性信号TFREADが「High」かつ上記CH
KVCC信号が「High」の条件のとき以外は、「Low 」デ
ータを出力し、上記条件が揃ったときには「High」デー
タを出力する。これにより、読み出し時ゲート電圧VFU
SEREADには、出力レベル制御論理白段202の出力が
「High」のときには「VCC−α」が与えられ、「Low 」
のときには「VCC」が与えられる。The output level control logic circuit 202 determines that the fuse cell read activation signal TFREAD is "High"
Except when the KVCC signal is in the "High" condition, "Low" data is output, and when the above conditions are met, "High" data is output. Thereby, the gate voltage VFU at the time of reading is obtained.
When the output of the output level control logic white stage 202 is “High”, “VCC-α” is given to SEREAD and “Low”
In the case of, "VCC" is given.
【0031】次に動作について説明する。フューズセル
101は、図3に示すように拡散上がりでVthinit(3
V程度)というしきい値レベルを持っている。そこで、
フューズセル101を読み出すときには読み出し電圧発
生回路104で読み出し電圧VFUSEREAD(図3の2V程
度)を作成し、ゲートドライバ103を介してフューズ
セル101のゲート端子に印加する。すると、センス回
路102はフューズセル101がオフセルであることを
検知して「High」情報を出力する。Next, the operation will be described. As shown in FIG. 3, the fuse cell 101 has Vthinit (3
V). Therefore,
When reading the fuse cell 101, a read voltage VFUSEREAD (about 2 V in FIG. 3) is generated by the read voltage generation circuit 104 and applied to the gate terminal of the fuse cell 101 via the gate driver 103. Then, the sense circuit 102 detects that the fuse cell 101 is an off-cell and outputs “High” information.
【0032】フューズ記憶情報の変更を行う際には、フ
ューズセル101をフューズ消去回路105を用いて消
去することにより、電圧VFUSEREADをフューズセル10
1のゲート端子に印加してもオンするしきい値レベルV
thtrim(図3の0〜1V程度)までしきい値を低下させ
る。これにより、フューズセル101の読み出しを行っ
たとき、フューズセル101は、センス回路102を介
して「Low 」情報を出力する。When the fuse storage information is changed, the fuse cell 101 is erased by using the fuse erase circuit 105 so that the voltage VFUSEREAD is changed to the fuse cell 10.
Threshold level V that turns on even when applied to gate terminal 1
The threshold value is reduced to thtrim (about 0 to 1 V in FIG. 3). Thus, when reading of the fuse cell 101 is performed, the fuse cell 101 outputs “Low” information via the sense circuit 102.
【0033】メインメモリ領域消去活性制御回路106
は、センス回路102の判定結果に応じて、メインメモ
リ領域108に対する消去動作の可否制御を行う。即
ち、消去フラグが成立したとき、センス回路102が、
フューズセル101のしきい値レベルがイニシャルしき
い値レベルVthinitであるとき、即ち、「High」情報を
出力しているときには、メインメモリ領域消去活性信号
を成立させて、メインメモリ領域108に対する消去動
作を許可する。Main memory area erase activation control circuit 106
Controls whether or not an erasing operation can be performed on the main memory area 108 according to the determination result of the sense circuit 102. That is, when the erase flag is established, the sense circuit 102
When the threshold level of the fuse cell 101 is the initial threshold level Vthinit, that is, when the “High” information is being output, the main memory area erase activation signal is established and the erase operation for the main memory area 108 is performed. Allow
【0034】また、センス回路102が、フューズセル
101のしきい値レベルがトリミング後しきい値レベル
Vthtrimであるとき、即ち、「Low 」情報を出力してい
るときには、メインメモリ領域消去活性信号を成立させ
ず、メインメモリ領域101に対する消去動作を禁止す
るという制御を行う。When the threshold level of the fuse cell 101 is the trimmed threshold level Vthtrim, that is, when the sense circuit 102 is outputting "Low" information, the sense circuit 102 outputs the main memory area erase activation signal. The control is performed to prohibit the erasing operation for the main memory area 101 without being established.
