JP2001053301A - Manufacture of optoelectric transducer - Google Patents

Manufacture of optoelectric transducer

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JP2001053301A
JP2001053301A JP11228518A JP22851899A JP2001053301A JP 2001053301 A JP2001053301 A JP 2001053301A JP 11228518 A JP11228518 A JP 11228518A JP 22851899 A JP22851899 A JP 22851899A JP 2001053301 A JP2001053301 A JP 2001053301A
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JP
Japan
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division
solar cell
divided
electrode layer
electrode
Prior art date
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Application number
JP11228518A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoaki Nakanishi
直明 中西
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To effectively prevent the generation of peeling among semiconductor layers and rear electrodes by previously removing the division scheduled regions of the rear electrodes corresponding to the peripheral sections of discrete optoelectric transducer after division, after the formation of the rear electrodes, sealing the rear electrode sides with a resin and conducting a division to discrete transducer. SOLUTION: Transparent electrodes 14, semiconductor layers 16 and rear electrodes 18 are formed successively on a large-sized transparent insulating substrate 12, and the division scheduled region 24 of the rear electrodes 18 is removed into prescribed width. The division predetermined region 24 of the rear electrodes 18 is positioned a division line A. A sealing resin film 22, composed of a thermoplastic resin or a thermosetting resin having superior sealing properties, is formed so as to cover integrated thin-film solar cells 20 on the transparent insulating substrate 12. Accordingly, the removed section of the rear electrodes 18 are buried by the sealing resin film 22. A solar cell module in which the thin-film solar cells are modularized is divided along the division predetermined line A, and a plurality of the solar cell modules 10, 30 having a fixed shape are obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光電変換装置の製
造方法、特に、太陽電池モジュールの製造方法に関す
る。
The present invention relates to a method for manufacturing a photoelectric conversion device, and more particularly to a method for manufacturing a solar cell module.

【0002】[0002]

【従来の技術】光電変換層として非晶質半導体層を用い
る非晶質太陽電池は、主として、ガラス基板上に透明電
極層、非晶質半導体層、および裏面電極層を順次積層
し、これらの各成膜ごとにスクライブして、複数の太陽
電池セルを形成し、これら太陽電池セルを集積化して太
陽電池モジュールとすることにより作製されている。
2. Description of the Related Art In an amorphous solar cell using an amorphous semiconductor layer as a photoelectric conversion layer, a transparent electrode layer, an amorphous semiconductor layer, and a back electrode layer are sequentially laminated on a glass substrate. A plurality of solar cells are formed by scribing for each film formation, and these solar cells are integrated to form a solar cell module.

【0003】裏面電極は一般に金属薄膜から構成されて
おり、水分等により腐蝕され易い。そのため、太陽電池
モジュールの裏面電極は樹脂で封止されている。封止樹
脂の材料としては、一般に水分等の封止性に優れたエチ
レン−酢酸ビニル共重合体(EVA)が用いられてい
る。
The back electrode is generally made of a metal thin film, and is easily corroded by moisture or the like. Therefore, the back electrode of the solar cell module is sealed with resin. As a material of the sealing resin, generally, an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) having excellent sealing properties for moisture and the like is used.

【0004】かかる構造の太陽電池モジュールについ
て、種々の形状のものが望まれる場合、通常、一枚の大
きな基板上に上述のように各膜を成膜した後、所望の形
状に複数に分割し、その後、分割された各モジュールを
樹脂で封止していた。
[0004] When solar cell modules having such a structure are desired to have various shapes, usually, after forming each film on a single large substrate as described above, the solar cell module is divided into a plurality of desired shapes. Then, each of the divided modules was sealed with a resin.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の種々の形状の太陽電池モジュールの製造方法では、
個々のモジュールへの分割に際し、特に半導体層と裏面
電極との密着性が悪いため、切断面付近において裏面電
極が半導体層から剥離してしまうという問題がある。
However, in such conventional methods for manufacturing solar cell modules of various shapes,
When dividing into individual modules, there is a problem that the back electrode is separated from the semiconductor layer in the vicinity of the cut surface, particularly since the adhesion between the semiconductor layer and the back electrode is poor.

【0006】また、種々の形状、例えば三角形等の太陽
電池モジュールが望まれる場合、分割後にそのような特
殊な形状の構造に種々の処理を施すことは、搬送等の点
で多くの問題がある。
When a solar cell module having various shapes, for example, a triangle, is desired, performing various treatments on a structure having such a special shape after division has many problems in terms of transportation and the like. .

