JP2001028191A - Method for automatic erasing of non-volatile semiconductor memory - Google Patents

Method for automatic erasing of non-volatile semiconductor memory

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JP2001028191A
JP2001028191A JP19780399A JP19780399A JP2001028191A JP 2001028191 A JP2001028191 A JP 2001028191A JP 19780399 A JP19780399 A JP 19780399A JP 19780399 A JP19780399 A JP 19780399A JP 2001028191 A JP2001028191 A JP 2001028191A
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JP
Japan
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memory
erase
block
erasing
pulse width
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JP19780399A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunio Tani
国雄 谷
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a method for automatic erasing of a non-volatile semiconductor memory by which a processing time for automatic erasing can be shortened. SOLUTION: When a block memory array 4 performs automatic erasing processing of a non-volatile semiconductor memory divided into a plurality of memory blocks 41-45, write-in processing before erasing is performed for the plurality of memory blocks in parallel, setting of erasing pulse width used for automatic erasing processing is made variable, and the pulse width used finally is held in a memory block 45. When erasing processing is started with the pulse width used in the previous time and erasing pulse width becomes larger than that used in the previous time at the time of finish of erasing processing, the value is updated and held in the memory block 45.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、メモリセルとし
て不揮発性トランジスタを用いた不揮発性半導体メモリ
の自動消去方法に関し、特に、保持しているメモリデー
タの自動消去の処理時間を短縮することが可能な不揮発
性半導体メモリの自動消去方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for automatically erasing a non-volatile semiconductor memory using a non-volatile transistor as a memory cell, and in particular, it is possible to reduce a processing time for automatically erasing stored memory data. The present invention relates to a method for automatically erasing a nonvolatile semiconductor memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】図13はメモリセルとしてフローティン
グゲート構造を有する不揮発性トランジスタを使用し、
複数個のメモリセルアレイに分割されたブロックメモリ
アレイを有する、いわゆる不揮発性半導体メモリを自動
消去する処理の手順を示したフローチャートである。不
揮発性半導体メモリ(フラッシュメモリ)を自動消去す
る場合、まずステップST1においてコマンドを入力
し、自動消去のモードにエントリーする。このモードエ
ントリー後、ステップST2に移行して消去前書き込み
の処理を行う。この消去前書き込みの処理では、複数個
のメモリセルアレイに分割されたブロックメモリアレイ
の、全アドレス空間の最下位アドレスから再上位アドレ
スまでアドレスを順番にインクリメントしながら、シリ
アルに書き込みを行う。消去前書き込みの処理が終了す
ると、ステップST3に移行して消去の処理を実行す
る。この消去の処理においては、一定の時間的な長さ
(パルス幅)を持った消去パルスを使用して、ブロック
メモリアレイ全体もしくは選択されたメモリセルアレイ
の消去処理を行う。
2. Description of the Related Art FIG. 13 uses a nonvolatile transistor having a floating gate structure as a memory cell.
11 is a flowchart showing a procedure of a process for automatically erasing a so-called nonvolatile semiconductor memory having a block memory array divided into a plurality of memory cell arrays. When automatically erasing the nonvolatile semiconductor memory (flash memory), first, in step ST1, a command is input to enter an automatic erasing mode. After this mode entry, the process proceeds to step ST2 to perform a pre-erase write process. In the pre-erase write processing, serial write is performed while sequentially incrementing addresses from the lowest address to the highest address of the entire address space of the block memory array divided into a plurality of memory cell arrays. When the write-before-erase processing is completed, the process proceeds to step ST3 to execute erase processing. In this erasing process, the erasing process for the entire block memory array or the selected memory cell array is performed using an erasing pulse having a certain time length (pulse width).

【0003】この消去処理の終了後にステップST4に
移行して消去ベリファイの処理を行う。この消去ベリフ
ァイの処理においては、一定のベリファイ電圧をメモリ
セルのゲートに印加して読み出し処理を行う。なお、こ
の消去ベリファイの読み出し処理では、アドレスを最下
位アドレスから最上位アドレスまで順番にインクリメン
トしながら、ステップST3による消去処理が正常に行
われているか否かを確認する。消去ベリファイに失敗す
るとステップST5に移行して、再消去前処理を実行す
る。この再消去前処理では、再消去前処理回数のカウン
タ値をインクリメント(X=X+1)させ、カウント値
が最大値(X=512)に到達したか否かを確認する。
カウント値が最大値に到達すれば、消去エラー終了とし
てこの自動消去を終了する。
After completion of the erasing process, the process shifts to step ST4 to perform an erasing verify process. In the erase verify process, a read process is performed by applying a constant verify voltage to the gate of the memory cell. In the erase verify read process, it is checked whether the erase process in step ST3 is normally performed while incrementing the address in order from the lowest address to the highest address. If the erase verify fails, the process shifts to step ST5 to execute the pre-erase process. In the pre-re-erase process, the counter value of the number of pre-re-erase processes is incremented (X = X + 1), and it is confirmed whether or not the count value has reached the maximum value (X = 512).
When the count value reaches the maximum value, the automatic erasure is terminated as an erasure error end.

【0004】一方、消去エラー終了でない場合、すなわ
ちカウント値が最大値に到達していない場合には、ステ
ップST5の再消去前処理が終了すると、処理はステッ
プST3に戻されて再び消去の処理に移行する。消去の
処理では、前回と同一のパルス幅の消去パルスを使用し
て再び消去処理を行う。この消去処理の終了後、再びス
テップST4による消去ベリファイ処理に移行する。こ
れら消去(ステップST3)、消去ベリファイ(ステッ
プST4)、再消去前処理(ステップST5)では、ス
テップST4の消去ベリファイで最終アドレスに到達す
るか、ステップST5の再消去前処理で再消去前処理カ
ウンタのカウント値が最大値に到達するまでループ処理
を行う。
On the other hand, if the erasing error has not been completed, that is, if the count value has not reached the maximum value, when the re-erase pre-processing of step ST5 is completed, the process returns to step ST3, and the erasing process is performed again. Transition. In the erasing process, the erasing process is performed again using the erasing pulse having the same pulse width as the previous one. After the end of the erasing process, the process returns to the erasing verifying process in step ST4. In these erase (step ST3), erase verify (step ST4), and pre-re-erase processing (step ST5), the final address is reached by the erase verify in step ST4, or the pre-re-erase processing counter is executed in the re-erase pre-process in step ST5. Loop processing is performed until the count value of reaches the maximum value.

【0005】消去ベリファイ(ステップST4)の処理
で最終アドレスに到達すれば、次にステップST6に移
行して過消去ベリファイの処理を行う。この過消去ベリ
ファイ処理では、ブロックメモリアレイ内の全てのワー
ド線を非選択状態にして、メモリデータをセンスアンプ
で読み取り、ベリファイ処理を行う。この過消去ベリフ
ァイ処理でフェイル(エラー)となれば、過消去エラー
終了としてこの自動消去を終了する。また、過消去ベリ
ファイ処理でパスした場合には、正常終了としてこの自
動消去を終了する。
If the last address is reached in the erase verify (step ST4) process, the process proceeds to step ST6 to perform over-erase verify process. In this over-erase verify process, all the word lines in the block memory array are deselected, the memory data is read by the sense amplifier, and the verify process is performed. If a fail (error) occurs in the over-erase verify process, the over-erase error is terminated and the automatic erasure is terminated. If the over-erase verify process passes, the automatic erasure is terminated as normal termination.

【0006】このように従来の不揮発性半導体メモリの
自動消去方法では、自動消去中の消去前書き込みの処理
においては、複数個のメモリセルアレイに分割された不
揮発性メモリのブロックメモリアレイを、最下位アドレ
スから最上位アドレスまで、アドレスを順番にインクリ
メントしながらシリアルに書き込みを行っている。この
ことは、自動消去時間の増大の原因となっている。
As described above, in the conventional automatic erasing method for the nonvolatile semiconductor memory, in the pre-erase write processing during the automatic erasing, the block memory array of the nonvolatile memory divided into a plurality of memory cell arrays is stored in the lowest order. From the address to the highest address, writing is performed serially while incrementing the address in order. This causes an increase in the automatic erasing time.

【0007】さらに、自動消去中の消去処理において
は、一定のパルス幅の消去パルスを使用しており、自動
消去の処理を複数回行っても常に消去パルス幅は一定で
ある。しかし、消去時間は不揮発性半導体メモリの書換
回数の増加とともに長くなるものであり、書換回数が増
えてくると、消去、消去ベリファイ、再消去前処理のル
ープ回数が多くなって自動消去時間が増大する原因とな
っている。
Further, in the erasing process during the automatic erasing, an erasing pulse having a constant pulse width is used, and the erasing pulse width is always constant even if the automatic erasing process is performed a plurality of times. However, the erasing time increases as the number of times of rewriting of the nonvolatile semiconductor memory increases, and as the number of times of rewriting increases, the number of loops of erasing, erasing verify, and pre-erasing increases, and the automatic erasing time increases. Is causing it.

【0008】なお、このような不揮発性半導体メモリの
消去前書き込みに関する記載のある文献としては、例え
ば特開平6−131890号公報、特開平8−1155
97号公報などがある。前者ではブロックメモリアレイ
が複数のメモリセルアレイに分割された不揮発性メモリ
の消去動作に際して、消去選択データ格納手段に格納さ
れた消去選択データに基づき、単一のメモリセルアレイ
毎に、または複数のメモリセルアレイ一括で消去を実行
することにより、自動消去時間の短縮をはかったもの
で、ブロックメモリアレイを複数分割した各メモリセル
アレイに並列に消去前書き込みを実施する動作に関する
記載はない。また後者では、消去パルスのバルス幅では
なく、消去パルス回数とフラッシュメモリに印加する電
圧情報を記憶保持している。
[0008] References which describe such pre-erase writing of a non-volatile semiconductor memory include, for example, JP-A-6-131890 and JP-A-8-1155.
No. 97 publication. In the former, in the erase operation of the nonvolatile memory in which the block memory array is divided into a plurality of memory cell arrays, based on the erase selection data stored in the erase selection data storage means, for each single memory cell array, or for a plurality of memory cell arrays. The automatic erasing time is shortened by performing erasing in a lump, and there is no description about an operation of performing pre-erase writing in parallel on each memory cell array obtained by dividing the block memory array into a plurality. In the latter case, not the pulse width of the erase pulse but the number of erase pulses and voltage information applied to the flash memory are stored and held.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】従来の不揮発性半導体
メモリの自動消去方法は以上のように構成されているの
で、ブロックメモリアレイが複数のメモリセルアレイに
分割された不揮発性メモリに対して自動消去の処理を行
う場合に、自動消去時の消去前書き込みの処理において
は、複数に分割された各メモリセルアレイに対して順
次、順番に消去前書き込み処理を行っていたので、自動
消去の処理時間が長くなるという課題があった。
Since the conventional method for automatically erasing a nonvolatile semiconductor memory is configured as described above, an automatic erasure is performed on a nonvolatile memory in which a block memory array is divided into a plurality of memory cell arrays. In the pre-erase write processing at the time of automatic erasure, the pre-erase write processing is sequentially performed on each of the plurality of divided memory cell arrays in order. There was a problem of becoming longer.

【0010】また、自動消去時の消去処理においては、
パルス幅が固定の消去パルスを使って消去と消去ベリフ
ァイを繰り返し、アドレスが最大値になるか、消去回数
値が最大値になるまでループ処理を行っており、自動消
去の処理を複数回行っても常に消去パルス幅は一定であ
り、不揮発性メモリの書換回数の増加とともに消去時間
が長くなり、書換回数が多くなってくると自動消去の処
理時間が長くなるという課題があった。
In the erasing process at the time of automatic erasing,
Erasing and erasing verification are repeated using an erasing pulse with a fixed pulse width, and loop processing is performed until the address reaches the maximum value or the erasure count value reaches the maximum value. However, the erasing pulse width is always constant, and the erasing time becomes longer as the number of times of rewriting of the nonvolatile memory increases, and the processing time of automatic erasing becomes longer as the number of times of rewriting increases.

【0011】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、消去前書き込み処理を複数のメモ
リブロックで並列に行い、また消去パルスのパルス幅の
設定を可変にし、最終的に使用した消去パルス幅のデー
タを不揮発性半導体メモリ中に保持することにより、自
動消去処理時間の短縮が可能な不揮発性半導体メモリを
得ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems. The pre-erase write processing is performed in parallel in a plurality of memory blocks, and the pulse width of the erase pulse is made variable. An object of the present invention is to obtain a nonvolatile semiconductor memory capable of shortening an automatic erasing processing time by retaining data of a used erase pulse width in the nonvolatile semiconductor memory.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】この発明に係る不揮発性
半導体メモリの自動消去方法は、ブロックメモリアレイ
が複数のメモリブロックに分割されている不揮発性半導
体メモリに対して自動消去処理を行う場合に、自動一括
消去処理を行う際の消去前書き込みの処理を、複数のメ
モリブロックのメモリセルアレイに対して並列に処理す
るようにしたものである。
According to the present invention, there is provided a method for automatically erasing a nonvolatile semiconductor memory, comprising the steps of: performing an automatic erasing process on a nonvolatile semiconductor memory in which a block memory array is divided into a plurality of memory blocks; In addition, the pre-erase write processing when performing the automatic batch erase processing is performed in parallel on the memory cell arrays of a plurality of memory blocks.