【0035】以上説明したように、本実施の形態におい
ては、フューズセル101が拡散上がりのイニシャルし
きい値レベルをもつときには、読み出し電圧発生回路1
04で作成される読み出し電圧VFUSEREADを、ゲートド
ライバ103を介してフューズセル101のゲート端子
に印加すると、センス回路102はフューズセル101
をオフセルであると判定する。また、フューズ記憶情報
を変更する場合は、フューズ消去回路105によってフ
ューズセル101を消去し、しきい値レベルを下げるこ
とにより、センス回路102はフューズセル101をオ
ンセルであると判定するようになる。As described above, in the present embodiment, when the fuse cell 101 has an initial threshold level that is increased by diffusion, the read voltage generation circuit 1
When the read voltage VFUSEREAD generated in step 04 is applied to the gate terminal of the fuse cell 101 via the gate driver 103, the sense circuit 102
Is determined to be an off-cell. When the fuse storage information is changed, the fuse cell 101 is erased by the fuse erase circuit 105 and the threshold level is lowered, so that the sense circuit 102 determines that the fuse cell 101 is an on cell.
【0036】従って、本実施の形態によれば、従来例の
ようにテスト工程で必ずフューズセルをデフォルトしき
い値レベルの設定の目的で消去し、記憶情報の変更時に
のみ書き込みをするというような複雑なフューズ記憶情
報の設定を必要とせず、消去動作のみでフューズ記憶情
報のオン、オフ切り替えを制御することが可能なため、
フューズ情報設定用の制御回路の複雑化、フューズ情報
設定手順の複雑化をなくすことができるという利点があ
る。Therefore, according to the present embodiment, the fuse cell is always erased in the test process for the purpose of setting the default threshold level, and writing is performed only when the storage information is changed, as in the conventional example. Since it is not necessary to set complicated fuse storage information and it is possible to control the on / off switching of the fuse storage information only by the erase operation,
There is an advantage that the complexity of the fuse information setting control circuit and the complexity of the fuse information setting procedure can be eliminated.
【0037】また、イニシャルしきい値レベルを持つフ
ューズセルを読み出す方法として、読み出し時にフュー
ズセルのゲート端子にセンス回路がオンセルであると判
定できる高い電圧を印加し、記憶情報の変更のためにし
きい値を上昇させる手段のみを持たせるという方法も考
えられるが、電源電圧の低電圧化が進むにつれて読み出
し時にフューズセルのゲート端子を駆動する電圧を電源
電圧から昇圧して作るためには、チャージポンプ回路や
ブースト回路のような巨大な昇圧容量を必要とする回路
が必要となり、フューズセル設定用の制御回路が大規模
になるという問題がある。そのため本実施の形態ではフ
ューズセルのゲート端子に印加するレベルを電源電圧か
ら降圧して作る手段を採用している。Further, as a method of reading a fuse cell having an initial threshold level, a high voltage capable of determining that the sense circuit is an ON cell is applied to the gate terminal of the fuse cell at the time of reading, and the threshold voltage is used to change stored information. Although it is conceivable to provide only a means for increasing the value, as the power supply voltage becomes lower, the voltage for driving the gate terminal of the fuse cell at the time of reading is increased from the power supply voltage by a charge pump. A circuit such as a circuit or a boost circuit that requires a huge boosting capacity is required, and there is a problem that a control circuit for setting a fuse cell becomes large. For this reason, this embodiment employs means for lowering the level applied to the gate terminal of the fuse cell from the power supply voltage.
【0038】図4は本発明の第2の実施の形態によるフ
ューズセルを有する不揮発性半導体記憶装置の構成を示
すブロック図である。ここでは、フューズセルの記憶情
報を判定する回路の構成、及び不揮発性半導体記憶装置
を「電気的書き込み消去可能な製品」として出荷する
か、あるいは「電気的書き込みが一度だけ可能な製品」
として出荷するかという機能切り替え用に、フューズセ
ルの記憶情報を用いる場合の構成を示している。FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device having a fuse cell according to a second embodiment of the present invention. Here, the configuration of the circuit for determining the storage information of the fuse cell and the non-volatile semiconductor storage device are shipped as “products that can be written and erased electrically” or “products that can be written only once”
The configuration in the case where the storage information of the fuse cell is used for the function switching of whether or not to be shipped.
