JP2001035669A - Organic electroluminescence element and its manufacture - Google Patents

Organic electroluminescence element and its manufacture

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JP2001035669A
JP2001035669A JP11211976A JP21197699A JP2001035669A JP 2001035669 A JP2001035669 A JP 2001035669A JP 11211976 A JP11211976 A JP 11211976A JP 21197699 A JP21197699 A JP 21197699A JP 2001035669 A JP2001035669 A JP 2001035669A
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light emitting
pattern
organic
cathode
anode
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Takeshi Kitahora
健 北洞
Hideaki Ueda
秀昭 植田
Keiichi Furukawa
慶一 古川
Yoshihisa Terasaka
佳久 寺阪
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Minolta Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescence element allowing emission in a preset emission pattern and offering simplified construction permitting precise and stable emission in the preset pattern, and a manufacture of the organic electroluminescence element allowing emission in the preset emission pattern, thereby simplifying the organic electroluminescence element allowing precise and stable emission in the preset emission pattern. SOLUTION: An organic electroluminescence element emits a light in a preset emission pattern. It includes an anode 20, a cathode 40 and an organic luminous film 30 provided between the anode 20 and the cathode 40, the anode 20 being formed in wide and rough patterns including the emission pattern, the cathode 40 being formed corresponding to the emission pattern and the organic luminous film 30 being formed in non-patterned continuous shape including both the emission pattern and the pattern of each of the electrodes 20, 40.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は所定の発光パターン
で発光する有機エレクトロルミネッセンス素子及びその
製造方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an organic electroluminescence device which emits light in a predetermined light emission pattern and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機エレクトロルミネッセンス素子は、
通常、その陽極と陰極の間に有機物質からなる有機発光
膜を有しており、該両電極間へ電圧を印加することで発
光する。有機エレクトロルミネッセンス素子の例として
は、有機発光膜における発光体として単結晶アントラセ
ンなどが用いられたものが米国特許第3,530,32
5号に記載されている。
2. Description of the Related Art Organic electroluminescent devices are
Usually, an organic light emitting film made of an organic substance is provided between the anode and the cathode, and light is emitted by applying a voltage between the two electrodes. As an example of an organic electroluminescence device, a device in which single crystal anthracene or the like is used as a light emitting body in an organic light emitting film is disclosed in US Pat. No. 3,530,32.
No.5.

【0003】また、特開昭59−194393号公報に
は正孔注入層と有機発光体層を組み合わせたものが提案
されている。特開昭63−295695号公報には正孔
注入輸送層、電子注入輸送層を組み合わせたものが提案
されている。これら積層構造の有機エレクトロルミネッ
センス素子は、有機蛍光体と電荷輸送性の有機物(電荷
輸送材)及び電極を積層した構造となっており、陽極側
から注入された正孔と陰極側から注入された電子が電荷
輸送材中を移動して、それらが再結合して励起子を生成
し、それが発光材料の分子を励起することによって発光
する。有機蛍光体としては、8―キノリノールアルミニ
ウム錯体やクマリン化合物など蛍光を発する有機色素な
どが用いられている。また、電荷輸送材としては、例え
ばN,N’―ジ(m―トリル)N,N’―ジフェニルベ
ンジジンや、1,1―ビス[N,N―ジ(p―トリル)
アミノフェニル]シクロヘキサンといったジアミノ化合
物や、4―(N,N―ジフェニル)アミノベンズアルデ
ヒド―N,N―ジフェニルヒドラゾン化合物等が挙げら
れる。さらに、銅フタロシアニンのようなポルフィリン
化合物も提案されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 59-194393 proposes a combination of a hole injection layer and an organic light emitting layer. JP-A-63-295695 proposes a combination of a hole injection transport layer and an electron injection transport layer. These stacked organic electroluminescent devices have a structure in which an organic phosphor, a charge transporting organic substance (charge transporting material) and an electrode are laminated, and holes injected from the anode side and holes injected from the cathode side. Electrons move through the charge transport material and recombine to form excitons, which emit light by exciting molecules of the luminescent material. As the organic phosphor, an organic dye which emits fluorescence such as an 8-quinolinol aluminum complex or a coumarin compound is used. Examples of the charge transporting material include N, N'-di (m-tolyl) N, N'-diphenylbenzidine and 1,1-bis [N, N-di (p-tolyl).
Diamino compounds such as [aminophenyl] cyclohexane, and 4- (N, N-diphenyl) aminobenzaldehyde-N, N-diphenylhydrazone compounds. Further, porphyrin compounds such as copper phthalocyanine have been proposed.

【0004】このような有機エレクトロルミネッセンス
素子のなかには、単に発光させるだけでなく所定の発光
パターンで発光させるものがある。有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を所定の発光パターンで発光させる方策
として、従来様々な提案がされている。例えば、特開平
5−101884号公報では、防湿性高分子フィルムと
接着層により形成された封止フィルムを、有機エレクト
ロルミネッセンス素子の外表面上に圧着した後、該素子
の上部電極を切断後、剥離して発光パターンを形成する
有機エレクトロルミネッセンス素子のパターン化方法が
提案されている。
Some of such organic electroluminescent elements emit light in a predetermined light emitting pattern in addition to simply emitting light. Conventionally, various proposals have been made as a measure for causing the organic electroluminescence element to emit light in a predetermined light emission pattern. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-101883, after sealing a sealing film formed by a moisture-proof polymer film and an adhesive layer on the outer surface of an organic electroluminescence element, after cutting the upper electrode of the element, There has been proposed a method of patterning an organic electroluminescent element in which a light emitting pattern is formed by peeling.

【0005】特開平8−222371号公報では、レー
ザーアブレーション加工法を用いることでエレクトロル
ミネッセンス素子を微細パターン化するエレクトロルミ
ネッセンス素子の微細パターン化方法が提案されてい
る。特開平9−293589号公報では、透光性基板上
に陽極材料、有機物質、陰極材料、保護膜をそれぞれ順
次成膜して陽極、有機物質からなる発光膜及び陰極を積
層形成し、さらにその上に積層された保護膜上にレジス
トを成膜して発光層に対応する形状をパターニングし、
これら積層形成された陽極材料、有機物質、陰極材料、
保護膜をレジストが有するパターン形状に応じてドライ
エッチング加工することでパターン化して有機ELディ
スプレイを得る方法が提案されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-222371 proposes a fine patterning method for an electroluminescent element in which an electroluminescent element is finely patterned by using a laser ablation method. In JP-A-9-293589, an anode material, an organic material, a cathode material, and a protective film are sequentially formed on a light-transmitting substrate, and an anode, a light-emitting film made of an organic material, and a cathode are stacked and formed. Forming a resist on the protective film laminated on top and patterning the shape corresponding to the light emitting layer,
These laminated anode material, organic material, cathode material,
There has been proposed a method of obtaining an organic EL display by patterning a protective film by dry etching according to a pattern shape of a resist.

【0006】特開平10−50481号公報では、電子
注入層又は正孔注入層を所定の領域を占めるパターンで
形成した有機エレクトロルミネッセンス素子、或いは所
定のパターンを有する電子流入抑制層又は正孔流入抑制
層を形成することにより所定のパターンに対応する領域
の発光を抑制した有機エレクトロルミネッセンス素子が
提案されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-50481 discloses an organic electroluminescent device in which an electron injection layer or a hole injection layer is formed in a pattern occupying a predetermined area, or an electron inflow suppression layer or a hole inflow suppression layer having a predetermined pattern. There has been proposed an organic electroluminescent element in which light emission in a region corresponding to a predetermined pattern is suppressed by forming a layer.

【0007】特開平10−284254号公報では、硝
子基板上の透明電極、その上に発光パターンの形状にく
り抜かれた貫通部を有する絶縁層、その上に有機層、さ
らにその上に金属電極が順次積層形成された有機エレク
トロルミネッセンス素子が提案されている。特開平10
−208882号公報では、絶縁性基板上に表示パター
ンに形成された陰極と、開口部を有して陰極上に積層形
成された絶縁層と、その開口部上に積層形成された電子
注入層と、電子注入層上に積層形成された発光層と、発
光層上に積層形成された正孔輸送層と、正孔輸送層上に
積層形成された陽極とを備えた有機エレクトロルミネッ
センス素子及びその製造方法が提案されている。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-284254, a transparent electrode on a glass substrate, an insulating layer having a through-hole formed in the shape of a light emitting pattern thereon, an organic layer thereon, and a metal electrode thereon are provided. An organic electroluminescence element formed by sequentially laminating has been proposed. JP Hei 10
JP-A-208882 discloses a cathode formed in a display pattern on an insulating substrate, an insulating layer having an opening and laminated on the cathode, and an electron injection layer laminated and formed on the opening. Patent application title: Organic electroluminescence device having a light emitting layer laminated on an electron injection layer, a hole transport layer laminated on the light emitting layer, and an anode laminated on the hole transport layer A method has been proposed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
提案のうち、特開平9−293589号公報に記載され
ている有機ELディスプレイの製造方法、特開平10−
284254号公報に記載されている有機エレクトロル
ミネッセンス素子、特開平10−208882号公報に
記載されている有機エレクトロルミネッセンス素子及び
その製造方法などでは、素子に保護膜、絶縁層を設ける
必要があり、それだけ素子構成が複雑になり製作に手間
とコストがかかる。また、特開平5−101884号公
報が教えるエレクトロルミネッセンス素子のパターン化
法、特開平8−222371号公報に記載されているエ
レクトロルミネッセンス素子の微細パターン化方法、特
開平9−293589号公報で提案されている有機EL
ディスプレイの製造方法などでは、素子をパターン加工
するための装置を別途導入する必要があるなど素子の製
造が煩雑になり、コスト高につく。
However, among the above proposals, a method of manufacturing an organic EL display described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-293589,
In the organic electroluminescence device described in Japanese Patent No. 284254, the organic electroluminescence device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-208882, and a method for manufacturing the same, it is necessary to provide a protective film and an insulating layer on the device. The element configuration becomes complicated, and it takes time and cost to manufacture. Also, a method of patterning an electroluminescent element taught by JP-A-5-101883, a method of finely patterning an electroluminescent element described in JP-A-8-222371, and a method disclosed in JP-A-9-293589 are proposed. Organic EL
In a method of manufacturing a display or the like, it is necessary to separately introduce an apparatus for pattern-processing the element, and the manufacturing of the element becomes complicated, resulting in high cost.

【0009】また、前記の提案とは別に、有機エレクト
ロルミネッセンス素子を所定の発光パターン形状で発光
させる方策として、例えば陰極、有機発光膜及び陽極を
それぞれ所定の発光パターンどおりにパターニングして
基板上に積層形成することが考えられるが、この場合、
陰極、有機発光膜及び陽極をそれぞれパターニングしよ
うとするとそれらの位置合わせを厳密に行わねばなら
ず、パターニングされた陰極、有機発光膜、陽極にずれ
が生じると発光パターンの一部の欠け(例えば発光パタ
ーンが文字パターンの場合では文字欠け)が生じたり、
配線部等の予期せぬ発光、電極同士の短絡などが生じる
恐れがある。
In addition to the above-mentioned proposal, as a measure for causing the organic electroluminescent element to emit light in a predetermined light emitting pattern, for example, a cathode, an organic light emitting film and an anode are patterned according to a predetermined light emitting pattern, and are formed on a substrate. It is conceivable to form a laminate, but in this case,
In order to pattern the cathode, the organic light emitting film and the anode, respectively, the alignment must be strictly performed. If the patterned cathode, the organic light emitting film and the anode are misaligned, a part of the light emitting pattern is lost (for example, light emission If the pattern is a character pattern, character missing) may occur,
There is a possibility that unexpected emission of light from the wiring portion, a short circuit between the electrodes, or the like may occur.

