JP2001056562A - Image recording material - Google Patents

Image recording material

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JP2001056562A
JP2001056562A JP11231181A JP23118199A JP2001056562A JP 2001056562 A JP2001056562 A JP 2001056562A JP 11231181 A JP11231181 A JP 11231181A JP 23118199 A JP23118199 A JP 23118199A JP 2001056562 A JP2001056562 A JP 2001056562A
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JP
Japan
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acid
group
heat
compound
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP11231181A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ippei Nakamura
一平 中村
Kazuto Kunida
一人 國田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an image recording material having high sensitivity by suppressing the diffusion of heat in the substrate of an image recording material with a photosensitive layer on the substrate and effectively utilizing heat in the photosensitive layer. SOLUTION: A heat insulating layer, a 1st photothermal conversion layer, a layer containing a water-insoluble and alkaline water-soluble high molecular compound and varying its solubility to alkaline water under the action of heat and a 2nd photothermal conversion layer are successively disposed on a substrate to obtain the objective image recording material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版原版に関
し、特に、赤外線レーザー、サーマルヘッド等の熱によ
り書き込み可能であり、特にコンピュータ等のディジタ
ル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト製版用の
平版印刷版原版に使用可能な感熱性画像記録材料および
前記画像記録材料を用いる平版印刷版用原版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate for so-called direct plate making which can be written by heat of an infrared laser, a thermal head or the like, and can be directly made from digital signals of a computer or the like. The present invention relates to a heat-sensitive image recording material usable for an original plate and a lithographic printing plate precursor using the image recording material.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、近赤外から赤外に発光領域を持つ
固体レーザ・半導体レーザの発達に伴い、コンピュータ
のディジタルデータから直接製版するシステムとして、
これらの赤外線レーザーを用いるものが注目されてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from near infrared to infrared, as a system for making a plate directly from digital data of a computer,
Attention has been paid to those using these infrared lasers.

【0003】ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型
平版印刷版材料が特開平7−285275号公報に開示
されている。この発明は、アルカリ水溶液可溶性樹脂
に、光を吸収し熱を発生する物質と、オニウム塩、キノ
ンジアジド化合物のごとき熱分解性でかつ分解しない状
態では前記アルカリ水溶液可溶性樹脂の溶解性を実質的
に低下させるポジ型感光性化合物を添加した平版印刷版
材料であり、画像部ではポジ型感光性化合物が、アルカ
リ水溶液可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解
阻止剤として働き、非画像部では前記化合物が熱により
分解して溶解阻止能を発現しなくなり、現像により除去
され得るようになって、画像を形成する。
A positive lithographic printing plate material for an infrared laser for direct plate making is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-285275. The present invention provides an aqueous alkali solution-soluble resin, a substance that absorbs light and generates heat, and substantially reduces the solubility of the aqueous alkali solution in a state of being thermally decomposable and not decomposed such as an onium salt or a quinonediazide compound. A lithographic printing plate material to which a positive photosensitive compound to be added is added.In the image area, the positive photosensitive compound acts as a dissolution inhibitor to substantially reduce the solubility of the aqueous alkali-soluble resin, and in the non-image area, The compound is decomposed by heat so that it no longer exhibits the dissolution inhibiting ability and can be removed by development to form an image.

【0004】また、赤外線レーザにて記録可能なネガ型
平版印刷版材料としては、特開平7−20629号に、
オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、及び赤外
線吸収剤よりなる記録材料が記載されている。赤外線レ
ーザは赤外線吸収剤によって熱エネルギーに変換され、
その熱によってオニウム塩が分解することによって画像
が形成されるものである。即ち、オニウム塩の分解によ
り生ずる酸が、酸により架橋する架橋剤とバインダーと
の架橋反応を促進することにより画像記録、即ち記録材
料の製版が行われるものである。
[0004] Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-20629 discloses a negative type lithographic printing plate material recordable with an infrared laser.
A recording material comprising an onium salt, a resole resin, a novolak resin, and an infrared absorber is described. The infrared laser is converted to thermal energy by an infrared absorber,
The onium salt is decomposed by the heat to form an image. That is, image recording, that is, plate-making of a recording material, is performed by promoting the crosslinking reaction between a binder and a crosslinking agent which is crosslinked by the acid, generated by the decomposition of the onium salt.

【0005】ところで、ポジ型あるいはネガ型感光層の
レーザ照射表面ではその溶解性が変化するに十分な熱エ
ネルギーが付与されるが、ポジ型あるいはネガ型感光層
の深部、すなわち平版印刷版用原版の支持体界面付近で
は、前記感光層で発生した熱が熱伝導性の高い支持体を
通って拡散するため、この部分では熱エネルギーを効率
的に利用することができない。したがって、前記ポジ型
あるいはネガ型の平版印刷版材料の画像形成性、すなわ
ち露光部/未露光部のアルカリ現像のON-OFF(ディスク
リミネーション)がつきにくく、良好な画像が得られな
いという低感度の問題があった。
By the way, heat energy sufficient to change the solubility is applied to the laser-irradiated surface of the positive or negative photosensitive layer, but the deep part of the positive or negative photosensitive layer, that is, the lithographic printing plate precursor is used. In the vicinity of the support interface, the heat generated in the photosensitive layer diffuses through the support having high thermal conductivity, so that thermal energy cannot be efficiently used in this portion. Therefore, the image forming property of the positive or negative type lithographic printing plate material, that is, the ON / OFF (discretion) of the alkali development of the exposed portion / unexposed portion is not easily obtained, and low image quality is not obtained. There was a sensitivity problem.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑みてなされたものであり、その目的は、感光層を有す
る画像記録材料において、支持体への熱拡散を抑制する
とともに、感光層での効率的な熱利用により、高感度の
画像記録材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an image recording material having a photosensitive layer, which suppresses heat diffusion to a support, and further comprises a photosensitive layer. An object of the present invention is to provide a high-sensitivity image recording material by efficient heat utilization in the above.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的は、下記の画像
記録材料を提供することにより解決される。 (1)支持体の上に、下記(a)から(d)の層をこの
順に設けたことを特徴とする画像記録材料。 (a)断熱層、(b)第一の光熱変換層、(c)水に不
溶でかつアルカリ水に可溶の高分子化合物を含有し、熱
の作用によりアルカリ水に対する溶解性が変化する層、
(d)第二の光熱変換層。
The above object can be attained by providing the following image recording material. (1) An image recording material comprising the following layers (a) to (d) provided in this order on a support. (A) a heat insulating layer, (b) a first light-to-heat conversion layer, (c) a layer containing a polymer compound that is insoluble in water and soluble in alkaline water, and whose solubility in alkaline water changes by the action of heat. ,
(D) a second light-to-heat conversion layer.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。本発明のポジ型画像記録材料は、支持体の上に、
(a)断熱層、(b)第一の光熱変換層、(c)水に不
溶でかつアルカリ水に可溶の高分子化合物を含有し、熱
の作用によりアルカリ水に対する溶解性が変化する層、
および(d)第二の光熱変換層をこの順序で設けること
を特徴とする。前記(c)の水に不溶でかつアルカリ水
に可溶の高分子化合物を含有し、熱の作用によりアルカ
リ水に対する溶解性が変化する層としては、主として
(c−1)水に不溶でかつアルカリ水に可溶の高分子化
合物を含有し、熱の作用によりアルカリ水に対する溶解
性が増大する層、および(c−2)水に不溶でかつアル
カリ水に可溶の高分子化合物を含有し、熱の作用により
アルカリ水に対する溶解性が減少する層が挙げられる。
以下において前者を「ポジ型感光層」また後者を「ネガ
型感光層」ということがある。また、以下において、ポ
ジ型感光層を有する画像記録材料を「ポジ型画像記録材
料」と、またネガ型感光層を有する画像記録材料を「ネ
ガ型画像記録材料」ということがある。本発明の画像記
録材料は、支持体の上に断熱層を設けることにより支持
体への熱拡散を抑制するとともに、ポジ型感光層または
ネガ型感光層の両側に光熱変換層を設けることにより前
記感光層の上下から熱が加わるような構成としたため、
感光層において効率的に熱を利用することが可能にな
り、高感度の画像記録を行うことが可能である。また、
本発明の画像形成材料は、ディジタル信号に基づき熱あ
るいは光、特に赤外線レーザにより画像形成するのに適
している。さらに、この画像記録材料を用いる平版印刷
版用原版は赤外線レーザを用いるダイレクト製版用に適
しており、高感度の平版印刷版用原版が得られる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The positive image recording material of the present invention, on a support,
(A) a heat insulating layer, (b) a first light-to-heat conversion layer, (c) a layer containing a polymer compound that is insoluble in water and soluble in alkaline water, and whose solubility in alkaline water changes by the action of heat. ,
And (d) providing the second light-to-heat conversion layer in this order. The layer (c) which contains a polymer compound which is insoluble in water and soluble in alkaline water and whose solubility in alkaline water changes by the action of heat is mainly (c-1) insoluble in water and A layer containing a polymer compound soluble in alkaline water and having increased solubility in alkaline water by the action of heat; and (c-2) containing a polymer compound insoluble in water and soluble in alkaline water. And a layer whose solubility in alkaline water is reduced by the action of heat.
Hereinafter, the former may be referred to as a "positive photosensitive layer" and the latter as a "negative photosensitive layer". Hereinafter, an image recording material having a positive photosensitive layer may be referred to as a “positive image recording material”, and an image recording material having a negative photosensitive layer may be referred to as a “negative image recording material”. The image recording material of the present invention suppresses heat diffusion to the support by providing a heat insulating layer on the support, and provides a photothermal conversion layer on both sides of a positive photosensitive layer or a negative photosensitive layer. Because heat was applied from above and below the photosensitive layer,
Heat can be efficiently used in the photosensitive layer, and high-sensitivity image recording can be performed. Also,
The image forming material of the present invention is suitable for forming an image with heat or light, particularly an infrared laser based on a digital signal. Further, a lithographic printing plate precursor using this image recording material is suitable for direct plate making using an infrared laser, and a lithographic printing plate precursor with high sensitivity can be obtained.

【0009】以下に、ポジ型あるいはネガ型画像記録材
料の各層について順次説明する。まず、水に不溶でかつ
アルカリ水に可溶の高分子化合物を含有し、熱の作用に
よりアルカリ水に対する溶解性が変化する層(ポジ型感
光層およびネガ型感光層)について説明する。 [ポジ型感光層]ポジ型感光層は熱、たとえば赤外線レ
ーザを照射した場合、画像形成に必要な程度に、その部
分のアルカリ水に対する溶解性が熱を加える前に比較し
て増大することが必要である。ポジ型感光層に、たとえ
ば赤外線レーザ光のごとき活性線を照射すると照射部に
光化学反応等が生じ、照射部のアルカリ水に対する溶解
性が増すため、現像により照射部と非照射部に対応する
画像が形成される。このようなポジ型感光層はすでによ
く知られているものであり、熱の作用によりアルカリ水
に対する溶解性が、画像形成に必要な程度に減少する層
であれば特に制限なく使用できる。その一例を以下に説
明する。
Hereinafter, each layer of the positive or negative type image recording material will be sequentially described. First, a layer (a positive photosensitive layer and a negative photosensitive layer) containing a polymer compound that is insoluble in water and soluble in alkaline water and whose solubility in alkaline water changes by the action of heat will be described. [Positive photosensitive layer] When a positive photosensitive layer is irradiated with heat, for example, an infrared laser, the solubility of the portion in alkaline water increases to the extent necessary for image formation as compared to before the application of heat. is necessary. When the positive photosensitive layer is irradiated with an actinic ray such as an infrared laser beam, a photochemical reaction or the like occurs in the irradiated portion, and the solubility of the irradiated portion in alkaline water increases. Is formed. Such a positive photosensitive layer is already well-known, and any layer can be used without particular limitation as long as its solubility in alkaline water is reduced to the extent necessary for image formation by the action of heat. One example is described below.

【0010】<水に不溶でアルカリ可溶性の高分子化合
物>ポジ型感光層に含まれる水に不溶でかつアルカリ水
に可溶の高分子化合物としては、下記(1)〜(6)の
酸性基を主鎖および/または側鎖の構造中に有するアル
カリ可溶性高分子が挙げられる。 (1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。)〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO
2R、−CONHSO2R〕 (4)カルボン酸基(−CO2H) (5)スルホン酸基(−SO3H) (6)リン酸基(−OPO32
<Polymer Compound Insoluble in Water and Alkali-Soluble> Examples of the polymer compound insoluble in water and soluble in alkaline water contained in the positive photosensitive layer include the following acidic groups (1) to (6): In the structure of the main chain and / or the side chain. (1) phenol group (-Ar-OH) (2) sulfonamide group (-SO 2 NH-R) ( 3) substituted sulfonamide-based acid group [(hereinafter, referred to as "active imide group".) - SO 2 NHCOR , -SO 2 NHSO
2 R, -CONHSO 2 R] (4) carboxylic acid group (-CO 2 H) (5) sulfonic acid group (-SO 3 H) (6) phosphoric acid group (-OPO 3 H 2)

【0011】ここで、Arは置換基を有していてもよい
2価のアリール基を表し、Rは置換基を有していてもよ
い炭化水素基を表す。なかでも、好ましい酸基として、
(1)フェノール性水酸基、(2)スルホンアミド基、
(3)活性イミド基が挙げられ、特に(1)フェノール
性水酸基を有する高分子化合物が、好ましく用いられ
る。
Here, Ar represents a divalent aryl group which may have a substituent, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. Among them, preferred acid groups include
(1) phenolic hydroxyl group, (2) sulfonamide group,
(3) An active imide group is mentioned, and (1) a polymer compound having a phenolic hydroxyl group is particularly preferably used.

【0012】(1)フェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアルデヒドと
の縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮
重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒド
との縮重合体、フェノールとクレゾール(m−、p−、
またはm−/p−混合のいずれでもよい)とホルムアル
デヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂、およびピロガ
ロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。
さらに、特開平11−17468号の[0016]に記
載のごとき側鎖にフェノール基を有する重合体あるいは
共重合体、たとえばN−(2−ヒドロキシフェニル)ア
クリルアミドの重合体あるいは共重合体が挙げられる。
共重合体の場合の他のモノマーとしては特願平11−1
56427号の[0053]に記載のごときモノマーを
使用することができる。また、これらの樹脂を単独で用
いるのみならず、2種類以上を組み合わせて使用しても
よい。組み合わせる場合には、米国特許第412327
9号明細書に記載されているような、t−ブチルフェノ
ールとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチルフェ
ノールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、炭素
数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノール
とホルムアルデヒドとの縮重合体を併用してもよい。
(1) Examples of the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group include a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde, Condensed polymer of m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol and cresol (m-, p-,
Or a mixture of m- / p-) and a novolak resin such as a condensation polymer of formaldehyde, and a condensation polymer of pyrogallol and acetone.
Further, a polymer or copolymer having a phenol group in a side chain as described in [0016] of JP-A-11-17468, for example, a polymer or copolymer of N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide can be used. .
Other monomers in the case of a copolymer include Japanese Patent Application No. 11-1.
Monomers described in [0053] of No. 56427 can be used. These resins may be used alone or in combination of two or more. If combined, see US Pat.
Phenol having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as a condensation polymer of t-butylphenol and formaldehyde or a condensation polymer of octylphenol and formaldehyde as described in JP-A-9 And a condensation polymer of aldehyde and formaldehyde.

【0013】(2)スルホンアミド基を有する高分子化
合物は、スルホンアミド基を有するモノマーを主たる構
成成分とする。該スルホンアミド基を有するモノマーと
しては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水
素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽
和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物からなる
モノマーが挙げられる。その中でも、アクリロイル基、
アリル基、又はビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換
アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基とを有
する低分子化合物が好ましい。このような化合物として
はたとえば特開平11−17468号の[0017]な
いし[0020]に記載のスルホンアミド基を有するモ
ノマーを含む重合体または共重合体が挙げられる。共重
合体の場合の他のモノマーとしては特願平11−156
427号の[0053]に記載のごときモノマーを使用
することができる。
(2) The polymer compound having a sulfonamide group has a monomer having a sulfonamide group as a main component. As the monomer having a sulfonamide group, a monomer comprising a sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and a low-molecular compound having at least one polymerizable unsaturated bond in one molecule Is mentioned. Among them, acryloyl group,
Low molecular weight compounds having an allyl group or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group are preferred. Examples of such a compound include a polymer or copolymer containing a monomer having a sulfonamide group described in [0017] to [0020] of JP-A-11-17468. Other monomers in the case of a copolymer include Japanese Patent Application No. 11-156.
Monomers such as those described in No. 427 [0053] can be used.

【0014】(3)活性イミド基を有する高分子化合物
は、たとえば特開平11−17468号の[0021]
ないし[0023]に記載の活性イミド基を有する高分
子化合物であり、具体的にはN−(p−トルエンスルホ
ニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニ
ル)アクリルアミドをモノマーとして含有する重合体ま
たは共重合体を挙げることができる。共重合体の場合の
他のモノマーとしては特願平11−156427号の
[0053]に記載のごときモノマーを使用することが
できる。 (4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性高分子とし
ては、例えば、カルボン酸基と重合可能な不飽和結合と
をそれぞれ1以上分子中に有する化合物を主たるモノマ
ーとする重合体を挙げることができる。 (5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子とし
ては、例えば、スルホン酸基と重合可能な不飽和結合と
をそれぞれ1以上分子中に有する化合物を主たるモノマ
ーとする重合体を挙げることができる。 (6)リン酸基を有するアルカリ可溶性高分子として
は、例えば、リン酸基と重合可能な不飽和結合とをそれ
ぞれ1以上分子中に有する化合物を主たるモノマーとす
る重合体を挙げることができる。
(3) The polymer compound having an active imide group is described, for example, in JP-A-11-17468, [0021].
Or a polymer compound having an active imide group according to [0023], specifically, a polymer containing N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide as a monomer or Copolymers can be mentioned. As the other monomer in the case of a copolymer, a monomer described in [0053] of Japanese Patent Application No. 11-156427 can be used. (4) Examples of the alkali-soluble polymer having a carboxylic acid group include a polymer having, as a main monomer, a compound having at least one carboxylic acid group and at least one polymerizable unsaturated bond in the molecule. (5) Examples of the alkali-soluble polymer having a sulfonic acid group include a polymer having, as a main monomer, a compound having at least one sulfonic acid group and at least one polymerizable unsaturated bond in the molecule. (6) Examples of the alkali-soluble polymer having a phosphate group include, for example, a polymer mainly containing a compound having at least one phosphate group and at least one polymerizable unsaturated bond in the molecule.