【0013】この発明に係る不揮発性半導体メモリの自
動消去方法は、ブロックメモリアレイが複数のメモリブ
ロックに分割されている不揮発性半導体メモリに対して
自動消去処理を行う場合に、自動消去中の消去処理時に
おける消去パルスのパルス幅の設定を可変にし、最終的
に使用した消去パルス幅のデータを所定のメモリブロッ
クのメモリセルアレイに保持するようにしたものであ
る。
According to the automatic erasing method for a nonvolatile semiconductor memory according to the present invention, when performing an automatic erasing process on a nonvolatile semiconductor memory in which a block memory array is divided into a plurality of memory blocks, erasing during automatic erasing is performed. The setting of the pulse width of the erase pulse at the time of processing is made variable, and the data of the erase pulse width finally used is held in the memory cell array of a predetermined memory block.

【0014】この発明に係る不揮発性半導体メモリの自
動消去方法は、ブロックメモリアレイが複数のメモリブ
ロックに分割されている不揮発性半導体メモリに対して
自動消去処理を行う場合に、自動消去中の消去処理時に
使用する消去パルスのパルス幅を、前回使用した値、当
該パルス幅の初期値、もしくはそれらを更新した値に設
定して、自動消去処理終了時に、前回設定した消去パル
スのパルス幅の値を更新する必要がある場合には、その
値を更新して所定のメモリブロックのメモリセルアレイ
に保持するようにしたものである。
According to the automatic erasing method for a nonvolatile semiconductor memory according to the present invention, when performing an automatic erasing process on a nonvolatile semiconductor memory in which a block memory array is divided into a plurality of memory blocks, erasing during automatic erasing is performed. Set the pulse width of the erase pulse used during processing to the previously used value, the initial value of the pulse width, or the updated value of the pulse width. When it is necessary to update the value, the value is updated and held in the memory cell array of a predetermined memory block.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1による自
動消去方法が適用される不揮発性半導体メモリの全体構
成を示すブロック図である。図において、1はマイクロ
シーケンサ、2はチャージポンプ、3はメモリデコー
ダ、4はブロックメモリアレイであり、これらについて
は、後にその内部構成を図示して詳細に説明する。5は
この不揮発性半導体メモリに入出力されるアドレスA
(16:0)バス、データD(15:0)バス、各種制
御信号をラッチして、マイクロシーケンサ1とやり取り
するアドレス/データ/制御信号ラッチ回路である。こ
の不揮発性半導体メモリは、大きく分けると、これらマ
イクロシーケンサ1、チャージポンプ2、メモリデコー
ダ3、ブロックメモリアレイ4、アドレス/データ/制
御信号ラッチ回路5より構成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below. Embodiment 1 FIG. FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a nonvolatile semiconductor memory to which the automatic erasing method according to the first embodiment of the present invention is applied. In the figure, 1 is a microsequencer, 2 is a charge pump, 3 is a memory decoder, and 4 is a block memory array, which will be described later in detail with reference to the internal configuration thereof. 5 is an address A input / output to / from this nonvolatile semiconductor memory.
An address / data / control signal latch circuit that latches (16: 0) bus, data D (15: 0) bus, and various control signals and exchanges with the micro sequencer 1. This nonvolatile semiconductor memory is roughly composed of a microsequencer 1, a charge pump 2, a memory decoder 3, a block memory array 4, and an address / data / control signal latch circuit 5.

【0016】図2にこのように構成された不揮発性半導
体メモリの動作モードの一覧を示す。「読み出し」は不
揮発性半導体メモリ内の任意のアドレスのデータを読み
出すサイクル数1の動作モードである。「ステータスレ
ジスタリード」は自動消去/自動書き込みのステータス
情報を読み出すサイクル数2の動作モードである。この
「ステータスレジスタリード」はデータD(15:0)
バスから入力されるコマンド70Hでモードにエントリ
ーしてFFHで戻る。「ステータスレジスタクリア」は
ステータスレジスタの内容をクリアするサイクル数1の
動作モードである。この「ステータスレジスタクリア」
はデータD(15:0)バスから入力されるコマンド5
0Hでモードにエントリーする。「自動書き込み」はデ
ータD(15:0)バスから入力されるコマンド40H
でセットアップモードに入り、次のサイクルで書き込み
データとアドレスを取り込み、モードエントリーするサ
イクル数2の動作モードである。この「自動書き込み」
の終了後はステータスレジスタに書き込みステータスを
書き込む。「自動一括消去」はデータD(15:0)バ
スから入力されるコマンド20Hでセットアップモード
に入り、次のサイクルにて確認コマンドの20Hでモー
ドエントリーするサイクル数2の動作モードである。こ
の「自動一括消去」の終了後は、ステータスレジスタに
一括消去ステータスを書き込む。「自動ブロック消去」
はデータD(15:0)バスから入力されるコマンド2
0Hでセットアップモードに入り、次のサイクルでD0
H/ブロックアドレスを取り込み、モードエントリーす
るサイクル数2の動作モードである。この「自動ブロッ
ク消去」の終了後は、ステータスレジスタに自動ブロッ
ク消去ステータスを書き込む。
FIG. 2 shows a list of operation modes of the nonvolatile semiconductor memory configured as described above. “Read” is an operation mode in which the number of cycles for reading data at an arbitrary address in the nonvolatile semiconductor memory is one. “Status register read” is an operation mode in which the number of cycles for reading status information of automatic erasure / automatic writing is two. This “status register read” is performed on data D (15: 0)
The mode is entered by the command 70H input from the bus, and the mode is returned by FFH. "Status register clear" is an operation mode in which the number of cycles is 1 for clearing the contents of the status register. This "status register clear"
Is a command 5 input from the data D (15: 0) bus
Enter the mode at 0H. "Automatic write" is a command 40H input from the data D (15: 0) bus.
This is an operation mode in which the number of cycles is 2, in which a setup mode is entered, the write data and an address are fetched in the next cycle, and the mode entry is performed. This "auto-write"
After the end of writing, the write status is written to the status register. The "automatic batch erasing" is an operation mode in which the setup mode is entered by a command 20H input from the data D (15: 0) bus, and the mode is entered by the confirmation command 20H in the next cycle. After the "automatic batch erasure" is completed, the batch erasure status is written to the status register. "Automatic block erase"
Is a command 2 input from the data D (15: 0) bus
0H, enter the setup mode, and in the next cycle D0
H / operation mode in which the number of cycles is 2 for fetching a block address and mode entry. After the “automatic block erase” is completed, the automatic block erase status is written to the status register.

【0017】次に、マイクロシーケンサ1について説明
する。図3は図1に示した不揮発性半導体メモリにおけ
る、マイクロシーケンサ1の内部構成を示すブロック図
である。図において、11はコマンドポート、12はス
テータスレジスタ、13は自動消去シーケンサ、14は
自動書き込みシーケンサ、15はテストモードシーケン
サ、16はパワーリセット回路、17はクロック生成回
路、18はデコーダ・チャージポンプ制御信号生成回路
であり、マイクロシーケンサ1はこれらによって形成さ
れている。
Next, the micro sequencer 1 will be described. FIG. 3 is a block diagram showing an internal configuration of the micro sequencer 1 in the nonvolatile semiconductor memory shown in FIG. In the figure, 11 is a command port, 12 is a status register, 13 is an automatic erase sequencer, 14 is an automatic write sequencer, 15 is a test mode sequencer, 16 is a power reset circuit, 17 is a clock generation circuit, and 18 is a decoder / charge pump control. This is a signal generation circuit, and the micro sequencer 1 is formed by these components.

【0018】コマンドポート11は、アドレス/データ
/制御信号ラッチ入回路5から送られてくる情報をもと
に各種モードの設定を行い、チャージポンプ2、メモリ
デコーダ3、さらにはブロックメモリアレイ4の制御を
行うものである。またステータスレジスタ12は、自動
消去/自動書き込み時のステータス状態を保持するレジ
スタであり、必要であれば保持している値をコマンドポ
ート11を介して外部に出力する。
The command port 11 sets various modes on the basis of information sent from the address / data / control signal latch input circuit 5, and sets the charge pump 2, the memory decoder 3, and the block memory array 4. The control is performed. The status register 12 is a register for holding a status state at the time of automatic erasure / automatic writing, and outputs the held value to the outside via the command port 11 if necessary.

【0019】自動消去シーケンサ13は、コマンドポー
ト11の指示により、自動消去の動作を制御するシーケ
ンサである。なお、その時のチャージポンプ2、メモリ
デコーダ3、ブロックメモリアレイ4の制御は、デコー
ダ・チャージポンプ制御信号生成回路18を介して行わ
れる。また、自動消去/自動書き込み動作時のステータ
ス状態はステータスレジスタ12に書き込まれる。自動
書き込みシーケンサ14は、コマンドポート11の指示
により、自動書き込みの動作を制御するシーケンサであ
る。なお、その時のチャージポンプ2、メモリデコーダ
3、ブロックメモリアレイ4の制御は、デコーダ・チャ
ージポンプ制御信号生成回路18を介して行われる。ま
た、自動書き込み動作時のステータス状態はステータス
レジスタ12に書き込まれる。テストモードシーケンサ
15は、コマンドポート11の指示により、テストモー
ドの動作を制御するシーケンサである。なお、その時の
チャージポンプ2、メモリデコーダ3、ブロックメモリ
アレイ4の制御は、デコーダ・チャージポンプ制御信号
生成回路18を介して行われる。
The automatic erase sequencer 13 is a sequencer for controlling an automatic erase operation in accordance with an instruction from the command port 11. At this time, the control of the charge pump 2, the memory decoder 3, and the block memory array 4 is performed via the decoder / charge pump control signal generation circuit 18. The status state at the time of the automatic erase / automatic write operation is written to the status register 12. The automatic write sequencer 14 is a sequencer that controls an automatic write operation in accordance with an instruction from the command port 11. At this time, the control of the charge pump 2, the memory decoder 3, and the block memory array 4 is performed via the decoder / charge pump control signal generation circuit 18. The status state at the time of the automatic writing operation is written to the status register 12. The test mode sequencer 15 is a sequencer that controls the operation in the test mode according to an instruction from the command port 11. At this time, the control of the charge pump 2, the memory decoder 3, and the block memory array 4 is performed via the decoder / charge pump control signal generation circuit 18.

【0020】パワーリセット回路16は、コマンドポー
ト11からの指示により電源をリセットして、全ての回
路を非動作状態にするものである。クロック生成回路1
7は、10MHz相当のクロックパルスを自動消去シー
ケンサ13、自動書き込みシーケンサ14、およびテス
トモードシーケンサ15に出力するものである。なお、
パワーリセット回路16により全ての回路が非動作状態
となった時には、このクロック生成回路17も機能が停
止してクロック信号も停止する。デコーダ・チャージポ
ンプ制御信号生成回路18は、自動消去シーケンサ1
3、自動書き込みシーケンサ14、およびテストモード
シーケンサ15の出力を受けて、チャージポンプ2とメ
モリデコーダ3、さらにはブロックメモリアレイ4を制
御する制御信号を生成するものである。
The power reset circuit 16 resets the power supply in accordance with an instruction from the command port 11, and makes all circuits inactive. Clock generation circuit 1
7 outputs a clock pulse corresponding to 10 MHz to the automatic erase sequencer 13, the automatic write sequencer 14, and the test mode sequencer 15. In addition,
When all the circuits are brought into a non-operation state by the power reset circuit 16, the function of the clock generation circuit 17 also stops and the clock signal also stops. The decoder / charge pump control signal generation circuit 18
3, receiving the outputs of the automatic write sequencer 14 and the test mode sequencer 15 to generate control signals for controlling the charge pump 2, the memory decoder 3, and the block memory array 4.

【0021】次に、チャージポンプ2について説明す
る。図4は図1に示した不揮発性半導体メモリにおけ
る、チャージポンプ2の内部構成を示すブロック図であ
る。図において、21は−11Vチャージポンプ、22
は+10Vチャージポンプ、23は+5Vチャージポン
プであり、24は電圧切替回路である。チャージポンプ
2はこれらによって構成されており、マイクロシーケン
サ1によって制御され、−11Vチャージポンプ21、
+10Vチャージポンプ22、および+5Vチャージポ
ンプ23の各出力がメモリデコーダ3とブロックメモリ
アレイ4に供給される。
Next, the charge pump 2 will be described. FIG. 4 is a block diagram showing an internal configuration of the charge pump 2 in the nonvolatile semiconductor memory shown in FIG. In the figure, 21 is a -11V charge pump, 22
Is a +10 V charge pump, 23 is a +5 V charge pump, and 24 is a voltage switching circuit. The charge pump 2 is constituted by these components, and is controlled by the micro sequencer 1, and has a -11V charge pump 21,
Outputs of the +10 V charge pump 22 and the +5 V charge pump 23 are supplied to the memory decoder 3 and the block memory array 4.

