JP2001034194A - Spacer spraying device - Google Patents

Spacer spraying device

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JP2001034194A
JP2001034194A JP11265171A JP26517199A JP2001034194A JP 2001034194 A JP2001034194 A JP 2001034194A JP 11265171 A JP11265171 A JP 11265171A JP 26517199 A JP26517199 A JP 26517199A JP 2001034194 A JP2001034194 A JP 2001034194A
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spacer
scanning
spraying
substrate
nozzle
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Japanese (ja)
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Masaaki Takai
雅明 高井
Masayuki Kinoshita
昌幸 木下
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a spacer spraying device capable of uniformly spraying spacers on a substrate of any size, improving the maintainability and shortening the tact time. SOLUTION: This device is provided with a substrate holding means 2 to hold a substrate 1 on which spacers are to be sprayed, a dispersion liquid supply means 11 to supply a volatile dispersion liquid prepared by dispersing the spacers, a nozzle 10 to spray the volatile dispersion liquid 12 in a mist state, an X-axis movement mechanism 20 and Y-axis movement mechanism 21 to move and scan the nozzle 10 in the two axial directions perpendicular to each other, a control means 22 to control the X-axis movement mechanism 20 and the Y-axis movement mechanism 21, and a spraying booth 3 to house these means. The device is further provided with a charge imparting means 15 to electrostatically electrify the volatile dispersion liquid supplied from the dispersion liquid supply means.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スペーサ散布装置
に関し、特に短時間でスペーサを均一に分散散布するこ
との可能なスペーサ散布装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spacer dispersing apparatus, and more particularly to a spacer dispersing apparatus capable of uniformly dispersing and dispersing spacers in a short time.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に液晶表示装置の基板間隔を保持す
るためには、ガラスファイバー、プラスチックビーズや
シリカビーズ等のスペーサを基板上に存在させる必要が
ある。この際、品質上の観点から、スペーサは均一に分
散して存在させる必要があるが、基板がフィルムの場
合、ガラス基板の場合よりも高密度にする必要があり、
したがって、均一に分散した状態を作ることはより困難
になる。スペーサを基板上に存在させる方法で、より一
般的で、従来から盛んに行われて来たものとしてスプレ
ー散布法がある。この散布法は、アルコール等の揮発性
溶液にスペーサをある一定の割合で混合し、その分散液
を基板の上方に固定されたスプレーを用いて噴霧して、
基板上に散布するものである。この時、ヒータを用いて
雰囲気温度を上昇させ、揮発性溶液を蒸発させてスペー
サ雰囲気を作り、その浮遊しているスペーサが自然落下
してくるのを待つことによって散布する。
2. Description of the Related Art In general, in order to maintain the distance between substrates in a liquid crystal display device, it is necessary to provide spacers such as glass fibers, plastic beads and silica beads on the substrate. At this time, from the viewpoint of quality, the spacers need to be dispersed uniformly, but when the substrate is a film, it is necessary to have a higher density than when a glass substrate is used.
Therefore, it becomes more difficult to create a uniformly dispersed state. The spraying method is a more general and popular method in which a spacer is present on a substrate. In this spraying method, a spacer is mixed with a volatile solution such as alcohol at a certain ratio, and the dispersion is sprayed using a spray fixed above the substrate,
It is sprayed on a substrate. At this time, the temperature of the atmosphere is raised using a heater, the volatile solution is evaporated to form a spacer atmosphere, and the spacer is sprayed by waiting for the floating spacer to fall naturally.

【0003】このスプレー散布法の問題点を挙げると、
以下のようになる。すなわちこの方法では、基板上に均
一にスペーサを形成するために、スプレーと基板の間の
距離が相当量(一般的には1m程度)必要であり、また
散布用ブース内にスペーサ分散液を撒き散らすことが必
要になる。このため、 1)スペーサ分散液が壁面等に付着しやすくメンテナン
スが困難である。 2)散布効率が著しく低い。 3)装置が大型化してしまう。 4)散布効率を少しでも稼ぐために、また、基板内の分
布性を向上するために、舞上がったスペーサが沈下して
くる時間を長く採る必要があり、それがタクトタイム短
縮の妨げになる。このような問題点は、スペーサをより
高密度に分布させる必要のあるPF基板の場合などに顕
著になる。
[0003] The problems of this spray application method are as follows.
It looks like this: In other words, this method requires a considerable distance (generally about 1 m) between the spray and the substrate in order to form the spacers uniformly on the substrate, and scatters the spacer dispersion in the spray booth. It needs to be scattered. For this reason, 1) the spacer dispersion liquid easily adheres to a wall surface or the like, and maintenance is difficult. 2) The spraying efficiency is extremely low. 3) The device becomes large. 4) In order to increase the spraying efficiency as much as possible and to improve the distribution in the substrate, it is necessary to take a long time for the raised spacers to sink, which hinders a reduction in tact time. . Such a problem becomes conspicuous in the case of a PF substrate in which spacers need to be distributed at a higher density.

【0004】これらの問題を解決するために、薄膜コー
トの技術を応用する方法がある。すなわち、微小吐出、
低風量で、分散液を霧状に散布することが可能なノズル
を用いて、基板上の面内を走査しながら散布するという
方法である。この場合には、散布用ノズルと基板との間
の距離を上記したスプレー散布法の場合の数分の一に短
縮することが可能であり、したがって、スペーサ分散液
の飛散を低減し、メンテナンス性の向上、散布効率の向
上が可能になる。ただし、散布用ノズルと基板との距離
が近いほど、揮発性溶液の蒸発が困難になり、結果とし
て凝集を増大させることになる。また、同じ装置で、異
種のスペーサの散布を行うことを考慮すれば、より飛散
を低減させることが要求される。さらに、フィルム基板
のようにより高密度なスペーサの散布が要求される場合
には、タクトタイムを短縮する工夫が必要である。
[0004] In order to solve these problems, there is a method of applying a thin film coating technique. That is, micro ejection,
This method uses a nozzle capable of spraying the dispersion liquid in a mist state at a low air volume while spraying the surface of the substrate while scanning. In this case, the distance between the spraying nozzle and the substrate can be reduced to a fraction of that in the case of the above-described spraying method. And spraying efficiency can be improved. However, the closer the distance between the spray nozzle and the substrate, the more difficult it is for the volatile solution to evaporate, resulting in increased aggregation. Further, in consideration of dispersing different kinds of spacers in the same apparatus, it is required to further reduce the scattering. Further, when a higher density of spacers is required to be scattered as in the case of a film substrate, it is necessary to reduce the tact time.