【0039】第1の実施の形態と比較すると、イニシャ
ルしきい値レベルを持つフューズセルをオフセルとして
読み出す手段が異なっており、第1の実施の形態では、
フューズセルを読み出すときにフューズセルのゲート端
子に印加する電圧を制御する手段を有していたが、本実
施の形態においては、ゲート端子に印加する電圧は電源
電圧VCCのままとし、代わりに読み出し時にフューズセ
ルのデジット線DIGFUSE に対して電流を供給する手段を
設けることによって、同様の効果を得るようにしてい
る。As compared with the first embodiment, the means for reading out a fuse cell having an initial threshold level as an off-cell is different. In the first embodiment,
Although a means for controlling the voltage applied to the gate terminal of the fuse cell when reading the fuse cell is provided, in this embodiment, the voltage applied to the gate terminal is kept at the power supply voltage VCC, and The same effect is sometimes obtained by providing a means for supplying a current to the digit line DIGFUSE of the fuse cell.
【0040】図4において、本実施の形態による不揮発
性半導体記憶装置は、電気的に書き換え可能な不揮発性
半導体記憶素子からなるフューズセル401と、フュー
ズセル401に接続されフューズセル401のしきい値
レベルを検知してオンセル、オフセルを判定するセンス
回路402と、フューズセル401に接続されフューズ
セル401のゲート端子を電源電圧VCCで駆動するゲー
トドライバ403と、フューズセル401に接続されフ
ューズセル401を電気的に消去する(しきい値レベル
を低下させる)フューズ消去回路404と、フューズセ
ルの読み出し時に活性化され、VCCからフューズセルの
デジット線DIGFUSE に向けて電流を供給する読み出し時
電流源408とを設けたことを特徴とする。Referring to FIG. 4, a nonvolatile semiconductor memory device according to the present embodiment has a fuse cell 401 composed of an electrically rewritable nonvolatile semiconductor memory element, and a threshold voltage of fuse cell 401 connected to fuse cell 401. A sense circuit 402 for detecting an on cell or an off cell by detecting a level, a gate driver 403 connected to the fuse cell 401 and driving the gate terminal of the fuse cell 401 with the power supply voltage VCC, and a fuse circuit 401 connected to the fuse cell 401 and connected to the fuse cell 401. A fuse erase circuit 404 for electrically erasing (lowering the threshold level); a read current source 408 which is activated when reading the fuse cell and supplies a current from VCC to the digit line DIGFUSE of the fuse cell; Is provided.
【0041】そして、メインメモリ領域消去活性制御回
路405は、センス回路402に接続され消去フラグが
成立したときフューズセル401の記憶情報に応じてメ
インメモリ領域407に対する消去動作を開始するかど
うかの判断をし、メインメモリ領域消去活性信号を出力
する。The main memory area erasure activation control circuit 405 is connected to the sense circuit 402 and determines whether or not to start the erasure operation on the main memory area 407 according to the storage information of the fuse cell 401 when the erasure flag is established. And outputs a main memory area erase activation signal.
【0042】メインメモリ領域消去回路406は、メイ
ンメモリ領域消去活性信号を受けて、メインメモリ領域
407の消去動作を行う。The main memory area erasing circuit 406 receives the main memory area erasing activation signal and performs an erasing operation of the main memory area 407.
【0043】図5は本実施の形態における読み出し時電
流源408の構成例を示す回路図である。読み出し時電
流源408は、PchMOSトランジスタ501及びNch
MOSトランジスタ502〜504から構成される。FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration example of the current source 408 at the time of reading in this embodiment. The read-time current source 408 includes a PchMOS transistor 501 and an Nch
It is composed of MOS transistors 502-504.
【0044】この読み出し時電流源408は、フューズ
セル読み出し活性信号TFREADが「High」になると活性化
され、電源電圧VCCが高いレベルのとき、即ち、3つの
NchMOSトランジスタ502〜504の持つしきい値
の和で表されるレベルを超すレベルのとき、フューズセ
ルデジット線DIGFUSE へ向けて電流を供給する。即ち、
電源電圧VCCが、イニシャルしきい値レベルを持つフュ
ーズセルのゲート端子に印加してもフューズセルがオン
してしまうようなレベルであることを検知して、フュー
ズセルデジット線DIGFUSE へ電流を供給するという制御
を行う。The read-time current source 408 is activated when the fuse cell read activation signal TFREAD becomes "High", and when the power supply voltage VCC is at a high level, that is, the threshold voltage of the three Nch MOS transistors 502 to 504. When the level exceeds the level represented by the sum of the above, a current is supplied to the fuse cell digit line DIGFUSE. That is,
It detects that the power supply voltage VCC is at such a level that the fuse cell is turned on even when applied to the gate terminal of the fuse cell having the initial threshold level, and supplies a current to the fuse cell digit line DIGFUSE. Is performed.