【0015】本発明においてアルカリ可溶性高分子とし
ては、単独重合体、共重合体にかかわらず、重量平均分
子量が2000以上、数平均分子量が500以上のもの
が膜強度の点で好ましい。更に好ましくは、重量平均分
子量が5000〜300000、数平均分子量が800
〜250000であり、分散度(重量平均分子量/数平
均分子量)が1.1〜10のものである。前記共重合体
において、(1)〜(6)の酸性基を有するモノマー
と、他のモノマーとの配合重量比が、画像形成性の点か
ら50:50から5:95の範囲にあるものが好まし
く、40:60から10:90の範囲にあるものがより
好ましい。
In the present invention, the alkali-soluble polymer having a weight-average molecular weight of 2,000 or more and a number-average molecular weight of 500 or more, irrespective of a homopolymer or a copolymer, is preferable in view of film strength. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, and the number average molecular weight is 800
250250,000 and a degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) of 1.1 to 10. Among the above copolymers, those having a compounding weight ratio of the monomer having an acidic group of (1) to (6) to another monomer in the range of 50:50 to 5:95 from the viewpoint of image forming properties. Preferably, those in the range of 40:60 to 10:90 are more preferable.

【0016】これらアルカリ可溶性高分子は、それぞれ
1種類あるいは2種類以上を組み合わせて使用してもよ
く、ポジ型感光層の全固形分中、30〜99重量%、好
ましくは40〜95重量%、特に好ましくは50〜90
重量%の添加量で用いられる。該アルカリ可溶性高分子
の添加量が30重量%未満であると、ポジ型感光層の耐
久性が悪化し、また、99重量%を超えると、感度及び
耐久性の両面で好ましくない。
Each of these alkali-soluble polymers may be used alone or in combination of two or more kinds. Particularly preferably 50 to 90
It is used in a weight% addition amount. When the amount of the alkali-soluble polymer is less than 30% by weight, the durability of the positive photosensitive layer is deteriorated.

【0017】本発明におけるポジ型感光層は、熱の付与
前と付与後において、アルカリ水に対する溶解性が変化
(溶解性の増大)することが必要であるが、そのために
ポジ型感光層に種々の添加物を加えることができる。た
とえばポジ型感光層にオニウム塩を加えると、フェノー
ル樹脂等の高分子化合物との相互作用により、熱を加え
ない状態では前記フェノール樹脂等の高分子化合物のア
ルカリ溶液に対する溶解性を抑制することができる。熱
によりオニウム塩は分解し照射部の溶解性が回復するこ
とにより、現像によって照射部分を除去することができ
る。
In the positive photosensitive layer of the present invention, it is necessary that the solubility in alkaline water changes (increases in solubility) before and after the application of heat. Can be added. For example, when an onium salt is added to the positive photosensitive layer, the interaction with a polymer compound such as a phenol resin can suppress the solubility of the polymer compound such as the phenol resin in an alkali solution in a state where heat is not applied. it can. The onium salt is decomposed by heat and the solubility of the irradiated portion is restored, so that the irradiated portion can be removed by development.

【0018】<オニウム塩>このようなオニウム塩とし
てはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム
塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム
塩、アルソニウム塩等が挙げられる。本発明において用
いられるオニウム塩として好適なものとしては、例え
ば、S.I.Schlesinger,Photog
r.Sci.Eng.,18,387(1974)、
T.S.Bal et al,Polymer,21,
423(1980)、又は、特開平5−158230号
公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,
055号、同4,069,056号、又は特開平3−1
40140号公報に記載のアンモニウム塩、D.C.N
eckeret al,Macromolecule
s,17,2468(1984)、C.S.Wen e
t al,Teh,Proc.Conf.Rad.Cu
ring ASIA,p478 Tokyo,Oct
(1988)、米国特許第4,069,055号、又は
同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.
V.Crivello et al,Macromol
ecules,10(6),1307(1977)、C
hem.& Eng.News,Nov.28,p31
(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許
第339,049号、同第410,201号、特開平2
−150848号公報、又は特開平2−296514号
公報に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivell
o et al,Polymer J.17,73(1
985)、J.V.Crivelloet al.J.
Org.Chem.,43,3055(1978)、
W.R.Watt et al,J.Polymer
Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,
1789(1984)、J.V.Crivello e
t al,Polymer Bull.,14,279
(1985)、J.V.Crivello et a
l,Macromolecules,14(5),11
41(1981)、J.V.Crivello et
al,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧
州特許第370,693号、同233,567号、同2
97,443号、同297,442号、米国特許第4,
933,377号、同3,902,114号、同41
0,201号、同339,049号、同4,760,0
13号、同4,734,444号、同2,833,82
7号、独国特許第2,904,626号、同3,60
4,580号、又は同3,604,581号に記載のス
ルホニウム塩、J.V.Crivello et a
l,Macromolecules,10(6),13
07(1977)、又はJ.V.Crivello e
t al,J.Polymer Sci.,Polym
erChem.Ed.,17,1047(1979)に
記載のセレノニウム塩、C.S.Wen etal,T
eh,Proc.Conf.Rad.Curing A
SIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に
記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
<Onium Salt> Examples of such onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, and arsonium salts. Suitable onium salts for use in the present invention include, for example, S.I. I. Schlesinger, Photog
r. Sci. Eng. , 18, 387 (1974),
T. S. Bal et al, Polymer, 21,
423 (1980), or diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. No. 4,069,
No. 055 and 4,069,056, or JP-A-3-1
Ammonium salts described in JP-A-40140; C. N
eckeret al, Macromolecule
s, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen e
tal, Teh, Proc. Conf. Rad. Cu
ring ASIA, p478 Tokyo, Oct
(1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056;
V. Crivello et al, Macromol
ecules, 10 (6), 1307 (1977), C
hem. & Eng. News, Nov .; 28, p31
(1988), EP 104,143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201,
Iodonium salts described in JP-A-150848 or JP-A-2-296514; V. Crivell
o et al, Polymer J. J .; 17, 73 (1
985); V. Crivello et al. J.
Org. Chem. , 43, 3055 (1978),
W. R. Watt et al, J.A. Polymer
Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22,
1789 (1984); V. Crivello e
tal, Polymer Bull. , 14,279
(1985); V. Crivello et a
1, Macromolecules, 14 (5), 11
41 (1981); V. Crivello et
al, J. et al. Polymer Sci. , Polymer
Chem. Ed. , 17, 2877 (1979), European Patent Nos. 370,693, 233,567 and 2
Nos. 97,443 and 297,442; U.S. Pat.
933,377, 3,902,114, 41
0,201, 339,049, 4,760,0
No. 13, 4,734,444, 2,833,82
7, German Patent Nos. 2,904,626 and 3,60
The sulfonium salt described in JP-A-4,580 or 3,604,581; V. Crivello et a
1, Macromolecules, 10 (6), 13
07 (1977); V. Crivello e
tal, J.M. Polymer Sci. , Polym
erChem. Ed. , 17, 1047 (1979); S. Wen et al, T
eh, Proc. Conf. Rad. Curing A
SIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

【0019】上記オニウム塩の対イオンとしては、四フ
ッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタ
レンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン
酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼ
ンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フ
ルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−
メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼン
スルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等が挙げられ
る。
The counter ions of the above onium salts include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethyl Benzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol -5-sulfonic acid, 2-
Methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and the like.

【0020】これらの中でも、特に、六フッ化リン酸、
トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメ
チルベンゼンスルホン酸のようなアルキル芳香族スルホ
ン酸が好適である。オニウム塩の添加量は、好ましくは
1〜50重量%、より好ましくは5〜30重量%、特に
好ましくは10〜30重量%である。
Among these, in particular, hexafluorophosphoric acid,
Alkyl aromatic sulfonic acids such as triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are preferred. The addition amount of the onium salt is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and particularly preferably 10 to 30% by weight.

【0021】<赤外線吸収剤>また、本発明のポジ型感
光層には赤外線吸収剤を添加することが好ましい。ポジ
型の感光性樹脂組成物に赤外線吸収剤を用いる場合に
は、特定の官能基を有するバインダーポリマーとの相互
作用によりポジ作用(未露光部は現像抑制され、露光部
では解除され、現像促進する。)を生じさせる必要があ
るため、その点でオニウム塩型構造のものが特に好まし
く、特にシアニン色素、ピリリウム塩が好ましい。ま
た、後述の光熱変換層の箇所で説明するオニウム型カチ
オン性赤外線吸収剤や非イオン性赤外線吸収剤も好まし
く用いられる。
<Infrared absorber> It is preferable to add an infrared absorber to the positive photosensitive layer of the present invention. When an infrared absorber is used in the positive photosensitive resin composition, a positive action is caused by interaction with a binder polymer having a specific functional group (development is suppressed in unexposed areas, released in exposed areas, and development is accelerated). Onium salt type structures are particularly preferred in that regard, and particularly preferred are cyanine dyes and pyrylium salts. Further, an onium-type cationic infrared absorber and a nonionic infrared absorber described below in the section of the photothermal conversion layer are also preferably used.

【0022】さらに、特願平10−237634号に記
載のアニオン性赤外線吸収剤も好適に使用することがで
きる。このアニオン性赤外線吸収剤は、実質的に赤外線
を吸収する色素の母核にカチオン構造が無く、アニオン
構造を有するものを指す。例えば、(a−1)アニオン
性金属錯体、(a−2)アニオン性カーボンブラック、
(a−3)アニオン性フタロシアニンが挙げられる。こ
こで、(a−1)アニオン性金属錯体とは、実質的に光
を吸収する錯体部の中心金属および配位子全体でアニオ
ンとなるものを指す。 (a−2)アニオン性カーボンブラックは、置換基とし
てスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等のアニオン
基が結合しているカーボンブラックが挙げられる。これ
らの基をカーボンブラックに導入するには、カーボンブ
ラック便覧第三版(カーボンブラック協会編、1995
年4月5日、カーボンブラック協会発行)第12頁に記
載されるように、所定の酸でカーボンブラックを酸化す
る等の手段をとればよい。 (a−3)アニオン性フタロシアニンは、フタロシアニ
ン骨格に、置換基として先に(a−2)の説明において
挙げたアニオン基が結合し、全体としてアニオンとなっ
ているものを指す。さらに特願平10−237634号
の[0014]ないし[0105]に記載の[Ga-
M−Gb]mm+で示されるアニオン性赤外線吸収剤
〔Ga - はアニオン性置換基を表し、Gb は中性の置換
基を表す。Xm+は、プロトンを含む1〜m価のカチオン
を表し、mは1ないし6の整数を表す。〕を挙げること
ができる。
Further, the anionic infrared absorber described in Japanese Patent Application No. Hei 10-237634 can also be suitably used. This anionic infrared absorbing agent refers to a dye that substantially has no anionic structure in the mother nucleus of a dye that absorbs infrared light and has an anionic structure. For example, (a-1) anionic metal complex, (a-2) anionic carbon black,
(A-3) Anionic phthalocyanine. Here, the (a-1) anionic metal complex refers to an anion in which the central metal and the ligand in the complex part that substantially absorbs light become anions. (A-2) Examples of the anionic carbon black include carbon black to which an anionic group such as a sulfonic acid, carboxylic acid, or phosphonic acid group is bonded as a substituent. In order to introduce these groups into carbon black, the Carbon Black Handbook Third Edition (edited by Carbon Black Association, 1995)
As described on page 12 of the Carbon Black Association of Japan on April 5, 2002, a method of oxidizing carbon black with a predetermined acid may be used. (A-3) Anionic phthalocyanine refers to an anionic phthalocyanine in which the anion group described above in the description of (a-2) is bonded to the phthalocyanine skeleton as a substituent to form an anion as a whole. Further, [Ga −] described in [0014] to [0105] of Japanese Patent Application No. 10-237634.
M-Gb] an anionic infrared absorbing agent represented by m X m + [Ga-represents an anionic substituent, and Gb represents a neutral substituent. Xm + represents a cation having a valence of 1 to m including a proton, and m represents an integer of 1 to 6. ].

【0023】<その他の成分>さらに、ポジ型感光層に
必要に応じて以下の成分を添加することができる。たと
えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤
としてポジ型感光層に添加することができる。好適な染
料として、油溶性染料及び塩基性染料が挙げられる。具
体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#
103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、
オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブ
ラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−
505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリ
アピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI425
55)、メチルバイオレット(CI42535)、エチ
ルバイオレット、ローダミンB(CI145170
B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレ
ンブルー(CI52015)、アイゼンスピロンブルー
C−RH(保土ヶ谷化学(株)製)等、及び特開昭62
−293247号に記載されている染料が挙げられる。
<Other Components> Further, the following components can be added to the positive photosensitive layer as needed. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be added to the positive photosensitive layer as a colorant for an image. Suitable dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow #
103, oil pink # 312, oil green BG,
Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-
505 (all manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI425
55), methyl violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170
B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI52015), Aizen spiron blue C-RH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) and the like,
-293247.

【0024】これらの染料を添加すると、画像形成後の
画像部と非画像部の区別が明瞭になるため、添加する方
が好ましい。尚、添加量は、画像記録材料全固形分に対
し、0.01〜10重量%が好ましい。
When these dyes are added, the distinction between the image area and the non-image area after image formation becomes clear, so it is preferable to add them. The addition amount is preferably 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the image recording material.

【0025】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加することも
できる。環状酸無水物類としては、米国特許第4,11
5,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3,6−エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、無水ピロメリット酸等が挙げられる。
For the purpose of further improving the sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids can be added. As cyclic acid anhydrides, US Pat.
Phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 5,128;
3,6-Endoxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like.

【0026】フェノール類としては、ビスフェノール
A、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、
2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,
3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキ
シベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシト
リフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒド
ロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニ
ルメタン等が挙げられる。
As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol,
2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,
3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,4', 3", 4 "-tetrahydroxy-3,5,3 ', 5' -Tetramethyltriphenylmethane and the like.

【0027】有機酸類としては、特開昭60−8894
2号、特開平2−96755号公報等に記載されてい
る、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、
ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類等が
挙げられ、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、
エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン
酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イ
ソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジ
メトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シク
ロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリ
ン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸等が挙げられ
る。
As the organic acids, JP-A-60-8894
2, sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates described in JP-A-2-96755 and the like;
Examples thereof include phosphonic acids, phosphate esters, and carboxylic acids, and specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid,
Ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene -1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like.

【0028】環状酸無水物類、フェノール類及び有機酸
類の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜20重
量%が好ましく、0.1〜15重量%がより好ましく、
0.1〜10重量%が特に好ましい。
The proportion of the cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids in the image recording material is preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight.
0.1 to 10% by weight is particularly preferred.

【0029】本発明の画像記録材料には、現像条件に対
する処理の安定性を向上させるため、特開昭62−25
1740号や特開平3−208514号に記載されてい
るような非イオン界面活性剤、特開昭59−12104
4号、特開平4−13149号に記載されているような
両性界面活性剤を添加することができる。
The image-recording material of the present invention is prepared in accordance with JP-A-62-25 in order to improve the stability of processing under development conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A No. 1740 and JP-A-3-208514;
4, and an amphoteric surfactant described in JP-A-4-13149 can be added.

【0030】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether and the like.

【0031】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.).

【0032】非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の
画像記録材料中に占める割合は、0.05〜15重量%
が好ましく、0.1〜5重量%がより好ましい。
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image recording material is 0.05 to 15% by weight.
Is preferable, and 0.1 to 5% by weight is more preferable.

【0033】本発明の画像記録材料中には、露光による
加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着
色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出
し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化
合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せ
を代表として挙げることができる。具体的には、特開昭
50−36209号、同53−8128号の各公報に記
載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニドと塩形成性有機染料との組合せや、特開昭
53−36223号、同54−74728号、同60−
3626号、同61−143748号、同61−151
644号及び同63−58440号の各公報に記載され
ているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料との組
合せが挙げられる。前記トリハロメチル化合物として
は、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあ
り、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を
与える。
In the image recording material of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, and a dye or pigment as an image coloring agent can be added. Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, the combination of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, No. 53-36223, No. 54-74728, No. 60-
No. 3626, No. 61-143748, No. 61-151
Combinations of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in JP-A-644 and JP-A-63-58440. The trihalomethyl compound includes an oxazole-based compound and a triazine-based compound, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0034】本発明の画像記録材料中に、エポキシ化合
物、ビニルエーテル化合物、特願平7−18120号公
報記載のヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を
有するフェノール化合物、及び、特願平9−32893
7号公報等に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋
性化合物等を添加すると、保存安定性の点で好ましい。
In the image recording material of the present invention, an epoxy compound, a vinyl ether compound, a phenol compound having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group described in Japanese Patent Application No. 7-18120, and a Japanese Patent Application No. 9-32893.
It is preferable in view of storage stability to add a crosslinkable compound or the like having an alkali dissolution inhibiting action described in JP-A No. 7-No.

【0035】本発明の画像記録材料中には、必要に応じ
て塗膜に柔軟性等を付与するために可塑剤を添加するこ
ともできる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等
を好適に用いることができる。
A plasticizer may be added to the image recording material of the present invention, if necessary, to impart flexibility to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid Oligomers and polymers can be suitably used.

【0036】本発明の画像記録材料中には、塗布性を良
化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−170
950号公報に記載されているようなフッ素系界面活性
剤を添加することができる。その好ましい添加量は、全
印刷用材料の0.01〜1重量%、更に好ましくは0.
05〜0.5重量%である。
In the image recording material of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-170
For example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-950-950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight of the total printing material, and more preferably 0.1 to 1% by weight.
0.5 to 0.5% by weight.

【0037】[ネガ型感光層]ネガ型感光層は熱を加え
た場合、画像形成に必要な程度に、その部分のアルカリ
水に対する溶解性が熱を加える前に比較して減少するこ
とが必要である。このようなネガ型感光層はすでによく
知られているものであり、熱の作用によりアルカリ水に
対する溶解性が、画像形成に必要な程度に減少する層で
あれば特に制限なく使用できる。一例として以下に説明
する。
[Negative-type photosensitive layer] When a negative-type photosensitive layer is heated, it is necessary that the solubility of the negative-type photosensitive layer in alkaline water is reduced to the extent necessary for image formation as compared to before the application of heat. It is. Such a negative photosensitive layer is already well-known, and any layer can be used without particular limitation as long as its solubility in alkaline water is reduced by the action of heat to an extent necessary for image formation. An example will be described below.

