JP2001038187A - Mixer - Google Patents

Mixer

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JP2001038187A
JP2001038187A JP11215609A JP21560999A JP2001038187A JP 2001038187 A JP2001038187 A JP 2001038187A JP 11215609 A JP11215609 A JP 11215609A JP 21560999 A JP21560999 A JP 21560999A JP 2001038187 A JP2001038187 A JP 2001038187A
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JP
Japan
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replenishment
pure water
liquid
tank
chemical
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Application number
JP11215609A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Tsunokake
泰洋 角掛
Kazumasa Kawasaki
一政 川嵜
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Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the concn. change of a liq. mixture caused by the number of times of liq. replenishment at the time of supplying and mixing two liqs. different in composition in a tank. SOLUTION: This mixer 10 is constituted so that 50% hydrofluoric acid stored in an HF tank 11 and pure water generated by a pure water producer 21 are supplied to a feed tank 13 and mixed in a specified ratio, and then the obtained liq. mixture is supplied to a semiconductor producer 45 set on the downstream side of the tank 13. Since the treatment for mixing liqs. in a specified ratio in the feed tank 13 is carried out at a specified number of times, e.g. ten, thereafter the liqs. are weighed by the accumulated error for the specified number of times in the succeeding (e.g. eleventh) mixing, a control part 19 can correct the error accumulated for the specified number of times at every time the treatment is carried out the specified times even though minute errors due to the delayed response of a valve controlling the supply of chemicals are accumulated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の薬液を混合
することで半導体や液晶などフラットパネルディスプレ
イ製造プロセスに使用される混合液を供給する混合装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mixing apparatus for mixing a plurality of chemicals to supply a mixed liquid used in a flat panel display manufacturing process such as a semiconductor or liquid crystal.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、成分の異なる薬液を混合する混合
装置では、薬液の原液を夫々の計量槽で一定量を計量
し、その後調合槽へ計量した各薬液を投下して混合した
後、純水で所定濃度まで希釈する。その後、貯留槽へ混
合・希釈した薬液(混合液)を投下し、所定の温度まで
加熱又は冷却した薬液(混合液)を半導体製造装置へと
供給している。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a mixing apparatus for mixing chemical solutions having different components, a constant amount of a stock solution of a chemical solution is measured in respective measuring tanks, and then the measured chemical solutions are dropped into a mixing tank and mixed. Dilute to the required concentration with water. Thereafter, the mixed / diluted chemical solution (mixed solution) is dropped into the storage tank, and the heated or cooled chemical solution (mixed solution) is supplied to the semiconductor manufacturing apparatus.

【0003】また、従来の混合装置においては、薬液の
計量及び純水での希釈量は、各槽内の液面の高さにより
管理されている。さらに、薬液の混合比を変更する場合
は、光学式液面センサなどの液面検知手段の位置を手動
により移動させて調整していた。また、従来の混合装置
では、薬液の原液の補充に定量薬注ポンプを使用し、そ
の補充量の管理は、薬液の吐出回数(ポンプのプランジ
ャやダイヤフラムが押し出される回数)で行われている
タイプもある。例えば、1回の吐出量を10mLとした
場合、40mLの原液を補充するには、4回吐出を行え
ばよいこととなっている。
In a conventional mixing apparatus, the measurement of a chemical solution and the amount of dilution with pure water are controlled by the height of the liquid level in each tank. Further, when changing the mixing ratio of the chemical liquid, the position of a liquid level detecting means such as an optical liquid level sensor is manually moved and adjusted. In addition, in the conventional mixing apparatus, a constant-quantity infusion pump is used to replenish the undiluted chemical solution, and the replenishment amount is controlled by the number of times the chemical solution is discharged (the number of times the plunger and the diaphragm of the pump are pushed out). There is also. For example, if the amount of one discharge is 10 mL, four discharges may be performed to replenish 40 mL of the stock solution.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成とされた従来の混合装置では、例えば秤量
槽で薬液を計量後、調合槽に薬液を移して純水で希釈
し、その後貯留槽へ液を移してヒータ等で液温を調整
するという3段階の過程が必要であるため、構成部品の
点数が多くなって装置が大型化してしまう。
However, in the conventional mixing apparatus having the above-mentioned structure, for example, after measuring a chemical in a weighing tank, the chemical is transferred to a preparation tank, diluted with pure water, and then stored in a storage tank. Since a three-stage process of transferring the liquid to the heater and adjusting the liquid temperature by a heater or the like is required, the number of components increases, and the apparatus becomes large.

【0005】また、薬液の秤量および希釈に用いる純水
の秤量および貯留槽への薬液補給の要求の検出には、液
面センサを用いているため、槽内で液が発泡したり液面
が波立ったりすると、センサが誤動作し薬液が所定の精
度の混合比で調合できなくなるといった問題がある。こ
のような問題を解決するため、各薬液の補充量を流量計
により計測し、この流量計からの出力信号に基づいて各
薬液の補充量を制御することが考えられている。しかし
ながら、このように流量計により薬液の補充量を計測し
て薬液の補充量を制御することにより混合液の濃度が所
定値となるようにする場合、以下のような問題が生じる
おそれがある。
In addition, since a liquid level sensor is used for weighing pure water used for weighing and diluting a chemical solution and for detecting a request for replenishing the chemical solution to the storage tank, the liquid foams or rises in the tank. If it is wavy, there is a problem that the sensor malfunctions and it becomes impossible to mix the chemical solution with a mixing ratio of a predetermined accuracy. In order to solve such a problem, it has been considered to measure the replenishment amount of each chemical solution with a flow meter and control the replenishment amount of each chemical solution based on an output signal from the flow meter. However, when the replenishment amount of the chemical is measured by the flow meter and the replenishment amount of the chemical is controlled so that the concentration of the mixed solution becomes a predetermined value, the following problem may occur.

【0006】すなわち、流量計を用いて薬液の補充量を
制御するように構成した装置においては、流量計から出
力された流量パルスの積算値が目標値に達した時点で薬
液供給路の弁を閉弁させても、弁が閉弁動作する過程で
誤差を持った微少な薬液が供給されてしまう。そのた
め、弁の閉弁動作に伴う薬液の誤差量が液補充処理を行
う度に毎回累積されてしまい、液補充処理の回数が増え
る毎に、混合液の濃度が徐々に変化して設定された目標
濃度から外れてしまうといった問題が生じる。
That is, in an apparatus configured to control the replenishment amount of a chemical solution using a flow meter, the valve of the chemical solution supply path is opened when the integrated value of the flow pulse output from the flow meter reaches a target value. Even when the valve is closed, a minute chemical solution having an error is supplied during the valve closing operation. Therefore, the error amount of the chemical solution due to the valve closing operation is accumulated every time the liquid replenishment process is performed, and the concentration of the mixed solution is gradually changed and set as the number of times of the liquid replenishment process increases. There is a problem that the density deviates from the target density.