【0045】次に動作について説明する。フューズセル
401は、拡散上がりでVthinit(3V程度)というし
きい値レベルを持っている。読み出しを行うときには、
ゲートドライバ403でフューズセル401のゲート端
子を電源電圧VCCで駆動する。Next, the operation will be described. The fuse cell 401 has a threshold level of Vthinit (about 3 V) after diffusion. When reading,
The gate terminal of the fuse cell 401 is driven by the gate driver 403 with the power supply voltage VCC.
【0046】電源電圧VCCが4Vのとき、イニシャルし
きい値レベルVthinitを持つフューズセル401はオン
セルとなり、フューズセル402の持つしきい値レベル
Vthinitとゲートに印加されている電圧VCCとの差(△
Vth=1V)に相当するオンセル電流を流すが、読み出
し時電流源408が電源電圧VCCから上記オンセル電流
と同等に設定した電流をフューズセルデジット線DIGFUS
E へ向けて流すため、センス回路402はフューズセル
402を擬似的にオフセルであると判断して「High」情
報を出力する。When the power supply voltage VCC is 4 V, the fuse cell 401 having the initial threshold level Vthinit is turned on, and the difference between the threshold level Vthinit of the fuse cell 402 and the voltage VCC applied to the gate (△
Vth = 1V), the read-time current source 408 supplies a current set to be equal to the above-mentioned on-cell current from the power supply voltage VCC to the fuse cell digit line DIGFUS.
To flow toward E, the sense circuit 402 determines that the fuse cell 402 is an off cell in a pseudo manner and outputs “High” information.
【0047】フューズ記憶情報の変更を行う場合は、フ
ューズセル401をフューズ消去回路404を用いて消
去することにより、電源電圧VCCをフューズセル401
のゲート端子に印加してもセンス回路402がオンセル
であると判断するしきい値レベルVthtrim(0V程度)
までしきい値レベルを低下させる。これにより、フュー
ズセル401の読み出しを行ったとき、フューズセル4
01はセンス回路402を介して「Low 」情報を出力す
る。When the fuse storage information is changed, the fuse cell 401 is erased using the fuse erase circuit 404, so that the power supply voltage VCC is changed to the fuse cell 401.
Threshold level Vthtrim (approximately 0 V) for determining that the sense circuit 402 is in an on-cell state even when applied to the gate terminal of
Lower the threshold level to Thereby, when reading of the fuse cell 401 is performed, the fuse cell 4
01 outputs “Low” information via the sense circuit 402.
【0048】メインメモリ領域消去活性制御回路405
は、センス回路402の判定結果に応じて、メインメモ
リ領域407に対する消去動作の可否制御を行う。即
ち、消去フラグが成立したとき、センス回路402が、
フューズセルのしきい値レベルがイニシャルしきい値レ
ベルVthinitであること、即ち、「High」情報を出力し
ているときには、メインメモリ領域消去活性信号を成立
させて、メモリアレイ領域407に対する消去動作を許
可する。Main memory area erase activation control circuit 405
Controls whether or not an erasing operation can be performed on the main memory area 407 according to the determination result of the sense circuit 402. That is, when the erase flag is established, the sense circuit 402
When the threshold level of the fuse cell is the initial threshold level Vthinit, that is, when “High” information is output, the main memory area erasing activation signal is established, and the erasing operation for the memory array area 407 is performed. To give permission.
【0049】また、センス回路402が、フューズセル
401のしきい値レベルがトリミング後しきい値レベル
Vthtrimであること、即ち、「Low 」情報を出力してい
るときには、メインメモリ領域消去活性信号を成立させ
ず、メモリメモリ領域407に対する消去動作を禁止す
るという制御を行っている。When the threshold level of the fuse cell 401 is the trimmed threshold level Vthtrim, that is, when the sense circuit 402 is outputting "Low" information, the sense circuit 402 outputs the main memory area erase activation signal. The control is performed to prohibit the erase operation for the memory area 407 without being established.