【0038】ネガ型感光層に含まれる水に不溶でかつア
ルカリ水に可溶の高分子化合物としては、上記ポジ型感
光層で使用する高分子化合物と同様のものを使用するこ
とができるが、特に下記のバインダーを挙げることがで
きる。 <バインダー>本発明のネガ型感光層において使用され
るバインダーとしては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロ
キシアリール基を有するポリマーなどが挙げられる。本
発明においてバインダーとして使用しうるノボラック樹
脂は、フェノール類とアルデヒド類を酸性条件下で縮合
させた樹脂である。好ましいノボラック樹脂としては、
例えばフェノールとホルムアルデヒドから得られるノボ
ラック樹脂、m−クレゾールとホルムアルデヒドから得
られるノボラック樹脂、p−クレゾールとホルムアルデ
ヒドから得られるノボラック樹脂、o−クレゾールとホ
ルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、オクチル
フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック
樹脂、m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドか
ら得られるノボラック樹脂、フェノール/クレゾール
(m−,p−,o−またはm−/p−,m−/o−,o
−/p−混合のいずれでもよい)の混合物とホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂などが挙げられる。
これらのノボラック樹脂は、重量平均分子量が800〜
200,000で、数平均分子量が400〜60,00
0のものが好ましい。
As the high molecular compound insoluble in water and soluble in alkaline water contained in the negative photosensitive layer, those similar to the high molecular compound used in the positive photosensitive layer can be used. In particular, the following binders can be mentioned. <Binder> Examples of the binder used in the negative photosensitive layer of the present invention include a novolak resin and a polymer having a hydroxyaryl group in a side chain. The novolak resin that can be used as a binder in the present invention is a resin obtained by condensing phenols and aldehydes under acidic conditions. Preferred novolak resins include:
For example, novolak resin obtained from phenol and formaldehyde, novolak resin obtained from m-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from p-cresol and formaldehyde, novolak resin obtained from o-cresol and formaldehyde, novolak obtained from octylphenol and formaldehyde Resin, novolak resin obtained from m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol / cresol (m-, p-, o- or m- / p-, m- / o-, o
− / P-mixture) and a novolak resin obtained from formaldehyde.
These novolak resins have a weight average molecular weight of 800 to
200,000 and number average molecular weight of 400-60,00
0 is preferred.

【0039】また、本発明におけるバインダーとして
は、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーも好
ましく挙げることができる。このポリマーにおいて、ヒ
ドロキシアリール基とは−OH基が1個以上結合したア
リール基を示す。アリール基としては例えば、フェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル
基等を挙げることができるが、入手の容易さ及び物性の
観点から、フェニル基あるいはナフチル基が好ましい。
従って、ヒドロキシアリール基としては、ヒドロキシフ
ェニル基、ジヒドロキシフェニル基、トリヒドロキシフ
ェニル基、テトラヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナ
フチル基、ジヒドロキシナフチル基等が好ましい。これ
らのヒドロキシアリール基は、さらに、ハロゲン原子、
炭素数20個以下の炭化水素基、炭素数20個以下のア
ルコキシ基及び炭素数20個以下のアリールオキシ基等
の置換基を有していてもよい。これらのヒドロキシアリ
ール基は、ポリマーの側鎖としてペンダント状にポリマ
ー主鎖へ結合しているが、主鎖との間に連結基を有して
いても良い。
Further, as the binder in the present invention, a polymer having a hydroxyaryl group in a side chain can also be preferably mentioned. In this polymer, a hydroxyaryl group refers to an aryl group in which one or more -OH groups are bonded. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, and a phenanthrenyl group. From the viewpoint of availability and physical properties, a phenyl group or a naphthyl group is preferable.
Accordingly, the hydroxyaryl group is preferably a hydroxyphenyl group, a dihydroxyphenyl group, a trihydroxyphenyl group, a tetrahydroxyphenyl group, a hydroxynaphthyl group, a dihydroxynaphthyl group, or the like. These hydroxyaryl groups further include a halogen atom,
It may have a substituent such as a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, an alkoxy group having 20 or less carbon atoms, and an aryloxy group having 20 or less carbon atoms. These hydroxyaryl groups are pendantly bonded to the polymer main chain as side chains of the polymer, but may have a linking group with the main chain.

【0040】本発明において好適に用いられる、側鎖に
ヒドロキシアリール基を有するポリマーは、下記一般式
(IX)〜(XII) で表される構成単位の内いずれか1種を
含有するポリマーである。
The polymer having a hydroxyaryl group in the side chain suitably used in the present invention is a polymer containing any one of the structural units represented by the following general formulas (IX) to (XII). .

【0041】[0041]

【化1】 Embedded image

【0042】(式中、R11は水素原子またはメチル基を
示す。R12およびR13は、同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、ハロゲン原子、炭素数10個以下の炭化
水素基、炭素数10個以下のアルコキシ基又は、炭素数
10個以下のアリールオキシ基を示す。また、R12とR
13が結合して、縮環したベンゼン環やシクロヘキサン環
を形成していても良い。R14は、単結合または、炭素数
20個以下の2価の炭化水素基を示す。R15は、単結合
または、炭素数20個以下の2価の炭化水素基を示す。
16は、単結合または、炭素数10個以下の2価の炭化
水素基を示す。X 1は、単結合、エーテル結合、チオエ
ーテル結合、エステル結合またはアミド結合を示す。p
は1〜4の整数を示す。q及びrはそれぞれ0〜3の整
数を示す。)
(Where R11Represents a hydrogen atom or a methyl group
Show. R12And R13Can be the same or different
And hydrogen atoms, halogen atoms, carbonization of 10 or less carbon atoms
Hydrogen group, alkoxy group having 10 or less carbon atoms, or carbon number
Shows up to 10 aryloxy groups. Also, R12And R
13Binds to form a fused benzene or cyclohexane ring
May be formed. R14Is a single bond or carbon number
It represents 20 or less divalent hydrocarbon groups. RFifteenIs a single bond
Alternatively, a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms is shown.
R16Is a single bond or a divalent carbon having 10 or less carbon atoms.
Shows a hydrogen group. X 1Is a single bond, ether bond,
Represents a ether bond, an ester bond or an amide bond. p
Represents an integer of 1 to 4. q and r are each an integer of 0 to 3
Indicates a number. )

【0043】一般式(IX)〜(XII) で表される構成単位
のうち、本発明において好適に用いられる具体的な構成
単位の例を以下に挙げる。
Among the structural units represented by the general formulas (IX) to (XII), examples of specific structural units suitably used in the present invention are shown below.

【0044】[0044]

【化2】 Embedded image

【0045】[0045]

【化3】 Embedded image

【0046】[0046]

【化4】 Embedded image

【0047】[0047]

【化5】 Embedded image

【0048】[0048]

【化6】 Embedded image

【0049】これらのポリマーは、従来公知の方法によ
り合成することができる。例えば、一般式(IX)で表さ
れる構成単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を酢酸
エステルあるいはt−ブチルエーテルとして保護され
た、対応するスチレン誘導体をラジカル重合もしくはア
ニオン重合しポリマーとした後、脱保護することにより
得られる。また、一般式(X)で表される構成単位を有
するポリマーは、特開昭64−32256号および同6
4−35436号等に記載されている方法により合成す
ることができる。さらに、一般式(XI)で表される構成
単位を有するポリマーは、ヒドロキシ基を有するアミン
化合物と無水マレイン酸を反応させ、対応するモノマー
を得た後、ラジカル重合によりポリマーとすることによ
り得られる。また、一般式(XII) で表される構成単位を
有するポリマーは、クロロメチルスチレンやカルボキシ
スチレン等、合成上有用な官能基を持つスチレン類を原
料として一般(XII) に対応するモノマーへ誘導し、さら
にラジカル重合によりリマーとすることにより得られ
る。
These polymers can be synthesized by a conventionally known method. For example, a polymer having a structural unit represented by the general formula (IX) is obtained by subjecting a corresponding styrene derivative in which a hydroxy group is protected as an acetic ester or t-butyl ether to a polymer by radical polymerization or anion polymerization, and then deprotecting the polymer. It is obtained by doing. Polymers having a structural unit represented by formula (X) are described in JP-A-64-32256 and JP-A-64-32256.
It can be synthesized by the method described in 4-35436 and the like. Further, the polymer having the structural unit represented by the general formula (XI) is obtained by reacting an amine compound having a hydroxy group with maleic anhydride to obtain a corresponding monomer, and then forming the polymer by radical polymerization. . Further, the polymer having the structural unit represented by the general formula (XII) is derived from a styrene having a functional group useful in synthesis such as chloromethylstyrene or carboxystyrene as a raw material to a monomer corresponding to the general (XII). And further obtained by making it into a rimer by radical polymerization.

【0050】本発明では、一般式(IX)〜(XII) で表さ
れる構成単位のみから成るホモポリマーであっても良い
が、他の構成単位をも含む共重合体であっても良い。好
適に用いられる他の構成単位としては、例えば、アクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリルアミド類、ビニルエステル類、スチ
レン類、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリ
ル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド等の公知のモノ
マーより導入される構成単位が挙げられる。
In the present invention, a homopolymer composed of only the structural units represented by the general formulas (IX) to (XII) may be used, or a copolymer containing other structural units may be used. Other structural units suitably used include, for example, acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes, acrylic acid, methacrylic acid, acrylonitrile, maleic anhydride, maleic anhydride Structural units introduced from known monomers such as acid imides are exemplified.

【0051】用いることのできるアクリル酸エステル類
の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、(n−またはi−)プロピルアクリレート、
(n−、i−、sec−またはt−)ブチルアクリレー
ト、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、アリルアクリ
レート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルア
クリレート、クロロベンジルアクリレート、2−(p−
ヒドロキシフェニル)エチルアクリレート、フルフリル
アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
フェニルアクリレート、クロロフェニルアクリレート、
スルファモイルフェニルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the acrylates that can be used include methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate,
(N-, i-, sec- or t-) butyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl Acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, glycidyl acrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, 2- (p-
Hydroxyphenyl) ethyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate,
Phenyl acrylate, chlorophenyl acrylate,
Sulfamoylphenyl acrylate and the like can be mentioned.

【0052】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−またはi−)プロピルメタクリレート、(n−、
i−、sec−またはt−)ブチルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ドデシルメタクリレート、クロロエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒド
ロキシプロピルメタクリレート、5−ヒドロキシペンチ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ア
リルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、メトキシベンジルメタ
クリレート、クロロベンジルメタクリレート、2−(p
−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレート、フルフ
リルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリ
レート、フェニルメタクリレート、クロロフェニルメタ
クリレート、スルファモイルフェニルメタクリレート等
が挙げられる。
Specific examples of the methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-,
i-, sec- or t-) butyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate , Trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, glycidyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, 2- (p
-Hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate and the like.

【0053】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−プロピルアクリルアミド、N−ブチ
ルアクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−トリルアクリルアミド、N−(p−ヒド
ロキシフェニル)アクリルアミド、N−(スルファモイ
ルフェニル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニ
ル)アクリルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリ
ルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチ
ル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチ
ル−N−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-propylacrylamide, N-butylacrylamide, N-benzylacrylamide,
Hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (p-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N- (tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylacrylamide and the like can be mentioned.

【0054】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−プロピルメタクリルアミ
ド、N−ブチルメタクリルアミド、N−ベンジルメタク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
N−フェニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリル
アミド、N−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミド、N−(スルファモイルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N
−(トリルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジ
メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメ
タクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメ
タクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-propyl methacrylamide, N-butyl methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacryl Amide,
N-phenyl methacrylamide, N-tolyl methacrylamide, N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (sulfamoylphenyl) methacrylamide, N- (phenylsulfonyl) methacrylamide, N
-(Tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0055】ビニルエステル類の具体例としては、ビニ
ルアセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエート
等が挙げられる。スチレン類の具体例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルス
チレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロ
メチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシ
メチルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシス
チレン等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. Specific examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, propyl styrene, cyclohexyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxy methyl styrene, acetoxy methyl styrene, methoxy styrene, dimethoxy styrene , Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene and the like.

【0056】これらのモノマーのうち特に好適に使用さ
れるのは、炭素数20以下のアクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル
アミド類、ビニルエステル類、スチレン類及び、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロニトリルである。
Of these monomers, particularly preferably used are acrylic esters, methacrylic esters, acrylamides, methacrylamides, vinyl esters, styrenes and acrylic acids having 20 or less carbon atoms. Methacrylic acid and acrylonitrile.

【0057】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式(IX)〜(XII) で表される構成単位の割合は、5〜1
00重量%であることが好ましく、さらに好ましくは1
0〜100重量%である。また、本発明で使用される上
記ポリマーの分子量は好ましくは重量平均分子量で40
00以上であり、更に好ましくは1万〜30万の範囲で
あり、数平均分子量で好ましくは1000以上であり、
更に好ましくは2000〜25万の範囲である。多分散
度(重量平均分子量/数平均分子量)は1以上が好まし
く、更に好ましくは1.1〜10の範囲である。これら
のポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、
グラフトポリマー等いずれでも良いが、ランダムポリマ
ーであることが好ましい。
The proportion of the structural units represented by the general formulas (IX) to (XII) contained in the copolymers using them is 5 to 1
00% by weight, more preferably 1% by weight.
0 to 100% by weight. The molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 40% by weight average molecular weight.
00 or more, more preferably in the range of 10,000 to 300,000, preferably number-average molecular weight of 1000 or more,
More preferably, it is in the range of 2000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably in the range of 1.1 to 10. These polymers are random polymers, block polymers,
Although any of a graft polymer and the like may be used, a random polymer is preferable.

【0058】本発明で使用されるバインダーは1種類の
みで使用してもよいし、あるいは2種類以上を組み合わ
せて使用してもよい。バインダーの添加量は全画像記録
材料固形分中、5〜95重量%、好ましくは10〜95
重量%、特に好ましくは20〜90重量%で用いられ
る。バインダーの添加量が5重量%未満であると記録層
の耐久性が悪化し、また、添加量が95重量%を超える
場合は、画像形成されない。
The binder used in the present invention may be used alone or in a combination of two or more. The amount of the binder added is 5 to 95% by weight, preferably 10 to 95% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
%, Particularly preferably from 20 to 90% by weight. If the amount of the binder is less than 5% by weight, the durability of the recording layer is deteriorated. If the amount exceeds 95% by weight, no image is formed.

【0059】また、ネガ型感光層には上記のごとき溶解
性減少を生じさせるために、光または熱により分解して
酸を発生する酸発生剤が加えられ、さらに架橋剤、赤外
線吸収剤、およびこれら以外の他の成分を加えることが
できる。 <酸発生剤>酸発生剤としては、200〜500nmの
波長の光照射又は100℃以上の加熱により酸を発生す
る化合物を意味し、光カチオン重合の光開始剤、光ラジ
カル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あ
るいはマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発
生剤等、公知の熱分解して酸を発生する化合物、及びそ
れらの混合物等が挙げられる。例えば、S.I.Sch
lesinger,Photogr.Sci.En
g.,18,387(1974)、T.S.Bal e
t al,Polymer,21,423(1980)
に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,05
5号、同4,069,056号、同Re27,992号
の各明細書、特開平4−365049号公報に記載のア
ンモニウム塩、D.C.Necker etal,Ma
cromolecules,17,2468(198
4)、C.S.Wen et al,Teh,Pro
c.Conf.Rad,CuringASIA,p47
8 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,
069,055号、同4,069,056号の各明細書
に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello
et al,Macromolecules,10
(6),1307(1977)、Chem.& En
g.News,Nov.28,p31(1988)、欧
州特許第104、143号、米国特許第339,049
号、同第410,201号の各明細書、特開平2−15
0848号、特開平2−296514号の各公報に記載
のヨードニウム塩、J.V.Crivelloet a
l,Polymer J.17,73(1985)、
J.V.Crivello et al.J.Org.
Chem.,43,3055(1978)、W.R.W
att et al,J.Polymer Sci.,
Polymer Chem.Ed.,22,1789
(1984)、J.V.Crivello et a
l,Polymer
In order to reduce the solubility as described above, an acid generator which is decomposed by light or heat to generate an acid is added to the negative photosensitive layer, and a crosslinking agent, an infrared absorber, and Other components besides these can be added. <Acid Generator> The acid generator refers to a compound that generates an acid by irradiation with light having a wavelength of 200 to 500 nm or heating at 100 ° C. or higher, and includes a photoinitiator for photocationic polymerization and a photoinitiator for photoradical polymerization. And a known compound capable of generating an acid upon thermal decomposition, such as a known photo-decoloring agent, a photo-discoloring agent, or a known acid generator used for micro resists, and mixtures thereof. For example, I. Sch
Lessinger, Photogr. Sci. En
g. , 18, 387 (1974); S. Bal e
tal, Polymer, 21, 423 (1980)
Diazonium salts described in U.S. Pat. No. 4,069,05
Nos. 5,069,056 and Re27,992, and the ammonium salts described in JP-A-4-365049; C. Necker etal, Ma
cromolecules, 17, 2468 (198
4), C.I. S. Wen et al, Teh, Pro
c. Conf. Rad, CuringASIA, p47
8 Tokyo, Oct (1988); U.S. Pat.
The phosphonium salts described in the specifications of JP-A Nos. 069,055 and 4,069,056; V. Crivello
et al, Macromolecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & En
g. News, Nov .; 28, p31 (1988), EP 104,143, US 339,049.
No. 410,201, JP-A No. 2-15
No. 0848 and JP-A-2-296514. V. Crivellot a
1, Polymer J. 17, 73 (1985),
J. V. Crivello et al. J. Org.
Chem. 43, 3055 (1978); R. W
att et al, J.A. Polymer Sci. ,
Polymer Chem. Ed. , 22,1789
(1984); V. Crivello et a
l, Polymer

【0060】Bull.,14,279(1985)、
J.V.Crivello et al,Macrom
olecules,14(5),1141(198
1)、J.V.Crivello et al,J.P
olymer Sci.,Polymer Chem.
Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第37
0,693号、同390,214号、同233,567
号、同297,443号、同297,442号、米国特
許第4,933,377号、同161,811号、同4
10,201号、同339,049号、同4,760,
013号、同4,734,444号、同2,833,8
27号、独国特許第2,904,626号、同3,60
4,580号、同3,604,581号の各明細書に記
載のスルホニウム塩、
Bull. , 14, 279 (1985),
J. V. Crivello et al, Macrom
olecules, 14 (5), 1141 (198
1). V. Crivello et al, J. Mol. P
polymer Sci. , Polymer Chem.
Ed. , 17, 2877 (1979), EP 37
Nos. 0,693, 390,214, 233,567
Nos. 297,443 and 297,442; U.S. Pat. Nos. 4,933,377; 161,811;
No. 10,201, No. 339,049, No. 4,760,
No. 013, No. 4,734,444, No. 2,833,8
No. 27, German Patent Nos. 2,904,626 and 3,60
4,580, 3,604,581, the sulfonium salt described in each specification,

【0061】J.V.Crivello et al,
Macromolecules,10(6),1307
(1977)、J.V.Crivello et a
l,J.Polymer Sci.,Polymer
Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載
のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Te
h,Proc.Conf.Rad.Curing AS
IA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記
載のアルソニウム塩等のオニウム塩を挙げることができ
る。また、米国特許5,135,838号や米国特許
5,200,544号に記載されているベンジルスルホ
ナート類、特開平2−100054号、特開平2−10
0055号及び特開平9−197671号に記載の活性
スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類、特開平7
−271029号に記載のハロアルキル置換されたS−
トリアジン類を挙げることもできる。
J. V. Crivello et al,
Macromolecules, 10 (6), 1307
(1977); V. Crivello et a
1, J .; Polymer Sci. , Polymer
Chem. Ed. , 17, 1047 (1979); S. Wen et al, Te
h, Proc. Conf. Rad. Curing AS
IA, p. 478, Tokyo, Oct (1988). Also, benzyl sulfonates described in U.S. Pat. No. 5,135,838 and U.S. Pat. No. 5,200,544, JP-A Nos. 2-100054 and 2-10
Active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in JP-A-5-0055 and JP-A-9-197671,
Haloalkyl-substituted S- described in -271029;
Triazines can also be mentioned.