【0007】そこで、本発明は上記課題を解決した混合
装置を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a mixing device which solves the above-mentioned problems.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は以下のような特徴を有する。本発明は、成
分の異なる液体毎に設けられ計量手段及び弁手段を有し
て前記液体を供給タンクに補充する複数の補充ライン
と、前記各液体を所定の比率で前記供給タンクにて混合
させるために前記各補充ラインから所定量の液体を補充
させるべく、前記計量手段からの信号に基づき前記弁手
段を制御する制御手段と、を有する混合装置において、
前記制御手段は、前記供給タンクに所定量の各液体を補
充する液補充処理を所定回数行ううちの一回の液補充処
理が累積誤差分の補正を行うことを特徴とするものであ
る。
In order to solve the above problems, the present invention has the following features. According to the present invention, a plurality of replenishment lines provided for each of liquids having different components and having a measuring means and a valve means for replenishing the liquid to the supply tank, and mixing the liquids in the supply tank at a predetermined ratio Control means for controlling the valve means based on a signal from the measuring means, so as to replenish a predetermined amount of liquid from each of the replenishment lines,
The control means is characterized in that one of the liquid replenishment processes for replenishing the supply tank with a predetermined amount of each liquid for a predetermined number of times corrects an accumulated error.

【0009】従って、本発明によれば、供給タンクに所
定量の各液体を補充する液補充処理を所定回数行ううち
の一回の液補充処理が累積誤差分の補正を行うため、薬
液の供給を制御する弁の応答遅れに伴う微少な誤差が累
積されても液混合処理を所定回数行う度に所定回数の累
積誤差を補正することができる。
Therefore, according to the present invention, one of the liquid replenishment processes for replenishing the supply tank with a predetermined amount of each of the liquids a predetermined number of times corrects the accumulated error. Each time the liquid mixing process is performed a predetermined number of times, the cumulative error can be corrected a predetermined number of times even if a minute error due to a response delay of the valve that controls the valve is accumulated.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明の一実施
例について説明する。図1は本発明になる混合装置の一
実施例の構成図である。図1に示されるように、混合装
置10は、HFタンク11に貯留された50%フッ化水
素酸と、純水製造装置21により生成された純水とを供
給タンク13に補充して所定の割合で混合し、供給タン
ク13において混合された混合液を供給タンク13の下
流側に設置された半導体製造装置45に供給するように
構成されている。尚、フッ化水素酸は、フッ化水素(hy
drogen fluoride )の水溶液であり、以下「HF液」と
記す。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of the mixing apparatus according to the present invention. As shown in FIG. 1, the mixing device 10 replenishes the supply tank 13 with the 50% hydrofluoric acid stored in the HF tank 11 and the pure water generated by the pure water production device 21, and supplies the water to the predetermined tank. The mixture is mixed at a ratio, and the mixed liquid mixed in the supply tank 13 is supplied to the semiconductor manufacturing apparatus 45 installed on the downstream side of the supply tank 13. In addition, hydrofluoric acid is hydrogen fluoride (hy
drogen fluoride), and is referred to as "HF solution" below.

【0011】HFタンク11に貯留されたHF液は、H
F補充路12を介して供給タンク13に補充される。こ
のHF補充路12の接液部の材質は、耐薬品性に優れ、
極めて不純物の溶出の少ないフッ素樹脂、例えばPFA
(バーフロロアルコキシ共重合体)などにより構成され
る。14はHF計量用超音波渦流量計であり、HF補充
路12を送液されるHF液の流量を計測する。また、H
F計量用超音波渦流量計14の接液部は、上記PFAに
より形成されている。
The HF liquid stored in the HF tank 11 is H
The supply tank 13 is replenished via the F replenishment path 12. The material of the liquid contact portion of the HF replenishment path 12 is excellent in chemical resistance,
Fluorine resin with very little elution of impurities, such as PFA
(Verfluoroalkoxy copolymer). Reference numeral 14 denotes an ultrasonic vortex flow meter for measuring HF, which measures the flow rate of the HF liquid sent through the HF replenishment path 12. Also, H
The liquid contact part of the ultrasonic vortex flowmeter 14 for F measurement is formed of the above-mentioned PFA.

【0012】HF計量用超音波渦流量計14の下流側に
は、流量調整機構付のHF補充用エア駆動弁15が設け
られている。このHF補充用エア駆動弁15を駆動する
圧縮空気は、エア供給路16より約0.5〜0.7MP
a範囲内の圧力で流入し、減圧弁17により0.3MP
aまで減圧される。また、エア供給路16から供給され
る圧縮空気は、三方電磁弁18の切替え動作によりHF
補充用エア駆動弁15へ供給される。
An HF replenishment air drive valve 15 having a flow rate adjusting mechanism is provided downstream of the HF measuring ultrasonic vortex flow meter 14. The compressed air for driving the HF replenishment air drive valve 15 is supplied to the air supply passage 16 by about 0.5 to 0.7 MPa.
a at a pressure in the range a, and 0.3MPa by the pressure reducing valve 17.
The pressure is reduced to a. The compressed air supplied from the air supply path 16 is supplied to the HF by the switching operation of the three-way solenoid valve 18.
The air is supplied to the supplementary air drive valve 15.