【0050】次に、本発明による記憶媒体について説明
する。図1、図4の各実施の形態よる前述した動作をC
PUとメモリからなるコンピュータシステムを用いて実
行することができる。その場合、上述した動作を実行す
るためのプログラムを記憶した上記メモリは本発明によ
る記憶媒体を構成することになる。Next, a storage medium according to the present invention will be described. The above-described operation according to each embodiment of FIGS.
It can be executed using a computer system including a PU and a memory. In that case, the memory storing the program for executing the above-described operation constitutes a storage medium according to the present invention.
【0051】この記憶媒体としては、半導体記憶装置、
光磁気ディスク、光ディスク、磁気記録媒体等を用いる
ことができる。これらの記憶媒体をROM、RAM、C
D−ROM、磁気テープ、磁気カード、メモリカード等
に構成して用いることができる。As the storage medium, a semiconductor storage device,
A magneto-optical disk, an optical disk, a magnetic recording medium, or the like can be used. These storage media are ROM, RAM, C
It can be configured and used in a D-ROM, a magnetic tape, a magnetic card, a memory card, and the like.
【0052】[0052]
【発明の効果】第1の効果は、フューズセルを設定する
ための制御回路を縮小できるという点である。その理由
は、拡散上がりのイニシャルしきい値レベルを持つフュ
ーズセルを確実にオフセルとして判定する電圧VFUSERE
ADをフューズセルのゲート端子に入力する、あるいはゲ
ート端子に印加する電圧は電源電圧VCCのままとし、読
み出し時にフューズセルのデジット線DIGFUSE に対して
電流を供給することにより、読み出し動作を行うので、
フューズセルのしきい値レベルの設定を消去手段のみで
行うことが可能となり、フューズセルを書き込む手段を
必要としないためである。The first effect is that the control circuit for setting the fuse cell can be reduced. The reason is that the voltage VFUSERE that reliably determines a fuse cell having an initial threshold level that has increased diffusion as an off-cell.
A read operation is performed by inputting AD to the gate terminal of the fuse cell or keeping the voltage applied to the gate terminal at the power supply voltage VCC and supplying a current to the digit line DIGFUSE of the fuse cell at the time of reading.
This is because the threshold level of the fuse cell can be set only by the erasing means, and no means for writing the fuse cell is required.
【0053】第2の効果は、フューズセルを設定するた
めのテスト時間を短縮できるという点である。その理由
は、拡散上がりのイニシャルしきい値レベルを持つフュ
ーズセルを確実にオフセルとして判定する電圧VFUSERE
ADをフューズセルのゲート端子に入力する、あるいはゲ
ート端子に印加する電圧は電源電圧VCCのままとし、読
み出し時にフューズセルのデジット線DIGFUSE に対して
電流を供給することにより、読み出し動作を行うので、
フューズセルのしきい値レベルをデフォルトしきい値レ
ベルに設定するテスト時間を省略することができるため
である。A second effect is that the test time for setting a fuse cell can be reduced. The reason is that the voltage VFUSERE that reliably determines a fuse cell having an initial threshold level that has increased diffusion as an off-cell.
A read operation is performed by inputting AD to the gate terminal of the fuse cell or keeping the voltage applied to the gate terminal at the power supply voltage VCC and supplying a current to the digit line DIGFUSE of the fuse cell at the time of reading.
This is because the test time for setting the threshold level of the fuse cell to the default threshold level can be omitted.
【0054】第3の効果は、フューズセル設定した後に
フューズセル情報の書き替えを確実に不可能にできると
いう点である。その理由は、フューズセルを書き込む手
段を有していないためである。このため、電気的書き込
み消去可能な不揮発性半導体記憶装置を、電気的書き込
み消去可能な製品として出荷するか、あるいは電気的書
き込みが一度だけ可能な製品として出荷するか、という
機能切り替え用にフューズセルの記憶情報を使うとき、
電気的書き込みが一度だけ可能な製品として出荷した製
品を、電気的書き替え可能な製品に変更されることを防
ぐことができる。The third effect is that the fuse cell information can be reliably rewritten after the fuse cell is set. The reason is that there is no means for writing a fuse cell. For this reason, the fuse cell is used to switch the function of whether the electrically erasable nonvolatile semiconductor memory device is shipped as an electrically erasable and erasable product, or whether it is shipped as an electrically erasable product. When using the stored information of
It is possible to prevent a product that has been shipped as a product that can be electrically written only once from being changed to a product that can be electrically rewritten.