【0005】このほか、アルコール等の揮発性溶液にス
ペーサを混合しないで、スペーサを粉体の状態で散布す
る方法も開発されている。これは、帯電させたスペーサ
粉体を基板上方から噴霧して散布する方法である。この
時、基板を接地して、スペーサとの間に電位差を持た
せ、電気的に吸引させることで、散布効率を向上させて
いる。また、個々のスペーサは同一極性に帯電している
ため、相互に反発しあって凝集を低減できるなどの利点
がある。ただし、この方法も、とくに大型基板に対し
て、基板上にスペーサを均一に分布させるためには、ス
プレーと基板との距離を相当量(一般的には1m前後)
取る必要があり、上記のスプレー散布法と同様、散布用
ブース内にスペーサを撒き散らすことになるため、壁面
等にスペーサが付着しやすく、メンテナンスが困難にな
ったり、装置が大型化してしまう等の問題が残る。さら
に、散布対象の基板表面の電位差を均一に保たないと、
スペーサを均一に分散させることは困難であり、とくに
フィルム基板の場合、電位差を面内で均一に保つことが
難しく、かえってスペーサの分布に偏りを生じる等の影
響が顕著に表れてしまう。
[0005] In addition, a method has been developed in which the spacers are sprayed in a powder state without mixing the spacers with a volatile solution such as alcohol. This is a method in which the charged spacer powder is sprayed and sprayed from above the substrate. At this time, the substrate is grounded, a potential difference is provided between the substrate and the spacer, and the substrate is electrically sucked, thereby improving the spraying efficiency. In addition, since the individual spacers are charged with the same polarity, there is an advantage that the spacers repel each other and aggregation can be reduced. However, this method also requires a considerable distance (generally, about 1 m) between the spray and the substrate in order to uniformly distribute the spacers on the substrate, especially for large substrates.
Since it is necessary to remove the spacers, the spacers are scattered in the spray booth as in the case of the spraying method described above, so that the spacers are likely to adhere to the walls and the like, making maintenance difficult and increasing the size of the apparatus. The problem remains. Furthermore, if the potential difference on the surface of the substrate to be sprayed is not kept uniform,
It is difficult to uniformly disperse the spacers, and in particular, in the case of a film substrate, it is difficult to keep the potential difference uniform in the plane, and rather, the influence of uneven distribution of the spacers appears remarkably.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述のごとく、従来の
スペーサ散布装置においては、基板上にスペーサを均一
に分布させることが難しく、タクト時間が長くなりがち
であり、ヒータ等の熱源が必要であり、装置が大型にな
り易く、かつ、メンテナンスが困難という問題があっ
た。本発明は、比較的簡単な構成で、任意のサイズの基
板に対してスペーサを均一に散布することが可能で、メ
ンテナンス性の向上とタクト時間の短縮を図れるスペー
サ散布装置の実現を課題とする。
As described above, in the conventional spacer dispersing apparatus, it is difficult to uniformly distribute the spacers on the substrate, the tact time tends to be long, and a heat source such as a heater is required. There is a problem that the apparatus tends to be large and maintenance is difficult. An object of the present invention is to realize a spacer dispersing apparatus capable of uniformly dispersing spacers on a substrate of an arbitrary size with a relatively simple configuration and improving maintenance and shortening tact time. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本発明は、スペーサ散布対象の基板を保持する基板
保持手段と、スペーサを分散させた揮発性の分散液を供
給する分散液供給手段と、この分散液供給手段から供給
される揮発性分散液を霧状に散布するノズル手段と、前
記ノズル手段または前記基板保持手段を直交2軸方向に
移動させて走査する走査手段と、前記走査手段の走査速
度および走査位置を制御する走査制御手段と、少なくと
も前記基板保持手段と前記ノズル手段と前記走査手段と
を内部に収納して遮蔽する遮蔽手段とを具備するスペー
サ散布装置において、前記分散液供給手段から供給され
る揮発性分散液を静電的に帯電させる電荷付与手段を有
することを特徴とする。これにより、スペーサの凝集を
低減し、スペーサを均一に散布可能な、タクト時間の短
いスペーサ散布装置を実現することができる。
In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate holding means for holding a substrate on which spacers are to be sprayed, and a dispersion supply means for supplying a volatile dispersion in which spacers are dispersed. Nozzle means for spraying the volatile dispersion liquid supplied from the dispersion liquid supply means in the form of a mist, scanning means for moving the nozzle means or the substrate holding means in two orthogonal directions for scanning, and A spacer controlling device for controlling a scanning speed and a scanning position of the device, and a shielding device for shielding at least the substrate holding device, the nozzle device, and the scanning device. It is characterized by having a charge providing means for electrostatically charging the volatile dispersion supplied from the liquid supply means. Accordingly, it is possible to realize a spacer dispersing apparatus capable of reducing aggregation of the spacers and uniformly dispersing the spacers and having a short tact time.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明にかかるスペーサ散
布装置を添付図面を参照にして詳細に説明する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view showing a spacer dispersing apparatus according to the present invention.

【0009】本発明は、液晶表示素子の基板間間隔を一
定に保つためのスペーサを散布する装置であり、ヒータ
等の熱源を用いることなく、散布ノズルと基板間の距離
を近付けることが可能な、極微小吐出と低風量散布が可
能な、ノズルをXY方向に走査させてスペーサ分散液を
局所的に散布していくスペーサ散布装置に関するもので
ある。散布の際にスペーサ分散液に電荷を与えて帯電さ
せることで、ギャップ材であるスペーサ同士に電気的反
発力を発生させて、凝集を低減させることを目的として
いる。また、スペーサの飛散をより低減して、装置のメ
ンテナンス性を向上し、複数の散布ノイズを効果的に移
動制御することで、タクト時間の短縮を図ったスペーサ
散布装置を提供することを目的としている。また、本発
明は、散布ノズルもしくは基板保持手段を、任意の速度
で任意の走査位置にXY走査を可能にすることにより、
スペーサを任意の密度で、均一に散布することを可能に
している。また、任意の面積の散布が可能であり、基板
サイズに応じた効率のよい散布を実現することを目的と
している。
The present invention is an apparatus for dispersing spacers for keeping the distance between substrates of a liquid crystal display element constant. The distance between the dispersing nozzle and the substrate can be reduced without using a heat source such as a heater. More particularly, the present invention relates to a spacer spraying apparatus capable of spraying a nozzle in the X and Y directions and spraying a spacer dispersion locally, which is capable of extremely minute discharge and low air volume spraying. An object of the present invention is to reduce the agglomeration by giving an electric charge to the spacer dispersion liquid at the time of spraying to generate an electric repulsive force between the spacers as gap materials. Another object of the present invention is to provide a spacer dispersing apparatus which reduces the scattering of spacers, improves maintainability of the apparatus, and effectively controls movement of a plurality of dispersing noises, thereby shortening the tact time. I have. In addition, the present invention enables the spray nozzle or the substrate holding means to perform XY scanning at an arbitrary scanning position at an arbitrary speed,
The spacers can be uniformly dispersed at an arbitrary density. It is also an object of the present invention to be able to spray an arbitrary area and to achieve efficient spraying according to the substrate size.

