JP2001053130A - Apparatus for carrying in and carrying out of vessel, and method of carrying in and carrying out - Google Patents

Apparatus for carrying in and carrying out of vessel, and method of carrying in and carrying out

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JP2001053130A
JP2001053130A JP22997599A JP22997599A JP2001053130A JP 2001053130 A JP2001053130 A JP 2001053130A JP 22997599 A JP22997599 A JP 22997599A JP 22997599 A JP22997599 A JP 22997599A JP 2001053130 A JP2001053130 A JP 2001053130A
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JP
Japan
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container
carrier
cleaning
unit
transferred
Prior art date
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JP22997599A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Mori
宏幸 森
Tokuhiro Yamaguchi
徳浩 山口
Masahiro Somezaki
雅裕 染崎
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for vessel-carrying in and out and a method enabling carrying in/out of vessels, housing and taking out substrates in/from the vessels successively. SOLUTION: An apparatus 2 for carrying in and out is provided with a before-cleaning side out-port 12, a before-cleaning side in-port 13, an after- cleaning side in-port 15, an after-cleaning side out-port 16, a loader/unloader part 20, a carriage arm 10 for carrying carriers C between stock parts 14, 17, 31, 32, 33 and 34. The carriage arm 10 carries the carriers C from the in-port 13 to the loader/unloader part 20 and from the loader/unloader part 20 to the out-port 12 via the stock parts 14, 31 and 32, and carries the carries C from the in-port 15 to the loader/unloader part 20 and from the loader/unloader part 20 to the out-port 16 via the stock parts 17, 33 and 34.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は,容器を搬入出する
容器の搬入出装置及びその方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a container loading / unloading device for loading and unloading containers and a method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば,半導体デバイスの製造工程で
は,基板としての半導体ウェハ(以下,「ウェハ」とい
う。)を所定の薬液や純水等の洗浄液によって洗浄し,
ウェハの表面に付着したパーティクル,有機汚染物,金
属不純物等のコンタミネーションを除去する洗浄装置が
使用されている。その中でも,ウェハを洗浄液が充填さ
れた洗浄槽内に浸漬させて洗浄処理を行うウェット型の
洗浄装置を用いた洗浄システムが広く普及している。
2. Description of the Related Art For example, in a semiconductor device manufacturing process, a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as a "wafer") as a substrate is washed with a predetermined chemical solution or a cleaning solution such as pure water.
2. Description of the Related Art A cleaning apparatus for removing contamination such as particles, organic contaminants, and metal impurities attached to the surface of a wafer is used. Among them, a cleaning system using a wet-type cleaning apparatus that performs a cleaning process by immersing a wafer in a cleaning tank filled with a cleaning liquid has been widely used.

【0003】かかる洗浄システムにおいては,工場内の
作業員やAGV(Auto Guided Vehic
le)と呼ばれるような無人搬送車によって,洗浄前の
ウェハを25枚収納したキャリアを搬入側イン・アウト
ポートを介してキャリア搬入装置に搬入させる。そし
て,例えば2個のキャリアを搬入側イン・アウトポート
からローダ部に移送して,このローダ部にて2個のキャ
リアからウェハ50枚を一括して取り出す。その後,5
0枚のウェハを,多数の洗浄装置や乾燥装置が配置され
た洗浄・乾燥処理部に搬送して,バッチ式に洗浄及び乾
燥処理するようになっている。一方,その間にウェハが
取り出されて空になったキャリアは,ローダ部から搬入
側イン・アウトポートに戻されてキャリア搬入装置から
搬出される。洗浄・乾燥処理部にて所定の洗浄及び乾燥
処理が施されたウェハWは,キャリア搬出装置のアンロ
ーダ部に搬送され予め待機していた空のキャリアに収納
されて,搬出側イン・アウトポートを介してキャリアご
と洗浄システム外に搬出される。
In such a cleaning system, a worker in a factory or an AGV (Auto Guided Vehicle) is used.
The carrier storing 25 wafers before cleaning is carried into the carrier carrying-in device via the carrying-in side in / out port by an unmanned carrier such as that shown in le). Then, for example, two carriers are transferred from the loading-side in / out port to the loader unit, and the loader unit collectively removes 50 wafers from the two carriers. Then 5
Zero wafers are conveyed to a cleaning / drying processing unit in which a large number of cleaning devices and drying devices are arranged, and the cleaning and drying processes are performed in a batch system. On the other hand, the carrier from which the wafer has been taken out and emptied during that time is returned from the loader unit to the carry-in side in / out port and carried out of the carrier carry-in device. The wafer W that has been subjected to the predetermined cleaning and drying processing in the cleaning / drying processing unit is transported to the unloader unit of the carrier unloading device and stored in an empty carrier that has been waiting in advance. The carrier is transported out of the cleaning system via the carrier.

【0004】この場合,キャリア搬入装置には,洗浄前
のウェハを25枚収納したキャリアを複数貯めておくス
トック部が設けられており,多数の洗浄装置や乾燥装置
を待機状態にさせないで,常に稼働させるようにしてい
る。即ち,前のキャリアから取り出されたウェハに対し
て,洗浄・乾燥処理部における所定の洗浄及び乾燥処理
が一通り終了するまで,次のキャリアからウェハを取り
出すことを待つのではなく,前のウェハの洗浄及び乾燥
処理の進行と重ならないように時期を図って,予めスト
ック部に貯められていた次の2個のキャリアをローダ部
に移送する。そして,このキャリアからも50枚のウェ
ハを取り出して,洗浄・乾燥処理部に搬送する。また,
キャリア搬出装置にもストック部が設けられており,洗
浄後のウェハを収納するための空のキャリアを複数貯め
ていた。こうして,50枚単位でウェハを洗浄・乾燥処
理部に次々と搬送する一方で,所定の洗浄及び乾燥処理
が施されたウェハを次々と洗浄システム外に搬出してい
た。
In this case, the carrier carry-in device is provided with a stock portion for storing a plurality of carriers accommodating 25 wafers before cleaning, so that a large number of cleaning devices and drying devices are not always in a standby state, but are always in a standby state. It is running. That is, instead of waiting for the wafer taken out from the previous carrier to take out the wafer from the next carrier until the predetermined washing and drying processing in the washing / drying processing section is completed, the previous wafer is not waited. The next two carriers previously stored in the stock unit are transferred to the loader unit at a time so as not to overlap with the progress of the washing and drying processes. Then, 50 wafers are taken out from the carrier and transferred to the cleaning / drying processing section. Also,
The carrier unloading device is also provided with a stock unit, and stores a plurality of empty carriers for storing the washed wafer. Thus, while the wafers are successively transferred to the cleaning / drying processing unit in units of 50, the wafers subjected to the predetermined cleaning and drying processing are successively carried out of the cleaning system.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら,従来の
キャリア搬入装置において,ストック部に貯められるの
は,洗浄前のウェハを収納したキャリア若しくは洗浄前
のウェハを取り出した空のキャリアのどちらか一方に限
られていた。例えば,ストック部に洗浄前のウェハを収
納したキャリアしか貯めておくことができなければ,A
GVが他のシステムにキャリアを搬送している時など
は,キャリアからウェハを取り出した後に空のキャリア
の搬出が滞ることになって,搬入側イン・アウトポート
やローダ部にキャリアが置かれたままの状態となる。こ
のように従来は,キャリア搬入装置が汎用性のない構成
であったため,ローダ部の機能を十分に発揮できなかっ
た。そして,洗浄・乾燥処理部に新たなウェハを次々と
搬入できなくなれば,洗浄システムによる洗浄が中断さ
れてしまう。さらに,ローダ部にてキャリアからウェハ
が取り出された都度,このキャリアを洗浄システム外に
搬出しようとすれば,作業員等が洗浄システムの付近に
常に待機しなければならず手間がかかった。
However, in the conventional carrier carrying-in device, what is stored in the stock portion is either the carrier containing the wafer before cleaning or the empty carrier from which the wafer before cleaning is taken out. Was limited. For example, if only the carrier containing the wafer before cleaning can be stored in the stock section,
When the GV is transporting the carrier to another system, unloading of the empty carrier is delayed after taking out the wafer from the carrier, and the carrier is placed at the loading-side in / out port or loader. It remains as it is. As described above, conventionally, the function of the loader unit cannot be sufficiently exhibited because the carrier loading device has a configuration without versatility. Then, if new wafers cannot be successively carried into the cleaning / drying processing section, the cleaning by the cleaning system is interrupted. Further, every time a wafer is taken out of the carrier by the loader unit, if the carrier is to be carried out of the cleaning system, an operator or the like must always wait near the cleaning system, which is troublesome.

【0006】従来のキャリア搬出装置も,ストック部に
貯められるのは,洗浄後のウェハを収納するための空の
キャリア若しくは洗浄後のウェハを収納したキャリアの
どちらか一方に限られていた。例えば,ストック部に洗
浄後のウェハを収納するための空のキャリアしか貯めて
おくことができなければ,AGVが他のシステムにキャ
リアを搬送している時などは,洗浄後のウェハをキャリ
アに収納した後にこのキャリアの搬出が滞ることになっ
て,搬出側イン・アウトポートやアンローダ部にキャリ
アが置かれたままの状態となる。このように従来は,キ
ャリア搬出装置が汎用性のない構成であったため,アン
ローダ部の機能を十分に発揮できなかった。そして,所
定の洗浄処理が施されたウェハを次々と洗浄システム外
に搬出できなくなれば,洗浄システムによる洗浄が中断
されてしまう。さらに,キャリア搬入装置と同様に,洗
浄後のウェハを収納したキャリアをその都度搬出しよう
とすれば,手間がかかる
[0006] In the conventional carrier unloading device as well, the storage in the stock section is limited to either an empty carrier for storing the cleaned wafer or a carrier for storing the cleaned wafer. For example, if only an empty carrier for storing the cleaned wafer can be stored in the stock section, the cleaned wafer is used as the carrier when the AGV is transporting the carrier to another system. After being stored, the unloading of the carrier is delayed, and the carrier remains in the unloading-side in / out port or unloader section. As described above, conventionally, since the carrier unloading device has a configuration that is not versatile, the function of the unloader unit cannot be sufficiently exhibited. If the wafers having been subjected to the predetermined cleaning process cannot be successively carried out of the cleaning system, the cleaning by the cleaning system is interrupted. Furthermore, as in the case of the carrier carrying-in device, it takes time and effort to carry out the carrier containing the washed wafer every time.

【0007】従って,本発明の目的は,容器の搬入出や
容器に対する基板の収納,取り出し等を連続して行うこ
とができる容器の搬入出装置及び搬入出方法を提供する
ことにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a container loading / unloading device and a loading / unloading method capable of continuously loading / unloading a container, storing / unloading a substrate from / into the container, and the like.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に,請求項1の発明は,基板を収納した容器を搬入させ
るインポートと,基板を取り出した空の容器を搬出させ
るアウトポートと,基板を容器から取り出す取り出し部
と,容器を貯めておくストック部と,これらインポー
ト,アウトポート,取り出し部及びストック部の間で容
器を移送させる移送機構とを備えることを特徴とする,
容器の搬入出装置を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, an invention according to a first aspect of the present invention is directed to an import for carrying in a container containing a substrate, an outport for carrying out an empty container from which a substrate has been taken out, A take-out unit for taking out the container from the container, a stock unit for storing the container, and a transfer mechanism for transferring the container between the import / outport, the take-out unit and the stock unit.
Provided is a container loading / unloading device.

【0009】請求項1に記載の容器の搬入出装置によれ
ば,基板を収納した容器がインポートに搬入される。こ
の搬入は,例えば作業員や適当な容器搬送装置によって
行われる。こうして,インポートに搬入された容器は,
移送機構によってインポートからストック部に移送され
る。この場合,取り出し部に容器がない状態であれば,
インポートから取り出し部に容器が移送されることもあ
る。これにより,インポートには容器がない状態となる
ので,基板を収納した次の容器をインポートに続けて搬
入することが可能となる。そして,基板を収納した次の
容器がインポートに搬入されると,その容器は,先と同
様に移送機構によってインポートからストック部もしく
は取り出し部に移送される。そして,基板を収納した容
器が,移送機構によってインポートもしくはストック部
から取り出し部に移送されると,その後,取り出し部に
おいて基板が容器から取り出される。こうして,容器か
ら取り出された基板は,その後,適当な処理部に搬入さ
れ,基板に対して所定の処理が施される。
According to the container loading / unloading device of the first aspect, the container storing the substrates is loaded into the import. This loading is performed by, for example, an operator or a suitable container transport device. Thus, the containers brought into the import
It is transferred from the import to the stock section by the transfer mechanism. In this case, if there is no container at the take-out part,
Containers may be transferred from the import to the removal station. As a result, there is no container in the import, so that the next container storing the substrates can be carried in after the import. Then, when the next container storing the substrates is carried into the import, the container is transferred from the import to the stock unit or the take-out unit by the transfer mechanism as described above. Then, when the container storing the substrates is transferred by the transfer mechanism from the import or stock unit to the take-out unit, the substrates are thereafter taken out of the container at the take-out unit. Thus, the substrate taken out of the container is then carried into an appropriate processing section, where a predetermined process is performed on the substrate.

【0010】取り出し部において基板が取り出されて空
となった容器は,移送機構によって取り出し部からスト
ック部に移送される。この場合,アウトポートに容器が
ない状態であれば,取り出し部からアウトポートに容器
を移送しても良い。これにより,取り出し部には容器が
ない状態となるので,基板を収納した次の容器をインポ
ートもしくはストック部から取り出し部に続けて移送す
ることが可能となる。そして,基板を収納した次の容器
が取り出し部に移送されると,先と同様に取り出し部に
おいて基板が容器から取り出される。そして,基板を取
り出した空の容器が,移送機構によって取り出し部もし
くはストック部からアウトポートに移送さると,その
後,基板を取り出した空の容器がアウトポートから搬出
される。この搬出は例えば作業員や適当な容器搬送装置
によって行われる。これにより,アウトポートには容器
がない状態となるので,基板を取り出した次の空の容器
を移送機構によって取り出し部もしくはストック部から
アウトポートに続けて移送することが可能となる。そし
て,基板を取り出した次の空の容器が,移送機構によっ
てアウトポートに移送されると,その容器は,先と同様
に搬出される。
The empty container after the substrate is taken out of the take-out unit is transferred from the take-out unit to the stock unit by the transfer mechanism. In this case, if there is no container at the outport, the container may be transferred from the take-out unit to the outport. As a result, since there is no container in the take-out unit, the next container containing the substrate can be transferred from the import or stock unit to the take-out unit. Then, when the next container storing the substrate is transferred to the take-out unit, the substrate is taken out of the container at the take-out unit as before. Then, when the empty container from which the substrate has been taken out is transferred by the transfer mechanism from the take-out portion or the stock portion to the outport, the empty container from which the substrate has been taken out is then carried out from the outport. The unloading is performed by, for example, an operator or a suitable container transport device. As a result, since there is no container in the outport, the next empty container from which the substrate has been taken out can be continuously transferred from the take-out part or stock part to the outport by the transfer mechanism. Then, when the next empty container from which the substrate has been taken out is transferred to the outport by the transfer mechanism, the container is unloaded as before.

【0011】請求項1に記載の搬入出装置にあっては,
このように,インポートから取り出し部への容器の移送
及び/又は取り出し部からアウトポートへの容器の移送
が,容器を貯めるストック部を介して行われるので,基
板を収納した容器の搬入,容器からの基板の取り出し,
基板を取り出した空の容器の搬出を連続的に行うことが
できる。従って,基板を適当な処理部等に次々と搬入す
ることができ,基板の処理を連続的に行うことができ
る。さらに,作業員や容器搬送装置が次の容器をインポ
ートに搬入する際に,アウトポートやストック部に待機
させていた空の容器の搬出も一緒に行うようにすれば,
基板を収納した容器の搬入及び基板を取り出された空の
容器の搬出をまとめて行うことができる。従って,容器
の搬入出を効率的に行うことができる。
In the loading / unloading device according to the first aspect,
As described above, since the transfer of the container from the import unit to the unloading unit and / or the transfer of the container from the unloading unit to the outport is performed through the stock unit for storing the container, the transfer of the container storing the substrate and the transfer from the container are performed. Take out the substrate,
The empty container from which the substrate has been taken out can be continuously carried out. Therefore, the substrates can be successively carried into an appropriate processing section or the like, and the processing of the substrates can be performed continuously. In addition, when workers and container transporters carry in the next container for import, the empty containers that had been waiting in the outport or stock section should also be unloaded.
It is possible to collectively carry in the container containing the substrate and carry out the empty container from which the substrate has been taken out. Therefore, the loading and unloading of the container can be performed efficiently.

【0012】請求項2の発明は,基板を収納するための
空の容器を搬入させるインポートと,基板を収納した容
器を搬出させるアウトポートと,基板を容器に収納させ
る収納部と,容器を貯めておくストック部と,これらイ
ンポート,アウトポート,収納部及びストック部の間で
容器を移送させる移送機構とを備えることを特徴とす
る,容器の搬入出装置を提供する。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an import for carrying in an empty container for accommodating a substrate, an outport for carrying out a container accommodating a substrate, a storage unit for accommodating a substrate in a container, and a storage unit for accommodating a container. And a transfer mechanism for transferring the container between the import / outport, the storage unit and the stock unit.

【0013】請求項2に記載の容器の搬入出方法によれ
ば,基板を収納するための空の容器が処理後側インポー
トに搬入される。この搬入は,例えば作業員や適当な容
器搬送装置によって行われる。こうして,インポートに
搬入された容器は,移送機構によってインポートからス
トック部に移送される。この場合,収納部に容器がない
状態であれば,インポートから収納部に容器が移送され
ることもある。これにより,インポートには容器がない
状態となるので,基板を収納するための次の空の容器を
インポートに続けて搬入することが可能となる。そし
て,基板を収納するための次の空の容器がインポートに
搬入されると,その容器は,先と同様に移送機構によっ
てインポートからストック部もしくは取り出し収納部に
移送される。そして,基板を収納するための空の容器
が,移送機構によってインポートもしくはストック部か
ら収納部に移送されると,その後,既に所定の処理を終
了した基板が収納部において容器に収納される。こうし
て,基板を収納した容器は,移送機構によって収納部か
らストック部に移送される。この場合,アウトポートに
容器がない状態であれば,収納部からアウトポートに容
器を移送しても良い。これにより,収納部には容器がな
い状態となるので,基板を収納するための次の空の容器
を収納部に続けて搬入することが可能となる。
According to the container loading / unloading method of the present invention, an empty container for storing a substrate is loaded into the post-processing import. This loading is performed by, for example, an operator or a suitable container transport device. Thus, the containers carried into the import are transferred from the import to the stock unit by the transfer mechanism. In this case, if there is no container in the storage unit, the container may be transferred from the import to the storage unit. As a result, since there is no container in the import, it is possible to carry in the next empty container for storing the substrate following the import. Then, when the next empty container for storing the substrate is carried into the import, the container is transferred from the import to the stock unit or the take-out storage unit by the transfer mechanism in the same manner as described above. Then, when an empty container for storing the substrate is transferred from the import or stock unit to the storage unit by the transfer mechanism, the substrate that has already been subjected to the predetermined processing is stored in the container in the storage unit. Thus, the container storing the substrates is transferred from the storage section to the stock section by the transfer mechanism. In this case, if there is no container at the outport, the container may be transferred from the storage section to the outport. As a result, there is no container in the storage section, so that the next empty container for storing the substrate can be carried into the storage section continuously.

【0014】そして,基板を収納するための次の空の容
器が収納部に移送されると,先と同様に,既に所定の処
理を終了した基板が収納部において容器に収納される。
こうして,基板を収納した容器は,先と同様に移送機構
によって収納部からストック部もしくはアウトポートに
移送される。そして,基板を収納した容器がアウトポー
トから搬出される。この搬出は例えば作業員や適当な容
器搬送装置によって行われる。これにより,アウトポー
トには容器がない状態となるので,基板を収納した次の
容器を移送機構によって収納部もしくはストック部から
アウトポートに続けて移送することが可能となる。そし
て,基板を収納した次の空の容器が,移送機構によって
アウトポートに移送されると,その容器は,先と同様に
搬出される。
Then, when the next empty container for storing the substrate is transferred to the storage unit, the substrate, which has been subjected to the predetermined processing, is stored in the container in the storage unit, as described above.
In this way, the container storing the substrate is transferred from the storage unit to the stock unit or the outport by the transfer mechanism as described above. Then, the container storing the substrate is carried out from the out port. The unloading is performed by, for example, an operator or a suitable container transport device. As a result, since there is no container in the outport, the next container storing the substrate can be transferred from the storage unit or the stock unit to the outport by the transfer mechanism. Then, when the next empty container storing the substrate is transferred to the outport by the transfer mechanism, the container is unloaded as before.

【0015】請求項2に記載の搬入出装置にあっては,
このように,インポートから収納部への容器の移送及び
/又は収納部からアウトポートへの容器の移送が,容器
を貯めるストック部を介して行われるので,基板を収納
するための空の容器の搬入,容器への基板の収納,基板
を収納した容器の搬出を連続的に行うことができる。従
って,基板を適当な処理部等から次々と搬出することが
でき,基板の処理を連続的に行うことができる。さら
に,作業員や容器搬送装置が次の容器をインポートに搬
入する際に,アウトポートやストック部に待機させてい
た容器の搬出も一緒に行うようにすれば,基板を収納す
るための空の容器の搬入及び基板を収納した容器の搬出
をまとめて行うことができる。従って,容器の搬入出を
効率的に行うことができる。
In the loading / unloading device according to the second aspect,
As described above, since the transfer of the container from the import to the storage unit and / or the transfer of the container from the storage unit to the outport is performed through the stock unit that stores the container, the empty container for storing the substrate is stored. Loading, storage of the substrate in the container, and unloading of the container storing the substrate can be performed continuously. Therefore, the substrates can be unloaded one after another from an appropriate processing unit or the like, and the processing of the substrates can be performed continuously. Furthermore, when a worker or a container transporter carries in the next container for import, the container that has been waiting in the outport or the stock unit is also unloaded. The loading of the container and the unloading of the container storing the substrate can be performed at a time. Therefore, the loading and unloading of the container can be performed efficiently.