【0010】そこで本発明は、所定の発光パターンで発
光する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、所
定の発光パターンで精度よく、安定的に発光する構造簡
単な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供すること
を課題とする。また本発明は、所定の発光パターンで発
光する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法で
あって、所定の発光パターンで精度よく、安定的に発光
する有機エレクトロルミネッセンス素子を簡単に得るこ
とができる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法を提供することを課題とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an organic electroluminescence element which emits light in a predetermined light emission pattern, and which has a simple structure which emits light accurately and stably in a predetermined light emission pattern. I do. Further, the present invention relates to a method for manufacturing an organic electroluminescent element which emits light in a predetermined light emitting pattern, and which can easily obtain an organic electroluminescent element which emits light accurately and stably in a predetermined light emitting pattern. It is an object to provide a method for manufacturing an element.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するため、所定の発光パターンで発光する有機エレクト
ロルミネッセンス素子であり、陽極、陰極及び前記陽極
及び陰極間の有機発光膜を含んでおり、前記陽極と陰極
のうち一方の電極は前記発光パターンを包含する広いラ
フなパターンに形成されており、他方の電極は前記発光
パターンに対応するパターンに形成されており、前記有
機発光膜は前記発光パターン及び前記両電極の各パター
ンのいずれも含む非パターン化連続面状に形成されてい
ることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子
及び、陽極、陰極及び前記両電極間の有機発光膜を含
み、所定の発光パターンで発光する有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の製造方法であり、前記両電極のうち一
方の電極を基板上に前記発光パターンを含む広いラフな
パターンで(又は前記発光パターンに対応するパターン
で)形成する工程と、前記有機発光膜を前記基板上に形
成した電極の上から該基板上に全面的に形成する工程
と、前記両電極のうち他方の電極を前記基板上に形成し
た該有機発光膜上に前記発光パターンに対応するパター
ンで(又は前記発光パターンを含む広いラフなパターン
で)形成する工程とを含んでいることを特徴とする有機
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。
According to the present invention, there is provided an organic electroluminescent device which emits light in a predetermined light emitting pattern, comprising an anode, a cathode, and an organic light emitting film between the anode and the cathode. One of the anode and the cathode is formed in a wide rough pattern including the light emitting pattern, the other electrode is formed in a pattern corresponding to the light emitting pattern, and the organic light emitting film is An organic electroluminescence element and an anode, an anode, a cathode and an organic light emitting film between the two electrodes, which are formed in a non-patterned continuous plane including both the light emitting pattern and the respective patterns of the two electrodes, A method for manufacturing an organic electroluminescence element that emits light in a predetermined light emission pattern, wherein one of the two electrodes is placed on a substrate. Forming a broad rough pattern including the light emitting pattern (or a pattern corresponding to the light emitting pattern), and forming the organic light emitting film entirely on the substrate from above the electrode formed on the substrate And a step of forming the other of the two electrodes on the organic light emitting film formed on the substrate in a pattern corresponding to the light emitting pattern (or in a wide rough pattern including the light emitting pattern). A method for manufacturing an organic electroluminescence device, comprising:

【0012】前記本発明に係る有機エレクトロルミネッ
センス素子では、前記陽極と陰極のうち一方の電極は前
記発光パターンを包含する広いラフなパターンに形成さ
れている。なお、この電極パターンは前記発光パターン
を包含していれば前記発光パターンに比べて粗いパター
ンに形成されていればよく、微細なパターンは要求され
ない。他方の電極は前記発光パターンに対応するパター
ンに形成されている。また、それら両電極間の前記有機
発光膜は前記発光パターン及び前記両電極の各パターン
のいずれも含む非パターン化連続面状に(意図的にパタ
ーン化されてはいない連続面状に)形成されている。
In the organic electroluminescent device according to the present invention, one of the anode and the cathode is formed in a wide rough pattern including the light emitting pattern. Note that this electrode pattern may be formed in a coarser pattern than the light emitting pattern as long as it includes the light emitting pattern, and a fine pattern is not required. The other electrode is formed in a pattern corresponding to the light emitting pattern. In addition, the organic light emitting film between the two electrodes is formed in a non-patterned continuous plane including both the light emitting pattern and the respective patterns of the both electrodes (in a continuous plane not intentionally patterned). ing.

【0013】前記ラフパターンに形成された電極と前記
発光パターンに形成された電極の間に所定の電圧を印加
することで、それら両電極間の前記非パターン化連続面
状の有機発光膜が前記発光パターンに発光する。本発明
の有機エレクトロルミネッセンス素子によると、前記陽
極と陰極のうち一方の電極が前記発光パターンを包含す
る広いラフなパターンに形成されているので、該パター
ンが断線する恐れが少ない。また、前記陽極と陰極のう
ち一方の電極が前記発光パターンを包含する広いラフな
パターンに形成されているので、前記陽極と陰極とを互
いにラフに位置合わせしても、発光パターンの一部の欠
け、例えば発光パターンが文字パターンの場合では文字
欠け、配線部等の予期せぬ発光、電極同士の短絡などの
発生を抑制できる。
By applying a predetermined voltage between the electrode formed in the rough pattern and the electrode formed in the light emitting pattern, the non-patterned continuous organic light emitting film between the electrodes is formed. It emits light in a light emission pattern. According to the organic electroluminescence device of the present invention, one of the anode and the cathode is formed in a wide and rough pattern including the light emitting pattern, so that the pattern is less likely to be disconnected. In addition, since one of the anode and the cathode is formed in a wide rough pattern including the light emitting pattern, even if the anode and the cathode are roughly aligned with each other, a part of the light emitting pattern is not affected. Chipping, for example, when the light-emitting pattern is a character pattern, can suppress occurrence of character chipping, unexpected light emission from a wiring portion, a short circuit between electrodes, and the like.

【0014】また、本発明の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の素子構成によると、従来のような保護膜や絶
縁層などを設ける必要がないので、それだけ構造が簡単
である。このように本発明に係る有機エレクトロルミネ
ッセンス素子では、所定の発光パターンで精度よく、安
定的に発光することができ、それでいて構造が簡単であ
る。
According to the organic electroluminescence device of the present invention, the structure is simple because there is no need to provide a protective film or an insulating layer as in the prior art. As described above, the organic electroluminescence device according to the present invention can emit light accurately and stably with a predetermined light emission pattern, and has a simple structure.

【0015】前記本発明に係る有機エレクトロルミネッ
センス素子の製造方法では、先ず前記両電極のうち一方
の電極を基板上に前記発光パターンを含む広いラフなパ
ターンで(又は前記発光パターンに対応するパターン
で)形成し、次いで前記有機発光膜を前記基板上に形成
した電極の上から該基板上に全面的に形成し、さらに前
記両電極のうち他方の電極を前記基板上に形成した該有
機発光膜上に前記発光パターンに対応するパターンで
(又は前記発光パターンを含む広いラフなパターンで)
形成する。なお、電極を前記発光パターンを含む広いラ
フなパターンに形成する場合、前記発光パターンを包含
していれば前記発光パターンに比べて粗いパターンに形
成すればよく、微細なパターンの形成は要求されない。
In the method of manufacturing an organic electroluminescence device according to the present invention, first, one of the two electrodes is formed on a substrate in a wide rough pattern including the light emitting pattern (or in a pattern corresponding to the light emitting pattern). And then forming the organic light-emitting film entirely on the substrate from above the electrodes formed on the substrate, and further forming the other of the two electrodes on the substrate. A pattern corresponding to the light emitting pattern above (or a wide rough pattern including the light emitting pattern)
Form. When the electrode is formed in a wide rough pattern including the light emitting pattern, the electrode may be formed in a coarser pattern than the light emitting pattern as long as the electrode includes the light emitting pattern, and the formation of a fine pattern is not required.

【0016】本発明に係る有機エレクトロルミネッセン
ス素子の製造方法によると、前記陽極と陰極のうち一方
の電極を前記発光パターンを包含する広いラフなパター
ンに形成するので、該パターンが断線する恐れが少ない
素子を得ることができる。また、前記陽極と陰極のうち
一方の電極を前記発光パターンを包含する広いラフなパ
ターンに形成するので、前記陽極と陰極とを互いにラフ
に位置合わせしても、発光パターンの一部の欠け、配線
部等の予期せぬ発光、電極同士の短絡などの発生を抑制
できる素子を得ることができる。
According to the method of manufacturing an organic electroluminescence device according to the present invention, one of the anode and the cathode is formed in a wide rough pattern including the light emitting pattern, so that the pattern is less likely to be disconnected. An element can be obtained. Further, since one of the anode and the cathode is formed in a wide rough pattern including the light emitting pattern, even if the anode and the cathode are roughly aligned with each other, a part of the light emitting pattern is missing, An element which can suppress occurrence of unexpected light emission such as a wiring portion and short-circuit between electrodes can be obtained.

【0017】また、本発明の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の製造方法によると、前記有機発光膜を前記基
板上に形成した電極の上から該基板上に全面的に形成す
るので、例えばマスク等により前記有機発光膜をパター
ニングするための工程が不要である。従って素子の製造
が簡便になり、それだけ製造コストを抑えることができ
る。
According to the method of manufacturing an organic electroluminescence device of the present invention, the organic light emitting film is formed on the entire surface of the substrate from the electrode formed on the substrate. There is no need for a step for patterning the light emitting film. Therefore, the manufacture of the element is simplified, and the manufacturing cost can be reduced accordingly.

【0018】このように本発明に係る有機エレクトロル
ミネッセンス素子の製造方法では、所定の発光パターン
で精度よく、安定的に発光する有機エレクトロルミネッ
センス素子を簡単に得ることができる。本発明の有機エ
レクトロルミネッセンス素子は、各種の表示装置乃至デ
ィスプレイ装置、或いはカメラ等の光学装置のインファ
インダーなどに適用可能である。
As described above, according to the method for manufacturing an organic electroluminescence device according to the present invention, an organic electroluminescence device that emits light stably with a predetermined light emission pattern with high accuracy can be easily obtained. The organic electroluminescence element of the present invention is applicable to various display devices, display devices, and infinders of optical devices such as cameras.

【0019】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素
子の態様として、次の場合を例示できる。すなわち、
前記ラフパターンに形成された電極は陽極であり、前記
発光パターンに形成された電極は陰極であり、前記陽極
は透明電極であり、前記陰極は仕事関数の小さい金属か
らなっている有機エレクトロルミネッセンス素子、及び
前記陽極及び陰極が共に透明電極である有機エレクト
ロルミネッセンス素子である。
The following cases can be exemplified as embodiments of the organic electroluminescent device of the present invention. That is,
The electrode formed in the rough pattern is an anode, the electrode formed in the light emitting pattern is a cathode, the anode is a transparent electrode, and the cathode is an organic electroluminescence element made of a metal having a small work function. , And the organic electroluminescent device, wherein the anode and the cathode are both transparent electrodes.

【0020】前記の態様の素子をインファインダーに
用いる場合、前記仕事関数の小さい金属からなっている
陰極は不透明なためできるだけ細いパターンにすること
が望ましい。なお、金属電極は電気抵抗が低いため細い
パターンにすることができる。前記陽極及び(又は)陰
極を透明電極にする場合、透明電極に用いることができ
る材料としては、例えばITO(インジウム錫酸化
物)、亜鉛添加されたインジウム錫酸化物(例えば、I
ZOで呼ばれているもの)、ZnO、CuS等を挙げる
ことができる。
When the element of the above-described embodiment is used for an infinder, the cathode made of a metal having a small work function is opaque, so that it is desirable to form the pattern as thin as possible. Note that the metal electrode has a low electric resistance and can be formed into a thin pattern. When the anode and / or the cathode are transparent electrodes, examples of the material that can be used for the transparent electrode include ITO (indium tin oxide) and zinc-added indium tin oxide (for example, I
ZO), ZnO, CuS and the like.

【0021】例えば、前記ラフパターンに形成された電
極材料にITOを用いる場合、ITOは比抵抗が高いの
でITOをラフにパターニングする方が表示の不均一性
や印加電圧の上昇を防ぐことができる。また、ITOを
ラフにパターニングすることで、パターンエッジ部への
電荷集中による短絡によって発生する絶縁破壊を防ぐこ
とができる。
For example, when ITO is used as the electrode material formed in the rough pattern, since ITO has a high specific resistance, it is possible to prevent non-uniformity of display and an increase in applied voltage by roughly patterning the ITO. . Further, by roughly patterning the ITO, it is possible to prevent dielectric breakdown caused by short circuit due to charge concentration on the pattern edge.

【0022】本発明に係る有機エレクトロルミネッセン
ス素子において、前記陽極及び陰極のうちいずれかは透
明基板上に形成されていてもよいし、前記有機発光膜は
該透明基板上に前記陽極又は陰極を介して全面的に形成
されていてもよい。本発明に係る有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の製造方法において、前記基板として透明
基板を用いてもよい。また、前記陰極として仕事関数の
小さい金属からなる電極を用いてもよいし、透明電極を
用いてもよい。
In the organic electroluminescence device according to the present invention, either the anode or the cathode may be formed on a transparent substrate, and the organic light emitting film may be formed on the transparent substrate via the anode or the cathode. May be formed over the entire surface. In the method for manufacturing an organic electroluminescence device according to the present invention, a transparent substrate may be used as the substrate. Further, an electrode made of a metal having a small work function may be used as the cathode, or a transparent electrode may be used.