【0010】図1は、本発明のスペーサ散布装置の基本
構成を示す平面図、図2は、その側面断面図である。図
1および図2において、液晶表示装置用の基板1は基板
保持手段2上に置かれている。保持に際しては、必要に
応じて、吸着押え機構や基板1の位置決め機構を設ける
ようにする。基板1の上方には散布ノズル10が配置さ
れており、アルコールなどの揮発性溶液にスペーサを所
定の割合で混合した分散液12をポンプなどの液供給手
段11を用いて散布ノズル10に供給し、圧縮ガス供給
手段13により供給された圧縮ガスでスペーサ分散液1
2を霧状に吐出する。このスペーサ散布は、密閉構造の
散布用ブース3内で行われる。
FIG. 1 is a plan view showing a basic structure of a spacer spraying apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a side sectional view thereof. 1 and 2, a substrate 1 for a liquid crystal display device is placed on a substrate holding means 2. At the time of holding, a suction holding mechanism and a positioning mechanism of the substrate 1 are provided as necessary. A spray nozzle 10 is disposed above the substrate 1, and a dispersion liquid 12 in which a spacer is mixed with a volatile solution such as alcohol at a predetermined ratio is supplied to the spray nozzle 10 using a liquid supply unit 11 such as a pump. The compressed gas supplied by the compressed gas supply means 13 is used for the spacer dispersion 1.
2 is discharged in the form of a mist. The spacers are sprayed in a spray booth 3 having a closed structure.

【0011】散布ノズル10はX軸移動機構20とY軸
移動機構21とにより、基板の上方で直交する2軸の方
向に移動可能に構成されている。その移動範囲は、基板
1のスペーサが存在する必要のある範囲をすべてカバー
している。さらに、X軸移動機構20とY軸移動機構2
1とは、制御手段22によって、その位置およびその移
動速度が制御されており、散布ノズル10は移動範囲内
の任意の位置に任意の速度で移動することが可能であ
る。スペーサを散布する時は、散布ノズル10はスペー
サ分散液12を霧状に吐出しながら、基板1上を走査さ
れる。
The spray nozzle 10 is configured to be movable in two orthogonal directions above the substrate by an X-axis moving mechanism 20 and a Y-axis moving mechanism 21. The moving range covers the entire range where the spacer of the substrate 1 needs to exist. Further, the X-axis moving mechanism 20 and the Y-axis moving mechanism 2
1 means that the position and the moving speed are controlled by the control means 22, and the spraying nozzle 10 can move to an arbitrary position within the moving range at an arbitrary speed. When spraying the spacers, the spray nozzle 10 is scanned over the substrate 1 while discharging the spacer dispersion liquid 12 in the form of mist.

【0012】図3は、本発明のスペーサ散布装置の一実
施の形態の基本構成を示す平面図、図4は、その側面断
面図である。この実施の形態では、図1および図2の基
本構成に加えて、さらに、電荷付与手段15を付加し
て、スペーサ分散液12を同一の静電極性に帯電させ
る。この電荷付与手段15としては、コロナ帯電を用い
たものが一般的である。同一極性に帯電されたスペーサ
は近接位置に配置された場合、電気的な反発力を生じる
ために相互に離れて存在するようになる。これにより、
凝集を低減する効果が得られる。
FIG. 3 is a plan view showing a basic configuration of an embodiment of the spacer spraying apparatus according to the present invention, and FIG. 4 is a side sectional view thereof. In this embodiment, in addition to the basic structure of FIGS. 1 and 2, a charge applying means 15 is further added to charge the spacer dispersion liquid 12 to the same electrostatic polarity. As the charge applying means 15, a means using corona charging is generally used. When spacers charged to the same polarity are arranged in a close position, they are separated from each other to generate an electric repulsion. This allows
The effect of reducing aggregation is obtained.

【0013】ただし、従来技術の粉体の散布で述べたよ
うに、基板1とスペーサとの間に電気的に引き合うよう
な帯電が生じると、電位差の面内均一化が困難なPF基
板などの場合、スペーサ分布にかえって偏りが生じてし
まう。したがって、スペーサ同士に反発力を生じ、か
つ、スペーサと基板1との間には吸引力が生じないよう
な帯電分布が生まれるようにする必要がある。さらに、
スペーサの材質によっては、その帯電効果が変わってく
るために、その帯電量を調整する方法が必要になる。図
3および図4の符号16はこのための電荷調整手段であ
り、電荷付与量すなわちスペーサの帯電量を適性に設定
することが可能である。散布ノズル10と基板1間の距
離や、走査速度などの散布条件にもよるが、−20kV
〜−30kV程度の印加電圧で、スペーサ分散液12を
負帯電させることによって、凝集の発生を低減すること
が可能である。
However, as described in the prior art powder dispersal, if a charge is generated between the substrate 1 and the spacers so as to be electrically attracted, it is difficult to make the potential difference in-plane uniform in the PF substrate or the like. In this case, a bias is generated instead of the spacer distribution. Therefore, it is necessary to generate a repulsive force between the spacers and to generate a charge distribution between the spacers and the substrate 1 such that no attraction force is generated. further,
Depending on the material of the spacer, the charging effect changes, so a method of adjusting the charging amount is required. Reference numeral 16 in FIGS. 3 and 4 denotes a charge adjusting means for this purpose, and it is possible to appropriately set the charge application amount, that is, the charge amount of the spacer. Although it depends on the spraying conditions such as the distance between the spray nozzle 10 and the substrate 1 and the scanning speed, -20 kV
By negatively charging the spacer dispersion liquid 12 with an applied voltage of about -30 kV, it is possible to reduce the occurrence of aggregation.

【0014】図5に帯電による凝集発生の低減効果を示
す。ここで、縦軸の単独率は、単位面積当たりの凝集し
ていないスペーサの存在の比率を示し、横軸はスペーサ
の散布密度すなわち1mm2 あたりのスペーサの散布個
数を示す。この図から分かるように、帯電を行うことに
よって単独率で10%〜25%程度の改善が見られてい
る。
FIG. 5 shows the effect of reducing the occurrence of aggregation due to charging. Here, the singular rate on the vertical axis indicates the ratio of non-aggregated spacers per unit area, and the horizontal axis indicates the density of spacers, that is, the number of spacers scattered per 1 mm 2 . As can be seen from this figure, an improvement of about 10% to 25% in the single rate by charging is observed.

