JP2001034909A - Thin film magnetic head and fabrication method thereof - Google Patents

Thin film magnetic head and fabrication method thereof

Info

Publication number
JP2001034909A
JP2001034909A JP11203699A JP20369999A JP2001034909A JP 2001034909 A JP2001034909 A JP 2001034909A JP 11203699 A JP11203699 A JP 11203699A JP 20369999 A JP20369999 A JP 20369999A JP 2001034909 A JP2001034909 A JP 2001034909A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin
core
magnetic head
film
film magnetic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11203699A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsuneo Kobayashi
常雄 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP11203699A priority Critical patent/JP2001034909A/en
Publication of JP2001034909A publication Critical patent/JP2001034909A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate a step between a shielding core and a planarization layer adjacent to the shielding core. SOLUTION: A thin film magnetic head includes a reproduction thin film head formed on a substrate, a shielding core 42 formed on this reproduction thin film head as an intermediate core, a planarization layer 47 formed around this shielding core 42 for planarizing an upper surface, and a recording thin film head formed over the shielding core 42 and the planarization layer 47. An interface surface 42a of the shielding core 42 with respect to the planarization layer 47 is inclined in an upward direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープ等の磁
気記録媒体に対してヘリカルスキャンによって情報を記
録再生するための薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film magnetic head for recording and reproducing information on a magnetic recording medium such as a magnetic tape by helical scanning, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、薄膜磁気ヘッドは、磁性膜,絶
縁膜等の薄膜を多層に積層し、さらに導体コイルやリー
ド線を形成することにより、構成されている。このよう
な薄膜磁気ヘッドは、真空薄膜形成技術によって形成さ
れることから、狭トラック化や狭ギャップ化等の微細寸
法化が容易であり、高分解能記録が可能であるという利
点を有しており、高密度記録化に対応した薄膜磁気ヘッ
ドとして注目されてきている。
2. Description of the Related Art In general, a thin film magnetic head is constructed by laminating thin films such as a magnetic film and an insulating film in multiple layers, and further forming a conductor coil and a lead wire. Since such a thin film magnetic head is formed by a vacuum thin film forming technique, it has an advantage that it is easy to make fine dimensions such as a narrow track and a narrow gap, and that high-resolution recording is possible. Has attracted attention as a thin-film magnetic head compatible with high-density recording.

【0003】例えば、磁気記録媒体に情報信号の記録再
生を行なうための薄膜磁気ヘッドとして、フェライト等
の酸化物磁性材料から成る基板上に、真空薄膜形成技術
によって導体コイル及び磁性体膜を形成することにより
構成された薄膜磁気ヘッドが知られている。具体的に
は、例えば記録用の薄膜磁気ヘッドとして、所謂インダ
クティブ型の薄膜磁気ヘッドが知られている。このイン
ダクティブ型の薄膜磁気ヘッドは、例えば図7に示すよ
うに、構成されている。
For example, as a thin film magnetic head for recording and reproducing information signals on a magnetic recording medium, a conductor coil and a magnetic film are formed on a substrate made of an oxide magnetic material such as ferrite by a vacuum thin film forming technique. A thin-film magnetic head configured as described above is known. Specifically, for example, a so-called inductive type thin film magnetic head is known as a thin film magnetic head for recording. This inductive type thin film magnetic head is configured, for example, as shown in FIG.

【0004】図7において、薄膜磁気ヘッド1は、フェ
ライト等の酸化物磁性材料から成る基板2上に、軟磁性
体層から成る下層コアとしてのシールドコア3を形成
し、このシールドコア3上に絶縁性を確保するための絶
縁層4を形成し、この絶縁層4上に、螺旋状の導体コイ
ル5を形成し、さらにその上に表面の平坦化を図るたと
のレジスト等の高分子材料から成る平坦化層6を成膜
し、最後にこの平坦化層6上に軟磁性体から成る上層コ
ア7を形成することにより構成されている。
In FIG. 7, a thin-film magnetic head 1 has a shield core 3 as a lower core made of a soft magnetic material layer formed on a substrate 2 made of an oxide magnetic material such as ferrite. An insulating layer 4 for ensuring insulation is formed, a spiral conductive coil 5 is formed on the insulating layer 4, and a polymer material such as a resist is used to planarize the surface thereon. The flattening layer 6 is formed, and an upper core 7 made of a soft magnetic material is formed on the flattening layer 6 at last.

【0005】このような構成の薄膜磁気ヘッド1は、例
えば再生用の磁気抵抗効果型の薄膜磁気ヘッドと共に、
複合型の薄膜磁気ヘッドとして構成され、例えばハード
ディスク装置やテープストリーマ等の磁気記録再生装置
に搭載され、使用されている。ここで、複合型の薄膜磁
気ヘッドは、例えば磁気抵抗効果型の薄膜ヘッドの上
に、さらに上記薄膜磁気ヘッド1を重ねて形成すること
により構成されており、図7の線Cは、切断線である。
[0005] The thin-film magnetic head 1 having the above-described structure can be used together with, for example, a magnetoresistive thin-film magnetic head for reproduction.
It is configured as a composite type thin film magnetic head, and is mounted and used in a magnetic recording / reproducing device such as a hard disk device and a tape streamer. Here, the composite type thin film magnetic head is formed by, for example, further forming the thin film magnetic head 1 on a magnetoresistive effect type thin film head, and a line C in FIG. It is.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
インダクティブ型の薄膜磁気ヘッドあるいは複合型の薄
膜磁気ヘッドにおいては、シールドコア3(複合型薄膜
磁気ヘッドの場合には、中間コア)が、エッチング加工
やメッキ加工を利用して、形成されている。しかしなが
ら、エッチング加工の場合には、数μmの厚膜エッチン
グになることから、スループットが上がらず、加工時間
が長くなってしまうという問題があった。また、メッキ
加工の場合には、成膜速度は比較的速いが、メッキ処理
前の基板表面の下地処理等に時間がかかってしまうとい
う問題があった。
In such an inductive type thin film magnetic head or a composite type thin film magnetic head, the shield core 3 (an intermediate core in the case of the composite type thin film magnetic head) is etched. It is formed using processing and plating. However, in the case of etching, since a thick film of several μm is etched, there is a problem that the throughput is not increased and the processing time is lengthened. In the case of plating, the film forming speed is relatively high, but there is a problem that it takes time to perform a base treatment on the substrate surface before plating.