【0023】いずれにしても前記有機発光膜は単層の構
成であってもよいし、複数の層が積層された構成であっ
てもよい。複数の層が積層された構成の有機発光膜とし
ては、前記陰極との界面からの電子注入を容易にするた
めの前記陰極との界面を形成する電子注入のための層を
含んでいるもの、前記陽極との界面からの正孔注入を容
易にするための前記陽極との界面を形成する正孔注入の
ための層を含んでいるものを例示できる。さらに詳しく
言えば、有機発光膜の構成として次のものを例示でき
る。 陽極側から陰極側へ、正孔移動関連層及び有機発光層
を積層したもの、 陽極側から陰極側へ、正孔移動関連層、有機発光層及
び電子移動関連層を積層したもの、 陽極側から陰極側へ、有機発光層及び電子移動関連層
を積層したもの。
In any case, the organic light emitting film may have a single-layer structure or a structure in which a plurality of layers are stacked. As the organic light-emitting film having a configuration in which a plurality of layers are stacked, a layer including a layer for electron injection forming an interface with the cathode for facilitating electron injection from the interface with the cathode; Examples include a layer including a layer for hole injection forming an interface with the anode for facilitating hole injection from the interface with the anode. More specifically, the following can be exemplified as the configuration of the organic light emitting film. From the anode side to the cathode side, a layer in which a hole transfer-related layer and an organic light-emitting layer are laminated. From the anode side to the cathode side, a layer in which a hole transfer-related layer, an organic light-emitting layer, and an electron transfer layer are laminated, from the anode side. An organic light emitting layer and an electron transfer related layer are laminated on the cathode side.

【0024】正孔移動関連層や電子移動関連層は、電極
の特性や有機発光層の特性にあわせて必要に応じて設け
るようにすればよい。〜において、正孔移動関連層
としては、a)正孔注入層、b)正孔輸送層、c)正孔
注入層及び正孔輸送層、d)正孔注入輸送層からなる群
より選択されるいずれかの層とすることができ、電子移
動関連層としては、a)電子注入層、b)電子輸送層、
c)電子注入層及び電子輸送層、d)電子注入輸送層か
らなる群より選択されるいずれかの層とすることができ
る。これらの各層も、電極の特性や有機発光層の特性に
合わせて適当なものを選択して設けるようにすればよ
い。
The hole transfer-related layer and the electron transfer-related layer may be provided as needed according to the characteristics of the electrodes and the characteristics of the organic light emitting layer. In the above, the hole transport-related layer is selected from the group consisting of a) a hole injection layer, b) a hole transport layer, c) a hole injection layer and a hole transport layer, and d) a hole injection layer. And the electron transfer-related layers include a) an electron injection layer, b) an electron transport layer,
It can be any layer selected from the group consisting of c) an electron injection layer and an electron transport layer, and d) an electron injection and transport layer. Each of these layers may be appropriately selected and provided according to the characteristics of the electrode and the characteristics of the organic light emitting layer.

【0025】また〜において、有機発光層について
は、例えば正孔輸送層や正孔注入輸送層の全部若しくは
一部、又は電子輸送層や電子注入輸送層の全部若しくは
一部に、蛍光物質をドープすることで、これらの層の全
部又は一部を発光層とすることもできる。なお、本発明
に係る有機エレクトロルミネッセンス素子では、該素子
を所定の発光パターンで発光させるにあたり、スタティ
ック駆動させることができる。このような駆動方式を採
用することで一層構造が簡単な素子を安価に提供するこ
とができる。
In the above, in the organic light emitting layer, for example, all or a part of the hole transport layer or the hole injection / transport layer, or all or a part of the electron transport layer or the electron injection / transport layer is doped with a fluorescent substance. By doing so, all or a part of these layers can be used as a light emitting layer. In the organic electroluminescence device according to the present invention, the device can be driven statically to emit light in a predetermined light emission pattern. By employing such a driving method, an element having a simpler structure can be provided at low cost.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は本発明に係る有機エレクト
ロルミネッセンス素子の1例の平面図であり、図2は図
1に示す素子の概略構成の断面図である。図1及び図2
に示す素子は、所定の発光パターン(図示例ではアルフ
ァベット文字”WXYZ”)で発光する素子であり、透
明なガラス基板10上にITO(インジウム錫酸化物)
からなる透明電極の陽極20が前記発光パターンを包含
する広いラフなパターンに形成されている。この透明電
極20のパターンは他のセグメント、例えば文字”W”
に対して文字”XYZ”と重なったり短絡しない限り、
前記発光パターンを包含していれば前記発光パターンに
比べて粗いパターンに形成されていればよく、微細なパ
ターンは要求されない。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of an example of the organic electroluminescence device according to the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of a schematic configuration of the device shown in FIG. 1 and 2
Is a device that emits light in a predetermined light emission pattern (in the illustrated example, alphabetic characters “WXYZ”), and is formed on a transparent glass substrate 10 by ITO (indium tin oxide).
The transparent electrode anode 20 is formed in a wide rough pattern including the light emitting pattern. The pattern of the transparent electrode 20 is different from other segments, for example, the character "W".
As long as it does not overlap or short-circuit with the characters "XYZ"
As long as the light emitting pattern is included, the light emitting pattern may be formed in a coarser pattern than the light emitting pattern, and a fine pattern is not required.

【0027】透明基板10上に有機発光膜30が陽極2
0を介して全面的に成膜されている。図2に示すよう
に、有機発光膜30はここでは積層された正孔注入輸送
層31及び有機発光層32から構成されている。正孔注
入輸送層31は陽極20に重ねられており、有機発光層
32は陰極40に重ねられている。この有機発光膜30
はフォトリソグラフィー法、マスク蒸着法などの特別な
手法を採らず、単に透明基板10上に陽極20を介して
全面的に成膜されている。
An organic light emitting film 30 is formed on a transparent substrate 10 by an anode 2
0 is formed over the entire surface. As shown in FIG. 2, the organic light emitting film 30 includes a layered hole injection / transport layer 31 and an organic light emitting layer 32 here. The hole injection / transport layer 31 is overlaid on the anode 20, and the organic light emitting layer 32 is overlaid on the cathode 40. This organic light emitting film 30
Is formed entirely on the transparent substrate 10 via the anode 20 without using a special method such as a photolithography method or a mask evaporation method.

【0028】その上に金属からなる陰極40が前記発光
パターンに対応するパターンに形成されている。この金
属電極40のパターンが前記発光パターンとなる。図1
及び図2に示す有機エレクトロルミネッセンス素子にお
いて、陽極20に正、陰極40に負の直流電圧を印加す
ることにより、有機発光膜30が金属電極40のパター
ン、すなわち前記発光パターンで発光する。
A cathode 40 made of metal is formed thereon in a pattern corresponding to the light emission pattern. The pattern of the metal electrode 40 becomes the light emitting pattern. FIG.
In the organic electroluminescent device shown in FIG. 2, by applying a positive DC voltage to the anode 20 and a negative DC voltage to the cathode 40, the organic light emitting film 30 emits light in the pattern of the metal electrode 40, that is, the light emitting pattern.

【0029】この有機エレクトロルミネッセンス素子に
よると、陽極20が前記発光パターンを包含する広いラ
フなパターンに形成されているので、該パターンが断線
する恐れが少ない。また、陽極20が前記発光パターン
を包含する広いラフなパターンに形成されているので、
パターニングされた陽極20と陰極40とを互いにラフ
に位置合わせしても、文字欠け、配線部等の予期せぬ発
光、電極同士の短絡などの発生を抑制できる。
According to this organic electroluminescence element, since the anode 20 is formed in a wide rough pattern including the light emitting pattern, the pattern is less likely to be disconnected. Further, since the anode 20 is formed in a wide rough pattern including the light emitting pattern,
Even if the patterned anode 20 and cathode 40 are roughly aligned with each other, it is possible to suppress occurrence of chipping of characters, unexpected emission of light from a wiring portion, and short-circuit between electrodes.

【0030】また、この有機エレクトロルミネッセンス
素子の素子構成によると、従来のような保護膜や絶縁層
などを設ける必要がないので、それだけ構造が簡単であ
る。このように図1及び図2に示す有機エレクトロルミ
ネッセンス素子では、所定の発光パターンで精度よく、
安定的に発光することができ、それでいて構造が簡単で
ある。
Further, according to the organic electroluminescent device, the structure is simple because there is no need to provide a protective film or an insulating layer as in the prior art. As described above, in the organic electroluminescence device shown in FIGS.
Light can be stably emitted, and the structure is simple.

【0031】図1及び図2に示す有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の陽極20だけでなく、本発明の有機エレ
クトロルミネッセンス素子の陽極として使用される導電
性物質として、4eV程度よりも大きい仕事関数を持つ
導電性物質を用いることが好ましい。かかる物質とし
て、炭素、バナジウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、
亜鉛、タングステン、銀、錫、金等及びそれらを含む合
金のような金属のほか、酸化錫、酸化インジウム、酸化
アンチモン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の導電性金
属酸化物及びそれらの固溶体や混合体などの導電性金属
化合物のような導電性化合物を例示できる。
As the conductive material used as the anode of the organic electroluminescence device of the present invention as well as the anode 20 of the organic electroluminescence device shown in FIGS. 1 and 2, a conductive material having a work function larger than about 4 eV is used. Preferably, a substance is used. Such materials include carbon, vanadium, iron, cobalt, nickel, copper,
In addition to metals such as zinc, tungsten, silver, tin, gold, and alloys containing them, conductive metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and solid solutions and mixtures thereof And a conductive compound such as a conductive metal compound.

【0032】有機エレクトロルミネッセンス素子におい
て発光が見られるように、少なくとも陽極或いは陰極は
透明電極にする必要がある。この際、陰極に透明電極を
使用すると、透明性が損なわれやすいので、陽極を透明
電極にすることが好ましい。透明電極を形成する場合、
透明基体上に、前記したような導電性物質のうちいずれ
かの物質を用い、真空蒸着、スパッタリング等の手法や
ゾルゲル法或いはかかる物質を樹脂等に分散させて塗布
する等の手段を用いて所望の透光性と導電性が確保され
るように形成すればよい。
At least the anode or the cathode needs to be a transparent electrode so that light emission can be seen in the organic electroluminescence device. At this time, if a transparent electrode is used for the cathode, the transparency is easily impaired, so that the anode is preferably a transparent electrode. When forming a transparent electrode,
On a transparent substrate, using any one of the above-described conductive materials, a method such as vacuum deposition or sputtering, a sol-gel method, or a method such as dispersing and applying such a material to a resin or the like is used. What is necessary is just to form so that the translucency and electroconductivity of this may be ensured.

【0033】透明基板としては、適度の強度を有し、有
機エレクトロルミネッセンス素子作製時、膜蒸着時等に
おける熱に悪影響を受けず、透明なものであれば特に限
定されないが、そのようなものを例示すると、ガラス基
板、透明な樹脂、例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケト
ン等を挙げることができる。ガラス基板上に透明電極が
形成されたものとしては、ガラス基板上にインジウム錫
酸化物(ITO)からなる透明電極を設けたもの、NE
SAガラスと通称されているコーニング社製の、透明電
極をガラス基板上に形成したもの等を使用してもよい。
The transparent substrate is not particularly limited as long as it has a suitable strength and is not adversely affected by heat during the production of an organic electroluminescence device, the deposition of a film or the like, and is transparent. For example, a glass substrate and a transparent resin such as polyethylene, polypropylene, polyethersulfone, and polyetheretherketone can be given. Examples of a transparent electrode formed on a glass substrate include a transparent electrode formed of indium tin oxide (ITO) on a glass substrate, NE
You may use the thing by which the transparent electrode formed on the glass substrate by the Corning company, which is commonly called SA glass.