【0016】請求項3の発明は,処理前の基板を収納し
た容器を搬入させる処理前側インポートと,処理前の基
板を取り出した空の容器を搬出させる処理前側アウトポ
ートと,処理後の基板を収納するための空の容器を搬入
させる処理後側インポートと,処理後の基板を収納した
容器を搬出させる処理後側アウトポートと,処理前の基
板を容器から取り出すと共に処理後の基板を容器に収納
させる取り出し収納部と,容器を貯めておくストック部
と,これら処理前側インポート,処理前側アウトポー
ト,処理後側インポート,処理後側アウトポート,取り
出し収納部及びストック部の間で容器を移送させる移送
機構とを備えることを特徴とする,容器の搬入出装置を
提供する。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a pre-processing side import for carrying in a container containing a substrate before processing, a pre-processing side out port for carrying out an empty container from which a substrate before processing is taken out, and a post-processing side out port. Post-processing import for loading empty containers for storage, post-processing out-port for unloading containers containing processed substrates, and unprocessed substrates out of the containers and post-processed substrates in containers A container to be taken out and a stocking part to store the container, and a container to be transferred between the pre-processing side import, the pre-processing side outport, the post-processing side import, the post-processing side outport, the taking-out storage part and the stocking part. A transfer device for a container, comprising: a transfer mechanism.

【0017】請求項3に記載の容器の搬入出装置によれ
ば,処理前の基板を収納した容器が処理前側インポート
に搬入される。この搬入は,例えば作業員や適当な容器
搬送装置によって行われる。こうして,処理前側インポ
ートに搬入された容器は,移送機構によって処理前側イ
ンポートからストック部に移送される。この場合,取り
出し収納部に容器がない状態であれば,処理前側インポ
ートから取り出し収納部に容器が移送されることもあ
る。これにより,処理前側インポートには容器がない状
態となるので,処理前の基板を収納した次の容器を処理
前側インポートに続けて搬入することが可能となる。そ
して,処理前の基板を収納した次の容器が処理前側イン
ポートに搬入されると,その容器は,先と同様に移送機
構によって処理前側インポートからストック部もしくは
取り出し収納部に移送される。そして,処理前の基板を
収納した容器が,移送機構によって処理前側インポート
もしくはストック部から取り出し収納部に移送される
と,その後,取り出し収納部において処理前の基板が容
器から取り出される。こうして,容器から取り出された
基板は,その後,適当な処理部に搬入され,基板に対し
て所定の処理が施される。
According to the container loading / unloading device of the third aspect, the container storing the substrate before processing is loaded into the pre-processing side import. This loading is performed by, for example, an operator or a suitable container transport device. In this way, the container carried into the pre-processing import is transferred from the pre-processing import to the stock unit by the transfer mechanism. In this case, if there is no container in the removal storage unit, the container may be transferred from the pre-processing side import to the removal storage unit. As a result, there is no container in the pre-processing side import, so that the next container storing the substrate before processing can be carried in following the pre-processing side import. Then, when the next container storing the substrate before processing is carried into the pre-processing side import, the container is transferred from the pre-processing side import to the stock unit or the take-out storage unit by the transfer mechanism as before. Then, when the container storing the substrate before processing is removed from the pre-processing side import or stock unit by the transfer mechanism and transferred to the storage unit, the substrate before processing is removed from the container in the removal storage unit. Thus, the substrate taken out of the container is then carried into an appropriate processing section, where a predetermined process is performed on the substrate.

【0018】取り出し収納部において処理前の基板が取
り出されて空となった容器は,移送機構によって取り出
し収納部からストック部に移送される。この場合,処理
前側アウトポートに容器がない状態であれば,取り出し
収納部から処理前側アウトポートに容器を移送しても良
い。これにより,取り出し収納部には容器がない状態と
なるので,処理前の基板を収納した次の容器を処理前側
インポートもしくはストック部から取り出し収納部に続
けて移送することが可能となる。そして,処理前の基板
を収納した次の容器が取り出し収納部に移送されると,
先と同様に取り出し収納部において処理前の基板が容器
から取り出される。こうして,容器から取り出された基
板は,先と同様に,適当な処理部に搬入されて処理され
る。そして,処理前の基板を取り出した空の容器が,移
送機構によって取り出し収納部もしくはストック部から
処理前側アウトポートに移送されると,その後,処理前
の基板を取り出した空の容器が処理前側アウトポートか
ら搬出される。この搬出は例えば作業員や適当な容器搬
送装置によって行われる。これにより,処理前側アウト
ポートには容器がない状態となるので,処理前の基板を
取り出した次の空の容器を移送機構によって取り出し収
納部もしくはストック部から処理前側アウトポートに続
けて移送することが可能となる。そして,処理前の基板
を取り出した次の空の容器が,移送機構によって処理前
側アウトポートに移送されると,その容器は,先と同様
に搬出される。
The empty container after the substrate before processing is taken out from the take-out storage unit is transferred from the take-out storage unit to the stock unit by the transfer mechanism. In this case, if there is no container in the pre-processing outport, the container may be transferred from the take-out storage unit to the pre-processing outport. As a result, since there is no container in the unloading and storing unit, the next container storing the unprocessed substrate can be transferred from the pre-processing side import or stock unit to the unloading and storing unit. Then, when the next container containing the substrate before processing is taken out and transferred to the storage unit,
As before, the unprocessed substrate is taken out of the container in the take-out storage unit. In this manner, the substrate taken out of the container is carried into an appropriate processing unit and processed as described above. Then, when the empty container from which the substrate before processing is taken out is transferred by the transfer mechanism from the take-out storage unit or the stock unit to the pre-processing side out port, the empty container from which the substrate before processing is taken out is taken out. Removed from port. The unloading is performed by, for example, an operator or a suitable container transport device. As a result, there is no container in the pre-processing side outport, so the next empty container from which the substrate before processing has been taken out is taken out by the transfer mechanism and is continuously transferred from the storage unit or the stock unit to the pre-processing side outport. Becomes possible. Then, when the next empty container from which the substrate before processing has been taken out is transferred to the pre-processing-side outport by the transfer mechanism, the container is unloaded as before.

【0019】一方,処理後の基板を収納するための空の
容器が処理後側インポートに搬入される。この搬入は,
例えば作業員や適当な容器搬送装置によって行われる。
こうして,処理後側インポートに搬入された容器は,移
送機構によって処理後側インポートからストック部に移
送される。この場合,取り出し収納部に容器がない状態
であれば,処理後側インポートから取り出し収納部に容
器が移送されることもある。これにより,処理後側イン
ポートには容器がない状態となるので,処理後の基板を
収納するための次の空の容器を処理後側インポートに続
けて搬入することが可能となる。そして,処理後の基板
を収納するための次の空の容器が処理後側インポートに
搬入されると,その容器は,先と同様に移送機構によっ
て処理後側インポートからストック部もしくは取り出し
収納部に移送される。そして,処理後の基板を収納する
ための空の容器が,移送機構によって処理後側インポー
トもしくはストック部から取り出し収納部に移送される
と,その後,既に所定の処理を終了した基板が取り出し
収納部において容器に収納される。こうして,処理後の
基板を収納した容器は,移送機構によって取り出し収納
部からストック部に移送される。この場合,処理後側ア
ウトポートに容器がない状態であれば,取り出し収納部
から処理後側アウトポートに容器を移送しても良い。こ
れにより,取り出し収納部には容器がない状態となるの
で,処理後の基板を収納するための次の空の容器を取り
出し収納部に続けて移送することが可能となる。
On the other hand, an empty container for storing the processed substrate is carried into the post-processing import. This import is
For example, it is performed by a worker or an appropriate container transport device.
In this manner, the container carried into the post-processing import is transferred from the post-processing import to the stock unit by the transfer mechanism. In this case, if there is no container in the removal storage unit, the container may be transferred from the post-processing side import to the removal storage unit. As a result, since there is no container in the post-processing side import, it is possible to carry in the next empty container for storing the processed substrate following the post-processing side import. Then, when the next empty container for storing the processed substrate is carried into the post-processing side import, the container is transferred from the post-processing side import to the stock unit or the take-out storage unit by the transfer mechanism as before. Be transported. Then, when the empty container for storing the processed substrate is removed from the post-processing side import or stock unit by the transfer mechanism and transferred to the storage unit, then the substrate that has been subjected to the predetermined processing is removed from the storage unit. In the container. Thus, the container storing the processed substrate is taken out by the transfer mechanism and transferred from the storage section to the stock section. In this case, if there is no container in the post-processing outport, the container may be transferred from the take-out storage unit to the post-processing outport. As a result, since there is no container in the take-out storage unit, the next empty container for storing the processed substrate can be transferred to the take-out storage unit continuously.

【0020】そして,処理後の基板を収納するための次
の空の容器が取り出し収納部に移送されると,先と同様
に,既に所定の処理を終了した基板が取り出し収納部に
おいて容器に収納される。こうして,処理後の基板を収
納した容器は,先と同様に移送機構によって取り出し収
納部からストック部もしくは処理後側アウトポートに移
送される。そして,処理後の基板を収納した容器が処理
後側アウトポートから搬出される。この搬出は例えば作
業員や適当な容器搬送装置によって行われる。これによ
り,処理後側アウトポートには容器がない状態となるの
で,処理後の基板を収納した次の容器を移送機構によっ
て取り出し収納部もしくはストック部から処理後側アウ
トポートに続けて移送することが可能となる。そして,
処理後の基板を収納した次の空の容器が,移送機構によ
って処理後側アウトポートに移送されると,その容器
は,先と同様に搬出される。
Then, when the next empty container for storing the processed substrate is transferred to the take-out and storage section, the substrate, which has been subjected to the predetermined processing, is stored in the container in the take-out storage section, as before. Is done. In this manner, the container storing the processed substrate is taken out from the storage unit and transferred to the stock unit or the post-processing side outport by the transfer mechanism as described above. Then, the container storing the processed substrate is carried out from the post-process side out port. The unloading is performed by, for example, an operator or a suitable container transport device. As a result, there is no container in the post-processed outport, and the next container containing the processed substrate is taken out by the transfer mechanism and is continuously transferred from the storage unit or the stock unit to the post-processed outport. Becomes possible. And
When the next empty container storing the processed substrate is transferred to the post-processing-side outport by the transfer mechanism, the container is unloaded as before.

【0021】請求項3に記載の搬入出装置にあっては,
このように,処理前側インポートから取り出し収納部へ
の容器の移送,取り出し収納部から処理後側アウトポー
トへの容器の移送,処理後側インポートから取り出し収
納部への容器の移送及び/又は取り出し収納部から処理
後側アウトポートへの容器の移送が,容器を貯めておく
ストック部を介して行われるので,処理前の基板を収納
した容器の搬入,容器からの処理前の基板の取り出し,
処理前の基板を取り出した空の容器の搬出,処理後の基
板を収納するための空の容器の搬入,容器への処理後の
基板の収納,処理後の基板を収納した容器の搬出を連続
的に行うことができる。従って,処理前の基板を適当な
処理部等に次々と搬入することができると共に,処理後
の基板を適当な処理部等から次々と搬出することがで
き,基板の処理を連続的に行うことができる。
In the loading / unloading device according to the third aspect,
Thus, transfer of containers from the pre-processing import to the removal storage unit, transfer of containers from the removal storage unit to the post-processing outport, transfer of containers from the post-processing import to the removal storage unit, and / or removal and storage. The transfer of the container from the section to the post-processing out port is performed through the stock section for storing the container, so that the container containing the substrate before processing is loaded, the substrate before processing is removed from the container,
Unloading an empty container from which a substrate before processing is taken out, loading an empty container to store the processed substrate, storing the substrate in the container after processing, and unloading the container storing the processed substrate. Can be done Therefore, the substrates before processing can be successively carried into an appropriate processing unit and the like, and the substrates after processing can be unloaded one after another from the appropriate processing unit and the like. Can be.

【0022】さらに,作業員や容器搬送装置が次の容器
を処理前側インポートに搬入する際に,処理前側アウト
ポートやストック部に待機させていた空の容器の搬出も
一緒に行うようにすれば,処理前の基板を収納した容器
の搬入及び処理前の基板を取り出した空の容器の搬出を
まとめて行うことができる。また,同様に空の容器を処
理後側インポートに搬入する際に,処理後側アウトポー
トやストック部に待機させていた容器の搬出も一緒に行
うようにすれば,処理後の基板を収納するための空の容
器の搬入及び処理後の基板を収納した容器の搬出をまと
めて行うことができる。従って,容器の搬入出を効率的
に行うことができる。
Further, when a worker or a container transporting apparatus carries in the next container to the pre-processing side import, the empty container which has been waiting in the pre-processing side out port or the stock unit is also unloaded. In addition, it is possible to collectively carry in a container containing a substrate before processing and carry out an empty container from which a substrate before processing is taken out. Similarly, when carrying an empty container into the post-processing side import, if the post-processing side outport or the container that has been waiting in the stock unit is also carried out, the processed substrate is stored. For emptying the container and unloading of the container storing the processed substrate can be performed collectively. Therefore, the loading and unloading of the container can be performed efficiently.

【0023】請求項1,2,3の容器の搬入出装置にお
いて,請求項4に記載したように,前記ストック部は複
数の容器を貯めておくことが可能であってもよい。かか
る構成によれば,ストック部に複数の容器を貯めておく
ことができるので,ある程度まとまった個数の容器を搬
入出装置に対して一度に搬入出することができる。従っ
て,容器の搬入出をより一層効率的に行うことができ
る。
In the container loading / unloading device according to the first, second, and third aspects, the stock unit may be capable of storing a plurality of containers. According to this configuration, since a plurality of containers can be stored in the stock unit, a certain number of containers can be carried in and out of the carrying-in / out device at a time. Therefore, the loading and unloading of the container can be performed more efficiently.

【0024】請求項5の発明は,基板を収納した容器を
搬入用のインポートから取り出し部に移送して,取り出
し部において基板を容器から取り出すと共に,基板を取
り出した空の容器を搬出用のアウトポートに移送する方
法であって,前記インポートから取り出し部への容器の
移送及び/又は前記取り出し部からアウトポートへの容
器の移送を,容器を貯めておくストック部を介して行う
ことを特徴とする,容器の搬入出方法を提供する。
According to a fifth aspect of the present invention, a container accommodating a substrate is transferred from a carry-in import to a take-out unit, the substrate is taken out of the container at the take-out unit, and an empty container from which the substrate is taken out is taken out. A method of transferring a container from the import to a take-out unit and / or transferring a container from the take-out unit to an out port via a stock unit for storing the container. Provide a method for loading and unloading containers.

【0025】請求項6の発明は,基板を収納するための
空の容器を搬入用のインポートから収納部に移送して,
収納部において基板を容器に収納すると共に,基板を収
納した容器を搬出用のアウトポートに移送する方法であ
って,前記インポートから収納部への容器の移送及び/
又は前記収納部からアウトポートへの容器の移送を,容
器を貯めておくストック部を介して行うことを特徴とす
る,容器の搬入出方法を提供する。
According to a sixth aspect of the present invention, an empty container for storing a substrate is transferred from a carry-in import to a storage unit,
A method of storing a substrate in a container in a storage unit and transferring the container storing the substrate to an outport for unloading, wherein the container is transferred from the import to the storage unit and / or
Alternatively, there is provided a method for carrying in / out a container, wherein the transfer of the container from the storage section to the outport is performed through a stock section for storing the container.

【0026】請求項7の発明は,処理前の基板を収納し
た容器を搬入用の処理前側インポートから取り出し収納
部に移送して,取り出し収納部において処理前の基板を
容器から取り出すと共に,処理前の基板を取り出した空
の容器を搬出用の処理前用アウトポートに移送し,一
方,処理後の基板を収納するための空の容器を搬入用の
処理後側インポートから取り出し収納部に移送して,取
り出し収納部において処理後の基板を容器に収納すると
共に,処理後の基板を収納した容器を搬出用の処理後側
アウトポートに移送する方法であって,前記処理前側イ
ンポートから取り出し収納部への容器の移送,前記取り
出し収納部から処理後側アウトポートへの容器の移送,
前記処理後側インポートから取り出し収納部への容器の
移送及び/又は前記取り出し収納部から処理後側アウト
ポートへの容器の移送を,容器を貯めておくストック部
を介して行うことを特徴とする,容器の搬入出方法を提
供する。
According to a seventh aspect of the present invention, a container accommodating a substrate before processing is taken out of the pre-processing side import for carrying in, taken out and transferred to the accommodating section. The empty container from which the substrate has been removed is transferred to the pre-processing outport for unloading, while the empty container for storing the processed substrate is transferred from the post-processing import for unloading to the unloading storage unit. And storing the processed substrate in a container in the unloading and storing unit, and transferring the container storing the processed substrate to a post-processing out port for unloading. Transfer of the container from the take-out and storage section to the post-processing side outport,
The transfer of the container from the post-import side to the take-out storage unit and / or the transfer of the container from the take-out storage unit to the post-processing out port is performed via a stock unit for storing the container. , Provides a method for loading and unloading containers.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下,本発明の実施の形態を,基
板の一例としてウェハWを洗浄する洗浄システムに基づ
いて説明する。図1は,洗浄システム1の平面図であ
り,図2は,その側面図である。なお,この洗浄システ
ム1は,キャリアC単位でウェハWを搬入し,複数枚の
ウェハWの洗浄,乾燥をバッチ式にまとめて行い,キャ
リアC単位でウェハWの搬出をするように構成されてい
る。なお,キャリアCは,複数枚のウェハWを等間隔で
平行に配列させた状態で保持するようになっている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described based on a cleaning system for cleaning a wafer W as an example of a substrate. FIG. 1 is a plan view of the cleaning system 1, and FIG. 2 is a side view thereof. The cleaning system 1 is configured to carry in the wafer W in units of the carrier C, perform cleaning and drying of a plurality of wafers W in a batch manner, and carry out the wafer W in units of the carrier C. I have. The carrier C is configured to hold a plurality of wafers W arranged in parallel at equal intervals.

【0028】この洗浄システム1には,キャリアCを搬
入出する搬入出装置2と,ウェハWに対して所定の洗浄
及び乾燥処理を行う洗浄・乾燥処理部3と,搬入出装置
2と洗浄・乾燥処理部3との間でウェハWを搬送する搬
送アーム4とが備えられている。
The cleaning system 1 includes a loading / unloading device 2 for loading / unloading the carrier C, a cleaning / drying processing unit 3 for performing a predetermined cleaning and drying process on the wafer W, and a loading / unloading device 2 for cleaning / drying. A transfer arm 4 for transferring the wafer W to and from the drying processing unit 3 is provided.

【0029】図3に示すように,搬入出装置2には,載
置台5が洗浄システム1の一側面に沿って配置され,載
置台5の向かい側には,通路6を挟んで載置台7が洗浄
・乾燥処理部3に隣接して配置されている。さらに,載
置台5の上方には,載置板8,9が配置されている。そ
して,載置台5と載置台7との間に形成された通路6に
沿ってX方向,Z方向及びθ方向に移動自在に構成され
た移送アーム10が設けられている。この移送アーム1
0は,載置台5,7,載置板8,9との間でキャリアC
を自在に移動できるように構成されている。
As shown in FIG. 3, in the loading / unloading device 2, a mounting table 5 is arranged along one side of the cleaning system 1. On the opposite side of the mounting table 5, a mounting table 7 is sandwiched with a passage 6 therebetween. It is arranged adjacent to the cleaning / drying processing unit 3. Further, mounting plates 8 and 9 are arranged above the mounting table 5. Further, a transfer arm 10 is provided that is movable in the X, Z, and θ directions along a path 6 formed between the mounting table 5 and the mounting table 7. This transfer arm 1
0 denotes a carrier C between the mounting tables 5 and 7 and the mounting plates 8 and 9.
Is configured to be able to move freely.

【0030】載置台5には,洗浄前のウェハWを取り出
した空のキャリアCを搬出させる洗浄前側アウトポート
12と,洗浄前のウェハWを収納したキャリアCを搬入
させる洗浄前側インポート13と,洗浄前のウェハWを
収納したキャリアC及び洗浄前のウェハWを取り出した
空のキャリアCのいずれも貯めておくことが可能なスト
ック部14が隣接して設けられ,少しスペースを空け
て,洗浄後のウェハWを収納するための空のキャリアC
を搬入させる洗浄後側インポート15と,洗浄後のウェ
ハWを収納したキャリアCを搬出させる洗浄後側アウト
ポート16と,洗浄後のウェハWを収納するための空の
キャリアC及び洗浄後のウェハWを収納したキャリアC
のいずれも貯めておくことが可能なストック部17とが
隣接して設けられている。
The mounting table 5 has a pre-cleaning out port 12 for unloading an empty carrier C from which the uncleaned wafer W has been taken out, a pre-cleaning import 13 for carrying in the carrier C containing the uncleaned wafer W, A stock unit 14 capable of storing both the carrier C containing the unwashed wafer W and the empty carrier C from which the unwashed wafer W has been taken out is provided adjacently. Empty carrier C for storing later wafer W
, A post-cleaning side import port 15 for carrying a wafer W, a post-cleaning side out port 16 for carrying out a carrier C containing a cleaned wafer W, an empty carrier C for storing a cleaned wafer W, and a cleaned wafer. Carrier C containing W
Are provided adjacent to a stock unit 17 that can store any of them.