【0062】本発明において、これらの酸発生剤は、ネ
ガ型感光層の全固形分に対し0.01〜50重量%、好
ましくは0.1〜25重量%、より好ましくは0.5〜
20重量%の割合で、本発明のネガ型感光層中に添加さ
れる。該添加量が0.01重量%未満の場合は、画像が
得られず、また、該添加量が50重量%を超える場合
は、印刷時に非画像部に汚れが発生するため、いずれも
好ましくない。これらの化合物は単独で使用してもよ
く、また2種以上を組み合わせて使用してもよい。
In the present invention, these acid generators are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 0.5 to 50% by weight based on the total solid content of the negative photosensitive layer.
20% by weight is added to the negative photosensitive layer of the present invention. When the addition amount is less than 0.01% by weight, no image is obtained, and when the addition amount is more than 50% by weight, non-image areas are stained during printing. . These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0063】<架橋剤>また、上記架橋剤としては、特
願平9−234406号に記載のメチロール化合物、或
いは、アルコキシメチル化合物、レゾール樹脂等のほ
か、特願平11−151412号に記載の以下のものが
挙げられる。 (i)アルコキシメチル基もしくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基もしくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 (i)アルコキシメチル基もしくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキ
シメチル基、アセトキシメチル基、もしくはアルコキシ
メチル基でポリ置換されている芳香族化合物及び複素環
化合物が挙げられる。同出願の[化14]および[化1
5]に記載のものが好ましく挙げられる。前記化学式
中、L1〜L8は、それぞれ独立にメトキシメチル、エト
キシメチル等のように炭素数18以下のアルコキシ基で
置換されたヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基
を表す。
<Cross-Linking Agent> Examples of the cross-linking agent include a methylol compound described in Japanese Patent Application No. 9-234406, an alkoxymethyl compound, a resole resin and the like, and a cross-linking agent described in Japanese Patent Application No. 11-151412. The following are mentioned. (I) an aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group (ii) a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group (iii) an epoxy compound (i) an alkoxymethyl Examples of the aromatic compound substituted with a group or a hydroxymethyl group include an aromatic compound and a heterocyclic compound poly-substituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group, or an alkoxymethyl group. [Formula 14] and [Formula 1]
5] are preferably mentioned. In the above formula, L 1 to L 8 each independently represent a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group substituted with an alkoxy group having 18 or less carbon atoms, such as methoxymethyl, ethoxymethyl and the like.

【0064】(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基もしくはN−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開(以下、EP−Aと
記載する)第0,133,216号、西独特許第3,6
34,671号、同第3,711,264号に開示され
た単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド
縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−A
第0,212,482号明細書に開示されたアルコキシ
置換化合物等が挙げられる。更に好ましい例としては、
例えば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル
基、N−アルコキシメチル基もしくはN−アシルオキシ
メチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が
挙げられ、中でもN−アルコキシメチル誘導体が特に好
ましい。
(Ii) Compounds having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group include those disclosed in European Patent Publication No. 0,133,216 (hereinafter referred to as EP-A), West German Patent No. 3,6
No. 34,671, No. 3,711,264, monomer and oligomer-melamine-formaldehyde condensate and urea-formaldehyde condensate, EP-A
And the alkoxy-substituted compounds disclosed in Japanese Patent No. 0,212,482. As a more preferred example,
For example, a melamine-formaldehyde derivative having at least two free N-hydroxymethyl groups, N-alkoxymethyl groups or N-acyloxymethyl groups is exemplified, and among them, N-alkoxymethyl derivatives are particularly preferred.

【0065】(iii)エポキシ化合物としては、一つ以
上のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第4,026,705号、英国特
許第1,539,192号の各明細書に記載され、使用
されているエポキシ樹脂を挙げることができる。
(Iii) Examples of the epoxy compound include monomer, dimer, oligomer, and polymer epoxy compounds containing one or more epoxy groups. For example, a reaction product of bisphenol A with epichlorohydrin, a reaction product of a low molecular weight phenol-formaldehyde resin with epichlorohydrin and the like can be mentioned. Other examples include epoxy resins described and used in U.S. Pat. No. 4,026,705 and British Patent 1,539,192.

【0066】以上の(i)〜(iii)の本発明に用いる
ことのできる架橋剤は、画像記録材料の全固形分に対
し、5〜80重量%、好ましくは10〜75重量%、よ
り好ましくは20〜70重量%の範囲である。架橋剤の
添加量が5重量%未満であると、得られる平版印刷版用
原版の感光層の耐久性が悪化し、また、80重量%を超
えると、保存時の安定性の観点から好ましくない。
The crosslinking agent (i) to (iii) which can be used in the present invention is from 5 to 80% by weight, preferably from 10 to 75% by weight, more preferably from 10 to 75% by weight, based on the total solids of the image recording material. Ranges from 20 to 70% by weight. If the amount of the crosslinking agent is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer of the resulting lithographic printing plate precursor will be deteriorated. If it exceeds 80% by weight, it is not preferable from the viewpoint of storage stability. .

【0067】さらに、架橋剤として、前記特願平11−
151412号の[0078]ないし[0084]に示
されるフェノール誘導体が挙げられる。
Further, as a crosslinking agent, the above-mentioned Japanese Patent Application No.
Phenol derivatives shown in [0078] to [0084] of No. 151412 are exemplified.

【0068】<赤外線吸収剤>さらに、本発明のネガ型
感光層には、赤外線吸収剤を添加することが好ましい。
ネガ型の感光層に赤外線吸収剤を用いる場合には、赤外
線を放射するレーザにより付与されたエネルギーが赤外
線吸収剤により熱エネルギーに変換され、その熱によっ
て酸発生剤が分解することによって画像が形成される。
即ち、酸発生剤の分解により生ずる酸が、酸により架橋
する架橋剤とバインダーとの架橋反応を促進することに
より画像記録、即ち記録材料の製版が行われるものであ
る。したがって、赤外線吸収剤としては波長760nm
から1200nmの赤外線を吸収し、吸収してエネルギ
ーを有効に熱に変換するものであれば特に限定されるも
のではない。好ましい赤外線吸収剤としては、波長76
0nmから1200nmに吸収極大を有する染料または
顔料が挙げられ、ポジ型感光層の箇所で説明した赤外線
吸収剤や後述の光熱変換層の箇所で説明する赤外線吸収
剤が好適に用いられる。
<Infrared Absorber> It is preferable to add an infrared absorber to the negative photosensitive layer of the present invention.
When an infrared absorber is used for the negative photosensitive layer, the energy given by the laser that emits infrared light is converted into thermal energy by the infrared absorber, and the heat decomposes the acid generator to form an image. Is done.
That is, the acid generated by the decomposition of the acid generator promotes the crosslinking reaction between the crosslinking agent crosslinked by the acid and the binder, thereby performing image recording, that is, plate-making of the recording material. Therefore, a wavelength of 760 nm is used as an infrared absorber.
It is not particularly limited as long as it absorbs infrared rays of from 1200 nm to 1200 nm and absorbs it to effectively convert energy into heat. Preferred infrared absorbers have a wavelength of 76.
Dyes or pigments having an absorption maximum at 0 nm to 1200 nm are exemplified, and the infrared absorber described in the section of the positive photosensitive layer and the infrared absorber described in the section of the light-to-heat conversion layer described later are suitably used.

【0069】<その他の成分>本発明のネガ型感光層に
は、必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加して
も良い。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画
像の着色剤として使用することができる。具体的にはオ
イルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイ
ルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルー
BOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、
オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上
オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブル
ー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチ
ルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレッ
ト、ローダミンB(CI145170B)、マラカイト
グリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI5
2015)など、あるいは特開昭62−293247号
公報に記載されている染料を挙げることができる。これ
らの染料は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつ
きやすいので、添加する方が好ましい。尚、添加量は、
画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10重量%の
割合である。
<Other Components> In the negative photosensitive layer of the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY,
Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000) , Methylene blue (CI5
2015) or the dyes described in JP-A-62-293247. These dyes are preferably added because the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The addition amount is
The proportion is 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the image recording material.

【0070】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例としては、
アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリア
ミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボ
キシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベ
タインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例え
ば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げ
られる。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤
の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜15重量
%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
Further, in the image recording material of the present invention, JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 are used in order to widen the stability of processing under development conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149.
An amphoteric surfactant such as that described in JP-A No. 2-211 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Specific examples of the amphoteric surfactant include:
Alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image recording material is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0071】更に本発明の画像記録材料中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブ
チル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリ
ル酸のオリゴマーおよびポリマー等が用いられる。これ
ら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類等を添
加しても良い。
Further, a plasticizer may be added to the image recording material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, oligomers of acrylic acid or methacrylic acid And a polymer. In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers and the like may be added.

【0072】また、前記ポジ型感光層およびネガ型感光
層膜厚は、該感光層用塗布液からの塗膜の乾燥重量が
0.01〜5g/m2となるような膜厚にすることが目
安となる。0.01g/m2より重量が小さいと画像記
録材料として充分な厚さを得にくく、また、5g/m2
を超えると画像形成性の低下を招きやすくなるので、上
記範囲にあることが好ましい。
The thickness of the positive photosensitive layer and the negative photosensitive layer is such that the dry weight of the coating film from the photosensitive layer coating solution is 0.01 to 5 g / m 2. Is a guide. If the weight is less than 0.01 g / m 2, it is difficult to obtain a sufficient thickness as an image recording material, and 5 g / m 2.
When the ratio exceeds the above range, the image formability is likely to be lowered.

【0073】[断熱層]次に本発明のポジ型またはネガ
型の画像記録材料を構成する層である断熱層について説
明する。断熱層は光熱変換層およびポジ型感光層あるい
はネガ型感光層で発生した熱が支持体に拡散することを
防止するために設ける。したがって、断熱層としては熱
伝達が低いものが好ましく、また、層の形成の容易さの
点などから、有機高分子バインダーを主成分とする層と
することが好ましい。好ましい断熱層として以下の
(1)ないし(5)のものが挙げられる。
[Heat Insulating Layer] Next, the heat insulating layer which is a layer constituting the positive or negative image recording material of the present invention will be described. The heat insulating layer is provided to prevent the heat generated in the light-to-heat conversion layer and the positive photosensitive layer or the negative photosensitive layer from diffusing to the support. Therefore, it is preferable that the heat-insulating layer has low heat transfer, and it is preferable that the heat-insulating layer be a layer containing an organic polymer binder as a main component from the viewpoint of easy formation of the layer. Preferred heat insulating layers include the following (1) to (5).

【0074】(1)特公昭61−54219号公報の2
頁右欄11行ないし同欄35行に示されるようなエポキ
シ樹脂組成物の他、ポリウレタン樹脂、フェノ−ル樹
脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、メラミン樹脂、
尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ジアリルフタレート
樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン―酢酸ビニル
共重合体、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリ
ル―ブタジエン共重合体、ポリエーテル樹脂、ポリエー
テルスルフォン樹脂等。
(1) Japanese Patent Publication No. 61-54219 (2)
In addition to the epoxy resin compositions shown in the right column of the page, line 11 to the same column, line 35, polyurethane resin, phenol resin, acrylic resin, alkyd resin, polyester resin, polyamide resin, polyimide resin, melamine resin,
Urea resin, benzoguanamine resin, diallyl phthalate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, polyvinyl butyral resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polycarbonate resin, polyacrylonitrile-butadiene copolymer, polyether resin, Polyether sulfone resin and the like.

【0075】(2)水溶性ポリアミドまたはアルコール
可溶性ポリアミド。水溶性ポリアミドとしては、例えば
特開昭48−72250号公報の2頁左上欄13行ない
し3頁右下欄1行に示されるような、ポリアミドに環状
スルホン酸エステルを反応させて得られる、分子中にス
ルホン酸基またはスルホネート基を含有するポリアミ
ド、特開昭50−7605号公報の2頁左下欄1行ない
し4頁左上欄6行に示されているようなN,N’−ジ
(γ−アミノプロピル)ピペラジン等を共重合して得ら
れる塩基性窒素を含有するポリアミドおよびこれらのポ
リアミドをアクリル酸等で四級化したポリアミド、特開
昭55−74537号公報の右下欄1行ないし3頁右下
欄2行に示されている分子量150〜1500のポリエ
ーテルセグメントを含有する共重合ポリアミド、および
α−(N,N’−ジアルキルアミノ)−ε−カプロラク
タムの開環重合またはα−(N,N’−ジアルキルアミ
ノ)−ε−カプロラクタムとε−カプロラクタムの開環
共重合で得られたポリアミド等が挙げられる。さらに水
溶性ポリアミドとして分子中にエーテル結合を持つジカ
ルボン酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちいずれ
か1種類を共重合して得られるエーテル結合を有するポ
リアミドを挙げることができる。また、アルコール可溶
性ポリアミドとしては、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω
−アミノ酸、ラクタムあるいはこれらの誘導体から公知
の方法によって合成される線状ポリアミドが挙げられ、
ホモポリマーだけでなくコポリマー、ブロックポリマー
等も使用できる。代表的な例としては、ナイロン3、
4、5、6、8、11、12、13、66、610、6
/10、13/13、メタキシリレンジアミンとアジピ
ン酸からのポリアミド、トリメチルヘキサメチレンジア
ミンあるいはイソホロンジアミンとアジピン酸からのポ
リアミド、ε−カプロラクタム/アジピン酸/ヘキサメ
チレンジアミン/4,4’−ジアミノジシクロヘキシル
メタン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム/アジピ
ン酸/ヘキサメチレンジアミン/2,4,4’−トリメ
チルヘキサメチレンジアミン共重合ポリアミド、ε−カ
プロラクタム/アジピン酸/ヘキサメチレンジアミン/
イソホロンジアミン共重合ポリアミド、あるいはこれら
の成分を含むポリアミド、それらのN−メチロール、N
−アルコキシメチル誘導体も使用できる。
(2) Water-soluble polyamide or alcohol-soluble polyamide. Examples of the water-soluble polyamide include a molecule obtained by reacting a polyamide with a cyclic sulfonic acid ester as shown in page 2, upper left column, line 13 to page 3, lower right column, line 1 of JP-A-48-72250. Polyamides containing a sulfonic acid group or a sulfonate group therein, such as N, N'-di (γ) as shown in page 2, lower left column, line 1 to page 4, upper left column, line 6 of JP-A-50-7605. Polyamide containing basic nitrogen obtained by copolymerizing (aminopropyl) piperazine and the like, and polyamide obtained by quaternizing these polyamides with acrylic acid and the like. JP-A-55-74537, lower right column, line 1, A copolymerized polyamide containing a polyether segment having a molecular weight of 150 to 1500 shown in the lower right column, line 2 on page 3, and α- (N, N′-dialkylamino) -ε- Rorakutamu ring-opening polymerization or α- (N, N'- dialkylamino)-.epsilon.-caprolactam ring-opening copolymerized polyamide obtained in such a ε- caprolactam. Further, examples of the water-soluble polyamide include polyamides having an ether bond obtained by copolymerizing any one of dicarboxylic acids, diamines and cyclic amides having an ether bond in the molecule. Further, as the alcohol-soluble polyamide, dibasic acid fatty acid and diamine, ω
-Amino acids, lactams or linear polyamides synthesized by known methods from lactams or derivatives thereof,
Not only homopolymers but also copolymers and block polymers can be used. Typical examples are nylon 3,
4, 5, 6, 8, 11, 12, 13, 66, 610, 6
/ 10, 13/13, polyamide from meta-xylylenediamine and adipic acid, polyamide from trimethylhexamethylenediamine or isophoronediamine and adipic acid, ε-caprolactam / adipic acid / hexamethylenediamine / 4,4′-diaminodicyclohexyl Methane copolymerized polyamide, ε-caprolactam / adipic acid / hexamethylenediamine / 2,4,4′-trimethylhexamethylenediamine copolymerized polyamide, ε-caprolactam / adipic acid / hexamethylenediamine /
Isophoronediamine copolymerized polyamide, or a polyamide containing these components, their N-methylol,
-Alkoxymethyl derivatives can also be used.

【0076】(3)特開平11−123884号公報の
[0034]ないし[0071]に記載のエポキシ化合
物とカルボキシル基を有する化合物を含む断熱層。断熱
層に含まれるエポキシ化合物としては、水酸基含有化合
物にエピハロヒドリンを反応させることにより得られる
エポキシ化合物が挙げられる。水酸基含有化合物の具体
例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、
ペンタノール、シクロヘキサノール、オクタノール、ウ
ンデカノール、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,6−ヘキサンジオール、1,8−オクタンジオ
ール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオ
ール、2−ブテン−1,4−ジオール、5−ヘキセン−
1,2−ジオール、7−オクテン−1,2−ジオール、
3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、ヒドロキ
ノン、ジヒドロキシアントラキノン、ジヒドロキシベン
ゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒ
ドロキシベンゾフェノン、ビスフェノールA、ビスフェ
ノールS、フェノールホルムアルデヒドノボラック樹
脂、レゾール樹脂、レゾルシンベンズアルデヒド樹脂、
ピロガロールアセトン樹脂、ヒドロキシスチレンの重合
体および共重合体、グリセリン、ジグリセリン、トリメ
チロールプロパン、1,2,4−ブタントリオール、ペ
ンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ソルビ
トール、ソルビタン、ポリビニルアルコール、セルロー
スおよびその誘導体、ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートの重合体および共重合体などが挙げられる。
(3) A heat insulating layer containing an epoxy compound described in [0034] to [0071] of JP-A-11-123888 and a compound having a carboxyl group. Examples of the epoxy compound contained in the heat insulating layer include an epoxy compound obtained by reacting epihalohydrin with a hydroxyl group-containing compound. Specific examples of the hydroxyl group-containing compound include methanol, ethanol, propanol,
Pentanol, cyclohexanol, octanol, undecanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 2-butene-1,4-diol, 5-hexene-
1,2-diol, 7-octene-1,2-diol,
3-mercapto-1,2-propanediol, hydroquinone, dihydroxyanthraquinone, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, bisphenol A, bisphenol S, phenol formaldehyde novolak resin, resole resin, resorcinbenzaldehyde resin,
Pyrogallol acetone resin, hydroxystyrene polymer and copolymer, glycerin, diglycerin, trimethylolpropane, 1,2,4-butanetriol, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitol, sorbitan, polyvinyl alcohol, cellulose and derivatives thereof And hydroxyethyl (meth) acrylate polymers and copolymers.