【0022】−11Vチャージポンプ21は、消去用の
負チャージポンプであり、自動消去時に−11Vの負の
電圧を発生する。+10Vチャージポンプ22は、書き
込み/消去用の正チャージポンプであり、書き込み時に
+10Vの電圧を発生し、消去時に+7Vの電圧を発生
する。+5Vチャージポンプ23は、読み出し/ベリフ
ァイ用の正チャージポンプであり、読み出し動作時に+
5Vの電圧を発生し、書き込み/書き込みベリファイ時
には+6.5Vの電圧を発生する。電圧切替回路24は
これら−11Vチャージポンプ21、+10Vチャージ
ポンプ22、+5Vチャージポンプ23の出力を切り替
えてメモリデコーダ3とブロックメモリアレイ4に供給
するものである。
The -11V charge pump 21 is a negative charge pump for erasing, and generates a negative voltage of -11V during automatic erasing. The +10 V charge pump 22 is a positive charge pump for writing / erasing, and generates a voltage of +10 V at the time of writing and a voltage of +7 V at the time of erasing. The +5 V charge pump 23 is a positive charge pump for reading / verifying,
A voltage of 5 V is generated, and a voltage of +6.5 V is generated during write / write verify. The voltage switching circuit 24 switches the outputs of the -11V charge pump 21, + 10V charge pump 22, and + 5V charge pump 23 to supply the outputs to the memory decoder 3 and the block memory array 4.

【0023】次に、メモリデコーダ3およびブロックメ
モリアレイ4について説明する。図5は図1に示した不
揮発性半導体メモリにおける、メモリデコーダ3および
ブロックメモリアレイ4の内部構成を示すブロック図で
ある。図中のメモリデコーダ3内において、31はY
(コラム)アドレス入力バッファラッチ、32はX(ロ
ウ)アドレスラッチ、33はブロックアドレスラッチで
あり、34はY(コラム)アドレスプリデコーダ、35
はX(ロウ)アドレスプリデコーダ、36はブロックア
ドレスプリデコーダである。メモリデコーダ3は、これ
ら各ラッチ31〜33と各プリデコーダ34〜36によ
って構成されている。
Next, the memory decoder 3 and the block memory array 4 will be described. FIG. 5 is a block diagram showing an internal configuration of the memory decoder 3 and the block memory array 4 in the nonvolatile semiconductor memory shown in FIG. In the memory decoder 3 in FIG.
(Column) address input buffer latch, 32 is an X (row) address latch, 33 is a block address latch, 34 is a Y (column) address predecoder, 35
Is an X (row) address predecoder, and 36 is a block address predecoder. The memory decoder 3 includes the latches 31 to 33 and the predecoders 34 to 36.

【0024】Yアドレス入力バッファラッチ31は、マ
イクロシーケンサ1から送られてきた17ビットのアド
レスA(16:0)中のYアドレス部分をラッチするも
のであり、Xアドレスラッチ32は、上記17ビットの
アドレスA(16:0)中のXアドレス部分をラッチす
るものである。ブロックアドレスラッチ33は、上記1
7ビットのアドレスA(16:0)中のブロックアドレ
ス部分をラッチするものである。Yアドレスプリデコー
ダ34は、Yアドレス入力バッファラッチ31にラッチ
されたアドレスのプリデコード処理を行い、プリデコー
ドされたアドレスをブロックメモリアレイ4に出力する
ものであり、Xアドレスプリデコーダ35は、Xアドレ
スラッチ32にラッチされたアドレスのプリデコード処
理を行い、プリデコードされたアドレスをブロックメモ
リアレイ4に出力するものである。ブロックアドレスプ
リデコーダ36は、ブロックアドレスラッチ33にラッ
チされたアドレスのプリデコード処理を行い、プリデコ
ードされたアドレスをブロックメモリアレイ4に出力す
るものである。
The Y address input buffer latch 31 latches the Y address portion in the 17-bit address A (16: 0) sent from the micro sequencer 1, and the X address latch 32 stores the 17 bit address. Latching the X address portion in the address A (16: 0). The block address latch 33 stores the above 1
This latches the block address portion in the 7-bit address A (16: 0). The Y address predecoder 34 performs a predecoding process on the address latched by the Y address input buffer latch 31 and outputs the predecoded address to the block memory array 4. The pre-decoding process of the address latched by the address latch 32 is performed, and the pre-decoded address is output to the block memory array 4. The block address predecoder 36 performs predecoding of the address latched by the block address latch 33 and outputs the predecoded address to the block memory array 4.

【0025】また、図中のブロックメモリアレイ4内に
おいて、41は32KBのメモリセルアレイ、センスア
ンプ/書き込み回路、データ切替回路、およびXデコー
ダ、Yデコーダからなる#0メモリブロック、42はそ
れと同様の構成の32KBの#1メモリブロックであ
り、43はそれと同様の構成の32KBの#2メモリブ
ロック、44はそれと同様の構成の32KBの#3メモ
リブロックである。45は8KBのメモリセルアレイ、
センスアンプ/書き込み回路、データ切替回路、および
Xデコーダ、Yデコーダからなる#4メモリブロックで
ある。ブロックメモリアレイ4はこれら#0メモリブロ
ック41〜#4メモリブロック45によって形成されて
いる。
In the block memory array 4 in the figure, reference numeral 41 denotes a 32 KB memory cell array, a sense amplifier / write circuit, a data switching circuit, and a # 0 memory block comprising an X decoder and a Y decoder. Reference numeral 43 denotes a 32 KB # 2 memory block having the same configuration, and reference numeral 43 denotes a 32 KB # 3 memory block having the same configuration. 45 is an 8 KB memory cell array,
This is a # 4 memory block including a sense amplifier / write circuit, a data switching circuit, an X decoder, and a Y decoder. The block memory array 4 is formed by these # 0 memory blocks 41 to # 4 memory blocks 45.

【0026】ここで、図6にブロックメモリアレイ4の
アドレス空間を示す。図6に示すように、#0メモリブ
ロック41のメモリセルアレイは、16進表記で“00
000H”〜“07FFFH”のアドレス空間を持つ。
#1メモリブロック42のメモリセルアレイは、16進
表記で“08000H”〜“0FFFFH”のアドレス
空間を持つ。#2メモリブロック43のメモリセルアレ
イは、16進表記で10000H”〜“17FFFH”
のアドレス空間を持つ。#3メモリブロック44のメモ
リセルアレイは、16進表記で“18000H”〜“1
FFFFH”のアドレス空間を持つ。#4メモリブロッ
ク45のメモリセルアレイは、16進表記で“0000
0H”〜“01FFFH”のアドレス空間を持つ。な
お、#4メモリブロック45へのアクセスは、そのアド
レスが#0メモリブロック41の一部のアドレスと重複
しているため、マイクロシーケンサ1から出力される制
御信号(#4メモリブロックアクセス信号)を併用して
アクセスされる。
FIG. 6 shows an address space of the block memory array 4. As shown in FIG. 6, the memory cell array of the # 0 memory block 41 is “00” in hexadecimal notation.
000H ”to“ 07FFFH ”.
The memory cell array of the # 1 memory block 42 has an address space of “08000H” to “0FFFFH” in hexadecimal notation. The memory cell array of the # 2 memory block 43 is represented by hexadecimal notation "10000H" to "17FFFH".
Address space. The memory cell array of the # 3 memory block 44 is “18000H” to “1” in hexadecimal notation.
FFFFH ”. The memory cell array of the # 4 memory block 45 is“ 0000 ”in hexadecimal notation.
It has an address space of “0H” to “01FFFH.” The access to the # 4 memory block 45 is output from the micro sequencer 1 because the address overlaps with a part of the address of the # 0 memory block 41. The access is performed using a control signal (# 4 memory block access signal).

【0027】また、図7は図5に示したブロックメモリ
アレイ4内の、#0メモリブロック41〜#4メモリブ
ロック45の詳細構成を示す回路図である。図におい
て、46はYデコーダ、47はXデコーダであり、48
はセンスアンプ/書き込み回路、49はメモリセルアレ
イである。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a detailed configuration of # 0 memory block 41 to # 4 memory block 45 in block memory array 4 shown in FIG. In the figure, 46 is a Y decoder, 47 is an X decoder, and 48 is
Is a sense amplifier / write circuit, and 49 is a memory cell array.

【0028】なお、上記Yデコーダ46は、メモリデコ
ーダ3のYアドレスプリデコーダ34からの出力を受け
て、256本のビット線BL0〜BL255から1本の
ビット線を選択するための制御信号CS0〜CS255
を生成するものである。Xデコーダ47は、Xアドレス
プリデコーダ35からの出力を受けて、128本のワー
ド線WL0〜WL127から1本のワード線を選択制御
するものである。センスアンプ/書き込み回路48は、
この選択されたワード線WL0〜WL127のメモリセ
ルの読み取り/書き込みを、制御信号CS0〜CS25
5で選択されたビット線BL0〜BL255より順番に
行うものである。スイッチングトランジスタTr0〜T
r255は、この制御信号CS0〜CS255に基づい
て1本のビット線BL0〜BL255を順次選択してセ
ンスアンプ/書き込み回路48に接続するためのもので
ある。
The Y decoder 46 receives the output from the Y address predecoder 34 of the memory decoder 3 and receives control signals CS0 to CS0 for selecting one bit line from the 256 bit lines BL0 to BL255. CS255
Is generated. The X decoder 47 receives an output from the X address predecoder 35, and selectively controls one of the 128 word lines WL0 to WL127. The sense amplifier / write circuit 48
The read / write of the memory cells of the selected word lines WL0 to WL127 is performed by controlling signals CS0 to CS25.
5 is performed in order from the bit lines BL0 to BL255 selected. Switching transistors Tr0-T
r255 is for sequentially selecting one bit line BL0 to BL255 based on the control signals CS0 to CS255 and connecting it to the sense amplifier / write circuit 48.

【0029】メモリセルアレイ49は、フローティング
ゲートを有する不揮発性トランジスタによるメモリセル
Tr0−0〜Tr0−255,Tr1−0〜Tr1−2
55,Tr2−0〜Tr2−255,Tr3−0〜Tr
3−255,…,Tr127−0〜Tr127−255
が行列状に配置されたものである。このメモリセルのう
ち、同一の行に配置されたメモリセルTr0−0〜Tr
127−0,Tr0−1〜Tr127−1,Tr0−2
〜Tr127−2,…,Tr0−255〜Tr127−
255には、同一のビット線BL0〜BL255がトラ
ンジスタのソース端子に接続され、それぞれ異なるワー
ド線WL0〜WL127がトランジスタのゲート端子に
接続されている。
The memory cell array 49 includes memory cells Tr0-0 to Tr0-255 and Tr1-0 to Tr1-2 formed of nonvolatile transistors having floating gates.
55, Tr2-0 to Tr2-255, Tr3-0 to Tr
3-255,..., Tr127-0 to Tr127-255
Are arranged in a matrix. Of the memory cells, memory cells Tr0-0 to Tr0 arranged in the same row
127-0, Tr0-1 to Tr127-1, Tr0-2
... Tr127-2, ..., Tr0-255 to Tr127-
255, the same bit lines BL0 to BL255 are connected to the source terminals of the transistors, and different word lines WL0 to WL127 are connected to the gate terminals of the transistors.

【0030】メモリデータの読み出しは、Yアドレスプ
リデコーダ34、Xアドレスプリデコーダ35の出力に
従って、ビット線BL0〜BL255とワード線WL0
〜WL127からそれぞれ1本ずつが選択され、メモリ
セルアレイ49中の選択されたビット線とワード線に接
続された、フローティングゲートを有する不揮発性トラ
ンジスタによるメモリセルTr0−0〜Tr127−
0,Tr0−1〜Tr127−1,Tr0−2〜Tr1
27−2,…,Tr0−255〜Tr127−255の
内容が、センスアンプ/書き込み回路48のセンスアン
プを介してデータバスに出力される。またメモリデータ
の書き込みは、Yアドレスプリデコーダ34、Xアドレ
スプリデコーダ35の出力に従って、ビット線8L0〜
BL255とワード線WL0〜WL127からそれぞれ
1本ずつが選択され、メモリセルアレイ49中の選択さ
れたビット線とワード線に接続されたフローティングゲ
ートを有する不揮発性トランジスタからなるメモリセル
Tr0−0〜Tr127−0,Tr0−1〜Tr127
−1,Tr0−2〜Tr127−2,…,Tr0−25
5〜Tr127−255に、センスアンプ/書き込み回
路48の書き込み回路を介してデータバスの値が書き込
まれる。
The reading of the memory data is performed according to the outputs of the Y address predecoder 34 and the X address predecoder 35 and the bit lines BL0 to BL255 and the word line WL0.
To WL127, and is connected to the selected bit line and word line in the memory cell array 49, and the memory cells Tr0-0 to Tr127- are formed by nonvolatile transistors having floating gates.
0, Tr0-1 to Tr127-1, Tr0-2 to Tr1
27-2,..., Tr0-255 to Tr127-255 are output to the data bus via the sense amplifier of the sense amplifier / write circuit 48. The writing of the memory data is performed according to the outputs of the Y address predecoder 34 and the X address predecoder 35.
One memory cell is selected from each of the BL255 and the word lines WL0 to WL127, and the memory cells Tr0-0 to Tr127- each formed of a nonvolatile transistor having a floating gate connected to the selected bit line and the word line in the memory cell array 49. 0, Tr0-1 to Tr127
-1, Tr0-2 to Tr127-2, ..., Tr0-25
The value of the data bus is written to the Trs 127 to 255 through the write circuit of the sense amplifier / write circuit 48.