【0015】図6は、本発明のスペーサ散布装置の他の
実施の形態の基本構成を示す平面図、図7は、その側面
断面図である。散布ノズル10を固定し、X軸移動機構
23とY軸移動機構24とにより、基板保持手段2を走
査し、その上に保持された基板1を走査している。この
方法では、散布ノズル10が固定されているため、散布
ノズル10を走査していた図3および図4の場合に比し
て、基板1上にごみなどの異物が落ちることが少なく、
異物混入の防止が可能になる。
FIG. 6 is a plan view showing a basic configuration of another embodiment of the spacer spraying apparatus according to the present invention, and FIG. 7 is a side sectional view thereof. The spray nozzle 10 is fixed, and the X-axis moving mechanism 23 and the Y-axis moving mechanism 24 scan the substrate holding means 2 and scan the substrate 1 held thereon. In this method, since the spray nozzle 10 is fixed, foreign substances such as dust are less likely to fall on the substrate 1 than in the case of FIGS. 3 and 4 in which the spray nozzle 10 is scanned.
Foreign matter can be prevented from being mixed.

【0016】本発明のスペーサ散布装置によるスペーサ
散布は、散布が局所的で走査によって散布範囲を広げる
ようにしているため、走査の仕方によってスペーサ散布
分布が様々に異なることが考えられる。散布分布を最適
にすなわち均一にするための工夫について述べる。図8
は、スペーサ散布分布を模式的に示した図である。この
模式図では、基板1上の散布状況をY軸方向の1断面で
表している。図で、点線は、X軸方向の1回の走査で得
られるスペーサ散布分布を示しており、ピッチ(Y軸方
向の送り量)を変えた場合の基板1上のスペーサ散布分
布を太線で示している。
In the spacer spraying by the spacer spraying apparatus of the present invention, since the spraying is local and the spraying range is widened by scanning, it is conceivable that the spacer spraying distribution varies in various ways depending on the scanning method. A device for optimally setting the distribution of the scatter, that is, for making the distribution uniform, will be described. FIG.
FIG. 3 is a diagram schematically showing a spacer distribution. In this schematic diagram, the state of dispersion on the substrate 1 is represented by one section in the Y-axis direction. In the figure, the dotted line indicates the spacer distribution obtained by one scan in the X-axis direction, and the spacer distribution on the substrate 1 when the pitch (feed amount in the Y-axis direction) is changed is indicated by a thick line. ing.

【0017】図8(B)を理想状態とすると、図8
(A)はピッチ幅が短かすぎて中心部と両端部で分布差
が生じた場合であり、図8(C)はピッチ幅が長すぎて
散布むらを生じている場合である。ただし、図8(A)
の場合は、次に挙げるようにXY走査の方法を工夫する
ことで均一化が可能である。 1)中心部と両端部のX軸方向の走査速度を変え、端部
の速度を速く、中心部の速度を遅くする。 2)端部だけ走査数を増やすようにする。 3)中心部と両端部のピッチ(Y軸方向の送り量)を変
え、端部でピッチを短く、中心部で長くする。
If FIG. 8B is an ideal state, FIG.
FIG. 8A shows a case where the pitch width is too short, resulting in a distribution difference between the central portion and both ends, and FIG. 8C shows a case where the pitch width is too long, causing uneven distribution. However, FIG.
In the case of (1), uniformization is possible by devising an XY scanning method as described below. 1) The scanning speed in the X-axis direction at the center and both ends is changed to increase the speed at the end and decrease the speed at the center. 2) Increase the number of scans only at the end. 3) The pitch (feed amount in the Y-axis direction) between the center and both ends is changed, and the pitch is shortened at the end and longer at the center.

【0018】以上のように、散布ノズル10の散布特性
に合わせて、最適な条件を設定することで、かなりまで
均一にスペーサを分布させることが可能になる。当然の
ことながら、散布ノズル10は任意の位置に任意の速度
で移動することが可能であるので、スペーサの散布量す
なわち基板1上のスペーサの散布密度を所望の条件で行
うことができる。また、スペーサ分散液12の濃度や散
布ノズル10の吐出量、圧縮ガスの供給圧などの条件を
必要に応じて変えることによって、散布量や散布時間は
かなりの広範囲で調整可能になる。
As described above, by setting the optimum conditions in accordance with the spraying characteristics of the spraying nozzle 10, it is possible to distribute the spacers to a considerable extent. As a matter of course, since the spray nozzle 10 can move to an arbitrary position at an arbitrary speed, the spray amount of the spacer, that is, the spray density of the spacer on the substrate 1 can be performed under a desired condition. Also, by changing conditions such as the concentration of the spacer dispersion liquid 12, the discharge amount of the spray nozzle 10, and the supply pressure of the compressed gas as needed, the spray amount and the spray time can be adjusted in a considerably wide range.

【0019】本発明のスペーサ散布装置の散布ノズル1
0の散布動作を図9〜図12に沿って説明する。図9
は、散布ノズル10が1個の場合の散布動作を示し、こ
の図のように基板上を走査して散布を行う。散布ノズル
10が複数の場合、その分だけ散布時間を短縮すること
が可能になる。例えば、2つの散布ノズル10a、10
bを図10のように配置して、基板1の半分づつのエリ
アを各々の散布ノズル10a、10bで走査し散布する
ことにより、それぞれの散布ノズル10a、10bの走
査の移動距離は1/2で済むため、散布時間も1/2で
済む。
Spray nozzle 1 of spacer spray apparatus of the present invention
The spraying operation of 0 will be described with reference to FIGS. FIG.
Shows a spraying operation when the number of the spraying nozzles 10 is one, and the spraying is performed by scanning over the substrate as shown in FIG. When there are a plurality of spray nozzles 10, the spray time can be shortened accordingly. For example, two spray nozzles 10a, 10
b is arranged as shown in FIG. 10 and half the area of the substrate 1 is scanned and sprayed by each of the spray nozzles 10a and 10b, so that the moving distance of the scan of each of the spray nozzles 10a and 10b is 1 /. And the spraying time can be halved.