【0077】また、断熱層中に含まれるカルボキシル基
を有する化合物としては、同公報[0042]〜[00
49]に記載の脂肪族ポリアミン化合物、芳香環を有す
る脂肪族ポリアミン化合物、芳香族ポリアミン化合物、
ジシアンジアミド、アジピン酸ヒドラジド、イミダゾー
ル類、メラミン樹脂等のアミノ基含有樹脂等のアミノ化
合物、あるいはこれらのアミノ化合物と前記エポキシ化
合物のごときエポキシ化合物との反応生成物であるアミ
ンアダクト化合物とカルボン酸を、少なくとも1つの末
端がカルボキシル基となる比率で反応させた化合物が挙
げられる。カルボン酸の具体例としてはマロン酸、コハ
ク酸、リンゴ酸、チオリンゴ酸、ラセミ酸、クエン酸、
グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、ア
ゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマール酸、イ
タコン酸、ダイマー酸等の2価の有機カルボン酸、トリ
メリット酸等の3価の有機カルボン酸、3,9−ビス
(2カルボキシアルキル)2,4,8,10−テトラオ
キサスピロウンデカン等が挙げられる。また、未加硫ゴ
ムのカルボキシ変性物も用いることが出来る。具体的に
は天然ゴム、ブタジエン、イソプレン、スチレン、アク
リロニトリル、アクリル酸エステルより選ばれた単独重
合体又は共重合体のカルボキシ変性物であり、例えばカ
ルボキシ変性ポリブタジエン、カルボキシ変性スチレン
−ブタジエン共重合体、カルボキシ変性アクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体、カルボキシ変性メチルメタク
リレート−ブタジエン共重合体等が挙げられる。更に、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールに
より上記の多価カルボン酸をエステル化反応させた化合
物も用いることが出来る。該化合物は両末端にカルボキ
シル基を有することが好ましい。
The compounds having a carboxyl group contained in the heat insulating layer include those described in the publications [0042] to [0097]
49], the aliphatic polyamine compound having an aromatic ring, the aromatic polyamine compound,
Dicyandiamide, adipic hydrazide, imidazoles, an amino compound such as an amino group-containing resin such as a melamine resin, or an amine adduct compound and a carboxylic acid, which are reaction products of these amino compounds and an epoxy compound such as the epoxy compound, Compounds reacted at a ratio such that at least one terminal is a carboxyl group are exemplified. Specific examples of carboxylic acids include malonic acid, succinic acid, malic acid, thiomalic acid, racemic acid, citric acid,
Divalent organic carboxylic acids such as glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, speric acid, azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and dimer acid, and trivalent organic carboxylic acids such as trimellitic acid; 3,9-bis (2-carboxyalkyl) 2,4,8,10-tetraoxaspiroundecane and the like. A carboxy-modified unvulcanized rubber can also be used. Specifically, natural rubber, butadiene, isoprene, styrene, acrylonitrile, carboxy-modified homopolymer or copolymer selected from acrylates, for example, carboxy-modified polybutadiene, carboxy-modified styrene-butadiene copolymer, Examples thereof include carboxy-modified acrylonitrile-butadiene copolymer and carboxy-modified methyl methacrylate-butadiene copolymer. Furthermore,
A compound obtained by subjecting the above polycarboxylic acid to an esterification reaction with polyethylene glycol or polypropylene glycol can also be used. The compound preferably has carboxyl groups at both ends.

【0078】カルボキシル基を有する化合物としては、
上記のアミノ化合物あるいはアミンアダクト化合物とカ
ルボキシル基含有化合物との反応生成物の他に、同公報
の[0056]〜[0058]に記載のカルボキシル基
を分子中に1個または2個有するアクリル酸、メタクリ
ル酸のごときα、β−不飽和化合物、これらのα、β−
不飽和化合物を分子中に含む重合体または共重合体が挙
げられる。
As the compound having a carboxyl group,
Acrylic acid having one or two carboxyl groups in the molecule described in [0056] to [0058] of the publication, in addition to the reaction product of the amino compound or amine adduct compound and the carboxyl group-containing compound, Α, β-unsaturated compounds such as methacrylic acid;
Polymers or copolymers containing an unsaturated compound in the molecule are mentioned.

【0079】さらに、断熱層組成物中に架橋剤として、
前記のごときアミン化合物、アミンアダクト化合物の群
から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有させ、これ
より官能基を架橋することが、印刷時の耐溶剤性と耐刷
性の点で好ましい。更に、上記のポリアミン化合物とカ
ルボン酸を両末端がアミノ基となるように反応させたポ
リアミドアミンも挙げることができる。
Further, as a crosslinking agent in the heat insulating layer composition,
It is preferable to include at least one compound selected from the group consisting of the amine compound and the amine adduct compound as described above, and to crosslink the functional group with the compound from the viewpoint of solvent resistance during printing and printing durability. Furthermore, polyamidoamine obtained by reacting the above-mentioned polyamine compound and carboxylic acid so that both terminals become amino groups can also be mentioned.

【0080】(4)水溶性(親水性)の樹脂(高分子)
を使用するもの。この場合現像液に可溶なものが更に好
ましい。具体的には、ポリアクリル酸、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシエチルア
クリレート、ポリビニルピロリドン等のアクリル酸共重
合体;ポリエチレンイミン、ジアクリルジメチルアルミ
ニウムクロライド、ポリビニルイミダゾリン、ポリアル
キルアミノエチルアクリレート等のマレイン共重合体;
又ポリエチレングリコールポリオキシエチレン、ポイプ
ロピレングリコール、エチレンジアミン、ヘキサエチレ
ンジアミン、ポリウレタン樹脂、ポリヒドロキシメチル
尿素、ポリヒドロキシメチルメラミン樹脂、更に可溶性
デンプン、CMC(カルボキシメチルセルロース)、ヒ
ドロキシエチルセルロース等の水溶性セルロース、グア
ーガム、トラガカントゴム、キサンタンガム等の多糖
類、アルギン酸ソーダ、ゼラチン、カゼイン、ミルクカ
ゼイン等の水溶性高分子が挙げられる。
(4) Water-soluble (hydrophilic) resin (polymer)
Things to use. In this case, those which are soluble in the developer are more preferable. Specifically, acrylic acid copolymers such as polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyhydroxyethyl acrylate, and polyvinylpyrrolidone; Copolymer;
Polyethylene glycol polyoxyethylene, polypropylene glycol, ethylenediamine, hexaethylenediamine, polyurethane resin, polyhydroxymethylurea, polyhydroxymethylmelamine resin, water-soluble cellulose such as soluble starch, CMC (carboxymethylcellulose), hydroxyethylcellulose, guar gum, Polysaccharides such as tragacanth gum and xanthan gum; and water-soluble polymers such as sodium alginate, gelatin, casein, and milk casein.

【0081】(5)樹脂エマルジョンを用いるもの。こ
のようなエマルジョンとしては、スチレン−ブタジエン
ゴム(SBR)、スチレン−メチルメタクリレート−ブ
タジエンゴム(SMBR)、アクリル系樹脂、アクリル
−スチレン系樹脂、アクリル酢酸ビニル系樹脂等の合成
樹脂エマルジョンが挙げられる。
(5) Those using a resin emulsion. Examples of such an emulsion include synthetic resin emulsions such as styrene-butadiene rubber (SBR), styrene-methyl methacrylate-butadiene rubber (SMBR), acrylic resin, acryl-styrene resin, and vinyl acrylate resin.

【0082】断熱層には断熱能力を増加させるために混
合剤を分散させてもよく、好ましい混合剤としては、フ
ァライト、石灰石、雲母、粘土、合成粘土、アルミナ、
シリカ、炭酸カルシウム、アルミニウム酸カルシウム等
が挙げられる。断熱層の膜厚は、樹脂バインダーの種類
によっても異なるが、断熱層用塗布液からの塗膜の乾燥
重量が0.01〜3g/m2となるような膜厚にするこ
とが目安となる。0.01g/m2より重量が小さいと
感光層および光熱変換層で発生した熱の拡散を防ぐこと
が困難となる。また、3g/m2を超えると画像形成性
の低下を招きやすくなるので、上記範囲にあることが好
ましい。要は、感光層の光化学反応あるいは熱化学反応
に必要な熱エネルギーの損失を防ぐ厚さが必要なことで
ある。
A mixture may be dispersed in the heat-insulating layer in order to increase the heat-insulating ability. Preferred mixtures include falite, limestone, mica, clay, synthetic clay, alumina,
Silica, calcium carbonate, calcium aluminate and the like can be mentioned. Although the thickness of the heat insulating layer varies depending on the type of the resin binder, it is a standard to set the thickness so that the dry weight of the coating film from the coating solution for the heat insulating layer is 0.01 to 3 g / m 2. . If the weight is less than 0.01 g / m 2, it becomes difficult to prevent diffusion of heat generated in the photosensitive layer and the photothermal conversion layer. Further, if it exceeds 3 g / m 2 , the image formability tends to deteriorate, so that it is preferably within the above range. The point is that the photosensitive layer needs to have a thickness to prevent loss of heat energy required for a photochemical reaction or a thermochemical reaction.

【0083】[第一および第二の光熱変換層]次に光熱
変換層について説明する。光熱変換層は少なくとも光熱
変換剤とバインダーを含有する層または無機物の蒸着か
らなる層であるが、これに限定されるものではなく、光
熱変換能のある任意の物質を採り得る。光熱変換剤とし
ては、有機化合物及び/又は無機化合物を適時選択して
使用することができる。有機化合物としては、例えば3
50〜1200nmの波長域の中に吸収のある色素や染
料を挙げることができ、具体的には、シアニン色素、ロ
ーダシアニン色素、オキソノール色素、カルボシアニン
色素、ジカルボシアニン色素、トリカルボシアニン色素
「化1」、テトラカルボシアニン色素、ペンタカルボシ
アニン色素、スチリル色素、アミニウム色素、ジイモニ
ウム色素、ピリリウム染料、金属フタロシアニンや金属
ポルフィリン等の含金属染料等が挙げられ、具体的には
ケミカル・レビュー(Chem.Rev.)92巻,1
197頁(1992)等に記載の化合物を用いることが
できる。又、350〜1200nmの波長域の中に吸収
のある無機化合物としては、グラファイト、カーボンブ
ラック、金属粉末粒子、四三酸化コバルト、酸化鉄、酸
化クロム、酸化銅、チタンブラックなどの金属酸化物粉
末粒子、窒化ニオブ等の金属窒化物粉末、炭化タンタル
などの金属酸化物粉末、金属硫化物粉末等が挙げられ、
更に磁性塗料などに用いられる各種磁性粉末粒子等も好
適に用いることができる。光熱変換層のバインダーとし
ては、前記光熱変換剤を十分に保持できるものであれば
制限無く用いることができる。このようなバインダーと
しては、光熱変換剤を溶解又は分散する公知のバインダ
ーが使用される。前記バインダーの例としては、ニトロ
セルロース、エチルセルロース等のセルロース、セルロ
ース誘導体類、ポリメチルメタクリレート、ポリブチル
メタクリレート等のアクリル酸エステル、メタクリル酸
エステルの単独重合体及び共重合体、ポリスチレン、α
−メチルスチレン等のスチレン系モノマーの単独重合体
及び共重合体。イソプレン、スチレン−ブタジエン等の
各種合成ゴム類、ポリ酢酸ビニル等のビニルエステル類
の単独重合体及び酢酸ビニル・塩化ビニル等の共重合
体、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカ
ーボネート等の縮合系各種ポリマー及び、「J.Ima
ging Sci.,P59−64,30(2),(1
986)(Frechetら)」や「Polymers
in Electronics Symposium
Series,P11,242,T.Davidso
n,Ed.,ACS Washington,DC(1
984)(Ito,Willson)」、「Micro
electronic Engineering,P3
−10,13(1991)(E,Reichmani
s,L.F.Thompson)」に記載のいわゆる
「化学増幅系」に使用されるバインダー、などが使用可
能である。前記光熱変換剤及び前記バインダー以外に、
添加剤を用いることができる。該添加剤は、第1層の機
械的強度を向上させたり、レーザー記録感度を向上させ
たり、光熱変換層中の分散物の分散性を向上させたり、
隣接する層に対する密着性を向上させるなど種々の目的
に応じて添加される。
[First and Second Light-to-Heat Conversion Layers] Next, the light-to-heat conversion layers will be described. The light-to-heat conversion layer is a layer containing at least a light-to-heat conversion agent and a binder or a layer formed by vapor deposition of an inorganic substance. As the photothermal conversion agent, an organic compound and / or an inorganic compound can be appropriately selected and used. As the organic compound, for example, 3
Dyes and dyes having an absorption in the wavelength range of 50 to 1200 nm can be mentioned. Specifically, cyanine dyes, rhodocyanine dyes, oxonol dyes, carbocyanine dyes, dicarbocyanine dyes, tricarbocyanine dyes Chemical Formula 1 ", tetracarbocyanine dyes, pentacarbocyanine dyes, styryl dyes, aminium dyes, diimonium dyes, pyrylium dyes, metal-containing dyes such as metal phthalocyanines and metalloporphyrins, and the like. .Rev.) Vol. 92, 1
The compounds described on page 197 (1992) can be used. Inorganic compounds that absorb in the wavelength range of 350 to 1200 nm include graphite, carbon black, metal powder particles, metal oxide powders such as cobalt tetroxide, iron oxide, chromium oxide, copper oxide, and titanium black. Particles, metal nitride powder such as niobium nitride, metal oxide powder such as tantalum carbide, metal sulfide powder, and the like.
Further, various magnetic powder particles and the like used for magnetic paints and the like can also be suitably used. As the binder for the light-to-heat conversion layer, any binder can be used without any limitation as long as it can sufficiently hold the light-to-heat conversion agent. As such a binder, a known binder that dissolves or disperses the photothermal conversion agent is used. Examples of the binder include nitrocellulose, cellulose such as ethyl cellulose, cellulose derivatives, polymethyl methacrylate, acrylic acid esters such as polybutyl methacrylate, homopolymers and copolymers of methacrylic acid esters, polystyrene, α
-Homopolymers and copolymers of styrene monomers such as methylstyrene. Various synthetic rubbers such as isoprene and styrene-butadiene, homopolymers of vinyl esters such as polyvinyl acetate and copolymers such as vinyl acetate and vinyl chloride, polyurea, polyurethane, polyester, and various condensation polymers such as polycarbonate and , "J. Ima
ging Sci. , P59-64, 30 (2), (1
986) (Frechet et al.) And Polymers
in Electronics Symposium
Series, P11, 242, T. Davidso
n, Ed. , ACS Washington, DC (1
984) (Ito, Willson) "," Micro
electronic Engineering, P3
-10, 13 (1991) (E, Reichmani
s, L .; F. Thompson), a binder used in a so-called “chemical amplification system”, and the like can be used. In addition to the photothermal conversion agent and the binder,
Additives can be used. The additive improves the mechanical strength of the first layer, improves laser recording sensitivity, improves the dispersibility of the dispersion in the light-to-heat conversion layer,
It is added for various purposes such as improving the adhesion to an adjacent layer.

【0084】好ましい光熱変換層として下記の(1)な
いし(5)に記載のものが挙げられる。 (1)特開平11−91257号公報に記載の、25な
いし200℃の範囲の軟化点を有し、且つ、熱分解時の
重量減少速度の最大値が0.1〜5重量%/℃の、膜形
成能を持つポリマーと、光熱変換剤とを含有する光熱変
換層があげられる。前記ポリマーとしてはポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルフェニ
ルケトン、ポリスチレン類、ポリメチルメタクリレート
等のメタクリレート樹脂、ポリメチルアクリレート等の
アクリル樹脂、ポリN−メチルメタクリルアミド等のア
クリルアミド樹脂、フェノールノボラック、クレゾール
ノボラック等のフェノール樹脂など、同公報の[000
8]および[0009]に記載のポリマーが挙げられ、
また、前記光熱変換剤としてはカーボンブラック、ニグ
ロシン等の黒色顔料、金属錯体、金属酸化物、金属塩、
金属粉など同公報[0011]ないし[0013]に記
載の光熱変換剤が挙げられる。
Preferred photothermal conversion layers include those described in the following (1) to (5). (1) It has a softening point in the range of 25 to 200 ° C. described in JP-A-11-91257 and a maximum value of the rate of weight loss during thermal decomposition of 0.1 to 5% by weight / ° C. And a light-to-heat conversion layer containing a polymer having film forming ability and a light-to-heat conversion agent. Examples of the polymer include polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl phenyl ketone, polystyrenes, methacrylate resins such as polymethyl methacrylate, and acrylics such as polymethyl acrylate. Resin, acrylamide resin such as poly N-methyl methacrylamide, phenol resin such as phenol novolak, cresol novolak, etc.
8] and [0009].
Further, as the photothermal conversion agent, carbon black, black pigments such as nigrosine, metal complexes, metal oxides, metal salts,
Examples thereof include photothermal conversion agents described in the publications [0011] to [0013] such as metal powder.

【0085】さらに、好ましい光熱変換層として水溶性
バインダーをバインダーとするものが挙げられる。水溶
性バインダーとしては、例えばポリビニルアルコール、
ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン、ナイロ
ン、ポリアクリルアミド、ポリアルキレンオキサイド、
ゼラチン、カゼイン、メチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロ
キシエチル澱粉、アラビアゴム、サクローズオクタアセ
テート、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸ナトリウ
ム、ポリビニルアミン、ポリエチレンオキシド、ポリア
クリル酸等が挙げられ、この中でもポリビニルアルコー
ル、ポリビニルアセタール、ナイロン、ポリアクリルア
ミド、ポリアルキレンオキサイドが好ましい。また、光
熱変換剤としては近赤外光吸収剤、例えばカーボンブラ
ックやシアニン系、ポリメチン系、アズレニウム系、ス
クワリウム系、チオピリリウム系、ナフトキノン系、ア
ントラキノン系色素等の有機化合物、フタロシアニン
系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体などが好適に
用いられる。これらは1種又は2種以上を組み合わせて
用いることができる。これらの中で好ましくは、シアニ
ン系、ポリメチン系、スクワリウム系色素、カーボンブ
ラックである。またカーボンブラックを用いた場合に
は、分散粒径を0.5μ以下とすること好ましい。
Further, as a preferable light-to-heat conversion layer, a layer using a water-soluble binder as a binder is exemplified. As the water-soluble binder, for example, polyvinyl alcohol,
Polyvinyl acetal, polyvinylpyrrolidone, nylon, polyacrylamide, polyalkylene oxide,
Gelatin, casein, methylcellulose, hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxyethyl starch, gum arabic, saccharose octaacetate, ammonium alginate, sodium alginate, polyvinylamine, polyethylene oxide, polyacrylic acid and the like, among which polyvinyl alcohol, polyvinyl Acetal, nylon, polyacrylamide and polyalkylene oxide are preferred. Further, as the photothermal conversion agent, a near-infrared light absorber, for example, carbon black, cyanine, polymethine, azurenium, squarium, thiopyrylium, naphthoquinone, organic compounds such as anthraquinone dyes, phthalocyanine, azo, Thioamide-based organometallic complexes and the like are preferably used. These can be used alone or in combination of two or more. Of these, cyanine-based, polymethine-based, squarium-based dyes, and carbon black are preferred. When carbon black is used, the dispersed particle size is preferably set to 0.5 μm or less.