【0007】さらに、エッチング加工及びメッキ加工の
双方の場合に、シールドコア3の端部が垂直に形成され
ることになる。このシールドコア3の上には、前述のよ
うに導体コイル5が形成されるが、一般に導体コイル5
はシールドコア3より大きいことから、導体コイル5よ
りやや広い範囲に亘って、シールドコア3と同じ高さ
に、シールドコア3のための平坦化層8を形成するよう
にしている。ところが、上記のように、シールドコア3
の端部が垂直に形成されていると、レジストによる平坦
化層8とシールドコア3の境界において、図9に示すよ
うに、ギャップもしくは段差Aが生じてしまう。従っ
て、このようなギャップもしくは段差Aがあると、導体
コイル5の線幅が数μm程度であるために、導体コイル
5の形成のためのレジストの露光時に、最適な露光がで
きなくなってしまうと共に、この段差によって場合によ
ってはシールドコア3と導体コイル5の間の絶縁性が損
なわれてしまうことがあるいう問題があった。
Further, in both the etching process and the plating process, the end of the shield core 3 is formed vertically. The conductor coil 5 is formed on the shield core 3 as described above.
Since the shield core 3 is larger than the shield core 3, the flattening layer 8 for the shield core 3 is formed at the same height as the shield core 3 over a slightly wider range than the conductor coil 5. However, as described above, the shield core 3
Is formed vertically, a gap or a step A occurs at the boundary between the planarizing layer 8 made of resist and the shield core 3 as shown in FIG. Therefore, if there is such a gap or step A, the line width of the conductor coil 5 is about several μm, so that optimal exposure cannot be performed when exposing the resist for forming the conductor coil 5. However, there is a problem that the insulation between the shield core 3 and the conductor coil 5 may be impaired by the step in some cases.

【0008】本発明は、以上の点に鑑み、シールドコア
と隣接する平坦化層の間の段差を排除するようにした、
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的
としている。
In view of the above, the present invention eliminates a step between a shield core and an adjacent flattening layer.
It is an object of the present invention to provide a thin-film magnetic head and a method of manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的は、請求項1の
発明によれば、基板上に形成された再生用薄膜ヘッド
と、この再生用薄膜ヘッド上に形成された中間コアとし
てのシールドコアと、このシールドコアの周囲に、上面
を平坦化するために形成された平坦化層と、これらシー
ルドコア及び平坦化層の上に構成された記録用薄膜ヘッ
ドとを含んでいる薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、
上記シールドコアをリフトオフプロセスにより形成する
ことにより、この中間コアの平坦化層との境界面を傾斜
面とした、薄膜磁気ヘッドの製造方法により、達成され
る。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a thin-film reproducing head formed on a substrate, and a shield core as an intermediate core formed on the thin-film reproducing head. And a thin-film magnetic head including a flattening layer formed around the shield core for flattening the upper surface, and a recording thin-film head formed on the shield core and the flattening layer. A manufacturing method,
This is achieved by a method of manufacturing a thin-film magnetic head in which the shield core is formed by a lift-off process, and the interface between the intermediate core and the flattening layer is inclined.

【0010】また、上記目的は、請求項2の発明によれ
ば、基板上に形成された下層コアとしてのシールドコア
と、このシールドコアの周囲に、上面を平坦化するため
に形成された平坦化層と、これらシールドコア及び平坦
化層の上に構成された記録用薄膜ヘッドとを含んでいる
薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、上記シールドコア
をリフトオフプロセスにより形成することにより、この
中間コアの平坦化層との境界面を傾斜面とした薄膜磁気
ヘッドの製造方法により、達成される。
According to another aspect of the present invention, there is provided a shield core as a lower layer core formed on a substrate, and a flat core formed around the shield core for flattening an upper surface. A thin-film magnetic head including a passivation layer and a recording thin-film head formed on the shield core and the flattening layer, wherein the shield core is formed by a lift-off process. This is achieved by a method for manufacturing a thin-film magnetic head in which the boundary surface between the core and the flattening layer is an inclined surface.

【0011】請求項1または2の構成によれば、記録用
の薄膜ヘッドを構成する中間コアまたは下層コアとして
のシールドコアが、リフトオフプロセスにより形成され
るので、シールドコア形成のための加工時間が、例えば
約0.5時間程度であることから、従来のエッチング加
工による約5時間程度の加工時間に比較して大幅に短縮
されると共に、メッキ加工の場合のような下地加工が不
要である。従って、薄膜磁気ヘッドの生産効率が大幅に
向上することになる。
According to the first or second aspect of the present invention, the shield core as the intermediate core or the lower core constituting the thin-film recording head is formed by a lift-off process, so that the processing time for forming the shield core is reduced. For example, since the processing time is about 0.5 hours, the processing time can be greatly reduced as compared with the processing time of about 5 hours by the conventional etching processing, and the base processing such as the plating processing is not required. Therefore, the production efficiency of the thin-film magnetic head is greatly improved.