【0007】本発明は、このような事情の下になされ、
大型基板上に形成された光電変換装置の複数の個々の装
置への分割を、半導体層と裏面電極との間で剥離を生ず
ることなく行うことを可能とする、光電変換装置の製造
方法を提供することを目的とする。
[0007] The present invention has been made under such circumstances,
Provided is a method for manufacturing a photoelectric conversion device, which can divide a photoelectric conversion device formed over a large substrate into a plurality of individual devices without causing separation between a semiconductor layer and a back electrode. The purpose is to do.

【0008】本発明の他の目的は、大型基板上に形成さ
れた光電変換装置の複数の個々の装置への分割に際し、
様々な形状の個々の光電変換装置を、容易に支障無く分
割することを可能とする、光電変換装置の製造方法を提
供することにある。
Another object of the present invention is to divide a photoelectric conversion device formed on a large substrate into a plurality of individual devices.
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a photoelectric conversion device that allows individual photoelectric conversion devices of various shapes to be easily divided without any trouble.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決するため、鋭意検討を重ねた結果、裏面電極形
成後に、分割後の個々の光電変換装置の周辺部に相当す
る、裏面電極の分割予定領域を、あらかじめ除去してお
くとともに、樹脂による裏面電極側の封止後に個々の装
置への分割を行うことにより、半導体層と裏面電極との
間で剥離が生ずることを効果的に防止し得ることを見出
した。本発明は、かかる知見に基づくものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, after forming the back electrode, they correspond to the peripheral portions of the individual photoelectric conversion devices after division. The area to be divided of the back electrode is removed in advance, and separation into individual devices is performed after sealing the back electrode side with a resin, so that separation between the semiconductor layer and the back electrode is effectively prevented. It has been found that it can be prevented. The present invention is based on such findings.

【0010】即ち、本発明は、基板上に、第1の電極
層、半導体層、および第2の電極層を順次積層する工程
と、前記第2の電極層の、複数のモジュールに分割され
る予定領域を所定の幅に除去し、前記第2の電極層をモ
ジュールごとに複数に区分する工程と、前記複数に区分
された第2の電極層の全体に封止樹脂を被覆する工程
と、前記封止樹脂が被覆された構造を、前記第2の電極
層が除去されている、前記複数のモジュールに分割され
る予定領域に沿って切断して、複数の光電変換装置モジ
ュールを形成する工程を具備することを特徴とする光電
変換装置の製造方法を提供する。
That is, according to the present invention, a step of sequentially laminating a first electrode layer, a semiconductor layer, and a second electrode layer on a substrate is performed, and the second electrode layer is divided into a plurality of modules. Removing the predetermined region to a predetermined width, dividing the second electrode layer into a plurality of units for each module, and covering the whole of the plurality of divided second electrode layers with a sealing resin, Forming a plurality of photoelectric conversion device modules by cutting the structure covered with the sealing resin along a region where the second electrode layer is removed and which is to be divided into the plurality of modules; The present invention provides a method for manufacturing a photoelectric conversion device, comprising:

【0011】以上のように構成される本発明の光電変換
装置の製造方法によると、第2の電極層の分割予定領域
があらかじめ除去されているとともに、樹脂による封止
後に個々のモジュールへの分割を行うので、分割された
断面には第2の電極層が露出しておらず、そのため、複
数のモジュールへの分割は、基板、第1の電極層、半導
体層、および封止樹脂層からなる積層体に対して行わ
れ、そのため分割に際し、個々のモジュールの周辺部に
おいて、第2の電極層が半導体層から剥離することが効
果的に防止される。
According to the method of manufacturing a photoelectric conversion device of the present invention having the above-described structure, the region to be divided of the second electrode layer is removed in advance, and the second electrode layer is divided into individual modules after sealing with resin. Is performed, the second electrode layer is not exposed in the divided cross section. Therefore, the division into a plurality of modules includes the substrate, the first electrode layer, the semiconductor layer, and the sealing resin layer. This is performed on the stacked body, and thus, at the time of division, peeling of the second electrode layer from the semiconductor layer in the peripheral portion of each module is effectively prevented.

【0012】本発明の光電変換装置の製造方法におい
て、第2の電極層に限らず、半導体層の分割予定領域
も、あらかじめ除去されていてもよい。この場合、複数
のモジュールへの分割は、基板、第1の電極層、および
封止樹脂層からなる積層体に対して行われる。
In the method of manufacturing a photoelectric conversion device according to the present invention, not only the second electrode layer but also a region to be divided of the semiconductor layer may be removed in advance. In this case, division into a plurality of modules is performed on a laminate including the substrate, the first electrode layer, and the sealing resin layer.

【0013】更に、第2の電極層および半導体層に限ら
ず、第1の電極層の分割予定領域も、あらかじめ除去さ
れていてもよい。この場合、複数のモジュールへの分割
は、基板および封止樹脂層からなる積層体に対して行わ
れる。
Further, not only the second electrode layer and the semiconductor layer, but also a region to be divided of the first electrode layer may be removed in advance. In this case, division into a plurality of modules is performed on a laminate including a substrate and a sealing resin layer.