【0086】(2)特開平11−34494号公報[0
010]および[0015]ないし[0020]に記載
の、層状の無機化合物とレーザー吸収色素およびバイン
ダーとを含有する光熱変換層が挙げられる。前記層状の
無機化合物としては、膨潤性無機層状化合物が好まし
く、これらの化合物としては、例えば、ベントナイト、
ヘクトライト、サポナイト、ビーデライト、ノントロナ
イト、スチブンサイト、バイデライト、モンモリナイト
等の膨潤性粘度鉱物類、膨潤性合成雲母、膨潤性合成ス
メクタイト等が挙げられる。これらの膨潤性無機層状化
合物は10〜15オングストロームの厚さの単位結晶格
子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他
の粘土鉱物よりも著しく大きい。その結果、格子層は正
荷電不足を生じ、それを補償するために層間にNa+
Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの
層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ば
れ、いろいろな陽イオンと交換する。特に層間の陽イオ
ンががLi+、Na+等の場合、イオン半径が小さいた
め、層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤
する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水
中で安定したゾルを形成する。ベントナイト及び膨潤性
合成雲母はその傾向が強く本発明の目的には好ましい。
特に水膨潤性の合成雲母が好ましい。また、前記水膨潤
性の合成雲母としては、 NaテトラシックマイカNaMg2.5(Si410)F2 Na又はLiテニオライト(NaLi)Mg2(Si4
10)F2 Na又はLiヘクトライト(NaLi)/3Mg2/3L
1/3Si410)F2等が挙げられる。また、前記レー
ザー吸収色素としては、シアニン色素、フタロシアニン
色素、ナフタロシアニン色素、アントラキノン色素、ピ
リリウム色素等の可視〜赤外域の波長領域で吸収する色
素が望ましい。また、前記バインダーとしては、ゼラチ
ン、ポリビニルアルコール等の親水性ポリマー、ポリス
チレン、アクリル、その他の疎水性ポリマーが使用でき
るが、層状の無機化合物、特に水膨潤性の合成雲母を膨
潤、劈開、分散させる上で親水性ポリマーが望ましい。
(2) JP-A-11-34494 [0
010] and the photothermal conversion layer containing a layered inorganic compound, a laser absorbing dye and a binder described in [0015] to [0020]. As the layered inorganic compound, a swellable inorganic layered compound is preferable, and as these compounds, for example, bentonite,
Examples include swelling viscosity minerals such as hectorite, saponite, beederite, nontronite, stevensite, beidellite, and montmorillonite, swellable synthetic mica, and swellable synthetic smectite. These swellable inorganic layered compounds have a laminated structure composed of unit crystal lattice layers having a thickness of 10 to 15 angstroms, and the substitution of metal atoms in the lattice is significantly larger than other clay minerals. As a result, the lattice layer causes a shortage of positive charge, and Na + ,
Cations such as Ca 2+ and Mg 2+ are adsorbed. The cations interposed between these layers are called exchangeable cations and exchange with various cations. In particular, when the cations between the layers are Li + , Na +, etc., since the ionic radius is small, the bond between the layered crystal lattices is weak, and the swells greatly with water. When shear is applied in this state, it is easily cleaved and forms a stable sol in water. Bentonite and swellable synthetic mica have a strong tendency and are preferred for the purpose of the present invention.
Particularly, water-swellable synthetic mica is preferable. Examples of the water-swellable synthetic mica include Na tetrathick mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 Na or Li teniolite (NaLi) Mg 2 (Si 4 O
10) F 2 Na or Li hectorite (NaLi) / 3Mg 2 / 3L
i 1/3 Si 4 O 10 ) F 2 and the like. The laser-absorbing dye is preferably a dye that absorbs in the visible to infrared wavelength region, such as a cyanine dye, a phthalocyanine dye, a naphthalocyanine dye, an anthraquinone dye, and a pyrylium dye. As the binder, hydrophilic polymers such as gelatin and polyvinyl alcohol, polystyrene, acryl, and other hydrophobic polymers can be used, but swell, cleave, and disperse layered inorganic compounds, particularly water-swellable synthetic mica. Above, a hydrophilic polymer is desirable.

【0087】(3)特開平11−138737号公報に
記載の、少なくとも光熱変換物質と加熱により硬化する
化合物を少なくとも含む感熱層を適用することができ
る。光熱変換物質として同公報[0042]ないし[0
046]に記載の染料、顔料、金属粉末が挙げられる。
また、前記加熱により硬化する化合物としては(1)同
公報の[0048]ないし[0074]に記載の1分子
中にエチレン性不飽和基を2個以上有する化合物及び
[0075]ないし[0080]に記載の加熱によりラ
ジカルを発生する物質の組み合わせ、(2)[008
2][0095]1分子中にエチレン性不飽和基を2個
以上有する化合物、同公報[0096]ないし[010
4]に記載の1分子中にチオール基を2個以上有する化
合物及び前記加熱によりラジカルを発生する物質の組み
合わせ、(3)同公報の[0105]ないし[010
9]に記載のエポキシ化合物とアミノ樹脂の組み合わ
せ、のいずれかが好ましい。好ましい組成比として同公
報[0154]ないし[0159]に記載の組成比を挙
げることができる。
(3) The heat-sensitive layer described in JP-A-11-138737, which contains at least a photothermal conversion substance and a compound which is cured by heating, can be used. As light-to-heat conversion materials, the publications [0042] to [0]
046] described above.
Examples of the compound which is cured by heating include (1) compounds having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule described in [0048] to [0074] and [0075] to [0080] in the same publication. A combination of substances that generate a radical by heating as described in (2) [008
2] [0095] Compounds having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule, [0096] to [0101]
4]. A combination of the compound having two or more thiol groups in one molecule and a substance which generates a radical by heating as described in (3), [0105] to [010]
9], a combination of the epoxy compound described above and an amino resin. Preferred composition ratios include the composition ratios described in the publications [0154] to [0159].

【0088】(4)特開平11−129639号公報に
記載の光熱変換物質と自己酸化性物質を含む光熱変換層
が挙げられる。この光熱変換層における自己酸化性物質
は光熱変換物質による分解性を容易にするために加えら
れるもので、ニトロセルロース、硝酸アンモニウム、硝
酸カリウム、硝酸ナトリウム等のニトロ化合物や、有機
過酸化物、アゾ化合物、ジアゾ化合物あるいはヒドラジ
ン誘導体が好ましく使用される。特にニトロセルロース
は高分子であるため、溶液状態で適度な粘性を有してお
り、また分子中に水酸基を有しているため、感熱層の架
橋構造を形成し易くなり好ましい。このニトロセルロー
スは火薬用途のものではなく、工業用ニトロセルロース
であることが好ましい。さらにニトロセルロースの粘度
が1/16秒〜3秒であることが好ましく、より好まし
くは1/8秒〜1秒、さらに好ましくは1/8秒〜1/
2秒である。また、前記光熱変換物質としては同公報
[0070]ないし[0084]に記載のカーボンブラ
ック、黒色顔料、緑色顔料、金属錯体、無機化合物、金
属化合物、金属粉末、赤外線または近赤外線を吸収する
染料等を使用することができる。またこの光熱変換層は
さらに[0108]に記載のごときバインダーを含ませ
ることができる。
(4) A light-to-heat conversion layer containing a light-to-heat conversion substance and a self-oxidizing substance described in JP-A-11-129039. The self-oxidizing substance in this light-to-heat conversion layer is added in order to facilitate the decomposability by the light-to-heat conversion substance, and nitro compounds such as nitrocellulose, ammonium nitrate, potassium nitrate and sodium nitrate, organic peroxides, azo compounds, Diazo compounds or hydrazine derivatives are preferably used. In particular, nitrocellulose is a polymer, and therefore has a suitable viscosity in a solution state, and has a hydroxyl group in the molecule, so that it is easy to form a crosslinked structure of the thermosensitive layer, which is preferable. This nitrocellulose is not intended for explosive use, but is preferably industrial nitrocellulose. Further, the viscosity of the nitrocellulose is preferably from 1/16 to 3 seconds, more preferably from 1/8 to 1 second, even more preferably from 1/8 to 1 / second.
2 seconds. Examples of the photothermal conversion material include carbon black, black pigments, green pigments, metal complexes, inorganic compounds, metal compounds, metal powders, dyes absorbing infrared rays or near infrared rays described in the above publications [0070] to [0084]. Can be used. The light-to-heat conversion layer may further contain a binder as described in [0108].

【0089】(5)特開平11−59005号公報に記
載の、光熱変換物質と熱分解性化合物を含有する感熱層
を適用することができる。前記熱分解性化合物は、光熱
変換物質による熱分解を高めるためのもので、アリル結
合またはベンジル基および水酸基を有する化合物が用い
られる。(アリル基はシンナミル基の様な置換アリル基
を、また、ベンジル基はベンズヒドリル基あるいはトリ
チル基の様な置換ベンジル基を含む。)具体的には、2
官能以上のアルケニルアルコールおよびベンジルアルコ
ール、ベンジル酸、トロパ酸などのようにカルボキシル
基を有するアルコールなどのアリル結合またはベンジル
基を含有するアルコール類、アリルフェノール、アリル
ビフェノール、アリルビスフェノール、アリルビスフェ
ノールA型エポキシ化合物などのアリルフェノール類、
エチレングリコール(アリルまたはベンジル)グリシジ
ルエーテル、プロピレングリコール(アリルまたはベン
ジル)グリシジルエーテル、ポリエチレングリコール
(アリルまたはベンジル)グリシジルエーテル、ポリプ
ロピレングリコール(アリルまたはベンジル)グリシジ
ルエーテル等のグリシジルエーテル類が挙げられる。
(5) A heat-sensitive layer containing a photothermal conversion substance and a thermally decomposable compound described in JP-A-11-59005 can be used. The thermally decomposable compound is used to enhance thermal decomposition by a photothermal conversion substance, and a compound having an allyl bond or a benzyl group and a hydroxyl group is used. (An allyl group includes a substituted allyl group such as a cinnamyl group, and a benzyl group includes a substituted benzyl group such as a benzhydryl group or a trityl group.)
Allyl bond or benzyl group-containing alcohols such as alcohols having a carboxyl group such as alkenyl alcohols having higher functionality and benzyl alcohol, benzyl acid, tropic acid, etc., allyl phenol, allyl biphenol, allyl bisphenol, allyl bisphenol A type epoxy Allylphenols such as compounds,
Glycidyl ethers such as ethylene glycol (allyl or benzyl) glycidyl ether, propylene glycol (allyl or benzyl) glycidyl ether, polyethylene glycol (allyl or benzyl) glycidyl ether, and polypropylene glycol (allyl or benzyl) glycidyl ether are exemplified.

【0090】さらに、側鎖に水酸基およびアリルオキシ
基またはベンジルオキシ基を有する線状ポリマーが挙げ
られる。このポリマーは、水酸基およびハロゲン基を側
鎖に有する線状ポリマーとナトリウム(アリルアルコキ
シドまたはベンジルアルコキシド)との反応でエーテル
化することによって得られる。線状ポリマーとしては、
ビニルアルコールとビニルハライドとの共重合体が挙げ
られるが、必要に応じてマレイン酸、フマル酸、オレイ
ン酸、ケイ皮酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸、イソクロトン酸、エライジン酸およびこれらのエス
テル化物、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビ
ニルの様なエチレン性二重結合を有するモノマーを加え
た共重合体を用いても良い。さらに、同公報の[003
4]に記載の水酸基およびカルボキシル基を側鎖に有す
る線状ポリマーとアリルアルコールまたはベンジルアル
コールとをエステル化することによって得られる、側鎖
に水酸基およびアリルオキシカルボニル基またはベンジ
ルオキシカルボニル基を有する線状ポリマーを挙げるこ
とができる。また、上記感熱層中に同公報[0060]
および[0061]に記載のバインダーを添加すること
ができる。
Further, a linear polymer having a hydroxyl group and an allyloxy group or a benzyloxy group in a side chain may be mentioned. This polymer is obtained by etherifying a linear polymer having a hydroxyl group and a halogen group in a side chain with sodium (allyl alkoxide or benzyl alkoxide). As a linear polymer,
Copolymers of vinyl alcohol and vinyl halide may be mentioned.If necessary, maleic acid, fumaric acid, oleic acid, cinnamic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, elaidic acid and esters thereof A copolymer to which a monomer having an ethylenic double bond such as a compound, acrylamide, methacrylamide, or vinyl acetate may be used. Further, [003]
4] A line having a hydroxyl group and an allyloxycarbonyl group or a benzyloxycarbonyl group in a side chain obtained by esterifying the linear polymer having a hydroxyl group and a carboxyl group in the side chain with allyl alcohol or benzyl alcohol. Polymers. In addition, the above-mentioned publication [0060]
And the binder described in [0061] can be added.

【0091】上記光熱変換層に添加される光熱変換物質
としては上に示すものの他、以下に示すようなオニウム
塩構造を有するカチオン性赤外線吸収剤(CA−1〜C
A−44)を使用することができる。
As the light-to-heat conversion material added to the light-to-heat conversion layer, in addition to those shown above, cationic infrared absorbers having the following onium salt structures (CA-1 to C-1)
A-44) can be used.

【0092】[0092]

【化7】 Embedded image

【0093】[0093]

【化8】 Embedded image

【0094】[0094]

【化9】 Embedded image

【0095】[0095]

【化10】 Embedded image

【0096】[0096]

【化11】 Embedded image

【0097】[0097]

【化12】 Embedded image

【0098】[0098]

【化13】 Embedded image

【0099】[0099]

【化14】 Embedded image

【0100】[0100]

【化15】 Embedded image

【0101】[0101]

【化16】 Embedded image

【0102】[0102]

【化17】 Embedded image

【0103】[0103]

【化18】 Embedded image

【0104】[0104]

【化19】 Embedded image

【0105】[0105]

【化20】 Embedded image

【0106】[0106]

【化21】 Embedded image

【0107】前記構造式中、T-は、1価の対アニオン
を表し、好ましくは、ハロゲンアニオン(F-、Cl-
Br-、I-)、ルイス酸アニオン(BF4 -、PF6 -、S
bCl6 -、ClO4 -)、アルキルスルホン酸アニオン、
アリールスルホン酸アニオンである。
In the above structural formula, T represents a monovalent counter anion, and is preferably a halogen anion (F , Cl ,
Br -, I -), a Lewis acid anion (BF 4 -, PF 6 - , S
bCl 6 , ClO 4 ), an alkylsulfonic acid anion,
Aryl sulfonate anion.

【0108】前記アルキルスルホン酸のアルキルとは、
炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、又は環
状のアルキル基を意味し、具体的には、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2一ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12
までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環
状のアルキル基がより好ましい。
The alkyl of the alkyl sulfonic acid is
A linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group , Octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl,
Isobutyl, s-butyl, t-butyl, isopentyl, neopentyl, 1-methylbutyl, isohexyl, 2-ethylhexyl, 2-methylhexyl, cyclohexyl, cyclopentyl, and 2-norbornyl groups be able to. Among these, straight-chains having 1 to 12 carbon atoms, 3 to 12 carbon atoms.
And a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms is more preferred.

【0109】また、前記アリールスルホン酸のアリール
とは、1個のベンゼン環からなるもの、2又は3個のベ
ンゼン撮が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不
飽和環が縮合環を形成したものを表し、具体例として
は、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナン
トリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレ
ニル基、を挙げることができ、これらの中でも、フェニ
ル基、ナフチル基がより好ましい。
The aryl of the aryl sulfonic acid may be one having one benzene ring, one having two or three benzene rings forming a condensed ring, and one having a benzene ring and a five-membered unsaturated ring forming a condensed ring. Represents a formed one, and specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenabutenyl group, and a fluorenyl group, and among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable. .

【0110】また、以下のNA−1〜NA−12に示す
非イオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
Further, nonionic infrared absorbing agents represented by the following NA-1 to NA-12 can also be preferably used.

【0111】[0111]

【化22】 Embedded image

【0112】[0112]

【化23】 Embedded image

【0113】[0113]

【化24】 Embedded image

【0114】[0114]

【化25】 Embedded image

【0115】本発明において、第一および第二の光熱変
換層からポジ型感光層またはネガ型感光層へ有効に熱を
拡散させるためには、第一あるいは第二の光熱変換層中
に光熱変換剤を光熱変換層の全固形分に対し、少なくと
も1重量%添加することが好ましく、より好ましくは3
重量%、さらに好ましくは5重量%である。添加量が1
重量%未満であると、光熱変換層から感光層に伝達され
る熱量が少なく光熱変換層を設ける意味が失われる。ま
た添加量が50重量%を超えると、被膜性や非画像部の
現像性が低下しやすいため、添加量は50重量%より少
ない方が好ましい。また、第一および第二の光熱変換層
中に含まれる光熱変換剤の合計量が少なくとも2重量%
であることが好ましい。さらに、第一の光熱変換層と第
二の光熱変換層が含む光熱変換剤の相対的割合は、第一
の層に対し第二の層が1:99〜80:20、好ましく
は1:9〜7:3であることが画像形成性の点からみて
適切である。前記第一および第二の光熱変換層の膜厚
は、該光熱変換層用塗布液からの塗膜の乾燥重量が0.
01〜5g/m2の範囲、好ましくは0.02〜3g/
2の範囲となるような膜厚にあることが好ましい。ま
た、第一および第二の光熱変換層を合わせた重量が少な
くとも0.02g/m2であることが好ましい。また、
前記ポジ型またはネガ型画像記録材料における、第一の
光熱変換層と第二の光熱変換層は組成および膜厚を同じ
にしても、また、異ならせてもよい。
In the present invention, in order to effectively diffuse heat from the first and second light-to-heat conversion layers to the positive photosensitive layer or the negative photosensitive layer, the first or second light-to-heat conversion layer needs to have a light-to-heat conversion layer. It is preferable to add at least 1% by weight of the agent to the total solid content of the light-to-heat conversion layer, more preferably 3% by weight.
% By weight, more preferably 5% by weight. Addition amount is 1
When the amount is less than the weight percentage, the amount of heat transferred from the light-to-heat conversion layer to the photosensitive layer is small, and the meaning of providing the light-to-heat conversion layer is lost. If the addition amount exceeds 50% by weight, the coatability and the developability of the non-image area are liable to decrease, so the addition amount is preferably smaller than 50% by weight. Further, the total amount of the photothermal conversion agent contained in the first and second photothermal conversion layers is at least 2% by weight.
It is preferable that Furthermore, the relative ratio of the light-to-heat conversion agent contained in the first light-to-heat conversion layer and the second light-to-heat conversion layer is such that the ratio of the second layer to the first layer is 1:99 to 80:20, preferably 1: 9. The ratio is preferably 7 to 3: from the viewpoint of image forming properties. The film thickness of the first and second light-to-heat conversion layers is such that the dry weight of the coating film from the light-to-heat conversion layer coating solution is 0.
01-5 g / m 2 , preferably 0.02-3 g / m 2
It is preferable that the film thickness be in the range of m 2 . Further, it is preferable that the total weight of the first and second light-to-heat conversion layers is at least 0.02 g / m 2 . Also,
In the positive-type or negative-type image recording material, the first light-to-heat conversion layer and the second light-to-heat conversion layer may have the same or different compositions and thicknesses.