【0012】また、上記シールドコアがリフトオフプロ
セスにより形成されることから、その平坦化層との境界
面が、傾斜面として、好ましくは30乃至70度の傾斜
角で傾斜している。従って、平坦化層の形成時に、シー
ルドコアと平坦化層との境界に段差が生ずるようなこと
がない。このため、シールドコア及び平坦化層の上に、
記録用薄膜ヘッドを構成する導体コイルの形成のために
レジストの露光が最適に行われると共に、シールドコア
と導体コイルの間の絶縁性が向上することになる。
Further, since the shield core is formed by a lift-off process, the boundary surface between the shield core and the flattening layer is preferably inclined at an inclination angle of 30 to 70 degrees as an inclined surface. Therefore, when forming the flattening layer, a step does not occur at the boundary between the shield core and the flattening layer. For this reason, on the shield core and the flattening layer,
Exposure of the resist is optimally performed for the formation of the conductor coil constituting the recording thin film head, and the insulation between the shield core and the conductor coil is improved.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を図1乃至図6を参照しながら、詳細に説明する。尚、
以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例である
から、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、
本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもの
ではない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. still,
Since the embodiments described below are preferred specific examples of the present invention, various technically preferred limitations are added.
The scope of the present invention is not limited to these embodiments unless otherwise specified in the following description.

【0014】図1は、本実施形態による薄膜磁気ヘッド
を備えた回転磁気ヘッド装置の構成を示している。図1
において、回転磁気ヘッド装置10は、固定ドラム1
1,回転して磁気ヘッドを支持する手段としての回転ド
ラム12,モータM等を備えている。固定ドラム11の
下側には、モータMが配設されており、固定ドラム11
の上側には、回転ドラム12が配設されている。回転ド
ラム12とモータMとは軸14を介して連結されてお
り、固定ドラム11は、軸14を図示しない軸受によっ
て回転可能に支持している。固定ドラム11の外周面に
は、リードガイド部13が形成されており、テープ状の
磁気情報記録媒体である磁気テープTPが、矢印Eで示
すように、このリードガイド部13に沿って入口側IN
から出口側OUTに向かって斜めに送られるようになっ
ている。
FIG. 1 shows the configuration of a rotary magnetic head device provided with the thin-film magnetic head according to the present embodiment. FIG.
, The rotating magnetic head device 10 includes the fixed drum 1
1, a rotating drum 12 as means for rotating and supporting a magnetic head, a motor M, and the like. A motor M is provided below the fixed drum 11, and the fixed drum 11
The rotary drum 12 is disposed on the upper side. The rotating drum 12 and the motor M are connected via a shaft 14, and the fixed drum 11 rotatably supports the shaft 14 by a bearing (not shown). A lead guide portion 13 is formed on the outer peripheral surface of the fixed drum 11, and a magnetic tape TP, which is a tape-shaped magnetic information recording medium, is moved along the lead guide portion 13 along the entrance side as shown by an arrow E. IN
From the outlet to the exit side OUT.

【0015】回転ドラム12の外周面には、切欠部が形
成されていて、この切欠部に薄膜磁気ヘッド20が回転
ドラム12の外周面に対して突出するように配設されて
いる。回転ドラム12は、モータMの作動により固定ド
ラム11に対して矢印R1方向に回転する。これに伴っ
て、薄膜磁気ヘッド20も回転し、磁気テープTPと摺
動しながら記録または再生を行なう。このとき、磁気テ
ープTPは、リードガイド部13に沿って矢印E方向に
斜めに進行しているので、薄膜磁気ヘッド20は、所謂
ヘリカルスキャン方式で、磁気テープTPに対して情報
を記録し、あるいは再生するようになっている。
A notch is formed in the outer peripheral surface of the rotary drum 12, and the thin film magnetic head 20 is disposed in the notch so as to protrude from the outer peripheral surface of the rotary drum 12. The rotating drum 12 rotates in the direction of the arrow R1 with respect to the fixed drum 11 by the operation of the motor M. Accordingly, the thin-film magnetic head 20 also rotates, and performs recording or reproduction while sliding on the magnetic tape TP. At this time, since the magnetic tape TP advances obliquely in the direction of arrow E along the lead guide portion 13, the thin-film magnetic head 20 records information on the magnetic tape TP by a so-called helical scan method, Or it is designed to be played.

【0016】図2乃至図3は、本発明による薄膜磁気ヘ
ッド20の一実施形態を示している。図2において、薄
膜磁気ヘッド20は、二つの基板21,21が接合面に
て接着剤等により接合されることにより構成されてお
り、基板21,21の上面には、摺動面22が形成され
ている。この摺動面22は、磁気テープTPとの摺動を
良好にするために、曲面加工が施されている。
FIGS. 2 and 3 show an embodiment of the thin-film magnetic head 20 according to the present invention. In FIG. 2, the thin-film magnetic head 20 is formed by joining two substrates 21 and 21 with an adhesive or the like at a joining surface, and a sliding surface 22 is formed on the upper surfaces of the substrates 21 and 21. Have been. The sliding surface 22 is subjected to a curved surface processing in order to make sliding with the magnetic tape TP good.