【0034】陽極は透明電極膜形成後、いろいろな形状
にパターニングできる。このパターニングにはフォトリ
ソグラフィー法、マスク蒸着法など、一般的な手法を用
いることができる。例えば、透明電極にITOを用いる
場合、エッチング法等により容易にパターニングでき
る。陽極は正孔注入が起こりやすくするために、十分洗
浄する必要がある。陽極の洗浄には必要に応じて、エキ
シマーランプの光照射による洗浄法、湿式洗浄法やプラ
ズマ処理による洗浄法、紫外線(UV)/オゾン
(O3 )による洗浄法等の清浄方法を用いることができ
る。またこれらの洗浄方法を組み合わせることによりさ
らに効果的な洗浄を行うことができる。
After forming the transparent electrode film, the anode can be patterned into various shapes. For this patterning, a general method such as a photolithography method and a mask evaporation method can be used. For example, when ITO is used for the transparent electrode, patterning can be easily performed by an etching method or the like. The anode needs to be sufficiently washed to make it easier for hole injection to occur. When necessary, the anode may be cleaned by a cleaning method using light from an excimer lamp, a wet cleaning method, a cleaning method using a plasma treatment, or a cleaning method using ultraviolet (UV) / ozone (O 3 ). it can. Further, by combining these cleaning methods, more effective cleaning can be performed.

【0035】図1及び図2に示す有機エレクトロルミネ
ッセンス素子の有機発光膜30だけでなく、本発明の有
機エレクトロルミネッセンス素子の有機発光膜の形成に
は、例えば真空蒸着法、スピンコート法など膜質の均一
な薄膜を形成できる手法を用いることができる。有機発
光膜の膜厚としては、低駆動電圧、良好な発光効率を得
るという観点から、それには限定されないが、30nm
〜200nmを例示できる。また、発光色の操作、発光
効率の向上等の目的で、有機発光膜中にドーパントを含
めてもよい。
In addition to the organic light-emitting film 30 of the organic electroluminescence device shown in FIGS. 1 and 2, the organic light-emitting film of the organic electroluminescence device of the present invention may be formed by, for example, vacuum evaporation or spin coating. A method capable of forming a uniform thin film can be used. The thickness of the organic light emitting film is not limited to 30 nm from the viewpoint of obtaining a low driving voltage and good luminous efficiency.
To 200 nm. In addition, a dopant may be included in the organic light-emitting film for the purpose of controlling the emission color, improving the emission efficiency, and the like.

【0036】次に本発明に係る素子の作製について、図
1及び図2に示す構成の素子を例にとって説明する。市
販のITO(インジウム錫酸化物)ガラス基板をエッチ
ングによりパターニングし、透明ガラス基板10上に陽
極20を発光パターンを包含する広いラフなパターンに
形成する。
Next, the fabrication of the device according to the present invention will be described with reference to the device having the structure shown in FIGS. A commercially available ITO (indium tin oxide) glass substrate is patterned by etching, and the anode 20 is formed on the transparent glass substrate 10 into a wide rough pattern including a light emitting pattern.

【0037】次に、透明基板10に陽極20上から正孔
注入輸送層31を全面的に形成する。図示の正孔注入輸
送層31を含め、本発明に係る素子において正孔注入輸
送層の形成のために用いることができる正孔注入輸送材
料としては、公知のものが使用可能である。
Next, a hole injection / transport layer 31 is entirely formed on the transparent substrate 10 from above the anode 20. As the hole injecting and transporting material that can be used for forming the hole injecting and transporting layer in the device according to the present invention, including the illustrated hole injecting and transporting layer 31, a known material can be used.

【0038】例えばN,N’―ジフェニル―N,N’―
ビス(3―メチルフェニル)―1,1’―ジフェニル―
4,4’―ジアミン、N,N’―ジフェニル―N,N’
―ビス(4―メチルフェニル)―1,1’―ジフェニル
―4,4’―ジアミン、N,N’―ジフェニル―N,
N’―ビス(1―ナフチル)―1,1’―ジフェニル―
4,4’―ジアミン、N,N’―ジフェニル―N,N’
―ビス(2―ナフチル)―1,1’―ジフェニル―4,
4’―ジアミン、N,N’―テトラ(4―メチルフェニ
ル)―1,1’―ビス(3―メチルフェニル)―4,
4’―ジアミン、N,N’―ジフェニル―N,N’―ビ
ス(3―メチルフェニル)―1,1’―ビス(3―メチ
ルフェニル)―4,4’―ジアミン、N,N’―ビス
(N―カルバゾリル)―1,1’―ジフェニル―4,
4’―ジアミン、4,4’,4”―トリス(N―カルバ
ゾリル)トリフェニルアミン、N,N’,N”―トリフ
ェニル―N,N’,N”―トリス(3―メチルフェニ
ル)―1,3,5―トリ(4―アミノフェニル)ベンゼ
ン、4,4’,4”―トリス[N,N’,N”―トリフ
ェニル―N,N’,N”―トリス(3―メチルフェニ
ル)]トリフェニルアミンなどを挙げることができる。
これらのものは2種以上を混合して使用してもよい。
For example, N, N'-diphenyl-N, N'-
Bis (3-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-
4,4'-diamine, N, N'-diphenyl-N, N '
-Bis (4-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-4,4'-diamine, N, N'-diphenyl-N,
N'-bis (1-naphthyl) -1,1'-diphenyl-
4,4'-diamine, N, N'-diphenyl-N, N '
-Bis (2-naphthyl) -1,1'-diphenyl-4,
4'-diamine, N, N'-tetra (4-methylphenyl) -1,1'-bis (3-methylphenyl) -4
4'-diamine, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-bis (3-methylphenyl) -4,4'-diamine, N, N'- Bis (N-carbazolyl) -1,1′-diphenyl-4
4'-diamine, 4,4 ', 4 "-tris (N-carbazolyl) triphenylamine, N, N', N" -triphenyl-N, N ', N "-tris (3-methylphenyl)- 1,3,5-tri (4-aminophenyl) benzene, 4,4 ', 4 "-tris [N, N', N" -triphenyl-N, N ', N "-tris (3-methylphenyl )] Triphenylamine and the like.
These may be used as a mixture of two or more.

【0039】正孔注入輸送層31を含め、本発明に係る
素子における正孔注入輸送層は、前記のような正孔注入
輸送材料を蒸着して形成してもよいし、正孔注入輸送材
料を溶解した溶液や正孔注入輸送材料を適当な樹脂とと
もに溶解した液を用い、ディップコート法やスピンコー
ト法等の塗布法により形成してもよい。蒸着法で形成す
る場合、その厚さは30nm〜100nm程度とし、塗
布法で形成する場合は、その厚さは50nm〜200n
m程度に形成すればよい。
The hole injecting and transporting layer in the device according to the present invention, including the hole injecting and transporting layer 31, may be formed by vapor deposition of the above hole injecting and transporting material, May be formed by a coating method such as a dip coating method or a spin coating method using a solution in which is dissolved or a solution in which a hole injecting and transporting material is dissolved together with an appropriate resin. When formed by a vapor deposition method, the thickness is about 30 nm to 100 nm. When formed by a coating method, the thickness is 50 nm to 200 n.
m may be formed.

【0040】次に、正孔注入輸送層31の上に有機発光
層32を全面的に形成する。有機発光層32を含め、本
発明に係る素子における有機発光層を形成するために用
いる有機発光材料としては、公知のものが使用可能であ
る。例えばエピドリジン、2,5―ビス[5,7―ジ―
t―ペンチル―2―ベンゾオキサゾリル]チオフェン、
2,2’―(1,4―フェニレンジビニレン)ビスベン
ゾチアゾール、2,2’―(4,4’―ビフェニレン)
ビスベンゾチアゾール、5―メチル―2―{2―[4―
(5―メチル―2―ベンゾオキサゾリル)フェニル]ビ
ニル}ベンゾオキサゾール、2,5―ビス(5―メチル
―2―ベンゾオキサゾリル)チオフェン、アントラセ
ン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、クリセン、
ペリレン、ペリノン、1,4―ジフェニルブタジエン、
テトラフェニルブタジエン、クマリン、アクリジン、ス
チルベン、2―(4―ビフェニル)―6―フェニルベン
ゾオキサゾール、アルミニウムトリスオキシン、マグネ
シウムビスオキシン、ビス(ベンゾ―8―キノリノー
ル)亜鉛、ビス(2―メチル―8―キノリノール)アル
ミニウムオキサイド、インジウムトリスオキシン、アル
ミニウムトリス(5―メチルオキシン)、リチウムオキ
シン、ガリウムトリスオキシン、カルシウムビス(5―
クロロオキシン)、ポリ亜鉛―ビス(8―ヒドロキシ―
5―キノリノリル)メタン、ジリチウムエピンドリジオ
ン、亜鉛ビスオキシン、1,2―フタロペリノン、1,
2―ナフタロペリノン、トリス(8―ヒドロキシキノリ
ン)アルミニウム錯体などを挙げることができる。ま
た、一般的な蛍光染料、例えば蛍光クマリン染料、蛍光
ペリレン染料、蛍光ピラン染料、蛍光チオピラン染料、
蛍光ポリメチン染料、蛍光メシアニン染料、蛍光イミダ
ゾール染料等も使用できる。このうち特に好ましいもの
として、キレート化オキシノイド化合物を挙げることが
できる。
Next, the organic light emitting layer 32 is formed on the entire surface of the hole injection transport layer 31. As the organic light emitting material used for forming the organic light emitting layer in the device according to the present invention, including the organic light emitting layer 32, known materials can be used. For example, epidolidine, 2,5-bis [5,7-di-
t-pentyl-2-benzoxazolyl] thiophene,
2,2 '-(1,4-phenylenedivinylene) bisbenzothiazole, 2,2'-(4,4'-biphenylene)
Bisbenzothiazole, 5-methyl-2- @ 2- [4-
(5-methyl-2-benzoxazolyl) phenyl] vinyl} benzoxazole, 2,5-bis (5-methyl-2-benzoxazolyl) thiophene, anthracene, naphthalene, phenanthrene, pyrene, chrysene,
Perylene, perinone, 1,4-diphenylbutadiene,
Tetraphenylbutadiene, coumarin, acridine, stilbene, 2- (4-biphenyl) -6-phenylbenzoxazole, aluminum trisoxine, magnesium bisoxin, bis (benzo-8-quinolinol) zinc, bis (2-methyl-8- (Quinolinol) aluminum oxide, indium trisoxin, aluminum tris (5-methyloxin), lithium oxine, gallium trisoxin, calcium bis (5-
Chlorooxin), polyzinc-bis (8-hydroxy-)
5-quinolinolyl) methane, dilithium epindridione, zinc bisoxin, 1,2-phthaloperinone, 1,
Examples thereof include 2-naphthaloperinone and tris (8-hydroxyquinoline) aluminum complex. Also, common fluorescent dyes such as fluorescent coumarin dye, fluorescent perylene dye, fluorescent pyran dye, fluorescent thiopyran dye,
Fluorescent polymethine dyes, fluorescent mesocyanine dyes, fluorescent imidazole dyes and the like can also be used. Among them, particularly preferred are chelated oxinoid compounds.

【0041】なお、有機発光層は前記発光物質からなる
単層構成でもよいし、発光の色、発光の強度等の特性を
調整するために、多層構成としてもよい。また、2種以
上の発光物質を混合して形成したり、発光物質(例えば
ルブレンやクマリンなどの蛍光色素)をドープしたもの
でもよい。有機発光層32を含め、本発明に係る素子に
おける有機発光層は、前記のような有機発光材料を蒸着
して形成してもよいし、有機発光材料を溶解した溶液や
有機発光材料を適当な樹脂とともに溶解した液を用い、
ディップコート法やスピンコート法等の塗布法により形
成してもよい。蒸着法で形成する場合、その厚さは1n
m〜200nm程度とし、塗布法で形成する場合は、そ
の厚さは5nm〜500nm程度に形成すればよい。
The organic light-emitting layer may have a single-layer structure made of the above-mentioned light-emitting substance, or may have a multi-layer structure in order to adjust characteristics such as light emission color and light emission intensity. Further, two or more kinds of light-emitting substances may be mixed or doped with a light-emitting substance (for example, a fluorescent dye such as rubrene or coumarin). The organic light emitting layer in the device according to the present invention, including the organic light emitting layer 32, may be formed by evaporating the organic light emitting material as described above, or a solution in which the organic light emitting material is dissolved or an appropriate organic light emitting material. Using a solution dissolved with resin,
It may be formed by a coating method such as a dip coating method or a spin coating method. When formed by vapor deposition, the thickness is 1n
In the case where the thickness is set to about m to 200 nm and formed by a coating method, the thickness may be set to about 5 to 500 nm.