【0116】[支持体]本発明のポジ型またはネガ型画
像記録材料の支持体としては、寸法的に安定な板状物で
あり、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートさ
れた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅
等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール等)、上記のような金属がラミネート若しくは
蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられ
る。
[Support] The support of the positive or negative image recording material of the present invention is a plate which is dimensionally stable and is, for example, paper or plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.). Paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene) , Polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which the above-mentioned metal is laminated or vapor-deposited.

【0117】好ましい支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板、及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、さらにアルミニウムがラミネート又は
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は総量で
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で支持体として用
いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜
0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4m
m、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
Preferred examples of the support include a polyester film and an aluminum plate. Among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The total content of foreign elements in the alloy is 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used as the support in the present invention is approximately 0.1 mm to
About 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 m
m, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

【0118】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界
面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用い
ることができる。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方
法がある。また、特開昭54−63902号に開示され
ているように両者を組み合わせた方法も利用することが
できる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like is performed to remove the rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating current or a direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.

【0119】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化被膜
を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用
いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によっ
て適宜決められる。
The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if necessary, in order to enhance the water retention and abrasion resistance of the surface. You. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. . The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0120】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には、電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
被膜の量は1.0g/m2 より少ないと耐膜性が不十分
であったり、非画像部に傷が付き易くなって、特に平版
印刷用原版の場合、印刷時に傷の部分にインキが付着す
る、いわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
The conditions of the anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified unconditionally.
It is appropriate that the current density is 5 to 60 A / dm2, the voltage is 1 to 100 V, and the electrolysis time is 10 seconds to 5 minutes. If the amount of the anodic oxide coating is less than 1.0 g / m2, the film resistance is insufficient or the non-image area is easily damaged. So-called "scratch dirt" is likely to occur.

【0121】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明で使用
可能な親水化処理としては、米国特許第2,714,0
66号、同第3,181,461号、同第3,280,
734号及び同第3,902,734号に開示されてい
るようなアルカリ金属シリケート(例えば、ケイ酸ナト
リウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体
がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電
解処理される。他に、特公昭36−22063号に開示
されているフッ化ジルコン酸カリウム、米国特許第3,
276,868号、同第4,153,461号、同第
4,689,272号に開示されているようなポリビニ
ルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。
After the anodic oxidation treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. U.S. Pat. No. 2,714,075 discloses a hydrophilic treatment that can be used in the present invention.
No. 66, No. 3,181,461, No. 3,280,
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluorozirconate disclosed in JP-B-36-22063, U.S. Pat.
276,868, 4,153,461, and 4,689,272, and the like, such as a method of treating with polyvinyl phosphonic acid.

【0122】[下塗層]本発明の画像記録材料において
は、必要に応じて支持体上に下塗層を設けることができ
る。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、
例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、
アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸等のアミノ
基を有するホスホン酸類;置換基を有してもよいフェニ
ルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエ
チレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸;置換基を有し
てもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリ
ン酸及びグリセロリン酸等の有機リン酸;置換基を有し
てもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン
酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸等
の有機ホスフィン酸;グリシンやβ−アラニン等のアミ
ノ酸類;及びトリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロ
キシル基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2
種以上混合して用いてもよい。また、前述したジアゾニ
ウム化合物を下塗りすることも好ましい。有機下塗層の
被覆量は、2〜200mg/m2 が適当であり、好まし
くは5〜100mg/m2 である。上記の被覆量が2m
g/m2 よりも少ないと十分な膜性が得られず、200
mg/m2 より大きくても同様である。
[Undercoat Layer] In the image recording material of the present invention, an undercoat layer can be provided on the support, if necessary. Various organic compounds are used as the undercoat layer component,
For example, carboxymethylcellulose, dextrin,
Phosphonic acids having an amino group such as gum arabic and 2-aminoethylphosphonic acid; phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid which may have a substituent Organic phosphonic acids such as acids; organic phosphoric acids such as phenylphosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid optionally having substituents; phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid optionally having substituents; Organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid; amino acids such as glycine and β-alanine; and hydrochlorides of amines having hydroxyl groups such as hydrochloride of triethanolamine.
You may mix and use more than one kind. It is also preferable to undercoat the aforementioned diazonium compound. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m2, and preferably from 5 to 100 mg / m2. The above coating amount is 2m
If it is less than g / m 2, sufficient film properties cannot be obtained, and 200
The same is true even if it is larger than mg / m2.

【0123】この有機下塗層は、次のような方法で設け
ることができる。水またはメタノール、エタノール、メ
チルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合
溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウ
ム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また、後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
で、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50
℃、さらに、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、本発明の画像記録
材料を平版印刷用原版として用いる場合には、調子再現
性改良のために黄色染料を添加することもできる。
The organic undercoat layer can be provided by the following method. A method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum plate and dried to form a water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone. This is a method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in a solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, and then washed and dried with water or the like to provide an organic undercoat layer. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.
At an immersion temperature of 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C.
° C, and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
The pH can be adjusted to a range of 1 to 12 with a basic substance such as triethylamine or potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. When the image recording material of the present invention is used as a lithographic printing plate, a yellow dye may be added for improving tone reproducibility.

【0124】[ポジ型またはネガ型画像形成材料および
平版印刷版用原版の作製]本発明のポジ型またはネガ型
画像形成材料は、これらを構成する各層の成分を溶媒に
溶かして、上記のごとき支持体上に順次塗布することに
より作製することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶
媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、1
〜50重量%であることが好ましい。塗布する方法とし
ては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録膜の
被膜特性は低下する。
[Preparation of Positive or Negative Image Forming Material and Lithographic Printing Plate Precursor] The positive or negative image forming material of the present invention is prepared by dissolving the components of each of the layers constituting the same in a solvent, as described above. It can be manufactured by sequentially applying on a support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene,
Water and the like can be mentioned, but it is not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is 1
Preferably, it is about 50% by weight. As a method of applying, various methods can be used, for example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating,
Roll coating and the like can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

【0125】以上のようにして、作製した本発明の画像
記録材料を用いて平版印刷用原版を作製することができ
る。この平版印刷版用原版は赤外線レーザで記録するこ
とができ、また紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱
的な記録も可能である。本発明においては、波長760
nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及
び半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。
本発明においては、露光後すぐに現像処理を行ってもよ
いが、露光工程と現像工程の間に加熱処理を行ってもよ
い。加熱処理をする場合その条件は、60℃〜150℃
の範囲内で5秒〜5分間行うことが好ましい。加熱方法
としては、従来公知の種々の方法を用いることができ
る。例えば、パネルヒーターやセラミックヒーターによ
り記録材料と接触しつつ加熱する方法、及びランプや温
風による非接触の加熱方法等が挙げられる。この加熱処
理により、レーザ照射時、記録に必要なレーザエネルギ
ーを減少させることができる。
As described above, a lithographic printing original plate can be produced using the produced image recording material of the present invention. This lithographic printing plate precursor can be recorded with an infrared laser, and thermal recording with an ultraviolet lamp or a thermal head is also possible. In the present invention, the wavelength 760
It is preferable that the image is exposed by a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared rays having a wavelength of from 1200 nm to 1200 nm.
In the present invention, the developing treatment may be performed immediately after the exposure, or a heat treatment may be performed between the exposure step and the developing step. When performing heat treatment, the conditions are 60 ° C to 150 ° C.
It is preferable to carry out within 5 seconds to 5 minutes. As a heating method, various conventionally known methods can be used. For example, a method of heating while contacting the recording material with a panel heater or a ceramic heater, and a non-contact heating method with a lamp or hot air are used. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.

【0126】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
の平版印刷版用原版は、好ましくは、水又はアルカリ性
水溶液にて現像される。
After performing a heat treatment as required, the lithographic printing plate precursor of the present invention is preferably developed with water or an alkaline aqueous solution.

【0127】アルカリ性水溶液を用いる場合、本発明の
平版印刷版用原版の現像液及び補充液としては従来より
知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケ
イ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、
同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
When an alkaline aqueous solution is used, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used as a developer and a replenisher for the lithographic printing plate precursor of the present invention. For example, sodium silicate, potassium potassium, tribasic sodium phosphate,
Same potassium, same ammonium, dibasic sodium phosphate,
Same potassium, same ammonium, sodium carbonate, same potassium, same ammonium, sodium hydrogen carbonate, same potassium, same ammonium, sodium borate, same potassium,
Same ammonium, sodium hydroxide, same ammonium,
And inorganic alkali salts such as the same potassium and the same lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.

【0128】これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を
組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特
に好ましい現像液の一例は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸
塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
M2 O(Mは、アルカリ金属を表す)の比率と濃度によ
って現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特
開昭54−62004号、特公昭57−7427号に記
載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用い
られる。
These alkaline agents are used alone or in combination of two or more. An example of a particularly preferable developer among these alkaline agents is an aqueous solution of a silicate such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and concentration of silicon oxide SiO2, which is a component of silicate, and alkali metal oxide M2O (M represents an alkali metal). The alkali metal silicates described in JP-A-54-62004 and JP-B-57-7427 are effectively used.

【0129】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充
液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク
中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版用原
版を処理できることが知られている。本発明においても
この補充方式が好ましく適用される。
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developing solution is added to the developing solution to replace the developing solution in the developing tank for a long time. It is known that a large number of lithographic printing plate precursors can be processed. This replenishment system is also preferably applied in the present invention.

【0130】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。
Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution, if necessary, for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. . Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Preferred organic solvents include benzyl alcohol and the like. It is also preferable to add polyethylene glycol or a derivative thereof, or polypropylene glycol or a derivative thereof.

【0131】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸または亜硫酸
水素酸のナトリウム塩およびカリウム塩等の無機塩系還
元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加
えることもできる。
Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, an inorganic salt-based reducing agent such as hydroquinone, resorcinol, sodium or potassium sulfite or bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, hard water Softeners can also be added.

【0132】このような界面活性剤、有機溶剤及び還元
剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−
77401号に記載されている、ベンジルアルコール、
アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像
液組成物、特開昭53−44202号に記載されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び
水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、
特開昭55−155355号に記載されている、水に対
する溶解度が常温において10重量%以下である有機溶
剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙
げられ、本発明においても好適に使用される。
Examples of such a developer containing a surfactant, an organic solvent and a reducing agent include, for example, those described in
Benzyl alcohol described in No. 77401,
A developer composition comprising an anionic surfactant, an alkali agent and water, comprising an aqueous solution containing benzyl alcohol, an anionic surfactant, and a water-soluble sulfite as described in JP-A-53-44202; Developer composition,
Examples thereof include a developer composition containing an organic solvent, an alkali agent, and water having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature described in JP-A-55-155355, which is also suitable for the present invention. Used for

【0133】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された平版印刷版用原版は、水洗水、界面活性剤
等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含
む不感脂化液で後処理される。本発明の平版印刷版用原
版の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて
用いることができる。
The lithographic printing plate precursor developed using the developing solution and the replenisher described above is a washing solution, a rinsing solution containing a surfactant or the like, or a desensitizing solution containing gum arabic or a starch derivative. Post-processed. As the post-processing of the lithographic printing plate precursor of the present invention, these processings can be used in various combinations.

【0134】近年、特に製版・印刷業界においては、製
版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動
現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般
に現像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装
置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの
印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処
理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するもの
である。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に
液中ガイドロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させ
て処理する方法も知られている。このような自動処理に
おいては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充
液を補充しながら処理することができる。
In recent years, especially in the plate making and printing industries, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate material, each processing solution tank, and a spray device. The developing process is performed by spraying each pumped processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method is also known in which a printing plate material is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like into a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like.

【0135】また、実質的に未使用の処理液で処理す
る、いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

【0136】上記のようにして得られた平版印刷版用原
版は、所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工
程に供することができる。より一層耐刷力を向上させる
目的でバーニング処理が施してもよい。平版印刷版用原
版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭6
1−2518号、同55−28062号、特開昭62−
31859号、同61−159655号の各公報に記載
されているような整面液で処理することが好ましい。
The lithographic printing plate precursor obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitized gum as required. Burning treatment may be performed for the purpose of further improving printing durability. When burning the lithographic printing plate precursor, before burning,
1-2518, 55-28062 and JP-A-62-2
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-A-31859 and JP-A-61-159655.

【0137】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版用原版上に塗布す
るか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗
布する方法や、自動コーターによる塗布等が適用され
る。また、塗布した後でスキージ又はスキージローラー
で、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果
を与える。整面液の塗布量は、一般に、0.03〜0.
8g/m2 (乾燥重量)が適当である。
[0137] As a method for this, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface-regulating liquid is applied on the lithographic printing plate precursor, or the printing plate is immersed in a vat filled with the surface-regulating liquid. A coating method, coating by an automatic coater, or the like is applied. Further, it is preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application. Generally, the application amount of the surface conditioning liquid is 0.03 to 0.1.
8 g / m2 (dry weight) is suitable.

【0138】整面液が塗布された平版印刷版原版は、必
要に応じて乾燥された後バーニングプロセッサー(例え
ば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニ
ングプロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱さ
れる。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成して
いる成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で
1〜20分の範囲が好ましい。
The lithographic printing plate precursor to which the surface conditioning liquid has been applied is dried, if necessary, and then heated at a high temperature using a burning processor (for example, BP-1300, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Heated. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but are preferably in the range of 180 to 300 ° C. and 1 to 20 minutes.

【0139】バーニング処理された平版印刷版用原版
は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来より行
われている処理を施こすことができるが、水溶性高分子
化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引
きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができ
る。
The lithographic printing plate precursor that has been subjected to the burning treatment can be subjected to a conventional treatment such as washing with water or gumming, if necessary, but contains a water-soluble polymer compound and the like. When a surface conditioning liquid is used, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

【0140】このような処理によって得られた平版印刷
版用原版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印
刷に用いられる。
The lithographic printing plate precursor obtained by such a process is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0141】[0141]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに制限されるものではない。実施
例1ないし3および比較例1には、ポジ型画像記録材料
およびこれを用いる平版印刷版用原版を、また、実施例
4ないし6および比較例2には、ネガ型画像記録材料お
よびこれを用いる平版印刷版用原版を示す。 実施例1 <支持体の作製>厚み0.3mmのアルミニウム板(材
質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
のアルミニウム板を45℃の25%水酸化ナトリウム水
溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さら
に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂
目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であった。次
に、このアルミニウム板を、7%硫酸を電解液として電
流密度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化被膜
を設けた後、水洗、乾燥し、さらに下記下塗り液Aを塗
布し、塗膜を90℃で1分間乾燥した。乾燥後の塗膜の
塗布量は10mg/m2 であった。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, a positive image recording material and a lithographic printing plate precursor using the same were used. In Examples 4 to 6 and Comparative Example 2, a negative image recording material and a negative image recording material were used. The planographic printing plate precursor to be used is shown. Example 1 <Preparation of Support> An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm was washed with trichlorethylene and degreased, and then its surface was grained using a nylon brush and a 400 mesh pumice-water suspension. Washed well with water. This aluminum plate was etched by immersing it in a 25% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C. for 9 seconds, washed with water, and further immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, the aluminum plate was provided with a direct current anodic oxide film of 3 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 7% sulfuric acid as an electrolytic solution, washed with water and dried, and further coated with the following undercoat solution A, The coating was dried at 90 ° C. for 1 minute. The coating amount of the dried coating film was 10 mg / m 2 .

【0142】(下塗り液Aの組成) ・β−アラニン 0.50g ・メタノール 95 g ・水 5.0 g <断熱層の形成>上記支持体上に下記の断熱層溶液を塗
設し、100℃で1分間乾燥した。断熱層の被覆量は、
乾燥後に0.01g/m2となるようにした。 フェノールホルムアルデヒドノボラック(分子量1500) 5.0g プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000g
(Composition of undercoat liquid A) 0.50 g of β-alanine 95 g of methanol 5.0 g of water <Formation of heat-insulating layer> For 1 minute. The coating amount of the heat insulation layer is
After drying, the concentration was adjusted to 0.01 g / m 2 . Phenol formaldehyde novolak (molecular weight 1500) 5.0 g Propylene glycol monomethyl ether 1000 g

【0143】<第一の光熱変換層の形成>次に、下記の
光熱変換層用塗液を回転塗布機(ホエラー)を使用して
1分間塗布し、塗布物を100℃のオーブン中で2分間
乾燥して、第一の光熱変換層を形成した。第一の光熱変
換層の被覆量は乾燥後において0.2g/m2であっ
た。 下記構造式で示される赤外線吸収性シアニン色素 0.3重量部 ポリビニルアルコール(ポバール、タイプ205、(株)クラレ製)6重量部 イソプロピルアルコール 5重量部 イオン交換水 20重量部
<Formation of First Light-to-Heat Conversion Layer> Next, the following coating liquid for a light-to-heat conversion layer was applied for 1 minute using a rotary coating machine (Wheyer), and the coating was placed in an oven at 100 ° C. for 2 minutes. After drying for 1 minute, a first light-to-heat conversion layer was formed. The coating amount of the first light-to-heat conversion layer was 0.2 g / m 2 after drying. Infrared absorbing cyanine dye represented by the following structural formula 0.3 parts by weight Polyvinyl alcohol (Poval, Type 205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 6 parts by weight Isopropyl alcohol 5 parts by weight 20 parts by weight ion-exchanged water

【0144】[0144]

【化26】 Embedded image

【0145】<ポジ型感光層の塗設>下記組成の感光層
用塗液を塗布量が1.8g/m2 になるように塗布して
感光層を形成した。 (ポジ型感光層用塗液) ・バインダー (下記共重合体P) 1.0g ・赤外線吸収剤(IR−1) 0.20g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレ ンスルホン酸アニオンにした染料 0.02g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本イン キ化学工業(株)製) 0.05g ・γ−ブチロラクトン 3.0 g ・メチルエチルケトン 8.0 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.0 g
<Coating of Positive-Type Photosensitive Layer> A coating solution for a photosensitive layer having the following composition was applied so that the coating amount was 1.8 g / m 2 to form a photosensitive layer. (Coating solution for positive photosensitive layer) Binder (the following copolymer P) 1.0 g Infrared absorber (IR-1) 0.20 g Dye 0.02 g ・ Fluorine-based surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.05 g ・ γ-butyrolactone 3.0 g ・ Methyl ethyl ketone 8.0 g ・ 1-methoxy- 2-propanol 7.0 g

【0146】[0146]

【化27】 Embedded image

【0147】(共重合体Pの合成)攪拌機、冷却管及び
滴下ロートを備えた500ml三ツ口フラスコにメタク
リル酸31.0g(0.36モル)、クロロギ酸エチル
39.1g(0.36モル)及びアセトニトリル200
mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。
この混合物にトリエチルアミン36.4g(0.36モ
ル)を約1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下
終了後、氷水浴を取り去り、室温下で30分間混合物を
攪拌した。
(Synthesis of Copolymer P) 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid, 39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 500 ml of a three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel were charged. Acetonitrile 200
ml and the mixture was stirred while cooling in an ice-water bath.
To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After completion of the dropwise addition, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

【0148】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、湯浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、得られた混合物を水1L中にこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これに水500m
lを加えてスラリーにした後、このスラリーをろ過し、
得られた固体を乾燥することによりN−(p−アミノス
ルホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得ら
れた(収量46.9g)。
To the reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in a hot water bath. After completion of the reaction, the obtained mixture was added to 1 L of water while stirring the water, and the obtained mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, and 500 m of water was added to the precipitate.
After adding slurry to obtain a slurry, the slurry is filtered,
By drying the obtained solid, a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was obtained (yield 46.9 g).