【0014】以上説明した方法において、あらかじめ行
われる分割予定領域の除去は、次の方法により行うこと
が出来る。
In the above-described method, the removal of the scheduled division region, which is performed in advance, can be performed by the following method.

【0015】(1)レーザースクライブにより行う。レ
ーザーとしては、薄膜太陽電池の透明導電層、半導体
層、金属層などをスクライブするものが好適に用いられ
る。例えば、YAGレーザの基本波や第2高調波などが
挙げられる。
(1) This is performed by laser scribe. As the laser, one that scribes a transparent conductive layer, a semiconductor layer, a metal layer, or the like of a thin-film solar cell is preferably used. For example, a fundamental wave or a second harmonic of a YAG laser may be used.

【0016】(2)砥石やサンドペーパーを用いて行
う。これらに用いられる研削材の材料および粒径につい
ては、目的を達するためであれば特に制限はないが、材
料としては、アルミナ、カーボランダム、ガラスビー
ズ、金属粉、合成樹脂などが挙げられ、粒径としては、
10〜1000μmが好ましい。また、研削方法につい
ては、乾式、湿式のいずれを用いても差し支えない。
(2) Using a grindstone or sandpaper. The material and particle size of the abrasive used in these are not particularly limited as long as the purpose is achieved. Examples of the material include alumina, carborundum, glass beads, metal powder, and synthetic resin. As the diameter,
10 to 1000 μm is preferred. Regarding the grinding method, either a dry method or a wet method may be used.

【0017】(3)サンドブラスト処理により行う。使
用される粒子の材料および粒径については、目的を達す
るためであれば特に制限はないが、材料としては、アル
ミナ、カーボランダム、ガラスビーズ、金属粉、合成樹
脂などが挙げられ、粒径としては、10〜1000μm
が好ましい。
(3) Sandblasting is performed. The material and particle size of the particles used are not particularly limited as long as the purpose is achieved.Examples of the material include alumina, carborundum, glass beads, metal powder, and synthetic resin. Is 10 to 1000 μm
Is preferred.

【0018】(4)所定のマスクを用いたエッチングに
より行う。エッチングはウエットエッチングによっても
ドライエッチングによっても行うことが出来るが、除去
する材質に適合したエッチャントを用いる必要がある。
(4) Etching is performed using a predetermined mask. Etching can be performed by either wet etching or dry etching, but it is necessary to use an etchant suitable for the material to be removed.

【0019】以上の方法により除去される第2の電極層
等の幅は、求められる太陽電池モジュールの形状にもよ
るが、一般的には2〜20mmであることが好ましい。
The width of the second electrode layer and the like removed by the above method depends on the shape of the solar cell module required, but is generally preferably 2 to 20 mm.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図1を参照して説明する。図1は、本発明の1実施
形態に係る太陽電池モジュールの製造方法を説明するた
めの断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing a solar cell module according to one embodiment of the present invention.

【0021】本実施形態に係る太陽電池モジュールは、
次のようにして作製される。即ち、図1に示すように、
透明絶縁基板12上に、常法により、透明電極14、半
導体層16、および裏面電極18をそれぞれ所定のパタ
ーン形状に順に積層形成することにより、光電変換素子
としての薄膜太陽電池セル20が構成される。そして、
パターニングされた透明電極14と裏面電極18とが電
気的に接続されることにより、複数の薄膜太陽電池セル
20が直列又は並列に接続されて集積化され、所定の出
力特性を得るように構成された太陽電池モジュールが得
られる。
The solar cell module according to the present embodiment comprises:
It is produced as follows. That is, as shown in FIG.
A thin-film solar cell 20 as a photoelectric conversion element is formed by sequentially forming a transparent electrode 14, a semiconductor layer 16, and a back electrode 18 in a predetermined pattern on the transparent insulating substrate 12 in a usual manner. You. And
By electrically connecting the patterned transparent electrode 14 and the back surface electrode 18, a plurality of thin-film solar cells 20 are connected and integrated in series or in parallel, and are configured to obtain predetermined output characteristics. A solar cell module is obtained.

【0022】この場合、太陽電池モジュールは、様々な
形状のものが、大型の透明絶縁基板12上に複数個形成
される。図では、参照符号10および30で示されてい
る。これら太陽電池モジュール10,30は、後述する
ように、分割ラインAで分割される。
In this case, a plurality of solar cell modules of various shapes are formed on the large transparent insulating substrate 12. In the figure, they are indicated by reference numerals 10 and 30. These solar cell modules 10 and 30 are divided by division lines A as described later.