【0020】また、図11のように配置して、散布速度
を2倍にして散布時間を1/2にすることも可能であ
り、図12のように配置して散布ノズル10a、10b
のそれぞれの走査の移動距離を1/2として、散布時間
を1/2することもできる。とくに図11のような配置
で散布を行う場合は、2つの散布ノズル10a、10b
の走査の道筋がまったく同じであるために、仮に散布ノ
ズル10aと散布ノズル10bとの間に吐出量のばらつ
きなどの特性の差異があったとしても、基板1に散布さ
れるスペーサ分布の上にその影響が表れることがない。
The spraying speed can be doubled and the spraying time can be halved by arranging as shown in FIG. 11, and the spraying nozzles 10a and 10b can be arranged as shown in FIG.
And the spraying time can be halved by reducing the moving distance of each scan to の. In particular, when spraying is performed in the arrangement shown in FIG. 11, two spray nozzles 10a and 10b
Is exactly the same, even if there is a difference in characteristics such as a variation in the discharge amount between the spray nozzle 10a and the spray nozzle 10b, the distribution of the spacers spread on the substrate 1 The effect does not appear.

【0021】本発明のスペーサ散布装置の他の実施の形
態の構成を図13に示す。この実施の形態においては、
基板1、基板保持手段2、散布ノズル10および散布ノ
ズル10または基板保持手段2の移動手段を一体とし
て、任意の角度に傾斜させることができる傾斜手段30
を設けている。この傾斜手段30で傾斜を持たすこと
で、特定の角度以上に傾けることによって、散布ノズル
10が基板1の真上に来ないようにすることができ、こ
のような状態で、スペーサの散布を行う。これによっ
て、例え、散布ノズル10に付着したごみなどの異物が
散布中に落下することがあっても、基板1上に降り積も
ることがなく、これにより、基板1への異物混入を防止
することができる。極端な場合は、図14のように基板
1の下方に散布ノズル10を配置されるように傾斜、回
転させて、上に向けて散布を行えば、基板1への異物混
入を防止する効果は最も大きくなる。
FIG. 13 shows the configuration of another embodiment of the spacer spraying apparatus of the present invention. In this embodiment,
The substrate 1, the substrate holding means 2, the spraying nozzle 10, and the moving means of the spraying nozzle 10 or the substrate holding means 2 can be integrally tilted at an arbitrary angle.
Is provided. By providing an inclination by the inclination means 30, the spray nozzle 10 can be prevented from coming directly above the substrate 1 by inclining it to a specific angle or more. In such a state, the spacers are sprayed. . Accordingly, even if foreign matter such as dust attached to the spray nozzle 10 falls during spraying, the foreign matter does not fall on the substrate 1, thereby preventing foreign matter from entering the substrate 1. it can. In an extreme case, if the spray nozzle 10 is tilted and rotated so as to be disposed below the substrate 1 as shown in FIG. 14 and sprayed upward, the effect of preventing foreign matter from entering the substrate 1 is reduced. The largest.

【0022】本発明のスペーサ散布装置の他の実施の形
態の構成を図15に示す。この実施の形態の構成では、
圧縮ガス供給手段13により供給される圧縮ガスを暖め
る圧縮ガス加熱手段14を設け、圧縮ガスが圧縮ガス加
熱手段14を通過することで暖められ、通常よりも高温
の状態で供給される。これにより、散布ノズル10から
スペーサ分散液12を霧化して吐出したときに、スペー
サ分散液12の溶媒であるアルコールなどの揮発性溶液
をより早く蒸発させることができる。これによって、基
板1と散布ノズル10との間の距離をより短縮すること
ができるため、散布されたスペーサの付着効率を増大す
ることができ、散布効率を向上することができる。散布
効率が向上すれば、当然ながら、散布ノズル10の走査
移動速度を上げて、散布時間の短縮を図ることが可能に
なる。
FIG. 15 shows the configuration of another embodiment of the spacer spraying apparatus according to the present invention. In the configuration of this embodiment,
A compressed gas heating means 14 for warming the compressed gas supplied by the compressed gas supply means 13 is provided. The compressed gas is heated by passing through the compressed gas heating means 14 and is supplied at a higher temperature than usual. Thereby, when the spacer dispersion liquid 12 is atomized and discharged from the spray nozzle 10, the volatile solution such as alcohol, which is the solvent of the spacer dispersion liquid 12, can be evaporated more quickly. Thus, the distance between the substrate 1 and the spray nozzle 10 can be further reduced, so that the adhesion efficiency of the sprayed spacers can be increased, and the spray efficiency can be improved. If the spraying efficiency is improved, it is naturally possible to increase the scanning movement speed of the spraying nozzle 10 and shorten the spraying time.

【0023】本発明のスペーサ散布装置の他の実施の形
態の構成を図16に示す。この実施の形態の構成では、
散布用ブース3の任意の位置からエアを送る送風手段4
0を設け、さらに散布用ブース3の下方に排気手段41
を設けた。送風手段40は必ずしも散布用ブース3の真
上にある必要はなく、上方からエアの送流が可能であれ
ば良い。散布ノズル10として、スプレー式のガンを使
用する限り、スペーサの飛散をまったくない状態にする
ことは不可能である。飛散したスペーサは散布用ブース
3内の構成物に付着するため、散布を繰り返していれ
ば、いずれは付着物が剥がれ落ちて、スペーサの塊とし
て基板1に混入する危険性がある。したがって、一定頻
度で清掃を行うなどのメンテナンスが必要である。
FIG. 16 shows the configuration of another embodiment of the spacer spraying apparatus of the present invention. In the configuration of this embodiment,
Blowing means 4 for sending air from any position of spray booth 3
0, and the exhaust means 41 is provided below the spray booth 3.
Was provided. The blowing means 40 does not necessarily need to be directly above the spray booth 3, but may be any as long as air can be blown from above. As long as a spray gun is used as the spray nozzle 10, it is impossible to prevent the spacers from scattering at all. Since the scattered spacers adhere to the components in the spray booth 3, if the spraying is repeated, there is a risk that the adhered materials will eventually come off and be mixed into the substrate 1 as a lump of spacers. Therefore, maintenance such as cleaning at a constant frequency is required.

【0024】この実施の形態では、一定量の送風により
図16に矢印で示したような送流を起して、飛散して浮
遊しているスペーサを強制的に排気し、スペーサ分散液
12の飛散による散布用ブース3内の構成物への付着を
低減している。さらに、スペーサの浮遊自体を抑えるこ
とになるため、散布効率の向上も期待できる。ただし、
送風量は適度な状態にあることが必要で、送風量が大き
すぎると、飛散したものばかりでなく、散布ノズル10
で霧化された直後のスペーサが排気手段41に引っ張ら
れて、逆に散布効率を低下させる虞がある。
In this embodiment, a fixed amount of air blows to generate a flow as shown by an arrow in FIG. 16 to forcibly evacuate the scattered and floating spacers. Adhesion to components in the spray booth 3 due to scattering is reduced. Furthermore, since the floating of the spacer itself is suppressed, improvement in the spraying efficiency can be expected. However,
It is necessary that the air volume is in an appropriate state. If the air volume is too large, not only the scattered air but also the spray nozzle 10
There is a possibility that the spacer immediately after atomization is pulled by the exhaust means 41 and conversely lowers the spraying efficiency.