【0031】載置台7には,洗浄前のウェハWをキャリ
アCから取り出すと共に洗浄後のウェハWをキャリアC
に収納させるローダ・アンローダ部20が設けられてい
る。即ち,載置台7の上面には,開口によって形成され
るステーション21が設けられ,一方,ローダ・アンロ
ーダ部20の内部には,昇降可能なハンド22,23が
設けられている。そして,ステーション21は,ハンド
22に対して開口している部分をステーション21aと
し,ハンド23に対して開口している部分をステーショ
ン21bとしており,ハンド22はステーション21a
を介して,ハンド23はステーション21bを介して,
それぞれ載置台7の上方に突き出ることが可能になって
いる。
The mounting table 7 takes out the wafer W before cleaning from the carrier C and places the wafer W after cleaning on the carrier C.
And a loader / unloader section 20 for storing the data in the storage area. That is, a station 21 formed by an opening is provided on the upper surface of the mounting table 7, while hands 22 and 23 which can move up and down are provided inside the loader / unloader unit 20. The station 21 has a portion opened to the hand 22 as a station 21a, and a portion opened to the hand 23 as a station 21b.
, The hand 23 passes through the station 21b,
Each can protrude above the mounting table 7.

【0032】ここで,図4に示すように,ステーション
21a,21bに例えば洗浄前のウェハWを収納したキ
ャリアCがそれぞれ載置されると,ハンド22,23が
下方から上昇移動する。この場合,キャリアC内に進入
できるように,キャリアCの底部には開口部が形成され
ている。そして,キャリアCの上部にも開口部が形成さ
れており,各ステーション21a,21bにおいて,キ
ャリアC内に進入したハンド22,23がそのまま上昇
移動し,図4中の実線で示した位置までウェハWを突き
上げてキャリアCから取り出した状態にできるようにな
っている。その後,ハンド22,23が相対的に近づい
ていわゆる幅寄せが行われてキャリアC2個分のウェハ
Wが等間隔で配列された後,上記搬送アーム4がウェハ
Wをハンド22,23から受け取って,洗浄・乾燥処理
部3に搬送するようになっている。
Here, as shown in FIG. 4, when carriers C containing, for example, unwashed wafers W are placed on the stations 21a and 21b, the hands 22 and 23 move upward from below. In this case, an opening is formed at the bottom of the carrier C so that it can enter the carrier C. An opening is also formed in the upper part of the carrier C. In each of the stations 21a and 21b, the hands 22, 23 that have entered the carrier C move upward as they are, and the wafer reaches the position shown by the solid line in FIG. W can be pushed up and taken out of the carrier C. After that, the hands 22 and 23 relatively approach each other to perform so-called width shifting, and the wafers W for two carriers C are arranged at equal intervals. Then, the transfer arm 4 receives the wafers W from the hands 22 and 23. , And is conveyed to the cleaning / drying processing section 3.

【0033】一方,搬送アーム4が洗浄後のウェハWを
載置台7のステーション21の上方にまで搬送してきた
場合,ローダ・アンローダ部20の内部で待機していた
ハンド22,23は,上昇移動を開始する。この場合,
予めステーション21a,21bには,洗浄後のウェハ
Wを収納するための空のキャリアCがそれぞれ載置され
ており,ハンド22,23は,各ステーション21a,
21bに置かれた各キャリアC内を通過して,キャリア
Cの上方で搬送アーム4から洗浄後のウェハWを受け取
るようになっている。その後,ハンド22,23が下降
移動を開始して,元の待機状態に戻る途中で,各ステー
ション21a,21bに置かれたそれぞれのキャリアC
内に洗浄後のウェハWを収納するようになっている。
On the other hand, when the transfer arm 4 transfers the washed wafer W to a position above the station 21 of the mounting table 7, the hands 22, 23 waiting inside the loader / unloader unit 20 move upward. To start. in this case,
Empty carriers C for accommodating the washed wafer W are previously mounted on the stations 21a and 21b, respectively.
The wafer W passes through each carrier C placed on the carrier 21b, and receives the cleaned wafer W from the transfer arm 4 above the carrier C. Thereafter, while the hands 22, 23 start to move downward and return to the original standby state, the respective carriers C placed in the stations 21a, 21b are moved.
The wafer W after cleaning is accommodated therein.

【0034】載置板8と載置板9の間には,隙間30が
形成され,この隙間30を通って,上記移送アーム10
が上昇し,載置板8と載置板9にアクセスできるように
なっている。載置板8には,ストック部10と同様に,
洗浄前のウェハWを収納したキャリアC及び洗浄前のウ
ェハWを取り出した空のキャリアCのいずれも貯めてお
くことが可能なストック部31,32が設けられ,載置
板9には,洗浄後のウェハWを収納するための空のキャ
リアC及び洗浄後のウェハWを収納したキャリアCのい
ずれも貯めておくことが可能なストック部33,34が
設けられている。
A gap 30 is formed between the mounting plate 8 and the mounting plate 9.
Rises, and the mounting plate 8 and the mounting plate 9 can be accessed. On the mounting plate 8, like the stock unit 10,
Stock units 31 and 32 are provided which can store both the carrier C containing the wafer W before cleaning and the empty carrier C from which the wafer W before cleaning is taken out. Stock portions 33 and 34 are provided which can store both an empty carrier C for storing the wafer W after cleaning and a carrier C for storing the wafer W after cleaning.

【0035】移送アーム10は,キャリアCの上部を把
持するように構成されたアーム部40を備え,このアー
ム部40は,回転昇降軸41に接続された支持部42に
よって水平に支持されている。また,回転昇降軸41は
駆動機構43に装着されている。従って,駆動機構43
の回転,昇降駆動によって,アーム部40は,図3中の
θ方向に回動自在であると共に,図2,3中のZ方向
(垂直方向)に昇降自在になるように構成されている。
図3で実線で示したアーム部40は,載置台6側に向い
た状態を示し,図3中の二点鎖線40’で示したアーム
部40は,支持部42が180゜回転することによっ
て,載置台7側に向いた状態を示している。さらに,図
3中の二点鎖線40”で示したアーム部40は,支持部
42が隙間30を通過して上昇移動することによって,
載置板8,9の上方にまで上昇した状態を示している。
The transfer arm 10 has an arm portion 40 configured to hold the upper part of the carrier C. The arm portion 40 is horizontally supported by a support portion 42 connected to a rotary elevating shaft 41. . Further, the rotary elevating shaft 41 is mounted on the drive mechanism 43. Therefore, the driving mechanism 43
The arm 40 is configured to be rotatable in the θ direction in FIG. 3 and to be able to move up and down in the Z direction (vertical direction) in FIGS.
The arm 40 shown by a solid line in FIG. 3 shows a state facing the mounting table 6, and the arm 40 shown by a two-dot chain line 40 'in FIG. , A state facing the mounting table 7 side. Further, the arm portion 40 indicated by a two-dot chain line 40 ″ in FIG.
The state where it rose to the upper part of the mounting plates 8 and 9 is shown.

【0036】図1及び図2に示すように,駆動機構43
自体は,載置台5に設けられたベース44に取り付けら
れており,先に述べたように通路6において,移送アー
ム10は,図1,図3中のX方向(洗浄前側アウトポー
ト12,洗浄前側インポート13,ストック部14,洗
浄後側インポート15,洗浄後側アウトポート16,ス
トック部17の配列方向と平行な方向,かつストック部
31,32,33,34の配列方向と平行な方向)に移
動できるように構成されている。従って,アーム部40
は,搬入出装置2内の各場所,即ち,洗浄前側アウトポ
ート12,洗浄前側インポート13,洗浄後側インポー
ト15,洗浄後側アウトポート16,ストック部14,
17,31,32,33,34,ローダ・アンローダ部
20に自由に移動できる構成になっている。
As shown in FIG. 1 and FIG.
The transfer arm 10 itself is attached to the base 44 provided on the mounting table 5, and as described above, the transfer arm 10 is moved in the X direction in FIG. (A direction parallel to the arrangement direction of the front import 13, the stock portion 14, the washed side import 15, the washed out port 16, the stock portion 17, and a direction parallel to the arrangement direction of the stock portions 31, 32, 33, and 34.) It is configured to be able to move to. Therefore, the arm part 40
Are located in the loading / unloading device 2, namely, the outport 12 before cleaning, the import 13 before cleaning, the import 15 after cleaning, the outport 16 after cleaning, the stock unit 14,
17, 31, 32, 33, 34 and the loader / unloader section 20 can be freely moved.

【0037】図5は,アーム部40の平面図である。図
5に示すように,アーム部40の四隅に,チャック部材
45が設けられており,これらチャック部材45は,ア
ーム部40に内蔵されたシリンダ機構(図示せず)によ
って伸縮自在に構成されたピストンロッド46にそれぞ
れ接続されている。さらに,アーム部40の上面には,
支持部42に内蔵されたモータ(図示しない)の回転軸
47が接続されており,回転軸47を中心にして,アー
ム部40を回転できるように構成している。
FIG. 5 is a plan view of the arm section 40. FIG. As shown in FIG. 5, chuck members 45 are provided at four corners of the arm portion 40, and these chuck members 45 are configured to be extendable and contractible by a cylinder mechanism (not shown) built in the arm portion 40. Each is connected to a piston rod 46. Further, on the upper surface of the arm portion 40,
A rotation shaft 47 of a motor (not shown) built in the support portion 42 is connected, and the arm portion 40 can be rotated about the rotation shaft 47.

【0038】ここで,移送アーム10がキャリアCを把
持する場合,まず,移送アーム10は,ピストンロッド
46を伸ばして図5中の実線45で示されるようなチャ
ック部材45を開かせた状態にして,支持部42を下降
移動させることによりアーム部40を,キャリアCの上
部に位置させる。その後,ピストンロッド46を縮ませ
れば,チャック部材45が図5中の二点鎖線45’で示
される位置まで移動し,キャリアCの四隅にチャック部
材45を当接させて,キャリアCの上部を把持すること
ができる。そして,支持部42を上昇移動させれば,キ
ャリアCを持ち上げることができるようになっている。
さらに,この状態で,回転軸47を90゜回転させるこ
とにより,アーム部40ごとキャリアCを90゜回転さ
せて,キャリアCに収納されたウェハWの向きを変える
ことが可能である。
When the transfer arm 10 grips the carrier C, first, the transfer arm 10 extends the piston rod 46 to open the chuck member 45 as shown by the solid line 45 in FIG. Then, the arm portion 40 is positioned above the carrier C by moving the support portion 42 downward. Thereafter, when the piston rod 46 is contracted, the chuck member 45 moves to a position indicated by a two-dot chain line 45 'in FIG. Can be gripped. The carrier C can be lifted by moving the support portion 42 upward.
Further, in this state, by rotating the rotating shaft 47 by 90 °, the carrier C together with the arm portion 40 can be rotated by 90 ° to change the direction of the wafer W stored in the carrier C.

【0039】一方,移送アーム10がアーム部40から
キャリアCを開放する場合,キャリアCを把持している
移送アーム10は,支持部42を下降移動させてキャリ
アCを任意の場所に載置する。その後,ピストンロッド
46を伸ばせば,チャック部材45の把持を解除するこ
とができる。その後,移送アーム10は支持部42を上
昇移動させて,キャリアCを任意の場所に置き去るよう
になっている。こうして,移送アーム10は,搬入出装
置2の任意の場所に移動して,その場所に載置されてい
るキャリアCを持ち上げ,このキャリアCを他の場所に
移送して載置できるようになっている。
On the other hand, when the transfer arm 10 releases the carrier C from the arm section 40, the transfer arm 10 holding the carrier C lowers the support section 42 and places the carrier C at an arbitrary place. . Thereafter, if the piston rod 46 is extended, the grip of the chuck member 45 can be released. Thereafter, the transfer arm 10 moves the support section 42 upward to leave the carrier C at an arbitrary position. In this way, the transfer arm 10 moves to an arbitrary position of the carry-in / out device 2, lifts the carrier C placed at that position, and can transfer this carrier C to another place for mounting. ing.

【0040】次に,図1に示すように,洗浄・乾燥処理
部3には,ウェハWを例えばイソプロピルアルコール
(IPA)蒸気を用いて最終的に乾燥させる乾燥装置5
0と,薬液と純水とを交互に供給,排出する機能を有
し,薬液処理とリンス処理の両方が行えるように構成さ
れた単一槽方式(単槽式,ワンバス方式等とも称呼され
ている)の洗浄装置51と,搬送アーム4のウェハチャ
ック4a,4bを洗浄,乾燥するためのウェハチャック
洗浄・乾燥装置52と,洗浄装置51とは異なる薬液を
用いて,薬液処理とリンス処理の両方が行えるように構
成されたワンバス方式の洗浄装置53とが順次配置され
ている。こうして,洗浄・乾燥処理部3では洗浄装置5
3,51,乾燥装置50の順番でウェハWを搬送して,
所定の洗浄及び乾燥処理を施すようになっている。
Next, as shown in FIG. 1, the cleaning / drying processing section 3 includes a drying device 5 for finally drying the wafer W using, for example, isopropyl alcohol (IPA) vapor.
Single tank type (single tank type, one bath type, etc.), which has the function of alternately supplying and discharging chemical solution and pure water, and capable of performing both chemical solution treatment and rinsing treatment. ), A wafer chuck cleaning / drying device 52 for cleaning and drying the wafer chucks 4a and 4b of the transfer arm 4, and a chemical solution different from the cleaning device 51 for chemical solution processing and rinsing processing. A one-bath type cleaning device 53 configured to perform both is sequentially arranged. Thus, in the cleaning / drying processing section 3, the cleaning device 5
3, 51, the wafer W is transported in the order of the drying device 50,
A predetermined cleaning and drying process is performed.

【0041】洗浄装置51,53は,いずれも同様の構
成を有しているので,洗浄装置51を例にとって説明す
る。図6に示すように,ケーシング51a内にウェハW
を洗浄処理する洗浄槽60を備えた洗浄装置51におい
て,洗浄槽60内にウェハWを起立させた状態で保持す
る保持部61を設け,この保持部61を昇降自在に構成
している。また,図7に示すように,洗浄装置51の上
面には,カバー62,63が取り付けられており,洗浄
処理中には,これらカバー62,63が閉じることによ
って,薬液雰囲気を周囲に拡散させない構成になってい
る。
Since the cleaning devices 51 and 53 have the same configuration, the cleaning device 51 will be described as an example. As shown in FIG. 6, the wafer W is contained in the casing 51a.
In a cleaning apparatus 51 provided with a cleaning tank 60 for performing a cleaning process, a holding section 61 for holding the wafer W in an upright state is provided in the cleaning tank 60, and the holding section 61 is configured to be able to move up and down. As shown in FIG. 7, covers 62 and 63 are attached to the upper surface of the cleaning device 51. During the cleaning process, the covers 62 and 63 are closed so that the chemical liquid atmosphere is not diffused to the surroundings. It has a configuration.

【0042】図8に示すように,保持部61の表面に
は,ウェハWの周縁が挿入される保持溝61aが例えば
50個形成され,これら保持溝61a同士の間隔(溝ピ
ッチ)は,何れも等しくなるように所定の距離に配置さ
れている。この保持部61を水平姿勢で支持している支
持体64の裏面には,昇降軸65が取り付けられてお
り,この昇降軸65は,洗浄槽60の下方に設けられた
昇降機構66に接続されている。従って,カバー62,
63が開けば,昇降機構66の稼働によって,洗浄槽6
0内と洗浄装置51の上方との間で保持部61を昇降移
動させることができるようになっている。
As shown in FIG. 8, on the surface of the holding portion 61, for example, 50 holding grooves 61a into which the peripheral edge of the wafer W is inserted are formed, and the interval (groove pitch) between these holding grooves 61a is any one. Are also arranged at a predetermined distance so as to be equal. An elevating shaft 65 is attached to the back surface of a support 64 that supports the holding portion 61 in a horizontal posture. The elevating shaft 65 is connected to an elevating mechanism 66 provided below the cleaning tank 60. ing. Therefore, the cover 62,
When the opening 63 is opened, the elevating mechanism 66 is operated, and the
The holding unit 61 can be moved up and down between the inside of 0 and the upper part of the cleaning device 51.

【0043】次に,以上のように構成された本実施の形
態にかかる搬入出装置2で行われるキャリアCの搬入出
方法について,図1の洗浄システム1で行われるウェハ
Wの洗浄に基づいて説明する。
Next, the loading / unloading method of the carrier C performed by the loading / unloading device 2 according to the present embodiment configured as described above will be described based on the cleaning of the wafer W performed by the cleaning system 1 of FIG. explain.

【0044】先ず,工場内の作業員やAGV(Auto
Guided Vehicle:無人搬送車)等によ
って,洗浄前のウェハWを例えば25枚ずつ収納した4
個のキャリアC群を洗浄システム1に搬入し,例えばキ
ャリアC2個分の50枚のウェハWをキャリアCから取
り出し,搬送アーム4が,ウェハWを50枚単位で一括
して把持する。そして,それらウェハWを洗浄・乾燥処
理部3に搬送して,ウェハWの表面に付着しているパー
ティクル等の不純物質を除去する洗浄を行う。
First, a worker in the factory or an AGV (Auto
For example, 25 wafers W before cleaning are stored by a Guided Vehicle (unmanned carrier) 4 or the like.
The carrier C group is carried into the cleaning system 1 and, for example, 50 wafers W for two carriers C are taken out of the carrier C, and the transfer arm 4 collectively holds the wafers W in units of 50 wafers. Then, the wafer W is transported to the cleaning / drying processing unit 3 to perform cleaning for removing impurities such as particles attached to the surface of the wafer W.

【0045】ここで,搬入出装置2では,例えば洗浄前
のウェハWを収納した4個のキャリアC1,C2,C
3,C4が洗浄前側インポート13を介して搬入出装置
2に搬入され,キャリアC1〜C4から洗浄前のウェハ
Wが取り出される。そして,例えば洗浄後のウェハWを
収納するための4個の空のキャリアC’1,C’2,
C’3,C’4に洗浄後のウェハWが収納され,洗浄後
のウェハWを収納したキャリアC’1〜C’4は,洗浄
後側アウトポート16を介して搬入出装置2から搬出さ
れる。以上の工程を表1,表2,表3に示す。
In the loading / unloading device 2, for example, four carriers C1, C2, C
3 and C4 are carried into the carry-in / out device 2 via the pre-cleaning side import 13, and the wafer W before cleaning is taken out from the carriers C1 to C4. Then, for example, four empty carriers C ′ 1, C ′ 2, for storing the cleaned wafer W,
The cleaned wafers W are stored in C'3 and C'4, and the carriers C'1 to C'4 storing the cleaned wafers W are unloaded from the loading / unloading device 2 through the out-port 16 after cleaning. Is done. The above steps are shown in Tables 1, 2 and 3.