【0023】透明絶縁基板12としては、耐候性や強度
などの観点からガラス基板が好ましく用いられ、その
他、透明アクリル樹脂などからなり、且つ絶縁性を備え
た透明樹脂基板などが用いられる。また、透明絶縁基板
12は剛性を備えたものに限らず、可撓性を有するもの
であっても良く、特に限定されない。
As the transparent insulating substrate 12, a glass substrate is preferably used from the viewpoint of weather resistance and strength, and a transparent resin substrate made of a transparent acrylic resin or the like and having an insulating property is used. Further, the transparent insulating substrate 12 is not limited to a rigid one, and may be a flexible one, and is not particularly limited.

【0024】透明電極14としては、導電性及び光透過
性を有するたとえばITOやSnO 、あるいはIT
O/SnO などが用いられる。
The transparent electrode 14 has conductivity and light transmission.
For example, ITO or SnO 2 Or IT
O / SnO2 Are used.

【0025】また、光電変換を行う半導体層16として
は、非晶質シリコン、水素化非晶質シリコン、水素化非
晶質シリコンカーバイド、非晶質シリコンナイトライド
などの他、シリコンと炭素、ゲルマニウム、スズなどの
他の元素との合金から成る非晶質シリコン系半導体の非
晶質あるいは微結晶をpin型、nip型、ni型、p
n型、MIS型、ヘテロ接合型、ホモ接合型、ショット
キーバリアー型あるいはこれらを組み合わせた型などに
構成した非晶質半導体層が用いられる。
The semiconductor layer 16 for performing photoelectric conversion includes amorphous silicon, hydrogenated amorphous silicon, hydrogenated amorphous silicon carbide, amorphous silicon nitride, etc., as well as silicon and carbon, germanium. The amorphous or microcrystal of an amorphous silicon-based semiconductor composed of an alloy with another element such as tin, tin, etc.
An amorphous semiconductor layer having an n-type, MIS type, heterojunction type, homojunction type, Schottky barrier type, or a combination thereof is used.

【0026】その他、半導体層16としては、CdTe
系、CdS系、GaAs系、InP系などの化合物半導
体層などが用いられる。本発明の方法では、大型の透明
絶縁基板12上に透明電極14、半導体層16、および
裏面電極18を順次形成した後、裏面電極18の分割予
定領域24を所定の幅に除去する。裏面電極18の分割
予定領域24は、分割ラインAに沿って位置している。
In addition, the semiconductor layer 16 is made of CdTe
A compound semiconductor layer of a system, CdS, GaAs, InP, or the like is used. According to the method of the present invention, after the transparent electrode 14, the semiconductor layer 16, and the back electrode 18 are sequentially formed on the large-sized transparent insulating substrate 12, the area to be divided 24 of the back electrode 18 is removed to a predetermined width. The planned division region 24 of the back electrode 18 is located along the division line A.

【0027】裏面電極18の分割予定領域24の除去
は、既に説明したように、レーザースクライブ、砥石や
サンドペーパーを用いた方法、サンドブラスト処理、お
よび所定のマスクを用いたエッチング等により行うこと
が出来る。なお、裏面電極18としては、クロム、ニッ
ケル、アルミニウムなどが用いられる。
As described above, the removal of the region to be divided 24 of the back electrode 18 can be performed by laser scribing, a method using a grindstone or sandpaper, sandblasting, etching using a predetermined mask, or the like. . Note that chromium, nickel, aluminum, or the like is used for the back surface electrode 18.

【0028】次に、透明絶縁基板12上の集積化された
薄膜太陽電池セル20を覆うように封止性に優れた熱可
塑性樹脂または熱硬化性樹脂からなる封止樹脂膜22が
形成される。その結果、裏面電極18の除去された部分
は、封止樹脂膜22で埋められる。また、通常、更に封
止樹脂膜22上に、耐候性に優れた樹脂膜からなる裏面
カバーが被覆されている。
Next, a sealing resin film 22 made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin having excellent sealing properties is formed so as to cover the integrated thin film solar cells 20 on the transparent insulating substrate 12. . As a result, the removed portion of the back electrode 18 is filled with the sealing resin film 22. Usually, a back cover made of a resin film having excellent weather resistance is further coated on the sealing resin film 22.

【0029】以上のように構成される薄膜太陽電池セル
がモジュール化された太陽電池モジュールは、分割予定
ラインAに沿って分割され、その結果、所定の形状の複
数の太陽電池モジュール10,30が得られる。
The solar cell module in which the thin-film solar cells configured as described above are modularized is divided along the division line A, and as a result, a plurality of solar cell modules 10 and 30 having a predetermined shape are formed. can get.