【0042】有機発光層は、その膜厚が厚いほど発光さ
せるための印加電圧を高くする必要があり発光効率が悪
くなり、有機エレクトロルミネッセンス素子の劣化を招
きやすい。また膜厚が薄くなると発光効率はよくなるが
ブレイクダウンしやすくなり有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の寿命が短くなる。従って、発光効率及び素子
の寿命を考慮して前記の膜厚の範囲で形成すればよい。
As the thickness of the organic light-emitting layer is larger, the applied voltage for emitting light needs to be higher, so that the luminous efficiency is deteriorated and the organic electroluminescent element is liable to be deteriorated. When the film thickness is small, the luminous efficiency is improved, but the breakdown is easy and the life of the organic electroluminescent element is shortened. Therefore, the film may be formed in the above thickness range in consideration of the luminous efficiency and the life of the element.

【0043】次に、有機発光層32の上に陰極40をマ
スク蒸着により発光パターンに対応するパターンに形成
する。陰極40を含め、本発明に係る素子における陰極
を形成する材料としては、4eVよりも小さい仕事関数
を持つ金属を含有するものがよく、マグネシウム、カル
シウム、チタニウム、イットリウム、リチウム、ガドリ
ニウム、イッテルビウム、ルテニウム、マンガン及びそ
れらを含有する合金を例示できる。また、陰極を形成す
る材料としてマグネシウムと銀を用い、それらを共蒸着
して陰極を形成してもよい。この場合、電極の作製が容
易であり、安定した発光特性を得ることができる。
Next, the cathode 40 is formed on the organic light-emitting layer 32 by mask vapor deposition in a pattern corresponding to the light-emitting pattern. As the material for forming the cathode in the device according to the present invention including the cathode 40, a material containing a metal having a work function smaller than 4 eV is preferable, and magnesium, calcium, titanium, yttrium, lithium, gadolinium, ytterbium, ruthenium , Manganese and alloys containing them. Alternatively, magnesium and silver may be used as materials for forming the cathode, and the cathode may be formed by co-evaporating them. In this case, fabrication of the electrode is easy, and stable light emission characteristics can be obtained.

【0044】陰極と陽極からなる各組の電極は、各電極
にニクロム線、金線、銅線、白金線等の適当なリード線
を接続し、該リード線を介して両電極に適当な電圧を印
加することにより素子が発光する。以上の説明では図1
及び図2に示す構成の有機エレクトロルミネッセンス素
子の作製について述べたが、その他の構成の有機エレク
トロルミネッセンス素子も前記説明の作製例に倣い製造
可能である。
In each set of electrodes consisting of a cathode and an anode, an appropriate lead wire such as a nichrome wire, a gold wire, a copper wire, a platinum wire, etc. is connected to each electrode, and an appropriate voltage is applied to both electrodes via the lead wires. The element emits light by applying. In the above description, FIG.
Although the description has been given of the production of the organic electroluminescence element having the configuration shown in FIG. 2, the organic electroluminescence element having another configuration can be produced by following the production example described above.

【0045】例えば、有機発光膜において陽極との界面
からの正孔注入を容易するために正孔注入層を形成して
もよい。正孔注入層の形成のために用いることができる
正孔注入材料としては、公知のものが使用可能で、例え
ばインダンスロン顔料、銅フタロシアニン、スターバー
ストアミン、ポリアニリン等を挙げることができる。
For example, a hole injection layer may be formed in the organic light emitting film to facilitate hole injection from the interface with the anode. As the hole injection material that can be used for forming the hole injection layer, known materials can be used, and examples thereof include indanthrone pigment, copper phthalocyanine, starburst amine, and polyaniline.

【0046】また、有機発光膜において陰極との界面か
らの電子注入輸送を容易するために電子注入層又は電子
注入輸送層を形成してもよい。電子注入層又は電子注入
輸送層を形成するための電子注入材料や電子輸送材料と
しては、公知のものが使用可能である。例えば、2―
(4―ビフェニルイル)―5―(4―tert―ブチル
フェニル)―1,3,4―オキサジアゾール、2―(1
―ナフチル)―5―(4―tert―ブチルフェニル)
―1,3,4―オキサジアゾール、1,4―ビス{2―
[5―(4―tert―ブチルフェニル)―1,3,4
―オキサジアゾリル]}ベンゼン、1,3―ビス{2―
[5―(4―tert―ブチルフェニル)―1,3,4
―オキサジアゾリル]}ベンゼン、4,4’―ビス{2
―[5―(4―tert―ブチルフェニル)―1,3,
4―オキサジアゾリル]}ビフェニル、2―(4―ビフ
ェニルイル)―5―(4―tert―ブチルフェニル)
―1,3,4―チアジアゾール、2―(1―ナフチル)
―5―(4―tert―ブチルフェニル)―1,3,4
―チアジアゾール、1,4―ビス{2―[5―(4―t
ert―ブチルフェニル)―1,3,4―チアジアゾリ
ル]}ベンゼン、1,3―ビス{2―[5―(4―te
rt―ブチルフェニル)―1,3,4―チアジアゾリ
ル]}ベンゼン、4,4’―ビス{2―[5―(4―t
ert―ブチルフェニル)―1,3,4―チアジアゾリ
ル]}ビフェニル、3―(4―ビフェニルイル)―4―
フェニル―5―(4―tert―ブチルフェニル)―
1,2,4―トリアゾール、3―(1―ナフチル)―4
―フェニル―5―(4―tert―ブチルフェニル)―
1,2,4―トリアゾール、1,4―ビス{3―[4―
フェニル―5―(4―tert―ブチルフェニル)―
1,2,4―トリアゾリル]}ベンゼン、1,3―ビス
{2―[1―フェニル―5―(4―tert―ブチルフ
ェニル)―1,3,4―トリアゾリル]}ベンゼン、
4,4’―ビス{2―[1―フェニル―5―(4―te
rt―ブチルフェニル)―1,3,4―トリアゾリ
ル]}ビフェニル、1,3,5―トリス{2―[5―
(4―tert―ブチルフェニル)―1,3,4―オキ
サジアゾリル]}ベンゼン、カリウムアセチルアセトナ
ートなどを挙げることができる。これらのものは、2種
以上を混合して使用してもよい。またトリス(8―ヒド
ロキシキノリン)アルミニウム錯体など有機発光材料と
して用いられる物質のうち比較的電子輸送能の高いもの
を用いることもできる。
In the organic light emitting film, an electron injection layer or an electron injection transport layer may be formed to facilitate electron injection and transport from the interface with the cathode. As an electron injection material or an electron transport material for forming the electron injection layer or the electron injection transport layer, known materials can be used. For example, 2-
(4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2- (1
-Naphthyl) -5- (4-tert-butylphenyl)
―1,3,4-oxadiazole, 1,4-bis {2-
[5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4
-Oxadiazolyl] {benzene, 1,3-bis} 2-
[5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4
-Oxadiazolyl] {benzene, 4,4'-bis} 2
-[5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,
4-oxadiazolyl] @biphenyl, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl)
-1,3,4-thiadiazole, 2- (1-naphthyl)
-5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4
-Thiadiazole, 1,4-bis @ 2- [5- (4-t
tert-butylphenyl) -1,3,4-thiadiazolyl] {benzene, 1,3-bis} 2- [5- (4-te
rt-butylphenyl) -1,3,4-thiadiazolyl] {benzene, 4,4′-bis} 2- [5- (4-t
tert-butylphenyl) -1,3,4-thiadiazolyl] biphenyl, 3- (4-biphenylyl) -4-
Phenyl-5- (4-tert-butylphenyl)-
1,2,4-triazole, 3- (1-naphthyl) -4
-Phenyl-5- (4-tert-butylphenyl)-
1,2,4-triazole, 1,4-bis {3- [4-
Phenyl-5- (4-tert-butylphenyl)-
1,2,4-triazolyl] {benzene, 1,3-bis} 2- [1-phenyl-5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-triazolyl]} benzene,
4,4'-bis @ 2- [1-phenyl-5- (4-te
rt-butylphenyl) -1,3,4-triazolyl] {biphenyl, 1,3,5-tris} 2- [5-
(4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazolyl]} benzene, potassium acetylacetonate and the like. These may be used as a mixture of two or more. Further, among substances used as an organic light emitting material, such as a tris (8-hydroxyquinoline) aluminum complex, a substance having a relatively high electron transporting ability can be used.

【0047】電子注入層又は電子注入輸送層は、前記の
ような電子注入材料、電子輸送材料を蒸着して形成して
もよいし、電子注入材料、電子輸送材料を溶解した溶液
や電子注入材料、電子輸送材料を適当な樹脂とともに溶
解した液を用い、ディップコート法やスピンコート法等
の塗布法により形成してもよい。蒸着法で形成する場
合、その厚さは1nm〜500nm程度とし、塗布法で
形成する場合は、5nm〜1000nm程度に形成すれ
ばよい。
The electron injecting layer or the electron injecting / transporting layer may be formed by vapor deposition of the above electron injecting material or electron transporting material, or may be formed by dissolving the electron injecting material, the electron injecting material, or the electron injecting material. Alternatively, a liquid in which an electron transporting material is dissolved together with a suitable resin may be formed by a coating method such as a dip coating method or a spin coating method. The thickness may be about 1 nm to 500 nm when formed by an evaporation method, and about 5 nm to 1000 nm when formed by a coating method.

【0048】以上説明した有機エレクトロルミネッセン
ス素子は、各種の表示装置乃至ディスプレイ装置、或い
はカメラ等の光学装置のインファインダーなどに適用可
能である。以下に本発明の製作例について説明する。 ・製作例 製作例で製作した有機エレクトロルミネッセンス素子
を図1及び図2に示す。また、図3に電極を発光パター
ンを包含する広いラフなパターンに形成するための電極
形成用マスクの平面図を示し、図4に電極を発光パター
ンに対応するパターンに形成するための電極形成用マス
クの平面図を示す。
The organic electroluminescence device described above can be applied to various display devices, display devices, and infinders of optical devices such as cameras. Hereinafter, a production example of the present invention will be described. -Production example The organic electroluminescence device produced in the production example is shown in Figs. FIG. 3 is a plan view of an electrode forming mask for forming electrodes in a wide rough pattern including a light emitting pattern, and FIG. 4 is an electrode forming mask for forming electrodes in a pattern corresponding to the light emitting pattern. FIG. 3 shows a plan view of the mask.

【0049】市販のITO膜付きガラス基板(ITO基
板)上にフォトレジスト材料をスピンコート法によって
全面に塗布した後、フォトレジスト材料が塗布されたI
TO基板上に図3に示すマスク1を介して紫外線を照射
し、紫外線が照射されたITOパターン部、すなわちマ
スク1によって紫外線が遮られていない部分を硬化させ
た。このITO基板を洗浄して紫外線が照射されずに硬
化しなかったフォトレジスト材料を除去しITO基板上
にフォトレジスト材料によって覆われている部分と覆わ
れずITOが露出した部分とを形成した。その後、60
℃に熱した3%塩酸中に30分間浸しフォトレジスト材
料に覆われずに露出した部分のITOを除去した後十分
水洗いし、水酸化ナトリウム10%水溶液中でITOパ
ターン部上の硬化したフォトレジスト材料を除去し透明
基板10上にITOからなる透明電極(ここでは陽極2
0)を発光パターンを包含する広いラフなパターンに形
成した。その状態を図5に示す。
A photoresist material was applied on the whole surface of a commercially available glass substrate with an ITO film (ITO substrate) by spin coating, and then the photoresist material was applied.
Ultraviolet rays were irradiated onto the TO substrate through the mask 1 shown in FIG. 3, and the ITO pattern portion irradiated with the ultraviolet rays, that is, the portion where the ultraviolet rays were not blocked by the mask 1 was cured. The ITO substrate was washed to remove the photoresist material that was not cured by being irradiated with ultraviolet rays, and a portion covered with the photoresist material and a portion where the ITO was not covered and the ITO was exposed were formed on the ITO substrate. Then 60
Immersion in 3% hydrochloric acid heated to 30 ° C. for 30 minutes to remove the exposed portion of the ITO which was not covered with the photoresist material, and then sufficiently washed with water, and cured the photoresist on the ITO pattern portion in a 10% aqueous solution of sodium hydroxide. The material is removed and a transparent electrode made of ITO (here, anode 2) is formed on the transparent substrate 10.
0) was formed in a wide rough pattern including a light emission pattern. The state is shown in FIG.