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】[0048]

【表3】 [Table 3]

【0049】表1,表2,表3に基づいて,以上の工程
を具体的に説明していくと,洗浄前のウェハWを収納し
た4個のキャリアC1〜C4が搬入され,キャリアC1
〜C4から洗浄前のウェハWが取り出される工程は,次
の表1のステップ1〜ステップ10によって行われる。 ステップ 1:1番目のキャリアC1が洗浄前側イン
ポート13に搬入される。この搬入は,工場内の作業員
やAGVによって行われる。 ステップ 2:キャリアC1が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からステーション21aに
移送される。これにより,洗浄前側インポート13には
キャリアC1がない状態となるので,2番目のキャリア
C2を洗浄前側インポート13に続けて搬入する。 ステップ 3: キャリアC2が,移送アーム10に
よって洗浄前側インポート13からステーション21b
に移送される。その後,ローダ・アンローダ部20で,
ハンド22,23によって洗浄前のウェハWがキャリア
C1,C2から取り出される。こうして,キャリアC
1,C2から取り出されたウェハWは,搬送アーム4に
受け取られ洗浄・乾燥処理部3に搬入される。ウェハW
は,洗浄装置53,51,乾燥装置50の順番に搬送さ
れて,所定の洗浄及び乾燥処理が施される。また,洗浄
前側インポート13にはキャリアC2がない状態となる
ので,3番目のキャリアC3が洗浄前側インポート13
に搬入される。なお,このキャリアC1,C2からウェ
ハWを取り出す工程は,ステップ5で行うようにしても
良い。 ステップ 4:ローダ・アンローダ部20にキャリア
C1,C2が置かれた状態なので,キャリアC3は,移
送アーム10によって洗浄前側インポート13からスト
ック部14に移送される。これにより,洗浄前側インポ
ート13にはキャリアC3がない状態となるので,4番
目のキャリアC4を続けて洗浄前側インポート13に搬
入する。 ステップ 5:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
前のウェハWが取り出されて空となったキャリアC1,
C2が載置されている。また,キャリアC3がストック
部14に,キャリアC4が洗浄前側インポート13にそ
れぞれ載置されている。 ステップ 6:空となったキャリアC1が,移送アー
ム10によってステーション21aからストック部32
に移送される。 ステップ 7:空となったキャリアC2が,移送アー
ム10によってステーション21bからストック部31
に移送される。これにより,ローダ・アンローダ部20
に空となったキャリアC1,C2がない状態となる。 ステップ 8:キャリアC3が,移送アーム10によ
ってストック部14からステーション21aに移送され
る。 ステップ 9:キャリアC4が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からステーション21bに
移送される。その後,ローダ・アンローダ部20で,ハ
ンド22,23によって洗浄前のウェハWがキャリアC
3,C4から取り出される。こうして,キャリアC3,
C4から取り出されたウェハWは,搬送アーム4に受け
取られ洗浄・乾燥処理部3に搬入される。これら洗浄前
のウェハWは,キャリアC1,C2から取り出されたウ
ェハWの洗浄及び乾燥処理の進行と重ならないように時
期を図りながら,洗浄装置53,51,乾燥装置50に
順次搬送されて,所定の洗浄及び乾燥処理が施される。 ステップ 10:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
前のウェハWが取り出されて空となったキャリアC3,
C4が載置されている。また,空のキャリアC1がスト
ック部32に,空のキャリアC2がストック部31にそ
れぞれ載置されている。
The above steps will be described in detail with reference to Tables 1, 2 and 3. Four carriers C1 to C4 accommodating wafers W before cleaning are carried in, and carriers C1 to C4 are loaded.
The process of taking out the wafer W before cleaning from C4 to C4 is performed by Steps 1 to 10 in Table 1 below. Step 1: The first carrier C1 is carried into the pre-cleaning import 13. This loading is performed by a worker or an AGV in the factory. Step 2: The carrier C1 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the station 21a by the transfer arm 10. As a result, the carrier C1 does not exist in the pre-cleaning import 13, and the second carrier C2 is subsequently carried into the pre-cleaning import 13. Step 3: The carrier C2 is moved from the pre-cleaning import 13 to the station 21b by the transfer arm 10.
Is transferred to After that, the loader / unloader unit 20
The wafers W before cleaning are taken out of the carriers C1 and C2 by the hands 22 and 23. Thus, carrier C
The wafers W taken out of the wafers 1 and 2 are received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. Wafer W
Are transported in the order of the cleaning devices 53, 51 and the drying device 50, and are subjected to predetermined cleaning and drying processes. Further, since the carrier C2 is not present in the pre-cleaning import 13, the third carrier C3 is in the pre-cleaning import 13.
It is carried in. The step of taking out the wafer W from the carriers C1 and C2 may be performed in step 5. Step 4: Since the carriers C1 and C2 are placed on the loader / unloader unit 20, the carrier C3 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C3 in the pre-cleaning side import 13, so that the fourth carrier C4 is continuously carried into the pre-cleaning side import 13. Step 5: In the loader / unloader section 20, the empty carriers C1,
C2 is placed. The carrier C3 is placed on the stock unit 14, and the carrier C4 is placed on the pre-cleaning import 13. Step 6: The empty carrier C1 is moved from the station 21a to the stock unit 32 by the transfer arm 10.
Is transferred to Step 7: The empty carrier C2 is moved from the station 21b to the stock unit 31 by the transfer arm 10.
Is transferred to Thereby, the loader / unloader unit 20
No empty carriers C1 and C2 exist. Step 8: The carrier C3 is transferred from the stock unit 14 to the station 21a by the transfer arm 10. Step 9: The carrier C4 is transferred by the transfer arm 10 from the pre-cleaning import 13 to the station 21b. Thereafter, in the loader / unloader section 20, the wafers W before cleaning are transferred to the carrier C by the hands 22 and 23.
3, C4. Thus, carrier C3
The wafer W taken out of C4 is received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. These uncleaned wafers W are sequentially transferred to the cleaning devices 53, 51, and the drying device 50 while taking time so as not to overlap with the progress of the cleaning and drying processes of the wafers W taken out of the carriers C1 and C2. A predetermined washing and drying process is performed. Step 10: The loader / unloader unit 20 removes the empty carrier C3 from the wafer W before cleaning.
C4 is placed. An empty carrier C1 is placed on the stock unit 32, and an empty carrier C2 is placed on the stock unit 31.

【0050】次いで,洗浄前のウェハWが取り出されて
空となったキャリアC3,C4がローダ・アンローダ部
20から別の場所に移送される一方で,洗浄後のウェハ
Wを収納するための4個の空のキャリアC’1,C’
2,C’3,C’4が搬入される。これらの工程は,次
の表1のステップ11〜ステップ17によって行われ
る。 ステップ 11:空のキャリアC1が,移送アーム10
によってストック部32から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 12:空のキャリアC2が,移送アーム10
によってストック部31からストック部14に移送され
る。 ステップ 13:空となったキャリアC3が,移送アー
ム10によってステーション21aからストック部32
に移送される。 ステップ 14:空となったキャリアC4が,移送アー
ム10によってステーション21bからストック部31
に移送される。一方,1番目の空のキャリアC’1が洗
浄後側インポート15に搬入される。この搬入は,工場
内の作業員やAGVによって行われる。 ステップ 15:洗浄後側インポート15に搬入された
空のキャリアC’1が,移送アーム10によって洗浄後
側インポート15からストック部34に移送される。こ
れにより,洗浄後側インポート15にはキャリアC’1
がない状態となるので,2番目の空のキャリアC’2を
洗浄後側インポート15に続けて搬入する。 ステップ 16:空のキャリアC’2が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部33
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’2がない状態となるので,3番目の空の
キャリアC’3を洗浄後側インポート15に続けて搬入
する。 ステップ 17:空のキャリアC’3が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部17
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’3がない状態となるので,4番目の空の
キャリアC’4を洗浄後側インポート15に続けて搬入
する。
Next, the carriers C3 and C4, which have been taken out of the wafer W before cleaning and are emptied, are transferred from the loader / unloader section 20 to another location, while the carriers C3 and C4 for storing the wafer W after cleaning are stored. Empty carriers C'1, C '
2, C'3 and C'4 are carried in. These steps are performed by steps 11 to 17 in Table 1 below. Step 11: The empty carrier C1 is
From the stock section 32 to the out-port 12 before cleaning.
Is transferred to Step 12: Empty carrier C2 is transferred to transfer arm 10
Is transferred from the stock unit 31 to the stock unit 14. Step 13: The empty carrier C3 is moved from the station 21a to the stock unit 32 by the transfer arm 10.
Is transferred to Step 14: The empty carrier C4 is moved from the station 21b to the stock unit 31 by the transfer arm 10.
Is transferred to On the other hand, the first empty carrier C′1 is carried into the cleaning-side import 15. This loading is performed by a worker or an AGV in the factory. Step 15: The empty carrier C′1 carried into the post-wash import 15 is transferred from the post-clean import 15 to the stock unit 34 by the transfer arm 10. As a result, the carrier C'1 is added to the post-wash side import 15.
Therefore, the second empty carrier C ′ 2 is carried in after the cleaning side import 15. Step 16: Empty carrier C'2 is transferred to transfer arm 1
The stock part 33 from the side import 15 after washing by 0
Is transferred to As a result, there is no carrier C'2 in the post-cleaning import 15, so that the third empty carrier C'3 is carried in after the cleaning-side import 15. Step 17: Empty carrier C'3 is transferred to transfer arm 1
Stock part 17 from back side import 15 after washing by 0
Is transferred to As a result, the carrier C'3 does not exist in the post-cleaning side import 15, so that the fourth empty carrier C'4 is carried in after the cleaning-side side import 15.

【0051】次いで,洗浄・乾燥処理部3では,キャリ
アC1〜C4から取り出されたウェハWに対して,所定
の洗浄及び乾燥処理が行われているが,この間に,洗浄
前のウェハWを収納した次の4個のキャリアC5,C
6,C7,C8を搬入する。なお,キャリアC5,C
6,C7,C8を搬入する際には,入れ替わりに,空の
キャリアC1〜C4を搬出する。これらの工程は,次の
表1のステップ18〜ステップ22及び表2のステップ
23〜ステップ29によって行われる。 ステップ 18:5番目のキャリアC5が洗浄前側イン
ポート13に搬入される。一方,空のキャリアC1が洗
浄前側アウトポート12から搬出される。この搬入出は
工場内の作業員やAGVによって行われる。これによ
り,洗浄前側アウトポート12には空のキャリアC1が
ない状態となる。 ステップ 19:空のキャリアC2が,移送アーム10
によってストック部14から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 20:キャリアC5が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部14に移送
される。これにより,洗浄前側インポート13にはキャ
リアC5がない状態となる。 ステップ 21:6番目のキャリアC6が洗浄前側イン
ポート13に搬入される。一方,空のキャリアC2は洗
浄前側アウトポート12から搬出される。これにより,
洗浄前側アウトポート12には空のキャリアC2がない
状態となる。 ステップ 22:空のキャリアC3が,移送アーム10
によってストック部32から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 23:キャリアC5が,移送アーム10によ
ってストック部14からストック部32に移送される。 ステップ 24:キャリアC6が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部14に移送
される。これにより,洗浄前側インポート13にはキャ
リアC6がない状態となる。 ステップ 25:7番目のキャリアC7が洗浄前側イン
ポート13に搬入される。一方,空のキャリアC3は洗
浄前側アウトポート12から搬出される。これにより,
洗浄前側アウトポート12には空のキャリアC3がない
状態となる。 ステップ 26:空のキャリアC4が,移送アーム10
によってストック部31から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 27:キャリアC6が,移送アーム10によ
ってストック部14からストック部31に移送される。 ステップ 28:キャリアC7が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部14に移送
される。これにより,洗浄前側インポート13にはキャ
リアC7がない状態となる。 ステップ 29:8番目のキャリアC8が洗浄前側イン
ポート13に搬入される。一方,空のキャリアC4は洗
浄前側アウトポート12から搬出される。
Next, in the cleaning / drying section 3, predetermined cleaning and drying processes are performed on the wafers W taken out of the carriers C1 to C4, during which the wafers W before cleaning are stored. The next four carriers C5 and C
6, C7 and C8 are carried in. Note that carriers C5 and C
When carrying in C6, C7 and C8, empty carriers C1 to C4 are carried out instead. These steps are performed by steps 18 to 22 in Table 1 and steps 23 to 29 in Table 2 below. Step 18: The fifth carrier C5 is carried into the pre-cleaning side import 13. On the other hand, the empty carrier C1 is carried out from the pre-cleaning-side out port 12. The loading and unloading is performed by workers and AGVs in the factory. As a result, there is no empty carrier C1 in the pre-wash out port 12. Step 19: The empty carrier C2 is
From the stock section 14 to the out-port 12 before cleaning.
Is transferred to Step 20: The carrier C5 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C5 in the pre-cleaning side import 13. Step 21: The sixth carrier C6 is carried into the pre-cleaning import 13. On the other hand, the empty carrier C2 is carried out from the pre-wash out port 12. This gives
There is no empty carrier C2 in the out-port 12 before cleaning. Step 22: Empty carrier C3 is transferred to transfer arm 10
From the stock section 32 to the out-port 12 before cleaning.
Is transferred to Step 23: The carrier C5 is transferred from the stock unit 14 to the stock unit 32 by the transfer arm 10. Step 24: The carrier C6 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C6 in the pre-cleaning side import 13. Step 25: The seventh carrier C7 is carried into the pre-cleaning import 13. On the other hand, the empty carrier C3 is carried out from the out-port 12 before cleaning. This gives
There is no empty carrier C3 in the pre-wash out port 12. Step 26: Empty carrier C4 is transferred to transfer arm 10
From the stock unit 31 to the out-port 12 before cleaning.
Is transferred to Step 27: The carrier C6 is transferred from the stock unit 14 to the stock unit 31 by the transfer arm 10. Step 28: The carrier C7 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C7 in the pre-cleaning import 13. Step 29: The eighth carrier C8 is carried into the pre-cleaning import 13. On the other hand, the empty carrier C4 is carried out from the out-port 12 before cleaning.

【0052】かくして,本発明の搬入出装置2によれ
ば,洗浄前側インポート13からローダ・アンローダ部
20へのキャリアC1〜C8の移送や,ローダ・アンロ
ーダ部20から洗浄前側アウトポート12へのキャリア
C1〜C8の移送が,キャリアCを貯めるストック部1
4,31,32を介して行われるので,ウェハWを収納
したキャリアC1〜C8の搬入,キャリアC1〜C8か
らのウェハWの取り出し,ウェハWを取り出した空のキ
ャリアC1〜C8の搬出を連続的に行うことができる。
従って,ウェハWを洗浄・乾燥処理部3に次々と搬入す
ることができ,ウェハWの洗浄及び乾燥処理を連続的に
行うことができる。その結果,洗浄・乾燥処理部3の各
装置を効率よく稼働させることができる。さらに,洗浄
前のウェハWを収納したキャリアC5〜C8を搬入する
際に,洗浄前側アウトポート12やストック部14,3
1,32に待機させていた空のキャリアC1〜C4の搬
出も一緒に行うので,空のキャリアC1〜C4の搬出と
ウェハWを収納したキャリアC5〜C8の搬入をまとめ
て行うことができる。従って,キャリアC1〜C8の搬
入出を効率的に行うことができる。
Thus, according to the loading / unloading apparatus 2 of the present invention, the carriers C1 to C8 are transferred from the pre-cleaning import 13 to the loader / unloader unit 20 and the carriers are transferred from the loader / unloader unit 20 to the pre-cleaning outport 12. Stock unit 1 for storing carrier C by transferring C1 to C8
4, 31, and 32, the loading of the carriers C1 to C8 accommodating the wafers W, the removal of the wafers W from the carriers C1 to C8, and the unloading of the empty carriers C1 to C8 from which the wafers W have been taken out are continuously performed. Can be done
Therefore, the wafers W can be successively carried into the cleaning / drying processing section 3, and the cleaning and drying processing of the wafers W can be continuously performed. As a result, each device of the cleaning / drying processing unit 3 can be operated efficiently. Further, when carrying the carriers C5 to C8 accommodating the wafers W before the cleaning, the outports 12 before the cleaning and the stock units 14 and 3 are loaded.
Since the empty carriers C1 to C4 that have been waiting at the first and the second 32 are also unloaded, the unloading of the empty carriers C1 to C4 and the unloading of the carriers C5 to C8 storing the wafers W can be performed at a time. Therefore, the carriers C1 to C8 can be efficiently loaded and unloaded.

【0053】また,キャリアC1〜C4から取り出され
たウェハWに対して所定の洗浄及び乾燥処理が終了する
と,これら洗浄後のウェハWは,空のキャリアC’1〜
C’4に順次収納される。一方,搬入されたキャリアC
5〜C8から洗浄前のウェハWが取り出される。これら
の工程は,次の表2のステップ30〜ステップ44及び
表3のステップ45〜ステップ53によって行われる。 ステップ 30:空のキャリアC’1が,移送アーム1
0によってストック部34からステーション21aに移
送される。 ステップ 31:空のキャリアC’2が,移送アーム1
0によってストック部33からステーション21bに移
送される。その後,搬送アーム4によって,既に所定の
洗浄及び乾燥処理を終了したウェハWがローダ・アンロ
ーダ部20に搬送され,ハンド22,23によってキャ
リアC’1,C’2に収納される。 ステップ 32:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
後のウェハWが収納されたキャリアC’1,C’2が載
置されている。また,空のキャリアC’3がストック部
17に,空のキャリアC’4が洗浄後側インポート15
に,キャリアC5がストック部32に,キャリアC6が
ストック部31に,キャリアC7がストック部14に,
キャリアC8が洗浄前側インポート13にそれぞれ載置
されている。 ステップ 33:キャリアC’1が,移送アーム10に
よってステーション21aから洗浄後側アウトポート1
6に移送される。 ステップ 34:空のキャリアC’3が,移送アーム1
0によってストック部17からストック部34に移送さ
れる。 ステップ 35:空のキャリアC’4が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部33
に移送される。 ステップ 36:キャリアC’2が,移送アーム10に
よってステーション21bからストック部17に移送さ
れる。これにより,ローダ・アンローダ部20にキャリ
アC’1,C’2がない状態となる。 ステップ 37:キャリアC5が,移送アーム10によ
ってストック部32からステーション21aに移送され
る。 ステップ 38:キャリアC6が,移送アーム10によ
ってストック部31からステーション21bに移送され
る。その後,ローダ・アンローダ部20で,ハンド2
2,23によって洗浄前のウェハWがキャリアC5,C
6から取り出される。こうして,キャリアC5,C6か
ら取り出されたウェハWは,搬送アーム4に受け取られ
洗浄・乾燥処理部3に搬入される。これら洗浄前のウェ
ハWは,キャリアC3,C4から取り出されたウェハW
の洗浄及び乾燥処理の進行と重ならないように時期を図
りながら,洗浄装置53,51,乾燥装置50に順次搬
送されて,所定の洗浄及び乾燥処理が施される。 ステップ 39:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
前のウェハWが取り出されて空となったキャリアC5,
C6が載置されている。また,キャリアC7がストック
部14に,キャリアC8が洗浄前側インポート13に,
キャリアC’1が洗浄後側アウトポート16に,キャリ
アC’2がストック部17に,空のキャリアC’3がス
トック部34に,空のキャリアC’4がストック部33
にそれぞれ載置されている。 ステップ 40:空となったキャリアC5が,移送アー
ム10によってステーション21aから洗浄前側アウト
ポート12に移送される。 ステップ 41:キャリアC7が,移送アーム10によ
ってストック部14からストック部32に移送される。 ステップ 42:空となったキャリアC6が,移送アー
ム10によってステーション21bからストック部14
に移送される。これにより,ローダ・アンローダ部20
に空となったキャリアC5,C6がない状態となる。 ステップ 43:キャリアC8が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部31に移送
される。 ステップ 44:空のキャリアC’3が,移送アーム1
0によってストック部34からステーション21aに移
送される。 ステップ 45:空のキャリアC’4が,移送アーム1
0によってストック部33からステーション21bに移
送される。その後,搬送アーム4によって,既に所定の
洗浄及び乾燥処理を終了したウェハWがローダ・アンロ
ーダ部20に搬送され,ハンド22,23によってキャ
リアC’3,C’4に収納される。 ステップ 46:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
後のウェハWが収納されたキャリアC’3,C’4が載
置されている。また,キャリアC’1が洗浄後側アウト
ポート16に,キャリアC’2がストック部17に,空
のキャリアC5が洗浄前側アウトポート12に,空のキ
ャリアC6がストック部14に,キャリアC7がストッ
ク部32に,キャリアC8がストック部31にそれぞれ
載置されている。 ステップ 47:キャリアC’3が,移送アーム10に
よってステーション21aからストック部34に移送さ
れる。 ステップ 48:キャリアC’4が,移送アーム10に
よってステーション21bからストック部33に移送さ
れる。これにより,ローダ・アンローダ部20にキャリ
アC’3,C’4がない状態となる。 ステップ 49:キャリアC7が,移送アーム10によ
ってストック部32からステーション21aに移送され
る。 ステップ 50:キャリアC8が,移送アーム10によ
ってストック部31からステーション21bに移送され
る。その後,ローダ・アンローダ部20で,ハンド2
2,23によって洗浄前のウェハWがキャリアC7,C
8から取り出される。こうして,キャリアC7,C8か
ら取り出されたウェハWは,搬送アーム4に受け取られ
洗浄・乾燥処理部3に搬入される。これら洗浄前のウェ
ハWは,キャリアC5,C6から取り出されたウェハW
の洗浄及び乾燥処理の進行と重ならないように時期を図
りながら,洗浄装置53,51,乾燥装置50に順次搬
送されて,所定の洗浄及び乾燥処理が施される。 ステップ 51:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
前のウェハWが取り出されて空となったキャリアC7,
C8が載置されている。また,空のキャリアC5が洗浄
前側アウトポート12に,空のキャリアC6がストック
部14に,キャリアC’1が洗浄後側アウトポート16
に,キャリアC’2がストック部17に,キャリアC’
3がストック部34に,キャリアC’4がストック部3
3にそれぞれ載置されている。 ステップ 52:空となったキャリアC7が,移送アー
ム10によってステーション21aからストック部32
に移送される。 ステップ 53:空となったキャリアC8が,移送アー
ム10によってステーション21bからストック部31
に移送される。
When predetermined cleaning and drying processes are completed on the wafers W taken out of the carriers C1 to C4, the cleaned wafers W are replaced with the empty carriers C'1 to C4.
C′4 are sequentially stored. On the other hand, carrier C
The wafer W before cleaning is taken out from 5-C8. These steps are performed by steps 30 to 44 in Table 2 and steps 45 to 53 in Table 3 below. Step 30: Empty carrier C'1 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 34 to the station 21a. Step 31: Empty carrier C'2 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 33 to the station 21b. Thereafter, the wafer W, which has been subjected to the predetermined cleaning and drying processes, is transferred to the loader / unloader unit 20 by the transfer arm 4 and stored in the carriers C ′ 1 and C ′ 2 by the hands 22 and 23. Step 32: Carriers C′1 and C′2 that store the cleaned wafer W are placed on the loader / unloader unit 20. Also, the empty carrier C'3 is in the stock unit 17 and the empty carrier C'4 is in the cleaning side
The carrier C5 is in the stock section 32, the carrier C6 is in the stock section 31, the carrier C7 is in the stock section 14,
The carriers C8 are placed on the pre-cleaning import 13 respectively. Step 33: The carrier C'1 is moved from the station 21a by the transfer arm 10 to the out port 1 after cleaning.
Transferred to 6. Step 34: Empty carrier C'3 is transferred to transfer arm 1
By 0, it is transferred from the stock unit 17 to the stock unit 34. Step 35: Empty carrier C'4 is transferred to transfer arm 1
The stock part 33 from the side import 15 after washing by 0
Is transferred to Step 36: The carrier C'2 is transferred from the station 21b to the stock unit 17 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C'1 and C'2 in the loader / unloader unit 20. Step 37: The carrier C5 is transferred from the stock section 32 to the station 21a by the transfer arm 10. Step 38: The carrier C6 is transferred from the stock unit 31 to the station 21b by the transfer arm 10. Then, the hand 2 is loaded by the loader / unloader unit 20.
2 and 23, the wafer W before cleaning is transferred to carriers C5 and C
Take out from 6. Thus, the wafer W taken out of the carriers C5 and C6 is received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. The wafers W before cleaning are the wafers W taken out of the carriers C3 and C4.
The cleaning and drying processes are sequentially carried to the cleaning devices 53 and 51 and the drying device 50 while taking time so as not to overlap with the progress of the cleaning and drying processes. Step 39: The loader / unloader unit 20 removes the empty carrier C5 from the wafer W before cleaning.
C6 is placed. The carrier C7 is in the stock unit 14, the carrier C8 is in the pre-cleaning import 13,
The carrier C'1 is in the out port 16 after cleaning, the carrier C'2 is in the stock section 17, the empty carrier C'3 is in the stock section 34, and the empty carrier C'4 is in the stock section 33.
Respectively. Step 40: The empty carrier C5 is transferred by the transfer arm 10 from the station 21a to the out-port 12 before cleaning. Step 41: The carrier C7 is transferred from the stock unit 14 to the stock unit 32 by the transfer arm 10. Step 42: The empty carrier C6 is moved from the station 21b to the stock unit 14 by the transfer arm 10.
Is transferred to Thereby, the loader / unloader unit 20
No empty carriers C5 and C6. Step 43: The carrier C8 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 31 by the transfer arm 10. Step 44: Empty carrier C'3 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 34 to the station 21a. Step 45: The empty carrier C'4 is moved to the transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 33 to the station 21b. Thereafter, the wafer W, which has been subjected to the predetermined cleaning and drying processing, is transferred to the loader / unloader unit 20 by the transfer arm 4 and stored in the carriers C′3, C′4 by the hands 22,23. Step 46: Carriers C′3 and C′4 containing the wafer W after cleaning are placed on the loader / unloader unit 20. Also, the carrier C′1 is in the out port 16 after cleaning, the carrier C′2 is in the stock section 17, the empty carrier C5 is in the out port 12 before cleaning, the empty carrier C6 is in the stock section 14, and the carrier C7 is The carrier C <b> 8 is placed on the stock section 32, respectively. Step 47: The carrier C'3 is transferred from the station 21a to the stock section 34 by the transfer arm 10. Step 48: The carrier C'4 is transferred from the station 21b to the stock section 33 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C'3, C'4 in the loader / unloader section 20. Step 49: The carrier C7 is transferred from the stock section 32 to the station 21a by the transfer arm 10. Step 50: The carrier C8 is transferred from the stock unit 31 to the station 21b by the transfer arm 10. Then, the hand 2 is loaded by the loader / unloader unit 20.
2 and 23, the wafer W before cleaning is transferred to carriers C7 and C
8 Thus, the wafer W taken out of the carriers C7 and C8 is received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. The wafers W before cleaning are the wafers W taken out of the carriers C5 and C6.
The cleaning and drying processes are sequentially carried to the cleaning devices 53 and 51 and the drying device 50 while taking time so as not to overlap with the progress of the cleaning and drying processes. Step 51: The loader / unloader unit 20 has the empty carrier C7 from which the unwashed wafer W has been taken out.
C8 is mounted. Further, the empty carrier C5 is in the out port 12 before cleaning, the empty carrier C6 is in the stock section 14, and the carrier C'1 is in the out port 16 after cleaning.
, The carrier C'2 is in the stock unit 17, and the carrier C '
3 is the stock unit 34, and carrier C'4 is the stock unit 3.
3 respectively. Step 52: The empty carrier C7 is moved from the station 21a to the stock unit 32 by the transfer arm 10.
Is transferred to Step 53: The empty carrier C8 is moved from the station 21b to the stock unit 31 by the transfer arm 10.
Is transferred to