【0030】分割ラインAに沿った太陽電池モジュール
の部分は、分割後の太陽電池モジュールの周辺部をな
し、その端面には、あらかじめ所定の幅で除去されてい
るため、裏面電極18は存在せず、半導体層16は、直
接、封止樹脂膜22で覆われている。そのため、分割に
際し、裏面電極18が半導体層16から剥離することは
ない。
The portion of the solar cell module along the division line A forms a peripheral portion of the divided solar cell module, and the end face thereof is removed in advance by a predetermined width, so that the back electrode 18 is not present. Instead, the semiconductor layer 16 is directly covered with the sealing resin film 22. Therefore, the back electrode 18 does not peel off from the semiconductor layer 16 during the division.

【0031】なお、分割予定ラインAに沿った複数の太
陽電池モジュールへの分割は、通常、ガラス基板、封止
樹脂膜および裏面カバーを切断できる1種以上の器具を
用いて行うことができる。ガラス基板を切断する方法と
しては、ガラス表面にダイヤモンドカッターなどで表面
に傷をつけ、その後、ガラス基板に応力を加えることな
どが挙げられる。
The division into a plurality of solar cell modules along the dividing line A can be usually performed by using one or more kinds of devices capable of cutting the glass substrate, the sealing resin film and the back cover. As a method of cutting the glass substrate, there is a method in which the surface of the glass is scratched with a diamond cutter or the like, and thereafter, a stress is applied to the glass substrate.

【0032】また、封止樹脂膜および裏面カバーを切断
する方法としては、カッターナイフにより切込みを入れ
る方法が挙げられる。これらの方法を別々に実施する場
合には、いずれを先に行っても差し支えない。
As a method of cutting the sealing resin film and the back cover, a method of making a cut with a cutter knife may be used. When these methods are performed separately, either one may be performed first.

【0033】また、切断後の太陽電池モジュールの外観
を整えるため、切断後の断面およびその近傍を、上記の
器具、或いは別の器具を用いて、切削を行うことができ
る。
Further, in order to adjust the appearance of the solar cell module after cutting, the cross section after cutting and the vicinity thereof can be cut using the above-mentioned tool or another tool.

【0034】以上、裏面電極18の分割ラインAに沿っ
た部分をあらかじめ所定の幅で除去した場合について説
明したが、本発明はこれに限らず、図2に示すように、
裏面電極18だけでなく、裏面電極18と半導体層16
の両方を、分離ラインAに沿って、あらかじめ所定の幅
で除去(図中、参照符号26で示す)した場合にも、ま
た図3に示すように、裏面電極18と半導体層16と透
明電極14を、分離ラインAに沿って、あらかじめ所定
の幅で除去(図中、参照符号28で示す)した場合に
も、同様に適用することが可能である。
The case where the portion of the back electrode 18 along the division line A is removed with a predetermined width in advance has been described. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG.
Not only the back electrode 18 but also the back electrode 18 and the semiconductor layer 16
Are removed with a predetermined width in advance along the separation line A (indicated by reference numeral 26 in the figure), and as shown in FIG. 3, the back surface electrode 18, the semiconductor layer 16, and the transparent electrode The same can be applied to the case where 14 is removed with a predetermined width in advance along the separation line A (indicated by reference numeral 28 in the figure).

【0035】また、以上、本発明に係る光電変換装置を
非晶質太陽電池モジュールを例に説明したが、本発明は
これに限らず、これまで広く普及している結晶系及び化
合物系太陽電池モジュールについても同様に適用するこ
とが可能である。
Although the photoelectric conversion device according to the present invention has been described using an amorphous solar cell module as an example, the present invention is not limited to this, and crystalline and compound solar cells which have been widely used until now. The same applies to modules.

【0036】その他、透明絶縁基板上に形成された薄膜
太陽電池セルなどの太陽電池を集積化するための接続方
法としては、特に限定されるものではなく、いかなる方
法で接続するものであっても良い。
The connection method for integrating solar cells such as thin-film solar cells formed on a transparent insulating substrate is not particularly limited, and any connection method may be used. good.

【0037】このように、本発明は、その趣旨を逸脱し
ない範囲内で、当業者の知識に基づき種々なる改良、修
正、変形を加えた態様で実施し得る。
As described above, the present invention can be embodied in various modified, modified, and modified forms based on the knowledge of those skilled in the art without departing from the spirit of the present invention.

【0038】次に、本発明を適用した非晶質太陽電池モ
ジュールについて、以下に図面を参照して具体的にその
製造方法と構成を示す。
Next, the manufacturing method and structure of the amorphous solar cell module to which the present invention is applied will be specifically described below with reference to the drawings.