【0025】本発明のスペーサ散布装置のさらに他の実
施の形態の構成を図17に示す。図17に示すように、
例えば、基板1の左右端部のスペーサ散布密度を減少さ
せたいときには、基板保持手段2のその部分に樹脂等の
絶縁部材50を配置する。この絶縁部材50は、散布時
に帯電されるスペーサと同一の静電極性を持ち、基板保
持手段2とは電気的に絶縁状態にあるものとする。この
時、基板保持手段2と絶縁部材50とは電位差を生じて
おり、この状態でスペーサを散布した時には、帯電され
たスペーサは同一極性を持った絶縁部材50に対して静
電気的に反発してその部分の散布密度を減少させる。
FIG. 17 shows the structure of still another embodiment of the spacer spraying apparatus of the present invention. As shown in FIG.
For example, when it is desired to reduce the spacer distribution density at the left and right end portions of the substrate 1, an insulating member 50 such as a resin is disposed at that portion of the substrate holding means 2. It is assumed that the insulating member 50 has the same electrostatic polarity as the spacer charged during spraying and is electrically insulated from the substrate holding means 2. At this time, a potential difference is generated between the substrate holding means 2 and the insulating member 50, and when the spacers are sprayed in this state, the charged spacers electrostatically repel the insulating members 50 having the same polarity. Reduce the application density of that part.

【0026】本発明のスペーサ散布装置のさらに他の実
施の形態の構成を図18に示す。この構成では、絶縁部
材50とこの絶縁部材50の帯電を制御する帯電手段5
1とを持っていて、この帯電手段51で絶縁部材50の
対電極性とその帯電量を調整することが可能である。こ
れにより、例えば基板1の左右端部のスペーサ散布量を
減らしたいときには、絶縁部材50をスペーサと同極性
に、逆に増やしたいときには異極性に帯電させるといっ
た具合に、散布密度を任意に調整することが可能であ
る。図17や図18に示した実施の形態の構成は、基板
1の搬送のためのハンドリング位置にスペーサを存在さ
せたくないような場合など、基板1内で選択的に散布量
を調整したい用途に用いて有効である。
FIG. 18 shows the structure of still another embodiment of the spacer spraying apparatus of the present invention. In this configuration, the insulating member 50 and the charging means 5 for controlling the charging of the insulating member 50 are provided.
The charging means 51 can adjust the counter electrode property of the insulating member 50 and the charge amount thereof. Thereby, for example, when it is desired to reduce the amount of spacers to be sprayed on the left and right ends of the substrate 1, the insulating member 50 is charged to the same polarity as the spacers, and when it is desired to increase the spacers, the spraying density is arbitrarily adjusted. It is possible. The configuration of the embodiment shown in FIG. 17 or FIG. 18 is suitable for applications where it is desired to selectively adjust the spraying amount within the substrate 1, such as when it is not desired to have a spacer at the handling position for transporting the substrate 1. It is effective to use.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように本発明の請求項1の
発明は、スペーサ散布対象の基板を保持する基板保持手
段と、スペーサを分散させた揮発性の分散液を供給する
分散液供給手段と、この分散液供給手段から供給される
揮発性分散液を霧状に散布するノズル手段と、ノズル手
段または基板保持手段を直交2軸方向に移動させて走査
する走査手段と、走査手段の走査速度および走査位置を
制御する走査制御手段と、少なくとも基板保持手段とノ
ズル手段と走査手段とを内部に収納して遮蔽する遮蔽手
段とを具備するスペーサ散布装置において、分散液供給
手段から供給される揮発性分散液を静電的に帯電させる
電荷付与手段を有することを特徴とする。これにより、
散布の際にスペーサ分散液を帯電させ、スペーサ相互の
反発力を利用して、スペーサの凝集を低減し、スペーサ
散布の分散性、均一性を向上させることを可能にするこ
とができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, there is provided a substrate holding means for holding a substrate on which spacers are to be dispersed, and a dispersion liquid supply means for supplying a volatile dispersion liquid in which spacers are dispersed. Nozzle means for spraying the volatile dispersion supplied from the dispersion supply means in the form of a mist, scanning means for moving the nozzle means or the substrate holding means in two orthogonal directions for scanning, and scanning by the scanning means In a spacer dispersing apparatus having a scanning control unit for controlling a speed and a scanning position, and a shielding unit for accommodating and shielding at least a substrate holding unit, a nozzle unit, and a scanning unit, supplied from a dispersion liquid supplying unit. It is characterized by having charge applying means for electrostatically charging the volatile dispersion. This allows
It is possible to charge the spacer dispersion liquid at the time of spraying, to reduce the aggregation of the spacers by utilizing the repulsive force of the spacers, and to improve the dispersibility and uniformity of the spacer spraying.

【0028】本発明の請求項2の発明は、電荷付与手段
による揮発性分散液の帯電電荷量を制御する電荷量制御
手段を有し、電荷量制御手段はスペーサ散布対象の基板
とノズル手段との相対位置関係に応じて電荷量を制御す
ることを特徴とする。これにより、スペーサ分散液の帯
電量を調整して、スペーサの凝集性や散布効率を制御
し、所望の散布条件を得ることができる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a charge amount control means for controlling the amount of charge of the volatile dispersion by the charge applying means, wherein the charge amount control means comprises a substrate to which spacers are to be sprayed, a nozzle means, The amount of charge is controlled in accordance with the relative positional relationship of. This makes it possible to adjust the charge amount of the spacer dispersion, control the cohesiveness of the spacer and the spraying efficiency, and obtain a desired spraying condition.

【0029】本発明の請求項3の発明は、走査制御手段
はノズル手段の散布特性を考慮して走査手段の走査速度
および走査位置を制御することを特徴とする。これによ
り、ノズル手段の散布特性を基に最適な走査条件を決定
して、スペーサ散布の均一性を向上することできる。
According to a third aspect of the present invention, the scanning control means controls the scanning speed and the scanning position of the scanning means in consideration of the spraying characteristics of the nozzle means. This makes it possible to determine optimum scanning conditions based on the spraying characteristics of the nozzle means, and to improve the uniformity of spacer spraying.