【0055】また、センス手段の判定に応じてメインメ
モリ領域の消去を制御する消去制御手段を設けることに
より、フューズセルの記憶情報を用いて上記機能切り替
えを行うことができる。Further, by providing erasure control means for controlling erasure of the main memory area in accordance with the judgment of the sense means, the above function can be switched using the storage information of the fuse cell.
【図1】本発明の第1の実施の形態による不揮発性半導
体記憶装置の構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1における読み出し電圧発生回路の構成例を
示す回路構成図である。FIG. 2 is a circuit configuration diagram showing a configuration example of a read voltage generation circuit in FIG. 1;
【図3】本発明の第1の実施の形態による動作を説明す
るための特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram illustrating an operation according to the first exemplary embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第2の実施の形態による不揮発性半導
体記憶装置の構成を示すブロッ図である。FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a nonvolatile semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.
【図5】図4における読み出し時電流源の構成例を示す
回路構成図である。FIG. 5 is a circuit configuration diagram showing a configuration example of a current source at the time of reading in FIG. 4;
【図6】従来の不揮発性半導体記憶装置の構成を示すブ
ロッ図である。FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.
【図7】従来の不揮発性半導体記憶装置の動作を説明す
るための特性図である。FIG. 7 is a characteristic diagram for explaining an operation of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.
101、401 フューズセル 102、402 センス回路 103、403 ゲートドライバ 104 読み出し電圧発生回路 105、404 フューズ消去回路 106、405 メインメモリ消去活性制御回路 107、406 メインメモリ領域消去回路 108、407 メインメモリ領域 408 読み出し時電流源 101, 401 fuse cell 102, 402 sense circuit 103, 403 gate driver 104 read voltage generation circuit 105, 404 fuse erase circuit 106, 405 main memory erase activation control circuit 107, 406 main memory area erase circuit 108, 407 main memory area 408 Current source for reading
Claims (6)
導体記憶素子からなるフューズセルと、 前記フューズセルのしきい値レベルを検知して前記フュ
ーズセルがオンセルであるかオフセルであるかを判定す
るセンス手段と、 前記フューズセルのゲート端子を駆動するゲートドライ
バ手段と、 前記フューズセルの読み出し時に前記ゲートドライバ手
段が前記ゲート端子に印加する読み出し電圧を発生する
読み出し電圧発生手段と、 前記フューズセルを消去し前記フューズセルの持つしき
い値レベルを低下させるフューズセル消去手段とを設け
てなり、 前記読み出し電圧発生手段が発生する読み出し電圧は、
前記フューズセルが拡散直後を示すイニシャルしきい値
レベルを持つとき、前記フューズセルを前記センス手段
がオフセルであると判定できる電圧であることを特徴と
する不揮発性半導体記憶装置。1. A fuse cell comprising an electrically writable and erasable nonvolatile semiconductor memory element, and a threshold level of the fuse cell is detected to determine whether the fuse cell is an ON cell or an OFF cell. Sensing means; gate driver means for driving a gate terminal of the fuse cell; read voltage generation means for generating a read voltage applied to the gate terminal by the gate driver means when reading the fuse cell; A fuse cell erasing means for erasing and lowering a threshold level of the fuse cell, wherein a read voltage generated by the read voltage generating means is:
A nonvolatile semiconductor memory device characterized in that when the fuse cell has an initial threshold level indicating immediately after diffusion, the voltage of the fuse cell is such that the sensing means can be determined to be an off cell.
導体記憶素子からなるフューズセルと、 前記フューズセルのしきい値レベルを検知して前記フュ
ーズセルがオンセルであるかオフセルであるかを判定す
るセンス手段と、 前記フューズセルのゲート端子を駆動するゲートドライ
バ手段と、 前記フューズセルのデジット線に接続され前記フューズ
セルの読み出し時に電源電圧に基づく電流を供給する読
み出し時電流源手段と、 前記フューズセルを消去し前記フューズセルの持つしき
い値レベルを低下させるフューズセル消去手段とを設け
てなり、 前記読み出し時電流源手段の出力する電流量は、前記イ
ニシャルしきい値レベルを持つフューズセルを前記セン
ス手段がオフセルと判定できる電流量に設定されている
ことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。2. A fuse cell comprising an electrically writable and erasable nonvolatile semiconductor memory element, and a threshold level of the fuse cell is detected to determine whether the fuse cell is an ON cell or an OFF cell. Sensing means; gate driver means for driving a gate terminal of the fuse cell; read current source means connected to a digit line of the fuse cell for supplying a current based on a power supply voltage when reading the fuse cell; Fuse cell erasing means for erasing a cell and lowering a threshold level of the fuse cell, wherein a current amount output from the current source means at the time of reading the fuse cell having the initial threshold level Wherein the sensing means is set to an amount of current that can be determined as an off-cell. The semiconductor memory device.