【0031】次に動作について説明する。まず、不揮発
性半導体メモリの自動一括消去について、図8を用いて
説明する。図8はこの不揮発性半導体メモリのマイクロ
シーケンサ1を形成している自動消去シーケンサ13の
内部構成を示すブロック図である。図において、51は
自動消去シーケンス制御回路、52は消去前書き込み制
御回路、53は消去/消去ベリファイ制御回路、54は
過消去ベリファイ制御回路、55は消去前書き込み信号
生成回路、56はアドレスインクリメンタ、57は消去
ベリファイ回路、58は消去パルス生成回路・消去パル
ス幅書き込み回路、59は過消去ベリファイ回路であ
る。自動消去シーケンサ13はこれら各回路51〜59
によって形成されている。
Next, the operation will be described. First, automatic batch erasing of the nonvolatile semiconductor memory will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a block diagram showing the internal configuration of the automatic erase sequencer 13 forming the microsequencer 1 of this nonvolatile semiconductor memory. In the figure, 51 is an automatic erase sequence control circuit, 52 is a write control circuit before erase, 53 is an erase / erase verify control circuit, 54 is an over-erase verify control circuit, 55 is a write signal generation circuit before erase, and 56 is an address incrementer. 57, an erase verify circuit; 58, an erase pulse generation circuit / erase pulse width write circuit; and 59, an over-erase verify circuit. The automatic erasing sequencer 13 includes these circuits 51 to 59
Is formed by

【0032】自動消去シーケンス制御回路51は、マイ
クロシーケンサ1内のコマンドポート11、クロック生
成回路17、パワーリセット回路16からの制御信号を
受けて、この不揮発性半導体メモリが自動消去モードに
入ると、消去前書き込み制御回路52、消去/消去ベリ
ファイ制御回路53、過消去ベリファイ制御回路54を
制御するものである。消去前書き込み制御回路52は、
自動消去シーケンス制御回路51からの信号を受けて、
ブロックメモリアレイ4に対して消去前書き込み処理の
制御を行うものである。なお、この消去前書き込み制御
回路52は、アドレスインクリメンタ56を使用して、
アドレスを最下位アドレスから最上位アドレスまでイン
クリメントしながら、消去前書き込み信号生成回路55
から消去前書き込み信号を発生させて消去前書き込みの
処理を行うものである。ここで、自動一括消去動作時に
は、消去前書き込み処理は、#0メモリブロック41、
#1メモリブロック42、#2メモリブロック43、#
3メモリブロック44の各メモリセルアレイ49に対し
て並列に行うため、#0ブロック書き込み信号60、#
1ブロック書き込み信号61、#2ブロック書き込み信
号62、#3ブロック書き込み信号63の全てを有効に
して行う。一方、自動ブロック消去動作時には、対象と
なるメモリブロックの書き込み信号のみが有効となる。
The automatic erase sequence control circuit 51 receives control signals from the command port 11, the clock generation circuit 17, and the power reset circuit 16 in the micro sequencer 1, and when the nonvolatile semiconductor memory enters the automatic erase mode, It controls the pre-erase write control circuit 52, the erase / erase verify control circuit 53, and the over-erase verify control circuit 54. The pre-erase write control circuit 52
Upon receiving a signal from the automatic erase sequence control circuit 51,
It controls the pre-erase write processing for the block memory array 4. The pre-erase write control circuit 52 uses an address incrementer 56 to
While incrementing the address from the lowest address to the highest address, the pre-erase write signal generation circuit 55
, A write-before-erase signal is generated to perform write-before-erase processing. Here, at the time of the automatic batch erasing operation, the pre-erase write processing is performed in the # 0 memory block 41,
# 1 memory block 42, # 2 memory block 43, #
Since the operations are performed in parallel on each memory cell array 49 of the three memory blocks 44, the # 0 block write signals 60, #
All the one-block write signal 61, the # 2 block write signal 62, and the # 3 block write signal 63 are made valid. On the other hand, at the time of the automatic block erase operation, only the write signal of the target memory block is valid.

【0033】アドレスインクリメンタ56は、自動一括
消去もしくは#0メモリブロック41、#1メモリブロ
ック42、#2メモリブロック43、#3メモリブロッ
ク44選択時の自動ブロック消去時には、アドレスを0
0000Hから1FFFFHまでインクリメントさせ、
#4メモリブロック45選択時の自動ブロック消去時に
は、アドレスを00000Hから01FFFHまでイン
クリメントさせるものであり、消去前書き込み信号生成
回路55は、自動一括消去もしくは#0メモリブロック
41、#1メモリブロック42、#2メモリブロック4
3、#3メモリブロック44の選択時の自動ブロック消
去時における、#0ブロック書き込み信号60、#1ブ
ロック書き込み信号61、#2ブロック書き込み信号6
2、#3ブロック書き込み信号63、および#4メモリ
ブロック45選択時の自動ブロック消去における、#4
ブロック書き込み信号64などの消去前書き込み信号を
生成するものである。
The address incrementer 56 sets the address to 0 during automatic batch erasing or automatic block erasing when the # 0 memory block 41, # 1 memory block 42, # 2 memory block 43, and # 3 memory block 44 are selected.
Increment from 0000H to 1FFFFH,
At the time of automatic block erasing when the # 4 memory block 45 is selected, the address is incremented from 00000H to 01FFFH. The pre-erase write signal generation circuit 55 performs automatic batch erasing or # 0 memory block 41, # 1 memory block 42, # 2 memory block 4
3, # 0 block write signal 60, # 1 block write signal 61, # 2 block write signal 6 at the time of automatic block erasure when # 3 memory block 44 is selected
2, # 3 block write signal 63 and # 4 in automatic block erase when # 4 memory block 45 is selected
It generates a pre-erase write signal such as a block write signal 64.

【0034】消去/消去ベリファイ制御回路53は、自
動消去シーケンス制御回路51からの信号を受けて、消
去と消去ベリファイ処理の制御を行うものである。消去
ベリファイ回路57は、消去動作後、メモリデータを読
み出して期待値と比較処理し、消去されているか否かを
確認するものである。このメモリデータ読み出し処理
は、アドレスインクリメンタ56を使用し、アドレスを
最下位アドレスから最上位アドレス(00000H〜1
FFFFH)までインクリメントしながら順次行う。消
去パルス生成回路・消去パルス幅書き込み回路58は、
#4メモリブロック45に登録された消去パルス幅の値
を読み込んで消去パルス幅を決定し、消去パルスを発生
させるものである。なお、消去パルス幅が更新された場
合には、#4メモリブロック45に対する消去パルス幅
のデータの書き込みも行うものである。このように、こ
の消去パルス生成回路・消去パルス幅書き込み回路58
は、#0メモリブロック41〜#4メモリブロック45
の各メモリセルアレイ49のデータを自動消去する際に
用いられる消去パルスのパルス幅を変更可能に設定す
る、パルス幅更新手段として機能している。
The erase / erase verify control circuit 53 receives a signal from the automatic erase sequence control circuit 51 and controls erasure and erase verify processing. After the erase operation, the erase verify circuit 57 reads the memory data, compares it with an expected value, and checks whether or not the data has been erased. This memory data reading process uses the address incrementer 56 to change the address from the lowest address to the highest address (00000H to 1).
FFFFH), and sequentially. The erase pulse generation circuit / erase pulse width write circuit 58
The erase pulse width is determined by reading the value of the erase pulse width registered in the # 4 memory block 45, and an erase pulse is generated. When the erase pulse width is updated, data of the erase pulse width is also written to the # 4 memory block 45. Thus, the erase pulse generation circuit / erase pulse width write circuit 58
Are # 0 memory blocks 41 to # 4 memory block 45
Function as a pulse width updating means for setting the pulse width of the erase pulse used for automatically erasing the data of each memory cell array 49 to be changeable.

【0035】過消去ベリファイ制御回路54は、自動消
去シーケンス制御回路51からの信号を受けて、過消去
ベリファイ処理の制御を行うものである。この過消去ベ
リファイ処理では、メモリセルアレイ49内の全ワード
線WL0〜WL127を非選択状態にして、センスアン
プ/書き込み回路48のセンスアンプで読み取りを行
う。過消去ベリファイ回路59は、その読み取り結果と
期待値との比較を、アドレスインクリメンタ56でアド
レスをインクリメントしながら、順次行うものである。
The over-erase verify control circuit 54 receives the signal from the automatic erase sequence control circuit 51 and controls the over-erase verify process. In this over-erase verify process, all the word lines WL0 to WL127 in the memory cell array 49 are set to a non-selected state, and reading is performed by the sense amplifier of the sense amplifier / write circuit 48. The over-erase verify circuit 59 sequentially compares the read result with the expected value while incrementing the address by the address incrementer 56.

【0036】次に、この不揮発性半導体メモリの自動一
括消去の動作を、図9に示すフローチャートを用いて説
明する。この場合の自動一括消去では、#0メモリブロ
ック41、#1メモリブロック42、#2メモリブロッ
ク43、#3メモリブロック44の全てのメモリブロッ
クのメモリセルアレイ49を対象にする。
Next, the operation of the automatic batch erasing of the nonvolatile semiconductor memory will be described with reference to the flowchart shown in FIG. In the automatic batch erase in this case, the memory cell arrays 49 of all the memory blocks of the # 0 memory block 41, the # 1 memory block 42, the # 2 memory block 43, and the # 3 memory block 44 are targeted.

【0037】この自動一括消去がスタートすると、まず
ステップST11において、データD(15:0)バス
から入力される第一コマンド20Hでセットアップモー
ドに入り、次にステップST12に移行して、確認コマ
ンドの第二コマンド20Hでモードエントリーする。こ
のモードエントリーが終了すると、ステップST13に
進んで消去前書き込みのフェーズに移行する。この消去
前書き込みのフェーズでは、自動消去シーケンサ13の
消去前書き込み信号生成回路55が生成したデータ
“1”を、#0メモリブロック41、#1メモリブロッ
ク42、#2メモリブロック43、および#3メモリブ
ロック44の各メモリセルアレイ49の全てのメモリビ
ットに対して並列に書き込む動作を行う。このステップ
ST13による消去前書き込みのフェーズが終了した
後、ステップST14に進んで消去のフェーズに移行す
る。この消去のフェーズでは、消去パルス生成回路・消
去パルス幅書き込み回路58において、デフォルトであ
る消去パルス幅1msか、前回の消去処理で使用した消
去パルス幅が格納されたブロックメモリアレイ4の#4
メモリブロック45より読み込んだ消去パルス幅のデー
タ値のいずれかを使用することを決定して、当該パルス
幅による消去パルスを生成する。消去処理はこの消去パ
ルスを用いて実行される。
When the automatic batch erasure starts, first, in step ST11, a setup mode is entered by a first command 20H input from the data D (15: 0) bus, and then the process proceeds to step ST12, where a confirmation command is input. The mode is entered by the second command 20H. When this mode entry is completed, the process proceeds to step ST13, and shifts to the pre-erase write phase. In the pre-erase write phase, the data “1” generated by the pre-erase write signal generation circuit 55 of the automatic erase sequencer 13 is transferred to the # 0 memory block 41, # 1 memory block 42, # 2 memory block 43, and # 3. An operation of writing in parallel to all memory bits of each memory cell array 49 of the memory block 44 is performed. After the pre-erase write phase in step ST13 is completed, the process proceeds to step ST14 and shifts to the erase phase. In this erasing phase, in the erasing pulse generation circuit / erasing pulse width writing circuit 58, the default erasing pulse width of 1 ms or # 4 of the block memory array 4 in which the erasing pulse width used in the previous erasing process is stored.
It decides to use any of the data values of the erase pulse width read from the memory block 45, and generates an erase pulse with the pulse width. The erasing process is performed using the erasing pulse.