【0017】また、図3は、薄膜磁気ヘッド20の構成
を詳しく示しており、薄膜磁気ヘッド20は、再生ヘッ
ド30と記録ヘッド40等から構成されている。再生ヘ
ッド30は、基板21上に順次に積層された磁性膜から
成るシールドコア(下層コア)31,下ギャップ膜3
2,MR(磁気抵抗効果)素子33から構成されてい
る。ここで、MR素子33は、所定のトラック幅Twを
有しており、またMR素子33には、センス電流Iを印
加するための電極端子34が接続されている。再生ヘッ
ド30において、下層コア31と中間コア42(後述)
が磁極を形成しており、磁気テープTPから磁極に対し
て生ずる磁束変化をMR素子33の抵抗変化として読み
取ることにより、情報信号の再生が行われる。
FIG. 3 shows the structure of the thin-film magnetic head 20 in detail. The thin-film magnetic head 20 includes a reproducing head 30, a recording head 40, and the like. The reproducing head 30 includes a shield core (lower core) 31 and a lower gap film 3, each of which is made of a magnetic film sequentially laminated on the substrate 21.
2, an MR (magnetoresistive) element 33. Here, the MR element 33 has a predetermined track width Tw, and an electrode terminal 34 for applying a sense current I is connected to the MR element 33. In the reproducing head 30, the lower core 31 and the intermediate core 42 (described later)
Form a magnetic pole, and the information signal is reproduced by reading a change in magnetic flux generated from the magnetic tape TP to the magnetic pole as a change in resistance of the MR element 33.

【0018】他方、記録ヘッド40は、MR素子33上
に順次に形成された上ギャップ膜41,磁性膜から成る
シールドコア(中間コア)42,導体コイル43,上部
磁極44から構成されている。ここで、記録ヘッド40
においては、中間コア42と上部磁極44は、図示しな
いギャップ膜を介して磁極を形成しており、導体コイル
43により発生する磁束を磁気テープTPに印加して書
き込むことにより、情報信号の記録が行われる。
On the other hand, the recording head 40 comprises an upper gap film 41 formed sequentially on the MR element 33, a shield core (intermediate core) 42 made of a magnetic film, a conductor coil 43, and an upper magnetic pole 44. Here, the recording head 40
In the above, the intermediate core 42 and the upper magnetic pole 44 form a magnetic pole through a gap film (not shown), and the magnetic flux generated by the conductor coil 43 is applied to the magnetic tape TP to write the information signal, thereby recording the information signal. Done.

【0019】ここで、下ギャップ膜32及び上ギャップ
膜41は、それぞれ、例えばアルミナ(Al2 3 )か
ら成る絶縁膜32a,41aと、熱伝導性の良好な非磁
性材料であり且つ好ましくは延性を有する材料である例
えば銀等から成る非磁性金属膜32b,41bから構成
されている。この熱伝導性の良好な非磁性金属膜32
b,41bによって、MR素子33の放熱が促進される
ようになっている。
Here, the lower gap film 32 and the upper gap film 41 are made of, for example, insulating films 32a and 41a made of, for example, alumina (Al 2 O 3 ) and a nonmagnetic material having good thermal conductivity, and are preferably used. It is composed of nonmagnetic metal films 32b and 41b made of ductile material such as silver. This nonmagnetic metal film 32 having good thermal conductivity
The heat radiation of the MR element 33 is promoted by b and 41b.

【0020】ここで、上記記録ヘッド40は、詳細には
図4に示すように、構成されている。即ち、記録ヘッド
40は、さらに、上ギャップ膜41上に形成されたアル
ミナ等から成る絶縁膜45と、導体コイル43の表面を
平坦化するための第一の平坦化膜46と、中間コア42
の表面を平坦化するために中間コア42に隣接して形成
された第二の平坦化膜47と、さらに平坦化された中間
コア42及び平坦化膜46の表面に形成されたアルミナ
等から成る絶縁膜48とを備えている。
Here, the recording head 40 is configured in detail as shown in FIG. That is, the recording head 40 further includes an insulating film 45 made of alumina or the like formed on the upper gap film 41, a first flattening film 46 for flattening the surface of the conductor coil 43, and an intermediate core 42.
A second planarizing film 47 formed adjacent to the intermediate core 42 to planarize the surface of the substrate, and alumina and the like formed on the surfaces of the planarized intermediate core 42 and the planarizing film 46. And an insulating film 48.

【0021】さらに、本実施形態による薄膜磁気ヘッド
10における記録ヘッド40は、中間コア42の第二の
平坦化層47に対する境界面が、上向きに傾斜して形成
されている点で異なる構成になっている。この境界面の
傾斜角は、好ましくは、30乃至70度に選定される。
Further, the recording head 40 of the thin-film magnetic head 10 according to the present embodiment has a different structure in that the boundary surface of the intermediate core 42 with the second flattening layer 47 is formed to be inclined upward. ing. The angle of inclination of this interface is preferably chosen between 30 and 70 degrees.

【0022】このような構成の薄膜磁気ヘッド10は、
製造に際して、以下に示すように製造される。先づ、再
生ヘッド30に関しては、従来公知の方法により製造さ
れる。また、記録ヘッド40に関しては、図5に示すよ
うに、製造される。尚、図5においては、再生ヘッド3
0及び上記絶縁膜45は省略されている。
The thin-film magnetic head 10 having such a structure is
At the time of manufacture, it is manufactured as shown below. First, the reproducing head 30 is manufactured by a conventionally known method. The recording head 40 is manufactured as shown in FIG. It should be noted that in FIG.
0 and the insulating film 45 are omitted.