モリ領域を消去する消去制御手段を設けたことを特徴と
する請求項1又は2記載の不揮発性半導体記憶装置。3. The nonvolatile semiconductor memory device according to claim 1, further comprising an erasing control unit for erasing a main memory area in accordance with a determination of said sensing unit.
導体記憶素子からなるフューズセルのしきい値レベルを
検知して前記フューズセルがオンセルであるかオフセル
であるかを判定する判定処理と、 前記フューズセルのゲート端子を駆動する駆動処理と、 前記フューズセルの読み出し時に前記駆動処理により前
記ゲート端子に印加する読み出し電圧を発生する読み出
し電圧発生処理と、 前記フューズセルを消去し前記フューズセルの持つしき
い値レベルを低下させるフューズセル消去処理とを実行
するためのプログラムを記憶し、 前記読み出し電圧発生処理により発生する読み出し電圧
は、前記フューズセルが拡散直後を示すイニシャルしき
い値レベルを持つとき、当該フューズセルを前記センス
手段がオフセルであると判定できる電圧であることを特
徴とするプログラムを記憶した記憶媒体。4. A judging process for judging whether the fuse cell is an on-cell or an off-cell by detecting a threshold level of a fuse cell composed of an electrically erasable nonvolatile semiconductor memory element; A driving process for driving a gate terminal of the fuse cell, a read voltage generation process for generating a read voltage applied to the gate terminal by the driving process when reading the fuse cell, and a process for erasing the fuse cell and holding the fuse cell. A program for executing a fuse cell erasing process for lowering a threshold level is stored, and a read voltage generated by the read voltage generating process is used when the fuse cell has an initial threshold level indicating immediately after diffusion. A voltage at which the fuse means can determine that the sense means is an off-cell. Storage medium storing a program, characterized in that.
導体記憶素子からなるフューズセルのしきい値レベルを
検知して前記フューズセルがオンセルであるかオフセル
であるかを判定する判定処理と、 前記フューズセルのゲート端子を駆動する駆動処理と、 前記フューズセルのデジット線に接続され前記フューズ
セルの読み出し時に電源電圧に基づく電流を供給する電
流供給処理と、 前記フューズセルを消去し前記フューズセルの持つしき
い値レベルを低下させるフューズセル消去処理とを実行
するためのプログラムを記憶し、 前記電流供給処理により供給する電流量は、前記イニシ
ャルしきい値レベルを持つフューズセルを前記判定処理
がオフセルであると判定できる電流量に設定されている
プログラムを記憶した記憶媒体。5. A determination process of detecting a threshold level of a fuse cell comprising an electrically erasable nonvolatile semiconductor memory element to determine whether the fuse cell is an ON cell or an OFF cell; A driving process for driving a gate terminal of the fuse cell; a current supply process connected to a digit line of the fuse cell for supplying a current based on a power supply voltage at the time of reading the fuse cell; and erasing the fuse cell to erase the fuse cell. A program for executing a fuse cell erasing process for lowering the threshold level of the memory cell is stored. The amount of current supplied by the current supply process is determined by determining whether a fuse cell having the initial threshold level is off-cell. A storage medium storing a program set to the amount of current that can be determined as
リ領域を消去する消去制御処理を実行するためのプログ
ラムを記憶したことを特徴とする請求項4又は5記載の
プログラムを記憶した記憶媒体。6. A storage medium storing a program according to claim 4, wherein a program for executing an erasure control process for erasing a main memory area in accordance with the determination in said determination process is stored.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23094499A JP3510536B2 (en) | 1999-08-17 | 1999-08-17 | Nonvolatile semiconductor storage device and storage medium storing program |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23094499A JP3510536B2 (en) | 1999-08-17 | 1999-08-17 | Nonvolatile semiconductor storage device and storage medium storing program |
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