【0038】この消去フェーズの終了後、ステップST
15に進んで消去ベリファイのフェーズに移行する。こ
の消去ベリファイのフェーズでは、アドレスインクリメ
ンタ56を用いて最下位アドレス(00000H)から
最上位アドレス(1FFFFH)まで、アドレスを順番
にインクリメントさせながら、消去ベリファイ回路57
が消去ベリファイ処理、すなわちステップST14によ
る消去処理が正常に行われているか否かの確認を行う。
このステップST15による消去ベリファイのフェーズ
で、ベリファイフェイルが生じた場合には、再消去を行
うため、ステップST16に進んで再消去前処理のフェ
ーズに移行する。この再消去前処理のフェーズでは、再
消去前処理回数のカウント値が最大値(X=512)に
到達したか否かを確認する。カウント値が最大値に到達
していない場合には、ステップST17において、消去
パルス幅を1ms大きくした値に更新(消去パルス幅=
消去パルス幅+1ms)処理を行い、再消去前処理回数
のカウント値をインクリメント(X=X+1)させた
後、処理をステップST14の消去フェーズに戻す。今
回の消去フェーズでは、上記再消去前処理のフェーズで
更新した消去パルス幅を使用して再び消去動作を行う。
ステップST14による消去フェーズ終了後、再びステ
ップST15に進んで消去ベリファイのフェーズに移行
する。この消去ベリファイのフェーズでは、前回の消去
ベリファイに失敗したアドレスから再び消去ベリファイ
の処理を再開する。
After the erasing phase is completed, step ST
The process proceeds to step 15 to shift to the erase verify phase. In this erase verifying phase, the address verifying circuit 57 is sequentially incremented from the lowest address (00000H) to the highest address (1FFFFH) using the address incrementer 56.
Verify whether the erase verify process, that is, the erase process in step ST14 is normally performed.
If a verify fail occurs in the erase verify phase in step ST15, the process proceeds to step ST16 to shift to the pre-erase pre-processing phase in order to perform re-erase. In this pre-re-erase processing phase, it is confirmed whether or not the count value of the number of pre-re-erase processings has reached the maximum value (X = 512). If the count value has not reached the maximum value, in step ST17, the erase pulse width is updated to a value increased by 1 ms (erase pulse width =
After performing (erasing pulse width + 1 ms) processing and incrementing the count value of the number of pre-re-erasing processings (X = X + 1), the processing returns to the erasing phase of step ST14. In the current erasing phase, the erasing operation is performed again using the erasing pulse width updated in the re-erasing pre-processing phase.
After the end of the erasing phase in step ST14, the process again proceeds to step ST15 to shift to the erase verify phase. In the erase verify phase, the erase verify process is restarted from the address where the previous erase verify failed.

【0039】これらの消去フェーズ、消去ベリファイフ
ェーズ、および再消去前処理フェーズは、消去ベリファ
イフェーズ(ステップST15)において最終アドレス
までの消去ベリファイが完了するか、再消去前処理フェ
ーズ(ステップST16)において再消去前処理回数の
カウント値が最大値(X=512)になるまでループ処
理が続けられる。このステップST16による再消去前
処理フェーズにて、再消去前処理回数のカウント値が最
大値(X=512)に到達したことが検出されると、消
去エラー終了としてこの自動一括消去の処理を終了す
る。また、ステップST15による消去ベリファイのフ
ェーズにおいて、消去ベリファイが最終アドレスまで進
んだ場合には、ステップST18に移行して、過消去ベ
リファイ回路59による過消去ベリファイフェーズの処
理を行う。この過消去ベリファイのフェーズでは、#0
メモリブロック41〜#3メモリブロック44内のメモ
リセルアレイ49の全ワード線WL0〜WL127を非
選択状態にして、メモリデータをセンスアンプ/書き込
み回路48のセンスアンプで読み取り、過消去ベリファ
イの処理を行う。なお、この過消去ベリファイ処理は、
アドレスインクリメンタ56によってアドレスをインク
リメントさせながら行う。
The erasing phase, the erasing verifying phase, and the pre-re-erasing processing phase are either completed in the erasing verifying phase (step ST15) or completed in the re-erasing pre-processing phase (step ST16). Loop processing is continued until the count value of the number of pre-erase processing reaches the maximum value (X = 512). If it is detected in the pre-re-erase processing phase in step ST16 that the count value of the number of pre-re-erase processings has reached the maximum value (X = 512), the automatic batch erasing processing is terminated as an erasure error end. I do. If the erase verify has reached the final address in the erase verify phase in step ST15, the process proceeds to step ST18, where the over-erase verify circuit 59 performs the process of the over-erase verify phase. In this over-erase verify phase, # 0
All the word lines WL0 to WL127 of the memory cell array 49 in the memory blocks 41 to # 3 memory block 44 are set to the non-selected state, and the memory data is read by the sense amplifier of the sense amplifier / write circuit 48 to perform the over-erase verify processing. . This over-erase verify process
This is performed while the address is incremented by the address incrementer 56.

【0040】この過消去ベリファイ処理でフェイル(エ
ラー)すれば、過消去エラー終了としてこの自動一括消
去の処理を終了する。また、この過消去ベリファイ処理
でパスした場合には、ステップST19に進んで消去パ
ルス幅書き込みのフェーズに移行する。この消去パルス
幅書き込みのフェーズでは、消去のフェーズで最終的に
使用した消去パルスのパルス幅の値を、消去パルス生成
回路・消去パルス幅書き込み回路58より#4メモリブ
ロック45のメモリセルアレイ49に書き込む動作を行
う。消去パルス幅書き込みフェーズが終了すると、正常
終了としてこの自動一括消去の処理を終了する。
If a fail (error) occurs in the over-erase verify process, the over-erase error is terminated, and the automatic batch erasure process is terminated. If the over-erase verify process has passed, the process proceeds to step ST19 to shift to the erase pulse width writing phase. In the erase pulse width writing phase, the value of the pulse width of the erase pulse finally used in the erase phase is written to the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45 by the erase pulse generation circuit / erase pulse width write circuit 58. Perform the operation. When the erase pulse width writing phase ends, the automatic batch erasing process ends as normal end.

【0041】次に、この不揮発性半導体メモリの、#0
メモリブロック41、#1メモリブロック42、#2メ
モリブロック43、#3メモリブロック44のいずれか
を対象とする自動ブロック消去の動作を、図10のフロ
ーチャートを用いて説明する。この自動ブロック消去が
スタートすると、まずステップST21において、デー
タD(15:0)バスから入力される第一コマンド20
Hでセットアップモードに入り、次にステップST22
に移行して、確認コマンドの第二コマンドD0Hとブロ
ックアドレスの取り込みでモードエントリーする。この
モードエントリーが終了すると、ステップST23によ
る消去前書き込みのフェーズに移行する。この消去前書
き込みのフェーズでは、自動消去シーケンサ13の消去
前書き込み信号生成回路55が生成したデータ“1”
を、#0メモリブロック41、#1メモリブロック4
2、#2メモリブロック43、あるいは#3メモリブロ
ック44のいずれかのメモリセルアレイ49のメモリビ
ットに対して書き込む動作を行う。この消去前書き込み
のフェーズ終了後、ステップST24に進んで消去のフ
ェーズに移行する。この消去のフェーズでは、消去パル
ス生成回路・消去パルス幅書き込み回路58において、
デフォルトである消去パルス幅1msか、前回の消去処
理で使用した消去パルス幅が格納された#4メモリブロ
ック45より読み込んだ消去パルス幅のデータ値のいず
れかを使用することを決定して消去パルスを生成する。
消去処理はこの消去パルスを用いて実行される。
Next, in this nonvolatile semiconductor memory, # 0
The operation of automatic block erasure for any one of the memory block 41, the # 1 memory block 42, the # 2 memory block 43, and the # 3 memory block 44 will be described with reference to the flowchart of FIG. When the automatic block erase starts, first, in step ST21, the first command 20 input from the data D (15: 0) bus is input.
H to enter the setup mode, and then to step ST22
The mode is entered by taking in the second command D0H of the confirmation command and the block address. Upon completion of this mode entry, the flow shifts to the pre-erase write phase in step ST23. In the pre-erase write phase, the data “1” generated by the pre-erase write signal generation circuit 55 of the automatic erase sequencer 13 is used.
To # 0 memory block 41 and # 1 memory block 4
2, an operation of writing to a memory bit of the memory cell array 49 of either the # 2 memory block 43 or the # 3 memory block 44 is performed. After the end of the pre-erase write phase, the process proceeds to step ST24 and shifts to the erase phase. In this erasing phase, the erasing pulse generation circuit / erasing pulse width writing circuit 58
The erase pulse width is determined by using either the default erase pulse width of 1 ms or the data value of the erase pulse width read from the # 4 memory block 45 in which the erase pulse width used in the previous erase process is stored. Generate
The erasing process is performed using the erasing pulse.

【0042】この消去のフェーズが終了すると、ステッ
プST25に進んで消去ベリファイのフェーズに移行す
る。消去ベリファイのフェーズでは、アドレスインクリ
メンタ56にて最下位アドレス(00000H)から最
上位アドレス(1FFFFH)までアドレスをインクリ
メントさせながら、消去ベリファイ回路57が消去ベリ
ファイ処理を行う。この消去ベリファイのフェーズにお
いて、ベリファイフェイルが生じた場合、再消去を行う
ために、ステップST26に進んで再消去前処理のフェ
ーズに移行する。この再消去前処理のフェーズでは、再
消去前処理回数のカウント値が最大値(X=512)に
到達したか否かを確認する。カウント値が最大値に到達
していない場合には、ステップST27において、消去
パルス幅を1ms大きくした値に更新(消去パルス幅=
消去パルス幅+1ms)処理を行い、再消去前処理回数
のカウント値をインクリメント(X=X+1)させた
後、処理をステップST24の消去フェーズに戻す。今
回の消去フェーズでは、上記再消去前処理のフェーズで
更新した消去パルス幅を使用して再び消去動作を行う。
消去フェーズ終了後、再びステップST25による消去
ベリファイのフェーズに移行する。この消去ベリファイ
のフェーズでは、前回の消去ベリファイに失敗したアド
レスから再び消去ベリファイを再開する。
When the erasing phase is completed, the process proceeds to step ST25, and shifts to the erase verifying phase. In the erase verify phase, the erase verify circuit 57 performs the erase verify process while incrementing the address from the lowest address (00000H) to the highest address (1FFFFH) by the address incrementer 56. If a verify fail occurs in the erase verify phase, the process proceeds to step ST26 to perform a re-erase, and shifts to a pre-erase process phase. In this pre-re-erase processing phase, it is confirmed whether or not the count value of the number of pre-re-erase processings has reached the maximum value (X = 512). If the count value has not reached the maximum value, in step ST27, the erase pulse width is updated to a value increased by 1 ms (erase pulse width =
After performing (erasing pulse width + 1 ms) processing and incrementing the count value of the number of pre-re-erasing processings (X = X + 1), the processing returns to the erasing phase of step ST24. In the current erasing phase, the erasing operation is performed again using the erasing pulse width updated in the re-erasing pre-processing phase.
After the end of the erasing phase, the process shifts again to the erasing verification phase in step ST25. In this erase verify phase, erase verify is restarted from the address where the previous erase verify failed.

【0043】これらの消去フェーズ、消去ベリファイフ
ェーズ、および再消去前処理フェーズは、消去ベリファ
イフェーズにて最終アドレスまで消去ベリファイが行わ
れるか、再消去前処理フェーズにて再消去前処理回数の
カウント値が最大値(X=512)になるまでループ処
理が続けられる。ステップST26による再消去前処理
フェーズで、再消去前処理回数のカウント値が最大値
(X=512)に到達したことが検出されると、消去エ
ラー終了としてこの自動ブロック消去の処理を終了す
る。また、ステップST25の消去ベリファイのフェー
ズにおいて、消去ベリファイが最終アドレスまで進んだ
場合には、ステップST28に移行して、過消去ベリフ
ァイ回路59による過消去ベリファイフェーズの処理を
行う。この過消去ベリファイのフェーズでは、ブロック
メモリアレイ4内の対象となるメモリブロックのメモリ
セルアレイ49の全ワード線WL0〜WL127を非選
択状態にして、メモリデータをセンスアンプ/書き込み
回路48のセンスアンプで読み取り、過消去ベリファイ
の処理を行う。なお、この過消去ベリファイ処理は、ア
ドレスをインクリメントさせながら行う。
The erase phase, the erase verify phase, and the pre-re-erase processing phase are performed by performing the erase verify up to the last address in the erase verify phase, or by counting the number of re-erase pre-processes in the re-erase pre-process phase. Is continued until the maximum value (X = 512) is reached. If it is detected in the pre-erasure pre-processing phase in step ST26 that the count value of the number of pre-erasure pre-processing times has reached the maximum value (X = 512), the processing of the automatic block erasure is terminated as an erasure error end. Also, in the erase verification phase of step ST25, when the erase verification has proceeded to the final address, the process proceeds to step ST28, and the over-erase verification circuit 59 performs the processing of the over-erase verification phase. In this over-erase verify phase, all the word lines WL0 to WL127 of the memory cell array 49 of the target memory block in the block memory array 4 are deselected, and the memory data is sent to the sense amplifier of the sense amplifier / write circuit 48. Read and over-erase verify processing are performed. The over-erase verify process is performed while incrementing the address.