【0013】制御部19は、HF計量用超音波渦流量計
14及び三方電磁弁18と接続されており、HF計量用
超音波渦流量計14から出力される流量パルスを計数
し、そのパルス数に応じて三方電磁弁18の吐出側流路
を排気路20側または管路16c側に切替え制御を行っ
ている。また、三方電磁弁18の吐出側流路が管路16
c側に切替えられると、HF補充用エア駆動弁15は開
弁し、三方電磁弁18の吐出側流路が排気路20側に切
替えられると、HF補充用エア駆動弁15は閉弁する。
そして、HF補充用エア駆動弁15は、HF補充用管路
12cを介して供給タンク13と連通されている。
The control unit 19 is connected to the ultrasonic vortex flow meter 14 for HF measurement and the three-way solenoid valve 18 and counts the number of flow pulses output from the ultrasonic vortex flow meter 14 for HF measurement. Accordingly, the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 18 is controlled to be switched to the exhaust path 20 side or the pipe path 16c side. Also, the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 18 is
When switched to the c side, the HF replenishment air drive valve 15 opens, and when the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 18 is switched to the exhaust path 20 side, the HF replenishment air drive valve 15 closes.
The HF replenishment air drive valve 15 is connected to the supply tank 13 via the HF replenishment pipe 12c.

【0014】純水製造装置21により生成された純水
は、純水補充路22を介して供給タンク13に補充され
る。また、純水補充路22には、純水計量用超音波渦流
量計23と流量調整機構付の純水補充用エア駆動弁24
が配設されている。この純水補充用エア駆動弁24を駆
動する圧縮空気は、エア供給路25より約0.5〜0.
7MPa範囲内の圧力で流入し、減圧弁26により0.
3MPaまで減圧される。
The pure water generated by the pure water producing apparatus 21 is supplied to the supply tank 13 through a pure water supply path 22. In addition, the pure water replenishment passage 22 has an ultrasonic vortex flowmeter 23 for measuring pure water and an air drive valve 24 for replenishing pure water with a flow rate adjusting mechanism.
Are arranged. The compressed air for driving the pure water replenishment air drive valve 24 is supplied to the air supply passage 25 from the air supply passage 25 by about 0.5 to 0.5.
It flows in at a pressure within the range of 7 MPa, and the pressure is reduced to 0.1 by the pressure reducing valve 26.
The pressure is reduced to 3 MPa.

【0015】また、エア供給路25から供給される圧縮
空気は、三方電磁弁27の切替え動作により純水補充用
エア駆動弁24へ供給される。制御部19は、純水計量
用超音波渦流量計23及び三方電磁弁27と接続されて
おり、純水計量用超音波渦流量計23から出力される流
量パルスを計数し、そのパルス数に応じて三方電磁弁2
7の吐出側流路を排気路28側または管路25c側に切
替え制御を行っている。
The compressed air supplied from the air supply passage 25 is supplied to the pure water replenishment air drive valve 24 by the switching operation of the three-way solenoid valve 27. The control unit 19 is connected to the ultrasonic vortex flowmeter 23 for measuring pure water and the three-way solenoid valve 27, counts the flow pulses output from the ultrasonic vortex flowmeter 23 for measuring pure water, and counts the number of pulses. 3 way solenoid valve 2 according to
The control for switching the discharge side flow path 7 to the exhaust path 28 side or the pipe line 25c side is performed.

【0016】また、三方電磁弁27の吐出側流路が管路
25c側に切替えられると、純水補充用エア駆動弁24
は開弁し、三方電磁弁27の吐出側流路が排気路28側
に切替えられると、純水補充用エア駆動弁24は閉弁す
る。そして、純水補充用エア駆動弁24は、純水補充用
管路22cを介して供給タンク13と連通されている。
When the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 27 is switched to the pipe 25c side, the pure water replenishment air drive valve 24
Is opened, and when the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 27 is switched to the exhaust path 28 side, the pure water replenishment air drive valve 24 is closed. The pure water replenishment air drive valve 24 is connected to the supply tank 13 via the pure water replenishment pipeline 22c.

【0017】供給タンク13では、上記HF補充用エア
駆動弁15の開弁によりHF液が補充されると共に、上
記純水補充用エア駆動弁24の開弁により純水が補充さ
れ、HF液と純水が所定の割合で混合された混合液が生
成される。また、供給タンク13には、混合液の液面を
監視する第1、第2液面センサ36,37が挿入されて
いる。第1液面センサ36は、混合液の上限位置を検知
するレベルゲージであり、第2液面センサ37は、混合
液の下限位置を検知するレベルゲージである。
In the supply tank 13, the HF liquid is replenished by opening the HF replenishing air drive valve 15, and the pure water is replenished by opening the pure water replenishment air drive valve 24, so that the HF liquid is replenished. A mixed liquid in which pure water is mixed at a predetermined ratio is generated. Further, first and second liquid level sensors 36 and 37 for monitoring the liquid level of the mixed liquid are inserted into the supply tank 13. The first liquid level sensor 36 is a level gauge that detects the upper limit position of the mixed liquid, and the second liquid level sensor 37 is a level gauge that detects the lower limit position of the mixed liquid.

【0018】供給タンク13内で混合された混合液(薬
液)は、薬液供給ポンプ33により圧送されて供給管路
34を介して半導体製造装置45へ送液される。また、
薬液供給ポンプ33の下流側には、流量調整機構付きの
薬液供給用エア駆動弁35が設けられている。また、薬
液供給ポンプ33と薬液供給用エア駆動弁35との間の
管路34からは攪拌用リターン管路52が分岐し、薬液
供給ポンプ33から吐出された混合液(薬液)の一部を
供給タンク13へ還流させることにより供給タンク13
内の混合液を攪拌して濃度を均一にしている。
The mixed liquid (chemical liquid) mixed in the supply tank 13 is pressure-fed by a chemical liquid supply pump 33 and sent to a semiconductor manufacturing apparatus 45 via a supply pipe 34. Also,
On the downstream side of the chemical supply pump 33, a chemical supply air drive valve 35 with a flow rate adjusting mechanism is provided. Further, a return line 52 for stirring is branched from a pipe 34 between the chemical supply pump 33 and the air supply valve 35 for chemical supply, and a part of the mixed liquid (chemical) discharged from the chemical supply pump 33. Reflux to the supply tank 13
The mixed solution inside is stirred to make the concentration uniform.

【0019】また、供給タンク13と半導体製造装置4
5との間には、半導体製造装置45で余った余剰混合液
を供給タンク13へ戻す回収管路60が連通されてい
る。そのため、供給タンク13では、HF補充用管路1
2cから補充されるHF液と、純水補充用管路22cか
ら補充される純水と、攪拌用リターン管路52から還流
された混合液と、回収管路60から回収された混合液と
が混合される。
The supply tank 13 and the semiconductor manufacturing apparatus 4
A recovery conduit 60 for returning excess mixed liquid in the semiconductor manufacturing apparatus 45 to the supply tank 13 is communicated with the supply pipe 13. Therefore, in the supply tank 13, the HF replenishing line 1
The HF solution replenished from 2c, the pure water replenished from the pure water replenishing line 22c, the mixed solution refluxed from the stirring return line 52, and the mixed solution recovered from the recovery line 60 Mixed.