【0039】[0039]

【実施例】実施例1 図2に示すように、ガラス基板12上に熱CVD法によ
り透明導電膜層14を形成し、波長1.06μmのYA
Gレーザーの基本波を用いて、短冊状に透明導電膜層1
4を電気的に分離して、透明電極14を形成した。
EXAMPLE 1 As shown in FIG. 2, a transparent conductive film layer 14 was formed on a glass substrate 12 by a thermal CVD method, and a YA having a wavelength of 1.06 μm was formed.
Using a fundamental wave of a G laser, a transparent conductive film layer 1 is formed in a strip shape.
4 was electrically separated to form a transparent electrode 14.

【0040】次いで、純水で超音波洗浄を行った後、透
明電極14が形成された面側に基板温度200℃、反応
圧力0.5〜1.0Torrにて、モノシラン、メタン
およびジボランから成る混合ガス、モノシランおよび水
素から成る混合ガス、モノシラン、水素およびホスフィ
ンから成る混合ガスを、この順序で容量結合型グロー放
電分解装置内で分解することにより、P型、I型、N型
の非晶質半導体層16を順次形成した。
Next, after performing ultrasonic cleaning with pure water, the surface on which the transparent electrode 14 is formed is made of monosilane, methane and diborane at a substrate temperature of 200 ° C. and a reaction pressure of 0.5 to 1.0 Torr. By decomposing a mixed gas, a mixed gas composed of monosilane and hydrogen, a mixed gas composed of monosilane, hydrogen and phosphine in this order in a capacitively coupled glow discharge decomposition apparatus, P-type, I-type and N-type amorphous Quality semiconductor layers 16 were sequentially formed.

【0041】次に、先ほどのレーザーによるスクライブ
線より僅かにずれた位置に、透明電極14にダメージを
与えないように、波長0.53μmのYAGレーザーの
第二高調波を用いて分離して、半導体層16を形成し
た。引き続いて、半導体層16の上に金属層18として
アルミニウムをスパッタリング法により、300nmの
厚みで形成した。
Next, at a position slightly deviated from the scribe line by the laser described above, the transparent electrode 14 is separated using a second harmonic of a YAG laser having a wavelength of 0.53 μm so as not to damage the transparent electrode 14. The semiconductor layer 16 was formed. Subsequently, aluminum was formed as the metal layer 18 on the semiconductor layer 16 to a thickness of 300 nm by a sputtering method.

【0042】更に、波長0.53μmのYAGレーザー
の第二高調波を用いて、上述のレーザーによるスクライ
ブ線より僅かにずれた位置に、透明電極14にダメージ
を与えないように、この金属層18と半導体層16を分
離して裏面電極18を形成した。
Further, using the second harmonic of the YAG laser having a wavelength of 0.53 μm, the metal layer 18 is disposed at a position slightly shifted from the scribe line by the laser so as not to damage the transparent electrode 14. And the semiconductor layer 16 were separated to form the back electrode 18.

【0043】その後、裏面電極18および半導体層16
を、#400のサンドペーパーにて、モジュール分割ラ
インAに沿って、幅10mmにわたり除去し、モジュー
ルごとに区分された集積型非晶質シリコン太陽電池10
を作製した。この場合、ガラス基板12上には、後に分
割される複数の太陽電池モジュール10,30が形成さ
れている。
Thereafter, the back electrode 18 and the semiconductor layer 16
Is removed over a width of 10 mm along the module division line A using # 400 sandpaper, and the integrated amorphous silicon solar cell 10 divided for each module is removed.
Was prepared. In this case, a plurality of solar cell modules 10 and 30 to be divided later are formed on the glass substrate 12.

【0044】以上のようにして作製された複数の集積型
非晶質シリコン太陽電池モジュール10,30の裏面電
極18側に、厚み600μmのEVA(エチレンと酢酸
ビニルの共重合体)フィルムからなる封止樹脂膜22を
全体に被せ、これを真空ラミネート方式にて加熱融着す
るとともに、厚み38μmのポリフッ化ビニル樹脂(商
品名:デドラー)(図示せず)を被着した。
On the back electrode 18 side of the plurality of integrated amorphous silicon solar cell modules 10 and 30 manufactured as described above, a 600 μm thick EVA (copolymer of ethylene and vinyl acetate) film is sealed. The resin film 22 was covered over the whole surface, and was heated and fused by a vacuum laminating method, and a polyvinyl fluoride resin (trade name: Dedler) (not shown) having a thickness of 38 μm was covered.

【0045】そして、分離ラインAのガラス基板側から
ダイヤモンドカッターにて切込み線を入れ、同じく分離
ラインAの裏面カバー側からカッターナイフにて刃先が
ガラス基板に到達するまで切込みを入れた後、ガラス基
板に応力を加えて分割し、複数の、個々の非晶質シリコ
ン太陽電池モジュール10,30を得た。
Then, a cut line is made from the glass substrate side of the separation line A with a diamond cutter, and a cut is made from the back cover side of the separation line A with a cutter knife until the cutting edge reaches the glass substrate. The substrate was divided by applying stress to obtain a plurality of individual amorphous silicon solar cell modules 10 and 30.