【0044】この過消去ベリファイ処理でフェイルすれ
ば、過消去エラー終了としてこの自動ブロック消去の処
理を終了する。また、この過消去ベリファイ処理でパス
すれば、ステップST29に進んで消去パルス幅書き込
みのフェーズに移行する。この消去パルス幅書き込みフ
ェーズでは、最終的に消去フェーズで使用した消去パル
ス幅の情報を、消去パルス生成回路・消去パルス幅書き
込み回路58より#4メモリブロック45のメモリセル
アレイ49に書き込む動作を行う。この消去パルス幅書
き込みフェーズが終了すると、正常終了としてこの自動
ブロック消去の処理を終了する。
If the over-erase verify process fails, the over-erase error is terminated and the automatic block erase process is terminated. If the over-erase verify process is passed, the process proceeds to step ST29 to shift to the erase pulse width writing phase. In the erase pulse width writing phase, an operation of writing the information of the erase pulse width finally used in the erase phase from the erase pulse generating circuit / erase pulse width writing circuit 58 to the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45 is performed. When the erase pulse width writing phase ends, the automatic block erase processing is terminated as normal termination.

【0045】次に、この不揮発性半導体メモリの、#4
メモリブロック45を対象とする自動ブロック消去の動
作を、図11のフローチャートを用いて説明する。この
自動ブロック消去がスタートすると、まずステップST
31において、データD(15:0)バスから入力され
る第一コマンド20Hでセットアップモードに入り、次
にステップST32に移行して、確認コマンドの第二コ
マンドD0Hとブロックアドレスの取り込みでモードエ
ントリーする。このモードエントリーが終了すると、ス
テップST33による消去前書き込みのフェーズに移行
する。この消去前書き込みのフェーズでは、自動消去シ
ーケンサ13の消去前書き込み信号生成回路55が生成
したデータ“1”を、#4メモリブロック45のメモリ
セルアレイ49のメモリビットに対して書き込む動作を
行う。この消去前書き込みのフェーズ終了後、ステップ
ST34に進んで消去のフェーズに移行する。この消去
のフェーズでは、消去パルス生成回路・消去パルス幅書
き込み回路58にて、デフォルトである消去パルス幅1
msの消去パルス幅を使用して消去パルスを生成する。
消去処理はこの消去パルスを用いて実行される。
Next, in this nonvolatile semiconductor memory, # 4
The operation of the automatic block erase for the memory block 45 will be described with reference to the flowchart of FIG. When the automatic block erase starts, first, at step ST
At 31, a setup mode is entered by a first command 20 H input from the data D (15: 0) bus, and then the process proceeds to step ST 32 to enter a mode by taking in a second command D 0 H of a confirmation command and a block address. . Upon completion of this mode entry, the flow shifts to the pre-erase write phase in step ST33. In the pre-erase write phase, an operation of writing the data “1” generated by the pre-erase write signal generation circuit 55 of the automatic erase sequencer 13 to the memory bits of the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45 is performed. After the end of the pre-erase write phase, the process proceeds to step ST34 to shift to the erase phase. In this erasing phase, the erasing pulse generation circuit / erasing pulse width writing circuit 58 uses the default erasing pulse width 1
An erase pulse is generated using an erase pulse width of ms.
The erasing process is performed using the erasing pulse.

【0046】この消去のフェーズが終了すると、ステッ
プST35に進んで消去ベリファイのフェーズに移行す
る。消去ベリファイのフェーズでは、アドレスインクリ
メンタ56にて最下位アドレス(00000H)から最
上位アドレス(1FFFFH)までアドレスをインクリ
メントさせながら、消去ベリファイ回路57が消去ベリ
ファイ処理を行う。この消去ベリファイのフェーズでベ
リファイフェイルが生じた場合、再消去を行うために、
ステップST36に進んで再消去前処理のフェーズに移
行する。この再消去前処理のフェーズでは、再消去前処
理回数のカウント値が最大値(X=512)に到達した
か否かを確認する。カウント値が最大値に到達していな
い場合には、ステップST37において、消去パルス幅
を1ms大きくした値に更新(消去パルス幅=消去パル
ス幅+1ms)し、再消去前処理回数のカウント値をイ
ンクリメント(X=X+1)した後、処理をステップS
T34の消去フェーズに戻す。今回の消去フェーズで
は、上記再消去前処理のフェーズで更新した消去パルス
幅を使用して再び消去動作を行う。消去フェーズ終了
後、再びステップST35にて消去ベリファイのフェー
ズに移行する。この消去ベリファイのフェーズでは、前
回消去ベリファイに失敗したアドレスから再び消去ベリ
ファイの処理を再開する。
When the erasing phase is completed, the process proceeds to step ST35, and shifts to the erase verifying phase. In the erase verify phase, the erase verify circuit 57 performs the erase verify process while incrementing the address from the lowest address (00000H) to the highest address (1FFFFH) by the address incrementer 56. If a verify fail occurs during this erase verify phase, to perform re-erase,
The process proceeds to step ST36 to shift to the pre-erasing pre-processing phase. In this pre-re-erase processing phase, it is confirmed whether or not the count value of the number of pre-re-erase processings has reached the maximum value (X = 512). If the count value has not reached the maximum value, in step ST37, the erase pulse width is updated to a value obtained by increasing the erase pulse width by 1 ms (erase pulse width = erase pulse width + 1 ms), and the count value of the number of pre-reerase processing is incremented. After (X = X + 1), the process proceeds to step S
The process returns to the erasing phase of T34. In the current erasing phase, the erasing operation is performed again using the erasing pulse width updated in the re-erasing pre-processing phase. After the end of the erasing phase, the process returns to the erase verifying phase in step ST35. In the erase verify phase, the erase verify process is restarted from the address where the previous erase verify failed.

【0047】これらの消去フェーズ、消去ベリファイフ
ェーズ、および再消去前処理フェーズは、消去ベリファ
イフェーズにて最終アドレスまで消去ベリファイが行わ
れるか、再消去前処理フェーズにて再消去前処理回数の
カウント値が最大値(X=512)になるまでループ処
理が続けられる。ステップST36による再消去前処理
フェーズで、再消去前処理回数のカウント値が最大値
(X=512)に到達したことが検出されると、消去エ
ラー終了としてこの#4メモリブロック45の自動ブロ
ック消去の処理を終了する。また、ステップST35の
消去ベリファイのフェーズにおいて、消去ベリファイが
最終アドレスまで進むと、ステップST38に移行し
て、過消去ベリファイ回路59による過消去ベリファイ
フェーズの処理を行う。この過消去ベリファイのフェー
ズでは、#4メモリブロック45内のメモリセルアレイ
49の全ワード線WL0〜WL127を非選択状態にし
て、メモリデータをセンスアンプ/書き込み回路48の
センスアンプで読み取り、過消去ベリファイの処理を行
う。なお、この過消去ベリファイ処理は、アドレスイン
クリメンタ56でアドレスをインクリメントさせながら
行う。この過消去ベリファイ処理でフェイルすれば、過
消去エラー終了としてこの#4メモリブロック45の自
動ブロック消去の処理を終了する。また、この過消去ベ
リファイ処理でパスすれば、正常終了としてこの#4メ
モリブロック45の自動ブロック消去の処理を終了す
る。
The erase phase, the erase verify phase, and the pre-re-erase processing phase are performed by performing erase verify up to the final address in the erase verify phase, or by counting the number of pre-re-erase processes in the re-erase pre-process phase. Is continued until the maximum value (X = 512) is reached. In the pre-re-erase processing phase in step ST36, when it is detected that the count value of the number of pre-re-erase processings has reached the maximum value (X = 512), the automatic block erasure of the # 4 memory block 45 is regarded as an erasure error end. Is completed. In addition, in the erase verify phase of step ST35, when the erase verify advances to the final address, the process proceeds to step ST38, where the over-erase verify circuit 59 performs the process of the over-erase verify phase. In this over-erase verify phase, all the word lines WL0 to WL127 of the memory cell array 49 in the # 4 memory block 45 are deselected, and the memory data is read by the sense amplifier of the sense amplifier / write circuit 48, and the over-erase verify is performed. Is performed. The over-erase verify process is performed while incrementing the address by the address incrementer 56. If the over-erase verify process fails, the process of automatic block erasure of the # 4 memory block 45 is terminated as an over-erase error end. If the over-erase verify process passes, the automatic block erase process of the # 4 memory block 45 is terminated as normal termination.

【0048】図12はこの#4メモリブロック45のメ
モリセルアレイ49に読み書きされる、消去パルスのパ
ルス幅のデータと、自動一括消去時の消去パルスのバル
ス幅が保持されるメモリアドレス値、および#0メモリ
ブロック41、#1メモリブロック42、#2メモリブ
ロック43、あるいは#3ブロック44の消去パルスの
パルス幅が保持されるメモリアドレス値を示した説明図
である。この不揮発性半導体メモリは、1アドレスにつ
き1ワード(16ビット)分のメモリデータを読み書き
することができる。
FIG. 12 shows the data of the pulse width of the erase pulse, the memory address value holding the pulse width of the erase pulse at the time of automatic batch erasure, read and written to the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45, and # FIG. 9 is an explanatory diagram showing memory address values in which the pulse widths of the erase pulses of the 0 memory block 41, the # 1 memory block 42, the # 2 memory block 43, or the # 3 block 44 are held. This nonvolatile semiconductor memory can read and write one word (16 bits) of memory data per address.

【0049】上記自動一括消去時の消去パルスのパルス
幅の1ワード(D15〜D0)のデータは、#4メモリ
ブロック45のメモリセルアレイ49のアドレス000
00Hに保持される。このメモリセルアレイ49のアド
レス00000Hに保持された16ビットのデータの値
の全てが0の場合、消去パルス幅は1ms(初期値)に
設定されている。また、1ワード中のD0ビットのデー
タの値のみが1の場合には消去パルス幅が2msに設定
されており、1ワード中のD1ビットのみが1の場合に
は消去パルス幅が3msに設定されている。以下同様
に、1ワード中のD2ビットのみが1の場合には消去パ
ルス幅が4msに、D3ビットのみが1の場合には消去
パルス幅が5msに、D4ビットのみが1の場合には消
去パルス幅が6msに、D5ビットのみが1の場合には
消去パルス幅が7msに、D6ビットのみが1の場合に
は消去パルス幅が8msに、D7ビットのみが1の場合
には消去パルス幅が9msに、D8ビットのみが1の場
合には消去パルス幅が10msに、D9ビットのみが1
の場合には消去パルス幅が11msに、D10ビットの
みが1の場合には消去パルス幅が12msに、D11ビ
ットのみが1の場合には消去パルス幅が13msに、D
12ビットのみが1の場合には消去パルス幅が14ms
に、D13ビットのみが1の場合には消去パルス幅が1
5msに、D14ビットのみが1の場合には消去パルス
幅が16msに、D15ビットのみが1の場合には消去
パルス幅が17msにそれぞれ設定されている。
The data of one word (D15 to D0) of the pulse width of the erase pulse at the time of the above-mentioned automatic batch erase is the address 000 of the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45.
It is kept at 00H. When all the values of the 16-bit data held at the address 00000H of the memory cell array 49 are 0, the erase pulse width is set to 1 ms (initial value). When only the value of the D0 bit data in one word is 1, the erase pulse width is set to 2 ms. When only the D1 bit in one word is 1, the erase pulse width is set to 3 ms. Have been. Similarly, when only the D2 bit in one word is 1, the erase pulse width is 4 ms. When only the D3 bit is 1, the erase pulse width is 5 ms. When only the D4 bit is 1, the erase pulse is erased. When the pulse width is 6 ms, the erase pulse width is 7 ms when only the D5 bit is 1, the erase pulse width is 8 ms when only the D6 bit is 1, and the erase pulse width when only the D7 bit is 1. Is 9 ms, if only D8 bit is 1, the erase pulse width is 10 ms, and only D9 bit is 1
, The erase pulse width is 11 ms, when only the D10 bit is 1, the erase pulse width is 12 ms, when only the D11 bit is 1, the erase pulse width is 13 ms,
When only 12 bits are 1, the erase pulse width is 14 ms
When only the D13 bit is 1, the erase pulse width is 1
The erase pulse width is set to 5 ms, the erase pulse width is set to 16 ms when only the D14 bit is 1, and the erase pulse width is set to 17 ms when only the D15 bit is 1.