【0020】また、制御部19は、LED表示付きの係
数設定器(図示せず)が付随しており、薬液の混合比等
の諸条件の設定や装置の運転状態等の表示を行うように
なっている。次に上記のように構成された混合装置11
の薬液混合処理について説明する。尚、本実施の形態で
は、供給タンク13の容量が20L(リットル)の場合
で、HF:H2 O=1:99の比率で混合する場合につ
いて説明する。このとき、HF計量用超音波渦流量計1
4及び純水計量用超音波渦流量計23からは0.28m
Lあたり1パルス出力されるものとする。その場合、H
F液と純水の混合比が1:99であるから、供給タンク
13内にはHF液を200mL(714パルスに相当す
る)補充し、純水を19800mL(70714パルス
に相当する)補充しなければならない。
The control unit 19 is provided with a coefficient setting device (not shown) with an LED display so as to set various conditions such as a mixing ratio of a chemical solution and to display an operation state of the apparatus. Has become. Next, the mixing device 11 configured as described above
Will be described. In the present embodiment, the case where the capacity of the supply tank 13 is 20 L (liter) and the mixing is performed at a ratio of HF: H 2 O = 1: 99 will be described. At this time, the ultrasonic vortex flow meter for HF measurement 1
0.28m from 4 and ultrasonic vortex flow meter 23 for pure water measurement
It is assumed that one pulse is output per L. In that case, H
Since the mixing ratio of the F solution to the pure water is 1:99, 200 mL (corresponding to 714 pulses) of the HF solution and 19800 mL (corresponding to 70714 pulses) of the HF solution must be replenished in the supply tank 13. Must.

【0021】図2乃至図4は制御部19で実行される薬
液混合制御処理の手順を説明するためのフローチャート
である。図2に示されるように、制御部19は、ステッ
プS11(以下「ステップ」を省略する)でHF補充用
エア駆動弁15及び純水補充用エア駆動弁24を開弁さ
せるように三方電磁弁18,27の吐出側流路を管路1
6c,25c側に切替える。これにより、HFタンク1
1に貯留された50%フッ化水素酸及び純水製造装置2
1により生成された純水が供給タンク13に補充され
る。
FIGS. 2 to 4 are flowcharts for explaining the procedure of the chemical mixture control process executed by the control unit 19. As shown in FIG. 2, the control unit 19 controls the three-way solenoid valve to open the HF replenishment air drive valve 15 and the pure water replenishment air drive valve 24 in step S11 (hereinafter “step” is omitted). Lines 18 and 27 on the discharge side
Switch to 6c, 25c side. Thereby, the HF tank 1
50% hydrofluoric acid stored in 1 and pure water production device 2
The pure water generated by 1 is supplied to the supply tank 13.

【0022】次のS12では、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルスのカウント値が714
かどうかをチェックする。このS12において、HF計
量用超音波渦流量計14から出力された流量パルスのカ
ウント値が714に達したときは、S13に進み、三方
電磁弁18の吐出側流路を排気管路20側へ切り換えて
HF補充用エア駆動弁15を閉弁させる。これにより、
供給タンク13へのHF液の補充が停止する。
In the next step S12, the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter for HF measurement 14 becomes 714.
Check whether or not. In S12, when the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter 14 for HF measurement reaches 714, the process proceeds to S13, and the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 18 is moved to the exhaust pipe 20 side. By switching, the HF replenishment air drive valve 15 is closed. This allows
The replenishment of the supply tank 13 with the HF solution is stopped.

【0023】また、S12において、HF計量用超音波
渦流量計14から出力された流量パルスのカウント値が
714に達していないときは、S14に進み、純水計量
用超音波渦流量計23から出力された流量パルスのカウ
ント値が70714かどうかをチェックする。このS1
4において、純水計量用超音波渦流量計23から出力さ
れた流量パルスのカウント値が70714に達していな
いときは、上記S12に戻り、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、S12でHF計量用超音波渦流量計14から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、S
14で純水計量用超音波渦流量計23から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。
If it is determined in step S12 that the count value of the flow pulse output from the HF measuring ultrasonic vortex flow meter 14 has not reached 714, the process proceeds to step S14. It is checked whether or not the output flow pulse count value is 70714. This S1
In 4, when the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter for pure water measurement 23 has not reached 70714, the flow returns to S 12, and the flow rate output from the ultrasonic vortex flow meter 14 for HF measurement is returned. Monitor the number of pulses. As described above, the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter for HF measurement 14 in S12 is monitored, and
At 14, the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter 23 for measuring pure water is monitored.

【0024】本実施の形態では、HF:H2 O=1:9
9の比率で混合するため、供給タンク13へのHF液の
補充時間が純水の補充時間よりも短い。そのため、上記
S13でHF液の補充が停止された後も純水の補充が継
続される。そして、S14において、純水計量用超音波
渦流量計23から出力された流量パルスのカウント値が
70714に達したときは、S15に進み、三方電磁弁
27の吐出側流路を排気管路28側へ切り換えて純水補
充用エア駆動弁24を閉弁させる。これにより、供給タ
ンク13への純水の補充が停止する。そして、供給タン
ク13には、HF:H2 O=1:99の比率で混合され
た混合液が貯留される。
In this embodiment, HF: H 2 O = 1: 9
Since the mixing is performed at the ratio of 9, the replenishment time of the HF solution to the supply tank 13 is shorter than the replenishment time of the pure water. Therefore, the replenishment of pure water is continued even after the replenishment of the HF solution is stopped in S13. In S14, when the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flowmeter 23 for measuring pure water reaches 70714, the process proceeds to S15, where the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 27 is connected to the exhaust pipe 28. Side, and the pure water replenishment air drive valve 24 is closed. Thus, the supply of pure water to the supply tank 13 is stopped. The supply tank 13 stores a mixed liquid mixed at a ratio of HF: H 2 O = 1: 99.