【0023】図5(A)に示すように、再生ヘッド30
のMR素子33上に形成された上ギャップ膜41の上面
に、レジスト(例えば日本ゼオン製のZPN−110
0)が塗布され、図示しないフォトマスクを使用して、
パターニングが行なわれる。このパターニングは、先づ
90℃にて90秒のプリベークを行ない、続いて露光装
置(例えばニコン製ステッパ)を使用して、露光時間2
000m秒でパターン露光を行ない、次に120℃にて
90秒のPEBを行ない、最後に120℃にて10秒の
ポストベークを行なうことにより、実施される。これに
より、図5(A)に示すように、上ギャップ膜41上
に、例えば、厚さ4μmで切れ込み角θが、約45度の
レジストパターン51が形成されることになる。
As shown in FIG. 5A, the reproducing head 30
A resist (for example, ZPN-110 manufactured by Zeon Corporation) is formed on the upper surface of the upper gap film 41 formed on the MR element 33 of FIG.
0) is applied and using a photomask (not shown)
Patterning is performed. This patterning is performed by first performing a pre-bake at 90 ° C. for 90 seconds, and then using an exposure apparatus (for example, a Nikon stepper) for an exposure time of 2 seconds.
This is performed by performing pattern exposure at 000 msec, then performing PEB at 120 ° C. for 90 seconds, and finally performing post-baking at 120 ° C. for 10 seconds. As a result, as shown in FIG. 5A, a resist pattern 51 having a thickness of 4 μm and a cut angle θ of about 45 degrees is formed on the upper gap film 41, for example.

【0024】続いて、図5(B)に示すように、上記レ
ジストパターン51の上から、記録ヘッド40(インダ
クティブ型薄膜磁気ヘッド)の下層コアとなるべき材料
層52がスパッタリングにより形成される。この材料層
52の厚さは4μm程度である。ここで、材料層52の
材料は、例えばCo,Zr,Nb,Ta等のアモルファ
ス合金が使用される。
Subsequently, as shown in FIG. 5B, a material layer 52 to be a lower core of the recording head 40 (inductive thin film magnetic head) is formed on the resist pattern 51 by sputtering. The thickness of the material layer 52 is about 4 μm. Here, the material of the material layer 52 is, for example, an amorphous alloy such as Co, Zr, Nb, and Ta.

【0025】その後、図5(C)に示すように、所謂リ
フトオフプロセスによって、アセトン等の有機溶媒中
に、レジストパターン51及び材料層52が形成された
上ギャップ膜41を入れて、超音波をかけることによ
り、レジストパターン51が除去される。この場合、レ
ジストパターン51上に形成された材料層52も一緒に
除去されることになる。かくして、上ギャップ膜41上
には、中間コア42のみが残ることになり、この中間コ
ア42の境界面42aは、上述したレジストパターン5
1の切れ込み角に対応して、上向きに45度の傾斜角で
傾斜した傾斜面として形成される。
Thereafter, as shown in FIG. 5C, the upper gap film 41 on which the resist pattern 51 and the material layer 52 are formed is put into an organic solvent such as acetone by a so-called lift-off process, and ultrasonic waves are applied. By applying, the resist pattern 51 is removed. In this case, the material layer 52 formed on the resist pattern 51 is also removed together. Thus, only the intermediate core 42 remains on the upper gap film 41, and the boundary surface 42a of the intermediate core 42 is
It is formed as an inclined surface inclined at an inclination angle of 45 degrees upward corresponding to the cut angle of 1.

【0026】続いて、図5(D)及び図5(E)に示す
ように、中間コア42と同じ厚さのレジスト膜53(第
二の平坦化層47)が形成される。この場合、中間コア
42の境界面42aが上向きに傾斜していることから、
中間コア42とレジスト膜53との段差は、図示のよう
に微小なものとなり、導体コイル43の形成時に必要な
平坦度が得られることになる。
Subsequently, as shown in FIGS. 5D and 5E, a resist film 53 (second planarization layer 47) having the same thickness as the intermediate core 42 is formed. In this case, since the boundary surface 42a of the intermediate core 42 is inclined upward,
The step between the intermediate core 42 and the resist film 53 is very small as shown in the figure, and the required flatness can be obtained when the conductor coil 43 is formed.

【0027】その後、図6に示すように、中間コア42
及び第二の平坦化層47の上面に、絶縁膜48が形成さ
れ、続いて導体コイル43が形成され、さらに第一の平
坦化層46が形成された後、上部磁極44が形成され、
最後に摺動面側が切断線49により切断され曲面加工さ
れることにより、記録ヘッド40が完成する。
Thereafter, as shown in FIG.
An insulating film 48 is formed on the upper surface of the second flattening layer 47, a conductor coil 43 is formed, a first flattening layer 46 is formed, and then an upper magnetic pole 44 is formed.
Finally, the sliding surface side is cut along the cutting line 49 and processed into a curved surface, whereby the recording head 40 is completed.

【0028】ここで、上述した例では、中間コア42
(下層コア)の境界面は、その上向きの傾斜角が45度
であるが、これに限らず、例えば30度乃至70度の傾
斜角を有していてもよい。尚、傾斜角が70度以上の場
合には、境界面が垂直の場合と同様に、第二の平坦化層
47との間に、無視できない大きさの段差が生ずること
になると共に、傾斜角が30度以下の場合には、境界面
上にも第二の平坦化層47が形成されることにより、段
差が生じてしまうので、本実施形態による段差排除の効
果が得られなくなってしまう。
Here, in the above-described example, the intermediate core 42
The boundary surface of the (lower core) has an upward inclination angle of 45 degrees, but is not limited thereto, and may have an inclination angle of, for example, 30 to 70 degrees. When the inclination angle is 70 degrees or more, a step having a size that cannot be ignored is generated between the second flattening layer 47 and the inclination angle, as in the case where the boundary surface is vertical. Is less than 30 degrees, the second flattening layer 47 is also formed on the boundary surface, so that a step is generated. Therefore, the effect of eliminating the step according to the present embodiment cannot be obtained.