【0054】次いで,洗浄後のウェハWを収納したキャ
リアC’1〜C’4を搬出する一方で,洗浄後のウェハ
Wを収納するための次の4個の空のキャリアC’5,
C’6,C’7,C’8を搬入する。これらの工程は,
次の表3のステップ54〜ステップ65によって行われ
る。 ステップ 54:空のキャリアC’5が洗浄後側インポ
ート15に搬入される。一方,キャリアC’1が洗浄後
側アウトポート16から搬出される。この搬入出は工場
内の作業員やAGVによって行われる。これにより,洗
浄後側アウトポート16には空のキャリアC’1がない
状態となる。 ステップ 55:キャリアC’2は,移送アーム10に
よってストック部17から洗浄後側アウトポート16に
移送される。 ステップ 56:5番目の空のキャリアC’5は,移送
アーム10によって洗浄後側インポート15からストッ
ク部17に移送される。これにより,洗浄後側インポー
ト15にはキャリアC’5がない状態となる。 ステップ 57:6番目の空のキャリアC’6が洗浄後
側インポート15に搬入される。一方,キャリアC’2
は洗浄後側アウトポート16から搬出される。これによ
り,洗浄後側アウトポート16には空のキャリアC’2
がない状態となる。 ステップ 58:キャリアC’3は,移送アーム10に
よってストック部34から洗浄後側アウトポート16に
移送される。 ステップ 59:空のキャリアC’5は,移送アーム1
0によってストック部17からストック部34に移送さ
れる。 ステップ 60:空のキャリアC’6は,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部17
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’6がない状態となる。 ステップ 61:7番目の空のキャリアC’7が洗浄後
側インポート15に搬入される。一方,キャリアC’3
は洗浄後側アウトポート16から搬出される。これによ
り,洗浄後側アウトポート16には空のキャリアC’3
がない状態となる。 ステップ 62:キャリアC’4は,移送アーム10に
よってストック部33から洗浄後側アウトポート16に
移送される。 ステップ 63:空のキャリアC’6は,移送アーム1
0によってストック部17からストック部33に移送さ
れる。 ステップ 64:空のキャリアC’7は,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部17
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’7がない状態となる。 ステップ 65:8番目の空のキャリアC’8が洗浄後
側インポート15に搬入される。一方,キャリアC’4
は洗浄後側アウトポート16から搬出される。
Next, the carriers C'1 to C'4 accommodating the cleaned wafer W are carried out, while the next four empty carriers C'5 for accommodating the cleaned wafer W are carried out.
C'6, C'7, and C'8 are carried in. These steps are
This is performed by steps 54 to 65 in Table 3 below. Step 54: The empty carrier C'5 is carried into the after-cleaning side import 15. On the other hand, the carrier C′1 is carried out from the out port 16 after cleaning. The loading and unloading is performed by workers and AGVs in the factory. As a result, there is no empty carrier C′1 in the out-port 16 after cleaning. Step 55: The carrier C'2 is transferred by the transfer arm 10 from the stock section 17 to the out-port 16 after cleaning. Step 56: The fifth empty carrier C′5 is transferred from the post-wash side import 15 to the stock unit 17 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C'5 in the post-wash import 15. Step 57: The sixth empty carrier C'6 is carried into the post-cleaning side import 15. On the other hand, carrier C'2
Is carried out from the out port 16 after cleaning. As a result, the empty carrier C'2 is provided in the out-port 16 after cleaning.
There is no state. Step 58: The carrier C'3 is transferred by the transfer arm 10 from the stock section 34 to the out-port 16 after cleaning. Step 59: Empty carrier C'5 is transferred to transfer arm 1
By 0, it is transferred from the stock unit 17 to the stock unit 34. Step 60: Empty carrier C'6 is transferred to transfer arm 1
Stock part 17 from back side import 15 after washing by 0
Is transferred to As a result, there is no carrier C ′ 6 in the post-wash side import 15. Step 61: The seventh empty carrier C'7 is carried into the after-cleaning side import 15. On the other hand, carrier C'3
Is carried out from the out port 16 after cleaning. As a result, an empty carrier C'3 is provided in the out-port 16 after cleaning.
There is no state. Step 62: The carrier C'4 is transferred by the transfer arm 10 from the stock section 33 to the out-port 16 after cleaning. Step 63: Empty carrier C'6 is transferred to transfer arm 1
By 0, it is transferred from the stock unit 17 to the stock unit 33. Step 64: Empty carrier C'7 is transferred to transfer arm 1
Stock part 17 from back side import 15 after washing by 0
Is transferred to As a result, there is no carrier C'7 in the post-cleaning side import 15. Step 65: The eighth empty carrier C'8 is carried into the post-cleaning side import 15. On the other hand, carrier C'4
Is carried out from the out port 16 after cleaning.

【0055】こうして,予め空のキャリアC’5〜C’
8が搬入されることによって,キャリアC5〜C8から
取り出されたウェハWに対して所定の洗浄及び乾燥処理
が終了すると,これら洗浄後のウェハWが,空のキャリ
アC’5〜C’8にそれぞれ収納される。これにより,
これら洗浄後のウェハWを洗浄・乾燥処理部3から搬出
することができる。
Thus, empty carriers C'5 to C 'are prepared in advance.
When the predetermined cleaning and drying processes are completed for the wafers W taken out of the carriers C5 to C8 by carrying in the wafers 8, the cleaned wafers W are transferred to the empty carriers C'5 to C'8. Each is stored. This gives
These cleaned wafers W can be carried out of the cleaning / drying processing unit 3.

【0056】かくして,本発明の搬入出装置2によれ
ば,洗浄後側インポート15からローダ・アンローダ部
20へのキャリアC’1〜C’8の移送や,ローダ・ア
ンローダ部20から洗浄後側アウトポート16へのキャ
リアC’1〜C’8の移送が,キャリアCを貯めるスト
ック部17,33,34を介して行われるので,洗浄後
のウェハWを収納するための空のC’1〜C’8の搬
入,キャリアC’1〜C’8への洗浄後のウェハWの収
納,洗浄後のウェハWを収納したキャリアC’1〜C’
8の搬出を連続的に行うことができる。従って,ウェハ
Wを洗浄・乾燥処理部3から次々と搬出することがで
き,ウェハWの洗浄及び乾燥処理を連続的に行うことが
できる。その結果,洗浄・乾燥処理部3の各装置を効率
よく稼働させることができる。さらに,空のキャリア
C’5〜C’8を搬入する際に,洗浄前側アウトポート
12やストック部33,34に待機させていた洗浄後の
ウェハWを収納したキャリアC’1〜C’4の搬出も一
緒に行うので,洗浄後のウェハWを収納したキャリア
C’1〜C’4の搬入と空のキャリアC’5〜C’8の
搬出をまとめて行うことができ,キャリアC’1〜C’
8の搬入出を効率的に行うことができる。
Thus, according to the loading / unloading device 2 of the present invention, the carriers C'1 to C'8 are transferred from the post-cleaning side import 15 to the loader / unloader unit 20, and the carrier after the cleaning is removed from the loader / unloader unit 20. Since the transfer of the carriers C′1 to C′8 to the out port 16 is performed via the stock units 17, 33, and 34 that store the carrier C, the empty C′1 for storing the cleaned wafer W is stored. To C'8, storage of the cleaned wafer W in the carriers C'1 to C'8, and carriers C'1 to C 'storing the cleaned wafer W.
8 can be continuously carried out. Accordingly, the wafers W can be carried out one after another from the cleaning / drying processing section 3, and the cleaning and drying processing of the wafers W can be continuously performed. As a result, each device of the cleaning / drying processing unit 3 can be operated efficiently. Further, when carrying empty carriers C'5 to C'8, the carriers C'1 to C'4 containing the washed wafers W which have been waiting in the outports 12 before cleaning and the stock units 33 and 34 are stored. Is carried out at the same time, it is possible to carry in the carriers C'1 to C'4 accommodating the washed wafers W and carry out the empty carriers C'5 to C'8 collectively, and to carry out the carrier C ' 1-C '
8 can be carried in and out efficiently.

【0057】以後,洗浄前のウェハWを収納した4個の
キャリアCの搬入,ウェハWが取り出された4個の空の
キャリアCの搬出,洗浄後のウェハWを収納するための
4個の空のキャリアCの搬入,洗浄後のウェハWを収納
した4個のキャリアCの搬出を同様の手順で繰り返し,
洗浄前のウェハWを洗浄・乾燥処理部3に次々と搬入
し,洗浄後のウェハWを洗浄・乾燥処理部3から次々と
搬出する。
Thereafter, four carriers C containing the wafers W before cleaning are carried in, four empty carriers C from which the wafers W are taken out are carried out, and four carriers C for containing the wafers W after cleaning are stored. Loading of the empty carrier C and unloading of the four carriers C containing the washed wafers W are repeated in the same manner,
The wafers W before cleaning are successively carried into the cleaning / drying processing unit 3, and the wafers W after cleaning are sequentially carried out from the cleaning / drying processing unit 3.

【0058】次に,洗浄装置53,51で行われる洗浄
処理について,洗浄装置51を例にとって説明する。
Next, the cleaning process performed by the cleaning devices 53 and 51 will be described by taking the cleaning device 51 as an example.

【0059】まず,単一槽方式(単槽式,ワンバス方式
などとも称呼されている)の洗浄装置51においては,
洗浄槽60内に充填された薬液中にウェハWを浸漬させ
て薬液処理する。この場合,ウェハWは,保持部61に
よって保持されることにより,洗浄槽60内に収納され
ることになる。薬液処理が終了した後,洗浄槽から薬液
を排液し,次いで洗浄槽60に純水を供給することによ
り,ウェハWに対してリンス処理が施される。そして,
リンス処理後のウェハWが洗浄槽60から搬出される
と,洗浄装置60においては,次のウェハWの洗浄処理
に備えて,純水を排液し再び洗浄槽に薬液を供給して充
填する。
First, in the cleaning apparatus 51 of a single tank system (also called a single tank system, a one-bath system, etc.),
The wafer W is immersed in the chemical solution filled in the cleaning tank 60 to perform the chemical solution treatment. In this case, the wafer W is stored in the cleaning tank 60 by being held by the holding unit 61. After the chemical treatment is completed, the wafer W is rinsed by draining the chemical from the cleaning tank and then supplying pure water to the cleaning tank 60. And
When the wafer W after the rinsing process is carried out of the cleaning tank 60, the cleaning device 60 drains pure water and supplies a chemical solution again to the cleaning tank in preparation for the next wafer W cleaning processing. .

【0060】しかしながら,従来の洗浄装置では,ウェ
ハを保持する保持部が,槽内で固定して設けられていた
ので,薬液を槽内で温調する際に,洗浄槽内に設けられ
た保持部に対して悪影響を与えることになる。即ち,薬
液の温度によって保持部が膨張してしまう。そのため,
保持部の表面に形成されている保持溝の間隔が崩れてし
まい,搬送アームから保持部にウェハを受け渡す時に
は,円滑な受け渡しが行えなくなる。さらに,このよう
な薬液の温調によって,保持部の劣化も早めさせてしま
う。
However, in the conventional cleaning apparatus, the holding section for holding the wafer is fixedly provided in the tank, so that when the temperature of the chemical solution is controlled in the tank, the holding section provided in the cleaning tank is used. This will have a negative effect on the department. That is, the holding portion expands due to the temperature of the chemical solution. for that reason,
The spacing between the holding grooves formed on the surface of the holding unit is broken, and when transferring the wafer from the transfer arm to the holding unit, smooth transfer cannot be performed. Further, such temperature control of the chemical solution causes deterioration of the holding portion to be accelerated.

【0061】本実施の形態に示した洗浄装置51は,保
持部が薬液の温調による悪影響を受けないようにするこ
とによって,円滑なウェハの受け渡し,保持部の製品寿
命の長期化を実現させるものである。
The cleaning device 51 shown in this embodiment realizes a smooth wafer delivery and a prolonged product life of the holding section by preventing the holding section from being adversely affected by the temperature control of the chemical solution. Things.

【0062】図9〜図16に基づいて,洗浄装置51で
行われる洗浄処理について説明する。先ず,保持部61
によって洗浄槽60内に収納されたウェハWに対して薬
液処理が施された後,薬液を排液して純水を充填し,洗
浄槽60内の洗浄液を薬液から純水に置換して図9に示
すようにリンス処理が施される。
The cleaning process performed by the cleaning device 51 will be described with reference to FIGS. First, the holding unit 61
After the wafer W stored in the cleaning tank 60 is subjected to the chemical treatment, the chemical is drained and filled with pure water, and the cleaning liquid in the cleaning tank 60 is replaced with the pure water from the chemical liquid. A rinsing process is performed as shown in FIG.

【0063】リンス処理が終了した後,カバー62,6
3が開いて洗浄槽60の上面が開口する。次に,図10
に示すように,保持部61が上昇移動して洗浄槽60内
からウェハWを搬出する。次に,図11に示すように,
予め待機していた搬送アーム4のウェハチャック4a,
4bが閉脚してウェハWを把持し,保持部61からウェ
ハWを受け取る。カバー62,63は閉じ,洗浄槽60
の上面を塞ぐ。次に,図12に示すように,搬送アーム
4は,ウェハWを乾燥装置50に搬送する。保持部61
は,わずかながら下降移動して,洗浄装置51の上方で
待機する。
After the rinsing process is completed, the covers 62, 6
3 is opened and the upper surface of the cleaning tank 60 is opened. Next, FIG.
As shown in (1), the holding unit 61 moves up and unloads the wafer W from the cleaning tank 60. Next, as shown in FIG.
The wafer chuck 4a of the transfer arm 4 which has been waiting in advance,
4b closes the leg, grips the wafer W, and receives the wafer W from the holding unit 61. The covers 62 and 63 are closed and the cleaning tank 60 is closed.
Cover the top of the. Next, as shown in FIG. 12, the transfer arm 4 transfers the wafer W to the drying device 50. Holder 61
Moves slightly, and waits above the cleaning device 51.

【0064】次に,図13に示すように,洗浄槽60内
の洗浄液を純水から薬液に置換し,薬液の温調を行う。
この場合,保持部61は,洗浄槽60外で待機している
ため,薬液の温調から悪影響を受けない。これにより,
保持部61の形状は保たれ,保持溝61a同士の間隔は
所定の距離にそのまま維持される。
Next, as shown in FIG. 13, the cleaning liquid in the cleaning tank 60 is changed from pure water to a chemical, and the temperature of the chemical is adjusted.
In this case, since the holding unit 61 is on standby outside the cleaning tank 60, it is not adversely affected by the temperature control of the chemical solution. This gives
The shape of the holding portion 61 is maintained, and the interval between the holding grooves 61a is maintained at a predetermined distance.

【0065】次に,図14に示すように,搬送アーム4
によって,次に洗浄処理されるウェハWが洗浄装置51
に搬送される。先の図11,12に示しように,予め保
持部61がわずかながら下降移動して待機していたた
め,この状態から保持部61が上昇移動すれば,ウェハ
Wの周縁が保持溝61aに挿入されることになる。次
に,図15に示すように,保持部61が上昇移動して,
ウェハチャック4a,4bが開脚することにより,保持
部61が搬送アーム4からウェハWを受け取る。先に述
べたように,保持溝61a同士の間隔が崩れることがな
いため,保持部61と搬送アーム4の間で円滑なウェハ
Wの受け渡しを行うことができる。また,再びカバー6
2,63は開き,洗浄槽60の上面を開口させる。
Next, as shown in FIG.
As a result, the wafer W to be cleaned next is cleaned by the cleaning device 51.
Transported to As shown in FIGS. 11 and 12, since the holding unit 61 previously moved slightly down and was on standby, if the holding unit 61 moves up from this state, the peripheral edge of the wafer W is inserted into the holding groove 61a. Will be. Next, as shown in FIG. 15, the holding portion 61 moves upward,
When the wafer chucks 4a and 4b are opened, the holding unit 61 receives the wafer W from the transfer arm 4. As described above, since the interval between the holding grooves 61a does not collapse, the wafer W can be smoothly transferred between the holding unit 61 and the transfer arm 4. In addition, cover 6
2 and 63 are opened, and the upper surface of the cleaning tank 60 is opened.

【0066】次に,図16に示すように,保持部61は
下降移動してウェハWを洗浄槽60内に収納する。その
後,カバー62,63が閉じることにより薬液雰囲気を
拡散させない状態にして,洗浄槽60で薬液処理が開始
される。以後,洗浄装置51でウェハWの洗浄処理を繰
り返しても,洗浄槽60内の洗浄液を純水から薬液に置
換する際に,保持部61が薬液の温調による悪影響を受
けないので,保持部61の早期劣化を防ぎ,保持部61
の製品寿命を長期化することができる。
Next, as shown in FIG. 16, the holding unit 61 moves down to store the wafer W in the cleaning tank 60. Thereafter, the chemical solution treatment is started in the cleaning tank 60 by closing the covers 62 and 63 so that the chemical solution atmosphere is not diffused. Thereafter, even if the cleaning process of the wafer W is repeated by the cleaning device 51, the holding unit 61 is not adversely affected by the temperature control of the chemical solution when the cleaning solution in the cleaning tank 60 is replaced with the chemical solution from the pure water. Prevents early deterioration of the holding part 61
Product life can be extended.

【0067】次に,第2の実施の形態として,洗浄前の
ウェハWを収納したキャリアCの搬入及び洗浄前のウェ
ハWを取り出した空のキャリアCの搬出や,洗浄後のウ
ェハWを収納するための空のキャリアの搬入及び洗浄後
のウェハWを収納したキャリアの搬出を,6個ずつ行う
ように構成された搬入出装置70について説明する。
Next, as a second embodiment, the carrier C containing the wafer W before cleaning is loaded, the empty carrier C from which the wafer W before cleaning is taken out, and the wafer W after cleaning is stored. The loading / unloading device 70 configured to carry in empty carriers to carry out the cleaning and carry out the carriers accommodating the washed wafers W in units of six will be described.

【0068】図17に示すように,搬入出装置70は,
洗浄前のウェハWを収納したキャリアC及び洗浄前のウ
ェハWを取り出した空のキャリアCを貯めるための4つ
のストック部31,32,35,36と,洗浄後のウェ
ハWを収納するための空のキャリア及び洗浄後のウェハ
Wを収納したキャリアを貯めるための4つのストック部
33,34,37,38とを備えている。
As shown in FIG. 17, the loading / unloading device 70
Four stock units 31, 32, 35, and 36 for storing a carrier C containing the wafer W before cleaning and an empty carrier C from which the wafer W before cleaning is taken out, and for storing the wafer W after cleaning. There are provided four stock units 33, 34, 37, and 38 for storing an empty carrier and a carrier containing the wafer W after cleaning.