【0025】続いて、S16に進み、タイマをスタート
させると共に、薬液供給ポンプ33を起動させる。次の
S17では、タイマスタートから5分経過したかどうか
をチェックする。タイマスタートから5分経過する間に
供給タンク13に貯留された混合液の全量が薬液供給ポ
ンプ33により吸引され、薬液供給ポンプ33から吐出
された混合液は、攪拌用リターン管路52を介して供給
タンク13へ戻されて供給タンク13全体の濃度を均一
にする。
Subsequently, the program proceeds to S16, in which a timer is started and the chemical liquid supply pump 33 is started. In the next step S17, it is checked whether five minutes have elapsed since the start of the timer. During a lapse of 5 minutes from the start of the timer, the entire amount of the mixed liquid stored in the supply tank 13 is sucked by the chemical supply pump 33, and the mixed liquid discharged from the chemical supply pump 33 is returned via the return line 52 for stirring. It is returned to the supply tank 13 to make the concentration of the entire supply tank 13 uniform.

【0026】このS17において、タイマスタートから
5分経過すると、薬液供給用エア駆動弁35が開弁さ
れ、薬液供給ポンプ33により吐出された混合液が半導
体製造装置45に供給される。これにより、供給タンク
13内で混合された混合液が半導体製造装置45に供給
されるにつれて供給タンク13内の液位が次第に低下す
る。次のS19では、混合液の下限位置を検知する第2
液面センサ37からの出力信号があることを確認する。
In S17, five minutes after the start of the timer, the chemical liquid supply air drive valve 35 is opened, and the mixed liquid discharged by the chemical liquid supply pump 33 is supplied to the semiconductor manufacturing apparatus 45. Thereby, as the mixed liquid mixed in the supply tank 13 is supplied to the semiconductor manufacturing apparatus 45, the liquid level in the supply tank 13 gradually decreases. In the next S19, a second detection of the lower limit position of the mixed liquid is performed.
Confirm that there is an output signal from the liquid level sensor 37.

【0027】S19で第2液面センサ37からの出力信
号があると、供給タンク13に貯留された混合液の液面
が下限位置まで低下したものと判断し、図3に示すS2
0に進み、薬液の補充処理が行われる。尚、供給タンク
13への補充量が5Lに設定されているものとする。こ
の場合、供給タンク13内には50mL(178パルス
に相当する)のHF液が補充され、4950mL(17
678パルスに相当する)の純水が補充される。
If there is an output signal from the second liquid level sensor 37 in S19, it is determined that the liquid level of the mixed liquid stored in the supply tank 13 has dropped to the lower limit position, and the process proceeds to S2 shown in FIG.
The process proceeds to 0, and a replenishment process of the chemical solution is performed. It is assumed that the replenishment amount to the supply tank 13 is set to 5 L. In this case, the supply tank 13 is replenished with 50 mL (corresponding to 178 pulses) of HF solution, and 4950 mL (17
(Corresponding to 678 pulses).

【0028】S20では、薬液補充動作回数が10回目
かどうかをチェックする。このS20において、薬液補
充動作回数が10回目未満の場合、S21に進み、HF
補充用エア駆動弁15及び純水補充用エア駆動弁24を
開弁させるように三方電磁弁18,27の吐出側流路を
管路16c,25c側に切替える。これにより、HFタ
ンク11に貯留された50%フッ化水素酸及び純水製造
装置21により生成された純水が再度供給タンク13に
補充される。
In S20, it is checked whether or not the number of times of the liquid replenishment operation is the tenth. In this S20, if the number of times of the chemical solution replenishment operation is less than the tenth, the process proceeds to S21 and the HF
The discharge-side flow paths of the three-way solenoid valves 18 and 27 are switched to the pipe lines 16c and 25c so that the replenishment air drive valve 15 and the pure water replenishment air drive valve 24 are opened. Thereby, the 50% hydrofluoric acid stored in the HF tank 11 and the pure water generated by the pure water production device 21 are refilled into the supply tank 13 again.

【0029】次のS22では、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルスのカウント値が178
かどうかをチェックする。このS22において、HF計
量用超音波渦流量計14から出力された流量パルスのカ
ウント値が178に達したときは、S23に進み、三方
電磁弁18の吐出側流路を排気管路20側へ切り換えて
HF補充用エア駆動弁15を閉弁させる。これにより、
供給タンク13へのHF液の補充が停止する。
In the next step S22, the count value of the flow pulse output from the HF measuring ultrasonic vortex flow meter 14 is 178.
Check whether or not. In S22, when the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter 14 for HF measurement reaches 178, the process proceeds to S23, and the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 18 is moved to the exhaust pipe 20 side. By switching, the HF replenishment air drive valve 15 is closed. This allows
The replenishment of the supply tank 13 with the HF solution is stopped.

【0030】また、S22において、HF計量用超音波
渦流量計14から出力された流量パルスのカウント値が
178に達していないときは、S24に進み、純水計量
用超音波渦流量計23から出力された流量パルスのカウ
ント値が17678かどうかをチェックする。このS2
4において、純水計量用超音波渦流量計23から出力さ
れた流量パルスのカウント値が17978に達していな
いときは、上記S22に戻り、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、S22でHF計量用超音波渦流量計14から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、S
24で純水計量用超音波渦流量計23から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。
If it is determined in step S22 that the count value of the flow pulse output from the HF measuring ultrasonic vortex flow meter 14 has not reached 178, the process proceeds to step S24, in which the pure water measuring ultrasonic vortex flow meter 23 outputs It is checked whether or not the output flow pulse count value is 17678. This S2
In 4, when the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter for pure water measurement 23 does not reach 17978, the flow returns to S22, and the flow rate output from the ultrasonic vortex flow meter 14 for HF measurement is returned. Monitor the number of pulses. As described above, while monitoring the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter for HF measurement 14 in S22,
At 24, the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flowmeter 23 for measuring pure water is monitored.

【0031】そして、S24において、純水計量用超音
波渦流量計23から出力された流量パルスのカウント値
が17678に達したときは、S25に進み、三方電磁
弁27の吐出側流路を排気管路28側へ切り換えて純水
補充用エア駆動弁24を閉弁させる。これにより、供給
タンク13への純水の補充が停止する。そして、供給タ
ンク13には、HF:H2 O=1:99の比率で補充さ
れた混合液が貯留される。
When the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter 23 for measuring pure water reaches 17678 in S24, the process proceeds to S25, and the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 27 is exhausted. By switching to the pipe line 28, the pure water replenishment air drive valve 24 is closed. Thus, the supply of pure water to the supply tank 13 is stopped. The supply tank 13 stores the replenished mixture at a ratio of HF: H 2 O = 1: 99.