【0050】図5に示すITO基板を界面活性剤水溶液
中で5分間超音波洗浄し、さらにITO膜にエキシマラ
ンプによる光を5分間照射し、さらにITO膜を酸素プ
ラズマに10分間曝してその表面を洗浄した。このよう
に洗浄処理したITO基板を、成膜装置内のホルダーに
セットし、そのITO基板上に1.0×10-5Torr以下
の真空下でN,N’―ジフェニル―N,N’―ビス(3
―メチルフェニル)―1,1’―ジフェニル―4,4’
―ジアミンを、抵抗加熱法によって蒸着速度1Å/se
cで60nm成膜し、正孔注入輸送層31を形成した。
The ITO substrate shown in FIG. 5 was subjected to ultrasonic cleaning in a surfactant aqueous solution for 5 minutes, further irradiated with light from an excimer lamp for 5 minutes, and further exposed to oxygen plasma for 10 minutes. Was washed. The ITO substrate thus cleaned is set on a holder in a film forming apparatus, and N, N'-diphenyl-N, N'- is placed on the ITO substrate under a vacuum of 1.0 × 10 −5 Torr or less. Screw (3
-Methylphenyl) -1,1'-diphenyl-4,4 '
-Diamine is deposited at a rate of 1Å / sec by resistance heating.
A hole injection transport layer 31 was formed by forming a film with a thickness of 60 nm using c.

【0051】続いて、正孔注入輸送層31上にトリス
(8―ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を蒸着速
度1Å/secで60nm成膜し、有機発光層32を形
成した。以上の有機材料はマスクを介さずに基板全面に
蒸着成膜し、正孔注入輸送層31及び有機発光層32で
構成される有機発光膜30を全面的に形成した。
Subsequently, a 60 nm-thick tris (8-hydroxyquinoline) aluminum complex was formed on the hole injecting / transporting layer 31 at a deposition rate of 1 ° / sec to form an organic light emitting layer 32. The above organic materials were deposited on the entire surface of the substrate without using a mask to form an organic light emitting film 30 composed of a hole injection / transport layer 31 and an organic light emitting layer 32 over the entire surface.

【0052】次にMg(マグネシウム)及びAg(銀)
を蒸着源として使用し、抵抗加熱法の共蒸着によりMg
とAgの蒸着速度比10:1で、発光層32上に陰極4
0として約200nmの蒸着層を図4に示すマスク2を
介して成膜し陰極40を発光パターンに対応するパター
ンに形成した。窒素で満たしたグローブボックス中で、
前記のように作製した素子の上方に洗浄した図示を省略
した封止用ガラス基板を配置し、その周囲部分に紫外線
硬化樹脂を塗布して該素子の封止を行った。
Next, Mg (magnesium) and Ag (silver)
Is used as an evaporation source, and Mg is deposited by co-evaporation using a resistance heating method.
And Ag at a deposition rate ratio of 10: 1, and the cathode 4
A vapor deposition layer of about 200 nm was formed through the mask 2 shown in FIG. 4 as 0, and the cathode 40 was formed in a pattern corresponding to the light emission pattern. In a glove box filled with nitrogen,
A cleaned sealing glass substrate (not shown) was placed above the device fabricated as described above, and an ultraviolet curable resin was applied to a peripheral portion thereof to seal the device.

【0053】このように封止した素子をグローブボック
ス中から取り出し、該素子に紫外線を200秒間照射
し、封止用ガラス基板の周囲部分における紫外線硬化樹
脂を硬化させた。以上のような工程で、有機エレクトロ
ルミネッセンス素子を作製した。 ・製作例 図6に製作例で製作した有機エレクトロルミネッセン
ス素子の概略構成の断面図を示す。
The device thus sealed was taken out of the glove box, and the device was irradiated with ultraviolet rays for 200 seconds to cure the ultraviolet curing resin around the sealing glass substrate. Through the steps as described above, an organic electroluminescence device was manufactured. Manufacturing Example FIG. 6 shows a cross-sectional view of a schematic configuration of the organic electroluminescence element manufactured in the manufacturing example.

【0054】製作例に用いたITO基板と同様のもの
を用いて、製作例と同様にして、図5に示すようにガ
ラス基板10上に透明電極である陽極20をパターニン
グし、洗浄を行った。このように陽極20のパターニン
グ及び洗浄処理を行ったITO基板を、成膜装置内のホ
ルダーにセットし、そのITO基板上に1.0×10-5
Torr以下の真空下でインダンスロン顔料を、抵抗加熱法
によって蒸着速度1Å/secで15nm成膜し、正孔
注入層33を形成した。
Using the same substrate as the ITO substrate used in the fabrication example, the anode 20 as a transparent electrode was patterned on the glass substrate 10 as shown in FIG. . The ITO substrate on which the anode 20 has been patterned and washed in this manner is set on a holder in a film forming apparatus, and 1.0 × 10 −5 is placed on the ITO substrate.
A 15 nm thick indanthrone pigment was formed at a deposition rate of 1 ° / sec by a resistance heating method under a vacuum of Torr or less to form a hole injection layer 33.

【0055】続いて、正孔注入層33上にN,N’―ジ
フェニル―N,N’―ビス(3―メチルフェニル)―
1,1’―ジフェニル―4,4’―ジアミンを、抵抗加
熱法によって蒸着速度1Å/secで60nm成膜し、
正孔輸送層34を形成した。続いて、正孔輸送層34上
にトリス(8―ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体
を蒸着速度1Å/secで60nm成膜し、有機発光層
32を形成した。
Subsequently, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-is formed on the hole injection layer 33.
1,1′-diphenyl-4,4′-diamine was deposited to a thickness of 60 nm at a deposition rate of 1 ° / sec by a resistance heating method,
The hole transport layer 34 was formed. Subsequently, a 60 nm thick tris (8-hydroxyquinoline) aluminum complex was formed on the hole transporting layer 34 at a deposition rate of 1 ° / sec to form the organic light emitting layer 32.

【0056】これらの有機材料はマスクを介さずに基板
全面に蒸着成膜し、正孔注入層33、正孔輸送層34及
び有機発光層32で構成される有機発光膜30aを全面
的に形成した。次にMg(マグネシウム)及びAg
(銀)を蒸着源として使用し、抵抗加熱法の共蒸着によ
りMgとAgの蒸着速度比10:1で、発光層32上に
陰極40として約200nmの蒸着層を図4に示すマス
ク2を介して成膜し陰極40を発光パターンに対応する
パターンに形成した。
These organic materials are deposited on the entire surface of the substrate without using a mask to form an organic light emitting film 30a composed of a hole injection layer 33, a hole transport layer 34, and an organic light emitting layer 32 over the entire surface. did. Next, Mg (magnesium) and Ag
Using (silver) as a vapor deposition source, a vapor deposition layer of about 200 nm was formed as a cathode 40 on the light emitting layer 32 with a mask 2 shown in FIG. The cathode 40 was formed in a pattern corresponding to the light emission pattern.

【0057】このように作製した素子を製作例と同様
にして封止した。以上のような工程で、有機エレクトロ
ルミネッセンス素子を作製した。 ・製作例 図7に製作例で製作した有機エレクトロルミネッセン
ス素子の概略構成の断面図を示す。
The device thus manufactured was sealed in the same manner as in the manufacturing example. Through the steps as described above, an organic electroluminescence device was manufactured. Manufacturing Example FIG. 7 shows a cross-sectional view of a schematic configuration of the organic electroluminescence element manufactured in the manufacturing example.

【0058】製作例に用いたITO基板と同様のもの
を用いて、製作例と同様にして、図5に示すようにガ
ラス基板10上に透明電極である陽極20をパターニン
グし、洗浄を行った。このように陽極20のパターニン
グ及び洗浄処理を行ったITO基板を、成膜装置内のホ
ルダーにセットし、そのITO基板上に1.0×10-5
Torr以下の真空下でインダンスロン顔料を、抵抗加熱法
によって蒸着速度1Å/secで15nm成膜し、正孔
注入層33を形成した。
Using the same substrate as the ITO substrate used in the fabrication example, the anode 20 as a transparent electrode was patterned on the glass substrate 10 as shown in FIG. . The ITO substrate on which the anode 20 has been patterned and washed in this manner is set on a holder in a film forming apparatus, and 1.0 × 10 −5 is placed on the ITO substrate.
A 15 nm thick indanthrone pigment was formed at a deposition rate of 1 ° / sec by a resistance heating method under a vacuum of Torr or less to form a hole injection layer 33.

【0059】続いて、正孔注入層33上にN,N’―ジ
フェニル―N,N’―ビス(3―メチルフェニル)―
1,1’―ジフェニル―4,4’―ジアミンを、抵抗加
熱法によって蒸着速度1Å/secで60nm成膜し、
正孔輸送層34を形成した。続いて、正孔輸送層34上
にトリス(8―ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体
と蛍光色素DCMを蒸着速度比100:1で20nm成
膜し、有機発光層32’を形成した。
Subsequently, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl)-is formed on the hole injection layer 33.
1,1′-diphenyl-4,4′-diamine was deposited to a thickness of 60 nm at a deposition rate of 1 ° / sec by a resistance heating method,
The hole transport layer 34 was formed. Subsequently, a 20 nm-thick film of a tris (8-hydroxyquinoline) aluminum complex and a fluorescent dye DCM was formed on the hole transport layer at a deposition rate ratio of 100: 1 to form an organic light emitting layer 32 '.

【0060】続いて、有機発光層32’の上にトリス
(8―ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を蒸着速
度1Å/secで55nm成膜し、有機発光層32を形
成した。これらの有機材料はマスクを介さずに基板全面
に蒸着成膜し、正孔注入層33、正孔輸送層34、有機
発光層32’、32で構成される有機発光膜30bを全
面的に形成した。
Subsequently, a tris (8-hydroxyquinoline) aluminum complex was formed to a thickness of 55 nm on the organic light emitting layer 32 'at a deposition rate of 1 ° / sec to form the organic light emitting layer 32. These organic materials are deposited on the entire surface of the substrate without using a mask to form an organic light emitting film 30b composed of a hole injection layer 33, a hole transport layer 34, and organic light emitting layers 32 'and 32 over the entire surface. did.

【0061】次にMg(マグネシウム)及びAg(銀)
を蒸着源として使用し、抵抗加熱法の共蒸着によりMg
とAgの蒸着速度比10:1で、発光層32上に陰極4
0として約200nmの蒸着層を図4に示すマスク2を
介して成膜し陰極40を発光パターンに対応するパター
ンに形成した。このように作製した素子を製作例と同
様にして封止した。
Next, Mg (magnesium) and Ag (silver)
Is used as an evaporation source, and Mg is deposited by co-evaporation using a resistance heating method.
And Ag at a deposition rate ratio of 10: 1, and the cathode 4
A vapor deposition layer of about 200 nm was formed through the mask 2 shown in FIG. 4 as 0, and the cathode 40 was formed in a pattern corresponding to the light emission pattern. The element thus manufactured was sealed in the same manner as in the production example.

【0062】以上のような工程で、有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を作製した。 ・製作例 図8に製作例で製作した有機エレクトロルミネッセン
ス素子の平面図を示し、図9に図8に示す素子の概略構
成の断面図を示す。また、図10に電極を配線部を除い
た発光パターンに対応するパターンに形成するための電
極形成用マスクの平面図を示し、図11に電極の配線部
を形成するためのマスクの平面図を示す。
An organic electroluminescence device was manufactured through the steps described above. Production Example FIG. 8 shows a plan view of the organic electroluminescence device produced in the production example, and FIG. 9 shows a cross-sectional view of a schematic configuration of the device shown in FIG. FIG. 10 is a plan view of an electrode forming mask for forming an electrode in a pattern corresponding to a light emitting pattern excluding a wiring portion. FIG. 11 is a plan view of a mask for forming an electrode wiring portion. Show.

【0063】製作例に用いたITO基板と同様のもの
を用いて、製作例と同様にして、図5に示すようにガ
ラス基板10上に透明電極である陽極20をパターニン
グし、洗浄を行った。このように陽極20のパターニン
グ及び洗浄処理を行ったITO基板を、成膜装置内のホ
ルダーにセットし、そのITO基板上に1.0×10-5
Torr以下の真空下でN,N’―ジフェニル―N,N’―
ビス(3―メチルフェニル)―1,1’―ジフェニル―
4,4’―ジアミンを、抵抗加熱法によって蒸着速度1
Å/secで60nm成膜し、正孔注入輸送層31を形
成した。
Using the same substrate as the ITO substrate used in the production example, the anode 20 as a transparent electrode was patterned on the glass substrate 10 as shown in FIG. . The ITO substrate on which the anode 20 has been patterned and washed in this manner is set on a holder in a film forming apparatus, and 1.0 × 10 −5 is placed on the ITO substrate.
N, N'-diphenyl-N, N'- under vacuum below Torr
Bis (3-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-
4,4′-diamine is deposited at a deposition rate of 1 by resistance heating.
A 60 nm film was formed at 60 / sec to form the hole injection / transport layer 31.