【0030】本発明の請求項4の発明は、複数のノズル
手段を有し、走査制御手段は走査手段を介して複数のノ
ズル手段の相対位置関係を制御することを特徴とする。
これにより、ノズルの個数とその相対位置関係を設定す
ることにより、所望のスペーサ散布密度と、タクト時間
を得ることができる。
The invention according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that the apparatus has a plurality of nozzle means, and the scanning control means controls the relative positional relationship of the plurality of nozzle means via the scanning means.
Thus, by setting the number of nozzles and their relative positional relationship, it is possible to obtain a desired spacer distribution density and a tact time.

【0031】本発明の請求項5の発明は、すくなくとも
基板保持手段とノズル手段と走査手段とを一体に構成
し、この一体化された基板保持手段とノズル手段と走査
手段とを任意の角度に傾斜させる傾斜手段を有すること
を特徴とする。これにより、基板の上方にノズルが来な
いように配置し、基板のサイズおよび基板とノズルとの
距離に応じて傾斜角度を設定することで、ノズル周辺で
発生するごみなどの異物の混入を防止することができ、
製造品質を安定化することができる。
According to a fifth aspect of the present invention, at least the substrate holding means, the nozzle means, and the scanning means are integrally formed, and the integrated substrate holding means, the nozzle means, and the scanning means are formed at an arbitrary angle. It is characterized by having a tilting means for tilting. This prevents the nozzle from coming above the substrate and sets the angle of inclination according to the size of the substrate and the distance between the substrate and the nozzle, thereby preventing foreign matter such as dust generated around the nozzle from being mixed. Can be
Manufacturing quality can be stabilized.

【0032】本発明の請求項6の発明は、揮発性分散液
を霧状に散布するためにノズル手段に供給される圧縮ガ
スを加熱するガス加熱手段を有することを特徴とする。
これにより、揮発性溶液の蒸発を促進することができ、
ノズルと基板間の距離を短縮することが可能になり、散
布効率の向上とタクト時間の短縮を図ることができる。
The invention of claim 6 of the present invention is characterized in that it has a gas heating means for heating the compressed gas supplied to the nozzle means in order to spray the volatile dispersion in the form of a mist.
This can promote evaporation of the volatile solution,
The distance between the nozzle and the substrate can be shortened, so that the spraying efficiency can be improved and the tact time can be shortened.

【0033】本発明の請求項7の発明は、遮蔽手段の任
意の位置から風を送風する手段と、基板保持手段の下方
から排気する排気手段とを有することを特徴とする。こ
れにより、スペーサの撒き散らしを低減するすることが
でき、メンテナンスを容易にすると共に散布効率の向上
が可能である。
The invention according to claim 7 of the present invention is characterized in that it has a means for blowing air from an arbitrary position of the shielding means and an exhaust means for exhausting from below the substrate holding means. Thereby, the scattering of the spacers can be reduced, and the maintenance can be facilitated and the spraying efficiency can be improved.

【0034】本発明の請求項8の発明は、基板保持手段
の周辺の所望の位置に設けられ電気的に絶縁された絶縁
部材を有し、この絶縁部材を基板保持手段とは異なる電
位に帯電させることを特徴とする。
According to a further aspect of the present invention, there is provided an insulating member provided at a desired position around the substrate holding means and electrically insulated, and the insulating member is charged to a potential different from that of the substrate holding means. It is characterized by making it.

【0035】本発明の請求項9の発明は、絶縁部材を電
荷付与手段による揮発性分散液の帯電電荷と同一極性ま
たは異極性に帯電させる絶縁部材帯電制御手段を有する
ことを特徴とする。これらにより、選択的にスペーサの
散布密度を変えることが可能になる。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an insulating member charging control means for charging the insulating member to the same polarity or a different polarity as the charge of the volatile dispersion by the charge applying means. These make it possible to selectively change the distribution density of the spacers.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のスペーサ散布装置の基本構成を示す平
面図。
FIG. 1 is a plan view showing a basic configuration of a spacer spraying device of the present invention.

【図2】本発明のスペーサ散布装置の基本構成を示す側
面断面図。
FIG. 2 is a side sectional view showing a basic configuration of the spacer spraying device of the present invention.

【図3】本発明のスペーサ散布装置の一実施の形態の基
本構成を示す平面図。
FIG. 3 is a plan view showing a basic configuration of one embodiment of the spacer spraying device of the present invention.

【図4】図3の実施の形態の基本構成を示す側面断面
図。
FIG. 4 is a side sectional view showing a basic configuration of the embodiment of FIG. 3;

【図5】スペーサ帯電による凝集発生の低減効果を示す
図。
FIG. 5 is a diagram showing the effect of reducing the occurrence of aggregation due to spacer charging.

【図6】本発明のスペーサ散布装置の他の実施の形態の
基本構成を示す平面図。
FIG. 6 is a plan view showing a basic configuration of another embodiment of the spacer spraying device of the present invention.

【図7】図6の実施の形態の基本構成を示す側面断面
図。
FIG. 7 is a side sectional view showing a basic configuration of the embodiment of FIG. 6;

【図8】スペーサ散布分布を模式的に示した模式図。FIG. 8 is a schematic diagram schematically showing the distribution of spacers.

【図9】本発明のスペーサ散布装置の散布ノズルの散布
動作を示す図。
FIG. 9 is a view showing a spraying operation of a spray nozzle of the spacer spraying device of the present invention.

【図10】本発明のスペーサ散布装置の散布ノズルの散
布動作を示す図。
FIG. 10 is a view showing a spraying operation of a spray nozzle of the spacer spraying device of the present invention.

【図11】本発明のスペーサ散布装置の散布ノズルの散
布動作を示す図。
FIG. 11 is a view showing a spraying operation of a spray nozzle of the spacer spraying device of the present invention.

【図12】本発明のスペーサ散布装置の散布ノズルの散
布動作を示す図。
FIG. 12 is a view showing a spraying operation of a spray nozzle of the spacer spraying device of the present invention.

【図13】本発明のスペーサ散布装置の他の実施の形態
の構成を示す図。
FIG. 13 is a diagram showing a configuration of another embodiment of the spacer spraying device of the present invention.

【図14】図13の実施の形態の動作の一例を示す図。FIG. 14 is a view showing an example of the operation of the embodiment in FIG. 13;

【図15】本発明のスペーサ散布装置の他の実施の形態
の構成を示す側面断面図。
FIG. 15 is a side sectional view showing the configuration of another embodiment of the spacer spraying apparatus of the present invention.

【図16】本発明のスペーサ散布装置の他の実施の形態
の構成を示す側面断面図。
FIG. 16 is a side sectional view showing the configuration of another embodiment of the spacer spraying apparatus of the present invention.

【図17】本発明のスペーサ散布装置の他の実施の形態
の構成を示す平面図。
FIG. 17 is a plan view showing a configuration of another embodiment of the spacer spraying apparatus of the present invention.