【0046】この分割の際には、裏面電極18の分離ラ
インAに沿った部分が所定の幅であらかじめ除去されて
いるため、切断面には裏面電極18は存在せず、そのた
め、太陽電池モジュールの端部において裏面電極18が
半導体層16から剥がれることはなかった。
At the time of this division, since the portion of the back electrode 18 along the separation line A has been removed in advance with a predetermined width, the back electrode 18 does not exist on the cut surface. The back electrode 18 was not peeled off from the semiconductor layer 16 at the end of.

【0047】以上のようにして作製された太陽電池モジ
ュール10を高温高湿試験槽(85℃/90%R.
H.)で2000時間放置したが、電気特性の低下は全
く見られなかった。
The solar cell module 10 manufactured as described above was placed in a high-temperature, high-humidity test tank (85 ° C./90% R.C.).
H. ) Was left for 2,000 hours, but no decrease in electrical characteristics was observed.

【0048】比較例 裏面電極18および半導体層16の分離ラインAに沿っ
た部分をあらかじめ除去しなかったことを除いて、実施
例1と同様にして、同一の基板上に複数の太陽電池モジ
ュールを作製し、分割ラインに沿って分割して、個々の
太陽電池モジュールを得た。
Comparative Example A plurality of solar cell modules were formed on the same substrate in the same manner as in Example 1 except that the portions of the back electrode 18 and the semiconductor layer 16 along the separation line A were not removed in advance. It was fabricated and divided along a dividing line to obtain individual solar cell modules.

【0049】その結果、太陽電池モジュールの切断面に
は、裏面電極18が露出しており、裏面電極18と半導
体層16との間で剥離が認められた。
As a result, the back electrode 18 was exposed on the cut surface of the solar cell module, and peeling was observed between the back electrode 18 and the semiconductor layer 16.

【0050】この太陽電池モジュールを高温高湿試験槽
(85℃/90%R.H.)で2000時間放置したと
ころ、電気特性の低下が見られた。
When this solar cell module was left in a high-temperature and high-humidity test tank (85 ° C./90% RH) for 2000 hours, a decrease in electric characteristics was observed.

【0051】実施例2 図3に示すように、裏面電極18と半導体層16だけで
なく、裏面電極18と半導体層16と透明電極14を、
分離ラインAに沿って、実施例1と同様に除去した(図
中、参照符号28で示す)ことを除いて、実施例1と同
様にして、同一の基板上に複数の太陽電池モジュールを
作製し、分割ラインAに沿って分割して、個々の太陽電
池モジュールを得た。
Embodiment 2 As shown in FIG. 3, not only the back electrode 18 and the semiconductor layer 16 but also the back electrode 18, the semiconductor layer 16 and the transparent electrode 14
A plurality of solar cell modules were fabricated on the same substrate in the same manner as in Example 1 except that the solar cell modules were removed along the separation line A in the same manner as in Example 1 (indicated by reference numeral 28 in the figure). Then, the solar cell module was divided along the division line A to obtain individual solar cell modules.

【0052】その結果、実施例1と同様の優れた結果を
得た。
As a result, the same excellent results as in Example 1 were obtained.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よると、第2の電極層の分割予定領域があらかじめ除去
されているとともに、樹脂による封止後に個々のモジュ
ールへの分割を行うので、分割に際し、個々のモジュー
ルの周辺部において、第2の電極層が半導体層から剥離
することが効果的に防止される。その結果、所望の形状
の複数の光電変換装置モジュールを、信頼性よく得るこ
とが可能である。
As described in detail above, according to the present invention, the area to be divided of the second electrode layer is removed in advance, and the module is divided into individual modules after sealing with resin. In the division, the second electrode layer is effectively prevented from peeling from the semiconductor layer in the peripheral portion of each module. As a result, a plurality of photoelectric conversion device modules having a desired shape can be obtained with high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る太陽電池モジュール
を示す断面図。
FIG. 1 is a sectional view showing a solar cell module according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施形態に係る太陽電池モジュー
ルを示す断面図。
FIG. 2 is a sectional view showing a solar cell module according to another embodiment of the present invention.