【0069】載置板8の上面には,ストック部31,3
2,35が隣接して設けられている。載置板9の上面に
は,ストック部36,33,34が隣接して設けられて
いる。ストック部37,38は,載置台7の上面に隣接
して設けられている。ストックス部35,36,37,
38を設けた以外は,先に説明した搬入出装置2と同一
の構成であるので,図3及び図17において,同一の機
能及び構成を有する構成要素については,同一符号を付
することにより,重複説明を省略する。
On the upper surface of the mounting plate 8, stock portions 31, 3
2, 35 are provided adjacent to each other. On the upper surface of the mounting plate 9, stock portions 36, 33, 34 are provided adjacent to each other. The stock units 37 and 38 are provided adjacent to the upper surface of the mounting table 7. Stocks department 35, 36, 37,
Since the configuration is the same as that of the loading / unloading device 2 described above except that the 38 is provided, the components having the same functions and configurations in FIGS. A duplicate description is omitted.

【0070】次に,以上のように構成された第2の実施
の形態にかかる搬入出装置70で行われるキャリアCの
搬入出方法について,表4,表5,表6,表7,表8に
基づいて説明する。
Next, Table 4, Table 5, Table 6, Table 7, and Table 8 will be described with respect to the loading / unloading method of the carrier C performed by the loading / unloading device 70 according to the second embodiment configured as described above. It will be described based on.

【0071】[0071]

【表4】 [Table 4]

【0072】[0072]

【表5】 [Table 5]

【0073】[0073]

【表6】 [Table 6]

【0074】[0074]

【表7】 [Table 7]

【0075】[0075]

【表8】 [Table 8]

【0076】洗浄前のウェハWを収納した4個のキャリ
アC1〜C6が搬入され,キャリアC1〜C6から洗浄
前のウェハWが取り出される工程は,次の表1のステッ
プ1〜ステップ20によって行われる。 ステップ 1:1番目のキャリアC1が洗浄前側イン
ポート13に搬入される。この搬入は,工場内の作業員
やAGVによって行われる。 ステップ 2:キャリアC1が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からステーション21aに
キャリアC1が移送される。これにより,洗浄前側イン
ポート13にはキャリアC1がない状態となるので,2
番目のキャリアC2を洗浄前側インポート13に続けて
搬入する。 ステップ 3:キャリアC2が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からステーション21bに
移送される。その後,ローダ・アンローダ部20で,ハ
ンド22,23によって洗浄前のウェハWがキャリアC
1,C2から取り出される。こうして,キャリアC1,
C2から取り出されたウェハWは,搬送アーム4に受け
取られ洗浄・乾燥処理部3に搬入される。ウェハWは,
洗浄装置53,51,乾燥装置50に順次搬送されて,
所定の洗浄及び乾燥処理が施される。また,洗浄前側イ
ンポート13にはキャリアC2がない状態となるので,
3番目のキャリアC3が洗浄前側インポート13に搬入
される。なお,このキャリアC1,C2からウェハWを
取り出す工程は,ステップ7で行うようにしても良い。 ステップ 4:ローダ・アンローダ部20にキャリア
C1,C2が置かれた状態なので,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部36にキャ
リアC3が移送される。これにより,洗浄前側インポー
ト13にはキャリアC3がない状態となるので,4番目
のキャリアC4を続けて洗浄前側インポート13に搬入
する。 ステップ 5:キャリアC4が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部35に移送
される。これにより,洗浄前側インポート13にはキャ
リアC4がない状態となるので,5番目のキャリアC5
を続けて洗浄前側インポート13に搬入する。 ステップ 6:キャリアC5が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部14に移送
される。これにより,洗浄前側インポート13にはキャ
リアC5がない状態となるので,6番目のキャリアC6
を続けて洗浄前側インポート13に搬入する。 ステップ 7:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
前のウェハWが取り出されて空となったキャリアC1,
C2が載置されている。また,キャリアC3がストック
部36に,キャリアC4がストック部35に,キャリア
C5がストック部14に,キャリアC6が洗浄前側イン
ポート13にそれぞれ載置されている。 ステップ 8:空となったキャリアC1が,移送アー
ム10によってステーション21aからストック部32
に移送される。 ステップ 9:空となったキャリアC2が,移送アー
ム10によってステーション21bからストック部31
に移送される。これにより,ローダ・アンローダ部20
に空となったキャリアC1,C2がない状態となる。 ステップ 10:キャリアC3が,移送アーム10によ
ってストック部36からステーション21aに移送され
る。 ステップ 11:キャリアC4が,移送アーム10によ
ってストック部35からステーション21bに移送され
る。その後,ローダ・アンローダ部20で,ハンド2
2,23によって洗浄前のウェハWがキャリアC3,C
4から取り出される。こうして,キャリアC3,C4か
ら取り出されたウェハWは,搬送アーム4に受け取られ
洗浄・乾燥処理部3に搬入される。これら洗浄前のウェ
ハWは,キャリアC1,C2から取り出されたウェハW
の洗浄及び乾燥処理の進行と重ならないように時期を図
りながら,洗浄装置53,51,乾燥装置50に順次搬
送されて,所定の洗浄及び乾燥処理が施される。 ステップ 12:空のキャリアC1が,移送アーム10
によってストック部32から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 13:キャリアC5が,移送アーム10によ
ってストック部14からストック部32に移送される。 ステップ 14:空のキャリアC2が,移送アーム10
によってストック部31からストック部14に移送され
る。一方,ローダ・アンローダ部20には,洗浄前のウ
ェハWが取り出されて空となったキャリアC3,C4が
載置されている。また,空のキャリアC1が洗浄前側ア
ウトポート12に,キャリアC5がストック部32に,
キャリアC6が洗浄前側インポート13にそれぞれ載置
されている。 ステップ 15:空となったキャリアC3が,移送アー
ム10によってステーション21aからストック部36
に移送される。 ステップ 16:空となったキャリアC4が,移送アー
ム10によってステーション21bからストック部35
に移送される。これにより,ローダ・アンローダ部20
に空となったキャリアC3,C4がない状態となる。 ステップ 17:キャリアC5が,移送アーム10によ
ってストック部32からステーション21aに移送され
る。 ステップ 18:キャリアC6が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック25bに移送
される。その後,ローダ・アンローダ部20で,ハンド
22,23によって洗浄前のウェハWがキャリアC5,
C6から取り出される。こうして,キャリアC5,C6
から取り出されたウェハWは,搬送アーム4に受け取ら
れ洗浄・乾燥処理部3に搬入される。これら洗浄前のウ
ェハWは,キャリアC1,C2,C3,C4から取り出
されたウェハWの洗浄及び乾燥処理の進行と重ならない
ように時期を図りながら,洗浄装置53,51,乾燥装
置50に順次搬送されて,所定の洗浄及び乾燥処理が施
される。 ステップ 19:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
前のウェハWが取り出されて空となったキャリアC5,
C6が載置されている。また,キャリアC1が洗浄前側
アウトポート12に,キャリアC2がストック部14
に,キャリアC3がストック部36に,キャリアC4が
ストック部35にそれぞれ載置されている。 ステップ 20:空となったキャリアC5が,移送アー
ム10によってステーション21aからストック部32
に移送される。
The process of loading the four carriers C1 to C6 accommodating the wafers W before cleaning and taking out the wafers W before cleaning from the carriers C1 to C6 is performed by steps 1 to 20 in Table 1 below. Will be Step 1: The first carrier C1 is carried into the pre-cleaning import 13. This loading is performed by a worker or an AGV in the factory. Step 2: The carrier C1 is transferred by the transfer arm 10 from the pre-cleaning import 13 to the station 21a. As a result, there is no carrier C1 in the pre-cleaning side import 13, so that 2
The second carrier C2 is carried in after the pre-cleaning import 13. Step 3: The carrier C2 is transferred by the transfer arm 10 from the pre-cleaning import 13 to the station 21b. Thereafter, in the loader / unloader section 20, the wafers W before cleaning are transferred to the carrier C by the hands 22 and 23.
1, C2. Thus, the carrier C1,
The wafer W taken out of C2 is received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. Wafer W is
It is sequentially transported to the cleaning devices 53 and 51 and the drying device 50,
A predetermined washing and drying process is performed. Also, since there is no carrier C2 in the import 13 before cleaning,
The third carrier C3 is carried into the pre-cleaning import 13. The step of taking out the wafer W from the carriers C1 and C2 may be performed in step S7. Step 4: Since the carriers C1 and C2 are placed on the loader / unloader unit 20, the carrier C3 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 36 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C3 in the pre-cleaning side import 13, so that the fourth carrier C4 is continuously carried into the pre-cleaning side import 13. Step 5: The carrier C4 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 35 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C4 in the pre-cleaning side import 13, so that the fifth carrier C5
Is carried into the pre-cleaning import 13. Step 6: The carrier C5 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, the carrier C5 is not present in the pre-cleaning side import 13, so that the sixth carrier C6 is not provided.
Is carried into the pre-cleaning import 13. Step 7: In the loader / unloader section 20, the empty carriers C1,
C2 is placed. The carrier C3 is placed on the stock unit 36, the carrier C4 is placed on the stock unit 35, the carrier C5 is placed on the stock unit 14, and the carrier C6 is placed on the pre-cleaning import 13. Step 8: The empty carrier C1 is moved from the station 21a to the stock unit 32 by the transfer arm 10.
Is transferred to Step 9: The empty carrier C2 is moved from the station 21b to the stock unit 31 by the transfer arm 10.
Is transferred to Thereby, the loader / unloader unit 20
No empty carriers C1 and C2 exist. Step 10: The carrier C3 is transferred from the stock unit 36 to the station 21a by the transfer arm 10. Step 11: The carrier C4 is transferred from the stock unit 35 to the station 21b by the transfer arm 10. Then, the hand 2 is loaded by the loader / unloader unit 20.
2 and 23, the wafer W before cleaning is transferred to carriers C3 and C
4 Thus, the wafer W taken out of the carriers C3 and C4 is received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. The wafers W before cleaning are the wafers W taken out of the carriers C1 and C2.
The cleaning and drying processes are sequentially carried to the cleaning devices 53 and 51 and the drying device 50 while taking time so as not to overlap with the progress of the cleaning and drying processes. Step 12: Empty carrier C1 is transferred to transfer arm 10
From the stock section 32 to the out-port 12 before cleaning.
Is transferred to Step 13: The carrier C5 is transferred from the stock unit 14 to the stock unit 32 by the transfer arm 10. Step 14: The empty carrier C2 is
Is transferred from the stock unit 31 to the stock unit 14. On the other hand, in the loader / unloader section 20, the carriers C3 and C4, which have been taken out of the wafer W before cleaning and become empty, are placed. In addition, the empty carrier C1 is in the out port 12 before cleaning, the carrier C5 is in the stock unit 32,
The carriers C6 are placed on the pre-cleaning import 13 respectively. Step 15: The empty carrier C3 is moved from the station 21a to the stock unit 36 by the transfer arm 10.
Is transferred to Step 16: The empty carrier C4 is moved from the station 21b to the stock unit 35 by the transfer arm 10.
Is transferred to Thereby, the loader / unloader unit 20
No empty carriers C3 and C4 exist. Step 17: The carrier C5 is transferred from the stock section 32 to the station 21a by the transfer arm 10. Step 18: The carrier C6 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock 25b by the transfer arm 10. Thereafter, in the loader / unloader section 20, the wafers W before cleaning are transferred to the carriers C5 and C5 by the hands 22 and 23.
Removed from C6. Thus, the carriers C5 and C6
The wafer W taken out of the wafer is received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. The wafers W before cleaning are sequentially sent to the cleaning devices 53, 51, and the drying device 50 while taking time so as not to overlap with the progress of the cleaning and drying processes of the wafers W taken out of the carriers C1, C2, C3, and C4. The wafer is conveyed and subjected to a predetermined washing and drying process. Step 19: The unloaded carrier C5, from which the wafer W before cleaning is taken out and emptied, is placed in the loader / unloader section 20.
C6 is placed. In addition, the carrier C1 is in the out port 12 on the pre-cleaning side, and the carrier C2 is in the stock portion 14.
The carrier C3 is placed on the stock unit 36, and the carrier C4 is placed on the stock unit 35. Step 20: The empty carrier C5 is moved from the station 21a to the stock unit 32 by the transfer arm 10.
Is transferred to

【0077】次いで,洗浄後のウェハWを収納するため
の6個の空のキャリアC’1,C’2,C’3,C’
4,C’5,C’6が搬入される。その後,洗浄前のウ
ェハWを取り出した空のキャリアC1〜C6が搬出され
る。一方,洗浄前のウェハWを収納した次の6個のキャ
リアC7,C8,C9,C10,C11,C12が搬入
される。これらの工程は,次の表1のステップ21〜ス
テップ22,表2のステップ23〜44及び表3ステッ
プ45,46によって行われる。 ステップ 21:空となったキャリアC6が,移送アー
ム10によってステーション21bからストック部31
に移送される。一方,1番目の空のキャリアC’1が洗
浄後側インポート15に搬入される。この搬入は,工場
内の作業員やAGVによって行われる。 ステップ 22:洗浄後側インポート15に搬入された
空のキャリアC’1が,移送アーム10によって洗浄後
側インポート15からストック部34に移送される。こ
れにより,洗浄後側インポート15にはキャリアC’1
がない状態となるので,2番目の空のキャリアC’2を
洗浄後側インポート15に続けて搬入す る。 ステップ 23:空のキャリアC’2が,移送ア
ーム10によって洗浄後側インポート15からストック
部33に移送される。これにより,洗浄後側インポート
15にはキャリアC’2がない状態となるので,3番目
の空のキャリアC’3を洗浄後側インポート15に続け
て搬入する。 ステップ 24:空のキャリアC’3が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部38
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’3がない状態となるので,4番目の空の
キャリアC’4を洗浄後側インポート15に続けて搬入
する。 ステップ 25:空のキャリアC’4が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部37
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’4がない状態となるので,5番目の空の
キャリアC’5を洗浄後側インポート15に続けて搬入
する。 ステップ 26:空のキャリアC’5が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部17
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’5がない状態となるので,6番目の空の
キャリアC’6を洗浄後側インポート15に続けて搬入
する。 ステップ 27:7番目のキャリアC7が洗浄前側イン
ポート13に搬入される。一方,空のキャリアC1が洗
浄前側アウトポート12から搬出される。この搬入出は
工場内の作業員やAGVによって行われる。これによ
り,洗浄前側アウトポート12には空のキャリアC1が
ない状態となる。 ステップ 28:空のキャリアC2が,移送アーム10
によってストック部14から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 29:キャリアC7が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部14に移送
される。これにより,洗浄前側インポート13にはキャ
リアC7がない状態となる。 ステップ 30:8番目のキャリアC8が洗浄前側イン
ポート13に搬入される。一方,空のキャリアC2は洗
浄前側アウトポート12から搬出される。これにより,
洗浄前側アウトポート12には空のキャリアC2がない
状態となる。 ステップ 31:空のキャリアC3が,移送アーム10
によってストック部36から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 32:キャリアC7が,移送アーム10によ
ってストック部14からストック部36に移送される。 ステップ 33:キャリアC8が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部14に移送
される。これにより,洗浄前側インポート13にはキャ
リアC8がない状態となる。 ステップ 34:9番目のキャリアC9が洗浄前側イン
ポート13に搬入される。一方,空のキャリアC3は洗
浄前側アウトポート12から搬出される。これにより,
洗浄前側アウトポート12には空のキャリアC3がない
状態となる。 ステップ 35:空のキャリアC4が,移送アーム10
によってストック部35から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 36:キャリアC8が,移送アーム10によ
ってストック部14からストック部35に移送される。 ステップ 37:キャリアC9が,移送アーム10によ
って洗浄前側インポート13からストック部14に移送
される。これにより,洗浄前側インポート13にはキャ
リアC9がない状態となる。 ステップ 38:10番目のキャリアC10が洗浄前側
インポート13に搬入される。一方,空のキャリアC4
は洗浄前側アウトポート12から搬出される。これによ
り,洗浄前側アウトポート12には空のキャリアC4が
ない状態となる。 ステップ 39:空のキャリアC5が,移送アーム10
によってストック部32から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 40:キャリアC9が,移送アーム10によ
ってストック部14からストック部32に移送される。 ステップ 41:キャリアC10が,移送アーム10に
よって洗浄前側インポート13からストック部14に移
送される。これにより,洗浄前側インポート13にはキ
ャリアC10がない状態となる。 ステップ 42:11番目のキャリアC11が洗浄前側
インポート13に搬入される。一方,空のキャリアC5
は洗浄前側アウトポート12から搬出される。これによ
り,洗浄前側アウトポート12には空のキャリアC5が
ない状態となる。 ステップ 43:空のキャリアC6が,移送アーム10
によってストック部31から洗浄前側アウトポート12
に移送される。 ステップ 44:キャリアC10が,移送アーム10に
よってストック部14からストック部31に移送され
る。 ステップ 45:キャリアC11が,移送アーム10に
よって洗浄前側インポート13からストック部14に移
送される。これにより,洗浄前側インポート13にはキ
ャリアC11がない状態となる。 ステップ 46:12番目のキャリアC12が洗浄前側
インポート13に搬入される。一方,空のキャリアC6
は洗浄前側アウトポート12から搬出される。
Next, six empty carriers C'1, C'2, C'3, C 'for accommodating the wafer W after cleaning.
4, C'5 and C'6 are carried in. Thereafter, the empty carriers C1 to C6 from which the wafers W before cleaning have been taken out are carried out. On the other hand, the next six carriers C7, C8, C9, C10, C11, and C12 containing the wafers W before cleaning are carried in. These steps are performed by the following steps 21 to 22 in Table 1, steps 23 to 44 in Table 2, and steps 45 and 46 in Table 3. Step 21: The empty carrier C6 is moved from the station 21b to the stock unit 31 by the transfer arm 10.
Is transferred to On the other hand, the first empty carrier C′1 is carried into the cleaning-side import 15. This loading is performed by a worker or an AGV in the factory. Step 22: The empty carrier C′1 carried into the post-wash import 15 is transferred from the post-clean import 15 to the stock unit 34 by the transfer arm 10. As a result, the carrier C'1 is added to the post-wash side import 15.
Since there is no carrier, the second empty carrier C ′ 2 is carried in after the cleaning side import 15. Step 23: The empty carrier C'2 is transferred from the post-wash side import 15 to the stock unit 33 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C'2 in the post-cleaning import 15, so that the third empty carrier C'3 is carried in after the cleaning-side import 15. Step 24: Empty carrier C'3 is transferred to transfer arm 1
Stock portion 38 from import 15 after cleaning by 0
Is transferred to As a result, the carrier C'3 does not exist in the post-cleaning side import 15, so that the fourth empty carrier C'4 is carried in after the cleaning-side side import 15. Step 25: Empty carrier C'4 is transferred to transfer arm 1
Stock part 37 from import side 15 after washing by 0
Is transferred to As a result, the carrier C'4 does not exist in the post-cleaning side import 15, so that the fifth empty carrier C'5 is carried in after the cleaning-side side import 15. Step 26: Empty carrier C'5 is transferred to transfer arm 1
Stock part 17 from back side import 15 after washing by 0
Is transferred to As a result, the carrier C'5 does not exist in the post-cleaning side import 15, so that the sixth empty carrier C'6 is carried in after the cleaning-side side import 15. Step 27: The seventh carrier C7 is carried into the pre-cleaning import 13. On the other hand, the empty carrier C1 is carried out from the pre-cleaning-side out port 12. The loading and unloading is performed by workers and AGVs in the factory. As a result, there is no empty carrier C1 in the pre-wash out port 12. Step 28: The empty carrier C2 is
From the stock section 14 to the out-port 12 before cleaning.
Is transferred to Step 29: The carrier C7 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C7 in the pre-cleaning import 13. Step 30: The eighth carrier C8 is carried into the pre-cleaning side import 13. On the other hand, the empty carrier C2 is carried out from the pre-wash out port 12. This gives
There is no empty carrier C2 in the out-port 12 before cleaning. Step 31: Empty carrier C3 is transferred to transfer arm 10
From the stock part 36 to the out-port 12 before cleaning.
Is transferred to Step 32: The carrier C7 is transferred from the stock section 14 to the stock section 36 by the transfer arm 10. Step 33: The carrier C8 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C8 in the pre-cleaning side import 13. Step 34: The ninth carrier C9 is carried into the pre-cleaning side import 13. On the other hand, the empty carrier C3 is carried out from the out-port 12 before cleaning. This gives
There is no empty carrier C3 in the pre-wash out port 12. Step 35: Empty carrier C4 is transferred to transfer arm 10
Out port 12 from the stock section 35
Is transferred to Step 36: The carrier C8 is transferred from the stock section 14 to the stock section 35 by the transfer arm 10. Step 37: The carrier C9 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C9 in the pre-cleaning side import 13. Step 38: The tenth carrier C10 is carried into the pre-cleaning side import 13. On the other hand, empty carrier C4
Is carried out from the out-port 12 before cleaning. As a result, there is no empty carrier C4 in the out-port 12 before cleaning. Step 39: Empty carrier C5 is transferred to transfer arm 10
From the stock section 32 to the out-port 12 before cleaning.
Is transferred to Step 40: The carrier C9 is transferred from the stock section 14 to the stock section 32 by the transfer arm 10. Step 41: The carrier C10 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, the carrier 13 is not in the pre-cleaning import 13. Step 42: The eleventh carrier C11 is carried into the pre-cleaning side import 13. On the other hand, empty carrier C5
Is carried out from the out-port 12 before cleaning. As a result, there is no empty carrier C5 in the out-port 12 before cleaning. Step 43: The empty carrier C6 is moved to the transfer arm 10
From the stock unit 31 to the out-port 12 before cleaning.
Is transferred to Step 44: The carrier C10 is transferred from the stock unit 14 to the stock unit 31 by the transfer arm 10. Step 45: The carrier C11 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 14 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C11 in the pre-cleaning side import 13. Step 46: The twelfth carrier C12 is carried into the pre-cleaning side import 13. On the other hand, empty carrier C6
Is carried out from the out-port 12 before cleaning.