【0032】次のS26では、補充回数カウンタのカウ
ント値を1回加算した後、上記S19に戻り、S19以
降の薬液補充処理を繰り返す。そして、補充回数カウン
タのカウント値が10回になった時点で、上記S20か
ら図4に示すS27に移行する。S27では、HF補充
用エア駆動弁15及び純水補充用エア駆動弁24を開弁
させるように三方電磁弁18,27の吐出側流路を管路
16c,25c側に切替える。これにより、HFタンク
11に貯留された50%フッ化水素酸及び純水製造装置
21により生成された純水が再度供給タンク13に補充
される。
In the next step S26, the count value of the replenishment number counter is added once, and the process returns to the step S19 to repeat the chemical liquid replenishment process from the step S19. Then, when the count value of the replenishment counter reaches ten times, the flow shifts from S20 to S27 shown in FIG. In S27, the discharge-side flow paths of the three-way solenoid valves 18, 27 are switched to the conduits 16c, 25c so that the HF replenishment air drive valve 15 and the pure water replenishment air drive valve 24 are opened. Thereby, the 50% hydrofluoric acid stored in the HF tank 11 and the pure water generated by the pure water production device 21 are refilled into the supply tank 13 again.

【0033】次のS28では、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルスのカウント値が158
かどうかをチェックする。このS28における流量パル
スのカウント値158は、上記薬液補充処理を10回行
なった場合、10回分の注入誤差を1回の薬液補充量
(カウント値178)のおよそ10%として考えると、
11回目の薬液補充処理では通常の薬液補充量のおよそ
90%の量に減少させて注入するように算出された値で
ある。これにより、HF液の10回分の注入誤差は、1
1回目の薬液補充処理で相殺される。
In the next S28, the count value of the flow pulse output from the HF measuring ultrasonic vortex flow meter 14 is 158.
Check whether or not. The count value 158 of the flow rate pulse in S28 is as follows: when the above-mentioned chemical solution replenishment process is performed ten times, the injection error for ten times is considered to be about 10% of one chemical solution replenishment amount (count value 178).
In the eleventh chemical solution replenishment process, this is a value calculated so that the injection is performed with the amount reduced to about 90% of the normal chemical solution replenishment amount. As a result, the injection error of 10 injections of the HF solution is 1
It is offset by the first chemical replenishment process.

【0034】そして、S28において、HF計量用超音
波渦流量計14から出力された流量パルスのカウント値
が158に達したときは、S29に進み、三方電磁弁1
8の吐出側流路を排気管路20側へ切り換えてHF補充
用エア駆動弁15を閉弁させる。これにより、供給タン
ク13へのHF液の補充が停止し、10回分の注入誤差
が補正される。
Then, in S28, when the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter 14 for HF measurement has reached 158, the process proceeds to S29, where the three-way solenoid valve 1
The HF replenishment air drive valve 15 is closed by switching the discharge side flow path 8 to the exhaust pipe 20 side. As a result, the replenishment of the supply tank 13 with the HF solution is stopped, and the injection error for 10 injections is corrected.

【0035】例えば、上記のようなHF補充用エア駆動
弁15及び純水補充用エア駆動弁24の開閉動作遅れに
伴って1回の薬液補充処理で生じる注入誤差が計測でき
ない程度に微少である場合、所定回数(例えば10回)
の薬液補充処理を行った後、所定回数分の累積誤差を相
殺して供給タンク13に貯留される混合液の濃度変化を
抑制することができる。
For example, the injection error generated in one chemical replenishment process due to the delay of the opening / closing operation of the HF replenishment air drive valve 15 and the pure water replenishment air drive valve 24 as described above is so small that it cannot be measured. In the case, a predetermined number of times (for example, 10 times)
After performing the chemical solution replenishment process, the accumulated error for a predetermined number of times can be offset to suppress a change in the concentration of the mixed solution stored in the supply tank 13.

【0036】また、S28において、HF計量用超音波
渦流量計14から出力された流量パルスのカウント値が
158に達していないときは、S30に進み、純水計量
用超音波渦流量計23から出力された流量パルスのカウ
ント値が17678かどうかをチェックする。このS3
0において、純水計量用超音波渦流量計23から出力さ
れた流量パルスのカウント値が17678に達していな
いときは、上記S28に戻り、HF計量用超音波渦流量
計14から出力された流量パルス数を監視する。このよ
うに、S28でHF計量用超音波渦流量計14から出力
された流量パルスのカウント値を監視するとともに、S
30で純水計量用超音波渦流量計23から出力された流
量パルスのカウント値を監視している。
If it is determined in step S28 that the count value of the flow pulse output from the HF measuring ultrasonic vortex flow meter 14 has not reached 158, the flow advances to step S30. It is checked whether or not the output flow pulse count value is 17678. This S3
At 0, when the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flowmeter for pure water measurement 23 does not reach 17678, the flow returns to S28, and the flow rate output from the ultrasonic vortex flowmeter 14 for HF measurement is returned. Monitor the number of pulses. As described above, while monitoring the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter for HF measurement 14 in S28,
At 30, the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flowmeter 23 for measuring pure water is monitored.

【0037】そして、S30において、純水計量用超音
波渦流量計23から出力された流量パルスのカウント値
が17678に達したときは、S32に進み、三方電磁
弁27の吐出側流路を排気管路28側へ切り換えて純水
補充用エア駆動弁24を閉弁させる。これにより、供給
タンク13への純水の補充が停止する。そして、供給タ
ンク13には、HF:H2 O=1:99の比率で補充さ
れた混合液が貯留される。
When the count value of the flow pulse output from the ultrasonic vortex flow meter 23 for measuring pure water reaches 17678 in S30, the process proceeds to S32, in which the discharge side flow path of the three-way solenoid valve 27 is exhausted. By switching to the pipe line 28, the pure water replenishment air drive valve 24 is closed. Thus, the supply of pure water to the supply tank 13 is stopped. The supply tank 13 stores the replenished mixture at a ratio of HF: H 2 O = 1: 99.