【図3】本発明の更に他の実施形態に係る太陽電池モジ
ュールを示す断面図。
FIG. 3 is a sectional view showing a solar cell module according to still another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,30…太陽電池モジュール 12…透明絶縁基板 14…透明電極 16…半導体層 18…裏面電極 20…薄膜太陽電池セル 22…封止樹脂膜 24,26,28…除去部 10, 30 ... solar cell module 12 ... transparent insulating substrate 14 ... transparent electrode 16 ... semiconductor layer 18 ... back surface electrode 20 ... thin film solar cell 22 ... sealing resin film 24, 26, 28 ... removal part

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に、第1の電極層、半導体層、およ
び第2の電極層を順次積層する工程と、 前記第2の電極層の、複数のモジュールに分割される予
定領域を所定の幅に除去し、前記第2の電極層をモジュ
ールごとに複数に区分する工程と、 前記複数に区分された第2の電極層の全体に封止樹脂を
被覆する工程と、 前記封止樹脂が被覆された構造を、前記第2の電極層が
除去されている、前記複数のモジュールに分割される予
定領域に沿って切断して、複数の光電変換装置モジュー
ルを形成する工程を具備することを特徴とする光電変換
装置の製造方法。
A step of sequentially laminating a first electrode layer, a semiconductor layer, and a second electrode layer on a substrate; and determining a predetermined area of the second electrode layer to be divided into a plurality of modules. Removing the second electrode layer into a plurality of sections for each module; covering the whole of the plurality of divided second electrode layers with a sealing resin; Forming a plurality of photoelectric conversion device modules by cutting the structure coated with the second electrode layer along an area to be divided into the plurality of modules, from which the second electrode layer has been removed. A method for manufacturing a photoelectric conversion device, comprising:
【請求項2】前記第2の電極層をモジュールごとに複数
に区分する工程において、前記第2の電極層だけでな
く、前記半導体層の、複数のモジュールに分割される予
定領域も所定の幅に除去され、前記第2の電極層および
半導体層がモジュールごとに複数に区分されることを特
徴とする請求項1に記載の光電変換装置の製造方法。
2. In the step of dividing the second electrode layer into a plurality of units for each module, not only the second electrode layer but also a region of the semiconductor layer which is to be divided into a plurality of modules has a predetermined width. 2. The method according to claim 1, wherein the second electrode layer and the semiconductor layer are divided into a plurality of units for each module. 3.
【請求項3】前記第2の電極層をモジュールごとに複数
に区分する工程において、前記第2の電極層だけでな
く、前記半導体層および第1の電極の、複数のモジュー
ルに分割される予定領域も所定の幅に除去され、前記第
2の電極層、半導体層、および第1の電極がモジュール
ごとに複数に区分されることを特徴とする請求項1に記
載の光電変換装置の製造方法。
3. In the step of dividing the second electrode layer into a plurality of modules for each module, the second electrode layer will be divided into a plurality of modules of the semiconductor layer and the first electrode as well as the second electrode layer. The method according to claim 1, wherein the region is also removed to a predetermined width, and the second electrode layer, the semiconductor layer, and the first electrode are divided into a plurality of units for each module. .
【請求項4】前記複数のモジュールに分割される予定領
域の所定の幅の除去は、レーザースクライブ、砥石・サ
ンドペーパーを用いた方法、サンドブラスト処理、およ
び所定のマスクを用いたエッチングからなる群から選ば
れた1種により行われることを特徴とする請求項1〜3
のいずれかの項に記載の光電変換装置の製造方法。
4. A method of removing a predetermined width of an area to be divided into a plurality of modules, the method including a step of using a laser scribe, a method using a grindstone / sandpaper, a sandblasting process, and an etching using a predetermined mask. 4. The method according to claim 1, wherein the step is performed by one selected one.
The method for manufacturing a photoelectric conversion device according to any one of the above items.
【請求項5】前記所定の幅は、2〜20mmであること
を特徴とする請求項1〜4のいずれかの項に記載の光電
変換装置の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein said predetermined width is 2 to 20 mm.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004054002A1 (en) * 2002-12-12 2004-06-24 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Solar panel and production method therefor
JP2013506990A (en) * 2009-09-30 2013-02-28 エルジー イノテック カンパニー リミテッド Photovoltaic power generation apparatus and manufacturing method thereof
WO2013054600A1 (en) * 2011-10-14 2013-04-18 日東電工株式会社 Solar cell manufacturing method and solar cell module
JP2014049507A (en) * 2012-08-29 2014-03-17 Mitsubishi Chemicals Corp Organic thin film solar battery module

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004054002A1 (en) * 2002-12-12 2004-06-24 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Solar panel and production method therefor
US7868245B2 (en) 2002-12-12 2011-01-11 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Solar panel and production method therefor
US7872193B2 (en) 2002-12-12 2011-01-18 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Solar panel and production method therefor
JP2013506990A (en) * 2009-09-30 2013-02-28 エルジー イノテック カンパニー リミテッド Photovoltaic power generation apparatus and manufacturing method thereof
WO2013054600A1 (en) * 2011-10-14 2013-04-18 日東電工株式会社 Solar cell manufacturing method and solar cell module
JP2014049507A (en) * 2012-08-29 2014-03-17 Mitsubishi Chemicals Corp Organic thin film solar battery module

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