【0149】次に、攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備
えた100ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノス
ルホニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.
0210モル)、メタクリル酸エチル2.05g(0.
0180モル)、アクリロニトリル1.11g(0.0
21モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを
入れ、湯浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物にラジカル重合開始剤として、2,2’
−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(商品
名:「V−65」、和光純薬(株)製)0.15gを加
え65℃に保ちながら窒素気流下2時間混合物を攪拌し
た。この反応混合物にさらにN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミド5.04g、メタクリル
酸エチル2.05g、アクリロニトリル1.11g、
N,N−ジメチルアセトアミド20g及び上記「V−6
5」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートによ
り滴下した。滴下終了後、得られた混合物をさらに65
℃で2時間攪拌した。反応終了後、メタノール40gを
混合物に加え冷却し、得られた混合物を水2L中にこの
水を攪拌しながら投入し、30分間混合物を攪拌した
後、析出物をろ過により取り出して乾燥し、白色固体の
共重合体P15gを得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーにより、この共重合体Pの重量平均分子量
(ポリスチレン標準)を測定したところ、5.3×10
4 であった。
Next, 5.04 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
0210 mol), 2.05 g of ethyl methacrylate (0.
0180 mol), 1.11 g of acrylonitrile (0.0
21 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a water bath. 2,2 ′ as a radical polymerization initiator was added to this mixture.
0.15 g of -azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (trade name: "V-65", manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 65 ° C. To this reaction mixture, 5.04 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, 2.05 g of ethyl methacrylate, 1.11 g of acrylonitrile,
20 g of N, N-dimethylacetamide and the above “V-6”
5 ", and a mixture of 0.15 g was dropped by a dropping funnel over 2 hours. After the completion of the dropwise addition, the obtained mixture was further cooled to 65%.
Stirred at C for 2 hours. After the completion of the reaction, 40 g of methanol was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was poured into 2 L of water while stirring the mixture, and the mixture was stirred for 30 minutes. 15 g of a solid copolymer P was obtained. When the weight average molecular weight (polystyrene standard) of the copolymer P was measured by gel permeation chromatography, it was 5.3 × 10 5
Was 4 .

【0150】<第二の光熱変換層の塗設>第一の光熱変
換層と同一の塗布液を同じ条件で塗布乾燥した。
<Coating of Second Light-to-Heat Conversion Layer> The same coating solution as that for the first light-to-heat conversion layer was applied and dried under the same conditions.

【0151】実施例2 ポジ型感光層用塗液を以下の組成のものに変更する他
は、実施例1と同様にして平版印刷版用原版の作製を行
った。 <ポジ型感光層用塗液の塗設> ・バインダー (m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、 重量平均分子量3500、 未反応クレゾール0.5重量%含有)) 1.0g ・赤外線吸収剤(IR−2) 0.20g ・前記方法により合成した共重合体P 1.0 g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレ ンスルホン酸アニオンにした染料 0.02g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本イン キ化学工業(株)製) 0.05g ・γ−ブチロラクトン 3.0 g ・メチルエチルケトン 8.0 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.0 g
Example 2 A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for the positive photosensitive layer was changed to the one having the following composition. <Coating of Coating Solution for Positive Type Photosensitive Layer> Binder (m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3500, unreacted cresol 0.5% by weight)) 1.0 g・ Infrared absorber (IR-2) 0.20 g ・ Copolymer P synthesized by the above method 1.0 g ・ Dye in which the counter anion of Victoria Pure Blue BOH is changed to 1-naphthalenesulfonic acid anion 0.02 g ・ Fluorine type Surfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.05 g • γ-butyrolactone 3.0 g • Methyl ethyl ketone 8.0 g • 1-methoxy-2-propanol 7.0 g

【0152】[0152]

【化28】 Embedded image

【0153】塗布量が1.8g/m2 になるよう上記感
光液を塗布した。
The above photosensitive solution was applied so that the coating amount was 1.8 g / m 2 .

【0154】実施例3 断熱層用塗液を以下のような組成に変更する他は、実施
例1と同様にして平版印刷版用原版を作製した。 (断熱層用塗液) ・ポリ(p−ヒドロキシスチレン)(分子量 8,000) 5.0g ・プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000g
Example 3 A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition for the heat insulating layer was changed to the following composition. (Coating solution for heat insulating layer)-Poly (p-hydroxystyrene) (molecular weight 8,000) 5.0 g-Propylene glycol monomethyl ether 1000 g

【0155】比較例1 実施例1の支持体の下塗り層上に、実施例1のポジ型感
光層用塗液を、乾燥後の被覆重量が1.8g/m2 にな
るように塗布乾燥することにより平版印刷版用原版を作
製した。
Comparative Example 1 On the undercoat layer of the support of Example 1, the coating liquid for a positive photosensitive layer of Example 1 was applied and dried so that the coating weight after drying was 1.8 g / m 2. Thus, a lithographic printing plate precursor was prepared.

【0156】<感度の評価>実施例1ないし実施例3お
よび比較例1の平版印刷版用原版を、下記表1に示すよ
うに、波長840nmの半導体レーザ、または波長10
64nmのYAGレーザを用いて露光した。どちらのレ
ーザを用いるかについては、含まれる赤外線吸収染料の
吸収波長に応じて下記表1に示すように適宜選択した。
露光後、富士写真フイルム(株)製現像液DP−4、リ
ンス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機(「P
Sプロセッサー900VR」,富士写真フイルム(株)
製)を用いて現像した。現像液DP−4は、1:6で希
釈したものと1:12で希釈したものの二水準を用意し
た。
<Evaluation of Sensitivity> As shown in Table 1 below, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 were converted into a semiconductor laser having a wavelength of 840 nm or a wavelength of 10 mm.
Exposure was performed using a 64 nm YAG laser. Which laser is used was appropriately selected as shown in Table 1 below according to the absorption wavelength of the infrared absorbing dye contained therein.
After the exposure, an automatic developing machine (“P”) was charged with a developing solution DP-4 and a rinsing solution FR-3 (1: 7) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
S processor 900VR ", Fuji Photo Film Co., Ltd.
Developed using the following method. Two levels of developer DP-4 were prepared, one diluted 1: 6 and one diluted 1:12.

【0157】上記DP−4の1:6で希釈した現像液に
て得られた非画像部の線幅を測定し、その線幅に相当す
るレーザーの照射エネルギーを求め、感度の指標(mJ
/cm2 )とした。この測定値(mJ/cm2 )が小さ
いほど、平版印刷版用原版の感度が高いことを示す。表
1に示すように、実施例1ないし実施例3はいずれも測
定値が小さく感度が優れていることが分かる。これに対
し支持体の上に断熱層を設けずに直接感光層を設けた比
較例1は感度が劣る。
The line width of the non-image area obtained with the developing solution diluted 1: 6 of DP-4 was measured, the irradiation energy of the laser corresponding to the line width was determined, and the sensitivity index (mJ) was obtained.
/ Cm 2 ). The smaller the measured value (mJ / cm 2 ), the higher the sensitivity of the lithographic printing plate precursor. As shown in Table 1, it can be seen that all of Examples 1 to 3 have small measured values and excellent sensitivity. On the other hand, Comparative Example 1 in which the photosensitive layer was directly provided without providing the heat insulating layer on the support was inferior in sensitivity.

【0158】[0158]

【表1】 [Table 1]

【0159】実施例4 <支持体の作製>実施例1と同様にして下塗り層を形成
した支持体を作製した。 <断熱層の形成>上記支持体上に下記の断熱層溶液を塗
設し、100℃で1分間乾燥した。断熱層の被覆量は、
乾燥後に0.01g/m2となるようにした。 フェノールホルムアルデヒドノボラック(分子量1500) 5.0g プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000g <第一の光熱変換層の形成>次に、下記の光熱変換層用
塗液を回転塗布機(ホエラー)を使用して1分間塗布
し、塗布物を100℃のオーブン中で2分間乾燥して、
第一の光熱変換層を形成した。第一の光熱変換層の被覆
量は乾燥後において0.2g/m2であった。 下記構造式で示される赤外線吸収性シアニン色素 0.3重量部 ポリビニルアルコール(ポバール、タイプ205、(株)クラレ製)6重量部 イソプロピルアルコール 5重量部 イオン交換水 20重量部
Example 4 <Preparation of Support> A support having an undercoat layer was prepared in the same manner as in Example 1. <Formation of Heat Insulation Layer> The following heat insulation layer solution was applied on the support and dried at 100 ° C. for 1 minute. The coating amount of the heat insulation layer is
After drying, the concentration was adjusted to 0.01 g / m 2 . Phenol formaldehyde novolak (molecular weight 1500) 5.0 g Propylene glycol monomethyl ether 1000 g <Formation of first light-to-heat conversion layer> Next, the following coating solution for the light-to-heat conversion layer is applied for 1 minute using a rotary coating machine (Woeller). And drying the coating in an oven at 100 ° C. for 2 minutes,
A first light-to-heat conversion layer was formed. The coating amount of the first light-to-heat conversion layer was 0.2 g / m 2 after drying. Infrared absorbing cyanine dye represented by the following structural formula 0.3 parts by weight Polyvinyl alcohol (Poval, Type 205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 6 parts by weight Isopropyl alcohol 5 parts by weight 20 parts by weight ion-exchanged water

【0160】[0160]

【化29】 Embedded image

【0161】<ネガ型感光層の形成>以下で示すネガ型
感光層用塗液を上記光熱変換層の上に塗布後、100℃
で1分間乾燥した。乾燥後の被覆重量は1.3g/m2
であった。 (ネガ型感光層用塗布液) 酸発生剤X−2(下記構造式)・・・・・・・・・・・・・・・ 0.15g 下記式(B−1)で示される赤外線吸収剤 ・・・・・・・・・ 0.10g マルカ リンカーM S−4P(丸善石油化学社製)・・・・・ 1.5g (重量平均分子量10000) 架橋剤KZ−9(下記構造式) ・・・・・・・・・・・・・・ 0.25g 架橋剤MM−1(下記構造式) ・・・・・・・・・・・・・・ 0.25g フッ素系界面活性剤 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 0.03g (メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 15g 1−メトキシ−2−プロパノール ・・・・・・・・・・・・・・・ 10g メチルアルコール ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 5g
<Formation of Negative-Type Photosensitive Layer> A coating solution for a negative-type photosensitive layer shown below was coated on the above-mentioned photothermal conversion layer and then heated to 100 ° C.
For 1 minute. The coating weight after drying is 1.3 g / m 2
Met. (Coating solution for negative photosensitive layer) Acid generator X-2 (the following structural formula) 0.15 g Infrared absorption represented by the following formula (B-1) 0.10 g Marka Linker MS-4P (manufactured by Maruzen Petrochemical) 1.5 g (weight average molecular weight 10,000) Crosslinking agent KZ-9 (the following structural formula) 0.25 g Crosslinking agent MM-1 (Structural formula below) 0.25 g Fluorosurfactant 0.03 g (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Methyl ethyl ketone ··········· 15 g 1-methoxy-2-propanol ········· 10 g methyl alcohol ······················· 5g

【0162】[0162]

【化30】 Embedded image

【0163】[0163]

【化31】 Embedded image

【0164】[0164]

【化32】 Embedded image

【0165】<第二の光熱変換層の形成>第一の光熱変
換層と同様の条件で形成することにより、平版印刷版用
原版を作製した。
<Formation of Second Light-to-Heat Conversion Layer> A lithographic printing plate precursor was prepared under the same conditions as for the first light-to-heat conversion layer.

【0166】実施例5 ネガ型感光層用塗液に用いる赤外線吸収剤を以下の化合
物(B−2)に変更する他は、実施例4と同様にして平
版印刷版用原版を作製した。
Example 5 A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 4 except that the infrared absorbing agent used in the coating solution for the negative photosensitive layer was changed to the following compound (B-2).

【0167】[0167]

【化33】 Embedded image

【0168】実施例6 断熱層用塗液を以下のものに変更する他は実施例4と同
様にして、平版印刷版用原版を作製した。 (断熱層用塗液) ・ポリ(p−ヒドロキシスチレン)(分子量 8,000) 5.0g ・プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000g
Example 6 A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 4 except that the coating solution for the heat insulating layer was changed to the following. (Coating solution for heat insulating layer)-Poly (p-hydroxystyrene) (molecular weight 8,000) 5.0 g-Propylene glycol monomethyl ether 1000 g

【0169】比較例2 前記実施例4で使用した支持体の下塗り層の上に、実施
例4のネガ型感光層用塗液を乾燥後の被覆重量が1.3
g/m2になるように塗布乾燥して、平版印刷版用原版
を作製した。
Comparative Example 2 The coating weight after drying the coating solution for a negative photosensitive layer of Example 4 on the undercoat layer of the support used in Example 4 was 1.3.
g / m 2 and dried to prepare a lithographic printing plate precursor.

【0170】<感度の評価>実施例4ないし実施例6お
よび比較例2のネガ型の平版印刷用原版を、波長840
nm程度の赤外線を発する半導体レーザで走査露光し
た。露光後、パネルヒーターにて、110℃で15秒間
加熱処理した後、富士写真フイルム(株)製現像液、D
P−4(1:8の水希釈液)にて現像した。この際得ら
れた画像の線幅とレーザ出力、光学系でのロスおよび走
査速度を基に、記録に必要なエネルギー量を算出し、感
度を示す指標とした。表2に示すように、実施例4ない
し実施例6はいずれも測定値が小さく感度が優れている
ことが分かる。これに対し支持体の上に断熱層を設けず
に直接感光層を設けた比較例2は感度が劣る。
<Evaluation of Sensitivity> The negative type lithographic printing original plates of Examples 4 to 6 and Comparative Example 2 were treated with a wavelength of 840.
Scanning exposure was performed using a semiconductor laser emitting infrared light of about nm. After the exposure, a heat treatment was performed at 110 ° C. for 15 seconds using a panel heater, and then a developer manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
Developed with P-4 (1: 8 water dilution). At this time, the amount of energy required for recording was calculated based on the line width and laser output of the obtained image, the loss in the optical system, and the scanning speed, and used as an index indicating sensitivity. As shown in Table 2, it can be seen that all of Examples 4 to 6 have small measured values and excellent sensitivity. On the other hand, in Comparative Example 2 in which the photosensitive layer was directly provided without providing the heat insulating layer on the support, the sensitivity was poor.

【0171】[0171]

【表2】 [Table 2]

【0172】[0172]

【発明の効果】本発明の画像記録材料は、支持体の上に
断熱層を設けることにより支持体への熱拡散を抑制する
とともに、ポジ型感光層またはネガ型感光層の両側に光
熱変換層を設けることにより前記感光層の上下から熱が
加わるように構成したため、感光層において効率的に熱
を利用することが可能になり、高感度の画像記録を行う
ことが可能である。また、本発明の画像形成材料は、デ
ィジタル信号に基づき熱あるいは光、特に赤外線レーザ
により画像形成するのに適している。さらに、この画像
記録材料を用いる平版印刷版用原版は赤外線レーザを用
いるダイレクト製版用に適しており、高感度の平版印刷
版用原版が得られる。
According to the image recording material of the present invention, a heat insulating layer is provided on a support to suppress heat diffusion to the support, and a photothermal conversion layer is provided on both sides of a positive photosensitive layer or a negative photosensitive layer. Is provided so that heat is applied from above and below the photosensitive layer, so that heat can be efficiently used in the photosensitive layer, and high-sensitivity image recording can be performed. Further, the image forming material of the present invention is suitable for forming an image with heat or light, particularly an infrared laser based on a digital signal. Further, a lithographic printing plate precursor using this image recording material is suitable for direct plate making using an infrared laser, and a lithographic printing plate precursor with high sensitivity can be obtained.

フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AB03 AC08 AD01 AD03 BE00 BE07 CB17 CB29 CB45 CB52 CC11 DA40 FA10 FA17 2H114 AA06 AA15 BA01 BA05 DA23 DA34 FA15 GA05 Continued on front page F term (reference) 2H025 AA01 AB03 AC08 AD01 AD03 BE00 BE07 CB17 CB29 CB45 CB52 CC11 DA40 FA10 FA17 2H114 AA06 AA15 BA01 BA05 DA23 DA34 FA15 GA05

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体の上に、下記(a)から(d)の
層をこの順に設けたことを特徴とする画像記録材料。 (a)断熱層、(b)第一の光熱変換層、(c)水に不
溶でかつアルカリ水に可溶の高分子化合物を含有し、熱
の作用によりアルカリ水に対する溶解性が変化する層、
(d)第二の光熱変換層。
1. An image recording material comprising the following layers (a) to (d) provided in this order on a support. (A) a heat insulating layer, (b) a first light-to-heat conversion layer, (c) a layer containing a polymer compound that is insoluble in water and soluble in alkaline water, and whose solubility in alkaline water changes by the action of heat. ,
(D) a second light-to-heat conversion layer.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002365806A (en) * 2001-06-07 2002-12-18 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Fine pattern drawing material, drawing method using the same and fine pattern forming method
JP2003518264A (en) * 1999-12-22 2003-06-03 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド Thermal digital lithographic printing plate

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