【0064】続いて、正孔注入輸送層31上にトリス
(8―ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を蒸着速
度1Å/secで60nm成膜し、有機発光層32を形
成した。以上の有機材料はマスクを介さずに基板全面に
蒸着成膜し、正孔注入輸送層31及び有機発光層32で
構成される有機発光膜30を全面的に形成した。
Subsequently, a 60 nm-thick tris (8-hydroxyquinoline) aluminum complex was formed on the hole injecting / transporting layer 31 at a deposition rate of 1 / sec to form an organic light emitting layer 32. The above organic materials were deposited on the entire surface of the substrate without using a mask to form an organic light emitting film 30 composed of a hole injection / transport layer 31 and an organic light emitting layer 32 over the entire surface.

【0065】次にMg(マグネシウム)及びAg(銀)
を蒸着源として使用し、抵抗加熱法の共蒸着によりMg
とAgの蒸着速度比10:1で、発光層32上に配線部
を除いた陰極40’として約200nmの蒸着層を図1
0に示すマスク3を介して成膜し陰極40’を発光パタ
ーンに対応するパターンに形成した。次にこの上にスパ
ッタリングによりITOを電極の配線部40”として図
11に示すマスク4を介して成膜し配線部を除いた陰極
40’と配線部40”とからなる陰極40を形成した。
Next, Mg (magnesium) and Ag (silver)
Is used as an evaporation source, and Mg is deposited by co-evaporation using a resistance heating method.
A vapor deposition layer of about 200 nm was formed on the light emitting layer 32 as a cathode 40 ′ excluding the wiring portion at a vapor deposition rate ratio of 10: 1 and Ag of FIG.
The cathode 40 'was formed through the mask 3 shown in FIG. Next, a cathode 40 'formed of a cathode 40' excluding the wiring portion and a wiring portion 40 "was formed thereon by sputtering using ITO as a wiring portion 40" of the electrode through the mask 4 shown in FIG.

【0066】窒素で満たしたグローブボックス中で、前
記のように作製した素子の上方に洗浄した図示を省略し
た封止用ガラス基板を配置し、その周囲部分に紫外線硬
化樹脂を塗布して該素子の封止を行った。このように封
止した素子をグローブボックス中から取り出し、該素子
に紫外線を200秒間照射し、封止用ガラス基板の周囲
部分における紫外線硬化樹脂を硬化させた。
In a glove box filled with nitrogen, a cleaned sealing glass substrate (not shown) is disposed above the device fabricated as described above, and an ultraviolet curable resin is applied to a peripheral portion of the device. Was sealed. The device sealed in this manner was taken out of the glove box, and the device was irradiated with ultraviolet rays for 200 seconds to cure the ultraviolet curable resin around the sealing glass substrate.

【0067】以上のような工程で、有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を作製した。 ・製作例 図12に製作例で製作した有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の平面図を示し、図13に図12に示す素子の
概略構成の断面図を示す。市販のガラス基板10をアセ
トン、エタノールで洗浄し、界面活性剤水溶液中で超音
波処理し、ガラス基板10にエキシマレーザーによるレ
ーザー光を照射し、さらにガラス基板10に対し酸素存
在下でドライエッチング処理を行い、基板表面の洗浄を
行った。
Through the above steps, an organic electroluminescence device was manufactured. Manufacturing Example FIG. 12 shows a plan view of the organic electroluminescence device manufactured in the manufacturing example, and FIG. 13 shows a cross-sectional view of a schematic configuration of the device shown in FIG. The commercially available glass substrate 10 is washed with acetone and ethanol, subjected to ultrasonic treatment in an aqueous solution of a surfactant, irradiated with laser light from an excimer laser, and then subjected to dry etching on the glass substrate 10 in the presence of oxygen. Was performed to wash the substrate surface.

【0068】このように洗浄処理したガラス基板10上
に陰極40として5×10-6Torr以下の高真空下でマグ
ネシウムと銀を蒸着速度比10:1で図4に示すマスク
2を介して150nm共蒸着し陰極40を発光パターン
に対応するパターンに形成した。その状態を図14に示
す。続いて図14に示す陰極40が形成されたガラス基
板10上に有機発光層32としてアルミニウムトリスオ
キシンを同じく5×10-6Torr以下の高真空下で75n
m蒸着した。
On the glass substrate 10 thus cleaned, magnesium and silver were deposited as a cathode 40 at a deposition rate of 10: 1 under a high vacuum of 5 × 10 −6 Torr or less through a mask 2 shown in FIG. By co-evaporation, the cathode 40 was formed in a pattern corresponding to the emission pattern. FIG. 14 shows this state. Subsequently, aluminum trisoxine was formed as an organic light emitting layer 32 on the glass substrate 10 on which the cathode 40 shown in FIG. 14 was formed under a high vacuum of 5 × 10 −6 Torr or less for 75 n.
m was deposited.

【0069】続いてその上に正孔注入輸送層31として
N,N’―ジフェニル―N,N’―ビス(3―メチルフ
ェニル)―1,1’―ジフェニル―4,4’―ジアミン
を5×10-6Torr以下の高真空下で75nm蒸着した。
以上の有機材料はマスクを介さずに基板全面に蒸着成膜
し、正孔注入輸送層31及び有機発光層32で構成され
る有機発光膜30を全面的に形成した。
Subsequently, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-diphenyl-4,4′-diamine was added as a hole injecting / transporting layer 31 to 5 μm. 75 nm was deposited under a high vacuum of × 10 -6 Torr or less.
The above organic materials were deposited on the entire surface of the substrate without using a mask to form an organic light emitting film 30 composed of a hole injection / transport layer 31 and an organic light emitting layer 32 over the entire surface.

【0070】次にこの上にスパッタリングによりITO
を陽極20として図3に示すマスク1を介して成膜し陽
極20を発光パターンを包含する広いラフなパターンに
形成した。このように作製した素子を製作例と同様に
して封止した。以上のような工程で、有機エレクトロル
ミネッセンス素子を作製した。 ・製作例 図15に製作例で製作した有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の概略構成の断面図を示す。
Next, the ITO was formed thereon by sputtering.
Was formed through the mask 1 shown in FIG. 3 as the anode 20, and the anode 20 was formed in a wide rough pattern including a light emitting pattern. The element thus manufactured was sealed in the same manner as in the production example. Through the steps as described above, an organic electroluminescence device was manufactured. Manufacturing Example FIG. 15 shows a cross-sectional view of a schematic configuration of the organic electroluminescence element manufactured in the manufacturing example.

【0071】製作例に用いたITO基板と同様のもの
を用いて、図3に示すマスク1に代えて図4に示すマス
ク2を用いた他は製作例と同様にして、ガラス基板1
0上に透明電極である陽極20をパターニングし、洗浄
を行った。すなわち、フォトレジスト材料が塗布された
ITO基板上に図4に示すマスク2を介して紫外線を照
射し、紫外線が照射された部分、すなわちマスク2によ
って紫外線が遮られていない部分を硬化させた。以下、
製作例と同様にして透明基板10上にITOからなる
透明電極(ここでは陽極20)を発光パターンに対応す
るパターンに形成した。
A glass substrate 1 was used in the same manner as in the manufacturing example except that the same mask as the ITO substrate used in the manufacturing example was used and the mask 2 shown in FIG. 4 was used instead of the mask 1 shown in FIG.
The anode 20 as a transparent electrode was patterned on the substrate 0, and was cleaned. That is, ultraviolet rays were irradiated on the ITO substrate coated with the photoresist material through the mask 2 shown in FIG. 4, and the portions irradiated with the ultraviolet rays, that is, the parts where the ultraviolet rays were not blocked by the mask 2 were cured. Less than,
In the same manner as in the production example, a transparent electrode (here, anode 20) made of ITO was formed on the transparent substrate 10 in a pattern corresponding to the light emission pattern.

【0072】このITO基板上に5×10-6Torr以下の
高真空下で正孔注入輸送層31としてN,N’―ジフェ
ニル―N,N’―ビス(3―メチルフェニル)―1,
1’―ジフェニル―4,4’―ジアミンを75nm蒸着
した。続いてこの上に有機発光層32としてアルミニウ
ムトリスオキシンを同じく5×10-6Torr以下の高真空
下で75nm蒸着した。
On this ITO substrate, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1, as a hole injection / transport layer 31 under a high vacuum of 5 × 10 −6 Torr or less.
75 nm of 1′-diphenyl-4,4′-diamine was deposited. Subsequently, aluminum trisoxine was vapor-deposited thereon as an organic light-emitting layer 32 under a high vacuum of 5 × 10 −6 Torr or less at a thickness of 75 nm.

【0073】続いてこの上に電子注入輸送層35として
カリウムアセチルアセトナートを同じく5×10-6Torr
以下の高真空下で2nm蒸着した。これらの有機材料は
マスクを介さずに基板全面に蒸着成膜し、正孔注入輸送
層31、有機発光層32及び電子注入輸送層35で構成
される有機発光膜30cを全面的に形成した。
Subsequently, potassium acetylacetonate was similarly applied as the electron injecting and transporting layer 35 at 5 × 10 −6 Torr.
2 nm was deposited under the following high vacuum. These organic materials were deposited on the entire surface of the substrate without using a mask to form an organic light emitting film 30c composed of the hole injection / transport layer 31, the organic light emitting layer 32, and the electron injection / transport layer 35 over the entire surface.

【0074】次にこの上にスパッタリングによりITO
を陰極40として図3に示すマスク1を介して成膜し陰
極40を発光パターンを包含する広いラフなパターンに
形成した。このように作製した素子を製作例と同様に
して封止した。以上のような工程で、有機エレクトロル
ミネッセンス素子を作製した。 ・製作例 図16に製作例で製作した有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の平面図を示し、図17に図16に示す素子の
概略構成の断面図を示す。
Next, ITO is formed on the ITO by sputtering.
Was formed through the mask 1 shown in FIG. 3 as the cathode 40, and the cathode 40 was formed in a wide rough pattern including a light emission pattern. The element thus manufactured was sealed in the same manner as in the production example. Through the steps as described above, an organic electroluminescence device was manufactured. Manufacturing Example FIG. 16 shows a plan view of the organic electroluminescence device manufactured in the manufacturing example, and FIG. 17 shows a cross-sectional view of a schematic configuration of the device shown in FIG.

【0075】市販のITO基板をアセトン、エタノール
で洗浄し、界面活性剤水溶液中で超音波処理し、ITO
基板にエキシマレーザーによるレーザー光を照射し、さ
らにITO基板に対し酸素存在下でドライエッチング処
理を行い、基板表面の洗浄を行った。このように洗浄処
理したITO基板上に黒色のポジ型フォトリソインク5
を全面に塗布し、インク5をフォトリソグラフィー法に
よって図3に示すマスクパターンと同様のパターンを残
してITOパターン部を露出させ陽極20を発光パター
ンを包含する広いラフなパターンに形成した。
A commercially available ITO substrate was washed with acetone and ethanol, and ultrasonically treated in an aqueous solution of a surfactant.
The substrate was irradiated with laser light from an excimer laser, and the ITO substrate was subjected to dry etching in the presence of oxygen to clean the substrate surface. A black positive type photolithographic ink 5 is formed on the ITO substrate thus cleaned.
Was applied to the entire surface, and the ink 5 was exposed by a photolithography method, exposing the ITO pattern portion while leaving the same pattern as the mask pattern shown in FIG. 3, and the anode 20 was formed into a wide rough pattern including a light emitting pattern.

【0076】陽極20が形成された基板を、成膜装置内
のホルダーにセットし、この基板上に1.0×10-5To
rr以下の真空下でN,N’―ジフェニル―N,N’―ビ
ス(3―メチルフェニル)―1,1’―ジフェニル―
4,4’―ジアミンを、抵抗加熱法によって蒸着速度1
Å/secで60nm成膜し、正孔注入輸送層31を形
成した。
The substrate on which the anode 20 was formed was set on a holder in a film forming apparatus, and 1.0 × 10 -5 To
N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-diphenyl-
4,4′-diamine is deposited at a deposition rate of 1 by resistance heating.
A 60 nm film was formed at 60 / sec to form the hole injection / transport layer 31.