【0038】次のS32では、補充回数カウンタのカウ
ント値をクリアしてゼロにする。その後、上記S19に
戻り、S19以降の薬液補充処理を繰り返す。図5は従
来の注入誤差を補正しない場合の濃度変化を示すグラフ
である。また、図6は本発明のように所定回数毎に注入
誤差を補正する場合の濃度変化を示すグラフである。
In the next step S32, the count value of the replenishment counter is cleared to zero. Thereafter, the process returns to S19, and the chemical solution replenishment process from S19 is repeated. FIG. 5 is a graph showing a change in density when a conventional injection error is not corrected. FIG. 6 is a graph showing a change in density when an injection error is corrected every predetermined number of times as in the present invention.

【0039】上記のような構成とされた混合装置で薬液
のプラス誤差を持った混合処理動作を継続して実施する
と、図5の混合薬液の濃度実測データ(グラフI)に示
すように徐々に薬液濃度が上昇してくる場合がある。こ
れはHF計量用超音波渦流量計14からの出力パルスが
薬液補充量の設定値に達してから実際にHF補充用エア
駆動弁15が完全に閉じるまでの間に応答遅れが生じて
おり、この遅れ分がプラス誤差となって積算されている
場合である。すなわち、HF液の補充時を例に説明する
と、供給タンク3内へ本来HF液50mL(HF計量用
超音波渦流量計14からの出力パルスで178カウン
ト)補充されるべきところをHF計量用超音波渦流量計
14からの出力パルスが178カウントに達したときに
HF補充用エア駆動弁15が閉じ始まる。
When the mixing apparatus having the above-described configuration continuously performs the mixing processing operation having a plus error of the chemical liquid, as shown in the measured data of the concentration of the mixed chemical liquid (graph I) in FIG. The drug solution concentration may increase. This is because a response delay occurs between the time when the output pulse from the HF measuring ultrasonic vortex flow meter 14 reaches the set value of the chemical solution replenishment amount and the time when the HF replenishment air drive valve 15 is completely closed, This is a case where the delay is accumulated as a plus error. In other words, when the replenishment of the HF solution is taken as an example, the place where 50 mL of the HF solution should be originally replenished into the supply tank 3 (178 counts with the output pulse from the ultrasonic vortex flowmeter 14 for HF measurement) indicates that the supply tank 3 should be refilled. When the output pulse from the sonic vortex flow meter 14 reaches 178 counts, the HF replenishment air drive valve 15 starts closing.

【0040】そのため、実際には、HF計量用超音波渦
流量計14からの出力パルスが1〜3パルス行き過ぎた
ところでHF補充用エア駆動弁15が完全に閉じるよう
になっている。このため、設定値よりも0.2〜0.8
mL程度多くHF液が供給タンク13に補充されてい
る。この行き過ぎ量が補充動作が繰り返される毎に誤差
分として積算されることで供給タンク13で混合された
混合液の薬液濃度が徐々に上昇する。このようなHF液
の1回の補充量が50mLと微少であるので、HF液の
補充流量も微少である。そのため、HF補充用エア駆動
弁15の閉弁動作に伴う1回の行き過ぎ量は、HF計量
用超音波渦流量計14の計測範囲を下回る0.2〜0.
8mL程度の微少量である。
Therefore, actually, when the output pulse from the ultrasonic vortex flow meter 14 for HF measurement has passed 1 to 3 pulses, the HF replenishment air drive valve 15 is completely closed. Therefore, the set value is 0.2 to 0.8.
The HF solution is replenished to the supply tank 13 by about mL. The excess amount is accumulated as an error each time the replenishment operation is repeated, so that the chemical concentration of the mixed liquid mixed in the supply tank 13 gradually increases. Since the replenishment amount of the HF solution at one time is as small as 50 mL, the replenishment flow rate of the HF solution is also very small. Therefore, the amount of one overshoot accompanying the closing operation of the air drive valve 15 for refilling HF is 0.2 to 0.
It is a very small amount of about 8 mL.

【0041】従って、HF液を補充する度に毎回行き過
ぎ量を補正することは極めて難しい。そこで、本発明の
混合装置10では、供給タンク13への薬液補充処理を
10回行った後、11回目の薬液補充のときに10回分
の累積誤差分をマイナスした量だけ補充するようにして
HF液の累積誤差分を相殺して供給タンク13における
混合液の濃度変化を抑制する。
Therefore, it is extremely difficult to correct the overshoot every time the HF solution is replenished. Therefore, in the mixing device 10 of the present invention, after performing the chemical replenishment process on the supply tank 13 ten times, the HF is replenished by subtracting the accumulated error of the ten times during the eleventh replenishment. The change in the concentration of the mixed liquid in the supply tank 13 is suppressed by canceling the accumulated error of the liquid.

【0042】これにより、混合装置10は、図6の混合
薬液の濃度実測データ(グラフII)に示すように半導体
製造装置45に供給される混合液の濃度を予め設定され
た設定値(目標濃度値)に保つように混合処理を行っ
て、設定濃度の混合液を安定的に供給することができ
る。尚、本実施の形態では、フッ化水素酸と純水とを所
定の割合で混合させる場合を一例として挙げたが、他の
薬液を混合する場合にも本発明が適用できるのは勿論で
ある。
As a result, the mixing device 10 sets the concentration of the mixed solution supplied to the semiconductor manufacturing device 45 to a preset set value (target concentration) as shown in the measured concentration data of the mixed chemical solution (Graph II) in FIG. Value), the mixture can be stably supplied at a set concentration. In the present embodiment, the case where hydrofluoric acid and pure water are mixed at a predetermined ratio has been described as an example. However, the present invention can of course be applied to the case where other chemicals are mixed. .

【0043】また、本実施の形態では、フッ化水素酸と
純水との2種類の液体を混合する場合を一例として説明
したが、成分が異なる2種以上の液体を混合させる場合
にも本発明が適用できるのは勿論である。また、本実施
の形態では、10回分の累積誤差分を11回目の薬液補
充のときにマイナスすることにより累積誤差分を相殺す
る場合を用いて説明したが、これに限らず、薬液の供給
量に応じて所定回数に1回薬液補充量を補正することに
より累積誤差分を相殺できるので、例えば5回分の累積
誤差分を6回目の薬液補充のときにマイナスしても良い
し、あるいは15回分の累積誤差分を16回目の薬液補
充のときにマイナスすることもできる。
In this embodiment, the case where two kinds of liquids of hydrofluoric acid and pure water are mixed is described as an example. However, the case where two or more kinds of liquids having different components are mixed is also described. Of course, the invention can be applied. Further, in the present embodiment, the case has been described in which the cumulative error for ten times is subtracted at the time of the eleventh replenishment of the drug solution to offset the cumulative error, but the present invention is not limited to this. The cumulative error can be offset by correcting the chemical replenishment amount once for a predetermined number of times according to the above, so that, for example, the cumulative error for five times may be subtracted at the time of the sixth chemical replenishment, or may be reduced to fifteen times. Can be reduced at the time of the 16th replenishment of the drug solution.