【0029】本実施形態による薄膜磁気ヘッド10は、
以上のように構成されており、記録時には、磁気テープ
TPが、薄膜磁気ヘッド20の摺動面22に沿って摺動
すると共に、外部から薄膜磁気ヘッド20の記録ヘッド
40の導体コイル43に対して駆動電流が導入されるこ
とにより、この駆動電流に対応した磁界が導体コイル4
3に発生する。そして、この導体コイル43に発生した
磁界が、中間コア42及び上部磁極44との間で、ギャ
ップgを通過することにより、磁気テープTPに対して
所望の情報の磁気記録が行なわれる。
The thin-film magnetic head 10 according to the present embodiment is
The magnetic tape TP slides along the sliding surface 22 of the thin-film magnetic head 20 at the time of recording, and is externally connected to the conductor coil 43 of the recording head 40 of the thin-film magnetic head 20 during recording. As a result, the magnetic field corresponding to the drive current is applied to the conductor coil 4.
Occurs at 3. Then, the magnetic field generated in the conductor coil 43 passes through the gap g between the intermediate core 42 and the upper magnetic pole 44, whereby magnetic recording of desired information is performed on the magnetic tape TP.

【0030】また、再生時には、摺動する磁気テープT
Pに記録された磁気信号に基づいて、ギャップgから下
層コア31及び中間コア42を循環する磁界が発生し、
この磁界に基づいて、MR素子33の抵抗値が変動し、
この抵抗値の変化が検出され、適宜に処理されることよ
り、磁気テープTPに記録された情報が再生されること
になる。
During reproduction, the sliding magnetic tape T
Based on the magnetic signal recorded in P, a magnetic field circulating through the lower core 31 and the intermediate core 42 is generated from the gap g,
Based on this magnetic field, the resistance of the MR element 33 fluctuates,
The change in the resistance value is detected and appropriately processed, so that the information recorded on the magnetic tape TP is reproduced.

【0031】ここで、本実施形態による薄膜磁気ヘッド
10においては、記録ヘッド40の中間コア42の第二
の平坦化層47に対する境界面が上向きに傾斜している
ので、第二の平坦化層47の形成の際に、この境界面付
近に段差が発生することがない。従って、中間コア42
及び第二の平坦化層47の表面に関して、十分な平坦度
が得られることになり、その上に導体コイル43の形成
のためのレジストの露光の際に、導体コイル43の例え
ば数μm程度の微細な線幅であっても、レジストのフォ
トマスクを介した露光が確実に行われる。これにより、
導体コイル43が確実に且つ容易に形成されると共に、
薄膜磁気ヘッド10の歩留まりが向上することになる。
Here, in the thin-film magnetic head 10 according to the present embodiment, since the boundary surface of the intermediate core 42 of the recording head 40 with respect to the second flattening layer 47 is inclined upward, the second flattening layer When forming 47, no step is generated near this boundary surface. Therefore, the intermediate core 42
And the surface of the second flattening layer 47 has a sufficient flatness. When the resist is exposed for forming the conductive coil 43 thereon, the conductive coil 43 has a thickness of, for example, about several μm. Exposure through a resist photomask is reliably performed even with a fine line width. This allows
While the conductor coil 43 is formed reliably and easily,
The yield of the thin film magnetic head 10 is improved.

【0032】また、上記中間コア42が所謂リフトオフ
プロセスによって形成されるので、従来のようなエッチ
ング加工やメッキ加工の場合と比較して、例えば0.5
時間程度と加工時間が大幅に短縮されることになり、生
産効率が向上すると共に、下地処理が不要であることか
ら、容易に加工が行われる。
Further, since the intermediate core 42 is formed by a so-called lift-off process, the intermediate core 42 is, for example, 0.5 times smaller than the conventional case of etching or plating.
Since the processing time and the processing time are greatly reduced, the production efficiency is improved, and the processing can be easily performed since the base treatment is not required.

【0033】上述した実施形態においては、薄膜磁気ヘ
ッド20は、再生ヘッド30及び記録ヘッド40から構
成されており、再生ヘッド30のMR素子33の上に形
成された上ギャップ膜41上に、シールドコアとしての
中間コア42が形成されているが、これに限らず、記録
ヘッドのみからなる、所謂インダクティブ型薄膜磁気ヘ
ッドの場合にも、本発明を適用できることは明らかであ
る。この場合、シールドコアとしての下層コアは、図5
において、上ギャップ膜41上ではなく、基板上に形成
されることになり、同様にリフトオフプロセスによっ
て、境界面が上向きに傾斜するように形成される。
In the above-described embodiment, the thin-film magnetic head 20 is composed of the reproducing head 30 and the recording head 40, and the shield is formed on the upper gap film 41 formed on the MR element 33 of the reproducing head 30. Although the intermediate core 42 as the core is formed, the present invention is not limited to this, and it is apparent that the present invention can be applied to a so-called inductive type thin film magnetic head including only a recording head. In this case, the lower core as a shield core is shown in FIG.
Is formed on the substrate, not on the upper gap film 41. Similarly, by the lift-off process, the boundary surface is formed so as to be inclined upward.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、シ
ールドコアと隣接する平坦化層の間の段差を排除するよ
うにした、薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供する
ことができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a thin-film magnetic head and a method of manufacturing the same in which a step between a shield core and an adjacent flattening layer is eliminated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による薄膜磁気ヘッドを備えた磁気ヘッ
ド装置の全体構成を示す概略斜視図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of a magnetic head device provided with a thin-film magnetic head according to the present invention.