【0077】続いて、正孔注入輸送層31上にトリス
(8―ヒドロキシキノリン)アルミニウム錯体を蒸着速
度1Å/secで60nm成膜し、有機発光層32を形
成した。以上の有機材料はマスクを介さずに基板全面に
蒸着成膜し、正孔注入輸送層31及び有機発光層32で
構成される有機発光膜30を全面的に形成した。
Subsequently, a 60 nm-thick tris (8-hydroxyquinoline) aluminum complex was formed on the hole injecting / transporting layer 31 at a deposition rate of 1 ° / sec to form an organic light emitting layer 32. The above organic materials were deposited on the entire surface of the substrate without using a mask to form an organic light emitting film 30 composed of a hole injection / transport layer 31 and an organic light emitting layer 32 over the entire surface.

【0078】次にMg(マグネシウム)及びAg(銀)
を蒸着源として使用し、抵抗加熱法の共蒸着によりMg
とAgの蒸着速度比10:1で、発光層32上に陰極4
0として約200nmの蒸着層を図4に示すマスク2を
介して成膜し陰極40を発光パターンに対応するパター
ンに形成した。窒素で満たしたグローブボックス中で、
前記のように作製した素子の上方に洗浄した図示を省略
した封止用ガラス基板を配置し、その周囲部分に紫外線
硬化樹脂を塗布して該素子の封止を行った。
Next, Mg (magnesium) and Ag (silver)
Is used as an evaporation source, and Mg is deposited by co-evaporation using a resistance heating method.
And Ag at a deposition rate ratio of 10: 1, and the cathode 4
A vapor deposition layer of about 200 nm was formed through the mask 2 shown in FIG. 4 as 0, and the cathode 40 was formed in a pattern corresponding to the light emission pattern. In a glove box filled with nitrogen,
A cleaned sealing glass substrate (not shown) was placed above the device fabricated as described above, and an ultraviolet curable resin was applied to a peripheral portion thereof to seal the device.

【0079】このように封止した素子をグローブボック
ス中から取り出し、該素子に紫外線を200秒間照射
し、封止用ガラス基板の周囲部分における紫外線硬化樹
脂を硬化させた。以上のような工程で、有機エレクトロ
ルミネッセンス素子を作製した。
The device thus sealed was taken out of the glove box, and the device was irradiated with ultraviolet rays for 200 seconds to cure the ultraviolet curable resin around the sealing glass substrate. Through the steps as described above, an organic electroluminescence device was manufactured.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上説明したように本発明によると、所
定の発光パターンで発光する有機エレクトロルミネッセ
ンス素子であって、所定の発光パターンで精度よく、安
定的に発光する構造簡単な有機エレクトロルミネッセン
ス素子を提供することができる。
As described above, according to the present invention, there is provided an organic electroluminescent element which emits light in a predetermined light emitting pattern, and which has a simple structure which emits light accurately and stably in a predetermined light emitting pattern. Can be provided.

【0081】また本発明によると、所定の発光パターン
で発光する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法であって、所定の発光パターンで精度よく、安定的に
発光する有機エレクトロルミネッセンス素子を簡単に得
ることができる有機エレクトロルミネッセンス素子の製
造方法を提供することができる。
Further, according to the present invention, there is provided a method for manufacturing an organic electroluminescent element which emits light in a predetermined light emitting pattern, wherein an organic electroluminescent element which emits light accurately and stably in a predetermined light emitting pattern can be easily obtained. It is possible to provide a method of manufacturing an organic electroluminescence device that can be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素
子の1例の平面図であり、製作例で製作した素子を示
すものである。
FIG. 1 is a plan view of an example of an organic electroluminescence element according to the present invention, showing an element manufactured in a manufacturing example.

【図2】図1に示す素子の概略構成の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a schematic configuration of the device shown in FIG.

【図3】電極を発光パターンを包含する広いラフなパタ
ーンに形成するための電極形成用マスクの平面図であ
る。
FIG. 3 is a plan view of an electrode forming mask for forming electrodes in a wide rough pattern including a light emitting pattern.

【図4】電極を発光パターンに対応するパターンに形成
するための電極形成用マスクの平面図である。
FIG. 4 is a plan view of an electrode forming mask for forming electrodes in a pattern corresponding to a light emitting pattern.

【図5】製作例からにおいて透明基板上にITOか
らなる陽極を発光パターンを包含する広いラフなパター
ンに形成した状態を示すものである。
FIG. 5 shows a state in which an anode made of ITO is formed in a wide rough pattern including a light emitting pattern on a transparent substrate from a production example.

【図6】製作例で製作した有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の概略構成の断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an organic electroluminescence element manufactured in a manufacturing example.

【図7】製作例で製作した有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の概略構成の断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a schematic configuration of an organic electroluminescence element manufactured in a manufacturing example.

【図8】製作例で製作した有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の平面図である。
FIG. 8 is a plan view of an organic electroluminescence element manufactured in a manufacturing example.

【図9】図8に示す素子の概略構成の断面図である。9 is a sectional view of a schematic configuration of the device shown in FIG.

【図10】配線部を除いた電極を発光パターンに対応す
るパターンに形成するための電極形成用マスクの平面図
である
FIG. 10 is a plan view of an electrode forming mask for forming an electrode excluding a wiring portion in a pattern corresponding to a light emitting pattern.

【図11】電極の配線部を形成するためのマスクの平面
図である。
FIG. 11 is a plan view of a mask for forming a wiring portion of an electrode.

【図12】製作例で製作した有機エレクトロルミネッ
センス素子の平面図である。
FIG. 12 is a plan view of an organic electroluminescent element manufactured in a manufacturing example.

【図13】図12に示す素子の概略構成の断面図であ
る。
13 is a sectional view of a schematic configuration of the device shown in FIG.

【図14】製作例においてガラス基板上に陰極を発光
パターンに対応するパターンに形成した状態を示すもの
である。
FIG. 14 shows a state in which a cathode is formed on a glass substrate in a pattern corresponding to a light emission pattern in a production example.

【図15】製作例で製作した有機エレクトロルミネッ
センス素子の概略構成の断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view of a schematic configuration of an organic electroluminescence element manufactured in a manufacturing example.

【図16】製作例で製作した有機エレクトロルミネッ
センス素子の平面図である。
FIG. 16 is a plan view of an organic electroluminescence element manufactured in a manufacturing example.

【図17】図16に示す素子の概略構成の断面図であ
る。
17 is a sectional view of a schematic configuration of the device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2 電極形成用マスク 3 配線部を除く電極形成用マスク 4 電極の配線部を形成するためのマスク 5 黒色のポジ型フォトリソインク 10 透明なガラス基板 20 ITO(インジウム錫酸化物)からなる透明電極
の陽極 30、30a、30b、30c 有機発光膜 31 正孔注入輸送層 32、32’ 有機発光層 33 正孔注入層 34 正孔輸送層 35 電子注入輸送層 40 陰極 40’ 配線部を除いた陰極 40” 電極の配線部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Electrode formation mask 3 Electrode formation mask except wiring part 4 Mask for forming electrode wiring part 5 Black positive type photolithographic ink 10 Transparent glass substrate 20 Transparent made of ITO (indium tin oxide) Electrode anode 30, 30a, 30b, 30c Organic light-emitting film 31 Hole injection / transport layer 32, 32 'Organic light-emitting layer 33 Hole injection layer 34 Hole transport layer 35 Electron injection / transport layer 40 Cathode 40' Wiring portion was removed. Cathode 40 "electrode wiring section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古川 慶一 大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 (72)発明者 寺阪 佳久 大阪市中央区安土町二丁目3番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB03 AB04 AB05 AB06 AB18 CA01 CA05 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Keiichi Furukawa, 2-3-13 Azuchicho, Chuo-ku, Osaka City Inside Osaka International Building Minolta Co., Ltd. (72) Yoshihisa Terasaka 2-3-3, Azuchicho, Chuo-ku, Osaka-shi No. 13 Osaka International Building Minolta Co., Ltd. F term (reference) 3K007 AB03 AB04 AB05 AB06 AB18 CA01 CA05 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】所定の発光パターンで発光する有機エレク
トロルミネッセンス素子であり、陽極、陰極及び前記陽
極及び陰極間の有機発光膜を含んでおり、前記陽極と陰
極のうち一方の電極は前記発光パターンを包含する広い
ラフなパターンに形成されており、他方の電極は前記発
光パターンに対応するパターンに形成されており、前記
有機発光膜は前記発光パターン及び前記両電極の各パタ
ーンのいずれも含む非パターン化連続面状に形成されて
いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素
子。
1. An organic electroluminescence device which emits light in a predetermined light emitting pattern, comprising an anode, a cathode, and an organic light emitting film between the anode and the cathode, wherein one of the anode and the cathode has the light emitting pattern. The other electrode is formed in a pattern corresponding to the light emitting pattern, and the organic light emitting film includes a non-light emitting pattern including both the light emitting pattern and each pattern of the two electrodes. An organic electroluminescence device formed as a patterned continuous surface.
【請求項2】前記ラフパターンに形成された電極は陽極
であり、前記発光パターンに形成された電極は陰極であ
り、前記陽極は透明電極であり、前記陰極は仕事関数の
小さい金属からなっている請求項1記載の有機エレクト
ロルミネッセンス素子。
2. The electrode formed on the rough pattern is an anode, the electrode formed on the light emitting pattern is a cathode, the anode is a transparent electrode, and the cathode is made of a metal having a small work function. The organic electroluminescence device according to claim 1.
【請求項3】前記陽極及び陰極が共に透明電極である請
求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
3. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein both the anode and the cathode are transparent electrodes.
【請求項4】前記陽極及び陰極のうちいずれかは透明基
板上に形成されており、前記有機発光膜は該透明基板上
に前記陽極又は陰極を介して全面的に形成されている請
求項1、2又は3記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子。
4. The method according to claim 1, wherein one of the anode and the cathode is formed on a transparent substrate, and the organic light emitting film is formed entirely on the transparent substrate via the anode or the cathode. 4. The organic electroluminescent device according to 2, 3 or 4.
【請求項5】前記有機発光膜は前記陰極との界面を形成
する電子注入のための層を含んでいる請求項1から4の
いずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
5. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein said organic light emitting film includes a layer for electron injection forming an interface with said cathode.
【請求項6】前記有機発光膜は前記陽極との界面を形成
する正孔注入のための層を含んでいる請求項1から5の
いずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
6. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein said organic light emitting film includes a layer for injecting holes forming an interface with said anode.
【請求項7】前記所定の発光パターンで発光させるにあ
たり、スタティック駆動される請求項1から6のいずれ
かに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
7. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein static emission is performed when light is emitted in the predetermined light emission pattern.
【請求項8】陽極、陰極及び前記両電極間の有機発光膜
を含み、所定の発光パターンで発光する有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の製造方法であり、前記両電極のう
ち一方の電極を基板上に前記発光パターンを含む広いラ
フなパターンで(又は前記発光パターンに対応するパタ
ーンで)形成する工程と、前記有機発光膜を前記基板上
に形成した電極の上から該基板上に全面的に形成する工
程と、前記両電極のうち他方の電極を前記基板上に形成
した該有機発光膜上に前記発光パターンに対応するパタ
ーンで(又は前記発光パターンを含む広いラフなパター
ンで)形成する工程とを含んでいることを特徴とする有
機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
8. A method for producing an organic electroluminescence device which includes an anode, a cathode and an organic light emitting film between said two electrodes and emits light in a predetermined light emission pattern, wherein one of said two electrodes is provided on a substrate. A step of forming a wide rough pattern including a light emitting pattern (or a pattern corresponding to the light emitting pattern), and a step of forming the organic light emitting film entirely over the electrode formed on the substrate over the substrate And forming the other of the two electrodes on the organic light emitting film formed on the substrate in a pattern corresponding to the light emitting pattern (or in a wide rough pattern including the light emitting pattern). A method for manufacturing an organic electroluminescence device.
【請求項9】前記基板として、透明基板を用いる請求項
8記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方
法。
9. The method of claim 8, wherein a transparent substrate is used as the substrate.
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