【0044】また、本実施の形態では、所定回数の薬液
補充による累積プラス誤差を一回のマイナス補充で補正
したが、これに限らず、一回の薬液補充でマイナス誤差
を形成しておき、累積マイナス誤差を一回のプラス補充
で補正するようにしても良い。また、所定回数の薬液補
充による累積プラス誤差を一回のマイナス補充で補正す
ることを繰り返すうちにマイナス誤差となる場合がある
ため、所定回数の薬液補充による累積プラス誤差を一回
のマイナス補充で補正することを1サイクルとして、例
えば2サイクル行った後、つぎの1サイクルのマイナス
補充を行わないようにしても良い。
In the present embodiment, the cumulative plus error due to the predetermined number of replenishments of the chemical is corrected by one minus replenishment. However, the present invention is not limited to this. The accumulated minus error may be corrected by one plus supplement. In addition, the cumulative plus error due to the predetermined number of replenishments may be negative while repeating the correction of the cumulative plus error due to the replenishment of the predetermined number of times by one minus replenishment. The correction may be regarded as one cycle, for example, after performing two cycles, the minus replenishment in the next one cycle may not be performed.

【0045】[0045]

【発明の効果】上述の如く、本発明によれば、供給タン
クに所定量の各液体を補充する液補充処理を所定回数行
ううちの一回の液補充処理が累積誤差分の補正を行うた
め、薬液の供給を制御する弁の応答遅れに伴う微少な誤
差が累積されても液混合処理を所定回数行う度に所定回
数の累積誤差を補正することができる。そのため、流量
計で計測できないような微少な誤差が生じる場合でも、
所定回数の累積誤差が計測可能な量に達した時点で累積
誤差を相殺するように次回の計量値を変更して混合液の
濃度を目標値の所定範囲内に入るように調整することが
可能になる。これにより、予め設定された所定濃度の混
合液を下流側の装置に安定的に供給することができる。
As described above, according to the present invention, the liquid replenishment processing for replenishing the supply tank with a predetermined amount of each liquid is performed a predetermined number of times, so that one liquid replenishment processing corrects the accumulated error. Even if a small error is accumulated due to a response delay of the valve for controlling the supply of the chemical solution, the accumulated error of a predetermined number of times can be corrected every time the liquid mixing process is performed a predetermined number of times. Therefore, even if there is a small error that cannot be measured with a flow meter,
When the cumulative error of a predetermined number of times reaches a measurable amount, the next measurement value can be changed so as to cancel the cumulative error, and the concentration of the mixed solution can be adjusted to be within the predetermined range of the target value become. This makes it possible to stably supply the liquid mixture having a predetermined concentration to a downstream device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明になる混合装置の一実施例の構成図であ
る。
FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of a mixing device according to the present invention.

【図2】制御部19で実行される薬液混合制御処理の手
順を説明するためのフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart for explaining a procedure of a chemical mixture control process executed by a control unit 19;

【図3】図2に示す処理に続いて実行される薬液混合制
御処理の手順を説明するためのフローチャートである。
FIG. 3 is a flowchart illustrating a procedure of a chemical liquid mixing control process executed after the process illustrated in FIG. 2;

【図4】図3に示す処理に続いて実行される薬液混合制
御処理の手順を説明するためのフローチャートである。
FIG. 4 is a flowchart illustrating a procedure of a chemical liquid mixing control process performed after the process illustrated in FIG. 3;

【図5】従来の注入誤差を補正しない場合の濃度変化を
示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing a change in density when a conventional injection error is not corrected.

【図6】本発明のように所定回数毎に注入誤差を補正す
る場合の濃度変化を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing a density change when an injection error is corrected every predetermined number of times as in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 混合装置 11 HFタンク 12 HF供給路 13 供給タンク 14 HF計量用超音波渦流量計 15 HF供給用エア駆動弁 18,27 三方電磁弁 19 制御部 21 純水製造装置 22 純水供給路 23 純水計量用超音波渦流量計 24 純水供給用エア駆動弁 33 薬液供給ポンプ 34 供給管路 36 第1液面センサ 37 第2液面センサ 35 薬液供給用エア駆動弁 45 半導体製造装置 52 攪拌用リターン管路 60 回収管路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Mixing apparatus 11 HF tank 12 HF supply path 13 Supply tank 14 Ultrasonic vortex flow meter for HF measurement 15 Air drive valve for HF supply 18, 27 Three-way solenoid valve 19 Control unit 21 Pure water production apparatus 22 Pure water supply path 23 Ultrasonic vortex flow meter for water measurement 24 Air drive valve for supplying pure water 33 Chemical supply pump 34 Supply line 36 First liquid level sensor 37 Second liquid level sensor 35 Air drive valve for supplying chemical liquid 45 Semiconductor manufacturing equipment 52 Stirring Return line 60 Recovery line

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 成分の異なる液体毎に設けられ計量手段
及び弁手段を有して前記液体を供給タンクに補充する複
数の補充ラインと、前記各液体を所定の比率で前記供給
タンクにて混合させるために前記各補充ラインから所定
量の液体を補充させるべく、前記計量手段からの信号に
基づき前記弁手段を制御する制御手段と、を有する混合
装置において、 前記制御手段は、前記供給タンクに所定量の各液体を補
充する液補充処理を所定回数行ううちの一回の液補充処
理が累積誤差分の補正を行うことを特徴とする混合装
置。
1. A plurality of replenishment lines provided for each liquid having different components and having a metering means and a valve means for replenishing the liquid to a supply tank, and mixing the liquids at a predetermined ratio in the supply tank. A control means for controlling the valve means based on a signal from the measuring means so as to replenish a predetermined amount of liquid from each of the replenishment lines. A mixing apparatus characterized in that one liquid replenishment process of replenishing a predetermined amount of each liquid for a predetermined number of times corrects an accumulated error.
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