【0078】次いで,キャリアC1〜C6から取り出さ
れたウェハWに対して所定の洗浄及び乾燥処理が終了す
ると,これら洗浄後のウェハWは,空のキャリアC’1
〜C’6に順次収納される。一方,搬入されたキャリア
C7〜C12から洗浄前のウェハWが取り出される。こ
れらの工程は,次の表2のステップ47〜66及び表3
のステップ67〜81によって行われる。 ステップ 47:空のキャリアC’1が,移送アーム1
0によってストック部34からステーション21aに移
送される。 ステップ 48:空のキャリアC’2が,移送アーム1
0によってストック部33からステーション21bに移
送される。その後,搬送アーム4によって,既に所定の
洗浄及び乾燥処理を終了したウェハWがローダ・アンロ
ーダ部20に搬送され,ハンド22,23によってウェ
ハWがキャリアC’1,C’2に収納される。 ステップ 49:空のキャリアC’5が,移送アーム1
0によってストック部17からストック部34に移送さ
れる。 ステップ 50:空のキャリアC’6が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部33
に移送される。一方,ローダ・アンローダ部20には,
洗浄後のウェハWが収納されたキャリアC’1,C’2
が載置されている。また,空のキャリアC’3がストッ
ク部38に,空のキャリアC’4がストック部37に,
空のキャリアC’5がストック部34に,キャリアC7
がストック部36に,キャリアC8がストック部35
に,キャリアC9がストック部32に,キャリアC10
がストック部31に,キャリアC11がストック部14
に,キャリアC12が洗浄前側インポート13にそれぞ
れ載置されている。 ステップ 51:キャリアC’1が,移送アーム10に
よってステーション21aから洗浄後側アウトポート1
6に移送される。 ステップ 52:キャリアC’2が,移送アーム10に
よってステーション21bからストック部17に移送さ
れる。これにより,ローダ・アンローダ部20にキャリ
アC1’,C2’がない状態となる。 ステップ 53:キャリアC7が,移送アーム10によ
ってストック部36からステーション21aに移送され
る。 ステップ 54:キャリアC8が,移送アーム10によ
ってストック部35からステーション21bに移送され
る。その後,ローダ・アンローダ部20で,ハンド2
2,23によって洗浄前のウェハWがキャリアC7,C
8から取り出される。こうして,キャリアC7,C8か
ら取り出されたウェハWは,搬送アーム4に受け取られ
洗浄・乾燥処理部3に搬入される。これら洗浄前のウェ
ハWは,キャリアC3,C4,C5,C6から取り出さ
れたウェハWの洗浄及び乾燥処理の進行と重ならないよ
うに時期を図りながら,洗浄装置53,51,乾燥装置
50に順次搬送されて,所定の洗浄及び乾燥処理が施さ
れる。 ステップ 55:キャリアC9が,移送アーム10によ
ってストック部32からストック部36に移送される。 ステップ 56:キャリアC10が,移送アーム10に
よってストック部31からストック部35に移送され
る。 ステップ 57:キャリアC11が,移送アーム10に
よってストック部14からストック部32に移送され
る。 ステップ 58:キャリアC12が,移送アーム10に
よって洗浄前側インポート13からストック部31に移
送される。一方,ローダ・アンローダ部20には,洗浄
前のウェハWが取り出されて空となったキャリアC7,
C8が載置されている。また,キャリアC9がストック
部36に,キャリアC10がストック部35に,キャリ
アC11がストック部32に,キャリアC’1が洗浄後
側アウトポート16に,キャリアC’2がストック部1
7に,空のキャリアC’3がストック部38に,空のキ
ャリアC’4がストック部37に,空のキャリアC’5
がストック部34に,空のキャリアC’6がストック部
33にそれぞれ載置されている。 ステップ 59:空となったキャリアC7が,移送アー
ム10によってステーション21aから洗浄前側アウト
ポート12に移送される。 ステップ 60:空となったキャリアC8が,移送アー
ム10によってステーション21bからストック部14
に移送される。これにより,ローダ・アンローダ部20
に空となったキャリアC7,C8がない状態となる。 ステップ 61:空のキャリアC’3が,移送アーム1
0によってストック部38からステーション21aに移
送される。 ステップ 62:空のキャリアC’4が,移送アーム1
0によってストック部37からステーション21bに移
送される。その後,搬送アーム4によって,既に所定の
洗浄及び乾燥処理を終了したウェハWがローダ・アンロ
ーダ部20に搬送され,ハンド22,23によってウェ
ハWがキャリアC’3,C’4に収納される。 ステップ 63:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
後のウェハWが収納されたキャリアC’3,C’4が載
置されている。また,キャリアC’1が洗浄後側アウト
ポート16に,キャリアC’2がストック部17に,空
のキャリアC’5がストック部34に,空のキャリア
C’6がストック部33に,空のキャリアC7が洗浄前
側アウトポート12に,空のキャリアC8がストック部
14に,キャリアC9がストック部36に,キャリアC
10がストック部35に,キャリアC11がストック部
32に,キャリアC12がストック部31にそれぞれ載
置されている。 ステップ 64:キャリアC’3が,移送アーム10に
よってステーション21aからストック部38に移送さ
れる。 ステップ 65:キャリアC’4が,移送アーム10に
よってステーション21bからストック部37に移送さ
れる。これにより,ローダ・アンローダ部20にキャリ
アC’3,C’4がない状態となる。 ステップ 66:キャリアC9が,移送アーム10によ
ってストック部36からステーション21aに移送され
る。 ステップ 67:キャリアC10が,移送アーム10に
よってストック部35からステーション21bに移送さ
れる。その後,ローダ・アンローダ部20で,ハンド2
2,23によって洗浄前のウェハWがキャリアC9,C
10から取り出される。こうして,キャリアC9,C1
0から取り出されたウェハWは,搬送アーム4に受け取
られ洗浄・乾燥処理部3に搬入される。これら洗浄前の
ウェハWは,キャリアC5,C6,C7,C8から取り
出されたウェハWの洗浄及び乾燥処理の進行と重ならな
いように時期を図りながら,洗浄装置53,51,乾燥
装置50に順次搬送されて,所定の洗浄及び乾燥処理が
施される。 ステップ 68:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
前のウェハWが取り出されて空となったキャリアC9,
C10が載置されている。また,空のキャリアC7が洗
浄前側アウトポート12に,空のキャリアC8がストッ
ク部14に,キャリアC11がストック部32に,キャ
リアC12がストック部31に,キャリアC’1が洗浄
後側アウトポート16に,キャリアC’2がストック部
17に,キャリアC’3がストック部38に,キャリア
C’4がストック部37に,空のキャリアC’5がスト
ック部34に,空のキャリアC’6がストック部33に
それぞれ載置されている。 ステップ 69:空となったキャリアC9が,移送アー
ム10によってステーション21aからストック部36
に移送される。 ステップ 70:空となったキャリアC10が,移送ア
ーム10によってステーション21bからストック部3
5に移送される。これにより,ローダ・アンローダ部2
0に空となったキャリアC9,C10がない状態とな
る。 ステップ 71:空のキャリアC’5が,移送アーム1
0によってストック部34からステーション21aに移
送される。 ステップ 72:空のキャリアC’6が,移送アーム1
0によってストック部33からステーション21bに移
送される。その後,搬送アーム4によって,既に所定の
洗浄及び乾燥処理を終了したウェハWがローダ・アンロ
ーダ部20に搬送され,ハンド22,23によってウェ
ハWがキャリアC’5,C’6に収納される。 ステップ 73:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
後のウェハWが収納されたキャリアC’5,C’6が載
置されている。また,キャリアC’1が洗浄後側アウト
ポート16に,キャリアC’2がストック部17に,キ
ャリアC’3がストック部38に,キャリアC’4がス
トック部37に,空のキャリアC7が洗浄前側アウトポ
ート12に,空のキャリアC8がストック部14に,空
のキャリアC9がストック部36に,空のキャリアC1
0がストック部35に,キャリアC11がストック部3
2に,キャリアC12がストック部31にそれぞれ載置
されている。 ステップ 74:キャリアC’5が,移送アーム10に
よってステーション21aからストック部34に移送さ
れる。 ステップ 75:キャリアC’6が,移送アーム10に
よってステーション21bからストック部33に移送さ
れる。これにより,ローダ・アンローダ部20にキャリ
アC’5,C’6がない状態となる。 ステップ 76:キャリアC11が,移送アーム10に
よってストック部32からステーション21aに移送さ
れる。 ステップ 77:キャリアC12が,移送アーム10に
よってストック部31からステーション21bに移送さ
れる。その後,ローダ・アンローダ部20で,ハンド2
2,23によって洗浄前のウェハWがキャリアC11,
C12から取り出される。こうして,キャリアC11,
C12から取り出されたウェハWは,搬送アーム4に受
け取られ洗浄・乾燥処理部3に搬入される。これら洗浄
前のウェハWは,キャリアC7,C8,C9,C10か
ら取り出されたウェハWの洗浄及び乾燥処理の進行と重
ならないように時期を図りながら,洗浄装置53,5
1,乾燥装置50に順次搬送されて,所定の洗浄及び乾
燥処理が施される。 ステップ 78:ローダ・アンローダ部20には,洗浄
前のウェハWが取り出されて空となったキャリアC1
1,C12が載置されている。また,キャリアC’1が
洗浄後側アウトポート16に,キャリアC’2がストッ
ク部17に,キャリアC’3がストック部38に,キャ
リアC’4がストック部37に,キャリアC’5がスト
ック部34に,キャリアC’6がストック部33に,空
のキャリアC7が洗浄前側アウトポート12に,空のキ
ャリアC8がストック部14に,空のキャリアC9がス
トック部36に,空のキャリアC10がストック部35
にそれぞれ載置されている。 ステップ 79:空となったキャリアC11が,移送ア
ーム10によってステーション21aからストック部3
2に移送される。 ステップ 80:空となったキャリアC12が,移送ア
ーム10によってステーション21bからストック部3
1に移送される。これにより,ローダ・アンローダ部2
0に空となったキャリアC11,C12がない状態とな
Next, when predetermined cleaning and drying processes are completed on the wafers W taken out of the carriers C1 to C6, the wafers W after these cleanings are removed from the empty carrier C'1.
To C'6. On the other hand, the wafer W before cleaning is taken out from the loaded carriers C7 to C12. These steps correspond to steps 47 to 66 in Table 2 below and Table 3
Steps 67 to 81 are performed. Step 47: Empty carrier C'1 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 34 to the station 21a. Step 48: Empty carrier C'2 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 33 to the station 21b. Thereafter, the wafer W, which has been subjected to the predetermined cleaning and drying processes, is transferred to the loader / unloader unit 20 by the transfer arm 4, and the hands W, 23 store the wafer W in the carriers C'1, C'2. Step 49: Empty carrier C'5 is transferred to transfer arm 1
By 0, it is transferred from the stock unit 17 to the stock unit 34. Step 50: The empty carrier C'6 is moved to the transfer arm 1
The stock part 33 from the side import 15 after washing by 0
Is transferred to On the other hand, the loader / unloader unit 20 includes:
Carriers C′1 and C′2 in which wafers W after cleaning are stored
Is placed. The empty carrier C'3 is in the stock unit 38, the empty carrier C'4 is in the stock unit 37,
The empty carrier C'5 is stored in the stock unit 34, and the carrier C7 is
Is the stock unit 36, and the carrier C8 is the stock unit 35.
The carrier C9 is in the stock section 32, and the carrier C10
Is the stock unit 31, and the carrier C11 is the stock unit 14.
The carrier C12 is placed on the pre-cleaning import 13 respectively. Step 51: The carrier C′1 is moved from the station 21a by the transfer arm 10 to the out-port 1 after cleaning.
Transferred to 6. Step 52: The carrier C'2 is transferred from the station 21b to the stock unit 17 by the transfer arm 10. As a result, the loader / unloader section 20 has no carriers C1 'and C2'. Step 53: The carrier C7 is transferred from the stock unit 36 to the station 21a by the transfer arm 10. Step 54: The carrier C8 is transferred from the stock unit 35 to the station 21b by the transfer arm 10. Then, the hand 2 is loaded by the loader / unloader unit 20.
2 and 23, the wafer W before cleaning is transferred to carriers C7 and C
8 Thus, the wafer W taken out of the carriers C7 and C8 is received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. The wafers W before cleaning are sequentially sent to the cleaning devices 53, 51, and the drying device 50 while taking time so as not to overlap with the progress of the cleaning and drying processes of the wafers W taken out of the carriers C3, C4, C5, and C6. The wafer is conveyed and subjected to a predetermined washing and drying process. Step 55: The carrier C9 is transferred from the stock section 32 to the stock section 36 by the transfer arm 10. Step 56: The carrier C10 is transferred from the stock unit 31 to the stock unit 35 by the transfer arm 10. Step 57: The carrier C11 is transferred from the stock unit 14 to the stock unit 32 by the transfer arm 10. Step 58: The carrier C12 is transferred from the pre-cleaning import 13 to the stock unit 31 by the transfer arm 10. On the other hand, the loader / unloader unit 20 has an empty carrier C7 from which the unwashed wafer W has been taken out.
C8 is mounted. Also, the carrier C9 is in the stock section 36, the carrier C10 is in the stock section 35, the carrier C11 is in the stock section 32, the carrier C'1 is in the post-wash out port 16, and the carrier C'2 is in the stock section 1.
7, the empty carrier C'3 is in the stock unit 38, the empty carrier C'4 is in the stock unit 37, and the empty carrier C'5 is
Are placed on the stock section 34, and the empty carrier C'6 is placed on the stock section 33. Step 59: The empty carrier C7 is transferred by the transfer arm 10 from the station 21a to the out-port 12 before cleaning. Step 60: The empty carrier C8 is moved from the station 21b to the stock unit 14 by the transfer arm 10.
Is transferred to Thereby, the loader / unloader unit 20
No carriers C7 and C8 are empty. Step 61: Empty carrier C'3 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 38 to the station 21a. Step 62: Empty carrier C'4 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 37 to the station 21b. Thereafter, the wafer W, which has been subjected to the predetermined cleaning and drying processing, is transferred to the loader / unloader unit 20 by the transfer arm 4, and the wafers W are stored in the carriers C'3, C'4 by the hands 22,23. Step 63: Carriers C′3 and C′4 containing the washed wafer W are placed on the loader / unloader unit 20. Further, the carrier C′1 is in the out port 16 after cleaning, the carrier C′2 is in the stock section 17, the empty carrier C′5 is in the stock section 34, the empty carrier C′6 is in the stock section 33, and the empty carrier C′6 is in the stock section 33. Of the carrier C7 in the out port 12 before cleaning, the empty carrier C8 in the stock section 14, the carrier C9 in the stock section 36, and the carrier C
10 is mounted on the stock unit 35, the carrier C11 is mounted on the stock unit 32, and the carrier C12 is mounted on the stock unit 31. Step 64: The carrier C'3 is transferred from the station 21a to the stock section 38 by the transfer arm 10. Step 65: The carrier C'4 is transferred from the station 21b to the stock unit 37 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C'3, C'4 in the loader / unloader section 20. Step 66: The carrier C9 is transferred from the stock unit 36 to the station 21a by the transfer arm 10. Step 67: The carrier C10 is transferred from the stock unit 35 to the station 21b by the transfer arm 10. Then, the hand 2 is loaded by the loader / unloader unit 20.
2 and 23, the wafer W before cleaning is transferred to carriers C9 and C9.
Removed from 10. Thus, the carriers C9 and C1
The wafer W taken out from 0 is received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. The wafers W before cleaning are sequentially sent to the cleaning devices 53, 51, and the drying device 50 while taking time so as not to overlap with the progress of the cleaning and drying processes of the wafers W taken out of the carriers C5, C6, C7, and C8. The wafer is conveyed and subjected to a predetermined washing and drying process. Step 68: The loader / unloader unit 20 includes the empty carrier C9 from which the uncleaned wafer W has been taken out.
C10 is mounted. The empty carrier C7 is in the out port 12 before cleaning, the empty carrier C8 is in the stock section 14, the carrier C11 is in the stock section 32, the carrier C12 is in the stock section 31, and the carrier C'1 is in the out port after cleaning. 16, the carrier C'2 is in the stocking section 17, the carrier C'3 is in the stocking section 38, the carrier C'4 is in the stocking section 37, the empty carrier C'5 is in the stocking section 34, and the empty carrier C ' 6 are placed on the stock sections 33, respectively. Step 69: The empty carrier C9 is moved from the station 21a to the stock unit 36 by the transfer arm 10.
Is transferred to Step 70: The empty carrier C10 is moved from the station 21b to the stock unit 3 by the transfer arm 10.
Transferred to 5. Thereby, the loader / unloader unit 2
There is no empty carrier C9, C10 at 0. Step 71: Empty carrier C'5 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 34 to the station 21a. Step 72: Empty carrier C'6 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 33 to the station 21b. Thereafter, the wafer W, which has been subjected to the predetermined cleaning and drying processing, is transferred to the loader / unloader unit 20 by the transfer arm 4, and the wafers W are stored in the carriers C'5, C'6 by the hands 22,23. Step 73: The carriers C'5 and C'6 each containing the washed wafer W are placed on the loader / unloader unit 20. Also, the carrier C′1 is in the out port 16 after cleaning, the carrier C′2 is in the stock unit 17, the carrier C′3 is in the stock unit 38, the carrier C′4 is in the stock unit 37, and the empty carrier C7 is The empty carrier C8 is in the stock unit 14, the empty carrier C9 is in the stock unit 36, the empty carrier C1 is in the outport 12 before cleaning.
0 is the stock unit 35, and carrier C11 is the stock unit 3.
2, a carrier C12 is placed on the stock unit 31, respectively. Step 74: The carrier C'5 is transferred from the station 21a to the stock unit 34 by the transfer arm 10. Step 75: The carrier C'6 is transferred from the station 21b to the stock unit 33 by the transfer arm 10. As a result, there is no carrier C'5, C'6 in the loader / unloader section 20. Step 76: The carrier C11 is transferred from the stock section 32 to the station 21a by the transfer arm 10. Step 77: The carrier C12 is transferred from the stock unit 31 to the station 21b by the transfer arm 10. Then, the hand 2 is loaded by the loader / unloader unit 20.
2 and 23, the wafer W before cleaning is transferred to the carrier C11,
Removed from C12. Thus, the carrier C11,
The wafer W taken out from C12 is received by the transfer arm 4 and carried into the cleaning / drying processing unit 3. These pre-cleaning wafers W are cleaned by the cleaning devices 53, 5 while taking care not to overlap with the progress of the cleaning and drying processes of the wafers W taken out of the carriers C7, C8, C9, C10.
1, are sequentially conveyed to the drying device 50, and are subjected to predetermined cleaning and drying processes. Step 78: In the loader / unloader section 20, the empty carrier C1 is taken out of the wafer W before cleaning.
1 and C12 are placed. Also, the carrier C′1 is in the out port 16 after cleaning, the carrier C′2 is in the stock section 17, the carrier C′3 is in the stock section 38, the carrier C′4 is in the stock section 37, and the carrier C′5 is in the stock section. In the stock section 34, the carrier C'6 is in the stock section 33, the empty carrier C7 is in the front out port 12, the empty carrier C8 is in the stock section 14, the empty carrier C9 is in the stock section 36, and the empty carrier. C10 is the stock unit 35
Respectively. Step 79: The empty carrier C11 is moved from the station 21a to the stock unit 3 by the transfer arm 10.
Transferred to 2. Step 80: The empty carrier C12 is moved from the station 21b to the stock unit 3 by the transfer arm 10.
Transferred to 1. Thereby, the loader / unloader unit 2
There is no empty carrier C11, C12 at 0