【図2】図1の磁気ヘッド装置における複合型の薄膜磁
気ヘッドの一実施形態の構成を示す概略斜視図である。
FIG. 2 is a schematic perspective view showing a configuration of an embodiment of a composite thin-film magnetic head in the magnetic head device of FIG. 1;

【図3】図2の薄膜磁気ヘッドの構成を示す分解斜視図
である。
FIG. 3 is an exploded perspective view showing the configuration of the thin-film magnetic head of FIG.

【図4】図3の薄膜磁気ヘッドの要部の構成を示す部分
拡大断面図である。
FIG. 4 is a partially enlarged sectional view showing a configuration of a main part of the thin-film magnetic head of FIG. 3;

【図5】図2の薄膜磁気ヘッドにおける記録ヘッドの中
間コアの製造工程を順次に示す概略断面図及び平面図で
ある。
5A and 5B are a schematic cross-sectional view and a plan view sequentially showing a manufacturing process of an intermediate core of the recording head in the thin-film magnetic head of FIG.

【図6】図2の薄膜磁気ヘッドの製造工程の最終段階を
示す部分拡大断面図である。
FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view showing a final stage of a manufacturing process of the thin-film magnetic head of FIG. 2;

【図7】従来のインダクティブ型の薄膜磁気ヘッドの一
例の構成を示す部分拡大断面図である。
FIG. 7 is a partially enlarged cross-sectional view showing a configuration of an example of a conventional inductive type thin film magnetic head.

【図8】図7の薄膜磁気ヘッドにおける下層コア及び平
坦化層の関係を示す概略平面図である。
8 is a schematic plan view showing a relationship between a lower core and a flattening layer in the thin-film magnetic head of FIG. 7;

【図9】図7の薄膜磁気ヘッドにおける下層コア及び平
坦化層の関係を示す概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic sectional view showing the relationship between a lower core and a planarizing layer in the thin-film magnetic head of FIG. 7;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10・・・回転磁気ヘッド装置、20・・・薄膜磁気ヘ
ッド、30・・・再生ヘッド、31・・・下層コア(シ
ールドコア)、32・・・下ギャップ膜、33・・・M
R素子、40・・・記録ヘッド、41・・・上ギャップ
膜、42・・・中間コア(シールドコア)、43・・・
導体コイル、44・・・上部磁極。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Rotating magnetic head device, 20 ... Thin film magnetic head, 30 ... Reproducing head, 31 ... Lower core (shield core), 32 ... Lower gap film, 33 ... M
R element, 40: recording head, 41: upper gap film, 42: intermediate core (shield core), 43:
Conductor coil, 44 ... Upper magnetic pole.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成された再生用薄膜ヘッド
と、 この再生用薄膜ヘッド上に形成された中間コアとしての
シールドコアと、 このシールドコアの周囲に、上面を平坦化するために形
成された平坦化層と、 これらシールドコア及び平坦化層の上に構成された記録
用薄膜ヘッドとを含んでいる薄膜磁気ヘッドの製造方法
であって、 上記シールドコアをリフトオフプロセスにより形成する
ことにより、この中間コアの平坦化層との境界面を傾斜
面としたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
1. A reproducing thin film head formed on a substrate, a shield core as an intermediate core formed on the reproducing thin film head, and a shield core formed around the shield core for flattening an upper surface. A method of manufacturing a thin-film magnetic head, comprising: a flattened layer formed as described above; and a thin-film recording head formed on the shield core and the flattened layer, wherein the shield core is formed by a lift-off process. A method of manufacturing a thin-film magnetic head, characterized in that an interface between the intermediate core and the flattening layer is an inclined surface.
【請求項2】 基板上に形成された下層コアとしてのシ
ールドコアと、 このシールドコアの周囲に、上面を平坦化するために形
成された平坦化層と、 これらシールドコア及び平坦化層の上に構成された記録
用薄膜ヘッドとを含んでいる薄膜磁気ヘッドの製造方法
であって、 上記シールドコアをリフトオフプロセスにより形成する
ことにより、この中間コアの平坦化層との境界面を傾斜
面としたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
2. A shield core as a lower layer core formed on a substrate, a flattening layer formed around the shield core for flattening an upper surface, and a shield layer formed on the shield core and the flattening layer. A thin-film magnetic head including a recording thin-film head configured as described above, wherein the shield core is formed by a lift-off process so that a boundary surface between the intermediate core and the flattening layer is formed as an inclined surface. A method for manufacturing a thin-film magnetic head, comprising:
【請求項3】 上記シールドコアの傾斜面が、30乃至
70度の角度を有していることを特徴とする、請求項1
または2に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
3. The shield core according to claim 1, wherein an inclined surface of the shield core has an angle of 30 to 70 degrees.
Or the method for manufacturing a thin-film magnetic head according to 2.
【請求項4】 基板上に形成された再生用薄膜ヘッド
と、 この再生用薄膜ヘッド上に形成された中間コアとしての
シールドコアと、 このシールドコアの周囲に、上面を平坦化するために形
成された平坦化層と、 これらシールドコア及び平坦化層の上に構成された記録
用薄膜ヘッドとを含んでいる、薄膜磁気ヘッドであっ
て、 上記シールドコアの平坦化層との境界面が、傾斜面で構
成されていることを特徴とする、薄膜磁気ヘッド。
4. A reproducing thin film head formed on a substrate, a shield core as an intermediate core formed on the reproducing thin film head, and a shield core formed around the shield core to flatten an upper surface. A flattened layer, and a thin-film magnetic head for recording formed on the shield core and the flattened layer. A thin-film magnetic head, wherein a boundary surface between the flattened layer of the shield core and A thin-film magnetic head comprising an inclined surface.
【請求項5】 基板上に形成された下層コアとしてのシ
ールドコアと、 このシールドコアの周囲に、上面を平坦化するために形
成された平坦化層と、 これらシールドコア及び平坦化層の上に構成された記録
用薄膜ヘッドとを含んでいる薄膜磁気ヘッドであって、 上記シールドコアの平坦化層との境界面が、傾斜面で構
成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
5. A shield core as a lower layer core formed on a substrate, a flattening layer formed around the shield core for flattening an upper surface, and a shield core formed on the shield core and the flattening layer. A thin-film magnetic head comprising: a recording thin-film head configured as described above, wherein a boundary surface between the shield core and the flattening layer is formed by an inclined surface.
【請求項6】 上記シールドコアの傾斜面が、30乃至
70度の角度を有していることを特徴とする請求項4ま
たは5に記載の薄膜磁気ヘッド
6. The thin-film magnetic head according to claim 4, wherein the inclined surface of the shield core has an angle of 30 to 70 degrees.
【請求項7】 テープ状記録媒体に対して、情報を記録
及び/または再生するための薄膜磁気ヘッドと、 この薄膜磁気ヘッドが、上記テープ状記録媒体に対して
相対的に斜めに走行するように支持する回転支持手段と
を備えており、 上記薄膜磁気ヘッドが、 基板上に形成された再生用薄膜ヘッドと、 この再生用薄膜ヘッド上に形成された中間コアとしての
シールドコアと、 このシールドコアの周囲に、上面を平坦化するために形
成された平坦化層と、 これらシールドコア及び平坦化層の上に構成された記録
用薄膜ヘッドとを含んでいる、薄膜磁気ヘッドであっ
て、 上記シールドコアの平坦化層との境界面が、傾斜面で構
成されていることを特徴とする回転磁気ヘッド装置。
7. A thin-film magnetic head for recording and / or reproducing information on a tape-shaped recording medium, and the thin-film magnetic head runs obliquely relative to the tape-shaped recording medium. The thin-film magnetic head comprises: a reproducing thin-film head formed on a substrate; a shield core as an intermediate core formed on the reproducing thin-film head; A thin-film magnetic head, comprising: a flattening layer formed for flattening the upper surface around a core; and a recording thin-film head formed on the shield core and the flattening layer, A rotary magnetic head device, wherein a boundary surface between the shield core and the flattening layer is formed by an inclined surface.
JP11203699A 1999-07-16 1999-07-16 Thin film magnetic head and fabrication method thereof Pending JP2001034909A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11203699A JP2001034909A (en) 1999-07-16 1999-07-16 Thin film magnetic head and fabrication method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11203699A JP2001034909A (en) 1999-07-16 1999-07-16 Thin film magnetic head and fabrication method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001034909A true JP2001034909A (en) 2001-02-09