【0050】また、#0メモリブロック41の自動ブロ
ック消去時の消去パルスのパルス幅の1ワード(D15
〜D0)のデータは、#4メモリブロック45のメモリ
セルアレイ49のアドレス00001Hに保持される。
このメモリセルアレイ49のアドレス00001Hに保
持された16ビットのデータの値の全てが0の場合、消
去パルス幅は1msに設定されている。また、1ワード
中のD0ビットのデータの値のみが1の場合には消去パ
ルス幅が2msに設定されており、1ワード中のD1ビ
ットのみが1の場合には消去パルス幅が3msに設定さ
れている。以下同様に、1ワード中のD2ビットのみが
1の場合には消去パルス幅が4msに、D3ビットのみ
が1の場合には消去パルス幅が5msに、D4ビットの
みが1の場合には消去パルス幅が6msに、D5ビット
のみが1の場合には消去パルス幅が7msに、D6ビッ
トのみが1の場合には消去パルス幅が8msに、D7ビ
ットのみが1の場合には消去パルス幅が9msに、D8
ビットのみが1の場合には消去パルス幅が10msに、
D9ビットのみが1の場合には消去パルス幅が11ms
に、D10ビットのみが1の場合には消去パルス幅が1
2msに、D11ビットのみが1の場合には消去パルス
幅が13msに、D12ビットのみが1の場合には消去
パルス幅が14msに、D13ビットのみが1の場合に
は消去パルス幅が15msに、D14ビットのみが1の
場合には消去パルス幅が16msに、D15ビットのみ
が1の場合には消去パルス幅が17msにそれぞれ設定
されている。
Also, one word (D15) of the pulse width of the erase pulse at the time of the automatic block erase of the # 0 memory block 41 is used.
To D0) are held at the address 00001H of the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45.
When all the values of the 16-bit data held at the address 00001H of the memory cell array 49 are 0, the erase pulse width is set to 1 ms. When only the value of the D0 bit data in one word is 1, the erase pulse width is set to 2 ms. When only the D1 bit in one word is 1, the erase pulse width is set to 3 ms. Have been. Similarly, when only the D2 bit in one word is 1, the erase pulse width is 4 ms. When only the D3 bit is 1, the erase pulse width is 5 ms. When only the D4 bit is 1, the erase pulse is erased. When the pulse width is 6 ms, the erase pulse width is 7 ms when only the D5 bit is 1, the erase pulse width is 8 ms when only the D6 bit is 1, and the erase pulse width when only the D7 bit is 1. To 9ms, D8
When only the bit is 1, the erase pulse width becomes 10 ms,
When only D9 bit is 1, the erase pulse width is 11 ms
When only the D10 bit is 1, the erase pulse width is 1
2 ms, the erase pulse width is 13 ms when only the D11 bit is 1, the erase pulse width is 14 ms when only the D12 bit is 1, and the erase pulse width is 15 ms when only the D13 bit is 1. When only the D14 bit is 1, the erase pulse width is set to 16 ms, and when only the D15 bit is 1, the erase pulse width is set to 17 ms.

【0051】また、#1メモリブロック42の自動ブロ
ック消去時の消去パルスのパルス幅の1ワード(D15
〜D0)のデータは、#4メモリブロック45のメモリ
セルアレイ49のアドレス00002Hに保持される。
このメモリセルアレイ49のアドレス00002Hに保
持された16ビットのデータの値の全てが0の場合、消
去パルス幅は1msに設定されている。また、1ワード
中のD0ビットのデータの値のみが1の場合には消去パ
ルス幅が2msに設定されており、1ワード中のD1ビ
ットのみが1の場合には消去パルス幅が3msに設定さ
れている。以下同様に、1ワード中のD2ビットのみが
1の場合には消去パルス幅が4msに、D3ビットのみ
が1の場合には消去パルス幅が5msに、D4ビットの
みが1の場合には消去パルス幅が6msに、D5ビット
のみが1の場合には消去パルス幅が7msに、D6ビッ
トのみが1の場合には消去パルス幅が8msに、D7ビ
ットのみが1の場合には消去パルス幅が9msに、D8
ビットのみが1の場合には消去パルス幅が10msに、
D9ビットのみが1の場合には消去パルス幅が11ms
に、D10ビットのみが1の場合には消去パルス幅が1
2msに、D11ビットのみが1の場合には消去パルス
幅が13msに、D12ビットのみが1の場合には消去
パルス幅が14msに、D13ビットのみが1の場合に
は消去パルス幅が15msに、D14ビットのみが1の
場合には消去パルス幅が16msに、D15ビットのみ
が1の場合には消去パルス幅が17msにそれぞれ設定
されている。
Also, one word (D15) of the pulse width of the erase pulse at the time of the automatic block erase of the # 1 memory block 42 is used.
To D0) are held at the address 00002H of the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45.
When all the values of the 16-bit data held at the address 00002H of the memory cell array 49 are 0, the erase pulse width is set to 1 ms. When only the value of the D0 bit data in one word is 1, the erase pulse width is set to 2 ms. When only the D1 bit in one word is 1, the erase pulse width is set to 3 ms. Have been. Similarly, when only the D2 bit in one word is 1, the erase pulse width is 4 ms. When only the D3 bit is 1, the erase pulse width is 5 ms. When only the D4 bit is 1, the erase pulse is erased. When the pulse width is 6 ms, the erase pulse width is 7 ms when only the D5 bit is 1, the erase pulse width is 8 ms when only the D6 bit is 1, and the erase pulse width when only the D7 bit is 1. To 9ms, D8
When only the bit is 1, the erase pulse width becomes 10 ms,
When only D9 bit is 1, the erase pulse width is 11 ms
When only the D10 bit is 1, the erase pulse width is 1
2 ms, the erase pulse width is 13 ms when only the D11 bit is 1, the erase pulse width is 14 ms when only the D12 bit is 1, and the erase pulse width is 15 ms when only the D13 bit is 1. When only the D14 bit is 1, the erase pulse width is set to 16 ms, and when only the D15 bit is 1, the erase pulse width is set to 17 ms.

【0052】また、#2メモリブロック43の自動ブロ
ック消去時の消去パルスのパルス幅の1ワード(D15
〜D0)のデータは、#4メモリブロック45のメモリ
セルアレイ49のアドレス00003Hに保持される。
このメモリセルアレイ49のアドレス00003Hに保
持された16ビットのデータの値の全てが0の場合、消
去パルス幅は1msに設定されている。また、1ワード
中のD0ビットのデータの値のみが1の場合には消去パ
ルス幅が2msに設定されており、1ワード中のD1ビ
ットのみが1の場合には消去パルス幅が3msに設定さ
れている。以下同様に、1ワード中のD2ビットのみが
1の場合には消去パルス幅が4msに、D3ビットのみ
が1の場合には消去パルス幅が5msに、D4ビットの
みが1の場合には消去パルス幅が6msに、D5ビット
のみが1の場合には消去パルス幅が7msに、D6ビッ
トのみが1の場合には消去パルス幅が8msに、D7ビ
ットのみが1の場合には消去パルス幅が9msに、D8
ビットのみが1の場合には消去パルス幅が10msに、
D9ビットのみが1の場合には消去パルス幅が11ms
に、D10ビットのみが1の場合には消去パルス幅が1
2msに、D11ビットのみが1の場合には消去パルス
幅が13msに、D12ビットのみが1の場合には消去
パルス幅が14msに、D13ビットのみが1の場合に
は消去パルス幅が15msに、D14ビットのみが1の
場合には消去パルス幅が16msに、D15ビットのみ
が1の場合には消去パルス幅が17msにそれぞれ設定
されている。
Also, one word (D15) of the pulse width of the erase pulse at the time of the automatic block erase of the # 2 memory block 43 is used.
To D0) are held at the address 00003H of the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45.
When all the values of the 16-bit data held at the address 00003H of the memory cell array 49 are 0, the erase pulse width is set to 1 ms. When only the value of the D0 bit data in one word is 1, the erase pulse width is set to 2 ms. When only the D1 bit in one word is 1, the erase pulse width is set to 3 ms. Have been. Similarly, when only the D2 bit in one word is 1, the erase pulse width is 4 ms. When only the D3 bit is 1, the erase pulse width is 5 ms. When only the D4 bit is 1, the erase pulse is erased. When the pulse width is 6 ms, the erase pulse width is 7 ms when only the D5 bit is 1, the erase pulse width is 8 ms when only the D6 bit is 1, and the erase pulse width when only the D7 bit is 1. To 9ms, D8
When only the bit is 1, the erase pulse width becomes 10 ms,
When only D9 bit is 1, the erase pulse width is 11 ms
When only the D10 bit is 1, the erase pulse width is 1
2 ms, the erase pulse width is 13 ms when only the D11 bit is 1, the erase pulse width is 14 ms when only the D12 bit is 1, and the erase pulse width is 15 ms when only the D13 bit is 1. When only the D14 bit is 1, the erase pulse width is set to 16 ms, and when only the D15 bit is 1, the erase pulse width is set to 17 ms.

【0053】また、#3メモリブロック44の自動ブロ
ック消去時の消去パルスのパルス幅の1ワード(D15
〜D0)のデータは、#4メモリブロック45のメモリ
セルアレイ49のアドレス00004Hに保持される。
このメモリセルアレイ49のアドレス00004Hに保
持された16ビットのデータの値の全てが0の場合、消
去パルス幅は1msに設定されている。また、1ワード
中のD0ビットのデータの値のみが1の場合には消去パ
ルス幅が2msに設定されており、1ワード中のD1ビ
ットのみが1の場合には消去パルス幅が3msに設定さ
れている。以下同様に、1ワード中のD2ビットのみが
1の場合には消去パルス幅が4msに、D3ビットのみ
が1の場合には消去パルス幅が5msに、D4ビットの
みが1の場合には消去パルス幅が6msに、D5ビット
のみが1の場合には消去パルス幅が7msに、D6ビッ
トのみが1の場合には消去パルス幅が8msに、D7ビ
ットのみが1の場合には消去パルス幅が9msに、D8
ビットのみが1の場合には消去パルス幅が10msに、
D9ビットのみが1の場合には消去パルス幅が11ms
に、D10ビットのみが1の場合には消去パルス幅が1
2msに、D11ビットのみが1の場合には消去パルス
幅が13msに、D12ビットのみが1の場合には消去
パルス幅が14msに、D13ビットのみが1の場合に
は消去パルス幅が15msに、D14ビットのみが1の
場合には消去パルス幅が16msに、D15ビットのみ
が1の場合には消去パルス幅が17msにそれぞれ設定
されている。
One word (D15) of the pulse width of the erase pulse at the time of the automatic block erase of the # 3 memory block 44 is used.
To D0) are held at the address 00004H of the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45.
When all the values of the 16-bit data held at the address 00004H of the memory cell array 49 are 0, the erase pulse width is set to 1 ms. When only the value of the D0 bit data in one word is 1, the erase pulse width is set to 2 ms. When only the D1 bit in one word is 1, the erase pulse width is set to 3 ms. Have been. Similarly, when only the D2 bit in one word is 1, the erase pulse width is 4 ms. When only the D3 bit is 1, the erase pulse width is 5 ms. When only the D4 bit is 1, the erase pulse is erased. When the pulse width is 6 ms, the erase pulse width is 7 ms when only the D5 bit is 1, the erase pulse width is 8 ms when only the D6 bit is 1, and the erase pulse width when only the D7 bit is 1. To 9ms, D8
When only the bit is 1, the erase pulse width becomes 10 ms,
When only D9 bit is 1, the erase pulse width is 11 ms
When only the D10 bit is 1, the erase pulse width is 1
2 ms, the erase pulse width is 13 ms when only the D11 bit is 1, the erase pulse width is 14 ms when only the D12 bit is 1, and the erase pulse width is 15 ms when only the D13 bit is 1. When only the D14 bit is 1, the erase pulse width is set to 16 ms, and when only the D15 bit is 1, the erase pulse width is set to 17 ms.

【0054】図9のステップST17における自動一括
消去時の消去パルス幅の更新、あるいは図10のステッ
プST27における#0メモリブロック41〜#3メモ
リブロック44の自動ブロック消去時の消去パルス幅の
更新は、これら#4メモリブロック45のメモリセルア
レイ49のアドレス00000H〜00004Hに保持
されている消去パルスのパルス幅のデータに1を書き込
み、以後その1の位置を順次シフトさせてゆくことによ
って行っている。
Updating of the erasing pulse width at the time of automatic batch erasing in step ST17 of FIG. 9 or updating of the erasing pulse width at the time of automatic block erasing of the # 0 memory blocks 41 to # 3 memory block 44 in step ST27 of FIG. This is performed by writing 1 to the data of the pulse width of the erase pulse held in the addresses 00000H to 00004H of the memory cell array 49 of the # 4 memory block 45, and thereafter shifting the position of 1 sequentially.

【0055】なお、上記説明においては、消去パルスの
パルス幅を初期値1msから1msずつ増加更新する場
合について説明したが、この発明はこれにのみ限定され
るものではない。例えば、消去パルスのパルス幅をN
(Nは実数)、増し分をK(Kは実数)として、N=N
+Kに従って増加更新するようにしてもよく、また、そ
の増し分Kとしては、必ずしも固定値を用いなくともよ
い。
In the above description, the case where the pulse width of the erase pulse is updated from the initial value of 1 ms in increments of 1 ms has been described, but the present invention is not limited to this. For example, if the pulse width of the erase pulse is N
(N is a real number), and the increment is K (K is a real number), and N = N
The update may be performed in accordance with + K, and the increment K may not necessarily be a fixed value.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、その
ブロックメモリアレイを複数のメモリブロックに分割し
た不揮発性半導体メモリに対して、自動一括消去の処理
を行う場合に、消去前書き込みの処理を複数のメモリブ
ロックのメモリセルアレイで並列に処理するように構成
したので、複数のメモリブロックのメモリセルアレイで
一度に消去前書き込みの処理が行われ、自動消去時間の
短縮をはかることが可能な不揮発性半導体メモリの自動
消去方法が実現できるという効果がある。
As described above, according to the present invention, when performing the automatic batch erasing process on the nonvolatile semiconductor memory obtained by dividing the block memory array into a plurality of memory blocks, the pre-erase writing is performed. Since the processing is configured to be performed in parallel by the memory cell array of a plurality of memory blocks, the pre-erase write processing is performed at a time in the memory cell array of a plurality of memory blocks, and the automatic erasing time can be reduced. There is an effect that an automatic erasing method for a nonvolatile semiconductor memory can be realized.