【図18】本発明のスペーサ散布装置の他の実施の形態
の構成を示す平面図。
FIG. 18 is a plan view showing the configuration of another embodiment of the spacer spraying device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶表示素子用基板 2 基板保持手段 3 散布用ブース 10、10a、10b 散布ノズル 11 スペーサ分散液供給手段 12 スペーサ分散液 13 圧縮ガス供給手段 14 圧縮ガス加熱手段 15 電荷付与手段 16 電荷制御手段 20 X軸移動機構(ノズル移動用) 21 Y軸移動機構(ノズル移動用) 22 移動機構制御手段 23 X軸移動機構(基板移動用) 24 Y軸移動機構(基板移動用) 30 傾斜手段 40 送風手段 41 排気手段 50 絶縁部材 51 絶縁部材帯電手段 REFERENCE SIGNS LIST 1 liquid crystal display element substrate 2 substrate holding means 3 spray booth 10, 10 a, 10 b spray nozzle 11 spacer dispersion liquid supply means 12 spacer dispersion liquid 13 compressed gas supply means 14 compressed gas heating means 15 charge application means 16 charge control means 20 X-axis moving mechanism (for moving nozzle) 21 Y-axis moving mechanism (for moving nozzle) 22 Moving mechanism control means 23 X-axis moving mechanism (for moving substrate) 24 Y-axis moving mechanism (for moving substrate) 30 Tilt means 40 Blowing means 41 exhaust means 50 insulating member 51 insulating member charging means

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スペーサ散布対象の基板を保持する基板
保持手段と、 スペーサを分散させた揮発性の分散液を供給する分散液
供給手段と、 前記分散液供給手段から供給される揮発性分散液を霧状
に散布するノズル手段と、 前記ノズル手段または前記基板保持手段を直交2軸方向
に移動させて走査する走査手段と、 前記走査手段の走査速度および走査位置を制御する走査
制御手段と、 少なくとも前記基板保持手段と前記ノズル手段と前記走
査手段とを内部に収納して遮蔽する遮蔽手段とを具備す
るスペーサ散布装置において、 前記分散液供給手段から供給される揮発性分散液を静電
的に帯電させる電荷付与手段を有することを特徴とする
スペーサ散布装置。
1. A substrate holding means for holding a substrate on which spacers are to be dispersed, a dispersion liquid supply means for supplying a volatile dispersion liquid in which spacers are dispersed, and a volatile dispersion liquid supplied from the dispersion liquid supply means Nozzle means for spraying the liquid in the form of a mist, scanning means for moving the nozzle means or the substrate holding means in two orthogonal directions for scanning, scanning control means for controlling a scanning speed and a scanning position of the scanning means, In a spacer dispersing apparatus including at least the substrate holding unit, the nozzle unit, and the scanning unit, and a shielding unit that accommodates and shields the inside, the volatile dispersion liquid supplied from the dispersion liquid supply unit is electrostatically charged. A spacer dispersing device comprising a charge applying means for charging the spacer.
【請求項2】 前記電荷付与手段による前記揮発性分散
液の帯電電荷量を制御する電荷量制御手段を有し、 前記電荷量制御手段は前記スペーサ散布対象の基板と前
記ノズル手段との相対位置関係に応じて電荷量を制御す
ることを特徴とする請求項1に記載のスペーサ散布装
置。
2. The method according to claim 1, further comprising a charge control unit configured to control a charge amount of the volatile dispersion by the charge providing unit, wherein the charge control unit controls a relative position between the substrate on which the spacer is to be sprayed and the nozzle unit. The spacer dispersing device according to claim 1, wherein the amount of charge is controlled according to the relationship.
【請求項3】 前記走査制御手段は前記ノズル手段の散
布特性を考慮して前記走査手段の走査速度および走査位
置を制御することを特徴とする請求項1に記載のスペー
サ散布装置。
3. The spacer spraying apparatus according to claim 1, wherein said scanning control means controls a scanning speed and a scanning position of said scanning means in consideration of spraying characteristics of said nozzle means.
【請求項4】 複数の前記ノズル手段を有し、前記走査
制御手段は前記走査手段を介して前記複数のノズル手段
の相対位置関係を制御することを特徴とする請求項1に
記載のスペーサ散布装置。
4. The spacer scatterer according to claim 1, further comprising a plurality of said nozzle means, wherein said scanning control means controls a relative positional relationship between said plurality of nozzle means via said scanning means. apparatus.
【請求項5】 少なくとも前記基板保持手段と前記ノズ
ル手段と前記走査手段とを一体に構成し、この一体化さ
れた前記基板保持手段と前記ノズル手段と前記走査手段
とを任意の角度に傾斜させる傾斜手段を有することを特
徴とする請求項1に記載のスペーサ散布装置。
5. At least the substrate holding means, the nozzle means, and the scanning means are integrally formed, and the integrated substrate holding means, the nozzle means, and the scanning means are inclined at an arbitrary angle. The spacer spraying device according to claim 1, further comprising an inclination means.
【請求項6】 前記揮発性分散液を霧状に散布するため
に前記ノズル手段に供給される圧縮ガスを加熱するガス
加熱手段を有することを特徴とする請求項1に記載のス
ペーサ散布装置。
6. The spacer spraying apparatus according to claim 1, further comprising gas heating means for heating the compressed gas supplied to said nozzle means for spraying said volatile dispersion in a mist state.
【請求項7】 前記遮蔽手段の任意の位置から風を送風
する手段と、 前記基板保持手段の下方から排気する排気手段とを有す
ることを特徴とする請求項1に記載のスペーサ散布装
置。
7. The spacer spraying apparatus according to claim 1, further comprising: means for blowing air from an arbitrary position of the shielding means, and exhaust means for exhausting air from below the substrate holding means.
【請求項8】 前記基板保持手段の周辺の所望の位置に
設けられ電気的に絶縁された絶縁部材を有し、この絶縁
部材を前記基板保持手段とは異なる電位に帯電させるこ
とを特徴とする請求項1に記載のスペーサ散布装置。
8. An insulating member provided at a desired position around the substrate holding means and electrically insulated, and the insulating member is charged to a potential different from that of the substrate holding means. The spacer spraying device according to claim 1.
【請求項9】 前記絶縁部材を前記電荷付与手段による
前記揮発性分散液の帯電電荷と同一極性または異極性に
帯電させる絶縁部材帯電制御手段を有することを特徴と
する請求項8に記載のスペーサ散布装置。
9. The spacer according to claim 8, further comprising an insulating member charging control means for charging the insulating member to the same polarity or a different polarity as the charge of the volatile dispersion by the charge applying means. Spraying device.
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