【0079】次いで,洗浄後のウェハWを収納したキャ
リアC’1〜C’6が搬出される一方で,洗浄後のウェ
ハWを収納するための次の6個の空のキャリアC’7,
C’8,C’9,C’10,C’11,C’12が搬入
される。これらの工程は,次の表7のステップ81〜ス
テップ83及び表8のステップ84〜ステップ102に
よって行われる。 ステップ 81:7番目の空のキャリアC’7が洗浄後
側インポート15に搬入される。一方,キャリアC’1
が洗浄後側アウトポート16から搬出される。この搬入
出は工場内の作業員やAGVによって行われる。これに
より,洗浄後側アウトポート16にはキャリアC’1が
ない状態となる。 ステップ 82:キャリアC’2が,移送アーム10に
よってストック部17から洗浄後側アウトポート16に
移送される。 ステップ 83:空のキャリアC’7が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部17
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’7がない状態となる。 ステップ 84:8番目の空のキャリアC’8が洗浄後
側インポート15に搬入される。一方,キャリアC’2
は洗浄後側アウトポート16から搬出される。これによ
り,洗浄後側アウトポート16にはキャリアC’2がな
い状態となる。 ステップ 85:キャリアC’3が,移送アーム10に
よってストック部38から洗浄後側アウトポート16に
移送される。 ステップ 86:空のキャリアC’7が,移送アーム1
0によってストック部17からストック部38に移送さ
れる。 ステップ 87:空のキャリアC’8が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部17
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’8がない状態となる。 ステップ 88:9番目の空のキャリアC’9が洗浄後
側インポート15に搬入される。一方,キャリアC’3
は洗浄後側アウトポート16から搬出される。これによ
り,洗浄後側アウトポート16にはキャリアC’3がな
い状態となる。 ステップ 89:キャリアC’4が,移送アーム10に
よってストック部37から洗浄後側アウトポート16に
移送される。 ステップ 90:空のキャリアC’8が,移送アーム1
0によってストック部17からストック部37に移送さ
れる。 ステップ 91:空のキャリアC’9が,移送アーム1
0によって洗浄後側インポート15からストック部17
に移送される。これにより,洗浄後側インポート15に
はキャリアC’9がない状態となる。 ステップ 92:10番目の空のキャリアC’10が洗
浄後側インポート15に搬入される。一方,キャリア
C’4は洗浄後側アウトポート16から搬出される。こ
れにより,洗浄後側アウトポート16にはキャリアC’
4がない状態となる。 ステップ 93:キャリアC’5が,移送アーム10に
よってストック部34から洗浄後側アウトポート16に
移送される。 ステップ 94:空のキャリアC’7が,移送アーム1
0によってストック部38からストック部34に移送さ
れる。 ステップ 95:空のキャリアC’9が,移送アーム1
0によってストック部17からストック部38に移送さ
れる。 ステップ 96:空のキャリアC’10が,移送アーム
10によって洗浄後側インポート15からストック部1
7に移送される。これにより,洗浄後側インポート15
にはキャリアC’10がない状態となる。 ステップ 97:11番目の空のキャリアC’11が洗
浄後側インポート15に搬入される。一方,キャリア
C’5は洗浄後側アウトポート16から搬出される。こ
れにより,洗浄後側アウトポート16にはキャリアC’
5がない状態となる。 ステップ 98:キャリアC’6が,移送アーム10に
よってストック部33から洗浄後側アウトポート16に
移送される。 ステップ 99:空のキャリアC’8が,移送アーム1
0によってストック部37からストック部33に移送さ
れる。 ステップ100:空のキャリアC’10が,移送アーム
10によってストック部17からストック部37に移送
される。 ステップ101:空のキャリアC’11が,移送アーム
10によって洗浄後側インポート15からストック部1
7に移送される。これにより,洗浄後側インポート15
にはキャリアC’11がない状態となる。 ステップ102:12番目の空のキャリアC’12が洗
浄後側インポート15に搬入される。一方,キャリア
C’6は洗浄後側アウトポート16から搬出される。
Next, while the carriers C'1 to C'6 accommodating the cleaned wafer W are unloaded, the next six empty carriers C'7,
C'8, C'9, C'10, C'11, and C'12 are carried in. These steps are performed by steps 81 to 83 in Table 7 and steps 84 to 102 in Table 8 below. Step 81: The seventh empty carrier C'7 is carried into the post-cleaning side import 15. On the other hand, carrier C'1
Is carried out from the out port 16 after cleaning. The loading and unloading is performed by workers and AGVs in the factory. As a result, there is no carrier C′1 in the out-port 16 after cleaning. Step 82: The carrier C'2 is transferred by the transfer arm 10 from the stock unit 17 to the out-port 16 after cleaning. Step 83: Empty carrier C'7 is transferred to transfer arm 1
Stock part 17 from back side import 15 after washing by 0
Is transferred to As a result, there is no carrier C'7 in the post-cleaning side import 15. Step 84: The eighth empty carrier C'8 is carried into the after-cleaning side import 15. On the other hand, carrier C'2
Is carried out from the out port 16 after cleaning. As a result, there is no carrier C'2 in the out-port 16 after cleaning. Step 85: The carrier C'3 is transferred by the transfer arm 10 from the stock section 38 to the post-wash out port 16. Step 86: Empty carrier C'7 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 17 to the stock unit 38. Step 87: Empty carrier C'8 is transferred to transfer arm 1
Stock part 17 from back side import 15 after washing by 0
Is transferred to As a result, there is no carrier C'8 in the post-wash side import 15. Step 88: The ninth empty carrier C'9 is carried into the post-cleaning side import 15. On the other hand, carrier C'3
Is carried out from the out port 16 after cleaning. As a result, there is no carrier C′3 in the out-port 16 after cleaning. Step 89: The carrier C'4 is transferred by the transfer arm 10 from the stock unit 37 to the out-port 16 after cleaning. Step 90: The empty carrier C'8 is moved to the transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 17 to the stock unit 37. Step 91: Empty carrier C'9 is transferred to transfer arm 1
Stock part 17 from back side import 15 after washing by 0
Is transferred to As a result, there is no carrier C ′ 9 in the post-wash side import 15. Step 92: The tenth empty carrier C'10 is carried into the post-cleaning side import 15. On the other hand, the carrier C ′ 4 is carried out from the out port 16 after cleaning. As a result, the carrier C ′ is connected to the out-port 16 after cleaning.
There is no four. Step 93: The carrier C'5 is transferred by the transfer arm 10 from the stock section 34 to the out-port 16 after cleaning. Step 94: Empty carrier C'7 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 38 to the stock unit 34. Step 95: Empty carrier C'9 is transferred to transfer arm 1
0 transfers from the stock unit 17 to the stock unit 38. Step 96: The empty carrier C ′ 10 is moved from the post-wash side import 15 by the transfer arm 10 to the stock unit 1.
Transferred to 7. As a result, the import after cleaning 15
Is in a state without the carrier C'10. Step 97: The 11th empty carrier C'11 is carried into the after-cleaning side import 15. On the other hand, the carrier C'5 is carried out from the out port 16 after cleaning. As a result, the carrier C ′ is connected to the out-port 16 after cleaning.
5 is not present. Step 98: The carrier C'6 is transferred by the transfer arm 10 from the stock unit 33 to the out-port 16 after cleaning. Step 99: The empty carrier C'8 is moved to the transfer arm 1
Due to 0, it is transferred from the stock unit 37 to the stock unit 33. Step 100: The empty carrier C'10 is transferred from the stock unit 17 to the stock unit 37 by the transfer arm 10. Step 101: The empty carrier C'11 is moved from the post-wash side import 15 to the stock unit 1 by the transfer arm 10.
Transferred to 7. As a result, the import after cleaning 15
Is in a state without the carrier C′11. Step 102: The twelfth empty carrier C′12 is carried into the after-cleaning side import 15. On the other hand, the carrier C ′ 6 is carried out from the out port 16 after cleaning.

【0080】以後,上記搬入出装置2と同様に,この搬
入出装置70においても,同じ手順でキャリアCの搬入
出を繰り返すので,ウェハWの洗浄及び乾燥処理を連続
して行うことができる。また,この搬入出装置70に,
一度に搬入出できるキャリアCの個数が増加したため,
その分,搬入出装置2よりもキャリアCの搬入出を効率
的に行うことができる。また,搬入出装置2と比べて作
業員等が不在でもよい期間が長くなる。
Thereafter, as in the loading / unloading device 2, the loading / unloading device 70 repeats loading / unloading of the carrier C in the same procedure, so that the cleaning and drying of the wafer W can be performed continuously. In addition, this loading / unloading device 70
Because the number of carriers C that can be carried in and out at one time has increased,
The carrier C can be carried in and out more efficiently than the carry-in / out device 2. Further, as compared with the loading / unloading device 2, the period during which the worker or the like may be absent becomes longer.

【0081】なお,本発明の実施の形態の一例について
説明したが,本発明は,これら例に限定されずに種々の
態様を採りうるものである。例えば,一度に搬入出する
キャリアの数が8個,10個と順次増加しても,これに
伴って貯めておくストック部を増加させて,搬入出装置
におけるキャリアの移送をストック部を介して行うこと
によって,上記の如く,ウェハの取り出し,収納を連続
的に行うと共に,効率的なキャリアの搬入出を実現する
ことができる。
Although the embodiments of the present invention have been described, the present invention is not limited to these embodiments, and can take various forms. For example, even if the number of carriers to be carried in and out at one time increases sequentially to eight and ten, the stock part to be stored is increased accordingly, and the carrier transfer in the carry-in / out device is performed via the stock part. As a result, as described above, the wafer can be continuously taken out and stored, and the carrier can be efficiently loaded and unloaded.

【0082】[0082]

【発明の効果】請求項1,5の発明によれば,基板を収
納した容器の搬入,容器からの基板の取り出し,基板を
取り出した空の容器の搬出を連続的に行うことができ
る。従って,基板を適当な処理部等に次々と搬入するこ
とができ,基板の処理を連続的に行うことができる。さ
らに,基板を収納した容器の搬入及び基板を取り出した
空の容器の搬出をまとめて行うことができる。従って,
容器の搬入出を効率的に行うことができる。
According to the first and fifth aspects of the present invention, it is possible to continuously carry in a container containing a substrate, take out the substrate from the container, and carry out an empty container from which the substrate has been taken out. Therefore, the substrates can be successively carried into an appropriate processing section or the like, and the processing of the substrates can be performed continuously. Furthermore, it is possible to collectively carry in the container storing the substrate and carry out the empty container from which the substrate is taken out. Therefore,
Containers can be efficiently loaded and unloaded.

【0083】請求項2,6の発明によれば,基板を収納
するための空の容器の搬入,容器への基板の収納,基板
を収納した容器の搬出を連続的に行うことができる。従
って,基板を適当な処理部等から次々と搬出することが
でき,基板の処理を連続的に行うことができる。さら
に,基板を収納するための空の容器の搬入及び基板を収
納した容器の搬出をまとめて行うことができる。従っ
て,容器の搬入出を効率的に行うことができる。
According to the second and sixth aspects of the present invention, it is possible to continuously carry in an empty container for accommodating a substrate, accommodate a substrate in the container, and carry out a container accommodating the substrate. Therefore, the substrates can be unloaded one after another from an appropriate processing unit or the like, and the processing of the substrates can be performed continuously. Further, it is possible to collectively carry in an empty container for accommodating the substrate and carry out the container accommodating the substrate. Therefore, the loading and unloading of the container can be performed efficiently.

【0084】請求項3,7の発明によれば,処理前の基
板を収納した容器の搬入,容器からの処理前の基板の取
り出し,処理前の基板を取り出した空の容器の搬出,処
理後の基板を収納するための空の容器の搬入,容器への
処理後の基板の収納,処理後の基板を収納した容器の搬
出を連続的に行うことができる。従って,処理前の基板
を適当な処理部等に次々と搬入することができると共
に,処理後の基板を適当な処理部等から次々と搬出する
ことができ,基板の処理を連続的に行うことができる。
さらに,処理前の基板を収納した容器の搬入及び処理前
の基板を取り出した空の容器の搬出をまとめて行うこと
ができる。一方,処理後の基板を収納するための空の容
器の搬入及び処理後の基板を収納した容器の搬出をまと
めて行うことができる。従って,容器の搬入出を効率的
に行うことができる。
According to the third and seventh aspects of the present invention, a container accommodating a substrate before processing is carried in, a substrate before processing is taken out of the container, an empty container from which the substrate before processing is taken out is taken out, and after processing, It is possible to continuously carry in an empty container for storing the substrate, store the processed substrate in the container, and unload the container storing the processed substrate. Therefore, the substrates before processing can be successively carried into an appropriate processing unit and the like, and the substrates after processing can be unloaded one after another from the appropriate processing unit and the like. Can be.
Further, it is possible to collectively carry in a container storing the substrates before processing and carry out an empty container from which the substrates before processing are taken out. On the other hand, it is possible to collectively carry in an empty container for storing the processed substrate and unload the container storing the processed substrate. Therefore, the loading and unloading of the container can be performed efficiently.

【0085】請求項4の発明によれば,容器の搬入出を
より一層効率的に行うことができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the loading and unloading of containers can be performed more efficiently.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態にかかる搬入出装置を備え
た洗浄システムの平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a cleaning system including a loading / unloading device according to an embodiment of the present invention.

【図2】洗浄システムの側面図である。FIG. 2 is a side view of the cleaning system.

【図3】搬入出装置の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of the loading / unloading device.

【図4】洗浄システムの要部を拡大した側面図である。FIG. 4 is an enlarged side view of a main part of the cleaning system.

【図5】移送アームに備えられたアーム部の平面図であ
る。
FIG. 5 is a plan view of an arm unit provided in the transfer arm.

【図6】洗浄装置の内部の様子を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing an internal state of the cleaning device.

【図7】洗浄装置の上部の様子を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing a state of an upper portion of the cleaning device.

【図8】洗浄槽の内部の様子を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing the inside of the cleaning tank.

【図9】洗浄槽内でリンス処理をウェハに施している時
の状態を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory view showing a state when a rinsing process is performed on the wafer in the cleaning tank.

【図10】保持部が上昇移動することによって,洗浄槽
からウェハを搬出させた時の状態を示す説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram showing a state in which a wafer is carried out of a cleaning tank by moving up a holding unit.

【図11】搬送アームが保持部からウェハを受け取る時
の状態を示す説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a state when the transfer arm receives a wafer from a holding unit.

【図12】保持部が洗浄槽の上方で待機している時の状
態を示す説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating a state in which the holding unit is on standby above the cleaning tank.

【図13】洗浄槽内の洗浄液が純水から薬液に置換した
時の状態を示す説明図である。
FIG. 13 is an explanatory diagram showing a state in which the cleaning liquid in the cleaning tank is replaced with pure chemicals from pure water.

【図14】搬送アームによって,次に洗浄処理されるウ
ェハが洗浄装置に搬送された時の状態を示す説明図であ
る。
FIG. 14 is an explanatory diagram showing a state when a wafer to be next cleaned is transferred to a cleaning device by a transfer arm.

【図15】保持部が搬送アームからウェハを受け取る時
の状態を示す説明図である。
FIG. 15 is an explanatory diagram showing a state when the holding unit receives a wafer from the transfer arm.

【図16】保持部が下降移動することによって,洗浄槽
内ウェハを収納した時の状態を示す説明図である。
FIG. 16 is an explanatory diagram showing a state in which a wafer in a cleaning tank is stored by lowering a holding unit.

【図17】第2の実施の形態にかかる搬入出装置の斜視
図である。
FIG. 17 is a perspective view of a carry-in / out device according to a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 洗浄システム 2 搬入出装置 10 移送アーム 12 洗浄前側アウトポート 13 洗浄前側イントポート 14,17,31,32,33,34 ストック部 15 洗浄後側インポート 16 洗浄後側アウトポート 20 ローダ・アンローダ部 C キャリア W ウェハ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning system 2 Carry-in / out apparatus 10 Transfer arm 12 Out port before washing 13 Into port before washing 14, 17, 31, 32, 33, 34 Stock part 15 Import after washing 16 Out port after washing 20 Loader / unloader part C Carrier W wafer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 染崎 雅裕 佐賀県鳥栖市西新町1375番地41号 東京エ レクトロン九州株式会社佐賀事業所内 Fターム(参考) 3B201 AA03 AB23 AB44 BB02 BB82 BB92 BB93 CB12 CC01 CD33 5F031 CA02 DA17 FA03 FA09 FA11 GA48 GA49 HA73 MA13 MA23 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Masahiro Somezaki 1375-41, Nishishinmachi, Tosu-shi, Saga F-term in the Saga office of Tokyo Electron Kyushu Co., Ltd. (Reference) 3B201 AA03 AB23 AB44 BB02 BB82 BB92 BB93 CB12 CC01 CD33 5F031 CA02 DA17 FA03 FA09 FA11 GA48 GA49 HA73 MA13 MA23

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を収納した容器を搬入させるインポ
ートと,基板を取り出した空の容器を搬出させるアウト
ポートと,基板を容器から取り出す取り出し部と,容器
を貯めておくストック部と,これらインポート,アウト
ポート,取り出し部及びストック部の間で容器を移送さ
せる移送機構とを備えることを特徴とする,容器の搬入
出装置。
1. An import for carrying in a container containing substrates, an outport for carrying out an empty container from which a substrate has been taken out, a takeout unit for taking out a substrate from a container, a stock unit for storing a container, And a transfer mechanism for transferring the container between the outport, the take-out part, and the stock part.
【請求項2】 基板を収納するための空の容器を搬入さ
せるインポートと,基板を収納した容器を搬出させるア
ウトポートと,基板を容器に収納させる収納部と,容器
を貯めておくストック部と,これらインポート,アウト
ポート,収納部及びストック部の間で容器を移送させる
移送機構とを備えることを特徴とする,容器の搬入出装
置。
2. An import for loading an empty container for storing substrates, an outport for discharging a container storing substrates, a storage unit for storing substrates in a container, and a stock unit for storing containers. And a transfer mechanism for transferring the container between the import / outport, the storage unit and the stock unit.
【請求項3】 処理前の基板を収納した容器を搬入させ
る処理前側インポートと,処理前の基板を取り出した空
の容器を搬出させる処理前側アウトポートと,処理後の
基板を収納するための空の容器を搬入させる処理後側イ
ンポートと,処理後の基板を収納した容器を搬出させる
処理後側アウトポートと,処理前の基板を容器から取り
出すと共に処理後の基板を容器に収納させる取り出し収
納部と,容器を貯めておくストック部と,これら処理前
側インポート,処理前側アウトポート,処理後側インポ
ート,処理後側アウトポート,取り出し収納部及びスト
ック部の間で容器を移送させる移送機構とを備えること
を特徴とする,容器の搬入出装置。
3. A pre-processing side import for loading a container containing a substrate before processing, a pre-processing side out port for unloading an empty container from which a substrate before processing is taken out, and an empty port for storing a processed substrate. Post-processing import for loading the container, Post-processing out port for unloading the container containing the processed substrate, and unloading and storing unit for unloading the substrate before processing from the container and storing the processed substrate in the container And a stock unit for storing containers, and a transfer mechanism for transferring containers between the pre-processing side import, pre-process side outport, post-process side import, post-process side outport, unloading storage unit and stock unit. A device for loading and unloading containers.
【請求項4】 前記ストック部は複数の容器を貯めてお
くことが可能であることを特徴とする,請求項1,2又
は3のいずれかの容器の搬入出装置。
4. The container loading / unloading device according to claim 1, wherein said stock unit is capable of storing a plurality of containers.
【請求項5】 基板を収納した容器を搬入用のインポー
トから取り出し部に移送して,取り出し部において基板
を容器から取り出すと共に,基板を取り出した空の容器
を搬出用のアウトポートに移送する方法であって,前記
インポートから取り出し部への容器の移送及び/又は前
記取り出し部からアウトポートへの容器の移送を,容器
を貯めておくストック部を介して行うことを特徴とす
る,容器の搬入出方法。
5. A method of transferring a container containing substrates from an import for import to an extraction unit, extracting the substrate from the container at the extraction unit, and transferring an empty container from which the substrate has been extracted to an outport for unloading. Wherein the transfer of the container from the import unit to the take-out unit and / or the transfer of the container from the take-out unit to the outport is performed via a stock unit for storing the container. How to get out.
【請求項6】 基板を収納するための空の容器を搬入用
のインポートから収納部に移送して,収納部において基
板を容器に収納すると共に,基板を収納した容器を搬出
用のアウトポートに移送する方法であって,前記インポ
ートから収納部への容器の移送及び/又は前記収納部か
らアウトポートへの容器の移送を,容器を貯めておくス
トック部を介して行うことを特徴とする,容器の搬入出
方法。
6. An empty container for accommodating the substrate is transferred from the import for import to the accommodating section, and the substrate is accommodated in the container in the accommodating section, and the container accommodating the substrate is transferred to the out port for unloading. A method of transferring, wherein the transfer of the container from the import to the storage unit and / or the transfer of the container from the storage unit to the outport is performed via a stock unit for storing the container. Container loading / unloading method.
【請求項7】 処理前の基板を収納した容器を搬入用の
処理前側インポートから取り出し収納部に移送して,取
り出し収納部において処理前の基板を容器から取り出す
と共に,処理前の基板を取り出した空の容器を搬出用の
処理前用アウトポートに移送し,一方,処理後の基板を
収納するための空の容器を搬入用の処理後側インポート
から取り出し収納部に移送して,取り出し収納部におい
て処理後の基板を容器に収納すると共に,処理後の基板
を収納した容器を搬出用の処理後側アウトポートに移送
する方法であって,前記処理前側インポートから取り出
し収納部への容器の移送,前記取り出し収納部から処理
後側アウトポートへの容器の移送,前記処理後側インポ
ートから取り出し収納部への容器の移送及び/又は前記
取り出し収納部から処理後側アウトポートへの容器の移
送を,容器を貯めておくストック部を介して行うことを
特徴とする,容器の搬入出方法。
7. A container accommodating a substrate before processing is taken out from a pre-processing side import for carrying in, taken out and transferred to a storage section, and the substrate before processing is taken out of the container in the extraction storage section, and the substrate before processing is taken out. The empty container is transferred to the pre-processing outport for unloading, while the empty container for storing the processed substrate is transferred from the post-processing import for unloading to the unloading and unloading unit. Wherein the processed substrate is stored in a container, and the container storing the processed substrate is transferred to a post-processing outport for unloading, wherein the container is transferred from the pre-processing import to the storage unit. Transfer of the container from the removal storage unit to the post-processing out port, transfer of the container from the post-import to the removal storage unit, and / or from the removal storage unit. A method for carrying in / out a container, wherein the container is transferred to an outport after the treatment via a stock unit for storing the container.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014096420A (en) * 2012-11-07 2014-05-22 Tokyo Electron Ltd Processing method, and processing device
CN108372963A (en) * 2018-02-26 2018-08-07 上海提牛机电设备有限公司 A kind of silicon chip and film magazine releasing mechanism

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