【0057】この発明によれば、そのブロックメモリア
レイを複数のメモリブロックに分割した不揮発性半導体
メモリに対して、自動ブロック消去および自動一括消去
の処理を行う場合に、使用する消去パルスのパルス幅を
可変に設定可能とし、最終的に使用した消去パルスのパ
ルス幅のデータをメモリブロック中の所定のもののメモ
リセルアレイに保持するように構成したので、2回目以
降の自動ブロック消去あるいは自動一括消去の処理に際
しては、使用する消去パルスのパルス幅として、所定の
メモリブロックのメモリセルアレイ中に保持された値を
使用して処理を行うことが可能となるので、2回目以降
の自動消去の時間短縮が実現できるという効果がある。
According to the present invention, the pulse width of the erase pulse used when performing the automatic block erase and the automatic batch erase processing on the nonvolatile semiconductor memory obtained by dividing the block memory array into a plurality of memory blocks. Can be set variably, and the data of the pulse width of the erase pulse finally used is stored in a predetermined memory cell array in the memory block. At the time of processing, the processing can be performed using the value held in the memory cell array of the predetermined memory block as the pulse width of the erasing pulse to be used, so that the time for the second and subsequent automatic erasing can be reduced. There is an effect that it can be realized.

【0058】この発明によれば、そのブロックメモリア
レイを複数のメモリブロックに分割した不揮発性半導体
メモリに対して、自動ブロック消去および自動一括消去
の処理を行う場合に、使用する消去パルスのパルス幅
を、前回使用した値、当該パルス幅の初期値、もしくは
それらを更新した値に設定し、自動消去処理終了時に、
前回設定した消去パルス幅値を更新する必要がある場合
には、その値を更新して所定のメモリブロックのメモリ
セルアレイに保持するように構成したので、自動消去の
ための時間を短縮することができるという効果がある。
According to the present invention, the pulse width of the erase pulse used when performing the automatic block erase and the automatic batch erase processing on the nonvolatile semiconductor memory obtained by dividing the block memory array into a plurality of memory blocks. Is set to the value used last time, the initial value of the pulse width, or the updated value of the pulse width.
When the previously set erase pulse width value needs to be updated, the value is updated and held in the memory cell array of a predetermined memory block, so that the time for automatic erase can be reduced. There is an effect that can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1による自動消去方法
が適用される不揮発性半導体メモリの全体構成を示すブ
ロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an entire configuration of a nonvolatile semiconductor memory to which an automatic erasing method according to a first embodiment of the present invention is applied;

【図2】 実施の形態1における不揮発性半導体メモリ
の、動作モード一覧を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an operation mode list of the nonvolatile semiconductor memory according to the first embodiment;

【図3】 実施の形態1における不揮発性半導体メモリ
の、マイクロシーケンサの内部構成を示すブロック図で
ある。
FIG. 3 is a block diagram illustrating an internal configuration of a microsequencer of the nonvolatile semiconductor memory according to the first embodiment;

【図4】 実施の形態1における不揮発性半導体メモリ
の、チャージポンプの内部構成を示すブロック図であ
る。
FIG. 4 is a block diagram showing an internal configuration of a charge pump of the nonvolatile semiconductor memory according to the first embodiment;

【図5】 実施の形態1における不揮発性半導体メモリ
の、メモリデコーダとブロックメモリアレイの内部構成
を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing an internal configuration of a memory decoder and a block memory array of the nonvolatile semiconductor memory according to the first embodiment;

【図6】 実施の形態1における不揮発性半導体メモリ
の、ブロックメモリアレイのアドレス空間を示す説明図
である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing an address space of a block memory array of the nonvolatile semiconductor memory according to the first embodiment;

【図7】 実施の形態1におけるブロックメモリアレイ
の、メモリブロックの内部構成を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an internal configuration of a memory block in the block memory array according to the first embodiment;

【図8】 実施の形態1におけるマイクロシーケンサ
の、自動消去シーケンサの内部構成を示すブロック図で
ある。
FIG. 8 is a block diagram showing an internal configuration of an automatic erase sequencer of the micro sequencer according to the first embodiment.

【図9】 実施の形態1における、自動一括消去の処理
手順を示すフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart showing a processing procedure of automatic batch erasing in the first embodiment.

【図10】 実施の形態1における、#0メモリブロッ
ク〜#3メモリブロックの自動ブロック消去の処理手順
を示すフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart showing a processing procedure of automatic block erasure of # 0 memory block to # 3 memory block in the first embodiment.

【図11】 実施の形態1における、#4メモリブロッ
クの自動ブロック消去の処理手順を示すフローチャート
である。
FIG. 11 is a flowchart showing a processing procedure of automatic block erasure of # 4 memory block in the first embodiment.

【図12】 実施の形態1における、#4メモリブロッ
クに書き込まれる消去パルスのパルス幅のデータと、自
動一括消去時および各自動ブロック消去時の消去パルス
のパルス幅が保持されるメモリアドレス値を示した説明
図である。
FIG. 12 shows the data of the pulse width of the erasing pulse written to the # 4 memory block and the memory address value holding the pulse width of the erasing pulse at the time of automatic batch erasing and each automatic block erasing in the first embodiment. FIG.

【図13】 従来の不揮発性半導体メモリの自動消去方
法の処理手順を示すフローチャートである。
FIG. 13 is a flowchart showing a processing procedure of a conventional automatic erasing method for a nonvolatile semiconductor memory.

【符号の説明】 4 ブロックメモリアレイ、41 #0メモリブロッ
ク、42 #1メモリブロック、43 #2メモリブロ
ック、44 #3メモリブロック、45 #4メモリブ
ロック、49 メモリセルアレイ、58 消去パルス生
成回路・消去パルス幅書き込み回路(パルス幅更新手
段)、Tr0−0〜Tr127−225 メモリセル。
[Description of Signs] 4 block memory array, 41 # 0 memory block, 42 # 1 memory block, 43 # 2 memory block, 44 # 3 memory block, 45 # 4 memory block, 49 memory cell array, 58 erase pulse generating circuit Erase pulse width writing circuit (pulse width updating means), Tr0-0 to Tr127-225 memory cells.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
モリセルが行列状に配置されたメモリセルアレイを有す
るメモリブロックを、複数個集めてブロックメモリアレ
イを形成した不揮発性半導体メモリにあって、前記各メ
モリブロックのメモリセルアレイ内のデータを消去する
不揮発性半導体メモリの自動消去方法において、 前記ブロックメモリアレイの1つのメモリブロックのメ
モリセルアレイのデータのみを消去する自動ブロック消
去の処理を行う時には、当該データの自動ブロック消去
が処理されるメモリブロックのメモリセルアレイに対し
て同一データを書き込む消去前書き込みの処理を行い、 前記ブロックメモリアレイの全てのメモリブロックのメ
モリセルアレイのデータを消去する自動一括消去の処理
を行う時には、前記各メモリブロックの全てのメモリセ
ルアレイに対して並列に同一データを書き込む消去前書
き込みの処理を行うことを特徴とする不揮発性半導体メ
モリの自動消去方法。
1. A non-volatile semiconductor memory in which a plurality of memory blocks each having a memory cell array in which a plurality of memory cells each composed of a non-volatile transistor are arranged in a matrix form a block memory array. In the automatic erasing method for a nonvolatile semiconductor memory for erasing data in a memory cell array of a block, when performing an automatic block erasing process for erasing only data of a memory cell array of one memory block of the block memory array, An automatic batch erasing process of performing the pre-erase write process of writing the same data to the memory cell array of the memory block to be processed with the automatic block erasure, and erasing data of the memory cell array of all the memory blocks of the block memory array When performing the above, Automatic erase method of a nonvolatile semiconductor memory and performs the processing of pre-erase write writing the same data in parallel to all the memory cell array of the triblock.
【請求項2】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
モリセルが行列状に配置されたメモリセルアレイを有す
るメモリブロックを、複数個集めてブロックメモリアレ
イを形成した不揮発性半導体メモリにあって、前記各メ
モリブロックのメモリセルアレイ内のデータを消去する
不揮発性半導体メモリの自動消去方法において、 前記メモリブロック内のメモリセルアレイのデータを自
動消去処理する際に用いられる消去パルスのパルス幅
を、パルス幅更新手段で変更可能に設定し、 前記パルス幅更新手段によってそれぞれの場合で独立に
設定されたパルス幅の消去パルスを用いて、前記ブロッ
クメモリアレイの各メモリブロックのメモリセルアレイ
のデータを個別に消去する自動ブロック消去の処理と、
前記ブロックメモリアレイの全てのメモリブロックのメ
モリセルアレイのデータを一括して消去する自動一括消
去の処理を行い、 当該各自動ブロック消去の処理および自動一括消去の処
理で用いられた消去パルスのパルス幅を、前記ブロック
メモリアレイ中のあらかじめ定められた所定のメモリブ
ロックのメモリセルアレイに書き込むことを特徴とする
不揮発性半導体メモリの自動消去方法。
2. A non-volatile semiconductor memory comprising a plurality of memory blocks each having a memory cell array in which a plurality of memory cells each including a non-volatile transistor are arranged in a matrix to form a block memory array. In an automatic erasing method for a nonvolatile semiconductor memory for erasing data in a memory cell array of a block, the pulse width of an erasing pulse used for automatically erasing data of a memory cell array in the memory block is determined by a pulse width updating unit. An automatic block that is set to be changeable and that individually erases data in a memory cell array of each memory block of the block memory array using an erase pulse having a pulse width independently set in each case by the pulse width updating unit. Erasing process,
An automatic batch erasing process for erasing data in the memory cell array of all the memory blocks of the block memory array at once is performed, and a pulse width of an erasing pulse used in the automatic block erasing process and the automatic batch erasing process is performed. Is written to a memory cell array of a predetermined memory block in the block memory array.
【請求項3】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
モリセルが行列状に配置されたメモリセルアレイを有す
るメモリブロックを、複数個集めてブロックメモリアレ
イを形成した不揮発性半導体メモリにあって、前記各メ
モリブロックのメモリセルアレイ内のデータを消去する
不揮発性半導体メモリの自動消去方法において、 前記メモリブロック内のメモリセルアレイのデータを自
動消去処理する際に用いられる消去パルスのパルス幅
を、パルス幅更新手段で変更可能に設定し、 前記ブロックメモリアレイ中のあらかじめ定められた所
定のメモリブロックのメモリセルアレイより読み出した
対応する消去パルスのパルス幅、当該対応する消去パル
スのパルス幅の初期値、さらにはそれらの値を前記パル
ス幅更新手段で更新した消去パルスのパルス幅を用い
て、使用する消去パルスのパルス幅を設定して、前記ブ
ロックメモリアレイの各メモリブロックのメモリセルア
レイの自動ブロック消去の処理、あるいは前記ブロック
メモリアレイの全てのメモリブロックのメモリセルアレ
イの自動一括消去の処理を行い、 前記各自動ブロック消去、あるいは自動一括消去の処理
の終了時に、前記ブロックメモリアレイ中のあらかじめ
定められた所定のメモリブロックのメモリセルアレイに
前回設定した、消去パルスのパルス幅の値を更新する必
要が生じた場合には、当該パルス幅のパルス幅の値を前
記メモリブロックのメモリセルアレイに更新保持するこ
とを特徴とする不揮発性半導体メモリの自動消去方法。
3. A nonvolatile semiconductor memory in which a plurality of memory blocks each having a memory cell array in which a plurality of memory cells each composed of a nonvolatile transistor are arranged in a matrix form a block memory array. In an automatic erasing method for a nonvolatile semiconductor memory for erasing data in a memory cell array of a block, the pulse width of an erasing pulse used for automatically erasing data of a memory cell array in the memory block is determined by a pulse width updating unit. Set to be changeable, the pulse width of the corresponding erase pulse read from the memory cell array of a predetermined memory block predetermined in the block memory array, the initial value of the pulse width of the corresponding erase pulse, and further, Of the erase pulse whose value has been updated by the pulse width updating means. The pulse width of the erase pulse to be used is set using the pulse width, and the automatic block erase processing of the memory cell array of each memory block of the block memory array or the memory cell array of all the memory blocks of the block memory array is performed. Performing an automatic batch erase process, at the end of each of the automatic block erase processes or the automatic batch erase process, a pulse of an erase pulse previously set in a memory cell array of a predetermined memory block in the block memory array. A method for automatically erasing a non-volatile semiconductor memory, characterized in that when it is necessary to update the width value, the value of the pulse width is updated and held in the memory cell array of the memory block.
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