Family

ID=16478394

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11203699A Pending JP2001034909A (en) 1999-07-16 1999-07-16 Thin film magnetic head and fabrication method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001034909A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6377423B2 (en) Planar stitched write head having write coil insulated with inorganic insulation
US6618223B1 (en) High speed, high areal density inductive writer
US6430806B1 (en) Method for manufacturing an inductive write element employing bi-layer photoresist to define a thin high moment pole pedestal
JP2002343639A (en) Thin-film coil, magnet head, method of manufacturing the coil, and method of manufacturing the head
JP2667374B2 (en) Method of manufacturing thin film magnetic transducer for magnetic disk storage system
US7372667B2 (en) Thin-film magnetic head, head gimbal assembly with thin-film magnetic head, head arm assembly with head gimbal assembly, magnetic disk drive apparatus with head gimbal assembly and manufacturing method of thin-film magnetic head
US20020191334A1 (en) Magnetic transducer with pedestal pole piece structure
JP2000020919A (en) Magnet head and magnetic disk device using the same
JP2001034909A (en) Thin film magnetic head and fabrication method thereof
US7204014B2 (en) Magnetic head with thin gap layers
JP2001118214A (en) Thin-film magnetic head and its manufacturing method
JP2001032088A (en) Formation of thin-film pattern and production of thin- film magnetic head
JP2001110017A (en) Magnetoresistance effect type magnetic head and rotary magnetic head device
JP2814894B2 (en) Thin film magnetic head and method of manufacturing the same
JP2001052308A (en) Thin-film magnetic head and its manufacture
JPH03269814A (en) Thin-film magnetic head and production thereof
JPH0817022A (en) Production of combined thin-film magnetic head
JPH08329420A (en) Thin film magnetic head and its manufacture
JPH07320230A (en) Thin film magnetic head and its production
JP2002100013A (en) Magnetic head and its manufacturing method
JP2002319107A (en) Recording/reproducing separation type magnetic head, its manufacturing method, and magnetic disk device
JPH1011717A (en) Magnetoresistive effect head and its production
JPH0916909A (en) Thin-film magnetic head
JP2002342905A (en) Thin film magnetic head and its manufacturing method
JP2000231705A (en) Thin film magnetic head and its production

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20060419

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Effective date: 20090929

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20091006

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20100302

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02